JP2009116433A - タッチパネル装置付き電気光学装置及び電子機器 - Google Patents

Abstract

【課題】より薄型化されたタッチパネル装置付き電気光学装置を提供する。
【解決手段】タッチパネル装置の機能たる位置検出機能を発揮するための位置検出用電極の各々は、金属細線４３−１，４３−２，…，４３−ｎから構成されている。前者の輪郭形状は、後者の集合体の輪郭形状に一致する。このような構造によれば、位置検出機能が滞りなく発揮されると同時に、金属細線４３−１，４３−２，…，４３−ｎが直線偏光素子として機能することで、偏光機能もまた発揮される。よって、本発明では、偏光板の設置が省略可能となる。
【選択図】図４

Description

本発明は、液晶表示装置、有機ＥＬ装置等の電気光学装置及び電子機器に関する。

従来、マトリクス状に配列された電気光学素子を備えることで、画像を表示可能な電気光学装置が提供されている。ここで、前記電気光学素子としては、例えば液晶素子が該当する。かかる電気光学装置では、これらマトリクス状に配列された液晶素子ごとに異なる電圧を印加可能な第１及び第２電極が備えられる。液晶素子を構成する液晶層には、これら第１及び第２電極によって所定の電位差が印加され、当該液晶層は、この電圧印加によってその配向状態を変更する。この配向状態の変更は、当該液晶層における光透過割合の変更を意味する。

前記液晶層は更に、２枚の偏光板によって挟まれる。光が液晶素子を透過するかどうかは、これら２枚の偏光板による偏光方向をどのように設定するか、及び、その時時における液晶層の配向状態がどのようになっているかに応ずる。これらの関係が所定の状態にあるときには、光は透過し、他の所定の状態にあるときには、光は遮蔽される。偏光板の偏光方向がその設置以降一定である場合には、これら両状態間の遷移は、もっぱら液晶層の配向状態の変更に基づくことになる。
このようにして、液晶素子毎の光の透過、又は、不透過（遮蔽）が適宜に行われることにより、当該電気光学装置では、所望の内容をもつ画像を表示することが可能になる。
このような電気光学装置としては、例えば特許文献１に開示されているようなものが知られている。
特開２００３−１９６０２３号公報

ところで、上述したような電気光学装置では、タッチパネル装置が設けられ得る。タッチパネル装置は、所定の内容をもつ画像が表示される画面を備え、当該画面上のユーザが指等で触れた位置を検出可能な装置である。タッチパネル装置付き電気光学装置では、前記画面に表示されるべき画像の表示を、当該電気光学装置が担うことになる。
このタッチパネル装置には、例えば静電容量式、ＳＡＷ（Surface Acoustic Wave）式、電磁誘導式、光検出式等々がある。

しかしながら、このようなタッチパネル装置付き電気光学装置では、たとえば後者に前者を単純に貼り合わせる等の形態が採られており、当該の装置の全体の厚さが比較的に大きくなってしまうという問題がある。これは、タッチパネル装置それ自体に固有な基板等を用意し、電気光学装置にもまたそれ自体に固有な基板等を用意する必要があるためである。特に、後者については、前記の２枚の偏光板等も設けられるため、その厚さはそもそも当初から一定の大きさを持たざるを得ない。これに、タッチパネル装置の厚さが加わるのであるから、当該装置全体の厚さは無視し得ない程大きくなってしまうのである。

前記特許文献１では、「対向基板に座標検出素子」（特許文献１の〔請求項１〕）を備えることで、このような問題点に対処しようとする技術が開示されている（なお、特許文献１の〔図２〕〔図３〕参照）。この技術では、「座標検出素子や…駆動回路を、画像表示のための対向基板に直接形成しているので、これらを搭載するための基板を別途用意する必要がな」く（特許文献１の〔００１０〕）、その意味においては、たしかに相応の薄型化が達成されるとは思われる。しかし、この特許文献１では、偏光板が、従前と何ら変わらないまま装着される形態を開示するのみであり（特許文献１の〔図１〕〔００１３〕等参照）、その点で装置全体の薄型化に与える影響には限界がある。

本発明は、上述した事情に鑑みてなされたものであり、より薄型化されたタッチパネル装置付き電気光学装置及び電子機器を提供することを課題とする。

本発明に係るタッチパネル装置付き電気光学装置は、上述した課題を解決するため、画面上で指定された位置を検出可能なタッチパネル装置を備えたタッチパネル装置付き電気光学装置であって、光源と、前記光源から発し透過しようとする光に偏光作用を及ぼす偏光機能と、位置検出用電極を備えることで前記指定された位置を検出する位置検出機能とを兼ね備えた偏光素子兼位置検出用電極付置基板と、を備える。

本発明によれば、偏光素子兼位置検出用電極付置基板が、偏光機能及び位置検出機能を兼ね備えているので、従来必要であった偏光板が必要なくなり、その分の厚さを削減することができる。つまり、その分の薄型化が可能となる。

また、本発明の電気光学装置では、前記位置検出用電極は、前記光の波長よりも短い周期でストライプ状に並べられた複数の金属細線を含み、当該位置検出用電極の輪郭形状は、前記複数の金属細線の集合体の輪郭形状に一致し、前記偏光機能は、前記複数の金属細線間を前記光が透過する際に発揮される、ように構成してもよい。
この態様によれば、偏光機能が、ストライプ状に並べられた複数の金属細線、すなわちいわゆる直線偏光素子によって実現される。そして、本態様では、これら複数の金属細線の集合体が、そのまま同時に、位置検出用電極を形作っている。つまり、当該位置検出用電極は、位置検出機能を発揮すると同時に、偏光機能をも発揮するのである。かかる特徴的な構造は、偏光機能と位置検出機能とを同居させるための極めて効果的な態様を提供し、その結果、前述した薄型化という効果のより実効的な享受に大きく貢献する。

この態様では、前記複数の金属細線の各々を短絡させる短絡線が更に備えられる、ように構成してもよい。
この態様によれば、複数の金属細線の各々が短絡されているので、当該複数の金属細線はすべて同一の電位を維持しうる。したがって、「ストライプ状に並べられた複数の金属細線」という、本来、相互に電気的に絶縁された構成を備えているにもかかわらず、位置検出用電極において発揮される位置検出機能は、阻害されない。

また、本発明の電気光学装置では、前記位置検出用電極は、その一端からその他端に向けて、その幅が漸次大きくなる第１，第２，…，第２Ｎの電極（ただし、Ｎは正の整数）からなり、このうちの第ｐの電極と、第（ｐ＋１）の電極（ただし、ｐ＝１，３，５，…，（２Ｎ−１））とは、検出電極対を構成し、前記検出電極対は、前記第ｐの電極の一端が前記第（ｐ＋１）の電極の他端に対応するように、かつ、前記第ｐの電極の他端が前記第（ｐ＋１）の電極の一端に対応するように、これら第ｐの電極及び第（ｐ＋１）の電極が配置されることで構成され、前記位置検出用電極は、当該検出電極対が、前記第ｐの電極の一端から他端に向かう方向に交差する方向に、繰り返し配列される構造をもつ、ように構成してもよい。
この態様によれば、画面に触れられた指等の位置（以下、この段落番号内では「接触地点」という。）を極めて正確に検出することができる。すなわち、第ｐの電極の一端から他端に向かうＸ方向に関する接触地点の位置ないし座標値は、当該接触地点における当該第ｐの電極の幅、及び、当該接触地点における第（ｐ＋１）の電極の幅が、いわば相補的な関係にある（一方が相対的に大なら、他方はその分だけ相対的に小になる）から、これら第ｐ及び第（ｐ＋１）の電極各々における静電容量の変化等を計測すれば、当該位置ないし座標値は求められる。
他方、前記Ｘ方向に交差するＹ方向に関する接触地点の位置ないし座標値は、当該接触地点が繰り返し配列された検出電極対のうちのどの検出電極対から電流の変化等が計測されるかを見れば、当該位置ないし座標値は求められる。
また、本態様によれば、偏光素子兼位置検出用電極付置基板として、実際上、１枚の基板を用意するだけで、位置検出を行うことができる。つまり、薄型化という効果は、より実効的に享受される。

