WO2014065100A1 - 非感光性樹脂組成物 - Google Patents
非感光性樹脂組成物 Download PDFInfo
- Publication number
- WO2014065100A1 WO2014065100A1 PCT/JP2013/077149 JP2013077149W WO2014065100A1 WO 2014065100 A1 WO2014065100 A1 WO 2014065100A1 JP 2013077149 W JP2013077149 W JP 2013077149W WO 2014065100 A1 WO2014065100 A1 WO 2014065100A1
- Authority
- WO
- WIPO (PCT)
- Prior art keywords
- group
- resin composition
- photosensitive resin
- formula
- copolymer
- Prior art date
Links
- 0 C*C(C*(C)C)(C(**c1ccccc1)=O)O* Chemical compound C*C(C*(C)C)(C(**c1ccccc1)=O)O* 0.000 description 1
Images
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08F—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
- C08F220/00—Copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and only one being terminated by only one carboxyl radical or a salt, anhydride ester, amide, imide or nitrile thereof
- C08F220/02—Monocarboxylic acids having less than ten carbon atoms; Derivatives thereof
- C08F220/10—Esters
- C08F220/20—Esters of polyhydric alcohols or phenols, e.g. 2-hydroxyethyl (meth)acrylate or glycerol mono-(meth)acrylate
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08F—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
- C08F220/00—Copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and only one being terminated by only one carboxyl radical or a salt, anhydride ester, amide, imide or nitrile thereof
- C08F220/02—Monocarboxylic acids having less than ten carbon atoms; Derivatives thereof
- C08F220/52—Amides or imides
- C08F220/54—Amides, e.g. N,N-dimethylacrylamide or N-isopropylacrylamide
- C08F220/58—Amides, e.g. N,N-dimethylacrylamide or N-isopropylacrylamide containing oxygen in addition to the carbonamido oxygen, e.g. N-methylolacrylamide, N-(meth)acryloylmorpholine
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08J—WORKING-UP; GENERAL PROCESSES OF COMPOUNDING; AFTER-TREATMENT NOT COVERED BY SUBCLASSES C08B, C08C, C08F, C08G or C08H
- C08J5/00—Manufacture of articles or shaped materials containing macromolecular substances
- C08J5/18—Manufacture of films or sheets
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08L—COMPOSITIONS OF MACROMOLECULAR COMPOUNDS
- C08L63/00—Compositions of epoxy resins; Compositions of derivatives of epoxy resins
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B1/00—Optical elements characterised by the material of which they are made; Optical coatings for optical elements
- G02B1/04—Optical elements characterised by the material of which they are made; Optical coatings for optical elements made of organic materials, e.g. plastics
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B1/00—Optical elements characterised by the material of which they are made; Optical coatings for optical elements
- G02B1/10—Optical coatings produced by application to, or surface treatment of, optical elements
- G02B1/12—Optical coatings produced by application to, or surface treatment of, optical elements by surface treatment, e.g. by irradiation
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B1/00—Optical elements characterised by the material of which they are made; Optical coatings for optical elements
- G02B1/10—Optical coatings produced by application to, or surface treatment of, optical elements
- G02B1/14—Protective coatings, e.g. hard coatings
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B3/00—Simple or compound lenses
- G02B3/0006—Arrays
- G02B3/0012—Arrays characterised by the manufacturing method
- G02B3/0018—Reflow, i.e. characterized by the step of melting microstructures to form curved surfaces, e.g. manufacturing of moulds and surfaces for transfer etching
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08F—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
- C08F220/00—Copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and only one being terminated by only one carboxyl radical or a salt, anhydride ester, amide, imide or nitrile thereof
- C08F220/02—Monocarboxylic acids having less than ten carbon atoms; Derivatives thereof
- C08F220/10—Esters
- C08F220/26—Esters containing oxygen in addition to the carboxy oxygen
- C08F220/32—Esters containing oxygen in addition to the carboxy oxygen containing epoxy radicals
- C08F220/325—Esters containing oxygen in addition to the carboxy oxygen containing epoxy radicals containing glycidyl radical, e.g. glycidyl (meth)acrylate
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08J—WORKING-UP; GENERAL PROCESSES OF COMPOUNDING; AFTER-TREATMENT NOT COVERED BY SUBCLASSES C08B, C08C, C08F, C08G or C08H
- C08J2329/00—Characterised by the use of homopolymers or copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and at least one being terminated by an alcohol, ether, aldehydo, ketonic, acetal, or ketal radical; Hydrolysed polymers of esters of unsaturated alcohols with saturated carboxylic acids; Derivatives of such polymer
- C08J2329/10—Homopolymers or copolymers of unsaturated ethers
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08J—WORKING-UP; GENERAL PROCESSES OF COMPOUNDING; AFTER-TREATMENT NOT COVERED BY SUBCLASSES C08B, C08C, C08F, C08G or C08H
- C08J2333/00—Characterised by the use of homopolymers or copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and only one being terminated by only one carboxyl radical, or of salts, anhydrides, esters, amides, imides, or nitriles thereof; Derivatives of such polymers
- C08J2333/04—Characterised by the use of homopolymers or copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and only one being terminated by only one carboxyl radical, or of salts, anhydrides, esters, amides, imides, or nitriles thereof; Derivatives of such polymers esters
- C08J2333/06—Characterised by the use of homopolymers or copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and only one being terminated by only one carboxyl radical, or of salts, anhydrides, esters, amides, imides, or nitriles thereof; Derivatives of such polymers esters of esters containing only carbon, hydrogen, and oxygen, the oxygen atom being present only as part of the carboxyl radical
- C08J2333/10—Homopolymers or copolymers of methacrylic acid esters
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08J—WORKING-UP; GENERAL PROCESSES OF COMPOUNDING; AFTER-TREATMENT NOT COVERED BY SUBCLASSES C08B, C08C, C08F, C08G or C08H
- C08J2333/00—Characterised by the use of homopolymers or copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and only one being terminated by only one carboxyl radical, or of salts, anhydrides, esters, amides, imides, or nitriles thereof; Derivatives of such polymers
- C08J2333/24—Homopolymers or copolymers of amides or imides
- C08J2333/26—Homopolymers or copolymers of acrylamide or methacrylamide
