TWI509631B - 用於電子裝置之可燒結銀薄片黏著劑 - Google Patents

用於電子裝置之可燒結銀薄片黏著劑 Download PDF

Info

Publication number
TWI509631B
TWI509631B TW100146593A TW100146593A TWI509631B TW I509631 B TWI509631 B TW I509631B TW 100146593 A TW100146593 A TW 100146593A TW 100146593 A TW100146593 A TW 100146593A TW I509631 B TWI509631 B TW I509631B
Authority
TW
Taiwan
Prior art keywords
conductive composition
silver
peroxide
tap density
butyl
Prior art date
Application number
TW100146593A
Other languages
English (en)
Other versions
TW201237887A (en
Inventor
Harry Richard Kuder
Juliet Grace Sanchez
Xinpei Cao
Matthias Grossmann
Original Assignee
Henkel IP & Holding GmbH
Henkel Ag & Co Kgaa
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Henkel IP & Holding GmbH, Henkel Ag & Co Kgaa filed Critical Henkel IP & Holding GmbH
Publication of TW201237887A publication Critical patent/TW201237887A/zh
Application granted granted Critical
Publication of TWI509631B publication Critical patent/TWI509631B/zh

Links

Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C09DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09JADHESIVES; NON-MECHANICAL ASPECTS OF ADHESIVE PROCESSES IN GENERAL; ADHESIVE PROCESSES NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE; USE OF MATERIALS AS ADHESIVES
    • C09J9/00Adhesives characterised by their physical nature or the effects produced, e.g. glue sticks
    • C09J9/02Electrically-conducting adhesives
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C09DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09JADHESIVES; NON-MECHANICAL ASPECTS OF ADHESIVE PROCESSES IN GENERAL; ADHESIVE PROCESSES NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE; USE OF MATERIALS AS ADHESIVES
    • C09J11/00Features of adhesives not provided for in group C09J9/00, e.g. additives
    • C09J11/02Non-macromolecular additives
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01BCABLES; CONDUCTORS; INSULATORS; SELECTION OF MATERIALS FOR THEIR CONDUCTIVE, INSULATING OR DIELECTRIC PROPERTIES
    • H01B1/00Conductors or conductive bodies characterised by the conductive materials; Selection of materials as conductors
    • H01B1/20Conductive material dispersed in non-conductive organic material
    • H01B1/22Conductive material dispersed in non-conductive organic material the conductive material comprising metals or alloys
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08KUse of inorganic or non-macromolecular organic substances as compounding ingredients
    • C08K3/00Use of inorganic substances as compounding ingredients
    • C08K3/02Elements
    • C08K3/08Metals
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08KUse of inorganic or non-macromolecular organic substances as compounding ingredients
    • C08K5/00Use of organic ingredients
    • C08K5/04Oxygen-containing compounds
    • C08K5/14Peroxides
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08KUse of inorganic or non-macromolecular organic substances as compounding ingredients
    • C08K7/00Use of ingredients characterised by shape
    • C08K7/02Fibres or whiskers
    • C08K7/04Fibres or whiskers inorganic
    • C08K7/06Elements
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/26Layer connectors, e.g. plate connectors, solder or adhesive layers; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/28Structure, shape, material or disposition of the layer connectors prior to the connecting process
    • H01L2224/29Structure, shape, material or disposition of the layer connectors prior to the connecting process of an individual layer connector
    • H01L2224/29001Core members of the layer connector
    • H01L2224/29099Material
    • H01L2224/29198Material with a principal constituent of the material being a combination of two or more materials in the form of a matrix with a filler, i.e. being a hybrid material, e.g. segmented structures, foams
    • H01L2224/29298Fillers
    • H01L2224/29299Base material
    • H01L2224/293Base material with a principal constituent of the material being a metal or a metalloid, e.g. boron [B], silicon [Si], germanium [Ge], arsenic [As], antimony [Sb], tellurium [Te] and polonium [Po], and alloys thereof
    • H01L2224/29338Base material with a principal constituent of the material being a metal or a metalloid, e.g. boron [B], silicon [Si], germanium [Ge], arsenic [As], antimony [Sb], tellurium [Te] and polonium [Po], and alloys thereof the principal constituent melting at a temperature of greater than or equal to 950°C and less than 1550°C
    • H01L2224/29339Silver [Ag] as principal constituent
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/013Alloys
    • H01L2924/0132Binary Alloys
    • H01L2924/01322Eutectic Alloys, i.e. obtained by a liquid transforming into two solid phases
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/10Details of semiconductor or other solid state devices to be connected
    • H01L2924/11Device type
    • H01L2924/13Discrete devices, e.g. 3 terminal devices
    • H01L2924/1304Transistor
    • H01L2924/1305Bipolar Junction Transistor [BJT]
    • H01L2924/13055Insulated gate bipolar transistor [IGBT]

