TW381205B - Gas supplying device with a pressure flow controller - Google Patents
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Description
經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 A7 B7 五、發明説明（彳） 【發明所屬之技術領域】 本發明係有關於半導體製造裝置或化學品製造設備等 所使用具有壓力式流量控制裝置之氣體供應設備之改良者 ，有關達成氣體供應之小形化及提升其流量控制性能等之 氣體供應設備。 【先行技術】 於半導體製造設備用之氣體供應系統，先前都以質量 流量控制裝置（mass flow controller )作爲流量控制裝置 之情形居多。 但是，質量流量控制裝置不僅裝置本身昂貴之外，具 有應答速度低，依各製品其控制精度有所偏差，欠缺控制 安定性等之問題，實用上發生種種障礙。 同樣，控制從氣體供應系統對於製程供應氣體之控制 閥’從先Θ丨i使用空氣式之金屬隔膜閥（metal diaphragm v a 1 v e )之情形居多。 但是，因該控制閥由於開閉作動速度緩慢，致使具有 降低半導體製造之可靠性，或不能達成提升處理效率之問 題。 另者，本申請人等，欲一舉解決上述先前之氣體供應 系統之各種問題，開發了使用壓力式流量控制裝置與高速 電磁線圈作動型金屬隔膜閥之氣體供應設備，而揭示於曰 本特開平8 — 3 13 8 5 4 6號及日本特開平1 〇-55218號公報。 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210X297公釐） ----------------0-------tr------舞 (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) -4- A7 B7 五、發明説明（2 ) 第1 1圖係表示備有先前壓力式流量控制裝置之氣體 供應設備之方塊構成圖，又第1 2圖係表示形成其主要部 之控制閥與孔口對應閥之組裝狀況之縱剖面圖。 於第1 1圖及第1 2圖，1係壓力式流量控制裝置， 2係控制閥，3係壓.力檢測器，4係溫度檢測器，5係孔 口，6係演算控制裝置，6 a係溫度修正電路，6 b係流 量演算電路，6 c係比較電路，6 d係放大電路，7a， 7b係放大器，8a，8b係A/D變換器，9係孔口對 應閥，9 a係閥本體，1 2係閥本體，Q s係流量指令訊 號，Q c係流量演算訊號，Q y係控制訊號，將孔口之上 游側壓力P !約保持爲下游側壓力P 2之2倍以上之狀態下將 孔口 5與控制閥2間之流體壓力由壓力檢測器3加以檢測 ，從此檢出壓力P !係於演算控制裝置6將流量Q c以 Q c = L P,(但是K爲常數）公式加以演算，並且，將流 量指令訊號Q s與所演算之流量訊號Q c之差値作爲控制 訊號Q y輸出於控制閥2之驅動部1 0，由於控制閥2之 開閉藉調整孔口 5之上游側壓力P ^，將孔口 5之下游側流 量自動控制成指令流量Q s。 上述控制閥2與孔口對應閥9係如第1 2圖所示分別 形成爲另體，將兩者藉經由螺紋接管（nipple ) 1 2 a及 安裝螺絲1 3 a連結，來構成氣體供應設備之要部。 按，作爲孔口對應閥9係使用空氣作動型之金屬隔膜 閥或電磁線圈作動型之金屬隔膜閥。 又，於第1 1圖及第1 2圖，1 1 a係氣體出口側， 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210X297公釐） (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) ------訂------ 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 A7 B7 主、發明説明（3〉 1 1 b係氣體入口側，1 2 a，1 2 b係螺紋接管，1 3 b _ ’ _ 1 3 a係安裝螺絲。 備有上述第11圖及第12圖所示公知之壓力式流量 控制裝置之氣體供應設備，係與使用先前之質量流量控制 裝置之設備比較，不僅可大幅度地減低製造成本，並且， 應答性特別良好。又，在控制精度上與先前者比較毫無遜 色，可發揮優良之實用效果。 