TWI646118B - 樹脂組成物 - Google Patents

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Abstract

本發明之課題係提供一種熱硬化性的平坦化膜用或微透鏡用樹脂組成物。
本發明之解決手段為一種平坦化膜用或微透鏡用樹脂組成物，其係含有(A)成分、(B)成分及溶劑；(A)成分：具有下述式(1)所示之構造單位，且進一步具有下述式(2)或式(3)所示之構造單位之共聚物；(B)成分：熱酸產生劑；
(式中，R0係各自獨立地表示氫原子或甲基，R1表示單鍵或碳原子數1至5之伸烷基，該伸烷基可於其中具 有醚鍵，R2表示環氧基、或具有環氧環的碳原子數5至12之有機基，R3表示碳原子數1至3之伸烷基，n表示0至5之整數)。

Description

樹脂組成物
本發明係關於熱硬化性的平坦化膜用或微透鏡用樹脂組成物、以及由該樹脂組成物所形成之平坦化膜及微透鏡。
在製造CCD/CMOS影像感測器之步驟中，會實行利用溶劑或鹼溶液等藥液之浸漬處理，為了防止因此種處理而使元件發生劣化或損傷，係實行將對該處理具有耐性的保護膜設於元件表面。對於此種保護膜，係要求具有透明性、耐熱性及耐光性高、經過長時間不會引起著色等變質、耐溶劑性、耐鹼性優異等性能(專利文獻1)。再者，近年來，因藉由CCD/CMOS影像感測器的高精細化而使感測器感度的提升變得有所必要，故為了達成自微透鏡效率良好地聚光於受光部，在將保護膜形成於彩色濾光片上等之情況，該保護膜亦謀求能夠將在基底基板上所形成之段差予以平坦化(專利文獻2及專利文獻3)。另一方面，在CCD/CMOS影像感測器用彩色濾光片中，由於利 用習知的顏料分散系統係難以使解析度進一步提升，且會有因顏料的粗大粒子而產生色斑等問題，故不適用於如固體攝像元件般要求微細圖案之用途。因此，已提出使用染料來代替顏料分散系統之技術(專利文獻4)。然而，由於習知的熱硬化性的保護膜係在180℃以上的溫度進行煅燒，故難以應用於使用了一般在180℃左右便開始分解的染料之彩色濾光片上(專利文獻5)。
[先前技術文獻]
[專利文獻]
[專利文獻1]日本專利第2921770號
[專利文獻2]日本專利特開2008-208235號公報
[專利文獻3]國際公開第2013/005619號
[專利文獻4]日本專利特開平6-75375號公報
[專利文獻5]日本專利特開2010-237374號公報
本發明係基於前述情事而完成者，其所欲解決之課題為提供透明性、耐溶劑性及平坦性優異，且在高於100℃之所期望的溫度能夠硬化之熱硬化性的樹脂組成物。
本發明者等人為了解決前述課題而進行深入探討，結果完成本發明。
即，作為第1觀點，係一種平坦化膜用或微透鏡用樹脂組成物，其係含有(A)成分、(B)成分及溶劑；(A)成分：具有下述式(1)所示之構造單位，且進一步具有下述式(2)或式(3)所示之構造單位之共聚物；(B)成分：熱酸產生劑；
(式中，R0係各自獨立地表示氫原子或甲基，R1表示單鍵或碳原子數1至5之伸烷基，該伸烷基可於其中具有醚鍵，R2表示環氧基、或具有環氧環的碳原子數5至12之有機基，R3表示碳原子數1至3之伸烷基，n表示0至5之整數)。
作為第2觀點，係第1觀點所記載之平坦化膜用或微透鏡用樹脂組成物，其中，前述式(1)所示之構造單位為下述式(1-1)所示之構造單位；
(式中，R0表示氫原子或甲基，R1表示單鍵或碳原子數1至5之伸烷基)。
