TWI557517B

TWI557517B - A detection device, a lithographic apparatus, and a manufacturing method of the device

Info

Publication number: TWI557517B
Application number: TW103126742A
Authority: TW
Inventors: Akio Akamatsu
Original assignee: Canon Kk
Priority date: 2013-10-08
Filing date: 2014-08-05
Publication date: 2016-11-11
Also published as: TW201514634A; KR20170016421A; KR20150041579A; CN104516214A; JP6228420B2; KR101828739B1; KR101783514B1; CN104516214B; JP2015076491A

Description

檢測裝置、光刻裝置、及裝置之製造方法

本發明，係有關於對於設置在基板之複數個標示進行檢測的檢測裝置、具有其之光刻裝置、及物品之製造方法。

作為在半導體裝置等之製造中所使用的光刻裝置，例如，存在：一邊藉使基板作移動而使狹縫光在基板上作掃描，一邊將遮罩的圖案轉印於基板上之曝光裝置。在如此之曝光裝置中，係要求：高準確度將遮罩的圖案轉印於形成在基板之複數個射擊區域的各者。為此，需要：對於相對於各射擊區域而設之複數個對準標示的各者之位置進行檢測，取得指示各射擊區域的位置和形狀之資訊。

在日本發明專利公開2010-268005號公報中，係提議一種曝光裝置，其係使對於1個對準標示進行檢測之OFF-AXIS方式的檢測部配列複數個。在記載於日本發明專利公開2010-268005號公報中之曝光裝置中，係可藉複數個檢測部而同時檢測複數個對準標示的位置。

在記載於日本發明專利公開2010-268005號公報中之曝光裝置中，係存在以下問題：對準標示的間隔窄於檢測部的寬度時，無法使檢測部彼此接近。亦即，複數個檢測部會干涉，故可藉複數個檢測部而檢測之對準標示的間隔會受限制。

本發明，係例如，提供有利於檢測設在基板的複數個標示的技術。

為了達成上述目的，作為本發明的一方面之檢測裝置，係對於設置在基板之複數個標示進行檢測，特徵在於：包含：前述複數個標示之中對於第1標示照射光，藉所反射之光而對於前述第1標示進行檢測之第1範圍顯示器；前述複數個標示之中對於與前述第1標示不同的第2標示照射光，藉所反射之光而對於前述第2標示進行檢測之第2範圍顯示器；使從前述第1範圍顯示器所射出之光以入射於前述基板的方式而透射之透射部；以及具有將從前述第2範圍顯示器所射出之光朝向前述基板而反射之面的光學構材；對於入射於前述光學構材的來自前述第1範圍顯示器之光的入射位置與在前述光學構材之前述面被反射的來自前述第2範圍顯示器之光的反射位置之相對位置作改變，使得從前述第1範圍顯示器所射出之光透射於前述透射部而作照射之前述基板上的位置與從前述第2範圍顯示器所射出之光在前述面被反射而作照射之前述基板上的位置之間的距離改變。

