TWI746248B - 發光封裝體及其製造方法 - Google Patents

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Abstract

一種發光封裝體包括密封件、多個配置於密封件中的發光元件、多個第一電極墊、多個第二電極墊與多個導電連接結構。密封件具有彼此相對的第一表面與第二表面。各個發光元件具有裸露於第一表面的出光面。第一電極墊與第二電極墊皆配置於密封件中，並裸露於第二表面。各個第一電極墊具有與第二表面切齊的第一接合面。各個第二電極墊具有與第二表面切齊的第二接合面。這些發光元件分別配置於這些第一電極墊上，並電性連接這些第一電極墊。這些導電連接結構貫穿密封件，並電性連接這些發光元件與這些第二電極墊。

Description

發光封裝體及其製造方法
本發明是有關於一種半導體封裝體及其製造方法，且特別是有關於一種發光封裝體及其製造方法。
在現有的發光二極體（Light Emitting Diode，LED）封裝體的製造方法中，通常會採用模封材料（molding compound）將多個發光二極體包覆，其中模封材料需要固化，以使模封材料能保護發光二極體。在固化模封材料之後，通常會製作用於電性連接發光二極體的線路，以使發光二極體能經由線路而電性連接外部電源。
在製作上述線路以前，通常會先將已固化的模封材料自模具或承載板卸下。接著，對固化的模封材料進行鑽孔，以製作線路。然而，當固化的模封材料自模具或承載板卸下時，模封材料會發生形變，即模封材料的體積會發生改變，導致裡面的發光二極體發生偏移，以至於在後續製作線路的時候，需要調整製程參數。否則，可能發生後續線路無法電性連接發光二極體而導致斷路，從而造成發光二極體封裝體需要重工，甚至被迫報廢。
本發明至少一實施例提供一種發光封裝體，其能減少或避免上述發光二極體的偏移。
本發明至少一實施例還提供一種上述發光封裝體的製造方法。
本發明至少一實施例所提供的發光封裝體包括密封件、多個發光元件、多個第一電極墊、多個第二電極墊與多個導電連接結構。密封件具有第一表面與相對第一表面的第二表面。這些發光元件分別具有多個出光面以及相對這些出光面的多個背面，其中這些發光元件配置於密封件中，而這些出光面皆裸露於第一表面。這些第一電極墊分別具有多個第一接合面，並配置於密封件中。這些發光元件分別配置於這些第一電極墊上，並電性連接這些第一電極墊，其中這些第一接合面皆裸露於第二表面，並與第二表面切齊。這些第二電極墊分別具有多個第二接合面，並配置於密封件中，其中這些第二接合面皆裸露於第二表面，並與第二表面切齊。這些導電連接結構貫穿密封件，並電性連接這些發光元件與這些第二電極墊，以使各個發光元件電性連接其中一個第一電極墊與其中一個第二電極墊。
在本發明至少一實施例中，這些發光元件皆為垂直式發光二極體晶粒。
在本發明至少一實施例中，各個導電連接結構包括導電柱與導電層。導電柱貫穿密封件，並連接第二電極墊。導電層形成於第一表面上，並連接導電柱與發光元件。
在本發明至少一實施例中，至少一個導電柱位於相鄰兩個發光元件之間。
在本發明至少一實施例中，上述密封件更具有多個位於第一表面的連接孔。這些連接孔局部暴露這些發光元件，而各個導電層從第一表面延伸至連接孔內，並從連接孔連接發光元件。
在本發明至少一實施例中，上述發光封裝體還包括保護層。保護層形成於第二表面上，並具有多個開口。這些開口分別暴露這些第一接合面與這些第二接合面。
在本發明至少一實施例中，上述密封件的光學密度（Optical Density，OD）大於2。
在本發明至少一實施例中，上述密封件的熱導率（thermal conductivity）介於5至10瓦∙公尺 -1∙克爾文 -1（W/(m∙K)）。
在本發明至少一實施例中，上述密封件更具有位於第一表面與第二表面之間的第一厚度，而各個發光元件更具有位於出光面與背面之間的第二厚度，其中第一厚度大於第二厚度，且第一厚度與第二厚度之間的差距介於5微米至50微米之間。
