WO2012060344A1 - タッチパネル - Google Patents

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WO2012060344A1
WO2012060344A1 PCT/JP2011/075118 JP2011075118W WO2012060344A1 WO 2012060344 A1 WO2012060344 A1 WO 2012060344A1 JP 2011075118 W JP2011075118 W JP 2011075118W WO 2012060344 A1 WO2012060344 A1 WO 2012060344A1
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electrode
touch panel
band
conductive
direction parallel
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PCT/JP2011/075118
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大谷　純生
匡志 栗城
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富士フイルム株式会社
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    • G06F2203/041—Indexing scheme relating to G06F3/041 - G06F3/045
    • G06F2203/04112—Electrode mesh in capacitive digitiser: electrode for touch sensing is formed of a mesh of very fine, normally metallic, interconnected lines that are almost invisible to see. This provides a quite large but transparent electrode surface, without need for ITO or similar transparent conductive material

Definitions

  • the present invention relates to a touch panel (touch screen).
  • the present invention relates to a multi-touch capable capacitive type or resistive film type touch panel in which electrode rows having thin line patterns are formed on two different layers.
  • Capacitive touch panels include a surface type and a projection type.
  • the surface type has one sheet-like electrode.
  • a transparent conductive film such as ITO has been used for some time.
  • ITO transparent conductive film
  • the surface-type touch panel is configured to detect, for example, the amount of change in analog current of the conductive film according to the change in capacitance between the finger and the conductive film with the electrodes at the four corners of the sheet. It is difficult to detect contact (multi-touch).
  • the first electrode array whose arrangement direction is the first direction and the second electrode array whose arrangement direction is the second direction orthogonal to the first direction are arranged orthogonally with a dielectric layer interposed therebetween.
  • a grid-like electrode (Patent Document 3).
  • a plurality of touch positions are determined by detecting a change in capacitance between the first electrode row and the second electrode row due to capacitive coupling at the time of touching as a voltage change and identifying coordinate points. Can be detected.
  • the display quality of the display may be deteriorated due to the visual recognition of the portion where such line thickening and interference fringes are generated, very high accuracy is required for pattern formation and superposition, and the yield decreases. And this leads to an increase in cost.
  • the resistive film method it is conceivable to form the two electrode layers with fine metal wires, respectively. In this case, the fact that line thickening and moire are likely to occur when the two electrode layers are overlaid is the same as in the case of the projection-type electrostatic capacitance method.
  • An object of the present invention is to provide a touch panel that can be easily manufactured using fine wires such as metal fine wires.
  • the first direction gap in the first direction is a second direction parallel band in which a plurality of conductive wires extending in parallel with each other along the second direction are arranged among the first direction and the second direction intersecting the first direction.
  • a first direction crossing band is repeatedly formed in the second direction.
  • the first direction crossing band is disposed in the first direction with the conductors extending along the first direction and intersecting the second direction parallel band.
  • the first electrode A first-direction parallel strip in which a plurality of conductive wires extending in parallel with each other along the first direction is repeatedly formed in the second direction across the second-direction gap in the second direction, and the second direction
  • a touch panel characterized by being overlaid.
  • the touch panel of the present invention there is a large tolerance for overlapping the first electrode and the second electrode and the shape error of the conductor, and the overlay is slightly shifted or the shape of the conductor is uneven. A new conductor pattern that does not feel uncomfortable in the lattice shape can be obtained. That is, it is possible to provide a capacitive or resistive touch panel that can be easily manufactured using a thin wire such as a thin metal wire.
  • FIGS. 1-10 An example of a capacitive touch panel for describing an embodiment of the present invention will be described with reference to FIGS.
  • “ ⁇ ” is used to mean that the numerical values described before and after it are included as a lower limit value and an upper limit value.
  • Each of the touch panels 1 to 3 is a laminated body of a plurality of layers, and an upper electrode 20 serving as a first electrode disposed on a side touched by a fingertip, and an upper surface of the upper electrode 20 are overlapped to form an image display device. And a lower electrode 40 as a second electrode disposed on the display 9 (FIG. 9) side. 1A to 1C, the arrangement positions of the upper electrode 20 and the lower electrode 40 in the laminate are different.
  • the touch panels 1 to 3 may be formed integrally with the display.
  • FIG. 1A the upper transparent substrate 11 on which the upper electrode 20 is formed and the lower transparent substrate 12 on which the lower electrode 40 is formed overlap with the electrode formation surface facing each other through the transparent dielectric layer 13. Pasted together.
  • a transparent cover member 15 made of glass or resin is provided on the upper transparent substrate 11 via an adhesive layer 14.
  • FIG. 1B a lower electrode 40 is formed on the surface of one transparent substrate 11, and an upper electrode 20 is formed thereon with a dielectric layer 13 interposed therebetween.
  • FIG. 1C an upper electrode 20 and a lower electrode 40 are formed on both front and back surfaces of a single transparent substrate 11 as a dielectric layer.
  • a shield layer for shielding electromagnetic waves from the display may be provided on the surface of the touch panels 1 to 3 facing the display 9.
  • the transparent cover member 15, the transparent substrate 11, the transparent substrate 12, and the shield layer may be made of the same insulating material or different insulating materials. Often, a plastic film, a plastic plate, a glass plate, or the like is used. The thicknesses of these members, plates, and layers are appropriately determined according to the respective uses.
  • polyesters such as polyethylene terephthalate (PET) and polyethylene naphthalate (PEN); polyolefins such as polyethylene (PE), polypropylene (PP), polystyrene, and EVA; Resin;
  • polycarbonate (PC) polyamide, polyimide, acrylic resin, triacetyl cellulose (TAC) and the like are used.
  • Preferred materials for the plastic film and plastic plate include PET (melting point: 258 ° C.), PEN (melting point: 269 ° C.), PE (melting point: 135 ° C.), PP (melting point: 163 ° C.), polystyrene (melting point: 230 ° C.). ), Polyvinyl chloride (melting point: 180 ° C.), polyvinylidene chloride (melting point: 212 ° C.), TAC (melting point: 290 ° C.), etc. From the viewpoints of light transmittance and processability, PET is preferred.
  • the thickness of the film or plate is preferably 50 ⁇ m to 300 ⁇ m.
  • the entire dielectric layer 13 is formed as a non-conductive adhesive layer with an adhesive material, or includes a dielectric substrate and adhesive layers respectively provided on the front and back of the substrate.
  • a non-conductive adhesive or the like can be used for the adhesive layer included in the dielectric layer 13 and the adhesive layer 14 provided on the transparent cover member 15.
  • the adhesive material include acrylic resin, epoxy resin, phenol resin, and vinyl resin. These adhesive layers are formed by, for example, a screen printing method.
  • FIG. 2 is a partially enlarged plan view of the upper electrode 20.
  • the first electrode row of the upper electrode 20 is not formed.
  • FIG. 2 to FIG. 8 schematically show the structure of the conductive wire pattern, and particularly show the width of the conductive wire with emphasis on the pitch between the conductive wires. The same applies to partial enlarged plan views of various electrodes to be described later.
  • interval, disconnection length, etc. of several conducting wire are determined suitably.
  • a large number of conducting wires (also referred to as metal thin wires) are formed on the transparent substrate on which the upper electrode 20 is formed.
  • the transparent substrate includes a plurality of parallelly extending along the second direction D2 among the first direction D1 and the second direction D2 intersecting with the first direction D1 (substantially orthogonal but not orthogonal here).
  • the second direction parallel band 22 including the second conductive line 220 and the first direction cross band 21 including the conductive line 210 intersecting the second direction parallel band 22 are formed.
  • the second direction parallel band 22 is a band-like region in which the conductive wires 220 are arranged at equal intervals, and is repeatedly formed in the first direction D1 with a gap in the first direction via the first direction gap S1. .
  • the first direction gap S1 shown in FIG. 2 is set to a size twice the pitch P1 of the conducting wire 220. If the configuration of the second direction parallel strips 22 and the first direction gap S1 is changed, a large number of conductors 220 are formed at equal intervals in the entire conductor pattern formation region of the substrate on which the upper electrode 20 is formed. From the configuration, it can be said that the conductive wire 220 is thinned out in some places.
  • the area occupied by the first direction crossing band 21 is the same as the formation area of one conductor 210.
  • two or more conducting wires may be included in the first direction crossing band, and the first direction parallel band in this case is formed in a band-shaped region including these conducting wires.
  • the conducting wires 210 of the first direction crossing band 21 are repeatedly formed at an equal pitch P2 with an interval in the second direction D2.
  • the pitch P2 is larger than the pitch P1.
  • the pitch P1 is preferably 100 ⁇ m to 500 ⁇ m, more preferably 150 ⁇ m to 400 ⁇ m, and still more preferably 250 ⁇ m to 350 ⁇ m.
  • the pitch P2 is preferably 1000 ⁇ m to 20000 ⁇ m, more preferably 2000 ⁇ m to 10000 ⁇ m, and still more preferably 3500 ⁇ m to 7000 ⁇ m. That is, if the above-mentioned conducting wire 220 is densely arranged, the conducting wire 210 is arranged in a sparser state than that.
  • FIG. 3 is a partially enlarged plan view of the lower electrode 40.
  • the second electrode row of the lower electrode 40 is not formed.
  • the conducting wire of the lower electrode 40 is arranged in substantially the same manner as the conducting wire of the upper electrode 20 described above.
  • the upper electrode 20 and the lower electrode 40 are overlapped so that the directional relationship between the conductor pattern of the upper electrode 20 and the conductor pattern of the lower electrode 40 is reversed, the direction when they are overlapped is used.
  • the second electrode parallel band 22 including a plurality of conductors 220 is formed on the upper electrode 20
  • the first electrode parallel band 41 including a plurality of conductors 410 is formed on the lower electrode 40.
  • the upper electrode 20 is formed with the first direction crossing band 21 including the conducting wire 210
  • the lower electrode 40 is formed with the second direction crossing band 42 including the conducting wire 420.
  • the first direction parallel strip 41 is repeatedly formed in the second direction D2 with the second direction D2 interposed therebetween via the second direction gap S2.
  • the conductive pattern of the upper electrode 20 and the conductive pattern of the lower electrode 40 are in a mirror image relationship when the vertical direction in FIGS. 2 and 3 is the binding direction. That is, when a center line extending in the vertical direction on the paper surface is set, the line is symmetrical with respect to the center line.
  • the pitch of the conducting wires 410 (FIG. 3) extending in the first direction and the pitch of the conducting wires 220 (FIG. 2) extending in the second direction may not be the same pitch P1 as described above, but may be different. However, it is preferable that the pitches are the same, and even if they are different, it is preferable that the dimensional ratio between the pitch of the conductive wires 410 and the pitch of the conductive wires 220 is within twice. Further, the thinner the metal wire is, the less visible it is and the less likely the interference fringes are produced.
  • the line width of the fine metal wires is preferably 20 ⁇ m or less, more preferably 10 ⁇ m or less, further preferably 8 ⁇ m or less, and particularly preferably 6 ⁇ m or less.
  • the thickness of the thin metal wire (height from the substrate surface) is preferable because it is less likely to peel from the substrate. However, if it is too thin and the cross-sectional area of the fine wire is small, the electrical resistance increases and the static electricity necessary for contact detection is required.
  • the thickness of the fine metal wire is preferably 5 ⁇ m or less, more preferably 0.1 ⁇ m to 5 ⁇ m, and even more preferably 0.5 ⁇ m to 3 ⁇ m.
  • the ratio of the line width to the thickness of the fine metal wires is preferably 2.5 or more, and more preferably 4 or more.
  • the number of each of the conducting wires 410 constituting the first direction parallel strip 41 and the conducting wires 220 constituting the second direction parallel strip 22 is three or more (11), and the conducting wires constituting the first direction intersecting strip 21.
  • the number of each of the conducting wires 420 constituting the second direction crossing band 42 are 1 or more and 10 or less (one), and the conducting wires 410 constituting the first direction parallel strip 41 and the second direction parallel strip 22 are included. Is less than the number (11) of each of the conducting wires 220 constituting the.
  • the material and manufacturing method of a metal fine wire are mentioned later.
  • FIG. 4 is a partially enlarged plan view of the upper electrode 20 in a state where the first electrode row 30 is formed.
  • the first electrode row 30 has a plurality of square (closed figure) electrode pieces 31 arranged in the first direction D1.
  • Each electrode piece 31 is formed by selectively disconnecting a part of each conductor pattern 210, 220 that intersects the side (edge line) of the quadrangle F1 assumed on the upper electrode 20. Specifically, among the conducting wires 210 and 220 that intersect the side of the rectangle F1, the conducting wire 220 is disconnected and the conducting wire 210 is not disconnected.
  • Each of the diagonal vertices in the quadrangle F1 passes through the positions of two adjacent first-direction gaps S1 on the conducting wire 210.
  • the electrode pieces 31 as a group of regions where the plurality of conducting wires 220 are electrically connected to each other by the conducting wires 210 are partitioned inside the quadrangle F1, and each electrode piece 31 is connected to the conducting wire.
  • the first electrode row 30 conducted by 210 is formed.
  • the first electrode row 30 is formed for each conducting wire 210 and is repeatedly arranged in the second direction D2.
  • the disconnection part of conducting wire is emphasized and shown larger than an actual dimension. The same applies to the other drawings.
  • the first electrode row 30 is formed, and another wire is formed between the first electrode row 30 and the first electrode row 30, that is, outside the quadrangular F 1.
  • a plurality of electrically isolated conductive wire pieces are formed which are not electrically connected to the conductive wire. These groups of conductive wire pieces are collectively referred to as dummy electrodes 35. That is, the conductor pattern forming region (a part of which is shown in FIG. 4) of the upper electrode 20 shown in FIG. 4 is partitioned into the first electrode row 30 and the dummy electrode 35 by disconnection.
  • the dummy electrode 35 may be grounded to a circuit reference potential (GND).
  • the formation of the dummy electrode 35 reduces the parasitic capacitance between the electrode rows, thereby preventing adjacent electrode rows from being short-circuited during high frequency driving.
  • FIG. 5 is a plan view of the upper electrode 20 in which the disconnection portion CL is highlighted with a thick solid line.
  • the disconnection portion CL may be formed by removing a part of the conducting wire, or may be formed in advance by patterning a conducting wire that forms a conducting wire pattern with a gap on the same line.
  • the pattern of the disconnected portion CL is preferably a polygonal shape having the same shape and the same area, and among the polygons, a square or a rhombus is particularly preferable.
  • the width (disconnection length) of the disconnection portion CL that is, the interval between the fine wire end portion and the thin wire end portion formed as a result of the disconnection due to the disconnection (disconnection in the direction intersecting the edge line of the rectangle F1 in the disconnection portion CL)
  • the dimension is preferably 10 ⁇ m or more.
  • the width (disconnection length) of the disconnection portion CL there is no particular upper limit on the width (disconnection length) of the disconnection portion CL, but in order not to complicate the pattern design, it is preferable to determine the width of the disconnection portion CL with the interval (pitch) length of the fine metal wires as the upper limit. .
  • FIG. 6 is a partially enlarged plan view of the lower electrode 40 in a state where the second electrode array 50 is formed.
  • the second electrode array 50 includes a plurality of rectangular electrode pieces 51 arranged in the second direction D2.
  • Each electrode piece 51 is formed in the same manner as the electrode piece 31 described above except in the arrangement direction. That is, among the conducting wires 410 and 420 that intersect the side of the rectangle F1, the conducting wire 410 is disconnected, and the conducting wire 420 is not disconnected. Thereby, the 2nd electrode row
  • FIG. 7 is a plan view of the second electrode array 50 in which the disconnection portion CL is highlighted with a thick broken line.
  • FIG. 8 is a perspective plan view of the state in which the upper electrode 20 of FIG. 4 and the lower electrode 40 of FIG. 6 are overlaid.
  • the upper electrode 20 and the lower electrode 40 have an arrangement direction (first direction D1) of the electrode pieces 31 in the first electrode row 30 and an arrangement direction (second direction D2) of the electrode pieces 51 in the second electrode row 50.
  • the dielectric layers 13 (FIG. 1) are stacked so as to be substantially orthogonal.
  • the first electrode row 30 overlaps with the dummy electrode 35 on the lower electrode 40 side
  • the second electrode row 50 overlaps with the dummy electrode 35 on the upper electrode 20 side.
  • the first electrode array 30 and the second electrode array 50 do not overlap each other.
  • the electrode pieces 31 of the first electrode row 30 and the electrode pieces 51 of the second electrode row 50 are closely arranged in the first direction D1 and the second direction D2 without overlapping each other. In the vicinity of the intersection of the first direction gap S1 and the second direction gap S2, four electrode pieces 31, 31, 51, 51 are arranged so as to abut each corner.
  • the intersection angle between the first direction D1 and the second direction D2 correlates with the shapes of the electrode pieces 31 and 51, and these are determined as appropriate.
  • the electrode piece in the shape of a closed figure may be a polygon such as a rhombus, a square, or a rectangle, or a shape such as a circle or an ellipse.
  • a closed figure refers to a figure that has a closed space defined by one or more lines.
  • a second direction crossing band 42 (see also FIG. 3) is disposed at the position of the first direction gap S1 of the upper electrode 20, and the lower electrode 40
  • a first direction crossing zone 21 (see also FIG. 2) is disposed at the position of the second direction gap S2. That is, the first direction crossing band 21 of the upper electrode 20 is arranged at a pitch equal to the total width of the first direction parallel band 41 and the second direction gap S2 respectively formed on the lower electrode 40, and the second electrode of the lower electrode is arranged.
  • the direction crossing bands 42 are arranged at a pitch equal to the total width of the second direction parallel bands 22 and the first direction gap S1 formed on the first electrode 20, respectively.
  • the conducting wires 220, 221, 410, and 420 form a complete lattice pattern in which no overlapping of lines (thickening of lines) occurs except at the intersection of these conducting wires.
  • the second and first direction gaps S2 and S1 correspond to the positions of the first and second direction crossing bands 21 and 42, respectively, tolerance for errors in overlaying and errors in the conductor pattern shape is increased. It is high and the conductive wires are unlikely to overlap or close to each other, so that a uniform lattice pattern is formed over the entire conductive pattern forming region of the substrate. That is, when the first electrode 20 and the second electrode 40 are seen through, the conducting wire 410 (FIG. 3) and the conducting wire 210 (FIG.
  • the conducting wire 220 (FIG. 2) and the conducting wire 420 ( 3) are also arranged at a constant pitch P1.
  • the dummy electrode 35 contributes to both improvement in display quality by uniforming the in-plane distribution of the conductive wire pattern and prevention of short circuit during high frequency driving. Since such a dummy electrode 35 separates adjacent electrode rows, the disconnection portion CL can be determined to have a short disconnection length without considering a short circuit during high frequency driving.
  • the width (disconnection length) of the disconnection portion CL is preferably 10 ⁇ m or more, and is actually determined to be a small dimension with respect to the pitch between the conductors. Therefore, the disconnection portion CL is visually observed. There are few things. In FIG. 8, which is a partially enlarged view, even if the disconnection portion CL is visible, it is not visually observed at the actual scale.