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08J—WORKING-UP; GENERAL PROCESSES OF COMPOUNDING; AFTER-TREATMENT NOT COVERED BY SUBCLASSES C08B, C08C, C08F, C08G or C08H
- C08J2429/00—Characterised by the use of homopolymers or copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and at least one being terminated by an alcohol, ether, aldehydo, ketonic, acetal, or ketal radical; Hydrolysed polymers of esters of unsaturated alcohols with saturated carboxylic acids; Derivatives of such polymer
- C08J2429/10—Homopolymers or copolymers of unsaturated ethers
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08J—WORKING-UP; GENERAL PROCESSES OF COMPOUNDING; AFTER-TREATMENT NOT COVERED BY SUBCLASSES C08B, C08C, C08F, C08G or C08H
- C08J2433/00—Characterised by the use of homopolymers or copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and only one being terminated by only one carboxyl radical, or of salts, anhydrides, esters, amides, imides, or nitriles thereof; Derivatives of such polymers
- C08J2433/04—Characterised by the use of homopolymers or copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and only one being terminated by only one carboxyl radical, or of salts, anhydrides, esters, amides, imides, or nitriles thereof; Derivatives of such polymers esters
- C08J2433/06—Characterised by the use of homopolymers or copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and only one being terminated by only one carboxyl radical, or of salts, anhydrides, esters, amides, imides, or nitriles thereof; Derivatives of such polymers esters of esters containing only carbon, hydrogen, and oxygen, the oxygen atom being present only as part of the carboxyl radical
- C08J2433/10—Homopolymers or copolymers of methacrylic acid esters
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08J—WORKING-UP; GENERAL PROCESSES OF COMPOUNDING; AFTER-TREATMENT NOT COVERED BY SUBCLASSES C08B, C08C, C08F, C08G or C08H
- C08J2433/00—Characterised by the use of homopolymers or copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and only one being terminated by only one carboxyl radical, or of salts, anhydrides, esters, amides, imides, or nitriles thereof; Derivatives of such polymers
- C08J2433/24—Homopolymers or copolymers of amides or imides
- C08J2433/26—Homopolymers or copolymers of acrylamide or methacrylamide
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08L—COMPOSITIONS OF MACROMOLECULAR COMPOUNDS
- C08L33/00—Compositions of homopolymers or copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and only one being terminated by only one carboxyl radical, or of salts, anhydrides, esters, amides, imides or nitriles thereof; Compositions of derivatives of such polymers
- C08L33/04—Homopolymers or copolymers of esters
- C08L33/14—Homopolymers or copolymers of esters of esters containing halogen, nitrogen, sulfur, or oxygen atoms in addition to the carboxy oxygen
-
- G02B1/105—
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B3/00—Simple or compound lenses
- G02B3/0006—Arrays
- G02B3/0012—Arrays characterised by the manufacturing method
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B5/00—Optical elements other than lenses
- G02B5/20—Filters
Definitions
- the compound (monomer) forming the structural unit represented by the formula (5) include N-methylmaleimide, N-ethylmaleimide, N-cyclohexylmaleimide, N-phenylmaleimide, N-benzylmaleimide, and N- (2,4,6-trichlorophenyl) maleimide may be mentioned. These compounds may be used alone or in combination of two or more.
- the solvent is not particularly limited as long as it can dissolve the copolymer.
- examples of such solvents include ethylene glycol monomethyl ether, ethylene glycol monoethyl ether, methyl cellosolve acetate, ethyl cellosolve acetate, diethylene glycol monomethyl ether, diethylene glycol monoethyl ether, propylene glycol, propylene glycol monomethyl ether, propylene glycol monomethyl ether acetate.
- Quaternary ammonium salts can be mentioned.
- These curing accelerators may be used alone or in combination of two or more.
- the content in the non-photosensitive resin composition of the present invention is 0.001% by mass to 10% by mass based on the content in the solid content of the non-photosensitive resin composition. %, Preferably 0.01% to 5% by weight, more preferably 0.1% to 2% by weight.
- the present invention can be applied to a base material (for example, a semiconductor substrate, a glass substrate, a quartz substrate, a silicon wafer, and a substrate on which various metal films or color filters are formed) by an appropriate coating method such as a spinner or a coater.
- a base material for example, a semiconductor substrate, a glass substrate, a quartz substrate, a silicon wafer, and a substrate on which various metal films or color filters are formed
- a base material for example, a semiconductor substrate, a glass substrate, a quartz substrate, a silicon wafer, and a substrate on which various metal films or color filters are formed
- a heating means such as a hot plate or an oven to produce a resin film.
- the baking conditions are appropriately selected from baking temperatures of 80 ° C. to 300 ° C. and baking times of 0.3 minutes to 60 minutes. Bake may be processed in two steps or more.
- Example 5 50.0 g of the copolymer solution obtained in Synthesis Example 5 and 0.01 g of Megaface [registered trademark] R-30 (manufactured by DIC Corporation) as a surfactant, 1.1 g of propylene glycol monomethyl ether and lactic acid A solution was prepared by dissolving in 2.1 g of ethyl and 2.1 g of ⁇ -butyrolactone. Then, it filtered using the polyethylene micro filter with a hole diameter of 0.10 micrometer, and prepared the non-photosensitive resin composition.
- Megaface [registered trademark] R-30 manufactured by DIC Corporation
- Example 6 50.0 g of the copolymer solution obtained in Synthesis Example 6, 0.3 g of triphenylphosphine as a curing accelerator, and 0.01 g of Megafac® R-30 (manufactured by DIC Corporation) as a surfactant was dissolved in 7.0 g of propylene glycol monomethyl ether and 18.1 g of propylene glycol monomethyl ether acetate to prepare a solution. Then, it filtered using the polyethylene micro filter with a hole diameter of 0.10 micrometer, and prepared the non-photosensitive resin composition.
- Megafac® R-30 manufactured by DIC Corporation
- Example 13 50.0 g of the solution of the copolymer obtained in Synthesis Example 13 and 0.01 g of Megafex® R-30 (manufactured by DIC Corporation) as a surfactant, 9.8 g of propylene glycol monomethyl ether and propylene A solution was prepared by dissolving in 3.7 g of glycol monomethyl ether acetate. Then, it filtered using the polyethylene micro filter with a hole diameter of 0.10 micrometer, and prepared the non-photosensitive resin composition.
