JP5574133B2 - 静電容量型入力装置 - Google Patents

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本発明は、同一レイヤに配列された複数の透光性電極を備え、指等が接触した電極の位置を検出できる静電容量型入力装置に関するものである。
近年、携帯電話機や、携帯情報端末、カーナビゲーションシステムを始め、様々な電子機器の操作部にタッチパネルが採用されている。タッチパネルは、液晶パネル等の表示装置の表示画面上に、指等の接触位置を検出可能な入力装置を貼り合わせて構成される。タッチパネルを構成する入力装置には、その構造及び検出方式の違いにより、抵抗膜型や静電容量型等の様々なタイプがある。このうち、静電容量型入力装置は、1枚の基板上に透光性導電膜(透光性電極)を有し、指等がタッチすることによって形成される静電容量を介して流れる微弱電流量の変化を検出することによって被接触位置を特定するものであり、抵抗膜型入力装置と比べて、より高い透過率が得られるという利点がある。
図6は、特許文献1に記載されている従来の静電容量型入力装置の概略構成を示す平面図であり、図7は、図6に示すVII−VIIラインの拡大断面図である。
静電容量型入力装置91は、基板92上に、X軸方向(図の上下方向)に延びる複数のX軸トレース93と、Y軸方向(図の左右方向)に延び、X軸トレース93と交差して配置される複数のY軸トレース94とを備え、X軸方向及びY軸方向における指等の接触位置をそれぞれ検出する。
X軸トレース93は、X軸方向に整列する複数の透明電極95を相互に連結することによって形成されている。一方、Y軸トレース94は、Y軸方向に間欠的に配置される複数の透明電極96を導電性の材料よりなるジャンパー99を介して電気的に接続することによって形成されている。ジャンパー99は、X軸トレースの一部(隣接する一対の透明電極95の連結部分)の上方を跨ぐように、X軸トレース93及びY軸トレース94上に積層された絶縁膜97上に形成され、透明電極96上に位置するスルーホール98を通じて透明電極96に接続されている。
このように、特許文献1に記載された構成では、X軸トレース93とこれを跨いで形成されるジャンパー99との間を絶縁するために、基板92の全面に絶縁膜を成膜し、ジャンパー99と透明電極96との接続箇所にのみスルーホール98を設けている。
また、特許文献2には、基板の全面に絶縁膜を設ける代わりに、ジャンパーが跨ぐ部分にのみ絶縁膜を形成した構成が記載されている。
登録実用新案第3144563号公報 登録実用新案第3144241号公報
上記の従来の静電容量型入力装置は、基板上に、透光性電極、絶縁膜、ジャンパー(導電体)をこの順に積層することにより形成される。この場合、次のような問題がある。
第1に、ジャンパーが人に近い側(液晶パネルと反対側)に形成されるので、ジャンパーを金属光沢を有する導電材料で形成した場合、ジャンパーが見た目に目立ちやすくなってしまう。
第2に、絶縁膜の一部がオーバーハング状態にある場合、ジャンパーがオーバーハング部分を跨ぐ可能性が高く、ジャンパーの断線に繋がりやすいという問題がある。
図8は、図6に示す静電容量型入力装置において、絶縁膜のオーバーハングが発生した場合を説明するための平面図であり、図9は、図8に示すIX−IXラインの断面図である。
スルーホール98は、基板92上の全体に渡って絶縁膜97を積層した後、その一部を選択的にエッチングすることによって形成される。しかしながら、エッチングの処理時間が長くなり過ぎると、絶縁膜97の表面から深い部分でエッチングがより進行して、図9の断面図に示すように、絶縁膜97の表面側の部分がスルーホール98の中心側に向かってせり出した形状(オーバーハング)となる場合がある。
例えば、図8に示す矢印で示した範囲にオーバーハングが生じると、図9の二点鎖線で模式的に示すように、隣接する一対の透明電極96を接続するためのジャンパー99が断線し、Y軸トレース94の導通状態が得られなくなってしまう。ここで、スルーホールの半周にオーバーハングが生じると仮定すると、およそ50%の確率でジャンパー99の形成領域とオーバーハング領域とが重なるので、かなりの確率で断線が生じてしまうことがわかる。