  • FIG. 9 is a plan view schematically showing a schematic configuration of the touch panel 1 (may be the touch panels 2 and 3) and the display 9 laminated on the touch panel.
  • the touch panel 1 and the display 9 are provided to constitute an image display device.
  • the display 9 includes a rectangular image display portion 9A in which a large number of pixel electrodes are arranged in the X direction and the Y direction, and a frame portion 9B from which a wiring (not shown) that conducts to the pixel electrodes is drawn.
  • the first direction D1 and the second direction D2 which are the extending directions of the conducting wires 210, 220, 410, and 420 arranged in the conducting wire pattern forming region 18 of the touch panel 1, respectively, with respect to the four sides of the image display unit 9A.
  • the inclination angle is approximately 45 degrees. That is, the arrangement direction (first direction D1) of the electrode pieces 31 in the first electrode row 30 and the arrangement direction (second direction D2) of the electrode pieces 51 in the second electrode row 50 are respectively the four sides of the image display unit 9A.
  • the tilt angle is approximately 45 degrees with respect to both the direction, that is, the arrangement direction of the pixel electrodes in the X direction and the arrangement direction of the pixel electrodes in the Y direction.
  • the extending direction of the conducting wires 210, 220, 410, 420 is inclined with respect to the arrangement direction of the pixel electrodes, thereby generating interference fringes resulting from optical interference between the conducting wires of the touch panel 1 and the pixel electrodes of the display 9. Can be suppressed.
  • the inclination angle may be increased / decreased around 45 degrees, for example, in the range of 30 degrees to 60 degrees to determine the inclination angle with the smallest occurrence of interference fringes.
  • the coordinate axis of the position coordinate indicating the touch point is inclined with respect to the arrangement direction of the pixel electrodes.
  • the intersection position of the first and second electrode arrays 30 and 50 is converted into a position in XY coordinates, and the coordinates of the touch panel 1 are displayed on the display 9. It is possible to easily perform coordinate correction to match these coordinates.
  • FIG. 10 is an enlarged plan view of a main part of the upper electrode 20.
  • FIG. 11 is an enlarged plan view of a main part of the lower electrode 40.
  • auxiliary fine lines 25 (FIG. 11) corresponding to the disconnection portions CL (FIG. 10) in the upper electrode 20 are formed.
  • the auxiliary thin wire 25 is electrically connected to the conductive wire piece constituting the dummy electrode 35.
  • illustration is omitted, a number of auxiliary thin wires 25 corresponding to the disconnection portions CL in the lower electrode 40 are also formed on the transparent substrate on which the upper electrode 20 is formed.
  • auxiliary thin wires 25 fill the disconnection portion CL, in the perspective state of the upper electrode 20 and the lower electrode 40 shown in FIG. 12, the lattice pattern by the conductive wire pattern appears to be composed of a large number of continuous thin wires. .
  • the width of the disconnection portion CL is a small dimension compared to the pitch between the conductors, even if the auxiliary thin wire 25 is not formed, a complete lattice pattern by the conductor pattern is visually recognized.
  • auxiliary thin wires 25 By forming the auxiliary thin wires 25 in this manner, a complete lattice shape can be obtained more reliably, and the disconnection portion CL becomes more difficult to visually recognize, which is preferable.
  • the width of the disconnection portion CL described above is set to a minute width that is difficult to be visually recognized, for example, 50 ⁇ m or less.
  • the disconnection portion CL can be detected as irregularity having regularity due to a difference in color or the like. This example can solve this problem.
  • the disconnection portion CL that partitions the electrode pieces is formed such that its width (disconnection dimension) and its disconnection position change randomly in the length direction.
  • the width of the disconnection part CL is grasped by using a line obtained by smoothing the line that traces the disconnection end part of each conductor.
  • the individual conductors constituting the disconnection portion CL are disconnected at a position that is substantially staggered with respect to a reference line (not shown) along the longitudinal direction of the disconnection portion CL, and the disconnection length is changed. Yes.
  • the conductors may be disconnected in a regular staggered pattern, that is, at positions where they swing alternately on both sides of the reference line, but they are disconnected in a complex order or at irregular positions so that regularity is difficult to understand. It is more preferable that the disconnected portion is less visible.
  • the reference line may not be set in particular, for example, the maximum width dimension of the region where the disconnection portion can be formed is set, and a random position within the range of the maximum width is disconnected with a random width. May be.
  • the lower electrode 40 is also configured such that the width and position of the disconnected portion CL change randomly in the length direction of the disconnected portion CL.
  • FIG. 14 is a perspective view of the state in which the upper electrode 20 and the lower electrode 40 are overlapped.
  • the width and the disconnection position of the disconnection portion CL are not random as in FIGS. 13 and 14, an effect that does not make the disconnection portion CL inconspicuous can be obtained by either one being random, By making both of them random, the effect can be increased.
  • variety and disconnection position of the disconnection part CL shown in FIG.13 and FIG.14 are only an example, and the random structure of the disconnection part CL is a disconnection part so that the disconnection part CL is not visually recognized as regular irregularity. It is preferable that the adjacent portions of CL are determined so as not to have the same randomness. For example, it is preferable that the disconnection length and the random position of the adjacent electrode pieces in the fluoroscopic state are determined so as not to be the same.
  • the disconnection length and the disconnection position in the disconnection portion CL on the upper electrode side, and the disconnection length in the disconnection portion CL on the lower electrode side are determined.
  • FIG. 15 is a partially enlarged plan view of the upper electrode 120 in a state where no electrode is formed.
  • the transparent substrate on which the upper electrode 120 is formed includes a first direction D1 3 that is the vertical direction of the paper surface and a second direction D2 3 that is orthogonal to the first direction D1 3 and is the horizontal direction of the paper surface.
  • a plurality of conducting wires 220 (horizontal lines) extending in parallel along the two directions D2 3 and a plurality of conducting wires 210 (vertical lines) extending along the first direction D1 3 perpendicular to these conducting wires 220 are formed.
  • the second direction parallel band including the plurality of conducting wires 220 is substantially the same as the above example. 22 is repeatedly formed across the first direction gap S1. Further, the first direction crossing band 121 including the conducting wire 210 is formed in substantially the same manner as the first direction crossing band 21 described above. However, the first direction crossing band 121 of this example is formed including the two conducting wires 210.
  • the configuration of the second direction parallel strip 22 has already been described as being a configuration in which the conductor 220 is thinned out from many conductors 220 formed at equal intervals.
  • the conductive wire 210 is thinned out in places from a large number of conductive wires 210 formed at equal intervals.
  • the six conducting wires 210 are missing (thinned out).
  • the missing portion of the conducting wire 210 corresponds to a gap (first direction gap S1) as referred to in the second direction parallel strip 22 constituted by the conducting wire 220. This can also be applied to the conductive wire 210 of the above-described example described with reference to FIGS.
  • FIG. 16 is a partially enlarged plan view of the lower electrode 140 in a state where no electrode array is formed.
  • the conductive pattern of the lower electrode 140 and the conductive pattern of the upper electrode 120 in FIG. 15 are the same, but the respective directions when the upper electrode 120 and the lower electrode 140 are overlapped are the same. Since there is a difference of 90 degrees, FIG. 16 is shown rotated 90 degrees with respect to FIG. Therefore, while the second direction parallel bands 22 extending in the second direction D2 3 to the upper electrode 120 is formed, a first direction parallel bands 41 extending in the first direction D1 3 is the lower electrode 140 is formed Has been. Further, while the first direction intersecting bands 121 extending in a first direction D1 3 to the upper electrode 120 is formed, the second direction intersecting bands 142 extending in a second direction D2 3 is formed on the lower electrode 140 ing.
  • FIG. 17 is a partially enlarged plan view of the upper electrode 120 in a state where the first electrode row 130 is formed.
  • FIG. 18 is a plan view of the upper electrode 120 in which the broken line CL is indicated by a thick solid line.
  • the first electrode line 130 includes a plurality of electrode pieces 131 square arranged in the first direction D1 3.
  • Each electrode piece 131 is formed by selectively disconnecting a part of each conductor pattern 210, 220 that intersects the side (edge line) of the rhombus F3 assumed on the upper electrode 120. Specifically, the intersection of the side of the rhombus F3 and the conductor 220 is disconnected, and the intersection of the side of the rhombus F3 and the conductor 210 is not disconnected.
  • the non-breaking portion NC composed of the conducting wire 210 that is not broken when the electrode piece 131 is divided is formed by the two conducting wires 210.
  • Each of the diagonal vertices in the rhombus F3 passes through the positions of two adjacent first direction gaps S1 on the first direction crossing band 121.
  • the electrode pieces 131 are partitioned inside the rhombus F3, and the first electrode row 130 in which each electrode piece 131 is electrically connected by the two unbroken conducting wires 210 is formed.
  • the first electrode line 130 is formed for each first direction crossing zone 121, it is repeatedly arranged in the second direction D2 3.
  • a dummy electrode 135 which is not electrically connected to other conductive wires and is electrically isolated is formed.
  • FIG. 19 is a partially enlarged plan view of the lower electrode 140 in a state where the second electrode row 150 is formed.
  • FIG. 20 is a plan view of the lower electrode 140 in which the disconnection portion CL is indicated by a thick broken line.
  • Second electrode line 150 includes a plurality of electrode pieces 151 square arranged in the second direction D2 3. Each electrode piece 151 is formed in the same manner as the electrode piece 131 described above except in the arrangement direction. That is, among the conducting wires 410 and 420 that intersect the side of the rhombus F3, the conducting wire 410 is disconnected, and the conducting wire 420 is not disconnected. As a result, the second electrode row 150 is formed in which each electrode piece 151 is conducted by the two conducting wires 420.
  • FIG. 21 is a perspective plan view of the state in which the upper electrode 120 of FIG. 17 and the lower electrode 140 of FIG. 19 are overlaid.
  • the upper electrode 120 and the lower electrode 140 include an arrangement direction (first direction D1 3 ) of electrode pieces 131 in the first electrode row 130 and an arrangement direction (second direction D2 3 ) of electrode pieces 151 in the second electrode row 150. Are overlapped with each other through the dielectric layer 13 (FIG. 1).
  • the second direction crossing band 142 (FIG. 19) of the lower electrode 140 is disposed at the position of the first direction gap S1 of the upper electrode 120, and the lower electrode 140 A first direction crossing band 121 (FIG.
  • the first electrode row 130 and the second electrode row 150 do not overlap with each other, and the electrode pieces 31 and the electrode pieces 51 included in the electrode rows 130 and 150 respectively do not overlap with each other in the first direction D1 3. and it is arranged in the second direction D2 3.
  • Four electrode pieces 131, 131, 151, and 151 are arranged in the vicinity of the intersection of the first direction gap S ⁇ b> 1 and the second direction gap S ⁇ b> 2 so as to abut each corner. Also in this example, a complete lattice pattern in which no line overlap occurs other than the intersection of the conducting wires 210, 220, 410, and 420 is formed.
  • FIG. 22 is a plan view illustrating a schematic configuration of the touch panel 100 including the upper electrode 120 and the lower electrode 140 and the display 9.
  • the X-direction of the image display portion 9A of the display 9, conductor extending same first direction D1 3 to the direction out of the 210 and 410 are parallel and extend the same second direction D2 3 to the direction out of the conductors 220, 420 are Orthogonal.
  • the Y-direction of the image display unit 9A, conductor extending same second direction D2 3 to the direction out of the 220 and 420 are parallel and extend the same first direction D1 3 and the egress direction of the conductors 210, 410 are perpendicular To do.
  • the pitch of the fine lines is an integral multiple of the black matrix that is the light-shielding portion of the display 9 so that the fine lines overlap the black matrix.
  • FIG. 23 is a partially enlarged plan view of the upper electrode 60 in a state where no electrode is formed.
  • the transparent substrate upper electrode 60 are formed, in substantially the same manner as the aforementioned upper electrode 20 (FIG. 2), the first direction D1 2, the second direction D2 2 Tonouchi second direction D2 2 intersecting thereto a plurality of conductors 220 extending in parallel along, and a plurality of conductors 210 which intersects and extends along the first direction D1 2 to these conductors 220 are formed.
  • the second direction parallel strip 22 including a plurality of conducting wires 220 and the conducting wires 210 are also formed in this example.
  • the first direction intersection zone 21 is formed in substantially the same manner as in the above-described example.
  • FIG. 24 is a partially enlarged plan view of the lower electrode 80 in a state where no electrode array is formed.
  • a conductive line pattern having a mirror image relationship with the conductive pattern of the upper electrode 60 in FIG. 23 is formed.
  • the conductor pattern of the upper electrode 60 and the conductor pattern of the lower electrode 80 are mirror images of each other when the vertical direction in FIGS. 23 and 24 is the binding direction. That is, when a center line extending in the vertical direction on the paper surface is set, the line is symmetrical with respect to the center line.
  • the second is the upper electrode 60 including a plurality of conductors 220 extending in a second direction D2 2 whereas the direction parallel bands 22 are formed, a first direction parallel zone 41 is formed which includes a plurality of conductors 410 extending in a first direction D1 2 to the lower electrode 80.
  • the conductors 210 extending in a first direction D1 2 is the upper electrode 60 is formed, the lower electrode 80 are formed conductor 420 extending in the second direction D2 2.
  • FIG. 25 is a partially enlarged plan view of the upper electrode 60 in a state where the first electrode row 70 is formed.
  • FIG. 26 is a plan view of the upper electrode 60 in which the disconnection portion CL is indicated by a thick solid line.
  • the first electrode array 70 has a first direction D1 2 and a plurality of electrode pieces 71 of the rectangle are arranged in a direction crossing both the second direction D2. Each electrode piece 71 is formed by selectively disconnecting a part of each conductive pattern 210, 220 that intersects the side (edge line) of the quadrangle F2 assumed on the upper electrode 60.
  • Square F2 is a point Ps1 on the substrate that the upper electrode 60 is formed, the other on the substrate to be spaced apart in the third direction D3 which intersects both from this one point Ps1 in the first direction D1 2 and the second direction D2 2 It passes through the point Ps2.
  • the intersection of the side of the rectangle F2 and the conducting wire 210 is disconnected, and the intersection of the side of the rectangle F2 and the conducting wire 220 is also disconnected except for the vicinity of each of the points Ps1 and Ps2 (non-disconnected portion NC).
  • the non-breaking part NC is configured to include a part of the conducting wire 220.
  • Adjacent electrode pieces 71 are different from each other by a dimension P3 in a fourth direction D4 perpendicular to the third direction D3. As a result, the arrangement direction of the electrode pieces 71 is a fifth direction D5 in which the third direction D3 and the dimension P3 of the fourth direction D4 are combined. In addition, between the adjacent first electrode rows 70, 70, a dummy electrode 65 that is not electrically connected to other conductive wires and is electrically isolated is formed.
  • FIG. 27 is a partially enlarged plan view of the lower electrode 80 in a state where the second electrode row 90 is formed.
  • FIG. 28 is a plan view of the lower electrode 80 in which the disconnection portion CL is indicated by a thick broken line.
  • the second electrode row 90 includes a plurality of quadrangular second electrode pieces 91 arranged in a direction intersecting any of the first direction D1 2 , the second direction D2 2 , the third direction D3, and the fourth direction D4. Have.
  • Each second electrode piece 91 is formed in the same manner as the electrode piece 71 described above except in the arrangement direction.
  • the quadrangle F2 is on a point Ps1 on the substrate and on the substrate separated from the one point Ps1 in the fourth direction D4 intersecting all of the first direction D1 2 , the second direction D2 2 , and the third direction D3. It passes through another point Ps2.
  • the intersection of the side of the rectangle F2 and the conducting wire 420 is disconnected, and the intersection of the side of the rectangle F2 and the conducting wire 410 is also disconnected except for the non-breaking portion NC that is the vicinity of each of the points Ps1 and Ps2.
  • Adjacent electrode pieces 91 differ in position in the third direction D3 by a dimension P3.
  • the arrangement direction of the electrode pieces 91 is a sixth direction D6 in which the fourth direction D4 and the dimension P3 in the third direction D3 are combined.
  • FIG. 29 is a perspective plan view of the state in which the upper electrode 60 of FIG. 25 and the lower electrode 80 of FIG. 27 are overlaid.
  • the broken line CL is indicated by a thick line.
  • the upper electrode 60 and the lower electrode 80 have an arrangement direction of the electrode pieces 71 in the first electrode row 70 (fifth direction D5) and an arrangement direction of the electrode pieces 91 in the second electrode row 90 (sixth direction D6). Overlaid through the dielectric layer 13 (FIG. 1) to be orthogonal.
  • the conducting wire 420 (FIG. 14) of the lower electrode 80 is disposed at the position of the first direction gap S1 of the upper electrode 60, and the second direction gap of the lower electrode 40 is placed.
  • the conducting wire 210 (FIG. 13) of the upper electrode 60 is disposed at the position S2.
  • the first electrode row 70 and the second electrode row 90 do not overlap each other, and the electrode pieces 31 of the first electrode row 30 and the electrode pieces 51 of the second electrode row 50 do not overlap each other. It is arranged in a direction D1 2 and the second direction D2 2.
  • Four electrode pieces 71, 71, 91, 91 are arranged in the vicinity of the intersections between the non-breaking portion NC in the upper electrode 60 and the non-breaking portion NC in the lower electrode 80 so that the respective corners abut each other. .
  • a complete lattice pattern in which no line overlap occurs other than the intersection of the conducting wires 210, 220, 410, and 420 is formed.
  • FIG. 30 is a plan view illustrating a schematic configuration of the touch panel 101 and the display 9 including the first and second electrodes 60 and 80 described above.
  • the fifth direction D5 is parallel to the X direction of the image display unit 9A, and the sixth direction D6 is orthogonal.
  • the sixth direction D6 is parallel to the Y direction of the image display unit 9A, and the fifth direction D5 is orthogonal to the Y direction.
  • the first direction D1 and the second direction D2 which are the extending directions of the conductive wires, form an angle with respect to both the X direction and the Y direction, which are the arrangement directions of the pixel electrodes.
  • the metal thin line of the touch panel 1 and the side (edge) forming the external shape or internal structure of the pixel electrode are in a parallel relationship or close to an angle close to parallel. Can be suppressed.
  • FIG. 31 schematically shows a cross-sectional view of an example of the resistive film type touch panel of the present invention.
  • the touch panel 102 is arranged on the side of the display 9 (FIG. 9) as an image display device, overlaid on the upper electrode 320 as a first electrode arranged on the side touched by a fingertip or a pen, etc.
  • a lower electrode 340 as a second electrode.
  • the lower electrode 340 formed on the insulating transparent substrate 12 and the upper electrode 320 formed on the flexible insulating transparent film 16 are dotted in a plan view dot shape formed on the lower electrode 340.
  • bonding is performed by the adhesive layer AD provided along each of the four sides.
  • FIG. 32 is a schematic plan view of the upper electrode 320.
  • the number of conducting wires is shown smaller than the actual number for easy understanding. The actual number of conductors is determined by the number that can provide practical position detection accuracy of the touch panel.