本發明的進一步之目的或其他方面，以下，會因參見附圖所說明之較佳實施形態而變明確化。

1‧‧‧曝光裝置

10‧‧‧遮罩台

11‧‧‧遮罩

20‧‧‧基板台

21‧‧‧基板

22‧‧‧標示

22a,b‧‧‧標示

22e~l‧‧‧標示

23‧‧‧射擊區域

23a,b‧‧‧射擊區域

24a,b‧‧‧間隔

24c~e‧‧‧間隔

24g‧‧‧間隔

30‧‧‧投影光學系統

40‧‧‧照明光學系統

100‧‧‧檢測系統

110‧‧‧檢測系統

200‧‧‧驅動部

300‧‧‧檢測部

300a,b‧‧‧檢測部

301‧‧‧發光部

302‧‧‧光學系統

303‧‧‧分束器

304‧‧‧孔徑光欄

305‧‧‧接物鏡

306‧‧‧中繼透鏡

307‧‧‧攝像元件

310‧‧‧範圍顯示器

311‧‧‧接物鏡

312‧‧‧中繼透鏡

313‧‧‧鏡

314‧‧‧正像透鏡

315‧‧‧正像透鏡

316‧‧‧分束器

317‧‧‧攝像元件

320a,b‧‧‧範圍顯示器

400‧‧‧檢測部

500‧‧‧檢測部

500a‧‧‧檢測部

503‧‧‧分束器

505‧‧‧接物鏡

506‧‧‧中繼透鏡

507‧‧‧攝像元件

510a‧‧‧第1範圍顯示器

510b‧‧‧第2範圍顯示器

520‧‧‧範圍顯示器

520a~d‧‧‧範圍顯示器

523‧‧‧分束器

525‧‧‧接物鏡

526‧‧‧中繼透鏡

527‧‧‧攝像元件

550‧‧‧光學構材

550a~c‧‧‧面

550d‧‧‧透射部

560‧‧‧稜鏡

560a,b‧‧‧面

580‧‧‧光學構材

580a~d‧‧‧面

600‧‧‧檢測部

700‧‧‧檢測部

圖1，係繪示第1實施形態的曝光裝置之圖。

圖2，係從Y方向觀看歷來的檢測系統時之圖。

圖3，係繪示歷來的檢測部之構成例的圖。

圖4，係供以說明複數個檢測部之配置的圖。

圖5，係繪示對於在X方向上相鄰的2個標示進行檢測時之2個歷來的檢測部之配置的圖。

圖6，係繪示為了對於在X方向上相鄰的2個標示同時進行檢測而構成之歷來的檢測部之圖。

圖7，係繪示第1實施形態的檢測部之構成的圖。

圖8，係從Y方向觀看第1實施形態的檢測系統時之圖。

圖9，係繪示第1實施形態的檢測系統中的複數個檢測部之配置例的圖。

圖10，係繪示第1實施形態的檢測系統中的複數個檢測部之配置例的圖。

圖11，係從Y方向觀看第1實施形態的檢測系統時之圖。

圖12，係繪示第2實施形態的檢測部之構成的圖。

圖13，係繪示第2實施形態的檢測部之構成的圖。

圖14，係從Y方向觀看第3實施形態的檢測部時之圖。

圖15，係從Z方向觀看第3實施形態的檢測部時之圖。

圖16，係從Y方向觀看第3實施形態的檢測部時之圖。

圖17，係從Z方向觀看第3實施形態的檢測部時之圖。

以下，參照附圖說明有關於本發明之適合的實施之形態。另外，於各圖中，對於相同的構材或要素係附加相同的參考符號，並省略重複之說明。此外，在以下的實施形態中，係說明關於採用曝光裝置作為光刻裝置的例子，但作為光刻裝置，係例如，亦可包含壓印裝置和描繪裝置等。

<第1實施形態>

針對本發明的第1實施形態之曝光裝置1，一邊參見圖1一邊作說明。圖1，係繪示本發明的第1實施形態之曝光裝置1的圖。第1實施形態的曝光裝置1，係藉狹縫光而對於基板21進行掃描曝光之步進掃描方式的掃描型曝光裝置。然後，曝光裝置1，係可包含：照明光學系統40、遮罩台10、投影光學系統30、基板台20、控制部50。此外，曝光裝置1，係可包含：對於相對於形成在基板21之複數個射擊區域的各者而設之複數個對準標示(以下，標示)進行檢測之離軸(OFF-AXIS)方式的檢測系統100。於此，控制部50，係具有例如CPU和記憶體等，對於曝光處理進行控制(對於曝光裝置1的各部分進行控制)。

照明光學系統40，係藉含於其中的遮光片等之遮光構材，將從光源(不圖示)所射出之光，例如，整成具有在X方向上長的帶狀或圓弧狀的形狀之狹縫光，以該狹縫光對於遮罩11的一部分進行照明。遮罩11及基板21，係分別藉遮罩台10及基板台20而保持，隔著投影光學系統30而分別配置於光學大致共軛之位置(投影光學系統30的物體面及像面)。投影光學系統30，係具有既定的投影倍率(例如1/2倍和1/4倍)，將形成於遮罩11之圖案藉狹縫光而投影至基板上。對於投影了遮罩11的圖案之基板上的區域(狹縫光所照射之區域)在以下係稱作照射區域。然後，遮罩台10及基板台20，係構成為可移動於與投影光學系統30的光軸方向(Z方向)正交之方向(在第1實施形態係Y方向)，一邊互相同步一邊被以對應於投影光學系統30的投影倍率之速度比而作相對掃描。藉此，可使照射區域在基板上掃描於Y方向，而將形成於遮罩11之圖案轉印至基板上的射擊區域。然後，可一邊使基板台20移動一邊針對基板上之複數個射擊區域的各者依序重複如此之掃描曝光，以完成在1個基板21之曝光處理。

