TW398021B - Coating and developing apparatus, complex apparatus and processing method in coating and developing apparatus - Google Patents

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經濟部中央標隼局貝工消費合作社印製 A7 __B7 五、發明説明（彳） 發明背景 本發明是關於一塗層與顯影裝置，例如，用來以抗蝕 液塗覆基板與使基板顯影，一複合裝置，及一在塗層與顯 影裝置中之處理方法。 在半導體裝置架構的光阻過程中，一抗蝕液是塗覆在 如半導體晶圓（此後稱爲^晶圓之基板的表面上以形 成阻膜。在預定的圖案曝光後，基板是以顯影液塗覆與顯 影。一塗層與顯影裝置目前是使用在—連串的以上處理中 Ο 此塗層與顯影裝置是配置以各別執行塗層與顯影所需 之一連串處理之處理裝置，例如，用於改進抗定影的黏合 處理，用於塗覆抗蝕液的塗層處理，用於在以抗蝕液塗覆 以形成阻膜後加熱於晶圓的加熱處理，用於在預定溫度以 加熱於已曝光晶圓的另一加熱處理，用於使已曝光晶圓顯 影的顯影處理，用於使已加熱晶圓冷卻至預定溫度的冷卻 處理，以及其它類似處理。 附帶地，爲了要節省裝配空間，最近提議了一種將前 述處理裝置垂直堆疊於其中的整合塗層與顯影裝置。假設 近乎在此類型的塗層與顯影裝置的中央部分是一具有垂直 載體系統的主要載體裝置用以自各前述的處理裝置載入與 載出晶圓。前述的處理裝置是配置在主要載體裝置的周圍 以形成稱爲處理詁的處理裝置》—儲存晶圓的匣安裝在安 裝裝置上稱爲匣站，其配置在處理站的一側上。一與主載 體裝置分開的副載體裝置是配置在安裝裝置與處理裝置之 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) Α4規格（210X297公费) 一 -4 - ----------装-- - . { (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 、1Τ 經濟部中央標準局貝工消費合作社印製 _B7五、發明説明（2 ) 間載送晶圓。 當載送晶圓在匣站與處理站之間時，晶圓不是直接載 送在主載體裝置與副載體之間，而通常是經由能夠自安裝 裝置側與處理裝置側兩者接達的運送裝置來載送。明確地 說，一用來運送的獨特裝置是分開地配置在多層堆疊的處 理裝置中。當載送一晶圓時，主載體裝置與副載體裝置是 各別地安裝一時待載送在用來運送的獨特裝置上之晶圓。 換句話說，待處理的晶圓是安裝在來自具有副載體裝 置的匣站側用來運送的獨特裝置上。其次，主載體裝置接 收來自處理站側安裝在獨特裝置上的晶圓並將此晶圓載送 至預定的處理裝置。然後預定的處理是在各處理裝置中執 行。 同時，在各處理裝置中完成預定處理的晶圓是由主載 體裝置載送至一時安裝晶圓之用來運送的獨特裝置。接著 ，副載體裝置接收安裝在獨特裝置上的已處理晶圓並隨後 將此晶圓載送至匣站側以便儲存於預定的匣中。 然而，多層堆疊的處理裝眞是限_刺於來自裝配空間的 堆疊數量。假如配置一用來運送的獨特裝置，其它處理裝 置的數量不能夠由其空間而增加。 發明槪述 · 本發明的目的是提供塗層與顯影裝置，複合裝置’及 塗層與顯影裝置中的處理方法，其能夠增加在多層堆疊的 處理裝置中的堆疊數量並因此改進生產量。 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) Λ4規格（210X297公# ) (誚先閱讀背面之注項445寫本頁) 經濟部中央標準局貝工消費合作社印製 A7 B7 五、發明説明（3 ) 爲達到以上目的，本發明中的塗層與顯影裝置包含一 具有數個處理裝置的第一處理裝置組，此數個處理裝置設 有一複合裝置，其中堆疊有安裝一基板的第一安裝台及安 裝與冷卻此基板的第二安裝台，此數個處理裝置各別執行 此基板之塗覆與使此基板顯影所需之處理，且此數個處理 裝置是多層堆疊，第一載體裝置用來在處理裝置間載入與 載出此基板，以及第二載體裝置用來自複合裝置中的第一 與第二安裝台載入與載出基板。 