- Megafex® R-30 manufactured by DIC Corporation
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Medicinal Chemistry (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Polymers & Plastics (AREA)
- Health & Medical Sciences (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Crystallography & Structural Chemistry (AREA)
- Materials For Photolithography (AREA)
- Addition Polymer Or Copolymer, Post-Treatments, Or Chemical Modifications (AREA)
- Compositions Of Macromolecular Compounds (AREA)
Abstract
Description
また、本発明の非感光性樹脂組成物から保護膜、平坦化膜又はマイクロレンズを形成し、その上にレジストを塗布する場合、及び電極/配線形成工程を行う場合には、レジストとのミキシングの問題、及び薬液による保護膜、平坦化膜又はマイクロレンズの変形及び剥離といった問題も著しく減少できる。
したがって、本発明の非感光性樹脂組成物は、保護膜、平坦化膜及びマイクロレンズを形成する材料として好適である。
本発明の非感光性樹脂組成物に含まれる自己架橋性共重合体は、前記式(1)及び式(2)で表される構造単位を有する共重合体である。
当該硬化促進剤としては、例えば、トリフェニルホスフィン、トリブチルホスフィン、トリス(4-メチルフェニル)ホスフィン、トリス(4-ノニルフェニル)ホスフィン、トリス(4-メトキシフェニル)ホスフィン、トリス(2,6-ジメトキシフェニル)ホスフィン、トリフェニルホスフィントリフェニルボラン等のホスフィン類、テトラフェニルホスホニウムクロリド、テトラフェニルホスホニウムブロミド、ベンジルトリフェニルホスホニウムクロリド、ベンジルトリフェニルホスホニウムブロミド、エチルトリフェニルホスホニウムクロリド、エチルトリフェニルホスホニウムブロミド、テトラフェニルホスホニウムテトラフェニルボレート、テトラフェニルホスホニウムテトラ(4-メチルフェニル)ボレート、テトラフェニルホスホニウムテトラ(4-メトキシフェニル)ボレート、テトラフェニルホスホニウムテトラ(4-フルオロフェニル)ボレート等の4級ホスホニウム塩類、2-メチルイミダゾール、2-エチル-4-メチルイミダゾール等のイミダゾール類、2-エチル-4-メチルイミダゾールテトラフェニルボレート等のイミダゾリウム塩類、1,8-ジアザビシクロ[5.4.0]-7-ウンデセン、1,5-ジアザビシクロ[4.3.0]-5-ノネン等のジアザビシクロアルケン類、1,8-ジアザビシクロ[5.4.0]-7-ウンデセンのギ酸塩、1,8-ジアザビシクロ[5.4.0]-7-ウンデセンの2-エチルヘキサン酸塩等のジアザビシクロアルケンの有機酸塩類、テトラエチルアンモニウムクロリド、ベンジルトリメチルアンモニウムクロリド、ベンジルトリメチルアンモニウムブロミド、ベンジルトリエチルアンモニウムクロリド、ベンジルトリエチルアンモニウムブロミド、ベンジルトリプロピルアンモニウムクロリド、ベンジルトリプロピルアンモニウムブロミド、テトラメチルアンモニウムクロリド、テトラエチルアンモニウムブロミド、テトラプロピルアンモニウムクロリド、テトラプロピルアンモニウムブロミド等の4級アンモニウム塩類を挙げることができる。これらの硬化促進剤は、単独で使用しても、2種以上を組み合わせて使用してもよい。
当該界面活性剤としては、例えば、ポリオキシエチレンラウリルエーテル、ポリオキシエチレンステアリルエーテル、ポリオキシエチレンセチルエーテル、ポリオキシエチレンオレイルエーテル等のポリオキシエチレンアルキルエーテル類、ポリオキシエチレンオクチルフェニルエーテル、ポリオキシエチレンノニルフェニルエーテル等のポリオキシエチレンアルキルアリールエーテル類、ポリオキシエチレン・ポリオキシプロピレンブロックコポリマー類、ソルビタンモノラウレート、ソルビタンモノパルミテート、ソルビタンモノステアレート、ソルビタンモノオレエート、ソルビタントリオレエート、ソルビタントリステアレート等のソルビタン脂肪酸エステル類、ポリオキシエチレンソルビタンモノラウレート、ポリオキシエチレンソルビタンモノパルミテート、ポリオキシエチレンソルビタンモノステアレート、ポリオキシエチレンソルビタントリオレエート、ポリオキシエチレンソルビタントリステアレート等のポリオキシエチレンソルビタン脂肪酸エステル類等のノニオン系界面活性剤、エフトップ〔登録商標〕EF301、同EF303、同EF352(以上、三菱マテリアル電子化成(株)製)、メガファック〔登録商標〕F-171、同F-173、同R-30(以上、DIC(株)製)、フロラードFC430、同FC431(以上、住友スリーエム(株)製)、アサヒガード〔登録商標〕AG710、サーフロン〔登録商標〕S-382、同SC101、同SC102、同SC103、同SC104、同SC105、同SC106(旭硝子(株)製)、FTX-206D、FTX-212D、FTX-218、FTX-220D、FTX-230D、FTX-240D、FTX-212P、FTX-220P、FTX-228P、FTX-240G等のフタージェントシリーズ((株)ネオス製)等のフッ素系界面活性剤、オルガノシロキサンポリマーKP341(信越化学工業(株)製)を挙げることができる。これらの界面活性剤は、単独で使用しても、2種以上を組み合わせて使用してもよい。
本発明の非感光性樹脂組成物を用いた硬化膜、保護膜及び平坦化膜の作製方法について説明する。基材(例えば、半導体基板、ガラス基板、石英基板、シリコンウエハー及びこれらの表面に各種金属膜又はカラーフィルター等が形成された基板)上に、スピナー、コーター等の適当な塗布方法により本発明の非感光性樹脂組成物を塗布後、ホットプレートやオーブン等の加熱手段を用いてベークして硬化させて硬化膜、保護膜、又は平坦化膜を作製する。
ベーク条件は、ベーク温度80℃乃至300℃、ベーク時間0.3分乃至60分間の中から適宜選択される。ベークは2ステップ以上処理してもよい。
また、本発明の非感光性樹脂組成物から形成される膜の膜厚としては、例えば0.001μm乃至100μmであり、好ましくは0.01μm乃至10μmである。
本発明の非感光性樹脂組成物を用いたマイクロレンズの作製方法について説明する。基材(例えば、半導体基板、ガラス基板、石英基板、シリコンウエハー及びこれらの表面に各種金属膜又はカラーフィルター等が形成された基板)上に、スピナー、コーター等の適当な塗布方法により本発明の非感光性樹脂組成物を塗布後、ホットプレート、オーブン等の加熱手段を用いてベークして硬化させて樹脂膜を作製する。
ベーク条件は、ベーク温度80℃乃至300℃、ベーク時間0.3分乃至60分間の中から適宜選択される。ベークは2ステップ以上処理してもよい。
また、本発明の非感光性樹脂組成物から形成される膜の膜厚としては、例えば0.01μm乃至100μmであり、好ましくは0.1μm乃至10μmである。
その後、作製された樹脂膜の上にレジストを塗布し、所定のマスクを通して露光し、必要に応じて露光後加熱(PEB)を行い、アルカリ現像、リンス、乾燥することにより、所定のレジストパターンを形成する。露光には、例えば、g線、I線、KrFエキシマレーザー、ArFエキシマレーザーを使用することができる。
次いで、加熱処理することにより、前記レジストパターンをリフローしてレンズパターンを形成する。このレンズパターンをエッチングマスクとして下層の樹脂膜をエッチバックして、当該レンズパターンの形状をマイクロレンズ用樹脂膜に転写することによってマイクロレンズを作製する。
〔下記合成例で得られた共重合体の重量平均分子量の測定〕
装置:日本分光(株)製GPCシステム
カラム:Shodex〔登録商標〕KF-804L及び803L
カラムオーブン:40℃
流量:1mL/分
溶離液:テトラヒドロフラン
<合成例1>
