WO2012117509A1

WO2012117509A1 - 薄板状ワークの粘着保持方法及び薄板状ワークの粘着保持装置並びに製造システム

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Publication number: WO2012117509A1
Application number: PCT/JP2011/054552
Authority: WO
Inventors: 道也横田
Original assignee: 信越エンジニアリング株式会社
Priority date: 2011-02-28
Filing date: 2011-02-28
Publication date: 2012-09-07
Also published as: JP4857407B1; TWI466811B; KR20130138652A; CN103201201A; JPWO2012117509A1; CN103201201B; TW201302585A; KR101791280B1

Abstract

　薄板状ワークを破損することなく粘着保持して薄板状ワークの自重撓みを補正する。　格子状の支持部材（１）で一部が支持された薄板状ワーク（Ｗ）において、その自重により下方へ撓み変形した不支持部位（Ｗ１）に対し、粘着手段（２）を薄板状ワーク（Ｗ）と交差する方向へ接近移動させて、不支持部位（Ｗ１）に粘着手段（２）の粘着面（２ａ）の一部を接触させ、その後、これら粘着面（２ａ）と不支持部位（Ｗ１）との接触面積が徐々に増えるように粘着面（２ａ）を動かす。それにより、不支持部位（Ｗ１）の自重撓みに倣って粘着面（２ａ）が部分的に時間差をかけつつ徐々に接触し、それに伴い薄板状ワーク（Ｗ）に対する外的負荷を非常に小さく押さえつつ、粘着面（２ａ）の略全体が不支持部位（Ｗ１）に接触して粘着保持される。その後、粘着手段（２）を粘着面（２ａ）が薄板状ワーク（Ｗ）において支持部材（１）で支持される支持部位（Ｗ２）と同一平面となる位置まで、粘着手段（２）を前記接近移動と逆方向へ移動させる。それにより、不支持部位（Ｗ１）の自重撓みが減少して、薄板状ワーク（Ｗ）の全体が平面状に粘着保持される。

Description

薄板状ワークの粘着保持方法及び薄板状ワークの粘着保持装置並びに製造システム

　本発明は、例えば有機ＥＬディスプレイ（ＯＬＥＤ）や液晶ディスプレイ（ＬＣＤ）などのフラットパネルディスプレイ（ＦＰＤ）の製造過程において、そのガラス製基板などの薄板状ワークを着脱自在に保持するために用いられる薄板状ワークの粘着保持方法と、その方法を実施するために使用する薄板状ワークの粘着保持装置と、該薄板状ワークの粘着保持装置を備えた、例えば有機ＥＬディスプレイ（ＯＬＥＤ）などを製造するために用いられる製造システムに関する。

　従来、膜形成領域に対応した開口部を有する成膜用マスクと被成膜基板とを重ね合わせて前記被成膜基板の前記膜形成領域に有機ＥＬ素子を構成する機能膜を成膜する有機ＥＬ装置の製造装置として、チャンバーと、チャンバーの底部に設けられて膜形成材料を蒸発させる蒸着源と、蒸着源に対向するように前記被成膜基板をほぼ水平な状態に保持する基板保持部とを有し、前記基板保持部が、外縁側にクランプ状形態の保持部を有する支持体を備え、該保持部によって、順に重ね合わされた磁石と、前記被成膜基板と、前記磁石の磁束密度に対して飽和磁化に到達する保磁力を有する前記成膜用マスクからなる積層体の周辺部を保持することにより、前記磁石と前記成膜用マスクとの間に前記被成膜基板を磁気吸引力によって挟持するものがある（例えば、特許文献１参照）。
　また、その他の有機ＥＬ装置の製造方法及び装置として、被処理基板の被成膜面とは反対側の面が重ねて配置された基板支持面および磁石を備えた磁石ユニットと、前記被処理基板の被成膜面に重ねて配置され、前記磁石による磁気吸引力によって前記基板支持面との間に前記被処理基板を挟持するように前記磁石ユニットに吸着された磁性材料製の蒸着マスクとを有し、前記磁石ユニットを上下反転させた状態で、前記基板支持面に対して前記被処理基板と前記蒸着マスクを重ねて配置することにより、前記磁石ユニットに備えられた前記磁石の磁気吸引力によって前記蒸着マスクとの間に前記被処理基板が挟持され、次に全体を上下反転させ、前記蒸着マスクが下方に向くようにマスク蒸着装置の回転機構にセットし、この状態で蒸着を行なうものがある（例えば、特許文献２参照）。
　さらに、特許文献２において有機ＥＬ装置の素子基板を形成するにあたっては、素子基板が多数取りできる大型基板（被処理基板）に対し、マスク蒸着などの半導体プロセスを利用して各層が形成され後に単品サイズの素子基板に切断している。