この態様では、前記第１，第２，…，第２Ｎの電極の輪郭形状は、三角形を含む、ように構成してもよい。
この態様によれば、偏光素子兼位置検出用電極付置基板上の位置検出電極の配置を好適に行うことができる。例えば、第１，２，…，２Ｎの電極の輪郭形状が、三角形の一例たる直角三角形である場合は、後述する実施形態において詳細に説明される。

また、位置検出用電極が第１，第２，…，第２Ｎの電極を含む態様では、前記画面は、マトリクス状に配列された複数の画素領域に区分可能であり、前記画素領域間を縫うように格子状に形成される遮光膜を更に備えてなり、前記第１，第２，…，第２Ｎの電極の各々の間に形成される隙間領域の少なくとも一部は、前記遮光膜の形成領域の少なくとも一部と一致する、ように構成してもよい。
この態様によれば、画像表示に悪影響を与えかねない第１，第２，…，第２Ｎの電極間の隙間領域が、遮光膜によって覆われることになるから、より高品質な画像を表示することができる。

また、位置検出用電極が第１，第２，…，第２Ｎの電極を含む態様では、第１基板及び第２基板と、これら第１基板及び第２基板間に挟持される液晶と、前記第１基板上に形成される画素電極及び共通電極と、を更に備え、前記液晶には、前記画素電極及び前記共通電極間の電位差が印加されることで、前記第１基板の表面に平行な成分を含む電界が印加され、前記第２基板は、前記偏光素子兼位置検出用電極付置基板に該当する、ように構成してもよい。
この態様によれば、液晶は、いわゆる「横電界」方式で液晶が駆動されるようになっているから、該「横電界」方式に対する「縦電界」方式で必要となる、いわゆる「対向電極」が必要でない。したがって、本態様にいう「第２基板」には、本質的には、金属材料を含む要素を設ける必要がない。これを逆の側面から捉えれば、当該第２基板には、「対向電極」に代わる、別の金属材料を含む要素を形成することが可能であることを意味する。そして、その別の金属材料とは、「位置検出用電極」であり得る。このようにして、本態様では、「第２基板は、前記偏光素子兼位置検出用電極付置基板に該当する」ということが可能となる。そして、それが成る本態様では、この点についても一種の兼用が実現されることになるから、前述した薄型化という効果は、より実効的に奏されることになる。

この態様では、前記位置検出用電極は、前記第２基板の前記液晶に対向する側の面の上に形成される、ように構成してもよい。
この態様によれば、例えば、第２基板上には、位置検出用電極が形成され得、その上に更に、カラーフィルタ、遮光膜等の必要な要素を構築していくことが可能である。そして、この位置検出用電極が形成された第２基板の面は、液晶、ないしは第１基板に対向させられ得ることになる。
このようにして、本態様では、装置全体の薄型化が極めて実効的に奏されることになる。
また、本態様によれば、第２基板の上に、順番に、位置検出用電極、遮光膜及びカラーフィルタ等を形成していけばよいから、例えば、当該第２基板のある一面の上に位置検出用電極を、他の一面の上に遮光膜及びカラーフィルタ等を、それぞれ形成する、等という場合に比べて、製造工程の簡略化が図られ得る。
さらに、この場合、第２基板それ自体が、位置検出用電極の、外界に対する保護膜としての機能を果たしうるから、当該保護膜を別途設ける必要がない。したがって、この意味においても、装置全体の薄型化が極めて実効的に奏されることになる。

また、本発明の電気光学装置では、前記偏光素子兼位置検出用電極付置基板における前記位置検出用電極の形成面とは反対側の面に形成され、当該位置検出用電極に対応する対応電極を更に備え、前記対応電極は、前記第１方向に沿って延在する第１長尺電極を含み、かつ、前記第１長尺電極の複数が前記第１方向に交差する第２方向に沿って繰り返し配列される構造をもち、前記位置検出用電極は、前記第２方向に沿って延在する第２長尺電極を含み、かつ、前記第２長尺電極の複数が前記第１方向に沿って繰り返し配列される構造をもつ、ように構成してもよい。
この態様によれば、画面に触れられた指等の位置（以下、この段落番号内では「接触地点」という。）を極めて正確に検出することができる。

この態様では、前記第１長尺電極は、その延在する方向に沿った第１間隔毎に複数の第１幅広部をもち、前記第２長尺電極は、その延在する方向に沿った第２間隔毎に複数の第２幅広部をもち、前記第１間隔は、前記第１幅広部が、前記第１方向に沿ってみた前記複数の第２長尺電極間の隙間を埋めるような位置に位置づけられるように、定められ、前記第２間隔は、前記第２幅広部が、前記第２方向に沿ってみた前記複数の第１長尺電極間の隙間を埋めるような位置に位置づけられるように、定められる、ように構成してもよい。
この態様によれば、偏光素子兼位置検出用電極付置基板上の位置検出電極の配置を好適に行うことができる。その詳細については、後述する実施形態において触れられる。

なお、この態様では、前記第１幅広部及び前記第２幅広部の輪郭形状は、菱形を含む、ように構成してもよい。

また、第１長尺電極等を備える態様では、前記画面は、マトリクス状に配列された複数の画素領域に区分可能であり、前記画素領域間を縫うようにして格子状に形成される遮光膜を更に備えてなり、前記複数の第１長尺電極間及び前記複数の第２長尺電極間の隙間領域、並びに、平面視した場合に見られる前記第１長尺電極及び前記第２長尺電極間の隙間領域、の少なくとも一部は、前記遮光膜の形成領域の少なくとも一部と一致する、ように構成してもよい。
この態様によれば、画像表示に悪影響を与えかねない第１長尺電極間等の隙間領域が、遮光膜によって覆われることになるから、より高品質な画像を表示することができる。

本発明に係る電子機器は、上記課題を解決するために、上述した各種態様の電気光学装置を備える。
本発明の電子機器は、上述した各種の電気光学装置を備えていることから、薄型化が実現される。

＜第１実施形態＞
以下では、本発明に係る第１の実施の形態について図１乃至図５を参照しながら説明する。なお、これら図１乃至図５並びに以下で参照するその他の各図面においては、各層や各部材を図面上で認識可能な程度の大きさとするため、各層毎や各部材毎に縮尺を異ならせてある。

第１実施形態に係る液晶表示装置１００は、照明装置ＬＢ、液晶装置ＬＤ、及び偏光板３０から構成されている。この液晶表示装置１００の断面をみると、図２に示すように、その全体的な構成の積層順番は、同図中下から、照明装置ＬＢ、偏光板３０、第１基板１０、液晶層ＬＱ、遮光膜ＢＭ及びカラーフィルタＣＦ、第２基板２０、偏光素子兼位置検出用金属薄膜４０となっている。