此外，曝光裝置1，係亦可構成為包含：TTL(Through The Lens)方式的對準範圍顯示器(不圖示)、和對於基板21的表面之Z方向之位置進行檢測的面位置檢測部(不圖示)等。TTL方式的對準範圍顯示器，係可將形成於遮罩之對準標示與形成於基板之對準標示透過投影光學系統而重疊作觀察，從而對於遮罩的圖案與各射擊區域之相對位置進行計測。

於此，針對離軸方式的檢測系統100，一邊與歷來的檢測系統110比較一邊作說明。首先，說明有關於歷來的檢測系統110。圖2，係從Y方向觀看歷來的檢測系統110時之圖。歷來的檢測系統110，係例如，可包含：對於基板上的標示分別進行檢測之複數個檢測部300(檢測裝置)、及對於複數個檢測部300個別進行驅動之驅動部200。複數個檢測部300係沿著X方向而配置，驅動部200係可對於複數個檢測部300沿著X方向而個別進行驅動。然後，歷來的檢測系統110，係依複數個標示的X方向(第2方向)之配置而配置複數個檢測部300，使得可一邊使基板21移動於Y方向(第1方向)，一邊對於相對於各射擊區域而設之各標示的位置進行檢測。在以下，說明有關於歷來的檢測部300之構成例、及歷來的複數個檢測部300之配置。

圖3，係繪示歷來的檢測部300之構成例的圖。檢測部300，係可對於基板上的標示22照射光，藉所反射之光而對於標示22進行檢測。歷來的檢測部300，係例如，可包含1個具有發光部301、光學系統302、分束器303、孔徑光欄304、接物鏡305、中繼透鏡306、攝像元件307之範圍顯示器310。發光部301，係例如包含從LED等之光源和將從光源所射出之光作導光之光纖等，將光作射出。從發光部301所射出之光，係透過光學系統302而入射於分束器303，在分束器303被反射。在分束器303所反射之光，係透過接物鏡305，而對於基板上的標示22進行科勒照明。被科勒照明之基板上的標示22之影像，係透過接物鏡305、分束器303、及中繼透鏡306而成像於攝像元件307(例如CCD感測器)。藉對於如此成像在攝像元件307的標示22之影像在控制部50中進行影像處理，可檢測出該標示22的位置。

圖4，係供以說明複數個檢測部300之配置的圖。在基板21，係複數個標示22被相對於形成在基板上之各射擊區域23而設。在示於圖4之例子中，係相對於各射擊區域23設有6個標示22。藉如此設置複數個標示22，可高準確度對於各射擊區域23的位置和變形(包含倍率成分和偏移成分、桶型成分、枕型成分等)進行計測，可高準確度將遮罩11的圖案轉印至各射擊區域23。此外，複數個檢測部300，係依複數個標示22的X方向之配列，而沿著X方向作配置。藉如此配置複數個檢測部300，可對於沿著X方向而配列之複數個標示22以複數個範圍顯示器同時進行檢測。然後，如圖4所示沿著X方向而配列之複數個標示22的列於Y方向具有6列之情況下，藉基板台20使基板21於Y方向6階段作步進移動，使得可對於設置在基板21之複數個標示22的全部進行檢測。