4-ヒドロキシフェニルメタクリレート10.0g、前記式(2-7)で表されるモノマー8.0g、及び2,2’-アゾビスイソブチロニトリル0.90gをプロピレングリコールモノメチルエーテル35.1gに溶解させた後、この溶液を、プロピレングリコールモノメチルエーテル21.6gを70℃に保持したフラスコ中に4時間かけて滴下した。滴下終了後、さらに18時間反応させて、共重合体の溶液(固形分濃度25質量%)を得た。得られた共重合体の重量平均分子量Mwは21,000(ポリスチレン換算)であった。
4-ヒドロキシフェニルメタクリレート5.2g、前記式(2-7)で表されるモノマー4.2g、スチレン9.1g及び2,2’-アゾビスイソブチロニトリル0.92gをプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート36.0gに溶解させた後、この溶液を、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート22.2gを70℃に保持したフラスコ中に4時間かけて滴下した。滴下終了後、さらに18時間反応させて、共重合体の溶液(固形分濃度25質量%)を得た。得られた共重合体の重量平均分子量Mwは22,000(ポリスチレン換算)であった。
4-ヒドロキシフェニルメタクリレート5.0g、前記式(2-7)で表されるモノマー5.0g、2-ビニルナフタレン11.9g及び2,2’-アゾビスイソブチロニトリル1.1gをプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート34.5gに溶解させた後、この溶液を、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート19.2gを70℃に保持したフラスコ中に4時間かけて滴下した。滴下終了後、さらに18時間反応させて、共重合体の溶液(固形分濃度30.2質量%)を得た。得られた共重合体の重量平均分子量Mwは11,500(ポリスチレン換算)であった。
4-ヒドロキシフェニルメタクリルアミド7.5g、前記式(2-5)で表されるモノマー12.7g及び2,2’-アゾビスイソブチロニトリル1.4gをプロピレングリコールモノメチルエーテル40.2gに溶解させた後、この溶液を、プロピレングリコールモノメチルエーテル24.7gを70℃に保持したフラスコ中に4時間かけて滴下した。滴下終了後、さらに18時間反応させて、共重合体の溶液(固形分濃度23.8質量%)を得た。得られた共重合体の重量平均分子量Mwは9,400(ポリスチレン換算)であった。
4-ヒドロキシフェニルメタクリルアミド4.6g、前記式(2-7)で表されるモノマー3.7g、2-ビニルナフタレン12.0g及び2,2’-アゾビスイソブチロニトリル1.1gをプロピレングリコールモノメチルエーテル39.7gに溶解させた後、この溶液を、プロピレングリコールモノメチルエーテル24.4gを70℃に保持したフラスコ中に4時間かけて滴下した。滴下終了後、さらに18時間反応させて、共重合体の溶液(固形分濃度25.0質量%)を得た。得られた共重合体の重量平均分子量Mwは9,600(ポリスチレン換算)であった。
4-ヒドロキシフェニルメタクリルアミド6.3g、前記式(2-5)で表されるモノマー8.5g、4-メトキシスチレン8.6g及び2,2’-アゾビスイソブチロニトリル1.2gをプロピレングリコールモノメチルエーテル36.9gに溶解させた後、この溶液を、プロピレングリコールモノメチルエーテル20.5gを70℃に保持したフラスコ中に4時間かけて滴下した。滴下終了後、さらに18時間反応させて、共重合体の溶液(固形分濃度29.4質量%)を得た。得られた共重合体の重量平均分子量Mwは16,800(ポリスチレン換算)であった。
4-ヒドロキシフェニルメタクリレート7.5g、前記式(2-8)で表されるモノマー8.3g、スチレン8.8g及び2,2’-アゾビスイソブチロニトリル1.5gをプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート39.0gに溶解させた後、この溶液を、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート21.7gを70℃に保持したフラスコ中に4時間かけて滴下した。滴下終了後、さらに18時間反応させて、共重合体の溶液(固形分濃度29.9質量%)を得た。得られた共重合体の重量平均分子量Mwは13,900(ポリスチレン換算)であった。
4-ヒドロキシフェニルメタクリレート5.5g、前記式(2-13)で表されるモノマー7.0g、4-ビニルビフェニル2.2g、N-シクロヘキシルマレイミド8.9g及び2,2’-アゾビスイソブチロニトリル1.2gをシクロヘキサノン37.1gに溶解させた後、この溶液を、シクロヘキサノン20.6gを70℃に保持したフラスコ中に4時間かけて滴下した。滴下終了後、さらに18時間反応させて、共重合体の溶液(固形分濃度29.4質量%)を得た。得られた共重合体の重量平均分子量Mwは29,200(ポリスチレン換算)であった。
4-ヒドロキシフェニルメタクリレート6.5g、前記式(2-13)で表されるモノマー8.3g、N-フェニルマレイミド9.9g及び2,2’-アゾビスイソブチロニトリル1.5gをプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート39.2gに溶解させた後、この溶液を、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート21.8gを70℃に保持したフラスコ中に4時間かけて滴下した。滴下終了後、さらに18時間反応させて、共重合体の溶液(固形分濃度29.9質量%)を得た。得られた共重合体の重量平均分子量Mwは24,300(ポリスチレン換算)であった。
4-ヒドロキシフェニルメタクリレート7.0g、前記式(2-15)で表されるモノマー6.8g、N-シクロヘキシルマレイミド11.1g及び2,2’-アゾビスイソブチロニトリル1.5gをプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート39.5gに溶解させた後、この溶液を、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート21.9gを70℃に保持したフラスコ中に4時間かけて滴下した。滴下終了後、さらに18時間反応させて、共重合体の溶液(固形分濃度28.0質量%)を得た。得られた共重合体の重量平均分子量Mwは28,500(ポリスチレン換算)であった。
4-ヒドロキシフェニルメタクリレート8.0g、前記式(2-7)で表されるモノマー6.4g、インデン1.8g、N-シクロヘキシルマレイミド8.1g及び2,2’-アゾビスイソブチロニトリル1.5gをプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート38.4gに溶解させた後、この溶液を、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート21.3gを70℃に保持したフラスコ中に4時間かけて滴下した。滴下終了後、さらに18時間反応させて、共重合体の溶液(固形分濃度28.5質量%)を得た。得られた共重合体の重量平均分子量Mwは27,800(ポリスチレン換算)であった。
4-ヒドロキシフェニルメタクリレート6.0g、前記式(2-7)で表されるモノマー4.8g、フェノキシエチルアクリレート13.0g及び2,2’-アゾビスイソブチロニトリル1.5gをプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート37.7gに溶解させた後、この溶液を、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート21.0gを70℃に保持したフラスコ中に4時間かけて滴下した。滴下終了後、さらに18時間反応させて、共重合体の溶液(固形分濃度29.5質量%)を得た。得られた共重合体の重量平均分子量Mwは34,000(ポリスチレン換算)であった。
4-ヒドロキシフェニルメタクリレート9.0g、前記式(2-7)で表されるモノマー7.2g、4-tert-ブチルスチレン2.7g、n-ブチルアクリレート6.5g及び2,2’-アゾビスイソブチロニトリル1.6gをプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート40.3gに溶解させた後、この溶液を、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート22.4gを70℃に保持したフラスコ中に4時間かけて滴下した。滴下終了後、さらに18時間反応させて、共重合体の溶液(固形分濃度29.2質量%)を得た。得られた共重合体の重量平均分子量Mwは31,500(ポリスチレン換算)であった。
