WO2010137316A1 - 静電容量型入力装置 - Google Patents

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田中博
上野隆
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Definitions

  • the present invention relates to a capacitance-type input device that includes a plurality of translucent electrodes arranged in the same layer and can detect the position of an electrode that is touched by a finger or the like.
  • touch panels have been adopted for operation units of various electronic devices such as mobile phones, portable information terminals and car navigation systems.
  • the touch panel is configured by attaching an input device capable of detecting a contact position of a finger or the like on a display screen of a display device such as a liquid crystal panel.
  • input devices such as a resistance film type and a capacitance type, depending on the structure and detection method.
  • the capacitance-type input device has a translucent conductive film (translucent electrode) on one substrate, and via an electrostatic capacitance (formed by touching a finger or the like).
  • FIG. 6 is a plan view showing a schematic configuration of a conventional capacitance type input device described in Patent Document 1
  • FIG. 7 is an enlarged cross-sectional view of the VII-VII line shown in FIG.
  • the capacitive input device 91 has a plurality of X-axis traces 93 extending on the substrate 92 in the X-axis direction (vertical direction in the figure), and extending in the Y-axis direction (left-right direction in the figure).
  • a plurality of Y-axis traces 94 arranged to intersect with each other, and detect the contact position of a finger or the like in the X-axis direction and the Y-axis direction.
  • the X-axis trace 93 is formed by interconnecting a plurality of transparent electrodes 95 aligned in the X-axis direction.
  • the Y-axis trace 94 is formed by electrically connecting a plurality of transparent electrodes 96 arranged intermittently in the Y-axis direction via a jumper 99 made of a conductive material.
  • the jumper 99 is formed on the insulating film 97 stacked on the X-axis trace 93 and the Y-axis trace 94 so as to straddle the upper part of a part of the X-axis trace (the connecting portion of the adjacent pair of transparent electrodes 95).
  • the through hole 98 located on the transparent electrode 96 is connected to the transparent electrode 96.
  • an insulating film is formed on the entire surface of the substrate 92 in order to insulate between the X-axis trace 93 and the jumper 99 formed across the X-axis trace 93.
  • Through holes 98 are provided only at the connection points between 99 and the transparent electrode 96.
  • Patent Document 2 describes a configuration in which an insulating film is formed only on a portion where a jumper straddles instead of providing an insulating film on the entire surface of the substrate.
  • the above-described conventional capacitive input device is formed by laminating a translucent electrode, an insulating film, and a jumper (conductor) in this order on a substrate.
  • a jumper conductor
  • the jumper is formed on the side closer to the person (the side opposite to the liquid crystal panel), when the jumper is formed of a conductive material having a metallic luster, the jumper is easily noticeable.
  • FIG. 8 is a plan view for explaining a case where an overhang of the insulating film occurs in the capacitive input device shown in FIG. 6, and FIG. 9 is a cross-sectional view taken along the line IX-IX shown in FIG. It is.
  • the through hole 98 is formed by laminating an insulating film 97 over the entire substrate 92 and then selectively etching a part thereof. However, if the etching processing time becomes too long, the etching further proceeds deeper from the surface of the insulating film 97, and as shown in the cross-sectional view of FIG. There is a case where the shape protrudes toward the center side (overhang).
  • FIG. 10 is a plan view for explaining a case where an overhang of the insulating film occurs in the conventional capacitance type input device described in Patent Document 2, and FIG. 11 is a diagram illustrating XI-XI shown in FIG. It is sectional drawing of a line.
  • the present invention has a structure in which biaxial translucent electrodes are arranged in the same layer, and the jumper that connects the translucent electrodes in one axial direction is not conspicuous and may be disconnected.
  • An object of the present invention is to provide a capacitive input device having a low structure.
  • a capacitance-type input device is formed so as to cover a substrate, a plurality of conductors arranged in a first direction and a second direction orthogonal thereto on the substrate, and the conductors and the substrate.
  • An insulating film, a plurality of first transparent electrodes arranged in the first and second directions on the insulating film, and arranged in the first and second directions on the insulating film, respectively Comprises a plurality of second translucent electrodes arranged between the rows and columns of the first translucent electrodes.