在本發明至少一實施例中，上述第一厚度與第二厚度之間的差距介於25微米至50微米之間。
本發明至少一實施例還提供發光封裝體的製造方法。在此方法中，首先，在基板上形成多個第一電極墊與多個第二電極墊。接著，在這些第一電極墊上分別配置多個發光元件，其中這些發光元件分別具有多個出光面，並且分別電性連接這些第一電極墊。接著，在基板上形成模封材料，其中模封材料覆蓋這些發光元件、這些第一電極墊與這些第二電極墊，並附著在基板上。圖案化位於基板上的模封材料，以形成具有多個盲孔與多個出光口的密封件，其中這些出光口分別暴露這些出光面，而這些盲孔分別暴露這些第二電極墊。在第一表面上與這些盲孔內形成多個導電連接結構，其中這些導電連接結構電性連接這些發光元件與這些第二電極墊，而在形成這些導電連接結構的期間，基板依然保持完整。在形成這些導電連接結構之後，移除基板至少一部分。
在本發明至少一實施例中，上述基板包括剛性支撐板、離型層（release layer）與絕緣層。離型層形成於剛性支撐板上。絕緣層形成於離型層上，其中這些第一電極墊與這些第二電極墊形成於絕緣層上。移除基板至少一部分的方法包括從絕緣層剝離離型層與剛性支撐板，以移除離型層與剛性支撐板，並保留絕緣層。
在本發明至少一實施例中，在移除基板至少一部分之後，更包括在絕緣層上形成多個開口，其中這些開口分別暴露這些第一電極墊與這些第二電極墊。
在本發明至少一實施例中，形成這些開口的方法包括曝光及顯影絕緣層。
在本發明至少一實施例中，在這些第一電極墊上分別配置這些發光元件的步驟包括利用多個導電黏合材料，將這些發光元件分別連接於這些第一電極墊。
在本發明至少一實施例中，上述模封材料壓合於基板。
基於上述，這些導電連接結構是在移除基板至少一部分以前而形成。換句話說，在形成這些導電連接結構以前，模封材料與密封件會一直配置及附著在基板上，以使這些發光元件在基板上的位置基本上能保持不變，從而減少或避免發光元件的偏移。因此，在圖案化模封材料與形成這些導電連接結構的過程中，基本上可不用考量發光元件的偏移而調整製程參數，從而能簡化製造流程，以幫助縮短製造發光封裝體所需的時間。
在以下的內文中，為了清楚呈現本案的技術特徵，圖式中的元件（例如層、膜、基板以及區域等）的尺寸（例如長度、寬度、厚度與深度）會以不等比例的方式放大。因此，下文實施例的說明與解釋不受限於圖式中的元件所呈現的尺寸與形狀，而應涵蓋如實際製程及/或公差所導致的尺寸、形狀以及兩者的偏差。例如，圖式所示的平坦表面可以具有粗糙及/或非線性的特徵，而圖式所示的銳角可以是圓的。所以，本案圖式所呈示的元件主要是用於示意，並非旨在精準地描繪出元件的實際形狀，也非用於限制本案的申請專利範圍。
其次，本案內容中所出現的「約」、「近似」或「實質上」等這類用字不僅涵蓋明確記載的數值與數值範圍，而且也涵蓋發明所屬技術領域中具有通常知識者所能理解的可允許偏差範圍，其中此偏差範圍可由測量時所產生的誤差來決定，而此誤差例如是起因於測量系統或製程條件兩者的限制。此外，「約」可表示在上述數值的一個或多個標準偏差內，例如±30％、±20％、±10％或±5％內。本案文中所出現的「約」、「近似」或「實質上」等這類用字可依光學性質、蝕刻性質、機械性質或其他性質來選擇可以接受的偏差範圍或標準偏差，並非單以一個標準偏差來套用以上光學性質、蝕刻性質、機械性質以及其他性質等所有性質。
圖1至圖7是本發明至少一實施例的發光封裝體的製造方法的流程剖面示意圖，其中圖7繪示製造完成的發光封裝體100。請參閱圖1，在本實施例的發光封裝體的製造方法中，首先，在基板10上形成多個第一電極墊111以及多個第二電極墊112，其中這些第一電極墊111與這些第二電極墊112可以呈陣列排列。
第一電極墊111與第二電極墊112可以是金屬層，並且可以利用沉積（deposition）以及光刻（photolithography）來形成，其中沉積可以包括無電電鍍（electroless plating）以及有電電鍍（electroplating）。或者，沉積也可以包括物理氣相沉積（Physical Vapor Deposition，PVD）以及有電電鍍。光刻包括曝光、顯影以及蝕刻。