本發明中的複合裝置是配置有用來安裝基板的第一安 裝台，及用來安裝與冷卻此基板並與第一安裝台整體堆叠 的第二安裝台。 本發明的處理方法是用在一塗層與顯影裝置中，此塗 層與顯影裝置包含一具有數個處理裝置的第一處理裝置組 ，此數個處理裝置設有一複合裝置，其中堆疊有安裝一基 板的第一安裝台及安裝與冷卻此基板的第二安裝台，此數 個處理裝置各別執行此基板之塗覆與使此基板顯影所需之 處理，且此數個處理裝置是多層堆疊，而本發明的處理方 法包含下列步驟：自一儲存數個基板的基板儲存構件載送 基板至第一安裝台，塗覆並顯影自第一安裝台載送出的基 板，將已塗覆並已顯影的基板載送至第二安裝台，以及自 第二安裝台載送基板進入基板儲存部位。 在本發明中，基板的運送與冷卻能夠在一複合裝置中 執行。因此，目前所使用之用於運送的獨特裝置變成不需 要，這使得例如將配置用於運送的獨特裝置所需之空間分 本紙張尺度適用中國囤家標準（CNS ) A4規格（210X297公释) 7" ---------n I I In - ml τ 、·=* /Λ (請先閱讀背面之注意事項#填耗本頁) 經濟部中央標準局貝工消费合作社印^ A7 B7 五、發明説明（4 ) 配給另一處理裝置成爲可能。結果是，能夠增加基板的處 理數量，因此增進生產量》 本發明的其它目的與優點將在隨後的說明中敘述，且 一部分將自說明中變爲淸楚或可由本發明的實例中學習到 。本發明的目的與優點可藉由下文中特別提出的方法與組 合予以實現並得到。 圖式簡要說明 這些與說明書結合並成爲說明書一部分的附圖在此解 說本發明的較佳實施例，並與以上的一般說明及以下的較 佳實施例詳細說明一起用來解說本發明的原理。 圖1是根據本發明一實施例之塗層與顯影裝置的上視 圖； 圖2是圖1中之塗層與顯影裝置的前視圖； 圖3是圖1中之塗層與顯影裝置的後視圖； 圖4是使用於圖1的塗層與顯影裝置中之複合裝置的 上視圖； 圖5是圖4中之複合裝置的側視圖； 圖6是圖4中之複合裝置的前視圖； 圖7是圖4中之複合裝置中央部分的操作說明圖；及 圖8是根據本發明另一實施例之冷卻安裝台的上視圖 〇 符號說明_ 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) Α4規格（210Χ297公# ) ----------— - > (¾先閲讀背而之注意事項存填寫本頁)

、1T 經濟部中央標準局貝工消費合作社印製 A7 _______B7 五、發明说明（5 ) 1 塗層與顯影裝置 1 0 匣站 1 1 處理站 1 2 介面裝置 2 0 匣台 2 0 a 定位突起 2 1 副載體裝置 2 1 a 載體路徑 2 2 主載體裝置 2 3 周邊曝光裝置 2 4 晶圓載體 3 0 複合裝置 3 1 安裝台 3 2 支撐銷 3 3 冷卻安裝台 3 4 支撐銷 3 5 支臂 3 6 驅動裝置 3 7 圓柱 3 8 冷卻水管 3 9 襯墊 4 0 定位構件 C 匣 W 晶圓 G 1 ，G 2，G 3，G 4 ， G 5 處理裝置組 發明詳細說明 在下列說明中一些術語將僅作爲參考方便之用而不予 以限制。用字、上"，"下〃，、右"與"左"將在標示 的附圖中指示方向。用字、入〃與、出〃將自裝置及其指 定部件的幾何中心分別地指示接近與離開的方向。如此的 術語將包括相似引入的引入物與用字。 