  • the second direction parallel strip 22 including the plurality of conducting wires 220 is repeatedly formed with the first direction gap S1 interposed therebetween.
  • the first direction crossing band 21 including the conducting wire 210 is also formed in the same manner as the first direction crossing band 21 described above.
  • the first direction D1 3 at both ends of the transparent film upper electrode 320 is formed, a pair of upper electrodes bus bar 191, 191 are formed so as to extend along each of the first direction D2 3.
  • the conducting wire 210 of the first direction crossing band 21 is joined to the upper electrode bus bars 191 and 191 at both ends thereof and is conducted.
  • the bus bars 191 and 191 are connected to a DC power source (not shown), and a voltage of, for example, several volts is applied between the bus bars 191 and 191.
  • the bus bars 191 and 191 can be made of a metal such as gold, silver, copper, or nickel, or a conductive paste such as carbon. Examples of methods for forming the bus bars 191 and 191 include screen printing, offset printing, gravure printing, flexographic printing, and other printing methods, a photoresist method, and a brush coating method.
  • the disconnection portion is not formed in the lead wire pattern of this example as in the above examples, and the lead wire pattern of this example is not partitioned into a plurality of electrode pieces or an electrode row in which the lead wire patterns are connected. That is, the conducting wires 210 and 220 intersecting with each other in a lattice form are electrically connected to each other to form one electrode.
  • FIG. 33 is a schematic plan view of the lower electrode 340.
  • the conductive pattern of the lower electrode 340 is the same as the conductive pattern of the upper electrode 320 of FIG. 32, and FIG. 33 is shown in a state rotated 90 degrees with respect to FIG. Therefore, the first direction parallel bands 41 extending in the first direction D1 3 is the lower electrode 340, and a second direction intersecting bands 42 extending in the second direction D2 3 are formed.
  • the conducting wire 420 of the second direction crossing band 42 is joined to the lower electrode bus bars 192 and 192 at both ends thereof and is conducted.
  • These lower electrode bus bars 192 and 192 are formed in the same manner as the upper electrode bus bars 191 and 191, and a voltage of, for example, several volts is applied by a DC power source (not shown).
  • the lower electrode 340 is formed with a large number of insulating spacers 17 (FIG. 31) dotted in a dot shape. These spacers 17 protrude toward the upper electrode 320, whereby a space is formed between the upper electrode 320 and the lower electrode 340 without the upper electrode 320 and the lower electrode 340 being in contact with each other.
  • the spacer 17 may be formed on the upper electrode 320.
  • the spacer 17 is made of transparent photo-curing resin such as melamine acrylate resin, urethane acrylate resin, epoxy acrylate resin, methacryl acrylate resin, acrylate acrylate resin, or the like, or polyvinyl alcohol resin into fine dots by a photo process. Can be obtained. Also, a large number of fine dots can be formed by a printing method to form a spacer.
  • FIG. 34 is a perspective plan view showing a state in which the upper electrode 320 of FIG. 32 and the lower electrode 340 of FIG. 33 are overlaid.
  • the illustration of the spacer 17 and the adhesive layer AD is omitted.
  • the second direction crossing band 42 (FIG. 33) of the lower electrode 340 is disposed at the position of the first direction gap S1 of the upper electrode 320
  • the lower electrode 340 The first direction cross band 21 (FIG. 32) of the upper electrode 320 is disposed at the position of the second direction gap S2.
  • the touch panel 102 having such a configuration, when the back surface of the upper electrode 320 (the surface on the touch side of the transparent film 12 on which the upper electrode 320 is formed) is touched with a finger or a pen, the position without the spacer 17 (touch position). Thus, the upper electrode 320 and the lower electrode 340 are brought into contact with each other and become conductive. At this time, with the X coordinate of the touch position is determined based on the voltage gradient in the first direction D1 3 when a voltage is applied to between the bus bar 191 and 191 of the upper electrode 320, to between the bus bars 192 and 192 of the lower electrode 340 Y coordinate of the touch position is measured on the basis of the voltage gradient in the second direction D2 3 at the time of voltage application.
  • the total electrical resistance of all the conductive wires 210 formed in the conductive pattern formation region of the upper electrode 320 and the total electrical resistance of all the conductive wires 420 formed in the conductive pattern formation region of the lower electrode 340 are each 100 ⁇ . To 5 k ⁇ , and particularly preferably 200 ⁇ to 2 k ⁇ .
  • Each of the upper electrode bus bars 191 and 191 and the lower electrode bus bars 192 and 192 is located outside the touch sensor area, which is a conductor pattern forming area, and is not visible to the operator by a display window frame (not shown). Hidden in For this reason, the line width of the bus bars 191 and 192 can be made sufficiently larger than that of the conducting wires, so that the potential drop due to the bus bar when the touch position is detected can be ignored.
  • the touch panel 102 by the 4-wire type resistive film type is shown, but the present invention can also be applied to a resistive film type such as a 5-wire type, a 6-wire type, a 7-wire type, and an 8-wire type. is there.
  • Each of the upper electrode and the lower electrode is an electrode made of a conductive thin wire, and it is preferable to use a metal or alloy having high resistance and low resistance.
  • metals include copper, silver, gold, platinum, palladium, nickel, tin, aluminum, cobalt, rhodium, iridium, iron, ruthenium, osmium, manganese, molybdenum, tungsten, niobium, tantel, titanium, and bismuth. , Antimony, lead and the like.
  • the upper electrode and the lower electrode are basically formed of the same conductive material, but may be formed of different conductive materials.
  • [2] Use as metal foil or thin film.
  • To use as a thin film first form a metal thin film on the base material by vacuum deposition, sputtering, ion plating, or by plating or bonding metal foil. To do.
  • the metal thin film is subjected to the following patterning to form an electrode.
  • the pattern is formed by photoetching, a photoresist film is formed on the metal thin film, exposed using a photomask, and developed with a developer to form a resist film pattern. This is etched with an etching solution, and the resist film is peeled and removed to form a pattern made of fine metal wires.
  • a resist film pattern is printed on the metal thin film by a method such as screen printing, gravure printing, or ink jet, and the resist film is etched except for the resist coating portion in the metal thin film with an etching solution.
  • a pattern of fine metal wires is formed by peeling.
  • a method of printing the above pattern with an ink (or paste) containing conductive nanoparticles In addition to the above metal fine particles, carbon may be used as the conductive nanoparticles.
  • the conductive nanoparticles are preferably particles containing gold, silver, palladium, platinum, copper, carbon, or a mixture thereof.
  • the average particle size of the nanoparticles is 2 ⁇ m or less, preferably 200 to 500 nm, and those having a particle size smaller than that of conventional micron particles are preferable for forming a pattern.
  • a screen printing method or a gravure printing method is used for pattern printing.
  • the conductive material included in the ink (or paste) may be conductive fibers instead of metal particles.
  • the conductive fiber includes a metal wire, a fibrous substance called nanowire, a hollow structure tube, and a nanotube.
  • the average minor axis length of the metal nanowire (sometimes referred to as “average minor axis diameter” or “average diameter”) is preferably 100 nm or less, more preferably 1 nm to 50 nm, still more preferably 10 nm to 40 nm, and even more preferably 15 nm. Particularly preferred is ⁇ 35 nm.
  • JP2009-215594, JP2009-242880, JP2009-299162, JP2010-84173, JP2010-87105, JP2010. -86714 can be combined with the disclosed technology.
  • the method for obtaining a conductive fine line pattern in the present invention includes the following three forms depending on the photosensitive material and the form of development processing. (a) An embodiment in which a photosensitive silver halide black-and-white photosensitive material that does not contain physical development nuclei is chemically or thermally developed to form a metallic silver portion on the photosensitive material.
  • the mode (a) is an integrated black-and-white development type, and a light-transmitting conductive film such as a light-transmitting conductive film is formed on the photosensitive material.
  • the resulting developed silver is chemically developed silver or heat developed silver, and is highly active in the subsequent plating or physical development process in that it is a filament with a high specific surface.
  • the light-transmitting conductive film such as a light-transmitting conductive film is formed on the photosensitive material by dissolving silver halide grains close to the physical development nucleus and depositing on the development nucleus in the exposed portion. A characteristic film is formed.
  • This is also an integrated black-and-white development type.
  • the development action is precipitation on the physical development nuclei, it is highly active, but developed silver is a sphere with a small specific surface.
  • the silver halide grains are dissolved and diffused in the unexposed area and deposited on the development nuclei on the image receiving sheet, thereby translucent such as a light transmissive conductive film on the image receiving sheet. A conductive film is formed. This is a so-called separate type in which the image receiving sheet is peeled off from the photosensitive material.
  • either negative development processing or reversal development processing can be selected (in the case of the diffusion transfer method, negative development processing is possible by using an auto-positive type photosensitive material as the photosensitive material).
  • 2004-244080 and 2004-085655 can be applied. it can.
  • the description and technology described in Japanese Patent Application Laid-Open No. 2006-352073, which is an invention of an electromagnetic shielding film, and Japanese Patent Application No. 2009-265467, which is an invention of a capacitive touch panel. Can be used.
  • the conductive material used for each of the upper electrode and the lower electrode does not have to be light transmissive, but a light transmissive conductive material can also be used for each of the upper electrode and the lower electrode. It is.
  • the light-transmitting conductive material include conductive polymers and some metal oxides, but metal oxides are used in terms of durability and weather resistance.
  • Transparent metal oxides include indium tin oxide (ITO), antimony-doped tin oxide (ATO), tin oxide, aluminum-doped zinc oxide (ZnO: Al), and indium zinc oxide (In2O3-ZnO (IZO)) ) Etc.
  • the above transparent oxide can be used as an electrode piece for forming the lower electrode.
  • ITO and IZO Is preferably used.
  • a sputtering method, an electron beam method, an ion plating method, or the like is used to form a thin film of ITO or IZO.
  • the upper electrode and the lower electrode all materials exemplified in the above [1] and below can be used.
  • FIG. 35 shows a method of forming the upper electrode (FIGS. 4, 17, 25, etc.), but the lower electrode is formed in the same manner as the upper electrode.
  • FIG. 35 (a) shows a transparent substrate 160 that also serves as an insulating layer (corresponding to the transparent substrate 11 or the transparent substrate 12 in FIG. 1), for example, a PET film of about 100 ⁇ m. The surface of the film is cleaned, and then a thin layer 200 of metal or alloy is provided on the surface of the film (FIG. 35 (b)).
  • the material described in the above [2] can be used, and silver, copper, aluminum, or an alloy thereof is preferably used.
  • a sputtering method or the like is used as a method for forming the thin layer, but other methods may be used.
  • the thickness of the formed metal thin layer can be appropriately adjusted according to a desired resistance value, but is preferably 0.1 ⁇ m to 3 ⁇ m, and more preferably 0.2 ⁇ m to 1 ⁇ m.
  • a photoresist film is formed on the metal thin film 200 formed above, exposed using a photomask, and developed with a developing solution to form a resist film pattern.
  • a conductive wire pattern 201 made of fine metal wires (FIG. 35C).
  • a conductive pattern of the upper electrode having the disconnection portion CL as shown in FIGS. 4, 17, and 25 is formed.
  • the conductor pattern of the lower electrode is formed in the same manner as the conductor pattern of the upper electrode.
  • This coating layer is called a blackening layer.
  • the blackened layer has a visual function that makes the metallic luster of the metal or alloy inconspicuous, and a function of improving durability by preventing rust and migration of the metal.
  • the material for the blackening layer (coating layer) will be described separately below.
  • the thickness of the blackening layer (coating layer) is preferably 5 ⁇ m or less, more preferably 3 ⁇ m or less, and particularly preferably 0.2 ⁇ m or more and 2 ⁇ m or less. As shown in FIG.
  • the blackened layer 170 that covers the entire surface of the conductive wire pattern 201 and the transparent substrate 160, the blackened layer 170 on the pattern formation region that does not cover the thin electrode wires.
  • the blackened layer portion is removed, and a blackened layer 171 that covers only the conductive wire pattern 201 is formed ((e) of FIG. 35).
  • the lead pattern electrode excellent in visibility and durability can be formed.
  • blackening layer (coating layer)
  • suitable lamination methods for the black layer include plating and chemical etching.
  • Any known black plating may be used as the plating treatment, such as black ni plating, black Cr plating, black Sn-ni alloy plating, Sn-ni-Cu alloy plating, black zinc chromate treatment, etc.
  • black plating bath (trade name, Nikka Black, Sn-ni alloy type) manufactured by Nippon Chemical Industry Co., Ltd.
  • black plating bath (trade name, Ebony-Chromium 85 series manufactured by Metal Chemical Industry Co., Ltd.) -Cr, Cr), Dipsol Co., Ltd.
  • the plating method may be either electroless plating or electrolytic plating, and may be mild or high-speed plating.
  • the thickness is not limited as long as the plating thickness can be recognized as black, but the normal plating thickness is preferably 1 ⁇ m to 5 ⁇ m.
  • a black part can also be formed by oxidizing or sulfurating a part of the conductive metal part.
  • the blackening treatment agent for the copper surface include: Meltex Co., Ltd., trade name Enplate MB438A, B, Mitsubishi Gas Chemical Co., Ltd., trade name: nPE- 900, manufactured by Mec Co., Ltd., trade name Mec Etch Bond BO-7770V, manufactured by Isolate Chemical Laboratory, trade name Copa Black CuO, CuS, selenium Copa Black no. 65 etc. can be used.
  • the sulfide to generate hydrogen sulfide (H 2 S) and to blacken the copper surface as copper sulfide (CuS).
  • the thickness of these treatments is not limited as long as it can be recognized as black, but it is preferably 3 ⁇ m or less, more preferably 0.2 ⁇ m to 2 ⁇ m.
  • the above pattern can be directly printed on the transparent substrate layer that also serves as the insulating layer.
  • FIG. 36 shows a method of forming the upper electrode (FIGS. 4, 17, 25, etc.), but the lower electrode is formed in the same manner as the upper electrode.
  • the silver halide photographic light-sensitive material used in the present invention is described in detail in JP-A-2006-352073, which is an invention of an electromagnetic wave shielding film using a fine line pattern of developed silver.
  • FIG. 36A shows a transparent substrate 160 that also serves as an insulating layer, for example, a PET film of about 100 ⁇ m.
  • the surface of the film is cleaned, and then a thin layer 250 of a silver halide photographic light-sensitive material is provided on the surface of the film ((b) of FIG. 36).
  • the silver halide photographic light-sensitive material contains binders such as silver halide and gelatin excellent in characteristics as an optical sensor, coating aids, and various additives for adjusting sensitivity.
  • Coating amount of silver is preferably 1 ⁇ 30g / m 2 in terms of silver, more preferably 1 ⁇ 25g / m 2, more preferably 5 ⁇ 20g / m 2. By setting the coated silver amount within the above range, the conductive sheet after exposure and development processing can obtain a desired surface resistance.
  • the thin film is preferably formed using a multilayer coater used for the production of photographic materials.
  • FIG. 36C the area where the photosensitive nucleus is generated by the exposure is indicated by 251.
  • the film after developing and fixing the exposed film is shown in FIG.
  • Reference numeral 252 denotes an aggregate of silver formed around the photosensitive nucleus by development
  • reference numeral 253 denotes a transparent film in which silver salt and the like contained in the portion of the silver halide photographic material not exposed to light are removed from the layer by a fixing process. It represents the state that became. In this way, a fine line pattern by developed silver can be formed.
  • the first direction gap in the first direction is a second direction parallel band in which a plurality of conductive wires extending in parallel with each other along the second direction are arranged among the first direction and the second direction intersecting the first direction.
  • a first direction crossing band is repeatedly formed in the second direction.
  • the first direction crossing band is disposed in the first direction with the conductors extending along the first direction and intersecting the second direction parallel band.
  • the first electrode A first-direction parallel strip in which a plurality of conductive wires extending in parallel with each other along the first direction is repeatedly formed in the second direction across the second-direction gap in the second direction, and the second direction
  • a touch panel characterized by being overlaid is disclosed.
  • this touch panel even if there is a large tolerance for errors in overlaying the first electrode and the second electrode and the shape error of the conductor, even if the overlay is slightly shifted or the conductor shape varies, Since thickening and interference fringes are less likely to occur, a new conductor pattern that does not give a sense of incongruity to the grid shape of the conductor can be obtained with good yield and at low cost. Further, even if the interval (pitch) between the conductive wires is narrowed, line thickening and interference fringes are less likely to occur. Therefore, it is possible to increase the arrangement density of the conductive wires and improve the contact detection sensitivity. In addition, since a favorable responsiveness is acquired by being able to employ
  • the conducting wires included in each of the first direction parallel band and the first direction crossing band are arranged at regular intervals from each other,
  • the conducting wires included in each of the second direction parallel band and the second direction crossing band are arranged at regular intervals from each other,
  • a uniform lattice pattern is formed by the first direction parallel band, the second direction parallel band, the first direction cross band, and the second direction cross band.
  • the conductor pattern can be prevented from being seen as much as possible.
  • the number of each of the conducting wires constituting the first direction parallel strip and the conducting wires constituting the second direction parallel strip is three or more, The number of each of the conducting wires constituting the first direction crossing band and the conducting wires constituting the second direction crossing band is 1 or more and 10 or less, and the conducting wires constituting the first direction parallel band and the second Less than the number of each of the conducting wires constituting the directional parallel strip.
  • this touch panel it is easy to form a lattice pattern by superimposing the first and second electrodes based on the above number of conductive wires.
  • the conductor pattern of each of the first and second electrodes is divided into a plurality of electrodes, a group of a plurality of parallel conductors connected by conductors crossing these parallel conductors is determined from the above number of conductors. Since it is easy to form a region, it is easy to form an electrode.
  • the plurality of conductive wires included in each of the first direction parallel band and the second direction parallel band are densely arranged at a pitch smaller than the pitch of each of the first direction cross band and the second direction cross band.
  • the densely arranged conductor groups are arranged at a small pitch, the sensitivity of contact detection can be increased, and the arrangement of the conductors that conduct the electrode pieces to each other is sparse, so that the first electrode array and The pattern design for arranging the second electrode rows so as not to overlap in the fluoroscopic state does not become complicated.
  • the pitch of the plurality of conducting wires included in each of the first direction parallel strip and the second direction parallel strip is 150 ⁇ m or more and 400 ⁇ m or less, Each pitch of the first direction crossing band and the second direction crossing band is 2000 ⁇ m or more and 10,000 ⁇ m or less.
  • this touch panel it is easy to form a lattice pattern by overlapping the first and second electrodes from the above pitch. Moreover, when each conducting wire pattern of the first and second electrodes is divided into a plurality of electrodes, the electrodes are easily formed.
  • the first direction crossing band of the first electrode is arranged at a pitch equal to the total width of the first direction parallel band and the second direction gap respectively formed on the second electrode
  • the second direction crossing bands of the second electrode are arranged at a pitch equal to the total width of the second direction parallel band and the first direction gap respectively formed on the first electrode.
  • this touch panel it is possible to prevent wire thickening and interference fringes, and to obtain a new conductive wire pattern that does not give a sense of incongruity to the lattice shape of the conductive wire with good yield and low cost.