照明装置ＬＢは、図１に示すように、導光板ＬＢ１及び光源ＬＢ２からなる。
このうち光源ＬＢ２は、例えば白色ＬＥＤ（Light Emitting Diode）である。この光源ＬＢ２は、図１に示すように、比較的長尺の棒状ないしは直方体形状をもつ。光源ＬＢ２は、その長手方向が、後述の導光板ＬＢ１の側端に沿うようにして配置される。光源ＬＢ２から発せられた光は、導光板ＬＢ１の当該側端からその内部に入射する。
光源ＬＢ２は、照明駆動回路５２によって、その点灯・消灯が制御される。

導光板ＬＢ１は、略平板状の形態をもつ、光透過性の光学部材である。この導光板ＬＢ１は、光源ＬＢ２から入射した光を当該導光板ＬＢ１の全体に行き渡らせるとともに、その光を、液晶装置ＬＤに向けて出射する機能を有する。導光板ＬＢ１の図１中上面、即ち液晶装置ＬＤに対向する面は、光が当該液晶装置ＬＤに向けて出射する面であり、発光面となる。
この機能を補助するため、導光板ＬＢ１は、拡散板及び反射板（いずれも不図示）を備えている。このうち拡散板は、導光板ＬＢ１に入射した光を適当に拡散させる機能を持つ。具体的には例えば、楔形断面をもつ微小な突起を所定方向に沿って並列させた平板等が該当し得る。また、反射板は、導光板ＬＢ１の裏面（図１では表し得ない、図中下面）に備えられる。反射板は、例えばアルミニウム等の比較的高い光反射性能をもつ材料から作られる。これにより、導光板ＬＢ１の内部から逃げようとする光は、その内部に封じ込められる。

液晶装置ＬＤは、図１、あるいは図２に示すように、相互に対向する第１基板１０と第２基板２０とを備えている。第１基板１０と第２基板２０との間隙には液晶層ＬＱが位置する（図２参照）。第１基板及び第２基板は、例えばガラスや石英、プラスチックなどの透光性材料で作られる。
これら第１基板１０及び第２基板２０の上には、それぞれ、固有の積層構造物が構築される。

第１基板１０の側では、当該第１基板１０の上に、例えば、スイッチング素子としてのＴＦＴ（Thin Film Transistor）、走査線、データ線、画素電極、及びこれら各要素間に適宜設けられる透光性の層間絶縁膜等が順次構築される。図１においては、このうち画素電極９のみが図示されている。
画素電極９は、図１に示すように、平面視してマトリクス状に配列されている（図２では不図示）。この画素電極９は、例えばＩＴＯ（Indium Tin Oxide）等の透光性かつ導電性材料で作られている。

第１基板１０の側には、上述に加えて、前記画素電極９の上に、配向膜（不図示）等が形成される。配向膜は液晶層ＬＱに接する。この配向膜の表面には、液晶層ＬＱを構成する液晶分子の初期配向状態を規制する配向処理が施されている。このような配向膜は、例えばポリイミド等の樹脂材料で作られている。
なお、液晶層ＬＱは、正の誘電率異方性を有する液晶を用いたＴＮモードで動作する構成をとりうる。
また、上述のような配向膜は、第２基板２０の側にも、液晶層ＬＱに直接接する膜として形成されている（当該配向膜も不図示）。

一方、第２基板２０の側では、当該第２基板２０の上に（図１及び図２の観点では「下に」ということになる。）、カラーフィルタＣＦ、遮光膜ＢＭ、対向電極等が構築される。図１においては、このうちカラーフィルタＣＦのみが図示されており、図２においては、これに加えて遮光膜ＢＭが図示されている。

カラーフィルタＣＦは、図１に示すように、前記の画素電極９の形成領域と呼応するように、平面視してマトリクス状に配列されている。このカラーフィルタＣＦは、赤フィルタＣＦ１，緑フィルタＣＦ２及び青フィルタＣＦ３の三種のフィルタを含み、これら各々は、図１に示すように、所定の順番に従って配列される。図１では、Ｘ方向（行方向）に沿っては、赤フィルタＣＦ１，緑フィルタＣＦ２及び青フィルタＣＦ３がこの順に配列され、かつ、これを一組とする繰り返し配列がなされるようになっている一方、Ｙ方向（列方向）に沿っては、画素列毎に、赤フィルタＣＦ１の列、緑フィルタＣＦ２の列、及び青フィルタＣＦ３の列が、それぞれ並ぶような配列がなされている。
このカラーフィルタＣＦは、照明装置ＬＢから発し液晶層ＬＱを透過してきた光のうち、所定の波長域にある光のみを透過させる。つまり、透過光はいわば「着色」される。

遮光膜ＢＭは、前述したカラーフィルタＣＦの形成領域の間を縫うようにして、格子状に形成されている（図１では明示されていない。図２、あるいは図５参照。なお、後述するように、図５では遮光膜ＢＭの一部たる遮光膜ＢＭ１のみが図示されている。）。
この遮光膜ＢＭは、隣接する画素間で透過光が交じり合うのを防止する。また、遮光膜ＢＭは、第１基板１０上に形成される前記走査線、前記データ線、前記ＴＦＴ等の不透明な材料を覆う役割も担う。逆に言えば、これら走査線等は、遮光膜ＢＭが格子状をもつことに対応して、格子状領域に配置されるのである。

対向電極は、前述したカラーフィルタＣＦ及び遮光膜ＢＭを覆うようにして、第２基板２０のほぼ全面に相当する領域に形成されている。対向電極は、前記画素電極９と同様、例えばＩＴＯ（Indium Tin Oxide）等の透光性かつ導電性材料で作られている。

前述した対向電極と画素電極９は、液晶駆動回路５３に接続されている。
この液晶駆動回路５３は、前述した走査線に選択信号を供給する走査線駆動回路、及び、前述したデータ線に画像信号を供給するデータ線駆動回路を含む。走査線駆動回路は、１つの画素行を単位として選択信号を発し、水平走査期間を規定する。データ線駆動回路は、走査線駆動回路によって選択された画素行に対して、画像信号を供給する（即ち、画像信号を書き込む。）。最初の画素行に画像信号の供給を開始してから、最終の画素行に画像信号を供給するまでの時間が、垂直走査期間となる。
なお、前記ＴＦＴは、前記選択信号の有無に応じて、ＯＮ状態及びＯＦＦ状態間を遷移し、そのＯＮ状態のときに、前記画像信号をデータ線から画素電極９へと伝達する。
以上の結果、各画素について、画素電極９及び対向電極間の電位差が適当に設定されることになり、その間に挟持された液晶層ＬＱ内の液晶分子の配向状態が適当に調整される。これにより、照明装置ＬＢからの出射光のうち観察側に透過する光量の割合（透過率）は画素電極９ごとに制御される。なお、対向電極及び画素電極９間の電位差の大きさ等は、画素電極９に供給される画像信号の状態如何による。
液晶駆動回路５３は、このようにして液晶装置ＬＤの状態を制御する。

偏光板３０は、照明装置ＬＢから発せられた光を偏光させる。
そして、本実施形態の液晶表示装置１００は特に、この偏光板３０と透過軸に関して一定の対応関係をもつ偏光素子兼位置検出用金属薄膜（以下、「兼用金属薄膜」と呼ぶことがある。）４０を、第２基板２０における第１基板１０と対向しない側の面（以下、「第２基板２０の裏面」ということがある。）の上に備えている。
この兼用金属薄膜４０は、その機能として、透過しようとする光に偏光作用を及ぼす偏光機能と、位置検出機能との２つの機能をもつ。以下、この兼用金属薄膜４０の構成及び作用について、より詳細に説明する。