Description

用於電子裝置之可燒結銀薄片黏著劑
包含黏著樹脂及導電填充物之導電黏著劑組合物被用於半導體封裝物及微電子裝置的製造及組裝中,以機械性黏附積體電路裝置與其基板並在其等之間建立導電性。使用最普遍的導電填充物係銀薄片。該黏著樹脂可選自此項技藝中已知用於此目的之各類樹脂。由於通常所使用的銀薄片之黏著性不足以將積體電路裝置黏附至其基板,所以需要樹脂。然而,樹脂的存在限制銀的高熱導率及電導率。
已對不含黏著樹脂且僅含奈米銀作為導電劑及黏著劑之導電黏著劑組合物進行研究。儘管奈米銀由於較高的表面積而可在低於傳統銀薄片的溫度下燒結,但是當在該等低溫下燒結時,其仍保持多孔性。孔隙的存在可使導電組合物中產生空隙,其可導致其中使用該導電組合物之半導體或微電子裝置無效。因此,奈米銀必須於高熱高壓下燒結以消除孔隙並實現充分的密化,以適用於半導體製造。
本發明作為傳統半導體組件中焊料的替代物在高功率裝置中提供增強型導電率,且提供包含傳統銀薄片及黏著樹脂之典型導電黏著劑組合物的替代物及僅含有必須於壓力下燒結的奈米銀之組合物的替代物。
本發明係一種導電組合物,其包含(i)振實密度為4.6 g/cc或更高的微米或亞微米尺寸之銀薄片及(ii)溶解銀表面上之任何脂肪酸潤滑劑或界面活性劑之溶劑。在一實施例中,存在(iii)少量過氧化物。該組合物中不存在有機樹脂。
商業上提供的大多數銀薄片具有用來防止聚結的脂肪酸潤滑劑及界面活性劑塗層。該潤滑劑及界面活性劑會阻礙燒結,此意味著燒結將需要較高溫度。本發明導電組合物之溶劑可溶解或置換銀薄片表面之潤滑劑及界面活性劑。該溶劑必須具有可有效移除塗層且允許銀保持分散於溶劑中直至經分配及燒結為止之極性的平衡。銀薄片製造商所使用的典型潤滑劑包括硬脂酸、異硬脂酸、月桂酸、癸酸、油酸、棕櫚酸、或經胺(如咪唑)中和的脂肪酸。有效溶劑係將可移除銀薄片表面之此等及其他該等潤滑劑的溶劑。
在一實施例中,該溶劑係選自由乙酸2-(2-乙氧基-乙氧基)-乙酯、丙二醇單***、乙酸丁基乙氧基乙酯、及碳酸丙二酯組成之群。其他適宜的溶劑包括環酮(如環辛酮、環庚酮、及環己酮),及直鏈或分支鏈烷烴。該溶劑的存在量係低於總組合物之15重量%。替代性的醇溶劑(如萜品醇及2-辛醇)可有效移除銀表面之潤滑劑,但是不提供可用的使用壽命,因為銀薄片會迅速地自溶液中沉降出。
因此,在一實施例中,本發明係一種導電組合物,其包含振實密度為4.6 g/cc或更高之銀薄片及可有效溶解該銀薄片上之任何塗層之溶劑。該組合物中不存在黏著樹脂。在一實施例中,該銀薄片的振實密度係4.9 g/cc或更高;在另一實施例中,該銀薄片的振實密度係5.2 g/cc或更高。
如果燒結將於氮氣氛圍下進行(例如在使用銅基板時將需要),則將液體過氧化物添加至組合物中以引入氧,其有助於移除潤滑劑及界面活性劑。液體過氧化物對於控制流變性及銀沉降為較佳。適宜的液體過氧化物之實例係選自由過氧化2-乙基己酸第三丁酯、過氧化新癸酸第三丁酯、過氧化雙月桂醯、過辛酸第三丁酯、過氧化-2-乙基己酸1,1,3,3-四甲基丁酯、二-第三丁基過氧化物、2,5-雙(第三丁基過氧基)-2,5-二甲基己烷、及二-第三戊基過氧化物组成之群。在一實施例中,該過氧化物的存在量係佔總組合物之0.2至0.5重量%。在另一實施例中,該過氧化物的存在量係佔總組合物之0.1至1.0重量%。
在另一實施例中,本發明係一種導電組合物,其包含振實密度為4.6 g/cc或更高之銀薄片;可有效溶解該銀薄片上的任何塗層之溶劑;及液體過氧化物。該組合物中不存在黏著樹脂。在另一實施例中,該銀薄片的振實密度係4.9 g/cc或更高;在另一實施例中,該銀薄片的振實密度係5.2 g/cc或更高。在另一實施例中,該振實密度係高達7.4 g/cc。
當用於半導體製造時,此等組合物在燒結時具有充足的黏著性,未使用任何有機樹脂來使金屬塗層晶粒黏附至金屬塗層基板上。在一些實施例中,本發明之組合物將於低於250℃之溫度下燒結。在其他實施例中,本發明之組合物將於低於200℃之溫度下燒結。在燒結溫度下,潤滑劑、界面活性劑、溶劑、及任何過氧化物經燒盡而僅留存經燒結的銀。
可設計各種固化時程以符合操作者的需求。大尺寸晶粒可能需要較低溫度及較長時間的燒結曲線,以更加緩和地移除溶劑,從而確保無空隙之黏合線。本文提供典型的燒結曲線,然而應瞭解,預期其他相似的燒結曲線係同樣有效。燒結曲線之實例包括:
-歷時30分鐘自室溫斜升至220℃,接著在220℃下保持60分鐘;
-歷時15分鐘自室溫斜升至110℃,接著在110℃下保持60分鐘,隨後在240℃下維持60分鐘;