於此，著眼於在配置於在X方向上相鄰的2個射擊區域23之間的2個標示22。例如，著眼於配置在射擊區域23a與射擊區域23b之間的標示22a與標示22b。在圖4中，標示22a及標示22b，係在X方向以間隔24a而配置。如此配置之2個標示22的X方向之間隔，係可依射擊區域23的大小，而在例如1mm~40mm的範圍按基板21而改變。此時，配置於在X方向上相鄰的2個射擊區域23之間的2個標示22之X方向的間隔窄於檢測部300的X方向之寬度時，可能產生無法使範圍顯示器彼此接近這個問題。亦即，可能變成無法對於該2個標示22使用2個檢測部300而同時進行計測。檢測部300彼此的間隔，係例如，可能因在各檢測部300的範圍顯示器310中所含之接物鏡305的直徑而受到約束。

圖5，係繪示對於在X方向上相鄰的2個標示22進行檢測時之2個歷來的檢測部300a及300b之配置的圖。在示於圖5之各檢測部300的範圍顯示器310，係將發光部與光學系統的圖示作省略。例如，在各檢測部300的範圍顯示器310方面NA為0.1、焦點距離為20mm之情況下，孔徑光欄303之尺寸係成為4mm。然後，此情況下，接物鏡305的直徑，係例如因對於接物鏡305進行控制之構件而需要2mm的餘裕時，成為對於孔徑光欄303之尺寸加算2mm的餘裕之6mm。亦即，對於在X方向上相鄰的2個標示22藉2個檢測部300而進行檢測之情況下，若2個標示22的間隔窄於是接物鏡305的直徑之6mm則無法使2個檢測部300接近。因此，可能變成無法對於2個標示22使用2個檢測部300而同時進行計測。於此，檢測部300的X方向之寬度，係因鏡筒等而寬於接物鏡305的直徑，故實際上，係即使2個標示22的間隔為寬於接物鏡305的直徑之間隔，仍存在變得難以使2個範圍顯示器接近之情形。

為了解決上述的問題，存在以可使用1個接物鏡311、1個中繼透鏡312、2個範圍顯示器320a及320b而對於2個標示22a及22b同時進行檢測之方式而構成的檢測部400。圖6，係繪示以對於在X方向上相鄰的2個標示22a及22b同時進行檢測的方式而構成之歷來的檢測部400之圖。在檢測部400，係相對於1個接物鏡311與1個中繼透鏡312，而具備2個包含鏡313、正像透鏡314及315、分束器316、攝像元件317之範圍顯示器320。在示於圖6之各範圍顯示器(320a及320b)，係如圖3所示具有發光部與光學系統，從發光部所射出之光透過光學系統而入射於分束器316，但在圖6係將發光部與光學系統的圖示作省略。然後，在檢測部400，係使各範圍顯示器(320a及320b)相對於接物鏡311及中繼透鏡312而相對且個別移動於X方向。藉此，可對於以窄於示於圖5之方法的間隔而配置之2個標示22a及22b進行檢測。然而，在如此構成之檢測部400，係構成為亦能以寬的間隔(例如40mm)對於配列在X方向之2個標示22同時進行檢測之情況下，可能變成需要增加接物鏡311的直徑。亦即，示於圖6之檢測部400，係隨著接物鏡311的直徑增加，不僅X方向之尺寸變大，Y方向之尺寸亦可能變大。

所以，在第1實施形態的檢測系統100，其中所含之檢測部500，係構成為具有2個範圍顯示器510a、510b，該等範圍顯示器係對於標示22照射光，藉所反射之光而對於該標示22的位置進行檢測。然後，第1實施形態的檢測部500，係構成為：即使在配置於在X方向上相鄰的2個射擊區域23之間的2個標示22之間隔窄於範圍顯示器的X方向之寬度的情況下，仍可對於該2個標示同時進行檢測。此外，第1實施形態的檢測部500，係可構成為：亦可藉增加X方向之尺寸(後述的光學構材550的X方向之尺寸)，而以寬的間隔(例如40mm)對於配列在X方向之2個標示22同時進行檢測。亦即，在檢測部500，係構成為能以寬的間隔對於配列在X方向之2個標示22同時進行檢測時，可減低Y方向之尺寸變大。接著，說明有關於第1實施形態的檢測部500之構成。