  • the widths of the conductive wires constituting the first direction parallel strip and the second direction parallel strip are 2 ⁇ m or more and 10 ⁇ m or less,
  • the pitch of the conducting wire in each of the first direction parallel strip and the second direction parallel strip is 250 ⁇ m or more and 350 ⁇ m or less.
  • the first electrode is a first electrode array in which electrode pieces partitioned by selectively disconnecting portions of the conductive wires that intersect the edge line of the closed figure assumed on the first electrode are arranged.
  • an electrode piece partitioned by selectively disconnecting a part of each conductive wire that intersects an edge line of a closed figure assumed on the second electrode is the first electrode row.
  • the first electrode row and the second electrode row are repeatedly arranged in a certain direction intersecting each other, When the first electrode and the second electrode are seen through, the electrode pieces are arranged so as not to overlap each other.
  • the first electrode row and the second electrode row are formed by disconnecting the respective conductive wire patterns of the first and second electrodes at appropriate positions, and the first and second electrodes are overlapped.
  • Touch position coordinates are formed by the first and second electrode rows that intersect each other.
  • the electrode pieces are closely arranged without overlapping each other, so that the sensitivity of contact detection can be increased.
  • the dummy electrode is formed simultaneously with the formation of the electrode piece, it is possible to prevent a short circuit during high frequency driving of a touch panel corresponding to a large screen or a high definition display.
  • the plurality of conductive wire patterns included in the first electrode and the plurality of conductive wire patterns included in the second electrode are in a mirror image relationship with each other. According to this touch panel, since it is a mirror image, it is possible to reduce the cost of pattern design of the conductive wire.
  • Each electrode piece of the first electrode row has a portion of the second direction parallel band that intersects an edge line of a closed figure passing through the positions of the two first direction gaps on the first direction cross band. It is formed inside the closed figure by being disconnected, and is arranged in the first direction in a state of being electrically connected to each other by the conducting wires of the first direction crossing band,
  • Each of the electrode pieces of the second electrode array has a portion of the first direction parallel band that intersects an edge line of a closed figure passing through the positions of the two second direction gaps on the second direction cross band. By being disconnected, it is formed inside the closed figure, and is arranged in the second direction in a state of being electrically connected to each other by the conducting wires in the second direction crossing band.
  • Each of the electrode pieces of the first electrode array includes a point on the first electrode and another on the first electrode spaced from the one point in a third direction intersecting both the first direction and the second direction.
  • a portion of the first direction crossing band that intersects the edge line of the closed graphic passing through the point, and the one point and the other point in the second direction parallel band that intersects the edge line of the closed graphic Is formed inside the closed figure by disconnecting the part other than the non-disconnected portion in the vicinity of, and arranged in a state of being electrically connected to each other through the non-disconnected portion,
  • Each electrode piece of the second electrode row is separated from a point on the second electrode and a fourth direction intersecting any of the first direction, the second direction, and the third direction from the one point.
  • this touch panel when the first and second electrodes are overlapped, a novel electrode array arrangement pattern that does not give a sense of incongruity to the lattice pattern is obtained.
  • the conducting wires extending along the first direction and the conducting wires extending along the second direction are inclined with respect to the arrangement direction of the pixels included in the display stacked on the touch panel. According to this touch panel, it is difficult for optical interference between each conductor constituting the conductor pattern and the edge of the pixel or the like to occur, so that occurrence of interference fringes (moire) can be prevented.
  • the first direction is set in parallel or perpendicular to the pixel arrangement direction of the image display device stacked on the touch panel, and the second direction is set orthogonal or parallel. According to this touch panel, since the position coordinates of the touch point and the XY coordinates of the image display device match without performing coordinate correction or the like, the touch position calculation process can be easily performed.
  • the disconnection size in the direction intersecting the edge line in the disconnection part which is a set of portions of the respective conductors that intersect and disconnect the edge line of the closed figure, and the disconnection position in the direction intersecting the edge line At least one changes randomly in the direction along the edge line.
  • the conductive wire pattern is less likely to be visually recognized as regular irregularity as compared with the case where the disconnection portion is formed in a straight line. That is, it is possible to prevent the display quality of the display from being lowered due to the mounting of the touch panel.
  • the non-breaking portion including the portion of the conducting wire that is not broken when the electrode pieces are partitioned is formed by two or more conducting wires.
  • each electrode piece constituting the electrode row is electrically connected by a plurality of conductors, so that even if some of the plurality of conductors are disconnected due to burnout during use or the like, conduction can be ensured. .
  • the closed figure is a polygon. According to this touch panel, since the electrode pieces are polygonal, the electrode pieces can be easily formed from the conductive wire groups extending in the first and second directions.
  • this invention can be used in combination with the technique of the publication gazette and international publication pamphlet which are described in following Table 1 and Table 2.
  • FIG. Notations such as “JP,” “Gazette” and “No. Pamphlet” are omitted.
  • the touch panel of the present invention there is a large tolerance for overlapping the first electrode and the second electrode and the shape error of the conductor, and the overlay is slightly shifted or the shape of the conductor is uneven. A new conductor pattern that does not feel uncomfortable in the lattice shape can be obtained. That is, it is possible to provide a capacitive touch panel of a capacitive type or a resistive film type that can be easily manufactured using a thin line such as a thin metal line.

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Abstract

　金属細線を用いて容易に製造可能な静電方式タッチパネルの提供。　交差する導線のパターンがそれぞれ形成された第一電極２０と、第二電極４０とを備え、第一方向間隙Ｓ１の位置に第二方向交差帯４２が対応し、第二方向間隙Ｓ２の位置に第一方向交差帯２１が対応するように、前記第一電極と前記第二電極とが互いに重ねられることを特徴とするタッチパネル。

Description

タッチパネル
　本発明は、タッチパネル（タッチスクリーン）に関する。特に、異なる２層にそれぞれ、細線パターンによる電極列が形成されたマルチタッチ可能な静電容量方式、あるいは抵抗膜方式のタッチパネルに関する。
　タッチパネルには、ドットスペーサーを介在させて対向配置した２つの導電膜（電極層）間のタッチ位置での導通を検知するアナログ抵抗膜方式が多く用いられてきたが（例えば、特許文献１）、近年、静電容量の変化を利用して指先のタッチ位置を検出する静電容量方式のタッチパネルの開発が進められている。静電容量方式のタッチパネルには、表面型と投影型とがある。表面型は、１シート状の電極を有する。電極材料には以前からＩＴＯなどの透明導電膜が用いられてきたが、ＩＴＯの抵抗値が高いため、応答性の観点から、大画面化が難しい。このため、金、銀、銅などの金属細線を電極に用いる技術の開発が進められている（特許文献２）。ところで、表面型タッチパネルは、例えば、指と導電膜との間の静電容量の変化に応じた導電膜のアナログ電流変化量をシート四隅の電極で検出する構成とされるので、同時に２点以上の接触（マルチタッチ）を検出することが難しい。
　一方、投影型タッチパネルは、配列方向が第一方向である第一電極列と、配列方向が第一方向と直交する第二方向である第二電極列とが誘電層を介在して直交配置された格子状の電極を有する（特許文献３）。この投影型では、タッチ時の容量結合に起因する第一電極列と第二電極列との間の静電容量の変化を電圧変化として検出して座標点を特定することにより、複数のタッチ位置を検出可能である。
日本国特許第３８２５４８７号公報 国際公開第２００９／１０８７５８号 国際公開第２０１０／０１３６７９号
　近年、マルチタッチ及び大画面化に対する要望が高まっている。これらの要望に対しては、２つの電極層を有する投影型を採用し、金属細線を用いて電極を形成することが好ましいが、二方向の電極列が互いに直交するように重ねられる構造上、金属細線の製造と、電極列を重ね合わせる際の位置決め等には注意を要する。すなわち、金属細線により電極を形成する場合、例えば、一定間隔で互いに平行に延びる多数の平行線と、これに交差する交差線とによって電極列が形成されるが、重ね合わせの際の僅かな誤差や、金属細線の形状誤差等により、一方の電極列の金属細線と他方の電極列の金属細線との配置関係が乱れる可能性がある。このとき、金属細線同士が互いに近接してその部分が太く見えてしまうこと（線太り）や、光干渉による干渉縞（モアレ）が生じ易い。近年、携帯電子機器などにも解像度の高いディスプレイが搭載されることが多くなってきたが、このようなディスプレイの高精細な画像上の互いに近接する点と点とを判別可能な感度を得るため、金属細線の間隔を狭くした場合には、線太りや干渉縞が特に起こり易い。このような線太り及び干渉縞の生じた部分が視認されてしまうことにより、ディスプレイの表示品位が低下するおそれがあるため、パターン形成及び重ね合わせに対して非常に高精度が要求され、歩留まり低下及びコストアップに繋がってしまう。
　なお、抵抗膜方式においても、２つの電極層をそれぞれ金属細線で形成することが考えられる。この場合２つの電極層を重ね合わせる際に線太りやモアレが生じ易いことは投影型静電容量方式の場合と同様であるため、抵抗膜方式においても上記と同様の課題がある。
　本発明の目的は、金属細線などの細線を用いて容易に製造可能なタッチパネルを提供することにある。