如圖1至圖3中所示，一塗層與顯影裝置1是配置有 :一匣站1 0，其中至少有一晶圓W，例如每匣c有二十 五片晶圓自外側載送入此裝置或自此裝置載出，並自匣c 載入與載出；一處理站1 1，其中不同類型的處理裝置是 本紙張尺度適用中國國家梯準(叫μ規格（服X29⑽）·8_. ---------^------、1Τ------f (請先閲讀背面之注·^項再填寫本頁) 經濟部中央橾準局貝工消費合作社印製 A 7 B7 五、發明説明（6 ) 多層堆疊在指定的位置且各處理裝置在塗層與顯影的過程 中依序地對晶圓w給予預定的處理；以及一介面裝置12 ，其中將晶圓W載送至一與接收自一曝光裝置（未顯示） ，以上所有的裝置是整體連接一起。 在匣站1 〇中，如圖1所示，至多四個匣c是分別配 合晶圓對處理站11側的開放之每次進出於各定位突起 2 0 a位置的X方向（圖1中的垂直方向）的直線上而配 置在如安裝裝置的匣台2 0上。一副載體裝置2 1能夠在 匣C配置方向（X方向）與儲存於匣C內的晶圓W配置方 向（Z方向；垂直方向）上移動，並可沿著選擇性接達至 各匣C的載體路徑2 1 a上移動。 副載體裝置21是可在一 β方向上旋轉並可接達至屬 於如本文中所述的處理站1 1側之第三處理裝置組G 3的 多層堆叠裝置之複合裝置（TCP)。 在處理站1 1中，如圖1所示，一具有垂直載體系統 的主載體裝置2 2是配置在其中央部分。主載體裝置2 2 是配置有支撐構件，例如三個支撐晶圓W的鉗子。在主載 體裝置2 2周圍，有不同類型的處理裝置多層堆疊以組成 處理裝置組。可垂直移動並在0方向旋轉的主載體裝置 2 2能夠將由上述的三個鉗子支撐的晶圓w自而後將述及 的各處理裝置組G 1至G 5載入與載出。 在上述的塗層與顯影裝置1中，能夠配置五個處理裝 置組Gl，G2，G3，G4與G5。第一與第二處理裝 置組G 1與G 2可配置在此裝置的前側，第三處理裝置組 本紙張尺度適用中國國家梂準（CNS >Λ4現格（210X297^"^! I - ---------又------訂------哝1 - 一 (請先閱讀背而之注項孙填寫本頁) "9 - A7 B7 五、發明説明（7 ) G 3可配置鄰接於匣站1 0，第四處理裝置組G 4可配置 鄰接於介面裝置1 2，以及虛線表示的第五處理裝置組 G 5可配置在後側。 在第一處理裝置組G 1中，如圖2所示，將晶圓W置 於一盆C P中的旋轉夾頭上以執行預定處理的兩個旋轉式 處理裝置，例如一抗蝕溶液塗層裝置（C 0T)與一顯影 裝置（DEV)是自底部依序雙層堆叠。在類似於第一處 理裝置組G 1的第二處理裝置組G 2中，兩個旋轉式處理 裝置，例如一抗蝕溶液塗層裝置（COT)與一顯影裝置 (DEV)是自底部依序雙層堆疊。 在第三處理裝置組G 3中，如髑3所示，其中具有將 晶圓W安裝在一安裝台（未顯示.）上以執行預定處理的爐 式處理裝置，例如，一冷卻用的冷卻裝置（COL)，一 用於黏合處理化改善抗蝕劑固著的黏合裝置（AD)，一 塗覆前加熱用的預烘裝置（PREBAKE)，一後烘裝 置（POBAKE)，及一複合裝置（TCP)是例如八 層一起堆疊。 經濟部中央樣準局貝工消費合作社印製 (錆先間讀背而之注意事項存填寫本頁) 以上不同類型的處理裝置是能夠重新配置在各處理裝 置組以執行所需之晶圓處理。例如，預烘裝置（ PREBAKE)，後烘裝置（POBAKE)與黏合裝 置（AD)等三者需要高處理溫度是配置在上部，而冷卻 裝置（COL)，複合裝置（TCP)或類似裝置等需要 低處理溫度是配置在下部，因此減少裝置相互間的熱干擾 本紙張尺度適用中國固家樣準（CNS ) 規核（210X297公# ) -10- 經濟部中央標準局貝工消費合作社印聚 A7 B7__ 五、發明説明（8 ) 如圖1與圖2所示，一周邊曝光裝置2 3是配置在介 面裝置1 2的背側而—晶圓載體2 4是配置在其中央部分 。晶圓載體2 4在X方向與Z方向（垂直方向）上移動且 在Θ方向上旋轉以接達至周邊曝光裝置2 3 ’ 一屬於位於 處理站1 1側的第四處理裝置組G 4之延伸裝置（EXT )，以及一位於曝光圖案用的鄰接曝光裝置（未顯示）側 之晶圓運送台（未顯示）。 