形成第一電極墊111與第二電極墊112的方法可包括加成法（additive process）、減成法（subtractive process）或半加成法（semi-additive process）。以半加成法作為舉例說明，首先，在基板10上形成一層薄金屬層，以作為種子層，其中上述薄金屬層可以利用物理氣相沉積（PVD）、無電電鍍或有電電鍍來形成。
之後，在此薄金屬層上形成圖案化遮罩（未繪示），其中圖案化遮罩可以是由光阻或乾膜（dry film）經曝光與顯影後而形成。接著，利用有電電鍍，在圖案化遮罩所暴露的部分薄金屬層（即種子層）上沉積金屬。之後，移除圖案化遮罩，並且進行微蝕刻（micro-etching），以去除原本被圖案化遮罩所覆蓋的部分薄金屬層，從而形成彼此分離的這些第一電極墊111與這些第二電極墊112。
基板10可以包括剛性支撐板11、離型層12以及絕緣層13。剛性支撐板11可以是質地硬的板材，例如玻璃板、金屬板或陶瓷板。離型層12形成於剛性支撐板11上，而絕緣層13形成於離型層12上，所以離型層12位於絕緣層13與剛性支撐板11之間。
這些第一電極墊111與這些第二電極墊112形成於絕緣層13上，其中第一電極墊111與第二電極墊112可以直接接觸於絕緣層13。此外，絕緣層13可以是由感光型介電材料（Photoimageable Dielectric material，PID material）材料所製成，所以絕緣層13可以具有光敏特性，並能透過曝光與顯影而被圖案化。
須說明的是，在圖1所示的實施例中，基板10包括剛性支撐板11、離型層12以及絕緣層13，但在其他實施例中，絕緣層13可替換成不具光敏特性的介電層。或者，基板10可以只包括剛性支撐板11，不包括離型層12與絕緣層13，其中剛性支撐板11可為金屬板，並可直接接觸第一電極墊111與第二電極墊112。換句話說，基板10可以是金屬製成的剛性支撐板11。剛性支撐板11的金屬材料不同於第一電極墊111與第二電極墊112兩者的金屬材料。例如，剛性支撐板11可用銅來製成，而第一電極墊111與第二電極墊112兩者可用鎳來製成。
請參閱圖2，接著，在這些第一電極墊111上分別配置多個發光元件120。可以利用多個導電黏合材料A12，將這些發光元件120分別電性連接這些第一電極墊111，其中這些導電黏合材料A12可以是焊料、銀膠或銅膏，並且能黏著這些發光元件120與這些第一電極墊111，以使這些發光元件120能一對一地附著於（attached）以及電性連接這些第一電極墊111。
這些發光元件120分別具有多個出光面121以及相對這些出光面121的多個背面122。當發光元件120通電時，發光元件120會從出光面121發出光線。導電黏合材料A12可黏著於發光元件120的背面122，並且可直接接觸背面122。這些發光元件120可皆為垂直式發光二極體晶粒，所以各個發光元件120可以是尚未封裝的晶片，並具有位於相對兩側的陽極與陰極（兩者皆未繪示）。
舉例而言，在其中一實施例中，陽極可以位於背面122，而陰極可以位於出光面121。當然，在其他實施例中，陰極可以位於背面122，而陽極可以位於出光面121。因此，黏著於背面122的導電黏合材料A12能電性連接發光元件120的陽極或陰極。如此，利用導電黏合材料A12，這些發光元件120的電極（即陽極或陰極）得以分別電性連接這些第一電極墊111。
請參閱圖3，之後，在基板10上形成模封材料130i，其中模封材料130i覆蓋這些發光元件120、這些第一電極墊111以及這些第二電極墊112，並附著在基板10上，以使這些發光元件120、這些第一電極墊111以及這些第二電極墊112皆配置於模封材料130i中，並且埋設於模封材料130i中。模封材料130i可以利用塗佈（coating）或壓合（laminatiing）而形成，其中利用壓合所形成的模封材料130i會壓合於基板10以及其上的發光元件120、第一電極墊111以及第二電極墊112。