図10は、特許文献2に記載の従来の静電容量型入力装置において、絶縁膜のオーバーハングが発生した場合を説明するための平面図であり、図11は、図10に示すXI−XIラインの断面図である。
同様の問題は、ジャンパー99がX軸トレース93を跨ぐ部分にのみ絶縁膜97を設けた特許文献2に記載の構造でも生じ得る。例えば、図10に矢印で示した範囲(絶縁膜97の短辺部分)にオーバーハングが生じると、図11の二点鎖線で模式的に示すように、ジャンパー99が断線してしまい、Y軸トレース94が導通しなくなる。
それ故に、本発明は、同一レイヤに2軸方向の透光性電極を配列した構造であって、一方の軸方向の透光性電極を相互に接続するジャンパーが目立ちにくく、断線する可能性の低い構造を有する静電容量型入力装置を提供することを目的とする。
本発明に係る静電容量型入力装置は、基板と、基板の表面に形成され、第1の方向及びこれと直交する第2の方向に配列される複数の導電体と、複数の導電体の各々を部分的に覆うように、複数の導電体の各々に対して1対1で対応するように設けられる複数の絶縁膜と、第1及び第2の方向に配列される複数の第1の透光性電極と、第1及び第2の方向に配列されると共に、各々が第1の透光性電極の行間及び列間に配置される複数の第2の透光性電極とを備える。第1の方向に整列する第1の透光性電極の各々は、導電体のうち、絶縁膜によって覆われていない部分に当接することで、導電体によって相互に電気的に接続され、第2の方向に整列する第2の透光性電極の各々は、絶縁膜上において相互に接続され、第1の透光性電極の各々は、導電体のうち、絶縁膜によって覆われていない部分の全体を覆うように、絶縁膜の表面から基板の表面に渡って形成される。
本発明によれば、同一レイヤに複数の透光性電極を配列した静電容量型入力装置において、透光性電極同士を接続するために用いられる導電体が基板上(すなわち、入力装置の内部)に形成されるため、導電体を目立ちにくくすることができる。また、導電体のうち絶縁層で覆われていない部分の全体を覆うように第1の透光性電極の各々を形成することにより、絶縁膜の断面形状にかかわらず、導電体の断線を防止することが可能となる。
本発明の第1の実施形態に係る静電容量型入力装置の概略構成を示す平面図 図1に示すII−IIラインの拡大断面図 図1に示すスルーホール近傍の拡大図 本発明の第2の実施形態に係る静電容量型入力装置の概略構成を示す平面図 図4に示すV−Vラインの拡大端面図 従来の静電容量型入力装置の概略構成を示す平面図 図6に示すVII−VIIラインの拡大断面図 図6に示す静電容量型入力装置において、絶縁膜のオーバーハングが発生した場合を説明するための平面図 図8に示すIX−IXラインの断面図 従来の静電容量型入力装置において、絶縁膜のオーバーハングが発生した場合を説明するための平面図 図10に示すXI−XIラインの断面図
(第1の実施形態)
図1は、本発明の第1の実施形態に係る静電容量型入力装置の概略構成を示す平面図であり、図2は、図1に示すII−IIラインの拡大断面図である。また、図3は、図1に示すスルーホール近傍の拡大図である。
静電容量型入力装置1は、基板2と、複数のジャンパー8と、絶縁膜6と、複数の第1の透光性電極3と、複数の第2の透光性電極4とを備える。ジャンパー8、絶縁膜6、透光性電極(第1の透光性電極3及び第2の透光性電極4)は、基板2上にこの順序で形成されたものである。
ジャンパー8は、導電性を有する材料によって形成され、基板2の表面に行列上に配列されている。ジャンパー8の各々は、第1の透光性電極3をX軸方向に接続するためのものであり、両端部がX軸方向に隣接する一対の第1の透光性電極3の各々と重なり合うような位置及び寸法に形成されている。ジャンパー8は、例えば、ITO(Indium Tin Oxide)、Mo/Al/Moの積層体、Ag、Ag合金、導電性高分子により形成することができる。
絶縁膜6は、絶縁材料をジャンパー8及び基板2の表面全体を覆うように積層することにより形成され、第1の透光性電極3とジャンパー8とが重なり合う部分には、ジャンパー8の表面にまで達するスルーホール7が設けられている。