特開２０１０－２０９４４１号公報特開２０１０－１８５１０７号公報

　ところで、近年では有機ＥＬディスプレイなどに用いられる基板サイズが大型化する傾向で、一辺が2000ｍｍを超えるものまで製造され始めている。このような大型基板は、ガラスなどの割れ易い材料で薄板状に成形され、格子状の支持部材を使って支持すると、支持部材で囲まれた大型基板の中央部（不支持部位）が、その自重により撓みを生じて垂れ下がり、しかも、この変形した不支持部位に外的負荷を掛けれると、基板が更に変形して破損するおそれがある。
　つまり、大型基板をその下側から全面的に支えることなく、平面状に保持することが困難であった。
　そこで、前述した特許文献１や特許文献２に記載されるように、大型基板を部分的に撓むことなく水平保持することが考えられる。
　しかし乍ら、前述した特許文献１のように、磁石と成膜用マスクとの間に基板を該磁石の磁気吸引力により挟持する装置では、基板サイズの大型化に伴って成膜用マスクも一辺が2000ｍｍ以上に大きくなるため、磁石と大型基板と成膜用マスクの周辺部をクランプ状形態の保持部で保持しても、これら積層体の中央部（不支持部位）が自重で撓み、磁石の磁気吸引領域よりも低い位置まで一度垂れ下がってしまうと、不支持部位を磁石により磁気吸引して平面状に戻すことができない。
　それにより、成膜用マスクにおけるマスクパターンに変形や歪みが生じて正確なパターン形成ができず、歩留りが低下するという問題があった。
　また、前述した特許文献２のように、磁石ユニットの基板支持面と蒸着マスクとの間に基板を磁石の磁気吸引力により挟持した後に、これら全体を上下反転させる方法及び装置では、基板サイズの大型化に伴って蒸着マスクや磁石ユニットも一辺が2000ｍｍ以上に大きくなって重くなるため、ロボットなどの搬送機構を用いても簡単に上下反転させることは困難で、実現性に乏しいという問題があった。

　本発明は、このような問題に対処することを課題とするものであり、薄板状ワークを破損することなく粘着保持して薄板状ワークの自重撓みを補正することが可能な薄板状ワークの粘着保持方法を提供すること、薄板状ワークを破損することなく粘着保持して薄板状ワークの自重撓みを補正することが可能な薄板状ワークの粘着保持装置を提供すること、薄板状ワークを破損することなく粘着保持して磁石面と加工用マスクの間に平面状に挟持することが可能な製造システムを提供すること、などを目的とするものである。

　このような目的を達成するために本発明による薄板状ワークの粘着保持方法は、支持部材によりその一部が支持される薄板状ワークにおいて該支持部材で支持されない不支持部位に対し、粘着手段をその粘着面の一部が接触するまで、前記薄板状ワークと交差する方向へ接近移動させ、前記不支持部位に対し前記粘着面を、該粘着面と該不支持部位との接触面積が徐々に増えて略全体が接触するように動かし、前記粘着手段を、前記粘着面が前記薄板状ワークにおいて前記支持部材で支持される支持部位と同一平面となる位置まで、前記接近移動と逆方向へ移動させることを特徴とする。

　さらに本発明による薄板状ワークの粘着保持装置は、薄板状ワークの一部と当接するように設けられて該薄板状ワークを支持する支持部材と、前記薄板状ワークにおいて前記支持部材が当接しない不支持部位と対向する粘着面を有し、前記薄板状ワークと交差する方向へ往復動自在に設けられる粘着手段と、前記不支持部位に対する前記粘着面の往復動を作動制御する往復動制御手段と、前記不支持部位に対して前記粘着面が動くように前記粘着手段を作動制御する粘着面積増大手段とを備え、前記往復動制御手段が、前記不支持部位に向けて前記粘着面を接近移動させ、該粘着面の一部が前記不支持部位に接触した時に、前記粘着面の接近移動を停止させ、前記粘着面積増大手段が、前記粘着手段の接近移動停止後に、前記不支持部位に対し前記粘着面を、該粘着面と該不支持部位との接触面積が徐々に増えて略全体が接触するように動かし、前記往復動制御手段が、前記粘着面の略全体と前記不支持部位の接触後に、前記薄板状ワークにおいて前記支持部材で支持される支持部位と同一平面となる位置まで前記粘着面を前記接近移動と逆方向へ移動させることを特徴とする。

　また本発明による製造システムは、前記薄板状ワークの粘着保持装置と、前記薄板状ワークの非加工面と対向して設けられる平滑な磁石面と、前記薄板状ワークの加工面と対向して前記薄板状ワークと交差する方向へ往復動自在に設けられる磁性体からなる加工用マスクと、前記薄板状ワークの前記加工面に対する前記加工用マスクの往復動を作動制御するマスク移動制御手段とを備え、前記マスク移動制御手段が、前記往復動制御手段と連動して、前記粘着面の略全体と前記不支持部位の接触後に、前記加工用マスクを前記磁石面の磁気吸引力領域まで移動させることを特徴とする。

　前述した特徴を有する本発明による薄板状ワークの粘着保持方法は、格子状の支持部材で一部が支持された薄板状ワークにおいて、その自重により下方へ撓み変形した不支持部位に対し、粘着手段を薄板状ワークと交差する方向へ接近移動させて、不支持部位に粘着手段の粘着面の一部を接触させ、その後、不支持部位に対し粘着面を、これら粘着面と不支持部位との接触面積が徐々に増えて略全体が接触するように動かすことにより、不支持部位の自重撓みに倣って粘着面が部分的に時間差をかけつつ徐々に接触し、それに伴い薄板状ワークに対する外的負荷を非常に小さく押さえつつ、粘着面の略全体が不支持部位に接触して粘着保持され、その後、粘着手段を粘着面が薄板状ワークにおいて支持部材で支持される支持部位と同一平面となる位置まで、粘着手段を前記接近移動と逆方向へ移動させることにより、不支持部位の自重撓みが減少して、薄板状ワークの全体が平面状に粘着保持されるので、薄板状ワークを破損することなく粘着保持して薄板状ワークの自重撓みを補正することができる。
　その結果、薄板状ワークの基板サイズが一辺2000ｍｍ以上に大型化しても、大型基板をその下側から格子状の支持部材で部分的に支持することで、不支持部位の自重撓みを一定の範囲内で抑制することができ、平面状に保持することができる。