  • Each of the first translucent electrodes aligned in the first direction is electrically connected to each other by a conductor through a through hole formed in the insulating film, and the second transparent electrode aligned in the second direction.
  • Each of the photoelectrodes is connected to each other on the insulating film.
  • the capacitance-type input device includes a substrate, a plurality of conductors arranged in a first direction and a second direction orthogonal thereto on the substrate, and each of the conductors partially.
  • a plurality of insulating films formed so as to cover each other, a plurality of first light-transmissive electrodes arranged in the first and second directions, and a plurality of insulating films arranged in the first and second directions,
  • a plurality of second translucent electrodes disposed between the rows and the columns of the first translucent electrodes.
  • Each of the first translucent electrodes aligned in the first direction is electrically connected to each other by the conductor by contacting a portion of the conductor that is not covered with the insulating film, and the second The second translucent electrodes aligned in the direction are connected to each other on the insulating film.
  • a conductor used to connect the translucent electrodes is placed on the substrate (that is, the inside of the input device).
  • the conductor can be made inconspicuous. Further, by forming each of the first translucent electrodes so as to cover the entire portion of the conductor that is not covered with the insulating layer, the conductor is prevented from being disconnected regardless of the cross-sectional shape of the insulating film. It becomes possible to do.
  • the translucency is transmitted along the inner wall of the through hole without overhang.
  • the electrode can reach the conductor surface. Therefore, disconnection of the conductor can be prevented regardless of the cross-sectional shape of the inner wall of the through hole.
  • FIG. 1 is a plan view showing a schematic configuration of a capacitive input device according to the first embodiment of the present invention.
  • FIG. 2 is an enlarged sectional view taken along line II-II shown in FIG.
  • FIG. 3 is an enlarged view of the vicinity of the through hole shown in FIG.
  • FIG. 4 is a plan view showing a schematic configuration of a capacitive input device according to the second embodiment of the present invention.
  • FIG. 5 is an enlarged end view of the VV line shown in FIG.
  • FIG. 6 is a plan view showing a schematic configuration of a conventional capacitive input device.
  • FIG. 7 is an enlarged sectional view taken along line VII-VII shown in FIG. FIG.
  • FIG. 8 is a plan view for explaining a case where an overhang of the insulating film occurs in the capacitive input device shown in FIG.
  • FIG. 9 is a sectional view taken along line IX-IX shown in FIG.
  • FIG. 10 is a plan view for explaining a case where an overhang of an insulating film occurs in a conventional capacitance type input device.
  • 11 is a cross-sectional view taken along line XI-XI shown in FIG.
  • FIG. 1 is a plan view showing a schematic configuration of the capacitive input device according to the first embodiment of the present invention
  • FIG. 2 is an enlarged sectional view taken along line II-II shown in FIG.
  • FIG. 3 is an enlarged view of the vicinity of the through hole shown in FIG.
  • the capacitive input device 1 includes a substrate 2, a plurality of jumpers 8, an insulating film 6, a plurality of first translucent electrodes 3, and a plurality of second translucent electrodes 4.
  • the jumper 8, the insulating film 6, and the translucent electrodes (the first translucent electrode 3 and the second translucent electrode 4) are formed on the substrate 2 in this order.
  • the jumpers 8 are formed of a conductive material, and are arranged in a matrix on the surface of the substrate 2. Each of the jumpers 8 is for connecting the first translucent electrode 3 in the X-axis direction, and both end portions thereof overlap with each of the pair of first translucent electrodes 3 adjacent in the X-axis direction. These positions and dimensions are formed.
  • the jumper 6 can be formed of, for example, ITO (Indium Tin Oxide), a Mo / Al / Mo laminate, Ag, an Ag alloy, or a conductive polymer.
  • the insulating film 6 is formed by laminating an insulating material so as to cover the entire surface of the jumper 8 and the substrate 2, and a portion where the first translucent electrode 3 and the jumper 8 overlap is formed on the surface of the jumper 8. Through holes 7 reaching up to are provided.
  • the first translucent electrode 3 and the second translucent electrode 4 are arranged in a matrix in the same layer in the X-axis direction and the Y-axis direction orthogonal thereto.