上述之複合裝置（T C P )的平面圖，側視圖與前視 圖是分別顯示在圖4至圖6中。在圖6中，然而’將在而 後述及的一安裝台3 1與一支撐銷3 2由於解說的緣故而 省略。 如圖4與圖5所示，安裝台3 1是形成在複合裝置（ T C P )的上部，而其上固定著數個用來支撐晶圓W的支 撐銷3 2。 一平行於安裝台3 1的冷卻台3 3是配置在上述複合 裝置（TCP)中的安裝台3 1下。如圖6所示，數個用 來支撐晶圓W的支撐銷3 2是配置在冷卻安裝台3 3中並 自由地自冷卻安裝台3 3彈出與縮回。支撐銷3 4是連接 至配置在下方用於上升與下降的支臂3 5。用於上升與下 降的支臂3 5藉由配置在複合裝置（T C P ) —側上的驅 動裝置中一圓柱的驅動而垂直移動。 冷卻安裝台3 3是例如以鋁形成。一冷卻水管3 8是 配置在冷卻安裝台3 3內。因此，通過冷卻水管3 8的冷 卻水循環可使冷卻安裝台3 3冷卻並使安裝在冷卻安裝台 本紙張尺度適用中_國國家標準（〇阳）八4規枯（210父297公#) (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁)

、1T 味 -11 - 經濟部中央標準局貝工消費合作社印聚 A7 ___B7__ 五、發明説明（9 ) 3 3上的晶圓W冷卻至指定的溫度。 根據此實施例的塗層與顯影裝置1是如上述而構成。 接著，說明此裝置的操作與功效。首先，待塗層與顯影的 晶圓W是以副載體裝置21自匣C載出並安裝在複合裝置 (TCP)上側中安裝台31上的支撐銷32上。然後， 如圖7所示，主載體裝置2 2接收晶圓W並將其載送至黏 合裝置（AD)中。其後，根據預定的配方，藉由冷卻裝 置（COL)，抗蝕溶液塗層裝置（COT)，周邊曝光 裝置，或類似裝置在曝光裝置中（未顯示）給予晶圓W圖 案的曝光處理。 接著，在顯影裝置（DEV)中顯影後，晶圓W是以 主載體裝置2 2載送至後烘裝置（POBAKE)中作熱 處理然後安裝在複合裝置（T C P )下側中冷卻安裝台 3 3上的支撐銷3 4上。 在下降支撐銷3 4以將晶圓W安裝在冷卻安裝台3 3 上後，晶圓W是冷卻至例如2 5 °C的指定溫度。在完成冷 卻處理後，支撐銷3 4是上升並待命中。接著，副載體裝 置2 1接收冷卻安裝台3 3中支撐銷3 4上的晶圓W並將 其載送至指定的匣C中。 如上述的，根據本實施例之塗層與顯影裝置中的複合 裝置，用來載送處理站1 1中未處理的晶圓W之運送與在 後烘裝置（POBAKE)中熱處理晶圓W後之冷卻處理 都是在同一裝置中執行。所以，目前所使用的運送晶圓W 之獨特裝置變成不需要，因此可將在處理裝置組中用來配 本k張尺度適用中國國家梯準（CNS ) A4規格（210X297公势) -12- * \ -----------雇------訂------^ I -- /ft (請先間讀背面之注意事項洱填寫本頁) 經濟部中央標率局貝工消費合作社印製 A7 B7 五、發明説明（10) 置運送獨特裝置所需的空間分配給另一處理裝置，例如， 考慮調整各處理時間。結果，能夠增加晶圓W的處理數量 〇 配置在冷卻安裝台3 3 —側的是一用來提升與降低冷 卻安裝台3 3上的支撐銷3 4所需之驅動裝置3 6。所以 ，複合裝置（T C P )在垂直方向的高度能夠藉由驅動裝 置3 6的高度來降低。結果，能夠降低複合裝置（TCP )本身的高度，因此增加處理裝置組中多層堆疊的處理裝 置之堆疊數目。再者，因爲安裝台3 1僅需要作爲晶圓W 的運送裝置，所以用來提升與降低支撐銷3 2的驅動裝置 是不需要的。 至於複合裝置（TCP)中安裝台3 1與冷卻安裝台 3 3間的垂直關係，兩者都能夠配置在上方或下方。但是 ，假如將重的冷卻安裝台3 3而不是輕的安裝台3 1配置 在下方，這會改善並穩定複合裝置本身的重量平衡。