模封材料130i的主要材料可以是高分子材料，而形成模封材料130i的步驟包括固化（curing）。例如，模封材料130i可利用光線照射或加熱而被固化，其中前述光線照射可採用紫外光來照射模封材料130i，以固化模封材料130i。在固化模封材料130i的過程中，模封材料130i會一直配置及附著在基板10上，並發生形變。也就是說，模封材料130i的體積會改變，例如縮小。
當基板10上的模封材料130i發生形變時，由於模封材料130i附著在基板10上，因此基板10與模封材料130i之間不僅具有結合力（bonding force），而且也會產生應力。上述結合力與基板10的剛性會抵抗上述應力與模封材料130i的形變，以避免形變的模封材料130i移動發光元件120，造成這些發光元件120發生偏移。因此，利用上述結合力與基板10，在固化模封材料130i期間，這些發光元件120基本上是固定不動。
在本實施例中，模封材料130i的光學密度可以大於2，因此模封材料130i具有相當低的光穿透率，而且模封材料130i的顏色可以是黑色。此外，模封材料130i的熱導率可介於5至10瓦∙公尺 -1∙克爾文 -1。因此，模封材料130i可具有良好的熱導率，以使模封材料130i能迅速地將這些發光元件120所產生的熱能傳遞與排出，從而避免發光元件120因熱能堆積而發生過熱的情形。
請參閱圖3與圖4，接著，圖案化位於基板10上的模封材料130i，以形成具有多個盲孔131與多個出光口132的密封件130。密封件130還具有第一表面134a以及相對第一表面134a的第二表面134b，其中這些出光口132形成於第一表面134a，並分別暴露這些發光元件120的出光面121，即這些出光面121皆裸露於第一表面134a。這些盲孔131從第一表面134a延伸至第二表面134b，並且分別暴露這些第二電極墊112。此外，密封件130可以更具有多個位於第一表面134a的連接孔133，其中這些連接孔133局部暴露這些發光元件120，並且更暴露位於出光面121的電極（即陽極或陰極）。
圖案化模封材料130i的方法可以是光刻或雷射燒蝕。換句話說，這些盲孔131、這些出光口132與這些連接孔133可用蝕刻或雷射燒蝕而形成。當圖案化模封材料130i的方法為光刻時，盲孔131、出光口132以及連接孔133可以是在同一道蝕刻製程中形成。換句話說，盲孔131、出光口132以及連接孔133基本上可以同時形成。另外，由於模封材料130i的光學密度可大於2，模封材料130i的熱導率可介於5至10瓦∙公尺 -1∙克爾文 -1，所以密封件130的光學密度也可大於2，密封件130的熱導率也可介於5至10瓦∙公尺 -1∙克爾文 -1。
在圖案化模封材料130i期間，模封材料130i一直配置及附著在基板10上，以使這些發光元件120在基板10上的位置基本上能保持不變。因此，在圖案化模封材料130i的過程中，基本上可不用考量發光元件120的偏移而調整製程參數。例如，可以不用配合發光元件120的偏移而改變光罩圖案與位置，或是調整雷射光束的位置。如此，可簡化製造流程，且也對提升良率有所幫助。
請參閱圖5，接著，在第一表面134a上與這些盲孔131內形成多個導電連接結構140，其中這些導電連接結構140貫穿密封件130，並電性連接這些發光元件120與這些第二電極墊112，以使各個發光元件120能電性連接其中一個第一電極墊111以及其中一個第二電極墊112。如此，外部電源能從第一電極墊111與第二電極墊112輸入電流至發光元件120，讓發光元件120發光。
各個導電連接結構140可以包括導電柱141與導電層142。導電柱141貫穿密封件130，並且連接第二電極墊112，其中導電柱141可以是導電盲孔結構，而導電柱141可以是實心金屬柱或空心金屬柱（如圖5所示）。導電層142可以形成於第一表面134a上，並連接導電柱141與發光元件120，其中各個導電層142可以從第一表面134a延伸至連接孔133內，並從連接孔133連接發光元件120的其中一個電極（即陽極或陰極）。此外，在本實施例中，至少一根導電柱141可以位於相鄰兩個發光元件120之間，如圖5所示。