　さらに前述した特徴を有する本発明による薄板状ワークの粘着保持装置は、格子状の支持部材で一部が支持された薄板状ワークにおいて、その自重により下方へ撓み変形した不支持部位に対し、往復動制御手段で、粘着手段を薄板状ワークと交差する方向へ接近移動させて、不支持部位に粘着手段の粘着面の一部を接触させ、その後、粘着面積増大手段で、不支持部位に対し粘着面を、これら粘着面と不支持部位との接触面積が徐々に増えて略全体が接触するように動かすことにより、不支持部位の自重撓みに倣って粘着面が部分的に時間差をかけつつ徐々に接触し、それに伴い薄板状ワークに対する外的負荷を非常に小さく押さえつつ、粘着面の略全体が不支持部位に接触して粘着保持され、その後、往復動制御手段で、粘着手段を粘着面が薄板状ワークにおいて支持部材で支持される支持部位と同一平面となる位置まで、粘着手段を前記接近移動と逆方向へ移動させることにより、不支持部位の自重撓みが減少して、薄板状ワークの全体が平面状に粘着保持されるので、薄板状ワークを破損することなく粘着保持して薄板状ワークの自重撓みを補正することができる。
　その結果、薄板状ワークの基板サイズが一辺2000ｍｍ以上に大型化しても、大型基板をその下側から格子状の支持部材で部分的に支持することで、不支持部位の自重撓みを一定の範囲内で抑制することができ、平面状に保持することができる。

　また前述した特徴を有する本発明による製造システムは、粘着面の略全体と不支持部位が接触した後に、マスク移動制御手段で加工用マスクを磁石面の磁気吸引力領域まで移動させることにより、磁石面の磁気吸引力で加工用マスクと共に薄板状ワークが磁石面へ向け引き付けられて、これら磁石面と加工用マスクの間に薄板状ワーク全体が挟持されるので、薄板状ワークを破損することなく粘着保持して磁石面と加工用マスクの間に平面状に挟持することができる。
　その結果、薄板状ワークの基板サイズが一辺2000ｍｍ以上に大型化しても、大型基板をその下側から格子状の支持部材で部分的に支持することで、不支持部位の自重撓みを一定の範囲内で抑制することができ、平面状に保持することができる。
　それにより、加工用マスクにおけるマスクパターンに変形や歪みが発生しないので、蒸着などで正確なパターン形成ができ、精密度が向上して歩留りを向上させることができる。
　さらに、磁石ユニットの基板支持面と蒸着マスクとの間に基板を磁石の磁気吸引力により挟持した後に、これら全体を上下反転させる従来の装置に比べ、基板サイズが一辺2000ｍｍ以上に大型化しても、大型基板全体を上下反転させずに、平面状に保持することができて、実現性に優れている。

本発明の実施形態に係る薄板状ワークの粘着保持装置の概略を示す縦断正面図であり、（ａ）が粘着前を示し、（ｂ）が粘着面の接触時を示し、（ｃ）が粘着保持時を示している。本発明の実施形態に係る製造システムの概略を示す縦断正面図であり、（ａ）が粘着前を示し、（ｂ）が粘着面の接触時を示し、（ｃ）が粘着保持時を示し、（ｄ）が加工用マスクの接近移動時を示し、（ｅ）が加工用マスクの磁気吸着時を示している。本発明の実施形態に係る薄板状ワークの粘着保持方法を示すフローチャートである。粘着手段の実施例を示す縦断正面図であり、（ａ）が粘着前を示し、（ｂ）が粘着面の接近移動時を示し、（ｃ）が粘着面の接触時を示し、（ｄ）が粘着面の剥離時を示している。

　以下、本発明の実施形態を図面に基づいて詳細に説明する。
　本発明の実施形態に係る薄板状ワークの粘着保持方法を実施するために使用する薄板状ワークの粘着保持装置Ａは、図１～図４に示すように、薄板状ワークＷの一部と部分的に当接するように設けられて薄板状ワークＷを支持する支持部材１と、薄板状ワークＷにおいて支持部材１が当接しない不支持部位Ｗ１と対向する粘着面２ａを有し、薄板状ワークＷと交差する方向へ往復動自在に設けられる粘着手段２と、不支持部位Ｗ１の表面に対する粘着面２ａの往復動を作動制御する往復動制御手段３と、不支持部位Ｗ１の表面に対して粘着面２ａが動くように粘着手段２を作動制御する粘着面積増大手段４を、主要な構成要素として備えている。
　さらに図示しないが、薄板状ワークＷの不支持部位Ｗ１に粘着した粘着面２ａを不支持部位Ｗ１の表面から剥がすための後述する剥離手段を備えることが好ましい。

　薄板状ワークＷは、例えば有機ＥＬディスプレイや液晶ディスプレイなどに用いられるガラス製の基板などであり、その表面積に対して厚さが比較的に薄いため、変形することで割れ易いという欠点を有している。
　さらに、薄板状ワークＷは、例えば有機ＥＬディスプレイや液晶ディスプレイなどの製造過程において、互いに貼り合わされる一方の面に、例えば有機ＥＬ素子などの機能部（図示しない）を有する膜面が形成される。

　支持部材１は、薄板状ワークＷの膜面（貼り合わせ面）においてその一部のみを支持するように、例えば格子状又はそれに類似した他の形状に形成される。
　その具体例として図１及び図２に示すように、支持部材１が格子状に形成される場合には、Ｙ方向へ延びる２本以上の縦フレーム１ａと、Ｘ方向へ延びる２本以上の横フレーム１ｂとを同一平面において枠組みすることで構成され、略水平に配置している。支持部材１の上面に対して薄板状ワークＷをその膜面において機能部などの後加工（後処理）が必要な領域と接触しないように載置することにより、後加工が不必要な領域のみが支持部材１の上面と部分的に当接して、薄板状ワークＷの全体が保持される。