兼用金属薄膜４０は、図３に示すように、２種類の検出電極４３及び４４を備えている。これら検出電極４３及び４４はいずれも、平面視して略直角三角形形状をもつ。複数の検出電極４３の各々は、その直角部分を図３中右上隅に位置させながら、同図中上下方向（Ｙ方向）に沿って並ぶように配列される。複数の検出電極４４の各々は、その斜辺が、各検出電極４３の斜辺と向き合う関係を維持しつつ、図３中上下方向（Ｙ方向）に沿って配列される。この配列において、検出電極４３の各々の間、検出電極４４の各々の間、更にこれら検出電極４３及び４４の間（要するに、検出電極４３及び４４の形成領域以外の領域）には、所定の隙間が設けられる。図３では、そのようにして形成される隙間領域の一部を、破線の囲いによって抜き出し、符号ＢＲ１を付して明示している（以下、「隙間領域ＢＲ１」という。）。

このようにして、検出電極４３と検出電極４４とは配置上、１対１の対応関係をもつ。そして、兼用金属薄膜４０は、そのような対応関係にある検出電極対４０１を一組として、当該一組が図中上下方向に沿って繰り返し配列されるような構造をもつ。
なお、この際、第１実施形態では、検出電極４３及び４４の輪郭形状が上述のように直角三角形状という好適な形状となっていることから、これら検出電極４３及び４４は、第２基板２０の裏面のほぼ全面を無駄なく覆うことができる。このことはつまり、第２基板２０のほぼ全面を検出可能範囲におさめるという意義を有する。

また、複数の検出電極４３の各々には、これら各々に接続される配線４３Ｌが接続されており、複数の検出電極４４の各々には、これら各々に接続される配線４４Ｌが接続されている。これらの配線４３Ｌ及び４４Ｌは、図１に示すように、静電容量検出回路５４に接続されている。静電容量検出回路５４は電源を備えており、配線４３Ｌ及び４４Ｌを介して、検出電極４３及び４４に一定電圧を印加する。また、静電容量検出回路５４は位置検出部を備えており、第２基板２０の裏面にユーザが指等を触れた際に、その接触地点がどこであるかを検出する。

このような検出電極４３及び４４は、例えばＩＴＯ等の透光性かつ導電性材料から作られている。

かかる構造を基礎に、兼用金属薄膜４０は、位置検出機能を発揮する。
ユーザの指等が、例えば図３の破線丸印ＦＲの位置に触れると、この指等と兼用金属薄膜４０との間にコンデンサが形成される。静電容量検出回路５４の位置検出部は、このような場合において生じる放電の時定数を計測することで、各電極４３及び４４における静電容量の変化量を検出する。
原理的には、例えば各電極４３及び４４に所定の電圧を印加する。次に、各電極に蓄積された電荷を所定の抵抗を介して放電し、そのときの時定数から静電容量を求める。
各電極についての静電容量は、指等が触れた位置が検出電極４３及び４４それぞれのどこであったかに依存する。例えば、指等の接触位置が図３の破線丸印ＦＲである場合には、各検出電極４３における静電容量の変化量の総和の方が、各検出電極４４のける静電容量の変化量の総和よりも大きくなる。
これにより、指等が、図３のＸ方向中、どこに触れたかが検出されることになる。
一方、図３のＹ方向に関しては、同Ｙ方向に並ぶ複数の検出電極対４０１のうち、どの検出電極対４０１から静電容量の変化が検出されたかを確認することで、指等が、同Ｙ方向中、どこに触れたかが検出されることになる。
以上の機序により、指等が、兼用金属薄膜４０のどこに触れたかを、特定値たるＸ座標値及びＹ座標値の組として取得することが可能となる。
このように、兼用金属薄膜４０は、位置検出用の電極として機能する。
なお、以上の機序に関する、より詳細な説明については、例えば特願２００７−１１１４８０号の明細書及び図面の記載が参考になる。

なお、静電容量検出回路５４は液晶駆動回路５３と一定の連係をもっており、前者により得られた位置座標と、後者により表示されている画像の内容との関係を勘案して、前記位置座標に一定の意味を付与することが可能となっている。例えば、取得された位置座標が、画像上、当該液晶表示装置１００、あるいはこれに接続される外部装置（以下、「外部装置等」という。）に対する何らかの動作を指示するボタンの画像表示位置の範囲内にあるなら、静電容量検出回路５４は、当該何らかの動作を行うよう、当該外部装置等に指令を発する等する。

一方、兼用金属薄膜４０は、次のような構成をも併せ備える。
すなわち、前記の検出電極４３及び４４をより微細に観察すると、その構造は、図４に示すようになっている。図４において、検出電極４３は、図に示すような複数の金属細線４３−１，４３−２，…，４３−ｎ（ｎは正の整数）から構成されている。これら金属細線４３−１，４３−２，…，４３−ｎは、その各々の間に所定の隙間をもってストライプ状に並べられている。
また、これら金属細線４３−１，４３−２，…，４３−ｎは、図中１番上に位置する金属細線４３−１が最も長く、以下、ある金属細線４３−ｉ（ただし、ｉ＝２，３，…，ｎ）は、その図中直上に位置する金属細線４３−（ｉ―１）に対して若干短くなる、という形状を各々もつ。そして、各金属細線４３−１，４３−２，…，４３−ｎの図中右端は直線上に乗るように、その配置位置が揃えられている。
このように配列された金属細線４３−１，４３−２，…，４３−ｎを全体的に観察すると、それは、前述した「略直角三角形状」を形作る。例えば、各金属細線４３−１，４３−２，…，４３−ｎの先端（図中左端）を包絡していけば、それは、前述した略直角三角形状の「斜辺」を形作る、というが如くである。つまり、これら金属細線４３−１，４３−２，…，４３−ｎの集合体の輪郭形状が、検出電極４３の輪郭形状に一致するようになっているのである。

各金属細線４３−１，４３−２，…，４３−ｎの配置関係については、より厳密には、以下に記す数値的条件が満たされていると好ましい。
第１に、各金属細線４３−１，４３−２，…，４３−ｎ間のピッチＰは、例えば４０〜１４０〔ｎｍ〕程度、更に好ましくは９０〜１１０〔nm〕に設定されるとよい。なお、ピッチＰを定めるに当たっては、当該ピッチＰは透過させようとする光の波長よりも小さい、という定性的な基準を守る必要がある。
第２に、各金属細線４３−１，４３−２，…，４３−ｎの幅Ｗは、例えば２０〜７０〔ｎｍ〕程度、あるいは透過させようとする光の１／１０程度に設定されるとよい。
なお、このような比較的微細な金属細線４３−１，４３−２，…，４３−ｎを製造するためには、例えばフォトリソグラフィ加工が好適に利用できる。

各金属細線４３−１，４３−２，…，４３−ｎは、例えばＣｒ等の黒色を呈する、光吸収性の金属材料から作られて好適である。無用な乱反射等を防止するからである。
また、場合によっては、第２基板２０の裏面の上に、これら各金属細線４３−１，４３−２，…，４３−ｎの間の隙間を埋めるようにして絶縁膜（不図示）を形成しておくと好ましい。後述する直線偏光作用を好適に享受することが可能となるからである。

以上のような金属細線４３−１，４３−２，…，４３−ｎからなる構造は、図３に示す、あるいは兼用金属薄膜４０を構成する、検出電極４３及び４４のすべてにおいて共通である。