4-ヒドロキシフェニルメタクリレート9.0g、前記式(2-7)で表されるモノマー7.2g、イソボルニルアクリレート6.0g、N-メチルマレイミド1.6g及び2,2’-アゾビスイソブチロニトリル1.5gをプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート37.8gに溶解させた後、この溶液を、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート21.0gを70℃に保持したフラスコ中に4時間かけて滴下した。滴下終了後、さらに18時間反応させて、共重合体の溶液(固形分濃度28.9質量%)を得た。得られた共重合体の重量平均分子量Mwは31,800(ポリスチレン換算)であった。
4-ヒドロキシフェニルメタクリルアミド8.0g、前記式(2-7)で表されるモノマー7.5g、2-ビニルナフタレン2.3g、ベンジルアクリレート2.4g、N-フェニルマレイミド3.9g及び2,2’-アゾビスイソブチロニトリル1.5gをプロピレングリコールモノメチルエーテル38.4gに溶解させた後、この溶液を、プロピレングリコールモノメチルエーテル21.3gを70℃に保持したフラスコ中に4時間かけて滴下した。滴下終了後、さらに18時間反応させて、共重合体の溶液(固形分濃度29.1質量%)を得た。得られた共重合体の重量平均分子量Mwは11,100(ポリスチレン換算)であった。
4-ヒドロキシフェニルメタクリレート18.0g、及び2,2’-アゾビスイソブチロニトリル0.90gをプロピレングリコールモノメチルエーテル35.1gに溶解させた後、この溶液を、プロピレングリコールモノメチルエーテル21.6gを70℃に保持したフラスコ中に4時間かけて滴下した。滴下終了後、さらに18時間反応させて、共重合体の溶液(固形分濃度25質量%)を得た。得られた共重合体の重量平均分子量Mwは32,000(ポリスチレン換算)であった。
前記式(2-7)で表されるモノマー22.0g、及び2,2’-アゾビスイソブチロニトリル1.1gをプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート34.7gに溶解させた後、この溶液を、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート19.3gを70℃に保持したフラスコ中に4時間かけて滴下した。滴下終了後、さらに18時間反応させて、共重合体の溶液(固形分濃度30質量%)を得た。得られた共重合体の重量平均分子量Mwは15,000(ポリスチレン換算)であった。
<実施例1>
合成例1で得られた共重合体の溶液50.0g及び界面活性剤としてメガファック〔登録商標〕R-30(DIC(株)製)0.01gを、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート12.5gに溶解させて溶液とした。その後、孔径0.10μmのポリエチレン製ミクロフィルターを用いてろ過して、非感光性樹脂組成物を調製した。
合成例2で得られた共重合体の溶液50.0g及び界面活性剤としてメガファック〔登録商標〕R-30(DIC(株)製)0.01gを、プロピレングリコールモノメチルエーテル12.5gに溶解させて溶液とした。その後、孔径0.10μmのポリエチレン製ミクロフィルターを用いてろ過して非感光性樹脂組成物を調製した。
合成例3で得られた共重合体の溶液50.0g及び界面活性剤としてメガファック〔登録商標〕R-30(DIC(株)製)0.01gを、プロピレングリコールモノメチルエーテル15.1g及びプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート0.3gに溶解させて溶液とした。その後、孔径0.10μmのポリエチレン製ミクロフィルターを用いてろ過して非感光性樹脂組成物を調製した。
合成例4で得られた共重合体の溶液50.0g及び界面活性剤としてメガファック〔登録商標〕R-30(DIC(株)製)0.01gを、プロピレングリコールモノメチルエーテル1.2g、乳酸エチル5.9g及びγ-ブチロラクトン2.4gに溶解させて溶液とした。その後、孔径0.10μmのポリエチレン製ミクロフィルターを用いてろ過して非感光性樹脂組成物を調製した。
合成例5で得られた共重合体の溶液50.0g及び界面活性剤としてメガファック〔登録商標〕R-30(DIC(株)製)0.01gを、プロピレングリコールモノメチルエーテル1.1g、乳酸エチル2.1g及びγ-ブチロラクトン2.1gに溶解させて溶液とした。その後、孔径0.10μmのポリエチレン製ミクロフィルターを用いてろ過して非感光性樹脂組成物を調製した。
合成例6で得られた共重合体の溶液50.0g、硬化促進剤としてトリフェニルホスフィン0.3g及び界面活性剤としてメガファック〔登録商標〕R-30(DIC(株)製)0.01gを、プロピレングリコールモノメチルエーテル7.0g及びプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート18.1gに溶解させて溶液とした。その後、孔径0.10μmのポリエチレン製ミクロフィルターを用いてろ過して非感光性樹脂組成物を調製した。
合成例7で得られた共重合体の溶液50.0g、硬化促進剤としてトリフェニルホスフィン0.3g及び界面活性剤としてメガファック〔登録商標〕R-30(DIC(株)製)0.01gを、プロピレングリコールモノメチルエーテル16.2g及びプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート2.9gに溶解させて溶液とした。その後、孔径0.10μmのポリエチレン製ミクロフィルターを用いてろ過して非感光性樹脂組成物を調製した。
合成例8で得られた共重合体の溶液50.0g及び界面活性剤としてメガファック〔登録商標〕R-30(DIC(株)製)0.01gを、プロピレングリコールモノメチルエーテル17.7g及びシクロヘキサノン5.9gに溶解させて溶液とした。その後、孔径0.10μmのポリエチレン製ミクロフィルターを用いてろ過して非感光性樹脂組成物を調製した。
合成例9で得られた共重合体の溶液50.0g及び界面活性剤としてメガファック〔登録商標〕R-30(DIC(株)製)0.01gを、プロピレングリコールモノメチルエーテル8.8gに溶解させて溶液とした。その後、孔径0.10μmのポリエチレン製ミクロフィルターを用いてろ過して非感光性樹脂組成物を調製した。
合成例10で得られた共重合体の溶液50.0g及び界面活性剤としてメガファック〔登録商標〕R-30(DIC(株)製)0.01gを、プロピレングリコールモノメチルエーテル9.0gに溶解させて溶液とした。その後、孔径0.10μmのポリエチレン製ミクロフィルターを用いてろ過して非感光性樹脂組成物を調製した。
合成例11で得られた共重合体の溶液50.0g及び界面活性剤としてメガファック〔登録商標〕R-30(DIC(株)製)0.01gを、プロピレングリコールモノメチルエーテル9.6g及びプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート2.5gに溶解させて溶液とした。その後、孔径0.10μmのポリエチレン製ミクロフィルターを用いてろ過して非感光性樹脂組成物を調製した。
合成例12で得られた共重合体の溶液50.0g及び界面活性剤としてメガファック〔登録商標〕R-30(DIC(株)製)0.01gを、プロピレングリコールモノメチルエーテル9.9g及びプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート4.3gに溶解させて溶液とした。その後、孔径0.10μmのポリエチレン製ミクロフィルターを用いてろ過して非感光性樹脂組成物を調製した。
合成例13で得られた共重合体の溶液50.0g及び界面活性剤としてメガファック〔登録商標〕R-30(DIC(株)製)0.01gを、プロピレングリコールモノメチルエーテル9.8g及びプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート3.7gに溶解させて溶液とした。その後、孔径0.10μmのポリエチレン製ミクロフィルターを用いてろ過して非感光性樹脂組成物を調製した。