　すなわち、薄板状ワークＷにおいて機能部などを除いた後加工が不必要な領域は、支持部材１で支持される支持部位Ｗ２となり、機能部などの後加工が必要な領域は、支持部材１と当接せずに、支持部材１で支持されない不支持部位Ｗ１となって、その自重により下方へ撓み変形し、不支持部位Ｗ１の中央部分が最も垂れ下がる。
　このように自重で撓み変形した不支持部位Ｗ１に対し、例えば粘着手段２の粘着面２ａを面接触させるなどして、不支持部位Ｗ１に外的負荷が一気に掛けられると、基板が更に変形して破損するおそれがある。

　つまり、後述する粘着手段２の粘着面２ａとなる粘着材が、薄板状ワークＷの表面に接触すると、粘着材には弾性があるため、先ず粘着材が変形しその弾力分の力が作用して、多少の粘着力が発現する。さらに粘着材を押圧すると、薄板状ワークＷは変形して、その反発力により粘着力は増加する。しかし、この変形がある限界を超えると、薄板状ワークＷ表面の張力は、これに耐えず割れてしまう。
　そのため、この限界以内のところで、粘着材による押圧を止めておけば、薄板状ワークＷを割れることなく粘着できることになる。粘着材による押圧を限界以内の力に止めるには、接触する面積をごく局部的なものに小さくし、なおかつ、薄板状ワークＷに必要以上の変位を与えない程度の押圧力に限ることが肝要である。
　一旦、薄板状ワークＷの表面に対して粘着面２ａが局部的に粘着されたとすれば、その隣の局部についても、同程度の押圧を加えることにより同様のことが実現できる。この場合、既に隣の局部が粘着されているとすれば、その近傍は薄板状ワークＷの表面張力は以前よりは緩み、割れ難い状態になっており、かつ、薄板状ワークＷの自重による垂れ下りも緩和されているので粘着が容易になる。
　このような薄板状ワークＷの表面に対する粘着面２ａの局部的な粘着を次々と隣接した局部に拡げて行くことにより、あまり大きくない粘着面２ａの全体を粘着することができる。
　もし、薄板状ワークＷと粘着面２ａが完全に平行であり、完全に平行を保ったまま接触できるとするならば、上述した局部的な接触を積み重ねる必要はないだろう。すなわち、一気に粘着力を得ることができるはずである。しかし実際には、薄板状ワークＷの表面はその自重により上方へ向け凹状に撓んでいるため、平面状の拡がりを持った粘着面２ａの全体で一気に粘着力を発現させようとして近づけ過ぎると、特に粘着面２ａの端部で片当たりに近い状態が生じ、その部分で割れてしまう。
　そのため、実際の装置としては、薄板状ワークＷの表面に対して粘着面２ａが局部に限って接触するようにして、先ずその局所的な接触部分で粘着を実現させ、この粘着部分を基にして薄板状ワークＷの表面に対する粘着面２ａの粘着面積を徐々に増やして行く工夫が必要になる。

　また、支持部材１の格子ピッチは、薄板状ワークＷのサイズに対応して、縦フレーム１ａ同士の間隔と横フレーム１ｂ同士の間隔を、それぞれ調整可能に構成することが好ましい。
　さら、薄板状ワークＷの一例として、一枚の大型基板（図示しない）から単品サイズの基板（図示しない）を多数取りする場合には、３本以上の縦フレーム１ａと３本以上の横フレーム１ｂを格子状に枠組みした支持部材１上に、各基板の境界部分のみと部分的に接するように載置することで、各基板の境界部分が支持部材１で支持される支持部位Ｗ２となり、各基板の膜面が支持部材１と当接せずに支持部材１で支持されない不支持部位Ｗ１となる。

　図１（ａ）～（ｃ）に示される例では、薄板状ワークＷとして一枚の大型基板から単品サイズの基板を多数取りする場合を部分拡大して示しており、一つの単品サイズの基板において不支持部位Ｗ１の中央部分と対向するように、後述する粘着手段２を一つずつ配置している。すなわち、図示省略されたその他の単品サイズの基板に対しても、それぞれの不支持部位Ｗ１の中央部分と対向するように、後述する粘着手段２が一つずつ配置される。
　また、その他の例として図示しないが、一つの単品サイズの基板において不支持部位Ｗ１と対向するように、後述する粘着手段２を複数個配置したり、薄板状ワークＷとして一つの単品サイズの基板の外周縁を、２本の縦フレーム１ａと２本の横フレーム１ｂが格子状に枠組みされた支持部材１で支持するとともに、該基板の不支持部位Ｗ１と対向するように、後述する粘着手段２を単数又は複数個配置することも可能である。

　さらに必要に応じて、支持部材１には、縦フレーム１ａ及び横フレーム１ｂと薄板状ワークＷを挟んで配置される押さえ用の縦フレーム１ｃ及び横フレーム１ｄを有し、これら押さえ用の縦フレーム１ｃ及び横フレーム１ｄを、支持用の縦フレーム１ａ及び横フレーム１ｂに対して昇降移動自在に設けることが好ましい。
　支持用の縦フレーム１ａ及び横フレーム１ｂ又は押さえ用の縦フレーム１ｃ及び横フレーム１ｄのいずれか一方、若しくは支持用の縦フレーム１ａ及び横フレーム１ｂと押さえ用の縦フレーム１ｃ及び横フレーム１ｄの両方には、例えば磁石や磁性体などの磁気吸引手段（図示しない）が設けられ、この磁気吸引手段により、薄板状ワークＷを上下方向に挟み込んで移動不能に保持することが好ましい。