圖7，係繪示第1實施形態的檢測部500之構成的圖。第1實施形態的檢測部500，係例如，包含2個範圍顯示器(第1範圍顯示器510a及第2範圍顯示器510b)與光學構材550。第1範圍顯示器510a及第2範圍顯示器510b分別，係如同示於圖3之範圍顯示器 310，例如，可包含：發光部、光學系統、分束器503、孔徑光欄、接物鏡505、中繼透鏡506、攝像元件507。此外，光學構材550，係具有：使從第1範圍顯示器510a所射出之光以入射於基板21的方式而透射之透射部550d、及將從第2範圍顯示器510b所射出之光朝向基板21而反射之面550a。於此，在圖7中，係將第1範圍顯示器510a及第2範圍顯示器510b的各者之發光部、光學系統及孔徑光欄的圖示作省略。

第1範圍顯示器510a，係如同示於圖3之範圍顯示器310，將從發光部所射出之光，透過光學系統、分束器503、接物鏡505而射出，對於基板上的第1標示22a進行科勒照明。此時，從第1範圍顯示器510a所射出之光，係透射光學構材550(面550b及面550c)而入射於基板21，對於第1標示22a進行科勒照明。此外，第2範圍顯示器510b，係如同第1範圍顯示器510a，將從發光部所射出之光透過光學系統、分束器503、接物鏡505而射出，對於基板上的第2標示22b進行科勒照明。此時，從第2範圍顯示器510b所射出之光，係反射光學構材之面550a而入射於基板21，對於第2標示22b進行科勒照明。於此，第1實施形態的第1範圍顯示器510a與第2範圍顯示器510b，係例如，能以波長和偏光特性成為彼此相同的方式，採用彼此相同的構成之範圍顯示器。此外，第1範圍顯示器510a，係以其光軸成為垂直於基板21的表面之方式而配置較佳，第2範圍顯示器510b，係以其光軸與第1範圍顯示器510a的光軸之間的角度成為不足90度的方式而配置較佳。

光學構材550(透射部550d)，係以可使例如玻璃等光透射之材料而製作，可包含；以成為平行於基板21的表面之方式而分別構成的上側(Z方向側)之面550b與下側(-Z方向側)之面550c(平行平板)。藉如此構成上側之面550b與下側之面550c，可將以成為垂直於基板21的表面之方式而從第1範圍顯示器510a所射出之光的主光線作成在透射光學構材550後仍相對於基板21的表面而垂直。此外，光學構材550，係包含將從第2範圍顯示器510b所射出之光朝向基板21而反射之面550a。光學構材550之面550a，係例如，以藉該面550a而反射之光的主光線成為垂直於基板21的表面之方式而構成。於此，在光學構材550之面550b及550c，係為了使光的透射率提升，設置防止光的反射之抗反射膜較佳，在光學構材550之面550a，係為了使光的反射率提升，設置將光反射之反射膜較佳。

在如此構成之檢測部500，第1範圍顯示器510a，係構成為：能以透射光學構材之光的焦點之高度不會改變的方式相對於光學構材550而相對移動。例如，檢測部500係包含將第1範圍顯示器510a驅動於X方向之驅動機構，該驅動機構係可藉控制部50而作控制。藉此，檢測部500，係可將從第1範圍顯示器510a所射出之光的照射位置與從第2範圍顯示器510b所射出之光的照射位置之間的距離，依在X方向上相鄰的2個標示22a及22b之相對位置而變更。於此，照射位置，係指會照射從各範圍顯示器510a、510b所射出之光的基板上之位置。