-歷時30分鐘自室溫斜升至250℃,接著在250℃下保持60分鐘;
-在較高的燒結溫度下,歷時60分鐘斜升至300℃,接著在300℃下保持兩小時。
藉由此等燒結曲線,完成本發明組合物之燒結無需壓力。在將金及銀塗層晶粒用於經金屬塗佈之銅引線框時(以銀膜或鎳-鈀-金膜作為測試載體),此等燒結曲線獲得大於100 W/m°K的熱導率,及在室溫下大於1.0 Kg/mm2 及在低於270℃下0.5 Kg/mm2 的晶粒剪切強度。在工業範圍內,含有振實密度4.2 g/cc之銀薄片之組合物的可接受目標係體積電阻率4.0×10-5 ohm-cm、熱導率40 W/m°K、25℃下之晶粒剪切強度1.0 kg/mm2 、及270℃下之晶粒剪切強度0.5 Kg/mm2
本發明之黏著劑將具有增加封裝物(如用於半導體、汽車、高電壓及cSi電池應用之TO、SO、MLP、WLCSP、BGA、IGBT、及LED)之功率密度的效用。此等係電子工業中典型的組件封裝物。
實例
在以下實例中,使用Dage 4000系列之晶粒剪切測試儀測量晶粒剪切強度,該剪切測試儀具有能夠達到350℃及實現至少50 kg力之加熱器安裝板。測試晶粒係3.81×3.81 mm,其係經鎳鈀金屬化且背面係經金膜塗佈。測試基板係經銀塗佈的銅引線框。測試樣品係銀黏著劑。將該銀黏著劑分配至該引線框上且將晶粒手工放置於該銀黏著劑上。根據個別實例中指定的燒結曲線,使該晶粒及引線框之間的銀黏著劑燒結。在燒結期間,未施加壓力。該燒結將晶粒黏附至引線框,且測試該組件之晶粒剪切性。
在以下實例中,使用Agilent 34401A數位萬用表或Gen Rad 1689 Precision RLC Digibridge測量體積電阻率。測試樣品係根據個別實例中指定的燒結曲線於玻璃載片上燒結的50微米×0.25-mm×25.4-mm的銀黏著劑試樣。測試至少三個樣品多次,以用於驗證及可重複性,且匯總結果並取平均值。
在以下實例中,使用Micro Flash-Laser熱性質儀器測量熱導率。測試樣品係根據個別實例中指定的燒結曲線燒結的獨立式0.5-mm×12.7-mm銀黏著劑圓盤。測試至少二個樣品多次,以用於驗證及可重複性,且匯總結果並取平均值。
對於實例1-6,該燒結曲線係由以下組成:歷時30分鐘自室溫斜升至250℃,接著在250℃下保持60分鐘。不使用壓力。
實例1:如上所述來測試銀黏著劑樣品的特性,該等樣品包含88.1重量百分比(重量%)之銀薄片(振實密度係5.7 g/cc)、11.5重量%之碳酸丙二酯(溶劑)、及0.4重量百分比(重量%)之過氧化2-乙基己酸第三丁酯(過氧化物)。結果係記錄如下:
實例2:如上所述來測試銀黏著劑樣品之熱導率,該等樣品包含振實密度為5.7 g/cc之銀薄片及不同溶劑。結果係記錄如下:
實例3:如上所述來測試銀黏著劑樣品之熱導率,該等樣品包含振實密度為5.7 g/cc之銀薄片、作為溶劑之碳酸丙二酯、及各種過氧化物。結果係記錄如下:
實例4:如上所述來測試銀黏著劑樣品之熱導率,該等樣品包含振實密度為5.7 g/cc的銀薄片、作為溶劑的碳酸丙二酯、及不同濃度的過氧化物。結果係記錄如下:
實例5:如上所述來測試銀黏著劑樣品之特性,該等樣品包含88.1重量%之不同振實密度的銀薄片、11.8重量%之碳酸丙二酯(溶劑);0.4重量%之過氧化2-乙基己酸第三丁酯(過氧化物)。結果係記錄如下:
實例6:如上所述來測試銀黏著劑樣品之特性,該等樣品包含具有各種脂肪酸潤滑劑之銀薄片。該銀薄片之振實密度係根據用於研磨銀粉的潤滑劑而變化。該等銀黏著劑含有88.1重量%之銀薄片、11.5重量%之碳酸丙二酯(溶劑)、及0.4重量%之過氧化2-乙基己酸第三丁酯(過氧化物)。結果係記錄如下:
實例7:使銀黏著劑樣品經受不同的燒結曲線,該等樣品包含88.1重量%之銀薄片(振實密度為5.7 g/cc)、11.5重量%之碳酸丙二酯(溶劑)、及0.4重量%之過氧化2-乙基己酸第三丁酯(過氧化物),且該燒結曲線係由歷時30分鐘自室溫斜升至下表中所列的最大溫度,接著在該最大溫度下保持60分鐘所組成。如上所述來測量該等樣品的特性且記錄如下:
實例8:藉由DSC於空氣及氮氣中測試不含溶劑或過氧化物之銀黏著劑樣品,以確定在10℃/minute斜升速率下之燒結可能性。反應熱越大,銀燒結及密化的可能性越大。於空氣或氮氣中大於19 J/g的反應熱顯示含有硬脂酸、月桂酸、癸酸、硬脂酸月桂酸共熔摻合物、及經咪唑中和的硬脂酸時的燒結可能性。反應熱低於19 J/g顯示不充分燒結,尤其係在氮氣環境下。