  • the first translucent electrode 3 and the second translucent electrode 4 are formed in the same process using a translucent conductive material such as ITO.
  • each of the first translucent electrodes 3 is not connected to either the X axis direction or the Y axis direction on the insulating film 6, but through the through hole 7. Are connected to a jumper 8 on the substrate 2. As a result, the first translucent electrodes 3 aligned in the X-axis direction are electrically connected to each other.
  • each of the second translucent electrodes 4 is disposed between the rows and the columns of the first translucent electrodes 3 and patterned on the insulating film 6 simultaneously with the second translucent electrodes 4. They are connected to each other in the Y-axis direction via the connecting portion 5.
  • the jumper 8 is formed on the surface of the substrate 2, and the insulating film 6 and the first and second translucent electrodes 3 and 4 are formed thereon. Therefore, the jumper 8 can be made inconspicuous when viewed from the front side.
  • the first translucent electrode 3 since the entire opening of the through hole 7 is covered with the first translucent electrode 3, for example, an overhang of the insulating film (see FIG. 9) occurs in the range of the arrow shown in FIG. Even in this case, the first translucent electrode 3 can reach the surface of the jumper 8 along the inner wall of the through hole 7 without overhang. Therefore, disconnection of the jumper 8 can be prevented regardless of the cross-sectional shape of the inner wall of the through hole 7.
  • the jumper 8 can be formed of various conductive materials. However, when a light-shielding material is used, there are the following advantages.
  • the alignment mark for positioning can be formed on the substrate 2 using the same material as the jumper 8 in the same process as the patterning of the jumper 8. As a result, it is possible to reduce the alignment mark formation process, and positioning at the time of exposure using a standard reading mechanism without any special modification to the exposure machine used to form the second and subsequent layers. It becomes possible to do.
  • the alignment is performed by visually confirming with a microscope or the like when forming the second and subsequent layers, the visibility is improved because the first-layer jumper 8 is formed of a light-shielding material. It is possible to easily perform alignment.
  • a conductive polymer material can be employed as the light shielding material.
  • a polymer film has a trade-off relationship between translucency and conductivity.
  • the jumper 8 is formed in a limited range, even if there is a light-shielding property, it gives the light transmittance of the entire input device. The impact is small.
  • the conductivity any material having a resistance value comparable to that of ITO may be used, so that a highly conductive conductive polymer can be used.
  • the jumper 8 and a metal wiring layer (not shown) on the substrate 2 can be patterned simultaneously in one process. It is also possible to reduce costs by reducing the cost.
  • FIG. 4 is a plan view showing a schematic configuration of a capacitive input device according to a second embodiment of the present invention
  • FIG. 5 is a diagram of a VV line shown in FIG. It is an enlarged end view.
  • the capacitive input device has a jumper 8, an insulating film 6, and a translucent electrode (the first translucent electrode 3 and the second translucent electrode) on the substrate 2.
  • the transparent electrode 4) is sequentially laminated, the region where the insulating film 6 is formed is different from that of the first embodiment.
  • the difference between the present embodiment and the first embodiment will be mainly described.
  • the insulating film 6 is provided only in a portion that intersects with the connecting portion 5 that connects the adjacent second translucent electrodes 4. More specifically, the insulating film 6 partially covers each of the jumpers 8 except for a part (shaded portion) of a portion where the jumper 8 and each of the adjacent first translucent electrodes 3 overlap. It is formed as follows. In the present embodiment, both end portions of the jumper 8 are provided with portions that are not covered with the insulating film 6, but the region that is not covered with the insulating film 6 does not necessarily have to be end portions. What is necessary is just to be a part of the overlap part of the jumper 8 and a translucent electrode.
  • each of the first translucent electrodes 3 is formed so as to cover a part of the surface of the jumper 8 that is not covered by the insulating film 6 (shaded portion), and the part of the jumper 8 is covered. Abut. As a result, the first translucent electrodes 3 aligned in the X-axis direction are electrically connected to each other. On the other hand, each of the 2nd translucent electrode aligned in a Y-axis direction is connected via the connection part 5 on the insulating film 6 which covers the jumper 8.