圖8，係從Y方向觀看第1實施形態的檢測系統100時之圖。在第1實施形態的檢測系統100，係如上述(圖7)的方式而構成之複數個檢測部500被沿著X方向而配置。此外，在檢測系統100，係為了對於配置在X方向(-X方向)的端邊之1個標示進行檢測，於複數個檢測部500之X方向側(-X方向側)配置如圖3的方式而構成之檢測部300。於此，例如，想像：如圖9所示，配置於在X方向上相鄰的2個射擊區域23a及23b之間的第1標示22a及第2標示22b之X方向的間隔為間隔24a之情況。此情況下，控制部50，係以從檢測部500a的第2範圍顯示器510b所射出之光照射於第2標示22b的方式而對於驅動部200進行控制，而使檢測部500a移動於X方向。然後，控制部50，係以從檢測部500a的第1範圍顯示器510a所射出之光照明於第1標示22a之方式對於驅動機構進行控制，而使第1範圍顯示器510a相對於光學構材550(第2範圍顯示器510b)而相對移動於X方向。藉此，可如圖7所示，將從第1範圍顯示器510a所射出之光的照射位置與從第2範圍顯示器510b所射出之光的照射位置之間的距離(X方向)，作成第1標示22a與第2標示22b之X方向的間隔24a。此外，控制部50，係對於檢測部500a以外的檢測部500，如同檢測部500a而配置第1範圍顯示器510a與第2範圍顯示器510b，將檢測部300，以檢測出配置在X方向(-X方向)的端邊之1個標示22的方式而配置。藉此，檢測系統100，係可對於在基板上沿著X方向而配列之複數個標示22同時進行檢測。

另一方面，例如，想像：如圖10所示，第1標示22a及第2標示22b的X方向之間隔為比示於圖9之間隔24a窄的間隔24b之情況。此情況下，控制部50，係以從檢測部500a的第2範圍顯示器510b所射出之光照明於第2標示22b的方式而對於驅動部200進行控制，而使檢測部500a移動於X方向。然後，控制部50，係以從檢測部500a的第1範圍顯示器510a所射出之光照明於第1標示22a之方式對於驅動機構進行控制，而使第1範圍顯示器510a相對於光學構材550(第2範圍顯示器510b)而相對移動於X方向。亦即，對於入射於光學構材550(透射部550d)的來自第1範圍顯示器510a之光的入射位置與在光學構材550之面550a被反射的來自第2範圍顯示器510b之光的反射位置之相對位置進行改變。此時，將第1範圍顯示器510a配置於比示於圖7之位置靠近第2範圍顯示器510b之位置。藉此，可如圖11所示，將從第1範圍顯示器510a所射出之光的照射位置與第2範圍顯示器510b所射出之光的照射位置之間隔(X方向)，作成比間隔24a窄之間隔24b。如此，第1實施形態的檢測部500，係藉使第1範圍顯示器510a移動於X方向，而可使 2個範圍顯示器510a、510b之照射位置的間隔，對應於在X方向上相鄰的2個標示22a及55b之間隔。

於此，在第1實施形態的檢測部500，係以在使從第1範圍顯示器510a所射出之光透射於光學構材550時該光不會從光學構材550之面550c露出的方式而使第1範圍顯示器510a移動於X方向較佳。亦即，從第1範圍顯示器510a所射出之光的照射位置與從第2範圍顯示器510b所射出之光的照射位置，係可接近至從第1範圍顯示器510a所射出之光不會從光學構材550之面550c的X方向之端部露出之程度。在另一方面，在擴大從第1範圍顯示器510a所射出之光的照射位置與從第2範圍顯示器510b所射出之光的照射位置之情況下，係可藉使光學構材550(面550b及550c)伸長於-X方向而應對。此外，第1實施形態的檢測部500，係第1範圍顯示器510a以相對於光學構材550作移動之方式而構成，但並非限定於該者，亦可構成為：光學構材550相對於第1範圍顯示器510a作移動。在此情況下，係第2範圍顯示器510b，可與光學構材550一起移動。此外，在光學構材550之面550a朝向Y方向，第2範圍顯示器510b具有延伸於Y方向之光軸，可移動於X方向之情況下，係亦可構成為僅使第2範圍顯示器作移動。此外，亦可在第1範圍顯示器510a和第2範圍顯示器510b的光程之中途設置光程彎曲鏡，將光程彎曲鏡構成為可移動。

如上所述，第1實施形態的檢測部500，係包含：對於標示22照射光，藉所反射之光而對於該標示22的位置進行檢測之第1範圍顯示器510a與第2範圍顯示器510b。然後，第1實施形態的檢測部500，係包含：使從第1範圍顯示器510a所射出之光以入射於基板21的方式而透射之透射部、及具有將從第2範圍顯示器510b所射出之光朝向基板21而反射之面550a的光學構材550。此外，檢測部500，係可依設置在基板上之2個標示22的X方向之間隔，而使第1範圍顯示器510a相對於光學構材550而相對移動於X方向。藉如此構成檢測部500，檢測部500，係例如，在X方向上相鄰的2個標示22的間隔為互相不同的基板間，仍可藉使第1範圍顯示器510a移動而對於該2個標示22同時進行檢測。