作為第3觀點，係第1觀點或第2觀點所記載之平坦化膜用或微透鏡用樹脂組成物，其中，前述共聚物進一步具有下述式(4)所示之構造單位；
(式中，X表示環己基或苯基)。
作為第4觀點，係第1觀點至第3觀點中任一項所記載之平坦化膜用或微透鏡用樹脂組成物，其中，前述共聚物之重量平均分子量為1,000至50,000。
作為第5觀點，係第1觀點至第4觀點中任一項所記載之平坦化膜用或微透鏡用樹脂組成物，其中，前述熱酸產生劑係以自前述樹脂組成物中去除前述溶劑而成之固形份中的含量為基準而含0.1質量%至20質量%。
作為第6觀點，係一種平坦化膜，其係由第1觀點至 第5觀點中任一項所記載之樹脂組成物所製作者。
作為第7觀點，係一種微透鏡，其係由第1觀點至第5觀點中任一項所記載之樹脂組成物所製作者。
由於本發明之樹脂組成物包含(B)成分之熱酸產生劑，故在高於100℃之所期望的溫度之硬化性、及保存安定性優異。再者，由本發明之樹脂組成物所形成之樹脂膜係具有優異的透明性、耐溶劑性、及平坦性。經由以上，藉由由本發明之樹脂組成物所形成之樹脂膜，能夠將在基底基板上所形成之段差予以平坦化。此外，在由本發明之樹脂組成物形成樹脂膜後塗佈阻劑之情況、以及平坦化膜或微透鏡形成後實行電極/配線形成步驟之情況，前述樹脂膜亦能夠使與阻劑間之混合、有機溶劑所造成之平坦化膜或微透鏡的變形及剝離之類的問題顯著地減少。從而，本發明之樹脂組成物係適宜作為形成平坦化膜及微透鏡之材料。
1‧‧‧段差基板
2‧‧‧樹脂膜
3‧‧‧線寬
4‧‧‧線間間距
h1‧‧‧段差基板的段差
h2‧‧‧樹脂膜的段差
圖1係顯示將本發明之樹脂組成物塗佈於段差基板上，進行烘烤而形成之樹脂膜的模式圖。
以下係說明本發明之各成分的詳情。自本發明之樹脂組成物去除溶劑而成之固形份通常為1質量%至50質量%。
<(A)成分>
本發明之(A)成分係前述具有下述式(1)所示之構造單位，且進一步具有式(2)或式(3)所示之構造單位之共聚物；
(式中，R0係各自獨立地表示氫原子或甲基，R1表示單鍵或碳原子數1至5之伸烷基，該伸烷基可於其中具有醚鍵，R2表示環氧基、或具有環氧環的碳原子數5至12之有機基，R3表示碳原子數1至3之伸烷基，n表示0至5之整數)。
作為前述式(1)之例，可列舉下述式(1-1)所示之構造單位。
(式中，R0表示氫原子或甲基，R1表示單鍵或碳原子數1至5之伸烷基)。
作為形成前述式(2)所示之構造單位的化合物(單體)之具體例，可列舉(甲基)丙烯酸4-聯苯酯、(甲基)丙烯酸2-(4-聯苯氧基)乙酯、(甲基)丙烯酸2-(2-聯苯氧基)乙酯、(甲基)丙烯酸2-(4-聯苯氧基)-2’-乙氧基乙酯、(甲基)丙烯酸2-(2-聯苯氧基)-2’-乙氧基乙酯、NK Ester[登錄商標]A-LEN-10(新中村化學工業(股)製)。另外，此等化合物可單獨使用，亦可組合使用2種以上。
作為形成前述式(3)所示之構造單位的化合物(單體)之具體例，可列舉3-乙烯基聯苯、4-乙烯基聯苯。另外，此等化合物可單獨使用，亦可組合使用2種。
作為形成前述式(4)所示之構造單位的化合物(單體)之具體例，可列舉N-環己基馬來醯亞胺、N-苯基馬來醯亞胺。另外，此等化合物可單獨使用，亦可組合使用2種以上。
在前述共聚物中，上述(A)成分的共聚物中，上述式(1)所示之構造單位的含量為10莫耳%至90莫耳 %，較佳為20莫耳%至70莫耳%。