Claims (11)

  1. 一種導電組合物,其包含:(i)振實密度為4.6 g/cc或更高的微米或亞微米尺寸之銀薄片及(ii)可溶解存在於該銀表面上之任何脂肪酸潤滑劑或界面活性劑之溶劑。
  2. 如請求項1之導電組合物,其中該銀薄片具有4.9 g/cc或更高之振實密度。
  3. 如請求項1之導電組合物,其中該銀薄片具有5.2 g/cc或更高之振實密度。
  4. 如請求項1之導電組合物,其中該溶劑之存在量係小於總組合物之15重量%。
  5. 如請求項1之導電組合物,其中該溶劑係選自由乙酸2-(2-乙氧基-乙氧基)-乙酯、丙二醇單***、乙酸丁基乙氧基乙酯、碳酸丙二酯、環辛酮、環庚酮、環己酮、及直鏈或分支鏈烷烴組成之群。
  6. 如請求項1之導電組合物,其另外包含液體過氧化物。
  7. 如請求項6之導電組合物,其中該液體過氧化物係選自由過氧化-2-乙基己酸第三丁酯、過氧化新癸酸第三丁酯、過氧化雙月桂醯、過辛酸第三丁酯、過氧化-2-乙基己酸1,1,3,3-四甲基丁酯、二-第三丁基過氧化物、2,5-雙(第三丁基過氧基)-2,5-二甲基己烷、及二-第三戊基過氧化物組成之群。
  8. 如請求項6之導電組合物,其中該液體過氧化物的存在量係佔總組合物之0.2至0.5重量%。
  9. 如請求項6之導電組合物,其中該液體過氧化物的存在量係佔總組合物之0.1至1.0重量%。
  10. 如請求項6之導電組合物,其中該銀薄片具有4.9 g/cc或更高之振實密度。
  11. 如請求項6之導電組合物,其中該銀薄片具有5.2 g/cc或更高之振實密度。
TW100146593A 2011-02-25 2011-12-15 用於電子裝置之可燒結銀薄片黏著劑 TWI509631B (zh)