<第2實施形態>

說明有關於第2實施形態的檢測部600。第2實施形態的檢測部600，係構成為：與第1實施形態的檢測部500比較下，可使從第1範圍顯示器510a所射出之光的照射位置與從第2範圍顯示器510b所射出之光的照射位置更接近。

圖12，係繪示第2實施形態的檢測部600之構成的圖。在第2實施形態的檢測部600，係在光學構材550之面550a接合了稜鏡560。稜鏡560，係以例如玻璃等與光學構材550之材料相同的材料而製作較佳。接合於光學構材550之面550a的稜鏡560，係例如，可包含：連續於光學構材550之面550c且平行於基板21的表面之面560a、及正交於第2範圍顯示器510b的光軸之面560b。藉此，如圖13所示，可使從第1範圍顯示器510a所射出之光透過光學構材550之面550a而照射於基板21。為此，第2實施形態的檢測部600，係可與第1實施形態的檢測部500比較下，使從第1範圍顯示器510a所射出之光的照射位置與從第2範圍顯示器510b所射出之光的照射位置更接近。變成亦可使從第1範圍顯示器510a所射出之光的照射位置與從第2範圍顯示器510b所射出之光的照射位置一致。藉此，即使在X方向上相鄰的標示22a與標示22b之間隔為比示於圖12之間隔24c窄的間隔24d，檢測部600仍可對於標示22a與標示22b同時進行檢測。

在如此構成之檢測部600，係較佳為在光學構材550之面550a設置：在波段方面將反射與透射切開之分光膜、和在偏光特性方面將反射與透射切開之偏光分束膜。在光學構材550之面550a設置分光膜之情況下，係以從第1範圍顯示器510a所射出之光與從第2範圍顯示器510b所射出之光互相具有不同的波段之方式而構成各範圍顯示器510a及510b較佳。作為使從第1範圍顯示器510a與第2範圍顯示器510b所射出之光的波段互相不同之方法，係例如，存在：採用射出互相不同的波段之光的光源之方法、和採用使互相不同的波段之光透射的波長濾波器之方法等。此外，在光學構材550之面550a設置偏光分束膜之情況下，係以從第1範圍顯示器510a所射出之光與從第2範圍顯示器510b所射出之光具有互相不同的偏光特性之方式而構成各範圍顯示器510a及510b較佳。例如，使從第1範圍顯示器510a所射出之光的偏光特性為S偏光及P偏光之中的一者，使從第2範圍顯示器510b所射出之光的偏光特性為S偏光及P偏光之中的另一者較佳。作為使從第1範圍顯示器510a與第2範圍顯示器510b所射出之光的偏光特性互相不同的方法，係例如，存在：以從各範圍顯示器510a、510b所射出之光成為期望的偏光特性的方式而在各範圍顯示器510a、510b配置偏光板之方法。

如上所述，第2實施形態的檢測部600，係於光學構材550之面550a使稜鏡560接合，使從第1範圍顯示器510a與第2範圍顯示器510b所射出之光的特性(波段或偏光特性)互相不同。藉此，第2實施形態的檢測部600，係與第1實施形態的檢測部500比較下，可使從第1範圍顯示器510a所射出之光的照射位置與從第2範圍顯示器510b所射出之光的照射位置更接近。

<第3實施形態>

說明有關於第3實施形態的檢測部700。第3實施形態的檢測部700，係可包含：4個範圍顯示器520a~520d、及具有將從各範圍顯示器520a~520d所射出之光分別作反射的4個面580a~580d之光學構材580。然後，檢測部700，係可藉使光學構材580移動於成為與基板21的表面垂直之方向，而對於從各範圍顯示器520a~520d所射出之光的照射位置之間隔進行變更。