形成這些導電連接結構140的方法可包括沉積與光刻，其中沉積可包括無電電鍍與有電電鍍。在形成這些導電連接結構140的期間，基板10依然保持完整，而密封件130仍一直配置及附著在基板10上，所以這些發光元件120在基板10上的位置基本上依然保持不變。因此，在形成這些導電連接結構140的過程中，基本上可以不用考量發光元件120的偏移而調整製程參數。例如，可以不用配合發光元件120的偏移而改變光罩圖案與位置。
由此可知，在形成這些導電連接結構140以前，模封材料130i與密封件130會一直配置及附著在基板10上，以使這些發光元件120在基板10上的位置基本上能保持不變。因此，在圖案化模封材料130i與形成這些導電連接結構140的過程中，基本上可不用考量發光元件120的偏移而調整製程參數，從而能簡化製造流程，以幫助縮短製造發光封裝體所需的時間，且也對提升良率有所幫助。
請參閱圖5與圖6，在形成這些導電連接結構140之後，移除基板10至少一部分。本實施例移除基板10至少一部分的方法可以是剝離，其中可從絕緣層13剝離離型層12以及剛性支撐板11，以移除離型層12與剛性支撐板11，並保留絕緣層13。另外，除了剝離之外，在其他實施例中，上述移除基板10的方法也可以是蝕刻。
具體而言，由於基板10可以只包括由金屬製成的剛性支撐板11，並可直接接觸於第一電極墊111與第二電極墊112，而剛性支撐板11的金屬材料（例如銅）不同於第一電極墊111與第二電極墊112兩者的金屬材料（例如鎳），因此可選用實質上只蝕刻剛性支撐板11但不蝕刻第一電極墊111與第二電極墊112的蝕刻劑（例如氫氧化鈉）來完全移除基板10。由此可知，基板10的移除方法不限制只能是剝離，而且基板10可以移除其中一部分或完全移除，所以基板10的移除不以圖5與圖6為限制。
請參閱圖6與圖7，在移除基板10至少一部分之後，可在絕緣層13上形成多個開口151，以在第二表面134b上形成保護層150。所以，保護層150是由絕緣層13所形成。這些開口151分別暴露這些第一電極墊111的第一接合面111a與這些第二電極墊112的第二接合面112a。至此，一種包括多個第一電極墊111、多個第二電極墊112、多個發光元件120、密封件130、多個導電連接結構140與保護層150的發光封裝體100大致上已製造完成，其中這些發光元件120可埋設於密封件130中。
第一接合面111a與第二接合面112a兩者可以連接焊料，並透過焊料而裝設（mounted）於線路板或載板上，以使發光封裝體100能電性連接上述線路板或載板。此外，也可以在第一接合面111a與第二接合面112a上製作至少一層線路層。例如，可利用增層法，在密封件130的第二表面134b上製作一層或多層線路層，其中線路層電性連接第一電極墊111與第二電極墊112，以重新佈線這些第一電極墊111與這些第二電極墊112。
由於絕緣層13可以具有光敏特性，因此形成這些開口151的方法可以是曝光及顯影絕緣層13。此外，在其他實施例中，絕緣層13也可不具有光敏特性，因此形成這些開口151的方法也可以是雷射燒蝕。所以，這些開口151的形成方法不限制是曝光及顯影。
密封件130更具有位於第一表面134a與第二表面134b之間的第一厚度T13，而各個發光元件120更具有位於出光面121與背面122之間的第二厚度T12。從圖7來看，第一厚度T13大於第二厚度T12，而且發光封裝體100的整體厚度相當於密封件130的第一厚度T13。
發光元件120可以是次毫米發光二極體（mini-LED）或微型發光二極體（micro-LED，μLED）。當發光元件120為次毫米發光二極體時，發光元件120的第二厚度T12可介於50微米至200微米之間，而密封件130的第一厚度T13可介於75微米至250微米之間，其中第一厚度T13與第二厚度T12之間的差距可以介於25微米至50微米之間。