かかる構造を基礎に、兼用金属薄膜４０は、前記の位置検出機能に加えて、偏光機能を発揮する。すなわち、上述の構造によれば、各金属細線４３−１，４３−２，…，４３−ｎの屈折率と、これら各金属細線４３−１，４３−２，…，４３−ｎの間の前記絶縁層等の屈折率とが異なるため、兼用金属薄膜４０に入射した光の方向により、偏光選択が行われる。具体的には、各金属細線４３−１，４３−２，…，４３−ｎの延在方向と垂直な方向に偏光軸を有する直線偏光を透過させ（図中符号“Ｌ”と矢印参照）、各金属細線４３−１，４３−２，…，４３−ｎの延在方向と平行な方向に偏光軸を有する直線偏光を反射する。
このようにして、兼用金属薄膜４０は、透過しようとする光に偏光作用を及ぼし、直線偏光を生成する。
ちなみに、この兼用金属薄膜４０における透過軸と、前述した偏光板１５の透過軸とは、液晶層ＬＱがどのような液晶分子によって構成されるか等といった事情にも左右されるが、一般に直交するようにする。

なお、これら各金属細線４３−１，４３−２，…，４３−ｎは、図４に示すように、その各々の図中左端を橋渡しするような短絡線４３１に接続されており、その各々の図中右端を橋渡しするような短絡線４３２に接続されている。これら短絡線４３１及び４３２は、各金属細線４３−１，４３−２，…，４３−ｎ間を電気的に短絡させる。これにより、検出電極４３が上述のように各々分離された金属細線４３−１，４３−２，…，４３−ｎの集合体からなっているとしても、これら金属細線４３−１，４３−２，…，４３−ｎの全部は常に同一の電位を維持する。したがって、前述した位置検出用電極としての機能の発揮が阻害されるようなことはない。

このように、兼用金属薄膜４０は、位置検出機能と偏光機能とを発揮するが、この第１実施形態に係る兼用金属薄膜４０においては、上述した隙間領域ＢＲ１と、上述した遮光膜ＢＭの形成領域との関係につき次のような特徴がある。
隙間領域ＢＲ１は、既述のように、検出電極４３及び４４の形成領域以外の領域である。図３においては、当該隙間領域ＢＲ１の一部が図示されており、図４においては特に、略直角三角形状をもつ検出電極４３の斜辺部分に対応する一部が図示されている。
そして、このような隙間領域ＢＲ１は、カラーフィルタＣＦの形成領域以外の格子状の領域に形成された遮光膜ＢＭによって隠されるようになっているのである。言い換えれば、隙間領域ＢＲ１の全部は、遮光膜ＢＭの形成領域の一部に一致するようになっている。

例えば、図５においては、遮光膜ＢＭの一部たる遮光膜ＢＭ１のみが特に図示されているが、その遮光膜ＢＭ１の中でも図中左上から右下へかけて階段状に延びる遮光膜ＢＭ１は、図４に示されている図中左上から右下へ向けて斜めに延びる隙間領域ＢＲ１を覆う。なお、後者の隙間領域ＢＲ１は、各金属細線４３−１，４３−２，…，４３−ｎの先端部と、これら各々に対向する検出電極４４を構成する各金属細線４４−１，４４−２，…，４４−ｎ（不図示）の先端部との間の隙間からなる領域なのであるから、微細に見れば、やはり階段状になる。
同じく、図５中左右に一直線に延びる遮光膜ＢＭ１は、図３に示されている検出電極４３及び４４間における直線状の隙間領域ＢＲ１を覆う。

以上のような構成を備える液晶表示装置１００では、以下に記す効果が奏される。
（１） 第１実施形態の液晶表示装置１００は、上述のように、透過しようとする光に偏光作用を及ぼす偏光機能と、タッチパネル装置としての位置検出機能とを併せ持つ兼用金属薄膜４０を第２基板２０の裏面上に備えている。このように、その厚さを実質的に規定する第２基板２０、１枚のみで、従来の偏光板及びタッチパネル装置用の位置検出用電極付置基板の双方を兼ね備えていることから、第１実施形態の液晶表示装置１００は、当該偏光板１枚分の厚さを削減することができる。つまり、その分の薄型化が可能となっているのである。

この点、第１実施形態では特に、偏光作用の発揮を金属細線４３−１，４３−２，…，４３−ｎによって実現するとともに、これら金属細線４３−１，４３−２，…，４３−ｎの全体的な配置形状が、位置検出を好適に行うための電極の輪郭形状をあたかもなぞるように、あるいはそれに一致するように決定されている、という極めて特徴的な構造が提案されている。かかる構造が、上記の効果のより実効的な享受に大きく貢献することは言うまでもない。

（２） 第１実施形態においては、検出電極４３及び４４の形成領域以外の領域たる隙間領域ＢＲ１に対応するように、遮光膜ＢＭが形成されているので、当該隙間領域ＢＲ１を透過しようとする光が、視認者の目に入ることが未然に防止される。したがって、より高品質の画像を表示することが可能となる。

＜第２実施形態＞
以下では、本発明に係る第２の実施の形態について図６及び図７を参照しながら説明する。なお、この第２実施形態は、上記第１実施形態と比べて、液晶装置ＬＤの構成等について特徴的な変更があるものであり、その他の構成については、上記第１実施形態と全く同じである。したがって、以下では、その説明については省略する。

第２実施形態の液晶表示装置１０１は、第１実施形態の液晶表示装置１００とは異なり、液晶層ＬＱ内の液晶分子の駆動方法が異なり、いわゆるＩＰＳ（In Phase Switching）方式を採用している。より具体的には、図６に示すように、液晶表示装置１０１は、第１基板１０上に、画素電極９１を備えている。この画素電極９１は、第１実施形態の画素電極９とは異なって、平面視してコの字状の形状を持つ。ただし、この画素電極９１も、ＴＦＴを介してデータ線に接続され、かつ、当該ＴＦＴのゲートが走査線に接続されていること等について変わりはない（ただし、その接続態様等については不図示）。

一方、液晶表示装置１０１では、図６に示すように、第１基板１０の上に、共通電極９５を備えている。この共通電極９５は、全体的にみて、たくさんの櫛歯をもつ櫛形の形状をもつ。共通電極９５は、その櫛歯が、コの字状をもつ画素電極９１の開口部に嵌め込まれるようにして、配置される。つまり、共通電極９５及び画素電極９１は、相互に「噛み合わせ」られるかのようにして、配置されている。
なお、図６においては、図中右下部分及び左上部分の１画素分の画素電極９１及びこれに対応する共通電極９５のみが図示されているが、共通電極９５は、図中Ｘ方向に沿って延在している。また、第１基板１０の上の共通電極９５は、好適にはすべて同一導電膜として製造されること等により、すべて同じ電位を維持するようになっている。

このような共通電極９５は、機能的にみて、第１実施形態でいう「対向電極」と類似した働きをする。つまり、第１実施形態では、第１基板１０上の画素電極９と第２基板２０上の対向電極との間に電圧が印加されることで、これら両基板１０及び２０の表面に垂直な方向に沿った電界が印加されることになるが、第２実施形態においては、いずれも第１基板１０上に形成された、画素電極９１及び共通電極９５間に電圧が印加されることで、第１基板１０の表面に平行な成分を含む電界が印加されるということになる。要するに、いわゆる「横電界」が印加されるのである。

以上のような構成を備える液晶表示装置１０１は、上述のように横電界を利用して、液晶層ＬＱ内の液晶分子の配向状態の調整を行うので、第１実施形態のように、第２基板２０の裏面の上に兼用金属薄膜４０を形成しなくともよい。つまり、この場合においては、金属材料を含む兼用金属薄膜４０を、第１基板１０と対向するようにして配置することが可能となるのである。