再者 ，相對於安裝台3 1具有較低溫度的冷卻安裝台3 3配置 在下方，上述的配置能夠防止在安裝台3 1與冷卻安裝台 33間所造成的熱干擾。 當例如在副載體裝置2 1或主載體裝置2 2中晶圓W 的排列準確度未能辨別再製能力時，複合裝置（T C P ) 能夠在任一安裝台3 1或冷卻安裝台3 3中配置一晶圓W 排列機構。圖8顯示一配置在冷卻安裝台3 3上的排列機 構實例。四個襯墊3 9是配置在冷卻安裝台3 3上表面的 周圍部分上。定位構件4 0是分別附著在襯墊3 9上。具 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS〉Λ4規格（210X 297公犛） ------,玎------^ _ * (請先閲讀背面之注意事項再¾本頁) 13- 經濟部中央標準局貝工消費合作社印^ A7 B7 五、發明説明（H ) 有襯墊3 9 —起的各定位構件4 0是以螺栓固定在冷卻安 裝台3 3上。定位構件40的內周面是呈錐狀。當晶BIW 是降至冷卻安裝台3 3上時，晶圓W是沿著錐狀內周面導 引同時其外周面是接觸著定位構件4 0以便藉由其本身的 重量而安置在一穩定的位置。結果，定位了晶圓W。在此 狀況，如獨特排列裝置（A L I Μ )的晶圓W排列機構變 成不需要。因此，用來配置以上排列裝置（AL ΙΜ)所 需之空間可分配給另一處理裝置。 在上述的實施例中，晶圓W是由冷卻安裝台3 3冷卻 。當不需要冷卻晶圓W時，冷卻安裝台3 3僅是作用爲晶 圓W的安裝台，而不讓冷卻水流過冷卻安裝台3 3中的冷 卻水管3 8。上述之實施例是以晶圓W作爲基板，但是本 發明並不限制在此，而且應用在使用L CD基板的實施例 上。 如上所述，根據本發明，基板的運送與冷卻兩者能夠 執行在一個複合裝置中，其可增加其它處理裝置的數目。 結果增加每小時·處理基板的數量。 再者，根據本實施例，一重的冷卻安裝台是配置在下 方，因此穩定複合裝置的重量平衡，且防止在安裝台與冷 卻安裝台間所造成的熱干擾。 再者，根據本實施例，不需要提供一過多的配置在安 裝台上用以提高與降低支撐銷的機構。自然地，當支撐銷 安裝在冷卻安裝台上的同時，可在安裝台上自由升高與降 低以冷卻基板。 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) Λ4規格（210X297公犛) '~~ -14 - 0 \ (請先閲讀背面之注意事項孙填寫本頁)

、1T 五、發明説明（12 ) 再者，根據本實施例，一用來驅動冷卻安裝台上的驅 動源是配置在冷卻安裝台的一側，可降低複合裝置的高度 。因此，能夠增加處理裝置組中各處理裝置組成的堆疊數 巨。 再者，根據本實施例，根據本實施例，假如需要的話 ，至少在任一安裝台或冷卻安裝台配置一排列機構所以可 排列晶圓。因此不需要一獨特的排列機構，如同一個在習 知處理裝置組中的處理裝置。 上述的實施例是用來闡明本發明的技術意義。所以， 本發明並不會限制在上述的實施例並受到狹義的詮釋，在 其中作不同的改變不會脫離本發明的精神而仍在申請專利 範圍的意義內。 本紙張尺度適用中國國家梂準（CNS ) Λ4規格（210X 297公梦) -15-

Claims (1)

1. 871 1 24 Τδ Α8 Β8 C8 D8 經濟部中央標率局及工消«·合作社印装 六、申請專利範圍 1 . 一種塗層與顯影裝置，包含： 一第一處理裝置組，具有數個處理裝置，此數個處理 裝置包括一複合裝置’其中堆疊著安裝一基板的第一安裝 台及安裝並冷卻此基板的第二安裝台，此數個處理裝置各 別地執行塗層與顯影基板所需之處理並且是多層堆疊的； 一第一載體裝置’用來載入與載出基板於該數個處理 裝置之間；及 一第二載體裝置，用來自該複合裝置中的第一與第二 安.裝台載入與載出基板。 