前述共聚物的重量平均分子量通常為1,000至50,000，較佳為3,000至30,000。另外，重量平均分子量係藉由凝膠滲透層析(GPC)，使用聚苯乙烯作為標準試料而獲得之值。
此外，本發明之樹脂組成物中之前述共聚物的含量以該樹脂組成物之固形份中的含量為基準係通常為1質量%至99質量%，較佳為5質量%至95質量%。
在本發明中，獲得前述(A)成分之方法並無特別限定，但一般而言，係藉由使包含用以獲得上述共聚物的單體物種之單體混合物於聚合溶媒中，通常在50℃至120℃的溫度下進行聚合反應而獲得。依此所獲得之共聚物通常呈溶解於溶劑中之溶液狀態，亦可在呈此狀態而未予以單離之情形下用於本發明之樹脂組成物中。
此外，將依上述所獲得之共聚物的溶液投入至進行攪拌之己烷、二***、甲醇、水等不良溶媒中而使該共聚物再沉澱，將所生成之沉澱物過濾/洗淨後，藉由在常壓或減壓下進行常溫或加熱乾燥，便可將該共聚物作成粉體。藉由此種操作，便可除去與前述共聚物共存之聚合起始劑或未反應化合物。在本發明中，可將前述共聚物的粉體依原樣使用，或者亦可將該粉體例如再溶解於後述之溶劑中而以溶液狀態之形式使用。
<(B)成分>
本發明之(B)成分之熱酸產生劑係藉由加熱而產生酸，且藉由酸的作用而使前述(A)成分中的環氧基進行陽離子聚合之觸媒。作為熱酸產生劑，通常係使用陽離子成分與陰離子成分共軛而成之有機鎓鹽化合物。
作為上述陽離子成分，可列舉例如有機鋶、有機氧鎓、有機銨、有機鏻、有機碘鎓等有機陽離子。此外，作為上述陰離子成分，可列舉例如B(C6F5)4 -、SbF6 -、AsF6 -、PF6 -、BF4 -、CF3SO3 -。
作為熱酸產生劑，可列舉例如TA100、TA120、TA160(以上，San-Apro(股)製)、K-PURE[登錄商標]TAG2689、同TAG2690、同CXC1614、同CXC1738(以上，King Industries Inc.製)、San-Aid SI-100L、同SI-180L(以上，三新化學工業(股)製)。此等熱酸產生劑可單獨使用，亦可組合使用2種以上。
本發明之樹脂組成物中之(B)成分的含量以該樹脂組成物之固形份中的含量為基準係通常為0.1質量%至20質量%。
本發明之樹脂組成物的調製方法並無特別限定，但可列舉例如將(A)成分之共聚物溶解於溶劑中，在此溶液中以既定的比例混合(B)成分之熱酸產生劑，而作成均勻的溶液之方法。再者，可列舉在此調製方法的適當階段中，視需要進一步添加其他添加劑並加以混合之方法。
作為前述溶劑，只要是將上述(A)成分、(B)成 分予以溶解者，則無特別限定。作為此種溶劑，可列舉例如乙二醇單甲醚、乙二醇單***、甲基賽路蘇醋酸酯、乙基賽路蘇醋酸酯、二乙二醇單甲醚、二乙二醇單***、丙二醇、丙二醇單甲醚、丙二醇單甲醚醋酸酯、丙二醇丙醚醋酸酯、丙二醇單丁醚、丙二醇單丁醚醋酸酯、甲苯、二甲苯、甲基乙基酮、環戊酮、環己酮、2-羥基丙酸乙酯、2-羥基-2-甲基丙酸乙酯、乙氧基醋酸乙酯、羥基醋酸乙酯、2-羥基-3-甲基丁酸甲酯、3-甲氧基丙酸甲酯、3-甲氧基丙酸乙酯、3-乙氧基丙酸甲酯、3-乙氧基丙酸乙酯、丙酮酸甲酯、醋酸乙酯、醋酸丁酯、乳酸乙酯、乳酸丁酯、2-庚酮、γ-丁內酯。此等溶劑可單獨使用，亦可組合使用2種以上。
在此等溶劑之中，由將本發明之樹脂組成物塗佈於基板上所形成之塗膜的均平性之提升的觀點而言，較佳為丙二醇單甲醚、丙二醇單甲醚醋酸酯、2-庚酮、乳酸乙酯、乳酸丁酯及環己酮。