  • the jumper 8 is formed on the surface of the substrate 2, and the insulating film 6 and the first and second translucent electrodes 3 and 4 are formed thereon. Therefore, the jumper 8 can be made inconspicuous when viewed from the front side.
  • a part of the jumper 8 that is not covered with the insulating film 6 and the first translucent electrode 3 can be in surface contact with each other. As shown in the cross section of FIG. 5, even when an overhang (a state in which the surface side portion of the insulating film 6 protrudes further outward in the cross section of the outer peripheral wall of the insulating film 6) occurs, The connection between the photoelectrode 3 and the jumper 8 can be ensured.
  • the example in which the translucent electrode is connected in the X-axis direction via the jumper is shown.
  • the translucent electrode in the direction may be connected through the connecting portion, and the translucent electrode in the Y-axis direction may be connected with a jumper.
  • the present invention can be used to configure a touch panel used as an input / output device for various electronic devices.

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Abstract

　同一レイヤに２軸方向の透光性電極を配列した構造であって、一方の軸方向の透光性電極を相互に接続するジャンパーが目立ちにくく、断線する可能性の低い構造を有する静電容量型入力装置を提供する。基板２の表面に、導電性材料よりなるジャンパー８を形成した後、ジャンパー８及び基板２を覆うように絶縁膜６を設け、絶縁膜６上に第１の透光性電極３及び第２の透光性電極４がマトリクス状に形成されている。図の左右方向に整列する第１の透光性電極３の各々は、絶縁膜６に形成されたスルーホール７を通じてジャンパー８によって電気的に接続されている。一方、紙面と直交する方向に整列する第２の透光性電極４の各々は、第２の透光性電極４と一体的にパターニングされる接続部５を介して連結されている。第１の透光性電極３を接続するジャンパー８を基板２上に設けたことによって、表面側から見たときに目立ちにくくすることができる。

Description

静電容量型入力装置
　本発明は、同一レイヤに配列された複数の透光性電極を備え、指等が接触した電極の位置を検出できる静電容量型入力装置に関するものである。
　近年、携帯電話機や、携帯情報端末、カーナビゲーションシステムを始め、様々な電子機器の操作部にタッチパネルが採用されている。タッチパネルは、液晶パネル等の表示装置の表示画面上に、指等の接触位置を検出可能な入力装置を貼り合わせて構成される。タッチパネルを構成する入力装置には、その構造及び検出方式の違いにより、抵抗膜型や静電容量型等の様々なタイプがある。このうち、静電容量型入力装置は、１枚の基板上に透光性導電膜（透光性電極）を有し、静電容量（指等がタッチすることによって形成される）を介して流れる微弱電流量の変化を検出することによって被接触位置を特定するものであり、抵抗膜型入力装置と比べて、より高い透過率が得られるという利点がある。