　粘着手段２は、薄板状ワークＷの不支持部位Ｗ１と着脱自在に粘着する粘着面２ａを備えた粘着チャックなどからなり、その本体２ｂに対して粘着面２ａを可動自在に取り付け、本体２ｂを粘着面２ａが薄板状ワークＷの不支持部位Ｗ１と対向するように、支持部材１による薄板状ワークＷの支持方向と交差（直交）するＺ方向へ往復動自在に設けている。
　本体２ｂに対する粘着面２ａの取り付け構造は、薄板状ワークＷの表面に沿って粘着面２ａが例えば傾動自在や揺動自在や振動自在など、所定の機械的な動きが行えるように支持されている。さらに詳しく説明すれば、粘着面２ａを薄板状ワークＷの表面に撫で当てながら周回又は旋回するように支持することが好ましい。
　粘着面２ａは、例えばフッ素ゴムやエラストマー、ブチルゴム、感光性樹脂、アクリル系やシリコン系などの粘着材料からなる粘着シートであり、その表面が弾性のある面状に形成されている。さらに、粘着面２ａの表面は、例えばエンボス処理や凹溝などを形成して全体的に弾性変形し易くすることにより、不支持部位Ｗ１の表面に対して容易に粘り付くように構成することが好ましい。
　粘着手段２の本体２ｂは、後述する往復動制御手段３により、薄板状ワークＷの不支持部位Ｗ１の表面に対する粘着面２ａの往復動が作動制御されている。
　さらに、粘着手段２の本体２ｂに対し粘着面２ａは、後述する粘着面積増大手段４により、薄板状ワークＷの不支持部位Ｗ１の表面に対して粘着面２ａを、薄板状ワークＷの表面に撫で当てながら周回（旋回）させるなど動くように作動制御されている。

　往復動制御手段３及び粘着面積増大手段４は、例えば支持部材１の格子ピッチを変更させるために作動制御する手段や、押さえ用の縦フレーム１ｃ及び横フレーム１ｄの昇降移動を制御する手段などの、その他の作動制御手段と共に、後述するコントローラ（図示しない）に備えられる。
　コントローラは、粘着手段２の本体２ｂを往復動させるための駆動源（図示しない）、粘着手段２の本体２ｂに対し粘着面２ａを動かすための駆動源（図示しない）などと電気的に接続しており、予め入力設定されたプログラムに従って、往復動制御手段３により往復動用駆動源を作動制御するとともに、粘着面積増大手段４により粘着用駆動部を作動制御している。

　往復動制御手段３による往復動用駆動源の作動制御の一例を挙げると、その初期状態では、粘着手段２の本体２ｂを、粘着面２ａが支持部材１で支持される薄板状ワークＷの支持部位Ｗ２の表面と同一平面上か又はそれより離れるように待機させている。その後、作業者の操作などにより作動開始信号を入力すると、薄板状ワークＷの不支持部位Ｗ１に向けて接近移動させ、粘着面２ａの一部が不支持部位Ｗ１に接触した時点で、本体２ｂの接近移動を停止させる。その後、粘着面積増大手段４から出力される後述する動作完了信号に基づいて、粘着面２ａが薄板状ワークＷの支持部位Ｗ２の表面と同一平面上となる位置まで、本体２ｂを前記接近移動と逆方向へ移動させるように設定されている。

　往復動用駆動源による本体２ｂの往復移動距離は、予め対象となる薄板状ワークＷを支持部材１に載置して、不支持部位Ｗ１の自重撓み量を実側し、この実測値に基づいて粘着面２ａの待機位置からその一部が不支持部位Ｗ１に接触するまでの本体２ｂの接近移動距離と、粘着面２ａの接近移動停止位置から粘着面２ａが薄板状ワークＷの支持部位Ｗ２の表面と同一平面上となる位置までの本体２ｂの逆移動距離とを算出し、これら算出値をコントローラに設定入力している。

　粘着面積増大手段４による粘着用駆動部の作動制御の一例を挙げると、その初期状態では、粘着手段２の粘着面２ａを、薄板状ワークＷの不支持部位Ｗ１に対し所定角度で対向するように待機させている。その後、本体２ｂの接近移動により粘着面２ａの一部が不支持部位Ｗ１に接触した時点で、本体２ｂに対し粘着面２ａを、不支持部位Ｗ１の表面との接触面積が徐々に増えるように、薄板状ワークＷの表面に撫で当てながら周回（旋回）させるなど動かし、粘着面２ａの略全体が不支持部位Ｗ１の表面に接触した時点で、本体２ｂに対する粘着面２ａの動きを停止させるとともに、往復動制御手段３へ動作完了信号を出力するように設定されている。
　不支持部位Ｗ１の表面に対する粘着面２ａの動きは、その動作内容に応じて、粘着面２ａを１回だけ又は複数回の「周回（旋回）移動」をさせたり、何回か「揺動」を繰り返したり、所定時間に亘って「振動」を連続させることが可能である。