以上を踏まえ、第２実施形態の液晶表示装置１０１は、図７に示すような構造を備える。すなわち、図７に示すように、液晶表示装置１０１の断面を見ると、第２基板２０における第１基板１０と対向する側の面（以下、「第２基板２０の表面」ということがある。）の上には、まず、兼用金属薄膜４０を構成する検出電極４３及び４４（つまり、これらを構成する複数の金属細線）が直接形成されている。次いで、当該表面の上には、その兼用金属薄膜４０の上に更に、遮光膜ＢＭ及びカラーフィルタＣＦが形成されている。
これによれば、製造工程の簡略化が図られ得る。というのも、第１実施形態においては、例えば、第１に、第２基板の裏面の上に、兼用金属薄膜４０を形成した上で、その上に保護膜を形成し、第２に、かかる第２基板の表裏をひっくり返した上で、第２基板の表面の上に、遮光膜ＢＭ及びカラーフィルタＣＦを形成する、という手順を経る必要があるところ、第２実施形態においては、第２基板の表面の上に、兼用金属薄膜４０、遮光膜ＢＭ及びカラーフィルタＣＦを順次形成していけばよいからである。

このように、第２実施形態によれば、対向電極が必要とならないＩＰＳ方式の液晶表示装置１０１を採用することで、製造工程の簡略化が図られ得、更には、第１実施形態にも劣らぬ薄型化が実現され得る。

なお、上記第２実施形態では、ＩＰＳ方式を例にとって説明しているが、これに代えて、ＦＦＳ（Field Fringe Switching）方式を採用する場合にも、上述と同様の形態をとることが当然可能である。

＜第３・第４実施形態＞
以下では、本発明に係る第３及び第４の実施の形態について図８乃至図１１を参照しながら説明する。なお、これら第３及び第４実施形態は、上記第１実施形態と比べて、偏光素子兼位置検出用金属薄膜の構成等について特徴的な変更があるものであり、その他の構成については、上記第１実施形態と全く同じである。したがって、以下では、その説明については省略する。

第３実施形態の液晶表示装置１０２は、図８に示すように、その断面の全体的構成をみると、第２基板２０の液晶層ＬＱ側に兼用金属薄膜４０Ａを備えており、それとは反対側に、この兼用金属薄膜４０Ａと一体として機能することで位置検出機能を発揮するための対応電極４０Ｂを備えている。
また、第４実施形態の液晶表示装置１０３は、図９に示すように、その断面の全体的構成を見ると、上記第３実施形態と比べて、兼用金属薄膜４０Ａ及び対応電極４０Ｂの配置位置が、第２基板２０を基準として反対になっている。

上述した兼用金属薄膜４０Ａ及び対応電極４０Ｂは、図１０及び図１１に示すような構成を備えている。まず、兼用金属薄膜４０Ａは、図１０に示すように、平面視して菱形形状を持つ菱形電極４６と、この菱形電極４６の複数を図中縦方向（Ｙ方向）に貫く接続配線４６９とを備えている。複数の菱形電極４６と接続配線４６９とは、相互に電気的に接続されている。好適には同一の導電膜として製造される。また、このような、接続配線４６９及びそれに貫かれた複数の菱形電極４６を一組として、当該一組が図中横方向（Ｘ方向）に繰り返し配列される。
一方、これと同じようにして、対応電極４０Ｂは、複数の菱形電極４７と、それらを貫く接続配線４７９とを備えている。ただし、この場合、接続配線４７９の延在方向は、接続配線４６９のそれとは異なり、図中横方向（Ｘ方向）である。また、それに伴い、接続配線４７９及びそれに貫かれた複数の菱形電極４７からなる一組が、繰り返し配列される方向は、図中縦方向（Ｙ方向）である。
そして、図１０から明らかなように、菱形電極４６は、複数の接続配線４７９間の隙間を埋めるように配置される一方、菱形電極４７は、複数の接続配線４６９間の隙間を埋めるように配置される。図１０では更に、菱形電極４６と菱形電極４７との配置関係は相補的である。つまり、菱形電極４６をマトリクス状に配列する場合に生じる菱形形状の隙間を埋めるように、複数の菱形電極４７は配列されているのである。

なお、前記の接続配線４６９及び４７９は、静電容量検出回路５４に接続されている。
また、複数の菱形電極４６とこれを貫く接続配線４６９の一組一組のことを、以下においては、「Ｙ方向電極」と呼び、複数の菱形電極４７とこれを貫く接続配線４７９の一組一組のことを、「Ｘ方向電極」と呼ぶことがある。ちなみに、前者の一組一組は、本発明にいう「第２長尺電極」の一具体例を構成し、後者の一組一組は、「第１長尺電極」の一具体例を構成する。
さらに、菱形電極４６は、本発明にいう「第２幅広部」の一具体例を構成し、菱形電極４７は、本発明にいう「第１幅広部」の一具体例を構成する。

上記菱形電極４６及び４７のうち、菱形電極４６については、その微細な構造が、図１１に示すようになっている。図１１において、菱形電極４６は、図に示すような金属細線４６−１，４６−２，…，４６−（２ｍ＋１）（ｍは正の整数）から構成されている。
これらのうち金属細線４６−１，４６−２，…，４６−（ｍ＋１）は、図中１番上に位置する金属細線４６−１が最も短く、以下、ある金属細線４３−ｉ（ただし、ｉ＝２，３，…，ｍ＋１）は、その図中直上に位置する金属細線４３−（ｉ−１）に対して若干長くなる、という形状を各々もつ。他方、金属細線４６−（２ｍ＋１），４６−（２ｍ），４６−（２ｍ−１），…，４６−（ｍ＋１）は、図中１番下に位置する金属細線４６−（２ｍ＋１）が最も短く、以下、ある金属細線４３−ｊ（ただし、ｊ＝２ｍ，２ｍ−１，２ｍ−２，…，ｍ＋１）は、その図中直下に位置する金属細線４３−（ｊ＋１）に対して若干長くなる、という形状を各々もつ。なお、金属細線４６−１と４６−（２ｍ＋１）、金属細線４６−２と４６−（２ｍ）、…というように、金属細線４６−（ｍ＋１）を中心として図中上下で対応関係にある各金属細線は、同じ長さをもつ。
そして、金属細線４６−１，４６−２，…，４６−（２ｍ＋１）の図中左右方向でみた中央位置は直線上に乗るように、その配置位置が揃えられている。
このように配列された金属細線４６−１，４６−２，…，４６−（２ｍ＋１）を全体的に観察すると、それは、前述した「菱形形状」を形作る。

なお、金属細線４６−（ｍ＋１）は、前記の接続配線４６９それ自体か、あるいはその一部を構成する。
また、各金属細線４６−１，４６−２，…，４６−（ｍ＋１）の配置関係について、満たされていると好ましい数値的条件は、第１実施形態と同様である。これら各金属細線４６−１，４６−２，…，４６−（ｍ＋１）がＣｒ等からなると好ましいこと、あるいはこれら各金属細線４６−１，４６−２，…，４６−（ｍ＋１）間に絶縁膜が形成されていると好ましいこと、といった点についても同様である。

以上述べたようなＹ方向電極を備える兼用金属薄膜４０Ａ及びＸ方向電極を備える対応電極４０Ｂを備えた第３及び第４実施形態によっても、前記の第１実施形態によって奏された作用効果と、本質的に異ならない作用効果が奏される。