但是’備有上述公知之壓力式流量控制裝置之氣體供 應設備尙留有未解決之問題，其中尤其必須急待解決之問 題’係（1 )設備需要更加小型化，（2 )將構成機器之 構造，成爲接觸氣體部之表面處理容易施工之構造，來提 高構成機器類之穩定性及可靠性，（3)改善過渡流量特 性’來防止流體之所謂越標（過渡性流入）及混合氣體成 分比之不均勻之發生，來提高半導體製品等之穩定性，及 (4 )更加加快供應氣體之切換速度，來提高半導體製品 等之生產效率等事項。 【發明所欲解決之問題】 本發明係欲解決備有公知之壓力式流量控制裝置之氣 體供應設備之如上述問題作爲其課題者，其係提供一種（ 1 )不僅更加使氣體供應設備小型化，並且，將接觸氣體 部之表面處理變成容易之構造，（2 )改善過渡流量特性 ’不僅可提高半導體製品品質之穩定性，並且，提供加快 供應氣體之切換速度而可提高半導體生產效率備有壓力式 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210X297公釐） (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) -'β 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 -6- A7 _'_B7 ____ 五、發明説明（4 ) 流量控制裝置之氣體供應設備。 【解決問題之手段】 於本發明，因成爲可將控制閥2與孔口對應閥9 —體 化之構造來達成設備之更加小型化與接觸氣體部之表面處 理變成容易，又，將孔口 5之安裝位置藉使其位於孔口對 應閥9之下游側，來改善流體之過渡流量特性，更且藉將 孔口對應閥9本身.成爲小型，採用高速作動型之金屬隔膜 閥就可將供應氣體高速切換。 亦即，於申請專利範圍第1項之發明，係一種備有將 孔口之上游側壓力保持成約孔口下游側壓力之2倍以上狀 態下邊進行氣體之流量控制透過孔口對應閥對於製程供應 氣體之壓力式流量控制裝置之氣體供應設備，其特徵爲； 從供體供應源接受氣體之控制閥，與設於控制閥下游側之 孔口對應閥，與設於上述控制閥與孔口對應閥間之壓力檢 測器，與設於孔口對應閥之閥機構部下游側之孔口，與從 上述壓力檢測器之檢測壓力P i將流量以Q c = K P i (但 是K係常數）加以演算，並且，將流量指令訊號Q s與演 算流量Q C之差値作爲控制訊號Q y輸出於控制閥之驅動 部之演算控制裝置來構成氣體供應設備，控制控制閥之開 閉藉調整壓力P i來控制供應氣體流量作爲發明之基本構成 〇 申請專利範圍第2項之發明，係如申請專利範圍第1 項之發明’其中將控制閥採用備有壓電元件驅動型之驅動 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210X297公釐） (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) ---------訂--- # 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 A7 B7 五、發明説明（5 ) 部之直接接觸型之金屬隔膜閥式閥，並且，將孔口對應閥 採用直接接觸型之金屬隔膜式閥，更且成爲將壓力檢測器 —體地組裝於控制閥之閥本體之構成。 申請專利範圍第3項之發明，係如申請專利範圍第1 項之發明，其中將控制閥之閥本體與孔口對應閥之閥本體 形成爲一體。 申請專利範圍第4項之發明，係如申請專利範圍第1 項之發明，其中將孔口對應閥之閥機構，插著於閥本體之 閥室內，在中央部穿設閥座盤插著孔或在外周部穿設氣體 流入孔之內盤（innerdisk)，與對於上述內盤之閥座盤插 著孔內插著成氣密狀，在中央部形成閥座與和此連通之氣 體流出口與縮小氣體流出口之孔口所構成之閥座盤，與配 設於閥座盤上方，藉接觸，離開閥座盤之閥座來開閉流體 通路之金屬隔膜所形成。 申請專利範圍第5項之發明，係如申請專利範圍第2 項之發明，其中將孔口對應閥成爲備有電磁線圈驅動型之 孔口對應閥。 申請專利範圍第6項之發明，係如申請專利範圍第2 項之發明，其中將孔口對應閥成爲備有空氣作動型之驅動 部之孔口對應閥。 