此外，本發明之樹脂組成物在使塗佈性提升之目的下，亦可含有界面活性劑。作為該界面活性劑，可列舉例如聚氧乙烯月桂基醚、聚氧乙烯硬脂基醚、聚氧乙烯鯨蠟基醚、聚氧乙烯油基醚等聚氧乙烯烷基醚類，聚氧乙烯辛基苯基醚、聚氧乙烯壬基苯基醚等聚氧乙烯烷基芳基醚類，聚氧乙烯/聚氧丙烯嵌段共聚物類，山梨醇酐單月桂酸酯、山梨醇酐單棕櫚酸酯、山梨醇酐單硬脂酸酯、山梨醇酐單油酸酯、山梨醇酐三油酸酯、山梨醇酐三硬脂 酸酯等山梨醇酐脂肪酸酯類，聚氧乙烯山梨醇酐單月桂酸酯、聚氧乙烯山梨醇酐單棕櫚酸酯、聚氧乙烯山梨醇酐單硬脂酸酯、聚氧乙烯山梨醇酐三油酸酯、聚氧乙烯山梨醇酐三硬脂酸酯等聚氧乙烯山梨醇酐脂肪酸酯類等之非離子系界面活性劑；F-TOP[登錄商標]EF301、同EF303、同EF352(以上，三菱材料電子化成(股)製)、Megafac[登錄商標]F-171、同F-173、同R-30、同R-40、同R-40-LM(以上，DIC(股)製)、Fluorad FC430、同FC431(以上，住友3M(股)製)、AsahiGuard[登錄商標]AG710、Surflon[登錄商標]S-382、同SC101、同SC102、同SC103、同SC104、同SC105、同SC106(旭硝子(股)製)、FTX-206D、FTX-212D、FTX-218、FTX-220D、FTX-230D、FTX-240D、FTX-212P、FTX-220P、FTX-228P、FTX-240G等Futajento系列((股)Neos製)等之氟系界面活性劑；有機矽氧烷聚合物KP341(信越化學工業(股)製)。此等界面活性劑可單獨使用，亦可組合使用2種以上。
此外，在使用前述界面活性劑之情況，在本發明之樹脂組成物中的含量以該樹脂組成物之固形份中的含量為基準係3質量%以下，較佳為1質量%以下，更佳為0.5質量%以下。
此外，本發明之樹脂組成物在不會損及本發明之效果的前提下，可視需要包含交聯劑、硬化助劑、紫外線吸收劑、增感劑、可塑劑、抗氧化劑、密接助劑等添加劑。
以下係針對本發明之樹脂組成物的使用例進行說明。
在基板{例如，經氧化矽膜被覆之矽等半導體基板、經氮化矽膜或氧化氮化矽膜被覆之矽等半導體基板、形成有彩色濾光片之矽等半導體基板、氮化矽基板、石英基板、玻璃基板(包含無鹼玻璃、低鹼玻璃、結晶化玻璃)、形成有ITO膜之玻璃基板}上，藉由旋轉器、塗佈機等適當的塗佈方法塗佈本發明之樹脂組成物後，使用加熱板等加熱手段進行烘烤並使其硬化而形成平坦化膜或微透鏡用樹脂膜。
烘烤條件係從烘烤溫度80℃至300℃、烘烤時間0.3分鐘至60分鐘之中適宜選擇。此外，亦可在上述溫度範圍內之不同烘烤溫度進行2步驟以上處理。在本發明之樹脂組成物之情況，能夠在未滿200℃的烘烤溫度形成所期望的樹脂膜。
此外，作為由本發明之樹脂組成物所形成之樹脂膜的膜厚，係0.005μm至5.0μm，較佳為0.01μm至3.0μm。
然後，在由本發明之樹脂組成物所形成之微透鏡用樹脂膜上塗佈阻劑溶液，通過既定的遮罩進行曝光，視需要施行曝光後加熱(PEB)，藉由進行鹼顯像、沖洗及乾燥，形成既定的阻劑圖案。對於曝光，可使用例如g線、i線、KrF準分子雷射、ArF準分子雷射。
其次，藉由進行加熱處理(通常為不超過200 ℃的溫度)，對上述阻劑圖案進行平坦化熱處理(reflow)而形成透鏡圖案。將此透鏡圖案作為蝕刻遮罩對下層的微透鏡用樹脂膜進行回蝕刻，並藉由將透鏡圖案形狀轉印至微透鏡用樹脂膜而製作微透鏡。
[實施例]
以下係基於實施例更詳細地說明本發明，但本發明並不限定於此等實施例。