　そして、本発明の実施形態に係る薄板状ワークＷの粘着保持方法は、図３に示すフローチャートのように、粘着手段２の接近移動工程と、粘着面２ａの粘着工程と、粘着手段２の逆移動工程と、粘着面２ａの剥離工程とを含んでいる。
　粘着手段２の接近移動工程は、図１（ａ）に示されるように、支持部材１で支持される薄板状ワークＷから離れた粘着手段２の待機位置から、往復動制御手段３により粘着手段２の本体２ｂを、薄板状ワークＷの不支持部位Ｗ１に向けて接近移動させる。これに続いて、不支持部位Ｗ１の表面に対し、粘着手段２の粘着面２ａの一部が接触したところで、粘着手段２の接近移動を停止させる。
　粘着面２ａの粘着工程は、図１（ｂ）に示されるように、不支持部位Ｗ１の表面に一部が接触した粘着面２ａを、粘着面積増大手段４により不支持部位Ｗ１の表面との接触面積が徐々に増えるように動かす。これに続いて、粘着面２ａの動きにより粘着面２ａの略全体が不支持部位Ｗ１の表面に接触してから、粘着面２ａの動きを停止させる。
　粘着手段２の逆移動工程は、図１（ｃ）に示されるように、不支持部位Ｗ１の表面に接触して粘着された粘着面２ａを、往復動制御手段３により前記接近移動と逆方向へ逆移動して、粘着面２ａが薄板状ワークＷにおいて支持部材１で支持される支持部位Ｗ２の表面と同一平面上となる位置で、粘着手段２の逆移動を停止させる。

　さらに、粘着面２ａの剥離工程は、不支持部位Ｗ１の表面から粘着面２ａを強制的に押し剥がすか又は引き剥がす。その後、粘着手段２を待機位置に戻して、それ以降は前述した各工程を繰り返すようにプログラムされている。

　このような本発明の実施形態に係る薄板状ワークＷの粘着保持方法及び薄板状ワークＷの粘着保持装置Ａによると、先ず、粘着手段２の接近移動工程で往復動制御手段３により、薄板状ワークＷにおいて自重により下方へ撓み変形した不支持部位Ｗ１に向け、粘着手段２の本体２ｂが待機位置から接近移動する。これに続き、不支持部位Ｗ１の表面に対して、粘着手段２の粘着面２ａの一部が接触したところで、粘着手段２の接近移動を停止させる。（図１（ａ）参照）
　それにより、粘着面２ａの一部を不支持部位Ｗ１の表面に撫で当て接触させて、局部的な粘着が行われる。
　その後、粘着面２ａの粘着工程で粘着面積増大手段４により、粘着面２ａが薄板状ワークＷの表面に撫で当てながら周回（旋回）させるなど動いて、これら粘着面２ａと不支持部位Ｗ１の表面との接触領域が徐々に拡大する。（図１（ｂ）参照）
　それにより、不支持部位Ｗ１の自重撓みに倣って粘着面２ａが部分的に時間差をかけつつ徐々に接触し、それに伴い薄板状ワークＷに対する外的負荷を非常に小さく押さえつつ、粘着面２ａの略全体が不支持部位Ｗ１の表面に接触して粘着保持される。
　その後、粘着手段２の逆移動工程で往復動制御手段３により、粘着手段２の粘着面２ａが、薄板状ワークＷにおいて支持部材１で支持される支持部位Ｗ２の表面と同一平面上となる位置まで逆移動される。（図１（ｃ）参照）
　それにより、不支持部位Ｗ１の自重撓みが減少して、薄板状ワークＷの全体が平面状に粘着保持される。
　したがって、薄板状ワークＷを破損することなく不支持部位Ｗ１が支持部位Ｗ２と略面一となるように粘着保持して薄板状ワークＷの自重撓みを補正することができる。

　さらに、本発明の実施形態に係る製造システムは、図２（ａ）～（ｅ）に示すように、前述した薄板状ワークの粘着保持装置Ａと、薄板状ワークＷに沿ってその表面となる非加工面Ｗ３と対向するように設けられる磁石面５と、薄板状ワークＷに沿ってその膜面となる加工面Ｗ４と対向するように設けられる磁性体からなる加工用マスク６と、薄板状ワークＷの加工面（膜面）Ｗ４に対する加工用マスク６の往復動を作動制御するマスク移動制御手段７とを備えている。

　磁石面５は、薄板状ワークＷと略同じ大きさの板材に永久磁石などを埋設したり、板材の全体を永久磁石などで形成することにより構成され、その平滑な磁気面部５ａが、支持部材１で支持される薄板状ワークＷにおいて支持部位Ｗ２の非加工面Ｗ３と同一平面上となるように配置している。
　つまり、磁石面５の磁気面部５ａは、押さえ用の縦フレーム１ｃ及び横フレーム１ｄの下面と同一平面上に配置されている。

　加工用マスク６は、薄板状ワークＷの膜面に例えば蒸着パターンに対応する開口部（図示しない）が単数又は複数形成された蒸着マスクなどからなり、粘着手段２と同様にＺ方向へ往復動自在に設けられ、マスク移動制御手段７により薄板状ワークＷの加工面Ｗ４に対する往復動を作動制御している。
　マスク移動制御手段７は、往復動制御手段３などと共にコントローラに備えられ、加工用マスク６を往復動させるための駆動源（図示しない）とも電気的に接続しており、予め入力設定されたプログラムに従って、マスク往復動用駆動源を作動制御している。

　マスク移動制御手段７による加工用マスク６の作動制御の一例を挙げると、その初期状態では、図２（ａ）に示されるように、支持部材１で支持されない薄板状ワークＷにおける不支持部位Ｗ１の加工面Ｗ４から離れるように加工用マスク６を待機させることが好ましい。図２（ａ）～（ｃ）に示されるように、前述した粘着手段２の接近移動工程と粘着面２ａの粘着工程と粘着手段２の逆移動工程においても、不支持部位Ｗ１の加工面Ｗ４から離れるように加工用マスク６を待機させることが好ましい。往復動制御手段３と連動して、粘着手段２の逆移動工程と同時か、又は粘着手段２の逆移動工程が完了した後に、図２（ｄ）に示されるように、加工用マスク６を薄板状ワークＷの加工面Ｗ４に向けて移動させ、加工用マスク６が磁石面５の磁気吸引力領域に入るように設定されている。
　図２（ｃ）（ｄ）に示される例では、粘着手段２の逆移動工程において粘着面２ａを薄板状ワークＷにおいて支持部位Ｗ２の表面と同一平面上となる位置まで逆移動させている。その他の例として図示しないが、粘着面２ａを磁石面５の磁気吸引力領域に入るまで逆移動させることも可能である。