當發光元件120為微型發光二極體時，發光元件120的第二厚度T12可介於5微米至50微米之間，而密封件130的第一厚度T13可介於10微米至100微米之間，其中第一厚度T13與第二厚度T12之間的差距可以介於5微米至50微米之間。由此可知，發光封裝體100可具有相當薄的整體厚度，從而有利於應用在現今電腦螢幕、電視機以及行動裝置的顯示螢幕等薄型顯示器。
須說明的是，以上第一厚度T13的範圍、第二厚度T12的範圍以及第一厚度T13與第二厚度T12之間差距的範圍僅供舉例說明。在其他實施例中，第一厚度T13、第二厚度T12以及第一厚度T13與第二厚度T12之間的差距三者可以具有其他範圍。例如，第一厚度T13與第二厚度T12之間的差距可超過50微米。或者，第一厚度T13可超過100微米。因此，以上數值範圍不限制第一厚度T13的範圍、第二厚度T12的範圍以及第一厚度T13與第二厚度T12之間差距的範圍。
在圖7所示的發光封裝體100中，這些第一電極墊111分別具有多個第一接合面111a，並且配置於密封件130中，其中這些第一接合面111a皆裸露於第二表面134b，並與第二表面134b切齊。同樣地，這些第二電極墊112，分別具有多個第二接合面112a，並配置於密封件130中，其中這些第二接合面112a皆裸露於第二表面134b，並與第二表面134b切齊。
值得一提的是，由於保護層150是由絕緣層13所形成，而在其他實施例中，基板10可以不包括絕緣層13，因此發光封裝體100也可不包括保護層150。換句話說，在圖7所示的發光封裝體100中，保護層150可以被省略。因此，發光封裝體100不限制包括保護層150。
另外，這些發光元件120可以是多個紅光發光二極體、多個綠光發光二極體以及多個藍光發光二極體，所以這些發光元件120可以從出光面121發出紅光、綠光與藍光，以促使發光封裝體100能顯示影像。因此，發光封裝體100可以用來製作顯示器，特別是薄型顯示器。
此外，這些發光元件120也可發出相同顏色的光線，例如白光或藍光，而發光封裝體100可與彩色濾光陣列基板結合，其中彩色濾光陣列基板可利用濾光或螢光來轉換發光元件120所發出的光線的顏色，以產生紅光、綠光與藍光，從而促使發光封裝體100能顯示影像。
綜上所述，由於導電連接結構是在移除基板至少一部分以前而形成，因此在圖案化模封材料與形成導電連接結構的過程中，這些發光元件在基板上的位置基本上能保持不變，以減少或避免發光元件的偏移。如此，基本上可以不用考量發光元件的偏移而調整製程參數，簡化製造流程，以幫助縮短製造發光封裝體所需的時間，進而有助於提升良率。
雖然本發明已以實施例揭露如上，然其並非用以限定本發明，本發明所屬技術領域中具有通常知識者，在不脫離本發明精神和範圍內，當可作些許更動與潤飾，因此本發明保護範圍當視後附的申請專利範圍所界定者為準。
10:基板 11:剛性支撐板 12:離型層 13:絕緣層 100:發光封裝體 111:第一電極墊 111a:第一接合面 112:第二電極墊 112a:第二接合面 120:發光元件 121:出光面 122:背面 130:密封件 130i:模封材料 131:盲孔 132:出光口 133:連接孔 134a:第一表面 134b:第二表面 140:導電連接結構 141:導電柱 142:導電層 150:保護層 151:開口 A12:導電黏合材料 T12:第二厚度 T13:第一厚度
圖1至圖7是本發明至少一實施例的發光封裝體的製造方法的流程剖面示意圖。
100:發光封裝體
111:第一電極墊
111a:第一接合面
112:第二電極墊
112a:第二接合面
120:發光元件
121:出光面
122:背面
130:密封件
134a:第一表面
134b:第二表面
140:導電連接結構
141:導電柱
142:導電層
150:保護層
151:開口
T12:第二厚度
T13:第一厚度

Claims (16)