合成例14で得られた共重合体の溶液50.0g及び界面活性剤としてメガファック〔登録商標〕R-30(DIC(株)製)0.01gを、プロピレングリコールモノメチルエーテル10.3g及びプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート5.5gに溶解させて溶液とした。その後、孔径0.10μmのポリエチレン製ミクロフィルターを用いてろ過して非感光性樹脂組成物を調製した。
合成例15で得られた共重合体の溶液50.0g及び界面活性剤としてメガファック〔登録商標〕R-30(DIC(株)製)0.01gを、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート8.4g及び乳酸エチル11.0gに溶解させて溶液とした。その後、孔径0.10μmのポリエチレン製ミクロフィルターを用いてろ過して非感光性樹脂組成物を調製した。
合成例16で得られた共重合体の溶液50.0g及び界面活性剤としてメガファック〔登録商標〕R-30(DIC(株)製)0.01gを、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート9.7gに溶解させて溶液とした。その後、孔径0.10μmのポリエチレン製ミクロフィルターを用いてろ過して非感光性樹脂組成物を調製した。
合成例17で得られた共重合体の溶液50.0g及び界面活性剤としてメガファック〔登録商標〕R-30(DIC(株)製)0.02gを、プロピレングリコールモノメチルエーテル8.8gに溶解させて溶液とした。その後、孔径0.10μmのポリエチレン製ミクロフィルターを用いてろ過して非感光性樹脂組成物を調製した。
合成例1で得られた共重合体の溶液50.0g、感光剤としてP-200(東洋合成工業(株)製)3.2g及び界面活性剤としてメガファック〔登録商標〕R-30(DIC(株)製)0.02gを、プロピレングリコールモノメチルエーテル1.6g及びプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート14.7g溶解させて溶液とした。その後、孔径0.10μmのポリエチレン製ミクロフィルターを用いてろ過して感光性樹脂組成物を調製した。
実施例1乃至実施例15並びに比較例1乃至比較例3で調製した樹脂組成物をそれぞれ、シリコンウエハー上にスピンコーターを用いて塗布し、ホットプレート上において100℃で1分間、さらに230℃で5分間ベークを行い、膜厚2μmの膜を形成した。これらの膜に対して、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、乳酸エチル、酢酸ブチル、3-メトキシプロピオン酸メチル、アセトン、メチルイソブチルケトン、2-ヘプタノン、2-プロパノール、N-メチルピロリドン及び2.38質量%濃度の水酸化テトラメチルアンモニウム(TMAH)水溶液に、それぞれ23℃の温度条件下、10分間浸漬する試験を行った。浸漬前及び浸漬後の膜厚測定を行い、浸漬前後での膜厚変化を算出した。前記浸漬溶剤のうち1つでも、浸漬前の膜厚に対して10%以上の膜厚増減があった場合は“×”、全ての溶剤について膜厚増減が10%未満であった場合は“○”として耐薬品性を評価した。評価結果を表1に示す。
実施例1乃至実施例15で調製した非感光性樹脂組成物及び比較例3で調製した感光性樹脂組成物をそれぞれ、石英基板上にスピンコーターを用いて塗布し、ホットプレート上において100℃で1分間、さらに230℃で5分間ベークを行い、膜厚2μmの膜を形成した。これらの膜に対して、紫外線可視分光光度計UV-2550((株)島津製作所製)を用いて、波長400nm~800nmの範囲で波長を2nmずつ変化させて透過率を測定した。さらにこの膜を260℃で5分間加熱した後、再び波長400nm~800nmの範囲で波長を2nmずつ変化させて透過率を測定した。なお、マイクロレンズ用硬化膜の透過率は90%以上であることが通常求められる。260℃で5分間加熱する前及び後での、波長400nm~800nmの範囲で測定された最低透過率の値を表1に示す。
ドライエッチングレートの測定に用いたエッチャー及びエッチングガスは、以下の通りである。
エッチャー:RIE-10NR(サムコ(株)製)
エッチングガス:CF4
実施例1乃至実施例15で調製した非感光性樹脂組成物を、それぞれ高さ0.5μm、ライン幅10μm、ライン間スペース10μmの段差基板(図1参照)上にスピンコーターを用いて塗布し、ホットプレート上において100℃で1分間、さらに230℃で5分間ベークを行い、膜厚2μmの膜を形成した。図1の段差基板1に示すh1(段差基板の段差)とh2(硬化膜の段差、即ちライン上の硬化膜の高さとスペース上の硬化膜の高さとの高低差)の値から、“式:(1-(h2/h1))×100”を用いて平坦化率を求めた。評価結果を表1に示す。
一方、比較例1及び比較例2で調製した非感光性樹脂組成物から形成された膜については、耐薬品性を満足しない結果となり、保護膜、平坦化膜及びマイクロレンズ用として適さないことが分かった。
また、比較例3で調整した感光性樹脂組成物から形成された硬化膜については、耐溶剤性は満足する結果であるものの、透過率が90%未満であった。前述したように、マイクロレンズ用硬化膜の透過率は90%以上であることが通常求められ、比較例3のような感光性樹脂組成物は、エッチバック法によって作製されるマイクロレンズ用樹脂組成物として適さないことが分かった。
2:硬化膜
3:ライン幅
4:ライン間スペース
h1:段差基板の段差
h2:硬化膜の段差
Claims (14)
- 下記式(1)及び式(2)で表される構造単位を有する自己架橋性共重合体、及び溶剤を含有する非感光性樹脂組成物。
- 前記自己架橋性共重合体は、さらに、下記式(3)乃至式(6)で表される構造単位のうち少なくとも1種を有する共重合体である、請求項1又は請求項2に記載の非感光性樹脂組成物。
- 前記自己架橋性共重合体の重量平均分子量は1,000乃至100,000である、請求項1乃至請求項3のいずれか一項に記載の非感光性樹脂組成物。
- さらに硬化促進剤を含有する、請求項1乃至請求項4のいずれか一項に記載の非感光性樹脂組成物。
- 保護膜用である請求項1乃至請求項5のいずれか一項に記載の非感光性樹脂組成物。
- 平坦化膜用である請求項1乃至請求項5のいずれか一項に記載の非感光性樹脂組成物。
- マイクロレンズ用である請求項1乃至請求項5のいずれか一項に記載の非感光性樹脂組成物。
- 請求項1乃至請求項5のいずれか一項に記載の非感光性樹脂組成物から得られる硬化膜。
- 請求項6に記載の非感光性樹脂組成物から作製される保護膜。
- 請求項7に記載の非感光性樹脂組成物から作製される平坦化膜。
- 請求項8に記載の非感光性樹脂組成物から作製されるマイクロレンズ。
- 請求項8に記載の非感光性樹脂組成物を基材上に塗布しベークして樹脂膜を形成し、前記樹脂膜上にレジストパターンを形成し、加熱処理によって前記レジストパターンをリフローさせてレンズパターンを形成し、前記レンズパターンをマスクとして前記樹脂膜をエッチバックして該レンズパターンの形状を該樹脂膜へ転写する、マイクロレンズの作製方法。
- 前記基材はカラーフィルターが形成された基板である、請求項13に記載のマイクロレンズの作製方法。
Priority Applications (5)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2014543213A JP6264570B2 (ja) | 2012-10-23 | 2013-10-04 | 非感光性樹脂組成物 |
KR1020157011598A KR101935033B1 (ko) | 2012-10-23 | 2013-10-04 | 비감광성 수지 조성물 |
US14/435,918 US9823391B2 (en) | 2012-10-23 | 2013-10-04 | Non-photosensitive resin composition |
CN201380054023.4A CN104718229B (zh) | 2012-10-23 | 2013-10-04 | 非感光性树脂组合物 |