第1の透光性電極3及び第2の透光性電極4は、同一レイヤ内で、X軸方向及びこれと直交するY軸方向にマトリクス状に配列されている。第1の透光性電極3及び第2の透光性電極4は、ITO等の透光性の導電材料を用いて、同一工程で形成される。
第1の透光性電極3の各々は、図1に示されるように、絶縁膜6上においてはX軸方向及びY軸方向のいずれにも相互に接続されていないが、スルーホール7を介して基板2上のジャンパー8に接続されている。この結果、X軸方向に整列する第1の透光性電極3が相互に電気的に接続された状態となる。
一方、第2の透光性電極4の各々は、第1の透光性電極3の行間及び列間に配置され、絶縁膜6上において、第2の透光性電極4と同時にパターニングされる接続部5を介してY軸方向に相互に連結されている。
X軸方向に接続される第1の透光性電極3と、Y軸方向に接続される第2の透光性電極4とを同一レイヤに配列する場合、交差部分が生じるため、いずれか一方向の接続を行うためにジャンパー8のような配線部が必要となる。本実施形態に係る静電容量型入力装置1では、ジャンパー8を基板2の表面に形成し、その上方に絶縁膜6と第1及び第2の透光性電極3及び4を形成しているため、表面側から見た際にジャンパー8を目立ちにくくすることができる。
本実施形態では、スルーホール7の開口部全体が第1の透光性電極3によって覆われているため、例えば、図3に示す矢印の範囲に絶縁膜のオーバーハング(図9参照)が生じた場合でも、オーバーハングのないスルーホール7の内壁に沿って第1の透光性電極3がジャンパー8の表面に到達することができる。したがって、スルーホール7内壁の断面形状にかかわらず、ジャンパー8の断線を防止することができる。
上述したように、ジャンパー8は導電性を有する様々な材料によって形成することができるが、遮光性を有する材料を用いる場合、更に以下のような利点がある。
ジャンパー8を遮光性材料で形成する場合、ジャンパー8のパターニングと同一工程で、ジャンパー8と同一材料を用いて基板2上に位置決め用のアライメントマークを形成することができる。この結果、アライメントマーク形成プロセスを削減することができると共に、2層目以降の膜を形成するために用いる露光機に特段の改造を施すことなく、標準的な読み取り機構を用いて露光時の位置決めをすることが可能となる。
また、2層目以降の膜の形成時に顕微鏡等で目視確認して位置合わせを行う場合、1層目のジャンパー8が遮光性材料で形成されていることによって、視認性が向上するので、位置合わせを容易に行うことが可能となる。
更に、遮光性材料として導電性高分子材料を採用することもできる。一般に、高分子膜は、透光性と導電性がトレードオフの関係にあるが、ジャンパー8が形成される限られた範囲であれば遮光性があっても入力装置全体の光透過性に与える影響は小さい。また、導電性についても、ITO程度の抵抗値を有する材料であれば良いため、生産性の高い導電性高分子を利用することができる。
遮光性材料として金属を用いる場合、ジャンパー8と、基板2上の図示しない金属配線層(透光性電極に接続される配線等)とを、1工程で同時にパターニングすることができるので、工程数を削減してコストダウンを図ることも可能となる。
(第2の実施形態)
図4は、本発明の第2の実施形態に係る静電容量型入力装置の概略構成を示す平面図であり、図5は、図4に示すV−Vラインの拡大端面図である。
本実施形態に係る静電容量型入力装置は、第1の実施形態と同様に、基板2上にジャンパー8、絶縁膜6、透光性電極(第1の透光性電極3及び第2の透光性電極4)を順に積層して構成されているが、絶縁膜6の形成領域が第1の実施形態とは相違する。以下、本実施形態と第1の実施形態との相違点を中心に説明する。
本実施形態では、隣接する第2の透光性電極4を接続する接続部5と交差する部分にのみ絶縁膜6が設けられている。より詳細には、絶縁膜6は、ジャンパー8と隣接する第1の透光性電極3の各々とが重なり合う部分のうち一部(斜線部)を除いて、ジャンパー8の各々を部分的に覆うように形成されている。尚、本実施形態では、ジャンパー8の両方の端部に絶縁膜6で覆われていない部分が設けられているが、絶縁膜6で覆われない領域は、必ずしも端部である必要はなく、ジャンパー8と透光性電極との重なり部分の一部であれば良い。