  1. 一種發光封裝體，包括： 一密封件，具有一第一表面以及相對該第一表面的一第二表面； 多個發光元件，分別具有多個出光面以及相對該些出光面的多個背面，其中該些發光元件配置於該密封件中，而該些出光面皆裸露於該第一表面； 多個第一電極墊，分別具有多個第一接合面，並配置於該密封件中，而該些發光元件分別配置於該些第一電極墊上，並電性連接該些第一電極墊，其中該些第一接合面皆裸露於該第二表面，並與該第二表面切齊； 多個第二電極墊，分別具有多個第二接合面，並配置於該密封件中，其中該些第二接合面皆裸露於該第二表面，並與該第二表面切齊；以及 多個導電連接結構，貫穿該密封件，並電性連接該些發光元件與該些第二電極墊，以使各該發光元件電性連接其中一個第一電極墊與其中一個第二電極墊。
  2. 如請求項1所述的發光封裝體，其中該些發光元件皆為垂直式發光二極體晶粒。
  3. 如請求項1所述的發光封裝體，其中各該導電連接結構包括： 一導電柱，貫穿該密封件，並連接該第二電極墊；以及 一導電層，形成於該第一表面上，並連接該導電柱與該發光元件。
  4. 如請求項3所述的發光封裝體，其中至少一該導電柱位於相鄰兩該發光元件之間。
  5. 如請求項3所述的發光封裝體，其中該密封件更具有多個位於該第一表面的連接孔，該些連接孔局部暴露該些發光元件，而各該導電層從該第一表面延伸至該連接孔內，並從該連接孔連接該發光元件。
  6. 如請求項1所述的發光封裝體，還包括： 一保護層，形成於該第二表面上，並具有多個開口，而該些開口分別暴露該些第一接合面與該些第二接合面。
  7. 如請求項1所述的發光封裝體，其中該密封件的光學密度大於2。
  8. 如請求項1所述的發光封裝體，其中該密封件的熱導率介於5至10瓦∙公尺 -1∙克爾文 -1。
  9. 如請求項1所述的發光封裝體，其中該密封件更具有位於該第一表面與該第二表面之間的一第一厚度，而各該發光元件更具有位於該出光面與該背面之間的一第二厚度，其中該第一厚度大於該第二厚度，且該第一厚度與該第二厚度之間的差距介於5微米至50微米之間。
  10. 如請求項9所述的發光封裝體，其中該第一厚度與該第二厚度之間的差距介於25微米至50微米之間。
  11. 一種發光封裝體的製造方法，包括： 在一基板上形成多個第一電極墊與多個第二電極墊； 在該些第一電極墊上分別配置多個發光元件，其中該些發光元件分別具有多個出光面，並且分別電性連接該些第一電極墊； 在該基板上形成一模封材料，其中該模封材料覆蓋該些發光元件、該些第一電極墊與該些第二電極墊，並附著在該基板上； 圖案化位於該基板上的該模封材料，以形成具有多個盲孔與多個出光口的一密封件，其中該些出光口分別暴露該些出光面，而該些盲孔分別暴露該些第二電極墊； 在該第一表面上與該些盲孔內形成多個導電連接結構，其中該些導電連接結構電性連接該些發光元件與該些第二電極墊，而在形成該些導電連接結構的期間，該基板依然保持完整；以及 在形成該些導電連接結構之後，移除該基板至少一部分。
  12. 如請求項11所述的發光封裝體的製造方法，其中該基板包括： 一剛性支撐板； 一離型層，形成於該剛性支撐板上；以及 一絕緣層，形成於該離型層上，其中該些第一電極墊與該些第二電極墊形成於該絕緣層上，而移除該基板至少一部分的方法包括從該絕緣層剝離該離型層與該剛性支撐板，以移除該離型層與該剛性支撐板，並保留該絕緣層。
  13. 如請求項12所述的發光封裝體的製造方法，其中在該移除該基板至少一部分之後，更包括在該絕緣層上形成多個開口，其中該些開口分別暴露該些第一電極墊與該些第二電極墊。
  14. 如請求項13所述的發光封裝體的製造方法，其中形成該些開口的方法包括曝光及顯影該絕緣層。
  15. 如請求項11所述的發光封裝體的製造方法，其中在該些第一電極墊上分別配置該些發光元件的步驟包括利用多個導電黏合材料，將該些發光元件分別電性連接於該些第一電極墊。
  16. 如請求項11所述的發光封裝體的製造方法，其中該模封材料壓合於該基板。
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