EP13848555.2A EP2913352B1 (en) | 2012-10-23 | 2013-10-04 | Non-photosensitive resin composition |
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2012-233995 | 2012-10-23 | ||
JP2012233995 | 2012-10-23 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
WO2014065100A1 true WO2014065100A1 (ja) | 2014-05-01 |
Family
ID=50544480
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
PCT/JP2013/077149 WO2014065100A1 (ja) | 2012-10-23 | 2013-10-04 | 非感光性樹脂組成物 |
Country Status (7)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US9823391B2 (ja) |
EP (1) | EP2913352B1 (ja) |
JP (1) | JP6264570B2 (ja) |
KR (1) | KR101935033B1 (ja) |
CN (1) | CN104718229B (ja) |
TW (1) | TWI631171B (ja) |
WO (1) | WO2014065100A1 (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2017110393A1 (ja) | 2015-12-21 | 2017-06-29 | 日産化学工業株式会社 | 樹脂組成物 |
JP2020128451A (ja) * | 2019-02-07 | 2020-08-27 | 日油株式会社 | バインダー樹脂および導電性ペースト組成物 |
Families Citing this family (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US20160181309A1 (en) * | 2014-12-22 | 2016-06-23 | Canon Kabushiki Kaisha | Microlens and method of manufacturing microlens |
WO2023097623A1 (zh) * | 2021-12-02 | 2023-06-08 | 京东方科技集团股份有限公司 | 一种微透镜结构、其制作方法及显示装置 |
CN115960303A (zh) * | 2022-12-30 | 2023-04-14 | 阜阳欣奕华材料科技有限公司 | 具有热交联结构的树脂及其制备方法、光敏性树脂组合物、微透镜及其制备方法和光学设备 |
Citations (13)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS6410666A (en) | 1987-07-03 | 1989-01-13 | Sony Corp | Manufacture of solid-state image sensing device |
JPH06112459A (ja) | 1992-09-25 | 1994-04-22 | Sony Corp | オンチップレンズおよびその製造方法 |
JP2006111802A (ja) * | 2004-10-18 | 2006-04-27 | Showa Highpolymer Co Ltd | 重合体、フォトレジスト、エポキシ硬化剤および塗料 |
JP2006251464A (ja) | 2005-03-11 | 2006-09-21 | Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd | レンズ形成用感光性樹脂組成物 |
JP2007033518A (ja) | 2005-07-22 | 2007-02-08 | Showa Highpolymer Co Ltd | 感光性樹脂組成物 |
JP2007171572A (ja) | 2005-12-22 | 2007-07-05 | Jsr Corp | 感放射線性樹脂組成物、層間絶縁膜およびマイクロレンズ、ならびにそれらの製造方法 |
JP2008069205A (ja) * | 2006-09-12 | 2008-03-27 | Showa Denko Kk | 新規熱硬化性重合液及びそれを用いた熱硬化性樹脂 |
JP2008165127A (ja) * | 2007-01-05 | 2008-07-17 | Showa Highpolymer Co Ltd | 感光性樹脂組成物 |
JP2008257188A (ja) * | 2007-03-13 | 2008-10-23 | Shin Etsu Chem Co Ltd | レジスト下層膜材料およびこれを用いたパターン形成方法 |
JP2009015245A (ja) * | 2007-07-09 | 2009-01-22 | Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd | 感光性樹脂組成物およびこれを用いたマイクロレンズ |
JP2009020462A (ja) * | 2007-07-13 | 2009-01-29 | Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd | マイクロレンズ形成用感光性樹脂組成物、マイクロレンズ、およびマイクロレンズの形成方法 |
JP2011138116A (ja) * | 2009-12-04 | 2011-07-14 | Jsr Corp | 感放射線性樹脂組成物、層間絶縁膜並びにそれらの形成方法 |
WO2013005619A1 (ja) * | 2011-07-07 | 2013-01-10 | 日産化学工業株式会社 | 樹脂組成物 |
Family Cites Families (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP4458389B2 (ja) * | 2000-05-01 | 2010-04-28 | コダック株式会社 | 感光性組成物および感光性平版印刷版 |
JP4117871B2 (ja) * | 2000-11-09 | 2008-07-16 | 東京応化工業株式会社 | 反射防止膜形成用組成物 |
ATE530951T1 (de) * | 2001-07-26 | 2011-11-15 | Basf Se | Lichtempfindliche harzzusammensetzung |
JP2008040180A (ja) * | 2006-08-07 | 2008-02-21 | Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd | 層間絶縁膜用感光性樹脂組成物 |
US7759048B2 (en) | 2007-07-09 | 2010-07-20 | Tokyo Ohka Kogyo Co., Ltd. | Photosensitive resin composition and microlens formed with use thereof |
JP4516150B1 (ja) * | 2009-02-27 | 2010-08-04 | 昭和高分子株式会社 | 感光性樹脂組成物 |
-
2013
- 2013-10-04 WO PCT/JP2013/077149 patent/WO2014065100A1/ja active Application Filing
- 2013-10-04 CN CN201380054023.4A patent/CN104718229B/zh active Active
- 2013-10-04 EP EP13848555.2A patent/EP2913352B1/en not_active Not-in-force
- 2013-10-04 JP JP2014543213A patent/JP6264570B2/ja active Active
- 2013-10-04 US US14/435,918 patent/US9823391B2/en active Active