　第一方向と、前記第一方向に交差する第二方向とのうち第二方向に沿って互いに平行に延びる複数の導線が配置された第二方向平行帯が前記第一方向の第一方向間隙を挟んで前記第一方向に繰り返し形成され、かつ前記第一方向に沿って延びて前記第二方向平行帯に交差する導線が配置された第一方向交差帯が前記第二方向に繰り返し形成された第一電極と、
　前記第一方向に沿って互いに平行に延びる複数の導線が配置された第一方向平行帯が前記第二方向の第二方向間隙を挟んで前記第二方向に繰り返し形成され、かつ前記第二方向に沿って延びて前記第一方向平行帯に交差する導線が配置された第二方向交差帯が前記第一方向に繰り返し形成された第二電極と、を備え、
　前記第一方向間隙の位置に前記第二方向交差帯が対応し、前記第二方向間隙の位置に前記第一方向交差帯が対応するように、前記第一電極と前記第二電極とが互いに重ねられることを特徴とするタッチパネル。
　本発明のタッチパネルによれば、第一電極と第二電極とを重ね合わせる際の誤差や、導線の形状誤差に対する許容度が大きく、重ね合わせが少々ずれていたり導線の形状にバラツキがあったとしても格子形状に違和感を感じない新規な導線パターンが得られる。すなわち、金属細線などの細線を用いて容易に製造可能な静電容量方式や抵抗膜方式のタッチパネルを提供することができる。
本発明の実施形態を説明するための例である静電容量方式タッチパネルの断面図である。 第一電極列が形成されていない状態の上部電極の部分拡大平面図である。 第二電極列が形成されていない状態の下部電極の部分拡大平面図である。 第一電極列が形成された状態の上部電極の部分拡大平面図である。 断線部を実線で示した上部電極の部分拡大平面図である。 第二電極列が形成された状態の下電極の部分拡大平面図である。 断線部を破線で示した下部電極の部分拡大平面図である。 重ね合わせられた上部電極と下部電極との透視図である。 タッチパネル及びディスプレイの概略構成を示す平面図である。 上述した例の変形例についての上部電極の要部拡大平面図である。 下部電極の要部拡大平面図である。 重ね合わせられた上部電極と下部電極との透視図である。 前述した例の他の変形例についての上部電極の要部拡大平面図である。 重ね合わせられた上部電極と下部電極との透視図である。 本発明の実施形態を説明するための他の例に関し、第一電極列が形成されていない状態の上部電極の部分拡大平面図である。 第二電極列が形成されていない状態の下部電極の部分拡大平面図である。 第一電極列が形成された状態の上部電極の部分拡大平面図である。 断線部を実線で示した上部電極の部分拡大平面図である。 第二電極列が形成された状態の下電極の部分拡大平面図である。 断線部を破線で示した下部電極の部分拡大平面図である。 重ね合わせられた上部電極と下部電極との透視図である。 タッチパネル及びディスプレイの概略構成を示す平面図である。 本発明の実施形態を説明するための他の例に関し、第一電極列が形成されていない状態の上部電極の部分拡大平面図である。 第二電極列が形成されていない状態の下部電極の部分拡大平面図である。 第一電極列が形成された状態の上部電極の部分拡大平面図である。 断線部を実線で示した上部電極の部分拡大平面図である。 第二電極列が形成された状態の下電極の部分拡大平面図である。 断線部を破線で示した下部電極の部分拡大平面図である。 重ね合わせられた上部電極と下部電極とを透視した際の平面図である。 タッチパネル及びディスプレイの概略構成を示す平面図である。 本発明の実施形態を説明するための他の例である抵抗膜方式タッチパネルの断面図である。 上部電極を模式的に示す平面図である。 下部電極を模式的に示す平面図である。 重ね合わせられた上部電極と下部電極との透視図である。 導線パターンの形成方法の一例である。 導線パターンの形成方法の他の一例である。
　図１～図９を参照して、本発明の実施形態を説明するための静電容量方式タッチパネルの例について説明する。
　本明細書において「～」は、その前後に記載される数値を下限値及び上限値として含む意味で使用される。
　図１（Ａ）～（Ｃ）はそれぞれ、本発明の投影型静電容量方式タッチパネルの一例の断面図を模式的に示す。タッチパネル１～３はいずれも、複数の層の積層体であり、指先によってタッチされる側に配置される第一電極としての上部電極２０と、この上部電極２０に重ねられて、画像表示装置としてのディスプレイ９（図９）側に配置される第二電極としての下部電極４０とを備える。図１（Ａ）～（Ｃ）のそれぞれの構成では、積層体における上部電極２０及び下部電極４０の配置位置が相違する。なお、タッチパネル１～３はディスプレイに一体に形成されていてもよい。
　図１（Ａ）では、上部電極２０が形成された上部透明基板１１と、下部電極４０が形成された下部透明基板１２とが、透明な誘電層１３を介して電極形成面を向かい合わせに重ねられた状態で貼り合わせられている。上部透明基板１１には、ガラス製又は樹脂製の透明カバー部材１５が粘着層１４を介して設けられる。
　図１（Ｂ）では、1枚の透明基板１１の表面に、下部電極４０が形成され、その上に、誘電層１３を介して上部電極２０が形成されている。
　図１（Ｃ）では、誘電層としての１枚の透明基板１１の表裏両面にそれぞれ、上部電極２０と下部電極４０とが形成されている。
　なお、図１（Ａ）～（Ｃ）には図示していないが、タッチパネル１～３のディスプレイ９との対向面に、ディスプレイからの電磁波を遮蔽するシールド層が設けられていてもよい。
　上記のタッチパネル１～３に関し、透明カバー部材１５、透明基板１１、透明基板１２、及びシールド層には、絶縁性の同じ材料を用いてもよいし、絶縁性のそれぞれ別々の材料を用いてもよく、プラスチックフィルム、プラスチック板、ガラス板等が使用されて形成される。これらの部材、板、層の厚みはそれぞれの用途に応じて適宜決められる。
　上記プラスチックフィルム及びプラスチック板の材料としては、例えば、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリエチレンナフタレート（ＰＥＮ）等のポリエステル類；ポリエチレン（ＰＥ）、ポリプロピレン（ＰＰ）、ポリスチレン、ＥＶＡ等のポリオレフィン類；ビニル系樹脂；その他、ポリカーボネート（ＰＣ）、ポリアミド、ポリイミド、アクリル樹脂、トリアセチルセルロース（ＴＡＣ）等が用いられる。
　上記プラスチックフィルム及びプラスチック板の好ましい材料としては、ＰＥＴ（融点：２５８℃）、ＰＥＮ（融点：２６９℃）、ＰＥ（融点：１３５℃）、ＰＰ（融点：１６３℃）、ポリスチレン（融点：２３０℃）、ポリ塩化ビニル（融点：１８０℃）、ポリ塩化ビニリデン（融点：２１２℃）やＴＡＣ（融点：２９０℃）等の融点が約２９０℃以下であるプラスチックフィルム、又はプラスチック板などがあり、特に、光透過性や加工性等の観点から、ＰＥＴが好ましい。フィルムや板の厚みは５０μｍから３００μｍであることが好ましい。
　誘電層１３は、その全体が粘着性を有する材料により非導電性の粘着層として形成されるか、あるいは誘電性の基板と、この基板の表裏にそれぞれ設けられる粘着層とを含んで構成される。このような誘電層１３に含まれる粘着層と、透明カバー部材１５に設けられる粘着層１４とには、非導電性の接着剤などを用いることができる。接着剤の材料としては、アクリル樹脂系、エポキシ樹脂系、フェノール樹脂系、ビニル樹脂系などを例示できる。これらの粘着層は、例えば、スクリーン印刷法などによって形成される。
　図２は、上部電極２０の部分拡大平面図である。図２の状態では、上部電極２０が有する第一電極列が形成されていない。ここで、図２～図８は、導線パターンの構成を模式的に示しており、特に導線の幅を導線間のピッチに対して太く強調して示すものである。後述する種々の電極の部分拡大平面図についても同様である。複数の導線のそれぞれの幅、間隔、断線長さなどは、適宜決められる。
　上部電極２０が形成される透明基板には、多数の導線（金属細線とも言う）が形成されている。具体的に、透明基板には、第一方向Ｄ１と、これに交差する（ここでは略直交し、直交はしていない）第二方向Ｄ２とのうち第二方向Ｄ２に沿って平行に延びる複数の導線２２０を含む第二方向平行帯２２と、第二方向平行帯２２に交差する導線２１０を含む第一方向交差帯２１とが形成されている。
　第二方向平行帯２２は、導線２２０が等間隔に配置された帯状の領域であり、第一方向間隙Ｓ１を介して第一方向に間をおいて、第一方向Ｄ１に繰り返し形成されている。図２に示した第一方向間隙Ｓ１は、導線２２０のピッチＰ１の２倍の寸法に設定されている。このような第二方向平行帯２２及び第一方向間隙Ｓ１の構成は、見方を変えれば、上部電極２０が形成される基板の導線パターン形成領域全体に多数の導線２２０が等間隔に形成された構成から、所々で導線２２０を間引いた構成ともいえる。
　図２の構成では、第一方向交差帯２１が占める領域が１本の導線２１０の形成領域と同一である。ただし、第一方向交差帯に２本以上の導線が含まれていてもよく、この場合の第一方向平行帯は、これら導線を含む帯状の領域に形成される。２本以上の導線により第一方向交差帯が形成される場合には、一部の導線が焼損しても他の導線によって、後述する電極列の導通が確保されるので良い。第一方向交差帯２１の導線２１０は、第二方向Ｄ２に間をおいて、等しいピッチＰ２で繰り返し形成されている。ピッチＰ２はピッチＰ１よりも大きい。ピッチＰ１は、１００μｍ～５００μｍが好ましく、より好ましくは１５０μｍ～４００μｍ、更に好ましくは２５０μｍ～３５０μｍである。
　また、ピッチＰ２は、１０００μｍ～２００００μｍが好ましく、より好ましくは２０００μｍ～１００００μｍ、更に好ましくは３５００μｍ～７０００μｍである。すなわち、上記の導線２２０が密に配置されているとすると、導線２１０はそれよりも疎の状態に配置されている。
　図３は、下部電極４０の部分拡大平面図である。この図３の状態では、下部電極４０が有する第二電極列が形成されていない。この下部電極４０が有する導線は、上述した上部電極２０の導線とほぼ同様に配置される。但し、上部電極２０の導線パターンと、下部電極４０の導線パターンとのそれぞれの方向関係が逆になるように、上部電極２０と下部電極４０とが重ねられるため、重ねられたときの方向を用いて区別すれば、上部電極２０には複数の導線２２０を含む第二方向平行帯２２が形成されるのに対して、下部電極４０には複数の導線４１０を含む第一方向平行帯４１が形成されている。また、上部電極２０には導線２１０を含む第一方向交差帯２１が形成されるのに対して、下部電極４０には導線４２０を含む第二方向交差帯４２が形成される。
　第一方向平行帯４１は、第二方向間隙Ｓ２を介して第二方向Ｄ２に間をおいて、第二方向Ｄ２に繰り返し形成されている。
　ここで、上部電極２０の導線パターンと下部電極４０の導線パターンとは、図２及び図３の上下方向を綴じ方向としたときに互いに鏡像の関係にある。すなわち、紙面の上下方向に延びる中心線を設定したときに、その中心線に関して線対称に形成されている。
　導線２１０，２２０，４１０，４２０としての金属細線の間隔（ピッチ）、線幅、厚さ、本数等の詳細な構成について述べる。
　第一方向に延びる導線４１０（図３）のピッチと、第二方向に延びる導線２２０（図２）のピッチとは、上記のように同一のピッチＰ１でなくても、異なっていてもよい。但し、同一のピッチであることが好ましく、異なる場合でも導線４１０のピッチと導線２２０のピッチとの寸法比が２倍以内であることが好ましい。
　また、金属細線の線幅は細いほど視認され難く、かつ干渉縞が生じにくい。このため、金属細線の線幅は２０μｍ以下であることが好ましく、１０μｍ以下であることがより好ましく、８μｍ以下であることが更に好ましく、６μｍ以下であることが特に好ましい。一方、線幅が細いほど加工が難しくコスト高となるため、金属細線の線幅は、１μｍ以上であることが好ましく、２μｍ以上であることがより好ましく、４μｍ以上であることが更に好ましい。
　金属細線の厚さ（基板面からの高さ）は、薄い方が基板から剥離しにくいので好ましいが、薄過ぎて細線の断面積が小さくなると、電気抵抗が大きくなって接触検知に必要な静電容量変化量が不足するので応答性が悪くなる。従って、金属細線の厚さは５μｍ以下が好ましく、０．１μｍ～５μｍがより好ましく、０．５μｍ～３μｍが更に好ましい。
　金属細線の剥離を防止するためには、金属細線の厚さに対する線幅の比率（線幅／厚さ）を２．５以上にするのが好ましく、４以上にするのが更に好ましい。
　また、第一方向平行帯４１を構成する導線４１０及び第二方向平行帯２２を構成する導線２２０のそれぞれの数は３本以上（１１本）であり、第一方向交差帯２１を構成する導線２１０及び第二方向交差帯４２を構成する導線４２０のそれぞれの数は１本以上１０本以下（１本）であって、第一方向平行帯４１を構成する導線４１０及び第二方向平行帯２２を構成する導線２２０のそれぞれの数（１１本）よりも少ない。
　なお、金属細線の材料及び製造方法については後述する。
　図４は、第一電極列３０が形成された状態の上部電極２０の部分拡大平面図である。
　第一電極列３０は、第一方向Ｄ１に配列された四角形（閉図形）の複数の電極片３１を有する。各電極片３１は、上部電極２０上に想定した四角形Ｆ１の辺（端縁線）に交差する各導線パターン２１０，２２０の一部が選択的に断線されることによって形成されている。具体的に、四角形Ｆ１の辺に交差する導線２１０，２２０のうち、導線２２０は断線され、導線２１０は断線されない。四角形Ｆ１における一方の対角の頂点はそれぞれ、導線２１０上において隣り合う二箇所の第一方向間隙Ｓ１の位置を通る。複数の導線２２０が断線されることにより、四角形Ｆ１の内部に、複数の導線２２０が導線２１０によって互いに導通された一纏まりの領域としての電極片３１が区画されるとともに、各電極片３１が導線２１０によって導通した第一電極列３０が形成される。第一電極列３０は、各導線２１０毎に形成され、第二方向Ｄ２に繰り返し配置される。
　なお、導線の断線部は、実際の寸法よりも大きく強調して図示されている。他の図においても同様である。
　このように複数の導線２２０が断線されることにより、第一電極列３０が形成されるとともに、第一電極列３０と第一電極列３０との間に、すなわち四角形Ｆ１の外側に、他の導線とは導通しておらず電気的に孤立した複数の導線片が形成される。これら一群の導線片をダミー電極３５と総称する。すなわち、図４に示した上部電極２０の導線パターン形成領域（図４にはその一部を図示）は、断線により、第一電極列３０とダミー電極３５とに区画される。なお、ダミー電極３５は、回路の基準電位（ＧＮＤ）に接地されていてもよい。ダミー電極３５の形成により、電極列間の寄生容量が低下するので、隣り合う電極列同士が高周波駆動時に短絡することが防止される。
　以下では、断線された導線のそれぞれの部分の集合のことを断線部ＣＬという。つまり、断線部ＣＬは、個々の導線における断線部分をたどった形状とされる。図５は、断線部ＣＬを太い実線で強調して示した上部電極２０の平面図である。ここで、断線部ＣＬは、導線の一部を除去することによって形成されていてもよいし、予め、同一線上で間隙をおいて導線パターンを形成する導線のパターニングにより形成されていてもよい。
　断線部ＣＬの形状や寸法などの詳細な構成について述べる。断線部ＣＬのパターンは、同一形状でかつ同一面積とされた多角形の形状であることが好ましく、多角形の中でも正方形あるいは菱形が特に好ましい。
　断線部ＣＬの幅（断線長さ）、すなわち断線により分断された結果形成された細線端部と細線端部との間の間隔（断線部ＣＬにおける四角形Ｆ１の端縁線に交差する方向の断線寸法）は、１０μｍ以上であることが好ましい。この断線部ＣＬの幅（断線長さ）の上限は特にないが、パターン設計を煩雑にしないためには、金属細線の間隔(ピッチ)長を上限に、断線部ＣＬの幅を決めることが好ましい。
　図６は、第二電極列５０が形成された状態の下部電極４０の部分拡大平面図である。第二電極列５０は、第二方向Ｄ２に配列された四角形の複数の電極片５１を有する。各電極片５１は、配列方向以外は上述の電極片３１と同様に形成される。すなわち、四角形Ｆ１の辺に交差する導線４１０，４２０のうち導線４１０は断線され、導線４２０は断線されない。これにより、各電極片５１が導線４２０によって導通した第二電極列５０が形成される。図７は、断線部ＣＬを太い破線で強調して示した第二電極列５０の平面図である。
　図８は、図４の上部電極２０と図６の下部電極４０とが重ねられた状態の透視平面図である。上部電極２０と下部電極４０とは、第一電極列３０における電極片３１の配列方向（第一方向Ｄ１）と、第二電極列５０における電極片５１の配列方向（第二方向Ｄ２）とが略直交するように、誘電層１３（図１）を介して重ねられる。このように上部電極２０と下部電極４０とが重ねられた際に、第一電極列３０が下部電極４０側のダミー電極３５に重なり、第二電極列５０が上部電極２０側のダミー電極３５に重なり、第一電極列３０と第二電極列５０とは互いに重ならない。すなわち、第一電極列３０の電極片３１、及び第二電極列５０の電極片５１は、互いに重ならない状態でぎっしりと第一方向Ｄ１及び第二方向Ｄ２に配列される。第一方向間隙Ｓ１と第二方向間隙Ｓ２との交点近傍には、４つの電極片３１，３１，５１，５１がそれぞれの角を突き合わせるようにして配置されている。
　第一方向Ｄ１と第二方向Ｄ２との交差角度と、電極片３１，５１の形状とは相関しており、これらは適宜決められる。閉図形の形状とされる電極片は、菱形、正方形、矩形などの多角形、あるいは円形、楕円形などの形状であってよい。なお、閉図形は、1本以上の線により区画された閉じた空間をその内部に有する図形をいう。
　ここで、上部電極２０と下部電極４０とが重ねられた状態では、上部電極２０の第一方向間隙Ｓ１の位置に第二方向交差帯４２（図３も参照）が配置され、下部電極４０の第二方向間隙Ｓ２の位置に第一方向交差帯２１（図２も参照）が配置される。すなわち、上部電極２０の第一方向交差帯２１は、下部電極４０にそれぞれ形成された第一方向平行帯４１及び第二方向間隙Ｓ２の合計の幅と等しいピッチで配列され、下部電極の第二方向交差帯４２は、第一電極２０にそれぞれ形成された第二方向平行帯２２及び第一方向間隙Ｓ１の合計の幅と等しいピッチで配列されている。
　ここで、導線２２０，２２１，４１０，４２０により、これら導線の互いの交点以外には線の重なり（線太り）が生じていない完全な格子模様が形成される。
　このように第一、第二方向交差帯２１，４２の位置にそれぞれ第二、第一方向間隙Ｓ２，Ｓ１が対応することにより、重ね合わせの際の誤差や導線パターン形状の誤差に対する許容度が高く、導線同士が重なったり、近接したりすることが少ないので、基板の導線パターン形成領域の全体に亘り、均一な格子模様が形成される。すなわち、第１電極２０及び第２電極４０を透視した際に、導線４１０（図３）及び導線２１０（図２）は、互いに一定のピッチＰ２で並び、導線２２０（図２）及び導線４２０（図３）も、互いに一定のピッチＰ１で並ぶ。このように、透明基板上の導線パターン形成領域における導線の面内分布が均一化されるため、導線パターンが規則性のあるムラとして感知されることを防止できる。
　なお、ダミー電極３５は、導線パターンの面内分布の均一化による表示品位の向上と、高周波駆動時の短絡防止との両方に寄与する。このようなダミー電極３５が、隣り合う電極列同士を隔てるため、断線部ＣＬに関しては、高周波駆動時の短絡を考慮しないで、短い断線長さに決めることができる。断線部ＣＬの幅（断線長さ）は、前述したように１０μｍ以上が好適とされていて、現実的には導線間のピッチに対して僅かな寸法に決められるので、断線部ＣＬが目視されることは少ない。部分拡大図である図８では断線部ＣＬが見えたとしても、実際の縮尺では目視されない。
　図９は、タッチパネル１（タッチパネル２，３であってもよい）と、このタッチパネルに積層されるディスプレイ９との概略構成を模式的に示す平面図である。これらのタッチパネル１とディスプレイ９とを備えて画像表示装置が構成されている。
　ディスプレイ９は、多数の画素電極がＸ方向及びＹ方向に配列される矩形状の画像表示部９Ａと、画素電極に導通する不図示の配線が引き出された額縁部９Ｂとを有する。ここで、タッチパネル１の導線パターン形成領域１８に配置された導線２１０，２２０，４１０，４２０の延出方向である第一方向Ｄ１及び第二方向Ｄ２はそれぞれ、画像表示部９Ａの四辺に対して略４５度の傾斜角度を成している。すなわち、第一電極列３０における電極片３１の配列方向（第一方向Ｄ１）及び、第二電極列５０における電極片５１の配列方向（第二方向Ｄ２）はそれぞれ、画像表示部９Ａの四辺の方向つまりは画素電極のＸ方向への配列方向及び画素電極のＹ方向への配列方向のいずれに対しても、略４５度の傾斜角度を成している。