[下述合成例中所獲得之共聚物的重量平均分子量之測定]
裝置：日本分光(股)製GPC系統
管柱：Shodex[登錄商標]KF-804L及KF-803L
管柱控溫箱：40℃
流量：1mL/分鐘
溶離液：四氫呋喃
[共聚物之合成]
<合成例1>
使甲基丙烯酸3,4-環氧基環己基甲酯(Cyclomer[登錄商標]M100((股)Daicel製))19.7g、乙氧基化鄰苯基苯酚丙烯酸酯(NK Ester[登錄商標]A-LEN-10(新中村化學工業(股)製))40.0g、及2,2’-偶氮雙異丁腈1.6g溶解於丙二醇單甲醚醋酸酯114.0g中後，將此溶液歷經3小時滴加至 將丙二醇單甲醚醋酸酯70.2g保持於70℃之燒瓶中。滴加終了後，藉由使其進行15小時反應，獲得具有前述式(1)所示之構造單位及前述式(2)所示之構造單位之共聚物的溶液(固形份濃度25質量%)。所獲得之共聚物的重量平均分子量Mw為32,000(聚苯乙烯換算)。
<合成例2>
使甲基丙烯酸3,4-環氧基環己基甲酯20.0g、4-乙烯基聯苯11.0g、及2,2’-偶氮雙異丁腈0.64g溶解於丙二醇單甲醚醋酸酯43.9g中後，將此溶液歷經3小時滴加至將丙二醇單甲醚醋酸酯27.0g保持於70℃之燒瓶中。滴加終了後，藉由使其進行15小時反應，獲得具有前述式(1)所示之構造單位及前述式(3)所示之構造單位之共聚物的溶液(固形份濃度25質量%)。所獲得之共聚物的重量平均分子量Mw為17,000(聚苯乙烯換算)。
<合成例3>
使甲基丙烯酸縮水甘油酯6.5g、甲基丙烯酸1-正丁氧基乙酯8.5g、苯乙烯38.0g、及2,2’-偶氮雙異丁腈2.3g溶解於丙二醇單甲醚醋酸酯103.0g中後，將此溶液歷經4小時滴加至將丙二醇單甲醚醋酸酯26.0g保持於75℃之燒瓶中。滴加終了後，藉由使其進行18小時反應，獲得不具有前述式(2)所示之構造單位及前述式(3)所示之構造單位任一者之共聚物的溶液(固形份濃度30質量%)。 所獲得之共聚物的重量平均分子量Mw為14,000(聚苯乙烯換算)。
[樹脂組成物之調製]
<實施例1>
使合成例1中所獲得之(A)成分之共聚物的溶液10.0g(包含固形份2.5g)、作為(B)成分之熱酸產生劑的K-PURE[登錄商標]TAG2689(King Industries Inc.製)0.04g、及作為界面活性劑的Megafac[登錄商標]R-30(DIC(股)製)0.003g溶解於丙二醇單甲醚醋酸酯7.5g中而作成溶液。然後，使用孔徑0.10μm的聚乙烯製微過濾器進行過濾而調製樹脂組成物。
<實施例2>
使合成例2中所獲得之(A)成分之共聚物的溶液10.0g(包含固形份2.5g)、作為(B)成分之熱酸產生劑的K-PURE[登錄商標]TAG2689(King Industries Inc.製)0.04g、及作為界面活性劑的Megafac[登錄商標]R-30(DIC(股)製)0.003g溶解於丙二醇單甲醚醋酸酯7.5g中而作成溶液。然後，使用孔徑0.10μm的聚乙烯製微過濾器進行過濾而調製樹脂組成物。
<比較例1>
使合成例1中所獲得之(A)成分之共聚物的溶液10.0 g(包含固形份2.5g)、及作為界面活性劑的Megafac[登錄商標]R-30(DIC(股)製)0.003g溶解於丙二醇單甲醚醋酸酯7.5g中而作成溶液。然後，使用孔徑0.10μm的聚乙烯製微過濾器進行過濾而調製樹脂組成物。
<比較例2>