- 2013-10-04 KR KR1020157011598A patent/KR101935033B1/ko active IP Right Grant
- 2013-10-15 TW TW102137113A patent/TWI631171B/zh active
Patent Citations (13)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS6410666A (en) | 1987-07-03 | 1989-01-13 | Sony Corp | Manufacture of solid-state image sensing device |
JPH06112459A (ja) | 1992-09-25 | 1994-04-22 | Sony Corp | オンチップレンズおよびその製造方法 |
JP2006111802A (ja) * | 2004-10-18 | 2006-04-27 | Showa Highpolymer Co Ltd | 重合体、フォトレジスト、エポキシ硬化剤および塗料 |
JP2006251464A (ja) | 2005-03-11 | 2006-09-21 | Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd | レンズ形成用感光性樹脂組成物 |
JP2007033518A (ja) | 2005-07-22 | 2007-02-08 | Showa Highpolymer Co Ltd | 感光性樹脂組成物 |
JP2007171572A (ja) | 2005-12-22 | 2007-07-05 | Jsr Corp | 感放射線性樹脂組成物、層間絶縁膜およびマイクロレンズ、ならびにそれらの製造方法 |
JP2008069205A (ja) * | 2006-09-12 | 2008-03-27 | Showa Denko Kk | 新規熱硬化性重合液及びそれを用いた熱硬化性樹脂 |
JP2008165127A (ja) * | 2007-01-05 | 2008-07-17 | Showa Highpolymer Co Ltd | 感光性樹脂組成物 |
JP2008257188A (ja) * | 2007-03-13 | 2008-10-23 | Shin Etsu Chem Co Ltd | レジスト下層膜材料およびこれを用いたパターン形成方法 |
JP2009015245A (ja) * | 2007-07-09 | 2009-01-22 | Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd | 感光性樹脂組成物およびこれを用いたマイクロレンズ |
JP2009020462A (ja) * | 2007-07-13 | 2009-01-29 | Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd | マイクロレンズ形成用感光性樹脂組成物、マイクロレンズ、およびマイクロレンズの形成方法 |
JP2011138116A (ja) * | 2009-12-04 | 2011-07-14 | Jsr Corp | 感放射線性樹脂組成物、層間絶縁膜並びにそれらの形成方法 |
WO2013005619A1 (ja) * | 2011-07-07 | 2013-01-10 | 日産化学工業株式会社 | 樹脂組成物 |
Cited By (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2017110393A1 (ja) | 2015-12-21 | 2017-06-29 | 日産化学工業株式会社 | 樹脂組成物 |
KR20180097524A (ko) | 2015-12-21 | 2018-08-31 | 닛산 가가쿠 가부시키가이샤 | 수지 조성물 |
JPWO2017110393A1 (ja) * | 2015-12-21 | 2018-10-11 | 日産化学株式会社 | 樹脂組成物 |
US10752714B2 (en) | 2015-12-21 | 2020-08-25 | Nissan Chemical Industries, Ltd. | Resin composition |
JP2020128451A (ja) * | 2019-02-07 | 2020-08-27 | 日油株式会社 | バインダー樹脂および導電性ペースト組成物 |
JP7227558B2 (ja) | 2019-02-07 | 2023-02-22 | 日油株式会社 | バインダー樹脂および導電性ペースト組成物 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
CN104718229B (zh) | 2017-05-31 |
US9823391B2 (en) | 2017-11-21 |
EP2913352A1 (en) | 2015-09-02 |
EP2913352B1 (en) | 2018-05-02 |
JPWO2014065100A1 (ja) | 2016-09-08 |
CN104718229A (zh) | 2015-06-17 |
TW201425442A (zh) | 2014-07-01 |
TWI631171B (zh) | 2018-08-01 |
JP6264570B2 (ja) | 2018-01-24 |
KR20150079674A (ko) | 2015-07-08 |
EP2913352A4 (en) | 2016-05-04 |
US20150338556A1 (en) | 2015-11-26 |
KR101935033B1 (ko) | 2019-04-05 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP5950125B2 (ja) | 樹脂組成物 | |
JP2015174877A (ja) | 特定の硬化促進触媒を含む樹脂組成物 | |
JP6264570B2 (ja) | 非感光性樹脂組成物 | |
JP5737538B2 (ja) | 樹脂組成物 | |
WO2021090576A1 (ja) | 非感光性樹脂組成物 | |
CN106663627B (zh) | 平坦化膜用或微透镜用树脂组合物 | |
JP6478053B2 (ja) | マイクロレンズ形成用樹脂組成物 | |
KR102414942B1 (ko) | 수지 조성물 | |
JP6844339B2 (ja) | 熱硬化性樹脂組成物 | |
JP6936449B2 (ja) | 熱硬化性樹脂組成物 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
121 | Ep: the epo has been informed by wipo that ep was designated in this application |
Ref document number: 13848555 Country of ref document: EP Kind code of ref document: A1 |
|
ENP | Entry into the national phase |
Ref document number: 2014543213 Country of ref document: JP Kind code of ref document: A |
|
WWE | Wipo information: entry into national phase |
Ref document number: 14435918 Country of ref document: US |
|
NENP | Non-entry into the national phase |
Ref country code: DE |
|
ENP | Entry into the national phase |
Ref document number: 20157011598 Country of ref document: KR Kind code of ref document: A |
|
WWE | Wipo information: entry into national phase |
Ref document number: 2013848555 Country of ref document: EP |