すなわち、これら第３及び第４実施形態においても、位置検出機能及び偏光機能が同様に発揮される。
まず、Ｙ方向電極を構成する菱形電極４６が、第１実施形態と同様、金属細線４６−１，４６−２，…，４６−（ｍ＋１）を備えていることから、同実施形態において説明したのと同様の機序により、偏光機能は発揮される。
次に、第１実施形態とは態様は異なるものの、第３及び第４実施形態においても、位置検出機能が発揮される。
すなわち、第３及び第４実施形態では、図１０に示すように、Ｘ方向電極及びＹ方向電極が平面視して格子を形作るように配置されているので、この格子上のいずれかの位置にユーザの指等が触れれば、当該指等とそれが触れるＸ方向電極との間にコンデンサが形成され、また、当該指等とそれが触れるＹ方向電極との間にコンデンサが形成される。このコンデンサの形成によって、当該のＸ方向電極及びＹ方向電極の静電容量は増大する。静電容量検出回路５４の位置検出部は、このような場合において生じる静電容量の変化量、あるいは更には最大の静電容量をもつＸ方向電極及びＹ方向電極を検出する。
より具体的には例えば、ユーザの指等が、図１０の破線丸印ＦＲの位置に触れると、この指等と図中左から数えて４番目のＹ方向電極との間にコンデンサが形成される。この場合、仮に、兼用金属薄膜４０Ａが図に示される４本のＹ方向電極のみからなるとして、その図中左から１番目から４番目の容量比が、順に、０．０、０．０、０．３及び０．７となったとすると、その重心は、（１×０．０）＋（２×０．０）＋（３×０．３）＋（４×０．７）＝３．７と求められる。このようにして、指等が、Ｙ方向のどの位置に触れらたかが判明するのである。Ｘ方向電極についても同様である。
以上の機序により、指等が、兼用金属薄膜４０Ａ又は対応電極４０Ｂのどこに触れたかを、特定値たるＸ座標値及びＹ座標値の組として取得することが可能となる。

＜第５実施形態＞
以下では、本発明に係る第５の実施の形態について図１２を参照しながら説明する。なお、これら第５実施形態は、上記第１実施形態と比べて、液晶装置ＬＤに代えて、有機ＥＬ（Electronic Luminescence）装置が備えられている点等について特徴的な変更があるものであり、その他の構成については、上記第１実施形態と全く同じである。したがって、以下では、その説明については省略する。

第５実施形態の有機ＥＬ装置１０４は、図１２に示すように、第１基板１０Ｌを備えるとともに、この第１基板１０Ｌの上に、スイッチング素子としてのＴＦＴ、走査線、データ線、ＯＬＥＤ（Organic Light Emitting Diode）素子、及びこれら各要素間に適宜設けられる透光性の層間絶縁膜等が順次構築される（図１２ではいずれも不図示）。このうちＯＬＥＤ素子は、画素電極、有機ＥＬ物質からなる発光層、共通電極の積層構造等その他の構成を持つ。画素電極には、データ線を通じて供給される画像信号が書き込まれる。画像信号が書き込まれると、前記発光層は自ら発光する。

このような有機ＥＬ装置１０４は更に、第１実施形態で述べたのと同様の、兼用金属薄膜４０を備えている。また、この兼用金属薄膜４０に隣接して、位相差板７０が備えられている。結局、第５実施形態に係る有機ＥＬ装置１０４は、その断面をみると、全体的な構成の積層順番が、図１２中下から、第１基板１０Ｌ、カラーフィルタＣＦ及び遮光膜ＢＭ、第２基板２０、位相差板７０、及び兼用金属薄膜４０となっている。このうち、カラーフィルタＣＦ及び遮光膜ＢＭは第２基板２０上に形成されている。

第５実施形態においては、液晶装置ＬＤが設けられておらず、自発光素子たるＯＬＥＤ素子が備えられているので、上記第１から第４の各実施形態で必要であった照明装置ＬＢが不要である。加えて、液晶分子の配向状態に応じた光透過という現象についても考慮する必要がないので、透過光に偏光作用を及ぼすことが不可欠的に必要とされているわけではない。
しかし、有機ＥＬ装置１０４において、図１２に示すような偏光機能をもつ兼用金属薄膜４０及び位相差板７０を設けると、ＯＬＥＤ素子を発した光に円偏光作用を及ぼすことができる。これによって、当該有機ＥＬ装置１０４の外部から入射する光の反射（外光反射）を抑制することができる。
また、この有機ＥＬ装置１０４は、兼用金属薄膜４０を備えているので、当然ながら位置検出機能も発揮されるのである。
このように、有機ＥＬ装置１０４であっても、本発明の適用は可能である。そして、当然ながら、この場合も、装置全体の薄型化が達成される。

以上、本発明に係る実施の形態について説明したが、本発明に係る電気光学装置は、上述した形態に限定されることはなく、各種の変形が可能である。
例えば、上述の各実施形態においては、そのいずれにおいても図示及び説明をしていないが、位置検出用の電極を保護するための保護膜を形成することができる。具体的にいえば、第１実施形態（図２）では兼用金属薄膜４０の図中上側に、第３実施形態（図８）では対応電極４０Ｂの図中上側に、第４実施形態（図９）では兼用金属薄膜４０Ａの図中上側に、第５実施形態（図１２）では兼用金属薄膜４０の図中上側に、それぞれ、保護膜を形成することができる。
なお、第２実施形態では、第２基板２０が、兼用金属薄膜４０からみて、より外側に位置しているので、この第２基板２０が保護膜としての機能を同時に発揮しうる。つまり、この場合には、特別に保護膜を設けてなくてもよいのである。したがって、第２実施形態は、更なる薄型化という効果を奏するには、より実効的な形態ということができる。

＜応用例＞
次に、本発明に係る液晶表示装置１００を利用した電子機器について説明する。図１３ないし図１６には、以上に説明した何れかの形態に係る液晶表示装置１００を採用した電子機器の形態が図示されている。

図１３は、表示装置１００を採用したモバイル型のパーソナルコンピュータの構成を示す斜視図である。パーソナルコンピュータ２０００は、各種の画像を表示する液晶表示装置１００と、電源スイッチ２００１やキーボード２００２が設置された本体部２０１０とを具備する。

図１４は、液晶表示装置１００を適用した携帯電話機の構成を示す斜視図である。携帯電話機３０００は、複数の操作ボタン３００１およびスクロールボタン３００２と、各種の画像を表示する液晶表示装置１００とを備える。スクロールボタン３００２を操作することによって、液晶表示装置１００に表示される画面がスクロールされる。

図１５は、液晶表示装置１００を適用した携帯情報端末（ＰＤＡ：Personal Digital Assistants）の構成を示す斜視図である。携帯情報端末４０００は、複数の操作ボタン４００１および電源スイッチ４００２と、各種の画像を表示する表示装置１００とを備える。電源スイッチ４００２を操作すると、住所録やスケジュール帳といった様々な情報が液晶表示装置１００に表示される。

図１６は、液晶表示装置１００を適用したカーナビゲーション装置の構成を示す図である。カーナビゲーション装置５０００は、複数の操作ボタン５００１と、各種の画像を表示する液晶表示装置１００とを備える。操作ボタン５００１を操作すると、経路情報を含む道路地図や、渋滞情報、あるいは、お勧め観光スポット等の様々な情報（以下、「運行関連情報」という。）が液晶表示装置１００に表示される。
また、このカーナビゲーション装置５０００では、液晶表示装置１００を利用して、ＤＶＤ、ビデオテープ、あるいはテレビ受像信号等に基づく動画像等の表示を行うこともできる。