申請專利範圍第7項之發明，係如申請專利範圍第4 項之發明，其中將閥座盤，在盤狀體上面側突設環狀之閥 座，並且，在環狀之閥座盤中央部之薄壁部穿設連通於下 方之氣體流出通路之小孔作爲孔口，並且該孔口部分之厚 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210X297公釐） (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 訂 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 -8- A7 B7 五、發明説明（6 ) 度t成爲0·03〜0.1mm。 【發明之實施形態】 茲依據圖面說明本發明之實施形態如下。第1圖係 表示備有有關本發明之壓力式流量控制裝置之氣體供應設 備之基本構成之方塊線圖，除了「孔口 5與孔口對應閥9 之組裝位置有所改變」之點之外，則與於第1 1圖所示之 具有先前壓力式流量控制裝置之氣體供應設備之情形完全 相同。 於本發明，由第1圖也可淸楚孔口 5爲裝設於孔口對 應閥9之下游側，並且如後述，孔口對應閥9之閥部與孔 口 5間之流路距離選擇很短者。 按，除了上述孔口 5與孔口對應閥9之安裝位置相關 關係有所改變之外，因本發明之壓力式流量控制裝置之其 他構成爲與第1 1圖所示之公知壓力式流量控制裝置之構 成相同，所以，在此從略其說明。 第2圖及第3圖，係有關本發明之氣體供應設備之主 要部之縱剖正面槪要圖及側面圖，控制閥2之閥本體1 2 與孔口對應閥9之閥本體9 a爲由連結螺絲14a，14 b連結成一體。又，在控制閥2側面則有連接用凸緣1 5 經由連結螺絲1 6 a，1 6 b固定成氣密狀。並且，在閥 本體1 2底面側成氣密狀插著壓力檢測器3，來檢出控制 閥2下游側之氣體壓力P,。按，氣體入口 1 1 b係穿設於 連接用凸緣1 5，透過閥本體1 2內之流路氣體就向箭頭 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210X2ST7公釐） (.請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 訂 着 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 -9- A7 __B7__. 五、發明説明（7 ) 方向流通。 從控制閥2之閥本體1 2流出之氣體’係將形成於孔 口對應閥9之閥本體9 a內之流路向箭頭方向流通，流通 於如後述之孔口對應閥9之隔膜閥體與閥座之間之後，流 經孔口 5從設於閥本體9 a下面側之氣體出口 1 1 a向外 部導出。 上述控制閥2，係將金屬隔膜作爲閥體，將此直接接 觸於閥座或從閥座離座而構成爲開閉流體通路構成之直接 接觸型之金屬隔膜式閥，驅動部1 0係使用壓電元件型之 驅動部。 按，該控制閥2本身，係由上記圖及日本特開平8 — 3 3 8 5 4 6號等已爲公知，所以，在此從略其詳細說明 。另一方面，上述孔口對應，閥9也具有與控制閥2約略相 同之構造，其閥部A係構成爲直接接觸型之金屬隔膜式閥 。又，作爲孔口對應閥9之驅動部1 7係使用具有高飽和 磁通密度之坡明爾鐵鈷高導磁率合金（permendur )或鐵— 鈷合金作爲鐵心之高速應答型之電磁線圈動部，藉將上述 金屬隔膜型閥體由電磁線圈柱塞直接作動，以極小形之電 磁閥使其可使氣體通路高速開閉。 按，孔口對應閥9之構造及其驅動部1 7之構成爲已 經公知者，所以，在此從略其詳細說明。 第4圖及第5圖係表示使用於本發明之氣體供應設備 之控制閥2與孔□對應閥9之組合之第2實施形態者，其 係將控制閥2之閥，本體1 2與孔口對應閥9之閥本體9 a 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210X297公釐） (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 訂 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 -10- A7 B7__ 五、發明説明（8 ) 成爲一體來形成閥本體18。 按，第4圖及第5圖之第2實施形態，係在閥本體 (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 1 8兩側設連接用凸緣1 9 ’ 2 0 ’將這些由連結螺絲 21a，21b，22a，22b成氣密狀藉固定於閥本 體1 8，在閥本體1. 