また、第1の透光性電極3の各々は、ジャンパー8の表面のうち、絶縁膜6によって覆われていない一部(斜線部)の全体を覆うように形成され、ジャンパー8の当該一部に当接する。これにより、X軸方向に整列する第1の透光性電極3が相互に電気的に接続された状態となる。一方、Y軸方向に整列する第2の透光性電極4の各々は、ジャンパー8を覆う絶縁膜6上において、接続部5を介して接続されている。
本実施形態に係る静電容量型入力装置1においても、ジャンパー8を基板2の表面に形成し、その上に絶縁膜6と第1及び第2の透光性電極3及び4を形成しているため、表面側から見た際にジャンパー8を目立ちにくくすることができる。
また、本実施形態に係る静電容量型入力装置1では、絶縁膜6によって覆われていないジャンパー8の一部と、第1の透光性電極3とが面接触できるので、エッチング処理によって、図5の断面に示すように、オーバーハング(絶縁膜6の外周壁の断面のうち、絶縁膜6の表面側の部分がより外方にせり出した状態)が生じた場合でも、第1の透光性電極3とジャンパー8との接続を確保することができる。
尚、上記の各実施形態では、透光性電極のX軸方向の接続をジャンパーを介して行った例を示したが、図1の例のX軸とY軸とを逆にして、X軸方向の透光性電極の接続を接続部を介して行い、Y軸方向の透光性電極の接続をジャンパーで行っても良い。
本発明は、各種電子機器の入出力機器として用いられるタッチパネル等を構成するために利用できる。
1 静電容量型入力装置
2 基板
3 第1の透光性電極
4 第2の透光性電極
6 絶縁膜
7 スルーホール
8 ジャンパー

Claims (7)

  1. 静電容量型入力装置であって、
    基板と、
    前記基板の表面に形成され、第1の方向及びこれと直交する第2の方向に配列される複数の導電体と、
    複数の前記導電体の各々を部分的に覆うように、複数の前記導電体の各々に対して1対1で対応するように設けられる複数の絶縁膜と、
    前記第1及び第2の方向に配列される複数の第1の透光性電極と、
    前記第1及び第2の方向に配列されると共に、各々が前記第1の透光性電極の行間及び列間に配置される複数の第2の透光性電極とを備え、
    前記第1の方向に整列する前記第1の透光性電極の各々は、前記導電体のうち、前記絶縁膜によって覆われていない部分に当接することで、前記導電体によって相互に電気的に接続され、
    前記第2の方向に整列する前記第2の透光性電極の各々は、前記絶縁膜上において相互に接続され
    前記第1の透光性電極の各々は、前記導電体のうち、前記絶縁膜によって覆われていない部分の全体を覆うように、前記絶縁膜の表面から前記基板の表面に渡って形成される、静電容量型入力装置。
  2. 前記絶縁膜は、前記導電体の表面と前記基板の表面とに渡って形成される、請求項1に記載の静電容量型入力装置。
  3. 前記第2の透光性電極の各々は、前記絶縁膜の表面と前記基板の表面とに渡って形成される、請求項1または2に記載の静電容量型入力装置。
  4. 前記導電体は、遮光性を有する材料よりなる、請求項1〜のいずれかに記載の静電容量型入力装置。
  5. 前記基板上に、前記導電体と同一材料より形成され、製造時の位置決めに用いられるアライメントマークを更に備える、請求項に記載の静電容量型入力装置。
  6. 前記導電体の材料が金属であり、
    前記基板上に、前記導電体と同一材料より形成され、前記第1の透光性電極及び前記第2の透光性電極に接続される金属配線層を更に備える、請求項1〜のいずれかに記載の静電容量型入力装置。
  7. 前記第2の方向における前記導電体の幅は、隣接する前記第2の透光性電極を接続する接続部の前記第1の方向における幅より小さい、請求項6に記載の静電容量型入力装置。
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