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
US201161446575P 2011-02-25 2011-02-25

Publications (2)

Publication Number Publication Date
TW201237887A TW201237887A (en) 2012-09-16
TWI509631B true TWI509631B (zh) 2015-11-21

Family

ID=46721175

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
TW100146593A TWI509631B (zh) 2011-02-25 2011-12-15 用於電子裝置之可燒結銀薄片黏著劑

Country Status (7)

Country Link
US (1) US8974705B2 (zh)
EP (1) EP2678866B1 (zh)
JP (1) JP5972291B2 (zh)
KR (1) KR101997294B1 (zh)
CN (1) CN103443866B (zh)
TW (1) TWI509631B (zh)
WO (1) WO2012115704A1 (zh)

Families Citing this family (13)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
GB0008660D0 (en) 2000-04-07 2000-05-31 Arakis Ltd The treatment of respiratory diseases
US10000670B2 (en) * 2012-07-30 2018-06-19 Henkel IP & Holding GmbH Silver sintering compositions with fluxing or reducing agents for metal adhesion
WO2015126807A1 (en) * 2014-02-24 2015-08-27 Henkel Ag & Co. Kgaa Sinterable metal particles and the use thereof in electronics applications
JP6181108B2 (ja) * 2014-06-19 2017-08-16 アキム株式会社 組立装置および組立方法
WO2016071005A1 (de) * 2014-11-03 2016-05-12 Heraeus Deutschland GmbH & Co. KG Metallsinterzubereitung und deren verwendung zum verbinden von bauelementen
JP6857125B2 (ja) * 2014-12-26 2021-04-14 ヘンケル・アクチェンゲゼルシャフト・ウント・コムパニー・コマンディットゲゼルシャフト・アウフ・アクチェンHenkel AG & Co. KGaA 焼結性接合材料およびそれを用いた半導体装置
EP3294799A4 (en) 2015-05-08 2018-11-21 Henkel IP & Holding GmbH Sinterable films and pastes and methods for the use thereof
CN108885915B (zh) 2015-12-23 2021-09-10 汉高知识产权控股有限责任公司 可烧结导电组合物、改善组合物的导电性的方法及基材
TWI778976B (zh) * 2016-09-15 2022-10-01 德商漢高股份有限及兩合公司 用於塗布與間隙填充應用之含石墨烯材料
US20180190593A1 (en) * 2016-12-30 2018-07-05 Intel Corporation Conductive adhesive layer for semiconductor devices and packages
KR102521531B1 (ko) 2017-08-31 2023-04-14 한국광기술원 금속환원성 유기물로 코팅된 은 및 구리 나노입자를 포함하는 전자소자 접착용 조성물 및 이의 제조방법, 이를 적용한 전자기기
WO2021120154A1 (en) * 2019-12-20 2021-06-24 Henkel Ag & Co. Kgaa Silver sintering composition containing copper alloy for metal bonding
TW202302795A (zh) * 2021-04-30 2023-01-16 德商漢高智慧財產控股公司 可燒結之導電組合物

Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6036889A (en) * 1995-07-12 2000-03-14 Parelec, Inc. Electrical conductors formed from mixtures of metal powders and metallo-organic decomposition compounds
TW498349B (en) * 2000-04-25 2002-08-11 Murata Manufacturing Co Electroconductive composition and printed circuit board using the same
TW502049B (en) * 1997-11-06 2002-09-11 Carmel Olefins Ltd Electrically conductive compositions and methods for producing same