　図６は、特許文献１に記載されている従来の静電容量型入力装置の概略構成を示す平面図であり、図７は、図６に示すＶＩＩ－ＶＩＩラインの拡大断面図である。
　静電容量型入力装置９１は、基板９２上に、Ｘ軸方向（図の上下方向）に延びる複数のＸ軸トレース９３と、Ｙ軸方向（図の左右方向）に延び、Ｘ軸トレース９３と交差して配置される複数のＹ軸トレース９４とを備え、Ｘ軸方向及びＹ軸方向における指等の接触位置をそれぞれ検出する。
　Ｘ軸トレース９３は、Ｘ軸方向に整列する複数の透明電極９５を相互に連結することによって形成されている。一方、Ｙ軸トレース９４は、Ｙ軸方向に間欠的に配置される複数の透明電極９６を導電性の材料よりなるジャンパー９９を介して電気的に接続することによって形成されている。ジャンパー９９は、Ｘ軸トレースの一部（隣接する一対の透明電極９５の連結部分）の上方を跨ぐように、Ｘ軸トレース９３及びＹ軸トレース９４上に積層された絶縁膜９７上に形成され、透明電極９６上に位置するスルーホール９８を通じて透明電極９６に接続されている。
　このように、特許文献１に記載された構成では、Ｘ軸トレース９３とこれを跨いで形成されるジャンパー９９との間を絶縁するために、基板９２の全面に絶縁膜を成膜し、ジャンパー９９と透明電極９６との接続箇所にのみスルーホール９８を設けている。
　また、特許文献２には、基板の全面に絶縁膜を設ける代わりに、ジャンパーが跨ぐ部分にのみ絶縁膜を形成した構成が記載されている。
登録実用新案第３１４４５６３号公報 登録実用新案第３１４４２４１号公報
　上記の従来の静電容量型入力装置は、基板上に、透光性電極、絶縁膜、ジャンパー（導電体）をこの順に積層することにより形成される。この場合、次のような問題がある。
　第１に、ジャンパーが人に近い側（液晶パネルと反対側）に形成されるので、ジャンパーを金属光沢を有する導電材料で形成した場合、ジャンパーが見た目に目立ちやすくなってしまう。
　第２に、絶縁膜の一部がオーバーハング状態で形成された場合、ジャンパーがオーバーハング部分を跨ぐ可能性が高く、ジャンパーの断線に繋がりやすいという問題がある。
　図８は、図６に示す静電容量型入力装置において、絶縁膜のオーバーハングが発生した場合を説明するための平面図であり、図９は、図８に示すＩＸ－ＩＸラインの断面図である。
　スルーホール９８は、基板９２上の全体に渡って絶縁膜９７を積層した後、その一部を選択的にエッチングすることによって形成される。しかしながら、エッチングの処理時間が長くなり過ぎると、絶縁膜９７の表面から深い部分でエッチングがより進行して、図９の断面図に示すように、絶縁膜９７の表面側の部分がスルーホール９８の中心側に向かってせり出した形状（オーバーハング）となる場合がある。
　例えば、図８に示す矢印で示した範囲にオーバーハングが生じると、図９の二点鎖線で模式的に示すように、隣接する一対の透明電極９６を接続するためのジャンパー９９が断線し、Ｙ軸トレース９４の導通状態が得られなくなってしまう。ここで、スルーホールの半周にオーバーハングが生じると仮定すると、およそ５０％の確率でジャンパー９９の形成領域とオーバーハング領域とが重なるので、かなりの確率で断線が生じてしまうことがわかる。
　図１０は、特許文献２に記載の従来の静電容量型入力装置において、絶縁膜のオーバーハングが発生した場合を説明するための平面図であり、図１１は、図１０に示すＸＩ－ＸＩラインの断面図である。
　同様の問題は、ジャンパー９９がＸ軸トレース９３を跨ぐ部分にのみ絶縁膜９７を設けた特許文献２に記載の構造でも生じ得る。例えば、図１０に矢印で示した範囲（絶縁膜９７の短辺部分）にオーバーハングが生じると、図１１の二点鎖線で模式的に示すように、ジャンパー９９が断線してしまい、Ｙ軸トレース９４が導通しなくなる。
　それ故に、本発明は、同一レイヤに２軸方向の透光性電極を配列した構造であって、一方の軸方向の透光性電極を相互に接続するジャンパーが目立ちにくく、断線する可能性の低い構造を有する静電容量型入力装置を提供することを目的とする。