　このような本発明の実施形態に係る製造システムによると、粘着手段２の粘着面２ａの略全体と不支持部位Ｗ１の表面が接触した後に、マスク移動制御手段７で加工用マスク６が磁石面５の磁気吸引力領域まで移動するため、磁石面５の磁気吸引力で加工用マスク６と共に薄板状ワークＷが磁石面５へ向け引き付けられ、磁石面５の平滑な磁気面部５ａに支持部位Ｗ２の非加工面Ｗ３が圧接すると同時に、薄板状ワークＷの加工面Ｗ４に加工用マスク６の表面が圧接して、これら磁石面５と加工用マスク６の間に薄板状ワークＷ全体が挟持される。（図２（ｅ）参照）
　したがって、薄板状ワークＷを破損することなく不支持部位Ｗ１が支持部位Ｗ２と略面一となるように粘着保持して磁石面５の磁気面部５ａと加工用マスク６の間に平面状に挟持することができる。
　それにより、加工用マスク６におけるマスクパターンに変形や歪みが発生しないので、蒸着などで正確なパターン形成ができ、精密度が向上して歩留りを向上させることができる。
　次に、本発明の一実施例を図面に基づいて説明する。

　この実施例は、図４（ａ）～（ｄ）に示すように、粘着手段２の具体例として、粘着手段２の本体２ｂに対し粘着面２ａを傾動自在に支持し、粘着面積増大手段４により、粘着面２ａを薄板状ワークＷの不支持部位Ｗ１に撫で当てながら周回（旋回）移動させ、さらに粘着手段２の本体２ｂに、薄板状ワークＷの不支持部位Ｗ１から粘着面２ａを剥がすための剥離手段８を一体的に組み込んだものである。

　粘着手段２の本体２ｂは、円板状や矩形の板状などに形成され、その中央に開設された貫通孔に対して円筒体２ｃをＺ方向へ往復動自在に挿通し、これら本体２ｂと円筒体２ｃに亘って例えばコイルバネなどの付勢部材２ｄを設けることにより、格子状の支持部材１に載置された薄板状ワークＷに対して円筒体２ｃが離隔する方向へ常時付勢されている。
　円筒体２ｃの一端には、遊動体２ｅが遊嵌状に設けられ、遊動体２ｅの先端に粘着面２ａとなる粘着シートを固定し、これら円筒体２ｃと遊動体２ｅとの間に例えばゴムシートなどの弾性変形可能な弾性部材２ｆを介装することにより、遊動体２ｅ及び粘着面２ａが円筒体２ｃに対して傾動自在に支持されている。

　円筒体２ｃに対する遊動体２ｅ及び粘着面２ａの支持方向は、粘着面積増大手段４により作動制御され、薄板状ワークＷの不支持部位Ｗ１に対して、所定角度で傾斜させた粘着面２ａの一部を不支持部位Ｗ１の表面に接触させてから、粘着面２ａとなる粘着材及び不支持部位Ｗ１相互の弾性変形可能な範囲において粘着面２ａを不支持部位Ｗ１に撫で当てながら周回（旋回）移動させることで、不支持部位Ｗ１の表面との接触面積が徐々に増えるようにしている。

　図４（ｃ）に示される例では、円筒体２ｃの内周孔に粘着用駆動部としてロッド４ａが回転自在に挿通され、このロッド４ａの先端に形成された傾斜面４ｂを、遊動体２ｅの基端に所定の圧力で当接させることにより、粘着面２ａを所定角度θだけ傾け、且つ当接状態を維持しながらロッド４ａの傾斜面４ｂを回転させることにより、粘着面２ａが所定角度θで傾斜したまま回転移動するように構成している。
　さらに、図４（ｂ）（ｃ）に示される例では、往復動制御手段３により、粘着手段２の粘着面２ａを傾斜させずに、薄板状ワークＷの不支持部位Ｗ１の表面に接触する直前位置まで接近移動させ、その後、粘着面積増大手段４により、ロッド４ａの傾斜面４ｂを遊動体２ｅの基端に当接させて、粘着面２ａの一部が不支持部位Ｗ１の表面に接触するように傾斜し、その後、ロッド４ａの傾斜面４ｂを回転させることで、粘着面２ａとなる粘着材及び不支持部位Ｗ１相互の弾性変形可能な範囲において粘着面２ａが不支持部位Ｗ１に撫で当たるように傾斜したまま周回（旋回）するように作動制御している。
　また、その他の例として図示しないが、予め粘着面２ａを傾斜させた状態で待機させるか、接近移動中に粘着面２ａを傾斜させ、この粘着面２ａの一部が不支持部位Ｗ１の表面に接触した時点で接近移動を停止させることも可能である。

　さらに、剥離手段８は、互いに粘着された粘着面２ａと不支持部位Ｗ１の表面とをＺ方向へ粘着面２ａが有する粘着力よりも大きな力で引き離すものである。
　剥離手段５の具体例としては、粘着面２ａの面内か又は粘着面２ａの周囲にプッシャ８ａを、不支持部位Ｗ１の表面に向けて突出動自在に設け、プッシャ８ａの突出動によって不支持部位Ｗ１の表面から粘着面２ａを強制的に押し剥がすことが好ましい。
　図４（ｄ）に示される例では、遊動体２ｅの中央に開穿される貫通孔２ｇに対し、プッシャ８ａを挿通してその先端部８ｂが粘着面２ａから突出するように作動制御している。
　また、その他の例として図示しないが、粘着手段２の逆移動によって不支持部位Ｗ１の表面から粘着面２ａを強制的に引き剥がすことも可能である。