圖14，係從Y方向觀看第3實施形態的檢測部700時之圖，繪示了4個範圍顯示器520之中2個範圍顯示器520(第1範圍顯示器520a及第2範圍顯示器520b)。此外，圖15，係從Z方向觀看第3實施形態的檢測部700時之圖，繪示了4個範圍顯示器520(第1範圍顯示器520a、第2範圍顯示器520b、第3範圍顯示器520c及第4範圍顯示器520d)。各範圍顯示器520，係如同示於圖3之範圍顯示器310，例如，可分別包含：發光部、光學系統、分束器523、孔徑光欄、接物鏡525、中繼透鏡526、攝像元件527。在圖14及圖15，係將各範圍顯示器之發光部、光學系統、孔徑光欄的圖示分別作省略。

光學構材580，係可構成為：具有將從各範圍顯示器520a~520d所射出之光朝向基板21而反射之4個面580a~580d的四角錐之形狀。在圖14中，係繪示：在光學構材580，將從第1範圍顯示器520a所射出之光作反射之面580a(第1面)、及將從第2範圍顯示器520b所射出之光作反射之面580b(第2面)。此外，在圖14中，係繪示：將從第3範圍顯示器520c所射出之光作反射之面580c。如此構成之檢測部700，係可藉各範圍顯示器520a~520d，而如圖15所示，對於在基板上相鄰的標示22e~22h同時進行檢測。

在如此構成之第3實施形態的檢測部700，係光學構材580構成為可移動於與基板21的表面正交之方向(Z方向)。例如，檢測部700係包含將光學構材580驅動於Z方向之驅動機構，該驅動機構係可藉控制部50而作控制。藉此，檢測部700，係可將從各範圍顯示器520a~520d所射出之光的照射位置之間隔依相鄰的4個標示之相對位置而變更。例如，想像：如圖16所示使光學構材580移動於Z方向之情況。此情況下，可將從第1範圍顯示器520a所射出之光的照射位置與從第2範圍顯示器520b所射出之光的照射位置之間隔，從示於圖14之間隔24e窄化成示於圖16之間隔24g。此外，如從Z方向觀看使光學構材580移動於Z方向時之檢測部700時的圖17所示，可藉使光學構材580移動於Z方向，使從各範圍顯示器520a~520d所射出之光的照射位置之間隔窄化。因此，檢測部700，係可藉使光學構材580移動於Z方向，而對於以比示於圖15之4個標示22e~22h窄的間隔而配置之4個標示22i~22l同時進行檢測。

如上所述，第3實施形態的檢測部700，係可包含：4個範圍顯示器520a~520d、及具有將從各範圍顯示器520a~520d所射出之光朝向基板21而反射之4個面580a~580d的光學構材580。依如此之構成，檢測部700，係可藉使光學構材580移動於Z方向，而使從各範圍顯示器520a~520d所射出之光的照射位置之間隔作變更。為此，即使相鄰的4個標示之間隔為互相不同的基板間，仍可藉使光學構材580移動於Z方向而對於該4個標示同時進行檢測。於此，在第3實施形態，係說明有關於在檢測部700包含4個範圍顯示器520a~520d之情況，但並非限定於此者。例如，在檢測部700包含2個或3個範圍顯示器520之情況下，或在包含5個以上的範圍顯示器520之情況下皆可應用本發明。

<物品之製造方法的實施形態>

本發明之實施形態相關的物品之製造方法，係例如，適合於製造半導體裝置等之具有微型裝置和微細構造的元件等之物品。本實施形態的物品之製造方法，係包含：使用上述的光刻裝置(曝光裝置和壓印裝置、描繪裝置等)而將原版的圖案轉印於基板之程序、及對於在如此之程序轉印了圖案之基板進行加工之程序。再者，如此之製造方法，係包含其他周知之程序(氧化、成膜、蒸鍍、摻雜、平坦化、蝕刻、抗蝕層剝離、切割、接合、封裝等)。本實施形態的物品之製造方法，係相較於歷來的方法，有利於物品之性能/品質/生產率/生產成本中之至少1者。

以上，雖說明有關於本發明之較佳實施形態，惟本發明理當不限定於此等實施形態，在其要旨之範圍內，可作各種的變化及變更。