　本発明に係る静電容量型入力装置は、基板と、基板上において第１の方向及びこれと直交する第２の方向に配列される複数の導電体と、導電体及び基板を覆うように形成される絶縁膜と、絶縁膜上において第１及び第２の方向に配列される複数の第１の透光性電極と、絶縁膜上において第１及び第２の方向に配列されると共に、各々が第１の透光性電極の行間及び列間に配置される複数の第２の透光性電極とを備える。第１の方向に整列する第１の透光性電極の各々は、絶縁膜に形成されたスルーホールを通じて、導電体によって相互に電気的に接続され、第２の方向に整列する第２の透光性電極の各々は、絶縁膜上において相互に接続される。
　また、本発明に係る静電容量型入力装置は、基板と、基板上において第１の方向及びこれと直交する第２の方向に配列される複数の導電体と、導電体の各々を部分的に覆うように形成される複数の絶縁膜と、第１及び第２の方向に配列される複数の第１の透光性電極と、第１及び第２の方向に配列されると共に、各々が第１の透光性電極の行間及び列間に配置される複数の第２の透光性電極とを備える。第１の方向に整列する第１の透光性電極の各々は、導電体のうち、絶縁膜によって覆われていない部分に当接することで、導電体によって相互に電気的に接続され、第２の方向に整列する第２の透光性電極の各々は、絶縁膜上において相互に接続される。
　本発明によれば、同一レイヤに複数の透光性電極を配列した静電容量型入力装置において、透光性電極同士を接続するために用いられる導電体が基板上（すなわち、入力装置の内部）に形成されるため、導電体を目立ちにくくすることができる。また、導電体のうち絶縁層で覆われていない部分の全体を覆うように第１の透光性電極の各々を形成することにより、絶縁膜の断面形状にかかわらず、導電体の断線を防止することが可能となる。
　また、スルーホールの開口部全体を透光性電極で覆った場合、開口部の一部の範囲に絶縁膜のオーバーハングが生じても、オーバーハングのないスルーホールの内壁に沿って透光性電極が導電体表面に到達することができる。したがって、スルーホール内壁の断面形状にかかわらず、導電体の断線を防止することができる。
　更に、絶縁膜によって覆われていない導電体の一部と、透光性電極とが面接触できるので、エッチング処理によって、絶縁膜の外周壁にオーバーハングが生じた場合でも、透光性電極と導電体との接続を確保することができる。
図１は、本発明の第１の実施形態に係る静電容量型入力装置の概略構成を示す平面図である。 図２は、図１に示すＩＩ－ＩＩラインの拡大断面図である。 図３は、図１に示すスルーホール近傍の拡大図である。 図４は、本発明の第２の実施形態に係る静電容量型入力装置の概略構成を示す平面図である。 図５は、図４に示すＶ－Ｖラインの拡大端面図である。 図６は、従来の静電容量型入力装置の概略構成を示す平面図である。 図７は、図６に示すＶＩＩ－ＶＩＩラインの拡大断面図である。 図８は、図６に示す静電容量型入力装置において、絶縁膜のオーバーハングが発生した場合を説明するための平面図である。 図９は、図８に示すＩＸ－ＩＸラインの断面図である。 図１０は、従来の静電容量型入力装置において、絶縁膜のオーバーハングが発生した場合を説明するための平面図である。 図１１は、図１０に示すＸＩ－ＸＩラインの断面図である。
　（第１の実施形態）
　図１は、本発明の第１の実施形態に係る静電容量型入力装置の概略構成を示す平面図であり、図２は、図１に示すＩＩ－ＩＩラインの拡大断面図である。また、図３は、図１に示すスルーホール近傍の拡大図である。
　静電容量型入力装置１は、基板２と、複数のジャンパー８と、絶縁膜６と、複数の第１の透光性電極３と、複数の第２の透光性電極４とを備える。ジャンパー８、絶縁膜６、透光性電極（第１の透光性電極３及び第２の透光性電極４）は、基板２上にこの順序で形成されたものである。
　ジャンパー８は、導電性を有する材料によって形成され、基板２の表面に行列上に配列されている。ジャンパー８の各々は、第１の透光性電極３をＸ軸方向に接続するためのものであり、両端部がＸ軸方向に隣接する一対の第１の透光性電極３の各々と重なり合うような位置及び寸法に形成されている。ジャンパー６は、例えば、ＩＴＯ（Ｉｎｄｉｕｍ　Ｔｉｎ　Ｏｘｉｄｅ）、Ｍｏ／Ａｌ／Ｍｏの積層体、Ａｇ、Ａｇ合金、導電性高分子により形成することができる。