　このように、画素電極の配列方向に対して導線２１０，２２０，４１０，４２０の延出方向が傾斜することにより、タッチパネル１の導線とディスプレイ９の画素電極との光干渉から生じる干渉縞の発生を抑制できる。ここで、画素電極の形状によっては、４５度の前後で、例えば３０度～６０度の範囲で傾斜角度を増減させて、干渉縞の発生が最も少ない傾斜角度に決めればよい。
　以上のように、第一方向Ｄ１及び第二方向Ｄ２が画像表示部９ＡのＸ方向及びＹ方向に対して傾斜するため、タッチ点を示す位置座標の座標軸が画素電極の配列方向に対して傾斜する。ただし、プロセッサーによる演算処理あるいはコンピュータのソフトウエア処理などを利用することにより、第一、第二電極列３０，５０の交差位置をＸＹ座標での位置に変換して、タッチパネル１の座標をディスプレイ９の座標に一致させる座標補正を容易に行うことができる。
　図１０～図１２は、以上説明した例の変形例を示す。図１０は、上部電極２０の要部拡大平面図である。図１１は、下部電極４０の要部拡大平面図である。下部電極４０が形成される透明基板には、上部電極２０における断線部ＣＬ（図１０）に対応する多数の補助細線２５（図１１）が形成されている。補助細線２５は、ダミー電極３５を構成する導線片と導通している。なお、図示を省略するが、上部電極２０が形成される透明基板にも、下部電極４０における断線部ＣＬに対応する多数の補助細線２５が形成されている。これらの補助細線２５が断線部ＣＬを埋めるため、図１２に示す上部電極２０と下部電極４０との透視状態では、導線パターンによる格子模様が、多数の連続した細線により構成されているように見える。
　前述したように、導線間のピッチに比較して断線部ＣＬの幅は僅かな寸法であるため、補助細線２５が形成されていなくても、導線パターンによる完全な格子模様が視認されるが、このように補助細線２５が形成されることで、完全な格子形状がより確実に得られ、断線部ＣＬがより視認され難くなるので好ましい。
　図１３及び図１４は、図１～図９を参照して説明した例の他の変形例を示す。上述した断線部ＣＬの幅は視認されにくい微小幅、例えば５０μｍ以下に設定されるが、この場合でも、電極部分と非導電部分との光透過率の違い、反射率の違い、光沢を含む固有色の違い等により規則性のあるムラとして、断線部ＣＬが感知されうる。本例は、この問題を解決し得る。
　図１３に示した上部電極２０において、電極片を区画する断線部ＣＬは、長さ方向においてその幅（断線寸法）及びその断線位置がランダムに変化するように形成されている。断線部ＣＬの幅は、各導線の断線端部をたどる線をスムージングした線を用いて把握される。ここで、断線部ＣＬを構成する個々の導線は、断線部ＣＬの長手方向に沿った基準線（不図示）に対してほぼ千鳥状となる位置で、かつ断線長さを変えて断線されている。なお、導線は、規則的な千鳥状、つまり基準線の両側に交互に振れる位置で断線されていてもよいが、規則性がわかりにくいように複雑な順序で、あるいは不規則に振れる位置で断線されているほうが、断線部が視認されにくいので好ましい。また、基準線は特に設定されていなくてもよく、例えば、断線部を形成可能な領域の最大の幅寸法が設定され、この最大幅の範囲内のランダムな位置がランダムな幅で断線されていてもよい。
　図示を省略するが、下部電極４０においても、断線部ＣＬの幅及び断線位置が断線部ＣＬの長さ方向においてランダムに変化するように構成されている。
　図１４は、上部電極２０と下部電極４０とを重ね合わせた状態の透視図である。断線部ＣＬの幅及び断線位置がランダムとされることにより、図１３に示した上部電極２０単体でも、断線部ＣＬが視認されにくいが、図１４のような透視状態では、その視認されにくい効果を大きくできる。すなわち、前述の図８のように断線部ＣＬがランダムでない直線状に形成されている場合には、透視状態で並走する上下２層の断線部ＣＬのラインについて視認される虞がないとは言えないが、断線部ＣＬの幅及び断線位置がランダムとされていることによって断線部ＣＬの存在を目立ちにくくできる。
　なお、図１３、図１４のように断線部ＣＬの幅及び断線位置の両方がランダムでなくても、いずれか一方がランダムであることにより、断線部ＣＬを目立たせない効果が得られるが、両方がランダムとされることにより、その効果を大きくできる。また、図１３及び図１４に示した断線部ＣＬの幅及び断線位置は一例に過ぎず、断線部ＣＬのランダムな構成は、断線部ＣＬが規則性のあるムラとして視認されないように、断線部ＣＬの近接する部分同士が同じランダムさとならないように決められるのが好ましい。例えば、透視状態で隣り合う電極片同士の断線長さ及び断線位置のランダムさが同一とならないように決められるのが好ましい。
　更に、上部電極２０と下部電極４０とを重ねた際に規則性が発生しないように、上部電極側の断線部ＣＬにおける断線長さ及び断線位置と、下部電極側の断線部ＣＬにおける断線長さ及び断線位置とが決められるのが好ましい。
　次に、図１５～図２２を参照して、本発明の実施形態を説明するためのタッチパネルの他の例について説明する。本例では、前述した例とは異なる導線パターンを提示する。
　図１５は、電極が形成されていない状態の上部電極１２０の部分拡大平面図である。上部電極１２０が形成される透明基板には、紙面の縦方向である第一方向Ｄ１３と、この第一方向Ｄ１３に直交し、紙面の横方向である第二方向Ｄ２３とのうち第二方向Ｄ２３に沿って平行に延びる複数の導線２２０（横線）と、これらの導線２２０に直交して第一方向Ｄ１３に沿って延びる複数の導線２１０（縦線）とが形成されている。導線の数や、導線の交差角度、導線同士の間隔などが前述した上部電極２０とは異なるが、本例においても、前述した例とほぼ同様に、複数の導線２２０を含む第二方向平行帯２２が第一方向間隙Ｓ１を挟んで繰り返し形成されている。また、導線２１０を含む第一方向交差帯１２１も、前述した第一方向交差帯２１とほぼ同様に形成されている。但し、本例の第一方向交差帯１２１は、２本の導線２１０を含んで形成されている。
　ここで、第二方向平行帯２２の構成については、等間隔に形成された多数の導線２２０から、所々で導線２２０を間引いた構成であることを既に述べたが、第一方向交差帯１２１についてもこれと同様に、等間隔に形成された多数の導線２１０から、所々で導線２１０を間引いた構成であると言える。隣り合う第一方向交差帯１２１と第一方向交差帯１２１との間では、６本の導線２１０が欠落している（間引かれている）。この導線２１０の欠落部分は、導線２２０で構成された第二方向平行帯２２でいうところの、間隙（第一方向間隙Ｓ１）に相当する。このことは、図１～図９を参照して説明した前述例の導線２１０に関しても適用可能であり、前述例（図２参照）における隣り合う第一方向交差帯２１と第一方向交差帯２１との間にも、１本以上の導線２１０が間引かれて形成された間隙が存在すると見ることができる。すなわち、多数の導線から間引くことは導線２１０，２２０に共通する構成である。
　図１６は、電極列が形成されていない状態の下部電極１４０の部分拡大平面図である。電極列が形成されていない状態では、下部電極１４０の導線パターンと、図１５の上部電極１２０の導線パターンとは同一であるが、上部電極１２０及び下部電極１４０が重ねられる際のそれぞれの向きが９０度相違するため、図１６は図１５に対して９０度回転させた状態に示される。
　このため、上部電極１２０には第二方向Ｄ２３に延びる第二方向平行帯２２が形成されるのに対して、下部電極１４０には第一方向Ｄ１３に延びる第一方向平行帯４１が形成されている。また、上部電極１２０には第一方向Ｄ１３に延びる第一方向交差帯１２１が形成されるのに対して、下部電極１４０には第二方向Ｄ２３に延びる第二方向交差帯１４２が形成されている。
　図１７は、第一電極列１３０が形成された状態の上部電極１２０の部分拡大平面図である。図１８は、断線部ＣＬを太い実線で示した上部電極１２０の平面図である。
　第一電極列１３０は、第一方向Ｄ１３に配列された四角形の複数の電極片１３１を有する。各電極片１３１は、上部電極１２０上に想定した菱形Ｆ３の辺（端縁線）に交差する各導線パターン２１０，２２０の一部が選択的に断線されることによって形成されている。具体的に、菱形Ｆ３の辺と導線２２０との交点が断線され、菱形Ｆ３の辺と導線２１０との交点は断線されない。つまり、電極片１３１の区画に際して断線されない導線２１０から構成される非断線部ＮＣは、２本の導線２１０により形成されている。菱形Ｆ３における一方の対角の頂点はそれぞれ、第一方向交差帯１２１上において隣り合う二箇所の第一方向間隙Ｓ１の位置を通る。複数の導線２２０が断線されることにより、菱形Ｆ３の内部に電極片１３１が区画されるとともに、各電極片１３１が非断線の２本の導線２１０によって導通した第一電極列１３０が形成される。第一電極列１３０は、第一方向交差帯１２１毎に形成され、第二方向Ｄ２３に繰り返し配置される。
　なお、隣り合う第一電極列１３０，１３０の間には、他の導線とは導通しておらず電気的に孤立したダミー電極１３５が形成されている。
　図１９は、第二電極列１５０が形成された状態の下部電極１４０の部分拡大平面図である。図２０は、断線部ＣＬを太い破線で示した下部電極１４０の平面図である。
　第二電極列１５０は、第二方向Ｄ２３に配列された四角形の複数の電極片１５１を有する。各電極片１５１は、配列方向以外は上述の電極片１３１と同様に形成される。すなわち、菱形Ｆ３の辺に交差する導線４１０，４２０のうち導線４１０は断線され、導線４２０は断線されない。これにより、各電極片１５１が２本の導線４２０によって導通した第二電極列１５０が形成される。
　図２１は、図１７の上部電極１２０と図１９の下部電極１４０とが重ねられた状態の透視平面図である。上部電極１２０と下部電極１４０とは、第一電極列１３０における電極片１３１の配列方向（第一方向Ｄ１３）と、第二電極列１５０における電極片１５１の配列方向（第二方向Ｄ２３）とが略直交するように、誘電層１３（図１）を介して重ねられる。このように上部電極１２０と下部電極１４０とが重ねられると、上部電極１２０の第一方向間隙Ｓ１の位置に下部電極１４０の第二方向交差帯１４２（図１９）が配置され、下部電極１４０の第二方向間隙Ｓ２の位置に上部電極１２０の第一方向交差帯１２１（図１７）が配置される。そして、第一電極列１３０と第二電極列１５０とは互いに重ならず、これら電極列１３０，１５０がそれぞれ有する電極片３１及び電極片５１は、互いに重ならない状態でぎっしりと第一方向Ｄ１３及び第二方向Ｄ２３に配列される。第一方向間隙Ｓ１と第二方向間隙Ｓ２との交点近傍には、４つの電極片１３１，１３１，１５１，１５１がそれぞれの角を突き合わせるようにして配置されている。
　本例においても、導線２１０，２２０，４１０，及び４２０の互いの交点以外には線の重なりが生じていない完全な格子模様が形成される。
　図２２は、上記の上部電極１２０及び下部電極１４０を備えるタッチパネル１００及びディスプレイ９の概略構成を示す平面図である。ディスプレイ９の画像表示部９ＡのＸ方向に対して、導線２１０，４１０の延出方向と同じ第一方向Ｄ１３は平行であり、導線２２０，４２０の延出方向と同じ第二方向Ｄ２３は直交する。また、画像表示部９ＡのＹ方向に対して、導線２２０，４２０の延出方向と同じ第二方向Ｄ２３は平行であり、導線２１０，４１０の延出方向と同じ第一方向Ｄ１３は直交する。この構成から、タッチパネル１００座標の座標軸と、ディスプレイ１座標のＸＹ座標軸とが一致するので、座標補正処理を必要とすることなく、タッチ点の位置算出を容易に行える。この構成においては、細線のピッチをディスプレイ９の遮光部であるブラックマトリックスの整数倍にし、細線をブラックマトリックスに重ねるようにすることが好ましい。これにより、モアレの発生を防ぐことができるとともに、タッチパネル１００及びディスプレイ９を透視した際の光透過率の低下（ディスプレイ画面の明るさの低下）も防ぐことができる。なお、モアレの強度を弱くするため、各導線の線幅を十分に小さくすることが好ましい。
　次に、図２３～図３０を参照して、本発明の実施形態を説明するためのタッチパネルの他の例について説明する。本例では、前述した例とは異なる導線パターンを提示する。
　図２３は、電極が形成されていない状態の上部電極６０の部分拡大平面図である。上部電極６０が形成される透明基板には、前述の上部電極２０（図２）とほぼ同様に、第一方向Ｄ１２と、これに交差する第二方向Ｄ２２とのうち第二方向Ｄ２２に沿って平行に延びる複数の導線２２０と、これらの導線２２０に交差して第一方向Ｄ１２に沿って延びる複数の導線２１０とが形成されている。導線の数や、導線の交差角度、導線同士の間隔などが前述した上部電極２０とは異なるが、本例においても、複数の導線２２０を含む第二方向平行帯２２と、導線２１０により構成される第一方向交差帯２１とが前述の例とほぼ同様に形成されている。
　図２４は、電極列が形成されていない状態の下部電極８０の部分拡大平面図である。下部電極８０が形成される透明基板には、図２３の上部電極６０の導線パターンとは鏡像の関係となる導線パターンが形成される。上部電極６０の導線パターンと下部電極８０の導線パターンとは、図２３、図２４の上下方向を綴じ方向としたときに互いに鏡像の関係にある。すなわち、紙面の上下方向に延びる中心線を設定したときに、その中心線に関して線対称に形成されている。
　上部電極６０と下部電極８０とは、導線パターンを相互に９０度付近の角度で回転させた状態で重ねられるので、上部電極６０には第二方向Ｄ２２に延びる複数の導線２２０を含む第二方向平行帯２２が形成されるのに対して、下部電極８０には第一方向Ｄ１２に延びる複数の導線４１０を含む第一方向平行帯４１が形成されている。また、上部電極６０には第一方向Ｄ１２に延びる導線２１０が形成されるのに対して、下部電極８０には第二方向Ｄ２２に延びる導線４２０が形成されている。
　図２５は、第一電極列７０が形成された状態の上部電極６０の部分拡大平面図である。図２６は、断線部ＣＬを太い実線で示した上部電極６０の平面図である。
　第一電極列７０は、第一方向Ｄ１２と第二方向Ｄ２との両方に交差する方向に配列された四角形の複数の電極片７１を有する。各電極片７１は、上部電極６０上に想定した四角形Ｆ２の辺（端縁線）に交差する各導線パターン２１０，２２０の一部が選択的に断線されることによって形成されている。
　四角形Ｆ２は、上部電極６０が形成される基板上の点Ｐｓ１と、この一点Ｐｓ１から第一方向Ｄ１２及び第二方向Ｄ２２の両方に交差する第三方向Ｄ３に離間する基板上の他の点Ｐｓ２とを通る。この四角形Ｆ２の辺と導線２１０との交差点が断線されるとともに、点Ｐｓ１及び点Ｐｓ２のそれぞれの近傍部分（非断線部ＮＣ）を除いて、四角形Ｆ２の辺と導線２２０との交差点も断線される。これにより、四角形Ｆ２の内部に電極片７１が区画されるとともに、各電極片７１が非断線部ＮＣによって導通した第一電極列７０が形成される。非断線部ＮＣは、導線２２０の一部を含んで構成されている。
　隣り合う電極片７１同士は、第三方向Ｄ３と直交する第四方向Ｄ４における位置が寸法Ｐ３だけ相違する。その結果、電極片７１の配列方向は、第三方向Ｄ３と、第四方向Ｄ４の寸法Ｐ３とが合成された第五方向Ｄ５となる。
　なお、隣り合う第一電極列７０，７０の間には、他の導線とは導通しておらず電気的に孤立したダミー電極６５が形成されている。
　図２７は、第二電極列９０が形成された状態の下部電極８０の部分拡大平面図である。図２８は、断線部ＣＬを太い破線で示した下部電極８０の平面図である。
　第二電極列９０は、第一方向Ｄ１２、第二方向Ｄ２２、第三方向Ｄ３、及び第四方向Ｄ４のいずれにも交差する方向に配列された四角形の複数の第二電極片９１を有する。各第二電極片９１は、配列方向以外は上述の電極片７１と同様に形成される。すなわち、四角形Ｆ２は、基板上の点Ｐｓ１と、この一点Ｐｓ１から第一方向Ｄ１２、第二方向Ｄ２２、及び第三方向Ｄ３のいずれにも交差する第四方向Ｄ４に離間する基板上の他の点Ｐｓ２とを通る。四角形Ｆ２の辺と導線４２０との交差点が断線されるとともに、点Ｐｓ１及び点Ｐｓ２のそれぞれの近傍部分である非断線部ＮＣを除いて、四角形Ｆ２の辺と導線４１０との交差点も断線される。隣り合う電極片９１同士は、第三方向Ｄ３における位置が寸法Ｐ３だけ相違する。その結果、電極片９１の配列方向は、第四方向Ｄ４と、第三方向Ｄ３の寸法Ｐ３とが合成された第六方向Ｄ６となる。
　図２９は、図２５の上部電極６０と図２７の下部電極８０とが重ねられた状態の透視平面図である。断線部ＣＬを太線で示している。上部電極６０と下部電極８０とは、第一電極列７０における電極片７１の配列方向（第五方向Ｄ５）と、第二電極列９０における電極片９１の配列方向（第六方向Ｄ６）とが直交するように、誘電層１３（図１）を介して重ねられる。このように上部電極６０と下部電極８０とが重ねられると、上部電極６０の第一方向間隙Ｓ１の位置に下部電極８０の導線４２０（図１４）が配置され、下部電極４０の第二方向間隙Ｓ２の位置に上部電極６０の導線２１０（図１３）が配置される。そして、第一電極列７０と第二電極列９０とは互いに重ならず、第一電極列３０の電極片３１及び第二電極列５０の電極片５１は、互いに重ならない状態でぎっしりと第一方向Ｄ１２及び第二方向Ｄ２２に配列される。上部電極６０における非断線部ＮＣと、下部電極８０における非断線部ＮＣとの交点近傍には、４つの電極片７１，７１，９１，９１がそれぞれの角を突き合わせるようにして配置されている。
　本例においても、導線２１０，２２０，４１０，及び４２０の互いの交点以外には線の重なりが生じていない完全な格子模様が形成される。
　図３０は、上記の第一、第二電極６０，８０を備えるタッチパネル１０１及びディスプレイ９の概略構成を示す平面図である。画像表示部９ＡのＸ方向に対して、第五方向Ｄ５は平行であり、第六方向Ｄ６は直交する。また、画像表示部９ＡのＹ方向に対して、第六方向Ｄ６は平行であり、第五方向Ｄ５は直交する。この構成から、タッチパネル１０１の座標の座標軸と、ディスプレイ９の座標のＸＹ座標軸とが一致するので、座標補正処理が必要となることなく、タッチ点の位置算出を容易に行える。
　このとき、各導線の延出方向である第一方向Ｄ１及び第二方向Ｄ２は、画素電極の配列方向であるＸ方向及びＹ方向の両方に対して傾斜した角度を成す。これにより、タッチパネル１の金属細線と画素電極の構造の外形や内部構造などの形状をなす辺（エッジ）とが平行関係となったり平行に近い角度に近接することが回避されるので、干渉縞の発生を抑制できる。
　図３１～図３４を参照して、本発明の実施形態を説明するための抵抗膜方式タッチパネルの例について説明する。
　図３１は、本発明の抵抗膜方式タッチパネルの一例の断面図を模式的に示す。タッチパネル１０２は、指先やペンなどによってタッチされる側に配置される第一電極としての上部電極３２０と、この上部電極３２０に重ねられて、画像表示装置としてのディスプレイ９（図９）側に配置される第二電極としての下部電極３４０とを備える。絶縁性の透明基板１２に形成された下部電極３４０と、可撓性の絶縁性透明フィルム１６に形成された上部電極３２０とは、下部電極３４０上に形成された平面視ドット状に点在する絶縁性のスペーサ１７を介在させた状態で、それぞれの四辺に沿って設けられた接着層ＡＤによって、貼り合わせられる。
　図３２は、上部電極３２０の模式平面図である。上部電極３２０が形成される透明フィルム１６には、紙面の横方向である第二方向Ｄ２３に沿って平行に延びる複数の導線２２０（横線）と、これらの導線２２０に直交して第一方向Ｄ１３に沿って延びる複数の導線２１０（縦線）とが形成されている。ここで、図３２～図３４では、理解の容易さのために導線の数を実際よりも少なく図示している。実際の導線数は、タッチパネルの実用的な位置検出精度が得られる本数に決められる。本例においても、前述した例とほぼ同様に、複数の導線２２０を含む第二方向平行帯２２が第一方向間隙Ｓ１を挟んで繰り返し形成されている。また、導線２１０を含む第一方向交差帯２１も、前述した第一方向交差帯２１と同様に形成されている。
　上部電極３２０が形成される透明フィルムの第一方向Ｄ１３両端部には、一対の上部電極バスバー１９１，１９１が第一方向Ｄ２３にそれぞれ沿って延出するように形成されている。第一方向交差帯２１の導線２１０は、その両端でこれら上部電極バスバー１９１，１９１に接合され、導通している。バスバー１９１，１９１は、図示しない直流電源に接続され、バスバー１９１，１９１間には、例えば数Ｖの電圧が印加されるようになっている。