Family Cites Families (14)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
AU5623798A (en) * 1997-01-06 1998-08-03 Quantum Materials, Inc. Reducing void formation in curable adhesive formulations
US7211205B2 (en) * 2003-01-29 2007-05-01 Parelec, Inc. High conductivity inks with improved adhesion
JP4320447B2 (ja) * 2004-02-03 2009-08-26 Dowaエレクトロニクス株式会社 銀粉およびその製造方法
EP1853671B1 (en) * 2005-03-04 2013-07-31 Inktec Co., Ltd. Conductive inks and manufacturing method thereof
US20060196579A1 (en) * 2005-03-07 2006-09-07 Skipor Andrew F High energy soldering composition and method of soldering
US20060289837A1 (en) * 2005-06-23 2006-12-28 Mcneilly Kirk Silver salts of dicarboxcylic acids for precious metal powder and flakes
JP4353380B2 (ja) 2005-09-21 2009-10-28 ニホンハンダ株式会社 ペースト状銀粒子組成物、固形状銀の製造方法、固形状銀、接合方法およびプリント配線板の製造方法
US7422707B2 (en) * 2007-01-10 2008-09-09 National Starch And Chemical Investment Holding Corporation Highly conductive composition for wafer coating
US7833439B2 (en) * 2007-07-24 2010-11-16 Ferro Corporation Ultra low-emissivity (ultra low E) silver coating
EP2208559B1 (en) * 2007-10-24 2016-04-20 DOWA Electronics Materials Co., Ltd. Silver microparticle-containing composition, process for production of the composition, process for production of the silver microparticle, and paste containing the silver microparticle
KR20100127767A (ko) * 2008-01-30 2010-12-06 다우 코닝 코포레이션 프린팅 가능한 전자소자용 박리 코팅으로서의 유리질 실리콘계 경질 코팅의 용도
JP2010180471A (ja) * 2009-02-09 2010-08-19 Dowa Electronics Materials Co Ltd フレーク状銀粉及びその製造方法、並びに導電性ペースト
DE102009040078A1 (de) 2009-09-04 2011-03-10 W.C. Heraeus Gmbh Metallpaste mit CO-Vorläufern
DE102009040076A1 (de) 2009-09-04 2011-03-10 W.C. Heraeus Gmbh Metallpaste mit Oxidationsmittel

Patent Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6036889A (en) * 1995-07-12 2000-03-14 Parelec, Inc. Electrical conductors formed from mixtures of metal powders and metallo-organic decomposition compounds
TW502049B (en) * 1997-11-06 2002-09-11 Carmel Olefins Ltd Electrically conductive compositions and methods for producing same
TW498349B (en) * 2000-04-25 2002-08-11 Murata Manufacturing Co Electroconductive composition and printed circuit board using the same

Also Published As

Publication number Publication date
EP2678866A4 (en) 2017-03-08
US20130187102A1 (en) 2013-07-25
JP2014512634A (ja) 2014-05-22
KR101997294B1 (ko) 2019-07-05
CN103443866B (zh) 2018-01-12
EP2678866B1 (en) 2019-02-27
WO2012115704A1 (en) 2012-08-30
KR20140007850A (ko) 2014-01-20
US8974705B2 (en) 2015-03-10
EP2678866A1 (en) 2014-01-01
JP5972291B2 (ja) 2016-08-17
TW201237887A (en) 2012-09-16
CN103443866A (zh) 2013-12-11

Similar Documents

Publication Publication Date Title
TWI509631B (zh) 用於電子裝置之可燒結銀薄片黏著劑
CN106574151B (zh) 导电性粘接膜
TWI624202B (zh) 用於金層黏著之含有助熔劑或還原劑的銀燒結組合物
TWI628256B (zh) 金屬膠及其用於連接組件之用途
TWI694558B (zh) 接合體及半導體裝置
KR102487472B1 (ko) 고성능, 열 전도성 표면 실장 (다이 부착) 접착제
JP5567636B2 (ja) 半導体接着用熱硬化型樹脂組成物及び半導体装置
KR20190105610A (ko) 무가압 접합용 구리 페이스트, 접합체 및 반도체 장치
JP6766160B2 (ja) 金属接合用組成物
WO2019169377A1 (en) Method of manufacturing an electronic device and conductive paste for the same
TW201911989A (zh) 金屬接合積層體的製造方法
KR20220081338A (ko) 은 소결 제제 및 전자 부품의 연결을 위한 이의 용도
TWI759279B (zh) 無加壓接合用銅糊、接合體與其製造方法及半導體裝置
TW202014257A (zh) 金屬漿料及其在連接構件方面的應用
TWI744820B (zh) 含有金屬粒子之組合物及導電性接著膜
JP2023038748A (ja) 金属ナノ粒子並びに第二の金属粒子を主成分とする接合剤を付着させた加熱接合材、及び電子機器の接合方法

Legal Events

Date Code Title Description
MM4A Annulment or lapse of patent due to non-payment of fees