なお、本発明に係る液晶表示装置１００が適用される電子機器としては、図５から図８に例示した機器のほか、デジタルスチルカメラ、テレビ、ビデオカメラ、ページャ、電子手帳、電子ペーパー、電卓、ワードプロセッサ、ワークステーション、テレビ電話、ＰＯＳ端末、プリンタ、スキャナ、複写機、ビデオプレーヤ、タッチパネルを備えた機器等などが挙げられる。

本発明の第１実施形態に係る液晶表示装置の斜視分解図である。 図１の液晶表示装置の断面図である。 兼用金属薄膜において位置検出機能を担う検出電極の形状及び配置態様等を示す平面図である。 兼用金属薄膜において偏光機能を担う金属細線の形状及び配置態様等を示す平面図である。 遮光膜（の一部）の配置態様を示す平面図である。 本発明の第２実施形態に係る液晶表示装置の斜視分解図である。 図６の液晶表示装置の断面図である。 本発明の第３実施形態に係る液晶表示装置の断面図である。 本発明の第４実施形態に係る液晶表示装置の断面図である。 本発明の第３及び第４実施形態に係る兼用金属薄膜において、位置検出機能を担う検出電極の形状及び配置態様等を示す平面図である。 本発明の第３及び第４実施形態に係る兼用金属薄膜において、偏光機能を担う金属細線の形状及び配置態様等を示す平面図である。 本発明の第５実施形態に係る有機ＥＬ装置の断面図である。 本発明に係る電子機器の形態（パーソナルコンピュータ）を示す斜視図である。 本発明に係る電子機器の形態（携帯電話機）を示す斜視図である。 本発明に係る電子機器の形態（携帯情報端末）を示す斜視図である。 本発明に係る電子機器の形態（カーナビゲーション装置）を示す図である。

符号の説明

１００……液晶表示装置、ＬＤ……液晶装置、９・９１……画素電極、９５……共通電極、１０・１０Ｌ……第１基板、２０……第２基板、３０……偏光板、４０・４０Ａ……偏光素子兼位置検出用金属薄膜、４０Ｂ……対応電極、ＣＦ……カラーフィルタ、ＢＭ・ＢＭ１……遮光膜、ＬＢ……照明装置、４３・４４……検出電極、４３Ｌ・４４Ｌ……配線、４３−１，４３−２，…，４３−ｎ……金属細線，４３１・４３２……短絡線、ＢＲ１……隙間領域、４６・４７……菱形電極、４６−１，４６−２，…，４６−（２ｍ＋１）……金属細線、４６９・４７９……接続配線、

Claims (12)

1. 画面上で指定された位置を検出可能なタッチパネル装置を備えたタッチパネル装置付き電気光学装置であって、
   光源と、
   前記光源から発し透過しようとする光に偏光作用を及ぼす偏光機能と、位置検出用電極を備えることで前記指定された位置を検出する位置検出機能とを兼ね備えた偏光素子兼位置検出用電極付置基板と、
   を備えたことを特徴とするタッチパネル装置付き電気光学装置。
2. 前記位置検出用電極は、
   前記光の波長よりも短い周期でストライプ状に並べられた複数の金属細線を含み、
   当該位置検出用電極の輪郭形状は、前記複数の金属細線の集合体の輪郭形状に一致し、
   前記偏光機能は、前記複数の金属細線間を前記光が透過する際に発揮される、
   ことを特徴とする請求項１に記載の電気光学装置。
3. 前記複数の金属細線の各々を短絡させる短絡線が更に備えられる、
   ことを特徴とする請求項２に記載の電気光学装置。
4. 前記位置検出用電極は、その一端からその他端に向けて、その幅が漸次大きくなる第１，第２，…，第２Ｎの電極（ただし、Ｎは正の整数）からなり、
   このうちの第ｐの電極と、第（ｐ＋１）の電極（ただし、ｐ＝１，３，５，…，（２Ｎ−１））とは、検出電極対を構成し、
   前記検出電極対は、
   前記第ｐの電極の一端が前記第（ｐ＋１）の電極の他端に対応するように、かつ、前記第ｐの電極の他端が前記第（ｐ＋１）の電極の一端に対応するように、これら第ｐの電極及び第（ｐ＋１）の電極が配置されることで構成され、
   前記位置検出用電極は、
   当該検出電極対が、前記第ｐの電極の一端から他端に向かう方向に交差する方向に、繰り返し配列される構造をもつ、
   ことを特徴とする請求項１乃至３のいずれか一項に記載の電気光学装置。
5. 前記第１，第２，…，第２Ｎの電極の輪郭形状は、三角形を含む、
   ことを特徴とする請求項４に記載の電気光学装置。
6. 前記画面は、マトリクス状に配列された複数の画素領域に区分可能であり、
   前記画素領域間を縫うように格子状に形成される遮光膜を更に備えてなり、
   前記第１，第２，…，第２Ｎの電極の各々の間に形成される隙間領域の少なくとも一部は、前記遮光膜の形成領域の少なくとも一部と一致する、
   ことを特徴とする請求項４又は５に記載の電気光学装置。
7. 第１基板及び第２基板と、
   これら第１基板及び第２基板間に挟持される液晶と、
   前記第１基板上に形成される画素電極及び共通電極と、
   を更に備え、
   前記液晶には、前記画素電極及び前記共通電極間の電位差が印加されることで、前記第１基板の表面に平行な成分を含む電界が印加され、
   前記第２基板は、前記偏光素子兼位置検出用電極付置基板に該当する、
   ことを特徴とする請求項４乃至６のいずれか一項に記載の電気光学装置。
8. 前記位置検出用電極は、前記第２基板の前記液晶に対向する側の面の上に形成される、
   ことを特徴とする請求項７に記載の電気光学装置。
9. 前記偏光素子兼位置検出用電極付置基板における前記位置検出用電極の形成面とは反対側の面に形成され、当該位置検出用電極に対応する対応電極を更に備え、
   前記対応電極は、
   前記第１方向に沿って延在する第１長尺電極を含み、かつ、
   前記第１長尺電極の複数が前記第１方向に交差する第２方向に沿って繰り返し配列される構造をもち、
   前記位置検出用電極は、
   前記第２方向に沿って延在する第２長尺電極を含み、かつ、
   前記第２長尺電極の複数が前記第１方向に沿って繰り返し配列される構造をもつ、
   ことを特徴とする請求項１乃至３のいずれか一項に記載の電気光学装置。
10. 前記第１長尺電極は、その延在する方向に沿った第１間隔毎に複数の第１幅広部をもち、
    前記第２長尺電極は、その延在する方向に沿った第２間隔毎に複数の第２幅広部をもち、
    前記第１間隔は、
    前記第１幅広部が、前記第１方向に沿ってみた前記複数の第２長尺電極間の隙間を埋めるような位置に位置づけられるように、定められ、
    前記第２間隔は、
    前記第２幅広部が、前記第２方向に沿ってみた前記複数の第１長尺電極間の隙間を埋めるような位置に位置づけられるように、定められる、
    ことを特徴とする請求項９に記載の電気光学装置。
11. 前記画面は、マトリクス状に配列された複数の画素領域に区分可能であり、
    前記画素領域間を縫うようにして格子状に形成される遮光膜を更に備えてなり、
    前記複数の第１長尺電極間及び前記複数の第２長尺電極間の隙間領域、並びに、平面視した場合に見られる前記第１長尺電極及び前記第２長尺電極間の隙間領域、の少なくとも一部は、前記遮光膜の形成領域の少なくとも一部と一致する、
    ことを特徴とする請求項９乃至１０のいずれか一項に記載の電気光学装置。
12. 請求項１乃至１１のいずれか一項に記載の電気光学装置を備える、
    ことを特徴とする電子機器。
    

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