　なお、バスバー１９１，１９１としては、金、銀、銅、ニッケルなどの金属あるいはカーボンなどの導電性を有するペーストを用いることができる。バスバー１９１，１９１の形成方法としては、スクリーン印刷、オフセット印刷、グラビア印刷、フレキソ印刷などの印刷法、フォトレジスト法、刷毛塗法などがある。
　本例の導線パターンには、上述の各例のように断線部が形成されておらず、本例の導線パターンは複数の電極片、あるいはこれを連ねた電極列には区画されていない。すなわち、互いに格子状に交差する導線２１０，２２０は互いに導通して一つの電極を形成する。
　図３３は、下部電極３４０の模式平面図である。下部電極３４０の導線パターンは、図３２の上部電極３２０の導線パターンと同一であり、図３３は図３２に対して９０度回転させた状態に示されている。
　このため、下部電極３４０には第一方向Ｄ１３に延びる第一方向平行帯４１と、第二方向Ｄ２３に延びる第二方向交差帯４２とがそれぞれ形成されている。
　下部電極３４０が形成される透明基板の第二方向Ｄ２３両端部には、一対の下部電極バスバー１９２，１９２が第一方向Ｄ１３にそれぞれ沿って延出するように形成されている。第二方向交差帯４２の導線４２０は、その両端でこれら下部電極バスバー１９２，１９２に接合され、導通している。これら下部電極バスバー１９２，１９２は、上部電極バスバー１９１，１９１と同様に形成され、図示しない直流電源によって例えば数Ｖの電圧が印加される。
　また、図３３には図示を省略したが、下部電極３４０には、多数の絶縁性のスペーサー１７（図３１）がドット状に点在するように形成される。これらのスペーサー１７は、上部電極３２０に向かって突出しており、これによって上部電極３２０と下部電極３４０とが接触せずに、上部電極３２０と下部電極３４０との間に空間が形成される。なお、スペーサー１７は、上部電極３２０に形成されていてもよい。
　スペーサー１７は、メラミンアクリレート樹脂、ウレタンアクリレート樹脂、エポキシアクリレート樹脂、メタアクリルアクリレート樹脂、アクリルアクリレート樹脂などのアクリレート樹脂、ポリビニールアルコール樹脂などの透明な光硬化型樹脂をフォトプロセスで微細なドット状に形成して得ることができる。また、印刷法により微細なドットを多数形成してスペーサーとすることもできる。
　図３４は、図３２の上部電極３２０と図３３の下部電極３４０とが重ねられた状態の透視平面図である。なお、本図において、スペーサー１７及び接着層ＡＤの図示は省略している。このように上部電極３２０と下部電極３４０とが重ねられると、上部電極３２０の第一方向間隙Ｓ１の位置に下部電極３４０の第二方向交差帯４２（図３３）が配置され、下部電極３４０の第二方向間隙Ｓ２の位置に上部電極３２０の第一方向交差帯２１（図３２）が配置される。これにより、導線２１０，２２０，４１０，及び４２０の互いの交点以外には線の重なりが生じていない完全な格子模様が形成される。
　このような構成のタッチパネル１０２では、指やペンなどにより、上部電極３２０の裏面（上部電極３２０が形成される透明フィルム１２のタッチ側の面）をタッチすると、スペーサー１７がない位置（タッチ位置）で上部電極３２０と下部電極３４０とが接触して導通する。この際、上部電極３２０のバスバー１９１，１９１間への電圧印加時における第一方向Ｄ１３の電圧勾配に基づいてタッチ位置のＸ座標が測定されるとともに、下部電極３４０のバスバー１９２，１９２間への電圧印加時における第二方向Ｄ２３の電圧勾配とに基づいてタッチ位置のＹ座標が測定される。具体的に、Ｘ座標測定時には下部電極３４０には電圧印加されず、タッチ位置での接触導通による上部電極バスバー１９１，１９１間の印加電圧の分圧が下部電極３４０のバスバー１９２，１９２間の電位として出力される。また、Ｙ座標測定時には上部電極３２０には電圧印加されず、タッチ位置での接触導通による下部電極バスバー１９２，１９２間の印加電圧の分圧が上部電極３２０のバスバー１９１，１９１間の電位として出力される。これら分圧とバスバー間の距離、及びバスバー間の印加電圧とから、タッチ位置のＸＹ座標がそれぞれ測定される。
　本例においても、図１５～図２２を参照して説明した例と同様に、タッチパネルの座標とディスプレイの座標とが一致するので、座標変換を不要にできる。
　なお、上部電極３２０の導線パターン形成領域に形成されたすべての導線２１０の合計の電気抵抗、及び下部電極３４０の導線パターン形成領域に形成されたすべての導線４２０の合計の電気抵抗はそれぞれ、１００Ωから５ｋΩの範囲にあることが好ましく、２００Ωから２ｋΩであることが特に好ましい。
　また、上部電極バスバー１９１，１９１、及び下部電極バスバー１９２，１９２のそれぞれは、導線パターン形成領域であるタッチセンサー領域の外側にあって、図示しないディスプレイ窓枠部などによって操作者からは視認されない位置に隠されている。このため、バスバー１９１，１９２の線幅は導線よりも十分に大きくできるので、タッチ位置検出時のバスバーによる電位降下は無視できる。
　本例では、４線式の抵抗膜方式によるタッチパネル１０２を示したが、この他、５線式、６線式、７線式、８線式などの抵抗膜方式にも本発明は適用可能である。
　以上で説明した上部電極及び下部電極のそれぞれの導線パターンを形成することのできる導電性材料と電極形成方法について以下の[1]で説明する。
[1]　上部電極及び下部電極はそれぞれ、導電性細線による電極であり、低抵抗である導電性の高い金属又は合金を用いることが好ましい。このような金属としては、例えば、銅、銀、金、白金、パラジウム、ニッケル、錫、アルミニウム、コバルト、ロジウム、イリジウム、鉄、ルテニウム、オスミウム、マンガン、モリブデン、タングステン、ニオブ、タンテル、チタン、ビスマス、アンチモン、鉛などをあげることができる。これらの中で導電性に優れる点で、銅、銀、金、白金、パラジウム、ニッケル、錫、アルミニウム、及びこれらとの合金が好ましい。ここで、上部電極及び下部電極には、特に比抵抗が類似の材料が用いられることが好ましい。上部電極及び下部電極は、基本的には同じ導電材料により形成されるが、異なる導電性材料により形成されていてもよい。
　これらの金属あるいは合金での電極形成には、以下の形態[2]～[4]の利用ができる。
[2]　金属箔、あるいは薄膜としての利用。薄膜として利用するには、まず、基材上に上記の金属あるいは合金を、真空蒸着法、スパッターリング法、イオンプレーティング法などによって、あるいは鍍金法や金属箔の貼り合わせなどで金属薄膜を形成する。次いでこの金属薄膜に以下のパターニングを施して電極を形成する。上記パターンをフォトエッチングにより形成する場合、金属薄膜上にフォトレジスト膜を形成しフォトマスクを用いて露光し、現像液で現像することによりレジスト膜のパターンを形成する。これをエッチング液によりエッチングし、レジスト膜を剥離除去することにより細線金属線からなるパターンを形成する。あるいは、印刷レジストにより形成する場合は、金属薄膜上にスクリーン印刷、グラビア印刷、インクジェット等の方法でレジスト膜のパターンを印刷し、エッチング液により金属薄膜におけるレジスト被覆部以外をエッチングし、レジスト膜を剥離することにより金属細線のパターンを形成する。 
[3]　導電性のナノ粒子を含むインク（又はペースト）によって上記のパターンを印刷する方法である。導電性ナノ粒子は、上記の金属の微粒子の他にカーボンを用いてもよい。導電性ナノ粒子は金、銀、パラジウム、白金、銅、カーボン、又はそれらの混合物を含む粒子が好ましい。ナノ粒子の平均粒径は２μ以下、好ましくは200から500ｎｍであり、従来のミクロン粒子よりも粒径が小さいものがパターンを形成する上で好ましい。パターン印刷には、スクリーン印刷法又はグラビア印刷法が用いられる。
　インク（又はペースト）が含む導電材料は、金属粒子でなく、導電性繊維であってもよい。本件においては、導電性繊維には、金属ワイヤー、ナノワイヤーと呼ばれる繊維状の物質、中空構造のチューブ、ナノチューブを含めて呼称する。金属ナノワイヤーの平均短軸長さ（「平均短軸径」、「平均直径」と称することがある）としては、１００ｎｍ以下が好ましく、１ｎｍ～５０ｎｍがより好ましく、１０ｎｍ～４０ｎｍが更に好ましく、１５ｎｍ～３５ｎｍが特に好ましい。導電性繊維を用いて導電層を形成する場合には、例えば、特開2009-215594、特開2009-242880、特開2009-299162、特開2010-84173、特開2010-87105、特開2010-86714に開示の技術を組み合わせて形成することができる。
[4]　写真に用いられるハロゲン化銀写真感光材料を用い、この材料にパターン露光を施した後に現像、定着処理をし、現像銀による導電性の細線パターンを得る方法である。本発明における導電性の細線パターンを得る方法には、感光材料と現像処理の形態によって、次の３通りの形態が含まれる。(a)　物理現像核を含まない感光性ハロゲン化銀黒白感光材料を化学現像又は熱現像して金属銀部を該感光材料上に形成させる態様。(b)　物理現像核をハロゲン化銀乳剤層中に含む感光性ハロゲン化銀黒白感光材料を溶解物理現像して金属銀部を該感光材料上に形成させる態様。(c)　物理現像核を含まない感光性ハロゲン化銀黒白感光材料と、物理現像核を含む非感光性層を有する受像シートを重ね合わせて拡散転写現像して金属銀部を非感光性受像シート上に形成させる態様。
　上記(a)の態様は、一体型黒白現像タイプであり、感光材料上に光透過性導電膜等の透光性導電性膜が形成される。得られる現像銀は化学現像銀又は熱現像銀であり、高比表面のフィラメントである点で後続するめっき又は物理現像過程で活性が高い。
　上記(b)の態様は、露光部では、物理現像核近縁のハロゲン化銀粒子が溶解されて現像核上に沈積することによって感光材料上に光透過性導電性膜等の透光性導電性膜が形成される。これも一体型黒白現像タイプである。現像作用が、物理現像核上への析出であるので高活性であるが、現像銀は比表面の小さい球形である。
　上記(c)の態様は、未露光部においてハロゲン化銀粒子が溶解されて拡散して受像シート上の現像核上に沈積することによって受像シート上に光透過性導電性膜等の透光性導電性膜が形成される。いわゆるセパレートタイプであって、受像シートを感光材料から剥離して用いる態様である。
　いずれの態様もネガ型現像処理及び反転現像処理のいずれの現像を選択することもできる（拡散転写方式の場合は、感光材料としてオートポジ型感光材料を用いることによってネガ型現像処理が可能となる）。
　ここでいう化学現像、熱現像、溶解物理現像、拡散転写現像は、当業界で通常用いられている用語どおりの意味であり、写真化学の一般教科書、例えば菊地真一著「写真化学」（共立出版社、１９５５年刊行）、Ｃ．Ｅ．Ｋ．Ｍｅｅｓ編「Ｔｈｅ　Ｔｈｅｏｒｙ　ｏｆ　Ｐｈｏｔｏｇｒａｐｈｉｃ　Ｐｒｏｃｅｓｓｅｓ，　４ｔｈ　ｅｄ．」（Ｍｃｍｉｌｌａｎ社、１９７７年刊行）に解説されている。本件は液処理に係る発明であるが、その他の現像方式として熱現像方式を適用する技術も参考にすることができる。例えば、特開２００４－１８４６９３号、同２００４－３３４０７７号、同２００５－０１０７５２号の各公報、特願２００４－２４４０８０号、同２００４－０８５６５５号の各明細書に記載された技術を適用することができる。
　また、本発明に用いる材料と導電性パターンの製法については、電磁波シールド膜の発明である特開２００６－３５２０７３号の記載と技術、静電容量方式のタッチパネルの発明である特願２００９－２６５４６７号の記載と技術を用いることができる。
　なお、上部電極及び下部電極にそれぞれ使用される導電性材料が光透過性を有している必要はないが、光透過性のある導電性材料もまた、上部電極及び下部電極のそれぞれに使用可能である。光透過性のある導電性材料としては、導電性ポリマーや一部の金属酸化物を挙げることができるが耐久性、耐候性の点で金属酸化物が用いられる。透明金属酸化物としては、インジウムスズ酸化物（ＩＴＯ）、アンチモンドープスズ酸化物（ＡＴＯ）、酸化スズ、アルミニウムドープの亜鉛酸化物（ＺｎＯ：Ａｌ）、インジウム亜鉛酸化物（Ｉｎ2Ｏ3－ＺｎＯ（ＩＺＯ））などをあげることができる。本発明では、下部電極を形成する電極片として上記の透明酸化物を用いることができ、上記の酸化物のうち、抵抗値、透明性、膜の形成のしやすさの観点から、ＩＴＯやＩＺＯが好ましく用いられる。ＩＴＯやＩＺＯの薄膜の形成には、スパッタ法、電子ビーム法やイオンプレーティング法などが用いられる。
　上部電極及び下部電極には、上記[1]以下に例示したすべての材料を使用できる。
　ここで、電極形成材料として、金属箔、あるいは薄膜としての利用（上記[2]）の場合の形成方法を図３５を参照しながら説明する。図３５は、上部電極（図４、図１７、図２５等）の形成方法を示すが、下部電極も上部電極と同様に形成される。
　図３５の（ａ）は絶縁層を兼ねる透明基体１６０（図１の透明基板１１又は透明基板１２に相当）であり、たとえば約１００μｍのＰＥＴフィルムである。このフィルムの表面を清浄化し、次いでこのフィルムの表面に、金属あるいは合金の薄層２００を設ける（図３５の（ｂ））。金属は上記[2]に記載した材料を用いることができるが、銀、銅、アルミニウムあるいはこれらの合金が好ましく用いられる。薄層の形成方法にはスパッタ法などが用いられるが、他の方法であってもよい。形成した金属の薄層の厚みは、所望の抵抗値により適宜調整することができるが、０．１μｍ以上３μｍ以下が好ましく、０．２μｍ以上１μｍ以下がより好ましい。
　次に上記で形成した金属薄膜２００上にフォトレジスト膜を形成しフォトマスクを用いて露光し、現像液で現像することによりレジスト膜のパターンを形成する。これをエッチング液によりエッチングし、レジスト膜を剥離除去することにより金属細線からなる導線パターン２０１を形成する（図３５の（ｃ））。このようなフォトリソグラフィー及びエッチングによるパターニング工程により、図４、図１７、図２５にそれぞれ示したような、断線部ＣＬを有する上部電極の導線パターンが形成される。下部電極の導線パターンも、上部電極の導線パターンと同様に形成される。
　次に、上記で形成された導線パターンに設けられる被覆層の形成について述べる。なお、この被覆層は形成されていなくてもよい。この被覆層を黒化層と呼ぶ。黒化層は、金属あるいは合金の金属光沢を目立たなくする視覚的機能と、金属の防錆、マイグレーション防止による耐久性向上の機能を持つ。この黒化層(被覆層)の材料については以下で別途説明する。黒化層(被覆層)の厚みは、５μｍ以下が好ましく、３μｍ以下がより好ましく、０．２μｍ以上２μｍ以下が特に好ましい。
　図３５の（ｄ）のように、導線パターン２０１及び透明基体１６０表面の全体を被覆する黒化層１７０を形成した後、この黒化層１７０の電極細線を被覆していないパターン形成領域上の黒化層部分を除去し、導線パターン２０１のみを被覆する黒化層１７１を形成する（図３５の（ｅ））。これにより、視認性、耐久性に優れた導線パターン電極を形成することができる
　次に上記の黒化層(被覆層)の形成材料と形成方法について説明する。黒色層の好適な積層方法の例としては、メッキ処理とケミカルエッチング法を挙げることができる。 
　メッキ処理としては公知の黒色メッキと呼ばれるものであれば何でも使用して良く、黒色ｎｉメッキ、黒色Ｃｒメッキ、黒色Ｓｎ－ｎｉ合金メッキ、Ｓｎ－ｎｉ－Ｃｕ合金メッキ、黒色亜鉛クロメート処理等が例として挙げられる。具体的には、日本化学産業（株）製の黒色メッキ浴（商品名、ニッカブラック、Ｓｎ－ｎｉ合金系）、（株）金属化学工業製の黒色メッキ浴（商品名、エボニ－クロム８５シリ－ズ、Ｃｒ系）、ディップソール（株）性クロメート剤（商品名、ＺＢ－５４１、亜鉛メッキ黒色クロメート剤）を使用することができる。メッキ法としては無電解メッキ、電解メッキのどちらの方法でも良く、緩やかな条件であっても高速メッキであっても良い。メッキ厚みは黒色として認知できれば厚みは限定されないが、通常のメッキ厚みは１μｍ～５μｍが好適である。 
　導電性金属部の一部を酸化処理若しくは硫化処理して黒色部を形成することもできる。例えば導電性金属部が銅である場合、銅表面の黒化処理剤の例としては、メルテックス（株）製、商品名エンプレートＭＢ４３８Ａ，Ｂ、三菱瓦斯化学（株）製、商品名ｎＰＥ－９００、メック（株）製、商品名メックエッチボンドＢＯ－７７７０Ｖ、アイソレ－ト化学研究所製、商品名コパ－ブラックＣｕＯ、同ＣｕＳ、セレン系のコパ－ ブラックｎｏ．６５等を使用することができる。上記の他には例えば、硫化物を処理して硫化水素（Ｈ２Ｓ）を発生させ、銅の表面を硫化銅（ＣｕＳ）として黒化することももちろん可能である。これらの処理は黒色として認知できれば厚みは限定されないが、通常３μｍ以下が好ましく、０．２μｍ～２μｍが更に好ましい。
　導電性のナノ粒子を含むインク（又はペースト）を用いる場合（上記[3]）には、絶縁層を兼ねる透明基体層に、上記のパターンを直接印刷することができる。
　次に、電極形成材料として、写真に用いられるハロゲン化銀写真感光材料を用いる場合（上記の[4]）について図３６を用いて説明する。図３６は、上部電極（図４、図１７、図２５等）の形成方法を示すが、下部電極も上部電極と同様に形成される。
　なお、本発明に用いるハロゲン化銀写真感光材料については、現像銀による細線パターンを用いた電磁波シールド膜の発明である特開２００６－３５２０７３号に詳細に説明されている。
　図３６（ａ）は絶縁層を兼ねる透明基体１６０であり、たとえば約１００μｍのＰＥＴフィルムである。このフィルムの表面を清浄化し、次いでこのフィルムの表面に、ハロゲン化銀写真感光材料の薄層２５０を設ける（図３６の（ｂ））。ハロゲン化銀写真感光材料には、光センサーとしての特性に優れるハロゲン化銀、ゼラチンなどのバインダー、塗布助剤や感度調整用の各種添加剤が含まれる。塗布銀量（銀塩の塗布量）は、銀に換算して１～３０ｇ／ｍ2が好ましく、１～２５ｇ／ｍ2がより好ましく、５～２０ｇ／ｍ2が更に好ましい。塗布銀量を上記範囲とすることで、露光、現像処理後の導電シートが所望の表面抵抗を得ることができる。薄膜の形成は、写真材料の製造に用いられる多層塗布機を用いることが好ましい。
　次に上記のハロゲン化銀写真感光材料の薄層２５０に導電性の細線を形成するためにパターン状の露光を施す。図３６（ｃ）では露光により感光核が生成された領域を２５１で示した。この露光済みのフィルムに現像定着処理を施した後のフィルムを図３６（ｄ）で表した。２５２は現像により感光核周辺に形成された銀の集合体を表し、２５３は感光しなかったハロゲン化銀写真感光材料部分に含まれる銀塩などが定着処理により層外に除かれ透明な膜となった状態を表している。このようにして現像銀による細線パターンを形成することができる。
　以上説明したように、本明細書には、
　第一方向と、前記第一方向に交差する第二方向とのうち第二方向に沿って互いに平行に延びる複数の導線が配置された第二方向平行帯が前記第一方向の第一方向間隙を挟んで前記第一方向に繰り返し形成され、かつ前記第一方向に沿って延びて前記第二方向平行帯に交差する導線が配置された第一方向交差帯が前記第二方向に繰り返し形成された第一電極と、
　前記第一方向に沿って互いに平行に延びる複数の導線が配置された第一方向平行帯が前記第二方向の第二方向間隙を挟んで前記第二方向に繰り返し形成され、かつ前記第二方向に沿って延びて前記第一方向平行帯に交差する導線が配置された第二方向交差帯が前記第一方向に繰り返し形成された第二電極と、を備え、
　前記第一方向間隙の位置に前記第二方向交差帯が対応し、前記第二方向間隙の位置に前記第一方向交差帯が対応するように、前記第一電極と前記第二電極とが互いに重ねられることを特徴とするタッチパネルが開示されている。
　このタッチパネルによれば、第一電極と第二電極とを重ね合わせる際の誤差や、導線の形状誤差に対する許容度が大きく、重ね合わせが少々ずれていたり導線の形状にバラツキがあったとしても線太りや干渉縞が生じにくいので、導線の格子形状に違和感を感じない新規な導線パターンを歩留まり良く、安価に得られる。また、導線の間隔（ピッチ）を狭くしても線太りや干渉縞が生じにくいことから、導線の配置密度を高くして接触の検知感度を向上させることが可能となる。
　なお、導線パターンとして低抵抗の金属細線を採用し得ることで良好な応答性が得られるため、大画面や高精細のディスプレイに対応するタッチパネルを提供できる。
　また、本明細書に開示されたタッチパネルにおいては、
　前記第一電極及び前記第二電極を透視したとき、
　前記第一方向平行帯及び前記第一方向交差帯のそれぞれに含まれる各導線は、互いに一定間隔で並び、
　前記第二方向平行帯及び前記第二方向交差帯のそれぞれに含まれる各導線は、互いに一定間隔で並び、