8底面側分別形成氣體入口 1 1 b ’ 氣體出口 1 1 a ’從氣體入口 1 1 b流入之氣體係向箭頭 方向流動，而從氣體出口 1 1 a取出於外部（真空室等） 〇 如上記第2圖至第5圖所示，因藉將控制閥2與閥本 體1 2與孔口對應閥9之閥本體9 a —體化，不僅可達成 閥本體本身之小形化，並且，在流體通路內壁面容易進行 氧化鉻惰性膜或氟化鉻惰性膜等之惰性膜處理。 其結果，不僅可達成半導體裝置之輕巧化，並且，可 防止來自金屬內部之脫氣或金屬內壁面之腐蝕所引起之粒 子之發生，而可有效地防止半導體製品品質之惡化等。 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 第6圖，係第2圖及第4圖所示孔口對應閥9之A部 (閥機構部）部分之放大剖面圖，9 a係閥本體，2 3係 穿設於閥本體9 a之閥室，2 4係插著於閥室內之內盤， 25係形成閥體之金屬隔膜，26係PC TFE製之閥座 用盤，2 6 a係環狀之閥座，5係設於.閥座用盤之孔口’ 2 7係閥體扣壓件，2 8係軸（閥桿），2 9係彈簧，S 係流體通路，從流體通路S 1向箭頭方向流入之氣體係流 經空隙及孔口 5而從流體通路S 2流出。 亦即，孔口對應閥9之閥機構部A，係由插著於穿設 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210X297公釐） -11 - A7 B7 五、發明説明（9 ) (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 在閥本體9 a之閥室2 3底面之圓盤狀之內盤2 4，與對 於設在內盤2 4中央之閥座盤插著孔.2 4 a內插著成氣密 狀之閥座盤2 6，與設於閥座盤2 6上方之金屬製隔膜2 5，與將隔膜2 5從上方押壓之閥體扣件2 7等所形成。 按，在內盤2 4外周部設有連通於氣體流入通路Si 氣體流入口 24b，流經該氣體流入口 24b而氣體就會 流入於隔膜2 5之下方空間。 又，在閥座盤2 6上面突設有環狀閥座2 6 a，並且 ，在連通於閥座2 6 a之氣體流出通路32形成有孔口 5。 第7圖係表示於上記第6圖之閥座盤（PCTFE製 )26之其他例者，將閥座盤26約略形成爲盤狀體在其 上面側突設環狀閥座2 6 a。並且，將盤狀體之背面側切 削去除成圓錐狀，不僅將環狀閥座2 6 a中央部成爲薄壁 狀，並且，在該薄壁部穿設小孔狀之孔口 5。 按，孔口 5係可適當地使用0 = 0 . 04，必= 0 .06 > 0 0 . 12 * 0 = 0 . 25 j 0 = 0 . 35 m m者。 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 又，形成孔口 5部分之厚度t係儘量成薄較佳，例如 成爲約t = 0 . 03〜0，1mm較佳。因爲，如後述愈 將該厚度t變成愈小，氣體之越標（過渡流量）會變小所 致。 第8圖及第9圖係表示備有有關本發明之壓力式流量 控制裝置之氣體供應設備（在孔口對應閥9之閥機構部下 游側裝設孔口 5者），與備有先前壓力式流量控制裝置之 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210X297公釐） -12- A7 __ B7____ 五、發明説明（10) I1 氣體供應設備（在孔口對應閥9之閥機構部上游側裝設孔 口5者）之過渡流量特性。 亦即，第8圖係表示作爲孔口對應閥9使用備有電磁 線圈驅動型之驅動部之閥時之特性，曲線A i係有關本發明 之氣體供應設備閥之過渡流量特性，其係表示將N 2流量設 定爲2 5 0 S CCM時之情形。又，曲線B，係表示先前之 氣體供應設備閥之過渡流量特性（N 2流量=2 5 0 S C C Μ )。 又，第9圖係表示作爲孔口對應閥使用備有空氣壓作 動型之驅動部之閥閥之特性，曲線Α 2係表示有關本發明之 氣體供應設備之過渡流量特性，.將N 2流量定爲2 0 0 S C C Μ時之情形。 又，曲線Β 2係表示先前之氣體供應設備之過渡流量特 性，（Ν 2流量=2 5 0 S C C Μ )。 由第9圖之曲線Α 2就可淸楚，若採用空氣壓驅動型之 孔口對應閥時，從施加操作訊號C 2之後約慢2 0 m s e c開始氣體之流通。按，若欲將此延遲時間變成更 少時’使用將空氣壓驅動部與控制用電磁閥成爲一體型式 之空氣壓驅動型孔口對應閥較佳。 