使合成例3中所獲得之(A)成分之共聚物的溶液10.0g(包含固形份3.0g)、及作為界面活性劑的Megafac[登錄商標]R-30(DIC(股)製)0.003g溶解於丙二醇單甲醚醋酸酯11.0g中而作成溶液。然後，使用孔徑0.10μm的聚乙烯製微過濾器進行過濾而調製樹脂組成物。
[耐溶劑性試驗]
將實施例1、實施例2、比較例1及比較例2中所調製之樹脂組成物分別使用旋轉塗佈機塗佈於矽晶圓上，在加熱板上於100℃施行烘烤1分鐘，再於140℃施行烘烤10分鐘，形成膜厚0.6μm的樹脂膜。對於此等樹脂膜，分別在23℃的溫度條件下，施行浸漬於丙二醇單甲醚、丙二醇單甲醚醋酸酯、環己酮、乳酸乙酯、醋酸丁酯、丙酮、γ-丁內酯、甲基乙基酮、2-庚酮、2-丙醇、及2.38質量%濃度的氫氧化四甲基銨(TMAH)水溶液中5分鐘之試驗。測定在浸漬前後膜厚變化，即便於上述浸漬溶劑中之1者，對於浸漬前的膜厚而言有5%以上的膜厚增減之情況則評定為“×”，針對所有的溶劑而言膜厚增減未滿 5%之情況則評定為“○”，以評估耐溶劑性。將評估結果示於表1。
[穿透率測定]
將實施例1及實施例2中所調製之樹脂組成物分別使用旋轉塗佈機塗佈於石英基板上，在加熱板上於100℃施行烘烤1分鐘，再於140℃施行烘烤10分鐘，形成膜厚0.6μm的樹脂膜。對於此等樹脂膜，使用紫外線可見分光光度計UV-2550((股)島津製作所製)，測定波長400nm的穿透率。將評估結果示於表1。
[保存安定性]
將實施例1及實施例2中調製後緊接而得之樹脂組成物分別使用旋轉塗佈機塗佈於矽晶圓上，藉由在加熱板上於100℃施行烘烤1分鐘，再於140℃施行烘烤10分鐘而形成樹脂膜，使用光干涉式膜厚測定裝置Lambda Ace VM-2110(大日本Screen製造(股)製)測定此等樹脂膜的膜厚。再者，將相同的樹脂組成物於35℃(加速試驗)保管1個月，測定由保管後之樹脂組成物以同樣的方法形成之樹脂膜的膜厚。相較於由調製後緊接而得之樹脂組成物所形成之樹脂膜的膜厚而言，膜厚變化未滿10%者評定為“○”，為10%以上者評定為“×”。將評估結果示於表1。
[段差平坦化性]
將實施例1及實施例2中所調製之樹脂組成物分別使用旋轉塗佈機塗佈於高度0.3μm、線寬10μm、線間間距10μm的段差基板(參照圖1)上，在加熱板上於100℃施行烘烤1分鐘，再於140℃施行烘烤10分鐘，形成膜厚0.6μm的樹脂膜。由圖1所示之h1(段差基板1的段差)與h2(樹脂膜2的段差，即線上之樹脂膜的高度與間距上之樹脂膜的高度間之高低差)，使用“式：(1-(h2/h1))×100”求出平坦化率。將評估結果示於表1。
由表1之結果可知，由本發明之樹脂組成物所形成之樹脂膜係呈高耐溶劑性且同時呈高透明性。再者，本發明之樹脂組成物係保存安定性優異。再者，由本發明之樹脂組成物所形成之樹脂膜皆具有平坦化率50%以上的段差平坦化性，其中，針對由實施例1中所調製之樹脂組成物所形成之樹脂膜而言，係具有平坦化率80%以上之優異的段差平坦化性。另一方面可知，針對由比較例1中所調製之樹脂組成物所形成之樹脂膜而言，由於不含熱 酸產生劑，且針對由比較例2中所調製之樹脂組成物所形成之樹脂膜而言，由於在未滿200℃的烘烤溫度形成，故呈現並未滿足耐溶劑性之結果，不適用於平坦化膜及微透鏡用樹脂膜任一者。

Claims (6)