　絶縁膜６は、絶縁材料をジャンパー８及び基板２の表面全体を覆うように積層することにより形成され、第１の透光性電極３とジャンパー８とが重なり合う部分には、ジャンパー８の表面にまで達するスルーホール７が設けられている。
第１の透光性電極３及び第２の透光性電極４は、同一レイヤ内で、Ｘ軸方向及びこれと直交するＹ軸方向にマトリクス状に配列されている。第１の透光性電極３及び第２の透光性電極４は、ＩＴＯ等の透光性の導電材料を用いて、同一工程で形成される。
　第１の透光性電極３の各々は、図１に示されるように、絶縁膜６上においてはＸ軸方向及びＹ軸方向のいずれにも相互に接続されていないが、スルーホール７を介して基板２上のジャンパー８に接続されている。この結果、Ｘ軸方向に整列する第１の透光性電極３が相互に電気的に接続された状態となる。
　一方、第２の透光性電極４の各々は、第１の透光性電極３の行間及び列間に配置され、絶縁膜６上において、第２の透光性電極４と同時にパターニングされる接続部５を介してＹ軸方向に相互に連結されている。
　Ｘ軸方向に接続される第１の透光性電極３と、Ｙ軸方向に接続される第２の透光性電極４とを同一レイヤに配列する場合、交差部分が生じるため、いずれか一方向の接続を行うためにジャンパー８のような配線部が必要となる。本実施形態に係る静電容量型入力装置１では、ジャンパー８を基板２の表面に形成し、その上方に絶縁膜６と第１及び第２の透光性電極３及び４を形成しているため、表面側から見た際にジャンパー８を目立ちにくくすることができる。
　本実施形態では、スルーホール７の開口部全体が第１の透光性電極３によって覆われているため、例えば、図３に示す矢印の範囲に絶縁膜のオーバーハング（図９参照）が生じた場合でも、オーバーハングのないスルーホール７の内壁に沿って第１の透光性電極３がジャンパー８の表面に到達することができる。したがって、スルーホール７内壁の断面形状にかかわらず、ジャンパー８の断線を防止することができる。
　上述したように、ジャンパー８は導電性を有する様々な材料によって形成することができるが、遮光性を有する材料を用いる場合、更に以下のような利点がある。
　ジャンパー８を遮光性材料で形成する場合、ジャンパー８のパターニングと同一工程で、ジャンパー８と同一材料を用いて基板２上に位置決め用のアライメントマークを形成することができる。この結果、アライメントマーク形成プロセスを削減することができると共に、２層目以降の膜を形成するために用いる露光機に特段の改造を施すことなく、標準的な読み取り機構を用いて露光時の位置決めをすることが可能となる。
　また、２層目以降の膜の形成時に顕微鏡等で目視確認して位置合わせを行う場合、１層目のジャンパー８が遮光性材料で形成されていることによって、視認性が向上するので、位置合わせを容易に行うことが可能となる。
　更に、遮光性材料として導電性高分子材料を採用することもできる。一般に、高分子膜は、透光性と導電性がトレードオフの関係にあるが、ジャンパー８が形成される限られた範囲であれば遮光性があっても入力装置全体の光透過性に与える影響は小さい。また、導電性についても、ＩＴＯ程度の抵抗値を有する材料であれば良いため、生産性の高い導電性高分子を利用することができる。
　遮光性材料として金属を用いる場合、ジャンパー８と、基板２上の図示しない金属配線層（透光性電極に接続される配線等）とを、１工程で同時にパターニングすることができるので、工程数を削減してコストダウンを図ることも可能となる。
　（第２の実施形態）　図４は、本発明の第２の実施形態に係る静電容量型入力装置の概略構成を示す平面図であり、図５は、図４に示すＶ－Ｖラインの拡大端面図である。
　本実施形態に係る静電容量型入力装置は、第１の実施形態と同様に、基板２上にジャンパー８、絶縁膜６、透光性電極（第１の透光性電極３及び第２の透光性電極４）を順に積層して構成されているが、絶縁膜６の形成領域が第１の実施形態とは相違する。以下、本実施形態と第１の実施形態との相違点を中心に説明する。