　前記第一方向平行帯、前記第二方向平行帯、前記第一方向交差帯、及び前記第二方向交差帯により、均一な格子模様が形成される。
　このタッチパネルによれば、導線パターンが形成される透明基体上の面内導線分布が均一化されるので、導線パターンを極力視認されないようにできる。
　また、本明細書に開示されたタッチパネルにおいては、
　前記第一方向平行帯を構成する導線及び前記第二方向平行帯を構成する導線のそれぞれの数は３本以上であり、
　前記第一方向交差帯を構成する導線及び前記第二方向交差帯を構成する導線のそれぞれの数は１本以上１０本以下であって、前記第一方向平行帯を構成する導線及び前記第二方向平行帯を構成する導線のそれぞれの数よりも少ない。
　このタッチパネルによれば、導線の上記本数から、第1、第２電極の重ね合わせによる格子模様を形成し易い。また、第１、第２電極のそれぞれの導線パターンを複数の電極に断線区画する場合には、導線の上記本数から、複数の平行導線がこれら平行導線を横断する導線により導通された一纏まりの領域を形成し易いので、電極を形成し易い。
　また、本明細書に開示されたタッチパネルにおいては、
　前記第一方向平行帯及び前記第二方向平行帯のそれぞれに含まれる複数の前記導線は、前記第一方向交差帯及び前記第二方向交差帯のそれぞれのピッチよりも小さいピッチで密に配置される。
　このタッチパネルによれば、密に配置された導線群をそれよりも疎に配置された導線により互いに導通することにより、第１、第２電極の重ねあわせによる格子模様を形成し易いとともに、電極を区画形成する場合に一纏まりの領域としての電極片を形成し易い。ここで、密な配置の導線群が小さいピッチで配置されていることで、接触検知の感度を高くできるとともに、電極片同士を導通する導線の配置が疎であることにより、第一電極列と第二電極列とを透視状態で重ならないように配列するパターン設計が煩雑化しない。
　また、本明細書に開示されたタッチパネルにおいては、
　前記第一方向平行帯及び前記第二方向平行帯のそれぞれに含まれる複数の前記導線のピッチは、１５０μｍ以上、４００μｍ以下であり、
　前記第一方向交差帯及び前記第二方向交差帯のそれぞれのピッチは、２０００μｍ以上、１００００μｍ以下である。
　このタッチパネルによれば、上記ピッチから、第1、第２電極の重ね合わせによる格子模様を形成し易い。また、第１、第２電極のそれぞれの導線パターンを複数の電極に断線区画する場合には、電極を形成し易い。
　また、本明細書に開示されたタッチパネルにおいては、
　前記第一電極の前記第一方向交差帯は、前記第二電極にそれぞれ形成された前記第一方向平行帯及び前記第二方向間隙の合計の幅と等しいピッチで配列され、
　前記第二電極の前記第二方向交差帯は、前記第一電極にそれぞれ形成された前記第二方向平行帯及び前記第一方向間隙の合計の幅と等しいピッチで配列される。
　このタッチパネルによれば、線太りや干渉縞を防止でき、導線の格子形状に違和感を感じない新規な導線パターンを歩留まり良く、安価に得られる。
　また、本明細書に開示されたタッチパネルにおいては、
　前記第一方向平行帯及び前記第二方向平行帯をそれぞれ構成する導線の幅は、２μｍ以上、１０μｍ以下であり、
　前記第一方向平行帯及び前記第二方向平行帯のそれぞれにおける前記導線のピッチは、２５０μｍ以上、３５０μｍ以下である。
　このタッチパネルによれば、上記の線幅及びピッチより、視認性（導線やモアレが視認され難い）と感度との両方がバランス良く得られる。
　また、本明細書に開示されたタッチパネルにおいては、
　前記第一電極は、当該第一電極上に想定した閉図形の端縁線に交差する前記各導線の部分が選択的に断線されることによって区画された電極片が配列された第一電極列を有し、
　前記第二電極は、当該第二電極上に想定した閉図形の端縁線に交差する前記各導線の一部が選択的に断線されることによって区画された電極片が前記第一電極列の配列方向と交差する方向に配列された第二電極列を有し、
　前記第一電極列及び前記第二電極列は、互いに交差するそれぞれの一定方向に繰り返し配置され、
　前記第一電極と前記第二電極とを透視したときに、前記各電極片が互いに重ならない状態に配列される。
　このタッチパネルによれば、第一、第二電極のそれぞれの導線パターンを適切な位置で断線することにより、第一電極列及び第二電極列がそれぞれ形成され、第一、第二電極を重ねた際に交差する第一、第二電極列によってタッチ位置座標が形成される。第一、第二電極が重ねられた際の透視状態において電極片同士が重ならずにぎっしりと並ぶので、接触検知の感度を高感度にできる。また、電極片の形成と同時にダミー電極も形成されるため、大画面や高精細なディスプレイに対応するタッチパネルの高周波駆動時の短絡を防止できる。
　また、本明細書に開示されたタッチパネルにおいては、
　前記第一電極に含まれる複数の前記導線のパターンと、前記第二電極に含まれる複数の前記導線のパターンとは、互いに鏡像の関係にある。
　このタッチパネルによれば、鏡像であることで、導線のパターン設計のコストを削減できる。
　また、本明細書に開示されたタッチパネルにおいては、
　前記第一電極列の前記各電極片は、前記第一方向交差帯上の二箇所の前記第一方向間隙の位置を通る閉図形の端縁線に交差する前記第二方向平行帯の部分が断線されることによって前記閉図形の内部に形成されるとともに、前記第一方向交差帯の導線により互いに導通された状態で前記第一方向に配列され、
　前記第二電極列の前記各電極片は、前記第二方向交差帯上の二箇所の前記第二方向間隙の位置を通る閉図形の端縁線に交差する前記第一方向平行帯の部分が断線されることによって前記閉図形の内部に形成されるとともに、前記第二方向交差帯の導線により互いに導通された状態で前記第二方向に配列される。
　このタッチパネルによれば、第一、第二電極を重ねた際に、格子模様に違和感を感じない新規な電極列配置パターンが得られる。
　また、本明細書に開示されたタッチパネルにおいては、
　前記第一電極列の前記各電極片は、前記第一電極上の一点とこの一点から前記第一方向及び前記第二方向の両方に交差する第三方向に離間する前記第一電極上の他の点とを通る閉図形の端縁線に交差する前記第一方向交差帯の部分、及び前記閉図形の端縁線に交差する前記第二方向平行帯における前記一点及び前記他の点のそれぞれの近傍の非断線部を除いた部分が断線されることによって前記閉図形の内部に形成されるとともに、前記非断線部を介して互いに導通された状態で配列され、
　前記第二電極列の前記各電極片は、前記第二電極上の一点とこの一点から前記第一方向、前記第二方向、及び前記第三方向のいずれにも交差する第四方向に離間する前記第二電極上の他の点とを通る閉図形の端縁線に交差する前記第二方向交差帯の部分、及び前記閉図形の端縁線に交差する前記第一方向平行帯における前記一点及び前記他の点のそれぞれの近傍の非断線部を除いた部分が断線されることによって前記閉図形の内部に形成されるとともに、前記非断線部を介して互いに導通された状態で配列される。
　このタッチパネルによれば、第一、第二電極を重ねた際に、格子模様に違和感を感じない新規な電極列配置パターンが得られる。
　また、本明細書に開示されたタッチパネルにおいては、
　前記第一方向に沿って延びる導線及び前記第二方向に沿って延びる導線はそれぞれ、当該タッチパネルに積層されるディスプレイが有する画素の配列方向に対して傾斜する。
　このタッチパネルによれば、導線パターンを構成する各導線と画素のエッジ等との光干渉が生じ難いので、干渉縞（モアレ）の発生を防止できる。
　また、本明細書に開示されたタッチパネルにおいては、
　当該タッチパネルに積層される画像表示装置が有する画素の配列方向に対して、前記第一方向は平行又は直交に、前記第二方向は直交又は平行に、それぞれ設定される。
　このタッチパネルによれば、タッチ点の位置座標と画像表示装置のＸＹ座標とが、座標補正などを行うことなく一致するので、タッチ位置の算出処理を容易に行うことができる。
　また、本明細書に開示されたタッチパネルにおいては、
　前記閉図形の端縁線に交差し断線された前記各導線の部分の集合である断線部において前記端縁線に交差する方向の断線寸法、及び前記端縁線に交差する方向の断線位置の少なくとも一方は、前記端縁線に沿った方向においてランダムに変化する。
　このタッチパネルによれば、断線部が直線状に形成される場合と比較して、導線パターンが規則性のあるムラとして視認され難くなる。すなわち、タッチパネルの搭載によるディスプレイの表示品位の低下を防止できる。
　また、本明細書に開示されたタッチパネルにおいては、
　前記電極片の区画に際して断線されない導線の部分を含んで構成される非断線部は、２本以上の導線により形成される。
　このタッチパネルによれば、電極列を構成する各電極片が複数本の導線により導通されるので、複数の導線のうち一部の導線が使用時の焼損などによって断線しても、導通を確保できる。
　また、本明細書に開示されたタッチパネルにおいては、
　前記閉図形は、多角形である。
　このタッチパネルによれば、電極片が多角形とされることで、第一、第二方向にそれぞれ延びる導線群から電極片を形成し易い。
　また、本明細書には、
　上記のタッチパネルと、
　前記タッチパネルが積層されるディスプレイとを備える画像表示装置が開示されている。
　この画像表示装置によれば、前述の構成のタッチパネルを備えることにより、前述と同様の作用及び効果を享受できる。
　なお、本発明は、下記表１及び表２に記載の公開公報及び国際公開パンフレットの技術と適宜組合わせて使用することができる。「特開」、「号公報」、「号パンフレット」等の表記は省略する。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000001
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000002
　本発明のタッチパネルによれば、第一電極と第二電極とを重ね合わせる際の誤差や、導線の形状誤差に対する許容度が大きく、重ね合わせが少々ずれていたり導線の形状にバラツキがあったとしても格子形状に違和感を感じない新規な導線パターンが得られる。すなわち、金属細線などの細線を用いて容易に製造可能な静電容量方式や抵抗膜方式の静電容量方式タッチパネルを提供することができる。
　本発明を詳細にまた特定の実施態様を参照して説明したが、本発明の精神と範囲を逸脱することなく様々な変更や修正を加えることができることは当業者にとって明らかである。
　本出願は、２０１０年１１月５日出願の日本特許出願（特願２０１０－２４９２０８）に基づくものであり、その内容はここに参照として取り込まれる。
ＡＤ　　　接着層
ＣＬ　　　断線部
Ｄ１　　　第一方向
Ｄ１２　　第一方向
Ｄ１３　　第一方向
Ｄ２　　　第二方向
Ｄ２２　　第二方向
Ｄ２３　　第二方向
Ｄ３　　　第三方向
Ｄ４　　　第四方向
Ｄ５　　　第五方向
Ｄ６　　　第六方向
Ｆ１　　　四角形
Ｆ２　　　四角形
Ｆ３　　　菱形
ＮＣ　　　非断線部
Ｐ１　　　ピッチ
Ｐ２　　　ピッチ
Ｐｓ１　　点
Ｐｓ２　　点
Ｓ１　　　第一方向間隙
Ｓ２　　　第二方向間隙
１～３　　タッチパネル
９　　　　ディスプレイ
９Ａ　　　画像表示部
９Ｂ　　　額縁部
１１　　　透明基板
１２　　　透明基板
１３　　　誘電層
１４　　　粘着層
１５　　　透明カバー部材
１６　　　透明フィルム
１７　　　ドットスペーサー
１８　　　導線パターン形成領域
２０　　　上部電極（第一電極）
２１　　　第一方向交差帯
２２　　　第二方向平行帯
２５　　　補助細線
３０　　　第一電極列
３１　　　電極片
３５　　　ダミー電極
４０　　　下部電極（第二電極）
４１　　　第一方向平行帯
４２　　　第二方向交差帯
５０　　　第二電極列
５１　　　電極片
６０　　　上部電極（第一電極）
６５　　　ダミー電極
７０　　　第一電極列
７１　　　電極片
８０　　　下部電極（第二電極）
９０　　　第二電極列
９１　　　電極片
２１０　　導線
２２０　　導線
４１０　　導線
４２０　　導線
１００　　タッチパネル
１０１　　タッチパネル
１０２　　タッチパネル
１２０　　上部電極（第一電極）
１２１　　第一方向交差帯
１３０　　第一電極列
１３５　　ダミー電極
１３１　　電極片
１４０　　下部電極（第二電極）
１４２　　第二方向交差帯
１５０　　第二電極列
１５１　　電極片
１９１　　上部電極バスバー
１９２　　下部電極バスバー
３２０　　上部電極（第一電極）
３４０　　下部電極（第二電極）

Claims (17)

  1. 　第一方向と、前記第一方向に交差する第二方向とのうち第二方向に沿って互いに平行に延びる複数の導線が配置された第二方向平行帯が前記第一方向の第一方向間隙を挟んで前記第一方向に繰り返し形成され、かつ前記第一方向に沿って延びて前記第二方向平行帯に交差する導線が配置された第一方向交差帯が前記第二方向に繰り返し形成された第一電極と、
    　前記第一方向に沿って互いに平行に延びる複数の導線が配置された第一方向平行帯が前記第二方向の第二方向間隙を挟んで前記第二方向に繰り返し形成され、かつ前記第二方向に沿って延びて前記第一方向平行帯に交差する導線が配置された第二方向交差帯が前記第一方向に繰り返し形成された第二電極と、を備え、
    　前記第一方向間隙の位置に前記第二方向交差帯が対応し、前記第二方向間隙の位置に前記第一方向交差帯が対応するように、前記第一電極と前記第二電極とが互いに重ねられることを特徴とするタッチパネル。
  2. 　請求項１に記載のタッチパネルであって、
    　前記第一電極及び前記第二電極を透視したとき、
    　前記第一方向平行帯及び前記第一方向交差帯のそれぞれに含まれる各導線は、互いに一定間隔で並び、
    　前記第二方向平行帯及び前記第二方向交差帯のそれぞれに含まれる各導線は、互いに一定間隔で並び、
    　前記第一方向平行帯、前記第二方向平行帯、前記第一方向交差帯、及び前記第二方向交差帯により、均一な格子模様が形成されることを特徴とするタッチパネル。
  3. 　請求項１又は２に記載のタッチパネルであって、
    　前記第一方向平行帯を構成する導線及び前記第二方向平行帯を構成する導線のそれぞれの数は３本以上であり、
    　前記第一方向交差帯を構成する導線及び前記第二方向交差帯を構成する導線のそれぞれの数は１本以上１０本以下であって、前記第一方向平行帯を構成する導線及び前記第二方向平行帯を構成する導線のそれぞれの数よりも少ないことを特徴とするタッチパネル。
  4. 　請求項１から３のいずれか一項に記載のタッチパネルであって、
    　前記第一方向平行帯及び前記第二方向平行帯のそれぞれに含まれる複数の前記導線は、前記第一方向交差帯及び前記第二方向交差帯のそれぞれのピッチよりも小さいピッチで密に配置されることを特徴とするタッチパネル。
  5. 　請求項４に記載のタッチパネルであって、
    　前記第一方向平行帯及び前記第二方向平行帯のそれぞれに含まれる複数の前記導線のピッチは、１５０μｍ以上、４００μｍ以下であり、
    　前記第一方向交差帯及び前記第二方向交差帯のそれぞれのピッチは、２０００μｍ以上、１００００μｍ以下であることを特徴とするタッチパネル。
  6. 　請求項１から５のいずれか一項に記載のタッチパネルであって、
    　前記第一電極の前記第一方向交差帯は、前記第二電極にそれぞれ形成された前記第一方向平行帯及び前記第二方向間隙の合計の幅と等しいピッチで配列され、
    　前記第二電極の前記第二方向交差帯は、前記第一電極にそれぞれ形成された前記第二方向平行帯及び前記第一方向間隙の合計の幅と等しいピッチで配列されることを特徴とするタッチパネル。
  7. 　請求項１から６のいずれか一項に記載のタッチパネルであって、
    　前記第一方向平行帯及び前記第二方向平行帯をそれぞれ構成する導線の幅は、２μｍ以上、１０μｍ以下であり、
    　前記第一方向平行帯及び前記第二方向平行帯のそれぞれにおける前記導線のピッチは、２５０μｍ以上、３５０μｍ以下であることを特徴とするタッチパネル。
  8. 　請求項１から７のいずれか一項に記載のタッチパネルであって、
    　前記第一電極は、当該第一電極上に想定した閉図形の端縁線に交差する前記各導線の部分が選択的に断線されることによって区画された電極片が配列された第一電極列を有し、
    　前記第二電極は、当該第二電極上に想定した閉図形の端縁線に交差する前記各導線の一部が選択的に断線されることによって区画された電極片が前記第一電極列の配列方向と交差する方向に配列された第二電極列を有し、
    　前記第一電極列及び前記第二電極列は、互いに交差するそれぞれの一定方向に繰り返し配置され、
    　前記第一電極と前記第二電極とを透視したときに、前記各電極片が互いに重ならない状態に配列されることを特徴とするタッチパネル。
  9. 　請求項８に記載のタッチパネルであって、
    　前記第一電極に含まれる複数の前記導線のパターンと、前記第二電極に含まれる複数の前記導線のパターンとは、互いに鏡像の関係にあることを特徴とするタッチパネル。
  10. 　請求項８又は９に記載のタッチパネルであって、
    　前記第一電極列の前記各電極片は、前記第一方向交差帯上の二箇所の前記第一方向間隙の位置を通る閉図形の端縁線に交差する前記第二方向平行帯の部分が断線されることによって前記閉図形の内部に形成されるとともに、前記第一方向交差帯の導線により互いに導通された状態で前記第一方向に配列され、
    　前記第二電極列の前記各電極片は、前記第二方向交差帯上の二箇所の前記第二方向間隙の位置を通る閉図形の端縁線に交差する前記第一方向平行帯の部分が断線されることによって前記閉図形の内部に形成されるとともに、前記第二方向交差帯の導線により互いに導通された状態で前記第二方向に配列されることを特徴とするタッチパネル。
  11. 　請求項８又は９に記載のタッチパネルであって、
    　前記第一電極列の前記各電極片は、前記第一電極上の一点とこの一点から前記第一方向及び前記第二方向の両方に交差する第三方向に離間する前記第一電極上の他の点とを通る閉図形の端縁線に交差する前記第一方向交差帯の部分、及び前記閉図形の端縁線に交差する前記第二方向平行帯における前記一点及び前記他の点のそれぞれの近傍の非断線部を除いた部分が断線されることによって前記閉図形の内部に形成されるとともに、前記非断線部を介して互いに導通された状態で配列され、
    　前記第二電極列の前記各電極片は、前記第二電極上の一点とこの一点から前記第一方向、前記第二方向、及び前記第三方向のいずれにも交差する第四方向に離間する前記第二電極上の他の点とを通る閉図形の端縁線に交差する前記第二方向交差帯の部分、及び前記閉図形の端縁線に交差する前記第一方向平行帯における前記一点及び前記他の点のそれぞれの近傍の非断線部を除いた部分が断線されることによって前記閉図形の内部に形成されるとともに、前記非断線部を介して互いに導通された状態で配列されることを特徴とするタッチパネル。
  12. 　請求項１から１１のいずれか一項に記載のタッチパネルであって、
    　前記第一方向に沿って延びる導線及び前記第二方向に沿って延びる導線はそれぞれ、当該タッチパネルに積層されるディスプレイが有する画素の配列方向に対して傾斜することを特徴とするタッチパネル。
  13. 　請求項１から１１のいずれか一項に記載のタッチパネルであって、
    　当該タッチパネルに積層されるディスプレイが有する画素の配列方向に対して、前記第一方向は平行又は直交に、前記第二方向は直交又は平行に、それぞれ設定されることを特徴とするタッチパネル。
  14. 　請求項８から１３のいずれか一項に記載のタッチパネルであって、
    　前記閉図形の端縁線に交差し断線された前記各導線の部分の集合である断線部において前記端縁線に交差する方向の断線寸法、及び前記端縁線に交差する方向の断線位置の少なくとも一方は、前記端縁線に沿った方向においてランダムに変化することを特徴とするタッチパネル。
  15. 　請求項１１から１４のいずれか一項に記載のタッチパネルであって、
    　前記電極片の区画に際して断線されない導線の部分を含んで構成される非断線部は、２本以上の導線により形成されることを特徴とするタッチパネル。
  16. 　請求項８から１５のいずれか一項に記載のタッチパネルであって、
    　前記閉図形は、多角形であることを特徴とするタッチパネル。
  17. 　請求項１から１６のいずれか一項に記載のタッチパネルと、
    　前記タッチパネルが積層されるディスプレイとを備える画像表示装置。
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