　このような本発明の実施例に係る薄板状ワークＷの粘着保持方法及び薄板状ワークＷの粘着保持装置Ａ並びに製造システムによると、粘着面２ａの一部を不支持部位Ｗ１の表面に撫で当て接触させて、局部的な粘着が行われた後に、粘着面積増大手段４で、粘着面２ａとなる粘着材及び不支持部位Ｗ１相互の弾性変形可能な範囲において粘着面２ａを不支持部位Ｗ１に撫で当てながら周回（旋回）移動させるため、弾性部材２ｆによるクッション作用により、粘着面２ａが不支持部位Ｗ１の姿勢の反力などに応じて倣いながら、粘着面２ａが部分的に周方向へ不支持部位Ｗ１の表面と順次接近して、これら粘着面２ａと不支持部位Ｗ１の表面との接触領域が徐々に拡大する。
　それにより、薄板状ワークＷの撓み変形した不支持部位Ｗ１に粘着手段２の粘着面２ａをソフトに部分接触させ且つ粘着面２ａの全体を確実に面接触させることができる。
　その結果、薄板状ワークＷの割れを完全に防止しながら平面状に粘着保持できて、作動性に優れるという利点がある。

　なお、前示実施例では、粘着手段２の本体２ｂに対し粘着面２ａを傾動自在に支持し、粘着面積増大手段４により、粘着面２ａを薄板状ワークＷの不支持部位Ｗ１に撫で当てながら周回（旋回）移動させたが、これに限定されず、粘着面２ａの周回（旋回）移動に代えて粘着面２ａの一端から他端に向けて不支持部位Ｗ１に対する傾斜角度が漸次小さくなるように倒すように作動制御しても良い。
　さらに粘着手段２の本体２ｂに、薄板状ワークＷの不支持部位Ｗ１から粘着面２ａを剥がすための剥離手段８を一体的に組み込んだが、これに限定されず、粘着手段２と別個に剥離手段８を設けても良い。

　Ａ　薄板状ワークの粘着保持装置　　　　　１　支持部材
　２　粘着手段　　　　　　　　　　　　　　２ａ　粘着面
　２ｂ　本体　　　　　　　　　　　　　　　３　往復動制御手段
　４　粘着面積増大手段　　　　　　　　　　５　磁石面
　６　加工用マスク　　　　　　　　　　　　７　マスク移動制御手段
　Ｗ　薄板状ワーク　　　　　　　　　　　　Ｗ１　不支持部位
　Ｗ２　支持部位　　　　　　　　　　　　　Ｗ３　非加工面
　Ｗ４　加工面

Claims

　支持部材によりその一部が支持される薄板状ワークにおいて該支持部材で支持されない不支持部位に対し、粘着手段をその粘着面の一部が接触するまで、前記薄板状ワークと交差する方向へ接近移動させ、
　前記不支持部位に対し前記粘着面を、該粘着面と該不支持部位との接触面積が徐々に増えて略全体が接触するように動かし、
　前記粘着手段を、前記粘着面が前記薄板状ワークにおいて前記支持部材で支持される支持部位と同一平面となる位置まで、前記接近移動と逆方向へ移動させることを特徴とする薄板状ワークの粘着保持方法。
　薄板状ワークの一部と当接するように設けられて該薄板状ワークを支持する支持部材と、
　前記薄板状ワークにおいて前記支持部材が当接しない不支持部位と対向する粘着面を有し、前記薄板状ワークと交差する方向へ往復動自在に設けられる粘着手段と、
　前記不支持部位に対する前記粘着面の往復動を作動制御する往復動制御手段と、
　前記不支持部位に対して前記粘着面が動くように前記粘着手段を作動制御する粘着面積増大手段とを備え、
　前記往復動制御手段が、前記不支持部位に向けて前記粘着面を接近移動させ、該粘着面の一部が前記不支持部位に接触した時に、前記粘着面の接近移動を停止させ、
　前記粘着面積増大手段が、前記粘着手段の接近移動停止後に、前記不支持部位に対し前記粘着面を、該粘着面と該不支持部位との接触面積が徐々に増えて略全体が接触するように動かし、
　前記往復動制御手段が、前記粘着面の略全体と前記不支持部位の接触後に、前記薄板状ワークにおいて前記支持部材で支持される支持部位と同一平面となる位置まで前記粘着面を前記接近移動と逆方向へ移動させることを特徴とする薄板状ワークの粘着保持装置。
　前記粘着手段の本体に対して前記粘着面を傾動自在に支持し、前記粘着面積増大手段が、前記粘着面を前記薄板状ワークに撫で当てながら周回移動させることを特徴とする請求項２記載の薄板状ワークの粘着保持装置。
　請求項２又は３記載の薄板状ワークの粘着保持装置を備えた製造システムであって、
　前記薄板状ワークの非加工面と対向して設けられる平滑な磁石面と、前記薄板状ワークの加工面と対向して前記薄板状ワークと交差する方向へ往復動自在に設けられる磁性体からなる加工用マスクと、
　前記薄板状ワークの前記加工面に対する前記加工用マスクの往復動を作動制御するマスク移動制御手段とを備え、
　前記マスク移動制御手段が、前記往復動制御手段と連動して、前記粘着面の略全体と前記不支持部位の接触後に、前記加工用マスクを前記磁石面の磁気吸引力領域まで移動させることを特徴とする製造システム。