　本実施形態では、隣接する第２の透光性電極４を接続する接続部５と交差する部分にのみ絶縁膜６が設けられている。より詳細には、絶縁膜６は、ジャンパー８と隣接する第１の透光性電極３の各々とが重なり合う部分のうち一部（斜線部）を除いて、ジャンパー８の各々を部分的に覆うように形成されている。尚、本実施形態では、ジャンパー８の両方の端部に絶縁膜６で覆われていない部分が設けられているが、絶縁膜６で覆われない領域は、必ずしも端部である必要はなく、ジャンパー８と透光性電極との重なり部分の一部であれば良い。
　また、第１の透光性電極３の各々は、ジャンパー８の表面のうち、絶縁膜６によって覆われていない一部（斜線部）の全体を覆うように形成され、ジャンパー８の当該一部に当接する。これにより、Ｘ軸方向に整列する第１の透光性電極３が相互に電気的に接続された状態となる。一方、Ｙ軸方向に整列する第２の透光性電極の各々は、ジャンパー８を覆う絶縁膜６上において、接続部５を介して接続されている。
　本実施形態に係る静電容量型入力装置１においても、ジャンパー８を基板２の表面に形成し、その上に絶縁膜６と第１及び第２の透光性電極３及び４を形成しているため、表面側から見た際にジャンパー８を目立ちにくくすることができる。
　また、本実施形態に係る静電容量型入力装置１では、絶縁膜６によって覆われていないジャンパー８の一部と、第１の透光性電極３とが面接触できるので、エッチング処理によって、図５の断面に示すように、オーバーハング（絶縁膜６の外周壁の断面のうち、絶縁膜６の表面側の部分がより外方にせり出した状態）が生じた場合でも、第１の透光性電極３とジャンパー８との接続を確保することができる。
　尚、上記の各実施形態では、透光性電極のＸ軸方向の接続をジャンパーを介して行った例を示したが、図１の例のＸ軸とＹ軸とを逆にして、Ｘ軸方向の透光性電極の接続を接続部を介して行い、Ｙ軸方向の透光性電極の接続をジャンパーで行っても良い。
　本発明は、各種電子機器の入出力機器として用いられるタッチパネル等を構成するために利用できる。
１　静電容量型入力装置
２　基板
３　第１の透光性電極
４　第２の透光性電極
６　絶縁膜
７　スルーホール
８　ジャンパー

Claims (5)

  1. 　静電容量型入力装置であって、
    　基板と、
    　前記基板上において第１の方向及びこれと直交する第２の方向に配列される複数の導電体と、
    　前記導電体及び前記基板を覆うように形成される絶縁膜と、
    　前記絶縁膜上において前記第１及び第２の方向に配列される複数の第１の透光性電極と、
    　前記絶縁膜上において前記第１及び第２の方向に配列されると共に、各々が前記第１の透光性電極の行間及び列間に配置される複数の第２の透光性電極とを備え、
    　第１の方向に整列する前記第１の透光性電極の各々は、前記絶縁膜に形成されたスルーホールを通じて、前記導電体によって相互に電気的に接続され、
    　第２の方向に整列する前記第２の透光性電極の各々は、前記絶縁膜上において相互に接続される、静電容量型入力装置。
  2. 　静電容量型入力装置であって、
    　基板と、
    　前記基板上において第１の方向及びこれと直交する第２の方向に配列される複数の導電体と、
    　前記導電体の各々を部分的に覆うように形成される複数の絶縁膜と、
    　前記第１及び第２の方向に配列される複数の第１の透光性電極と、
    　前記第１及び第２の方向に配列されると共に、各々が前記第１の透光性電極の行間及び列間に配置される複数の第２の透光性電極とを備え、
    　第１の方向に整列する前記第１の透光性電極の各々は、前記導電体のうち、前記絶縁膜によって覆われていない部分に当接することで、前記導電体によって相互に電気的に接続され、
    　第２の方向に整列する前記第２の透光性電極の各々は、前記絶縁膜上において相互に接続される、静電容量型入力装置。
  3. 　前記第１の透光性電極の各々は、前記導電体のうち、前記絶縁膜によって覆われていない部分の全体を覆うように形成される、請求項１または２に記載の静電容量型入力装置。
  4. 　前記導電体は、遮光性を有する材料よりなる、請求項１または２に記載の静電容量型入力装置。
  5. 　前記基板上に、前記導電体と同一材料より形成され、製造時の位置決めに用いられるアライメントマークを更に備える、請求項４に記載の静電容量型入力装置。
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