  1. 一種樹脂組成物，其係含有(A)成分、(B)成分及溶劑，其中，該樹脂組成物係平坦化膜用或微透鏡用者；(A)成分：具有下述式(1)所示之構造單位，且進一步具有下述式(2)或式(3)所示之構造單位之共聚物；(B)成分：熱酸產生劑；(式中，R0係各自獨立地表示氫原子或甲基，R1表示單鍵或碳原子數1至5之伸烷基，該伸烷基可於其中具有醚鍵，R2表示環氧基、或具有環氧環的碳原子數5至12之有機基，R3表示碳原子數1至3之伸烷基，n表示0至5之整數)，前述式(1)所示之構造單位為下述式(1-1)所示之構造單位；(式中，R0、R1與上述同義)。
  2. 如請求項1之樹脂組成物，其中，前述共聚物進一步具有下述式(4)所示之構造單位；(式中，X表示環己基或苯基)。
  3. 如請求項1或2之樹脂組成物，其中，前述共聚物之重量平均分子量為1,000至50,000。
  4. 如請求項1或2之樹脂組成物，其中，前述熱酸產生劑係以自前述樹脂組成物中去除前述溶劑而成之固形份中的含量為基準而含0.1質量%至20質量%。
  5. 一種平坦化膜，其係由請求項1至4中任一項之樹脂組成物所製作者。
  6. 一種微透鏡，其係由請求項1至4中任一項之樹脂組成物所製作者。
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Families Citing this family (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP6776609B2 (ja) 2016-02-22 2020-10-28 デクセリアルズ株式会社 異方性導電フィルム
KR102624920B1 (ko) * 2016-02-22 2024-01-16 데쿠세리아루즈 가부시키가이샤 이방성 도전 필름
JP6623839B2 (ja) * 2016-02-29 2019-12-25 日産化学株式会社 平坦化膜形成用樹脂組成物
CN109476898B (zh) * 2016-07-28 2021-07-06 日产化学株式会社 树脂组合物
JP6807226B2 (ja) * 2016-12-09 2021-01-06 東京応化工業株式会社 基材上に平坦化膜又はマイクロレンズを形成するために用いられるエネルギー感受性組成物、硬化体の製造方法、硬化体、マイクロレンズの製造方法、及びｃｍｏｓイメージセンサ
JP6946062B2 (ja) * 2017-06-06 2021-10-06 東京応化工業株式会社 樹脂、硬化性組成物、硬化物、硬化物の製造方法、及びマイクロレンズの製造方法
JP7477443B2 (ja) 2020-12-24 2024-05-01 東京応化工業株式会社 硬化性樹脂組成物、その硬化物、硬化膜の製造方法、及びマイクロレンズの製造方法

Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
TW201418878A (zh) * 2012-09-05 2014-05-16 Shinetsu Chemical Co 光阻材料及使用此光阻材料之圖案形成方法

Family Cites Families (19)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE59103577D1 (de) * 1990-09-24 1995-01-05 Siemens Ag Vernetzte Epoxidharze mit nichtlinear-optischen Eigenschaften.