2 ·如申請專利範圍第1項之裝置，更包含一用來儲 存數個基板的基板儲存構件；及 其中該第二載體裝置將基板載入與載出於該基板儲# 構件和第一與第二安裝台之間。 3 ·如申請專利範圍第1項之裝置，其中該第一安裝 台是配置在該複合裝置的上部中：及該第二安裝台是配置 在該複合裝置的下部中。 4 ·如申請專利範圍第1項之裝置，其中該第一安裝 台包括用來直接支撐基板的數個第一支撐銷；及該第二安 裝台包括數個用來直接支撐基板並自該第二安裝台的一安 裝表面自由突出之第二支撐銷，和一用來升高與降低該數 個第二支撐鲼之驅動裝置。 5 ·如申請專利範圍第4項之裝置，其中該驅動裝置 是配置在該第二安裝台的一側上。 6 .如申請專利範圍第1項之裝置，其中該第一或第 (請先閲讀背面之注$項再填寫本頁) -訂 本紙張尺度適用中國國家梂準（CNS ) A4規格（210 Χ297公釐） -16- 經濟部中央橾率局負工消费合作社印製 A8 B8 C8 D8六、申請專利範圍 二安裝台包括一用來排列已安裝的基板之排列機構。 7 ·如申請萼利範圍第1項之裝置，其中該第二安裝 台包括一埋在冷卻水流通過的安裝表面下之冷卻水管。 8 ·.如申請專利範圍第1項之裝置，其中該第一處理 裝置組是配置在骸第一載體裝置與該第二載體裝置之間。 9 ·如申請專利範圍第1項之裝置，更包含一第二處 理裝置組其中堆疊著數個各別地執行用來塗覆與顯影基板 所需處理之處理裝置。 1 0 ·如申請專利範.圍第9項之裝置，其中該第一載 體裝置將基板載入與載出於該第一處理裝置組與該第二處 理裝置組之間。 1 1 ·如申請專利範圍第9項之裝置，其中該第二處 理裝置組包括一用來以抗蝕溶液塗覆基板之塗層裝置。 1 2 ·如申請專利範圍第9項之裝置，其中該第二處 理裝置組包括一用來顯影基板之顯影裝置。 1 3 ·如申請專利範圍第1項之裝置，其中該第一處 理裝置組包括一用來加熱基板之熱處理裝置；及該複合裝 置是配置在該熱處理裝置之下。 14·—種複合裝置，包含： 一用來安裝基板之第一安裝台；及 一用來#卻基板並與該第一安裝台整體堆疊之第二安 裝台。 1 5 ·如申請專利範圍第1 4項之裝置，其中該第一 安裝台是配置在上方；及該第二安裝台是配置在下方。 (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 本紙張尺度適用中國國家梂準（CNS ) Α4規格（210X297公釐） -17- 經濟部中央揉率局負工消费合作社印装 Λ8 B8 C8 D8夂、申請專利範圍 1 6 ·如申請專利範圍第1 4項之裝置，其中該第一 安裝台包括數個用來直接支撐基板之第一支撐銷；及該第 r安裝台包括數個用來直接支撐基板並且該第二安裝台的 一安裝表面自由突出之第二支撐銷，和一用來升高與降低 該數個第二支撐銷之驅動裝置。 1 7 ·如申請專利範圍第1 6項之裝置，其中該驅動 裝置是配置在該第二安裝台的一側上。 1 8 .如申請專利範圍第1 4項之裝置，其中該第一 與第二安裝台包括一用來排列已安裝的基板之排列機構。 1 9 ·如申請專利範圍第1 4項之裝置，其中該第二 安裝台包括一埋在冷卻水流通過的安裝表面下之冷卻水管 〇 2 0 ·—種在一塗層與顯影裝置中之處理方法，此塗 層與顯影裝置包含一具有數個處理裝置的處理裝置組，此 數個處理裝置包括一複合裝置，其中堆疊著安裝一基板的 第一安裝台及安裝與冷卻此基板的第二安裝台，數個處理 裝置各別地執行塗覆與顯影基板所需之處理並且是多層堆 疊的，該處理方法包含下列步驟： 將一基板自一用來儲存數個基板的基板儲存構件中載 出送至該第一安裝台； 將此基每自該第一安裝台載出； 將自該第一安裝台載出的基板塗覆並顯影； 將已塗覆並顯影的基板載送至該第二安裝台：及 將此基板自該第二安裝台載送入該基板儲存構件中。 (請先閲讀背面之注$項再填寫本頁) 訂— 本紙張尺度逍用中國國家樑準（CNS ) A4規格（210X297公釐） -18-