於上述第8圖及第9圖，曲線（：！&(： 2係表示孔口對應 閥9之作動訊號之供應狀態，於曲線A ,及B i，曲線A 2及 B 2之測定時’分別以相同條件對於孔口對應閥9給與作動 訊號。 由上記第8圖及第9圖就可淸楚，於先前之氣體供應 本紙張尺度適用中國.國家標準（CNS ) A4規格（210X297公釐） (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) - -# 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 -13 - 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 A7 _ B7____ 五、發明説明（彳彳） 設備’係開啓孔口對應閥9時，在流量曲線Βι及B2會發生 振動，亦即會發生所謂氣體之越標（過渡性流入）（曲線 Bl> ，B2/之部分）。與此相較’於本發明之氣體供應設 備’係如先前之氣體供應設備之流量特性曲線B i及流量特 性曲線B 2，開啓孔口對應閥9時’完全不至於發生氣體之 越標（過渡性流入）B i /，B 2 >，很順利地將氣體流量約 略瞬間地建立到既定之設定流量値，可進行正確之氣體流 量控制。 第1 0圖係表示上述氣體供應設備之過渡流量特性之 測定試驗裝置之槪要，將構成氣體供應設備C S之壓力式 流量控制裝置1之流量指令訊號Qs設定爲5 V (流量 200SCCM.N2)，將設於孔口對應閥9下游側（本 發明之情形）或設於孔口對應閥上游側（先前氣體供應設 備之情形）之孔口 5內徑定爲0 . 1 5mmp。 又，在孔口對應閥9之氣體出口 1 1 a設9 . 26 1 之真空室3 0，由乾式泵3 1以1 6 1/s e c之比例加 以排氣，將真空室3 0內保持爲1 t 〇 r r以下之.真空度 〇 按，於第1 0圖3 2係convect.ron真空錶，2 g係差壓 感測器，3 4係差壓感測器放大器，3 5係針經常開 )’ 3 6 係儲量示波器（storage oscilloscope) ，3 7 係 N2氣體源（2kgf/cm2G)。. 將對於孔口對應閥9 (經常開）之驅動部i 7之輸λ 訊號變成ο η開啓孔口對應閥9，由儲量示波器3 6分別 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) Α4規格（210X297公釐） '-- (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁)
14- A7 ___B7_ 五、發明説明（12) 所測定之輸入訊號及差壓感測器輸出爲上記第8圖及第9 圖之各曲線Ar A2，Bi，B，C。. (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 按，如本發明，將孔口 5之位置設於孔口對應閥9之 閥機構部下游側者，爲氣體之過渡性流入會變成較少。如 先前之氣體供應設備之情形，認爲是關閉孔口對應閥9時 在孔口 5與孔口對應閥9之間不會存留一次壓之氣體滯留 所致。 又，從測試之結果，於本發明之孔口 5，係確認了儘 量將其厚度t變薄者較可獲得良好之過渡流量特性。 【發明效果】 於本發明，因將孔口對應閥之閥機構部A下游側配設 孔口之構成，所以，開啓孔口對應閥對於製程側揭示氣體 供應時所發生之所謂越標幾乎可全部消除。 其結果，可進行極爲高精度之氣體之流量控制，而可 防止由於氣體成分亂流所引起之半導體製品品質之偏差等 〇 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 又，於本發明，因將控制閥與孔口對應閥之閥本體成 爲一體並且成爲功能性連結之構成，所以，可將屬於氣體 供應設備要部之閥組裝體部分大幅度地小形化，甚至可降 低氣體供應設備之製造成本。 並且，於本發明，因將控制閥與孔口對應閥之閥本體 成爲有機性組合，可將閥本體內之氣體流路形成爲較單純 之形態，因對於氣體接觸面之惰性膜之形成處理容易地進 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（2丨OX；297公釐） -15- A7 B7 五、發明説明（13 ) 行，可更完全地防止內部氣體之排放或可防止發生腐蝕生 成物，可大幅度地提升氣體供應設備之可靠性。 