JP2921770B2 (ja) 1991-01-17 1999-07-19 日本化薬株式会社 カラ−フィルター保護膜用樹脂組成物及びその硬化物
JPH0675375A (ja) 1992-08-26 1994-03-18 Sony Corp カラーレジスト材料
JPH09124954A (ja) * 1995-11-06 1997-05-13 Nippon Oil Co Ltd 硬化性組成物
JP2002060467A (ja) * 2000-08-15 2002-02-26 Jsr Corp 熱硬化性樹脂組成物およびその硬化物
JP2008208235A (ja) 2007-02-27 2008-09-11 Jsr Corp 平坦化層用硬化性樹脂組成物、平坦化層、平坦化層の製造方法及び固体撮像素子
JP5394003B2 (ja) * 2007-08-30 2014-01-22 株式会社ダイセル 共重合体
JP5451048B2 (ja) * 2008-12-05 2014-03-26 株式会社ダイセル 共重合体及び感光性樹脂組成物
JP2010237374A (ja) 2009-03-31 2010-10-21 Dainippon Printing Co Ltd カラーフィルタ及び有機ｅｌディスプレイ
US9733519B2 (en) * 2009-06-23 2017-08-15 Nissan Chemical Industries, Ltd. Composition for forming thermoset film having photo alignment properties
CN102472833A (zh) * 2009-08-24 2012-05-23 日产化学工业株式会社 微透镜用感光性树脂组合物
KR101626493B1 (ko) * 2009-09-14 2016-06-01 닛산 가가쿠 고교 가부시키 가이샤 공중합체를 함유하는 감광성 수지 조성물
CN102712741B (zh) * 2010-01-26 2014-05-14 日产化学工业株式会社 固化性的含有长链亚烷基的环氧树脂组合物
KR20110124083A (ko) * 2010-05-10 2011-11-16 동우 화인켐 주식회사 마이크로렌즈 형성용 조성물, 마이크로렌즈, 및 이를 이용한 광학기기
CN102933626B (zh) * 2010-05-13 2015-01-28 日产化学工业株式会社 热固化性树脂组合物及显示器装置
WO2013005619A1 (ja) * 2011-07-07 2013-01-10 日産化学工業株式会社 樹脂組成物
JP5993654B2 (ja) * 2012-03-09 2016-09-14 東京応化工業株式会社 ブロックコポリマーを含む層のパターン形成方法、及び下地剤
JP6186116B2 (ja) * 2012-03-09 2017-08-23 東京応化工業株式会社 ブロックコポリマーを含む層のパターン形成方法、及び下地剤
KR101874838B1 (ko) * 2012-03-27 2018-07-05 닛산 가가쿠 고교 가부시키 가이샤 감광성 수지 조성물

Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
TW201418878A (zh) * 2012-09-05 2014-05-16 Shinetsu Chemical Co 光阻材料及使用此光阻材料之圖案形成方法

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