除此之外，於本發明，在孔口對應閥之驅動部使用將 高透磁率之坡明爾鐵結高導磁率合金（permendur )作爲磁 性材料之高速作動型電磁線圏。其結果，不僅可將驅動部 本身加以小形化，並且，可將孔口對應閥以高速開閉，與 沒有上述氣體之越標情形發生可一倂地大幅度地提升製程 處理效率或半導體製品之製造效率。 本發明係如上述可發揮優秀之實用效果。 圖式之簡單說明 第1圖係表示備有有關本發明之壓力式流量控制裝置 之氣體供應設備構成之方塊線圖。 第2圖係表示形成氣體供應設備要部之控制閥與孔口 對應閥與壓力檢測器之組裝狀況之一部分剖面之槪要圖。 第3圖係第2圖之側面圖。 第4圖係表示形成氣體供應設備要部之控制閥·與孔口 對應閥與壓力檢測器之其他組裝狀況之一部分剖面之槪要 圖。 第5圖係第4圖之側面圖。 第6圖係孔口對應閥之閥機構部分之放大剖面圖。 第7圖係表示孔口對應閥所使用之閥座盤之其他例之 放大剖面圖。 · 第8圖係表示使用電磁線圈驅動型之孔口對應閥時， 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210X297公釐） (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁)
Q 訂' 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 -16- 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 A7 B7 五、發明説明（14) 有關本發明之氣體供應設備與先前氣體供應設備之過渡流 量特性之一例。 第9圖係表示使用空氣作動型之孔口對應閥時，有關 本發明之氣體供應設備與先前氣體供應設備之過渡流量特 性。 第1 0圖係第8圖及第9圖所示過渡流量特性之測定 裝置之說明圖。 第1 1圖係使用先前之壓力式流量控制裝置之氣體供 應設備之方塊構成圖。 第1 2圖係表示於先前氣體供應設備之控制閥與孔口 對應閥與壓力檢測器之組裝狀態之一部分剖面之槪要圖。 【符號之說明】 c S .........氣體供應設備， Q s .........流量指令訊號， Q c .........流量演算訊號， Q y .........控制訊號， P >.........孔口上游側壓力， P 2.........孔口下游側壓力， S .........流體通路， s 1.........氣體流入通路， s 2.........氣體流出通路.， A .........孔口對應閥之閥機構部， 1 .........壓力式流量控制裝置， 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210X297公釐） (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁)
-17 - A7 B7 五、發明説明（15 ) 2 .........控制閥， 3 .........壓力檢測器， 4 .........溫度檢測器， 5 .........孑L 口， 6 .........演算控制裝置， 6 a .........溫度修正電路， 6 b .........流量演算電路， 6 c .........比較電路， 6 d .........放大電路， 7 a - 7 b .........放大器， 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製
3! 03 3 3 一 aol 2 2345 IX IX IX r—I IX IX
a 6 7 8 9 IX IX 1± r—H \ ， 閥驅 A 閥應之 應對閥 對口制 口孔控 b 孔； β .. ..
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本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210X 297公釐） -18- A7 B7 五、發明説明（16 ) 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製
2 1 a ，2 2 b … • · * … 連結 螺 絲 2 2 a ，2 2 b … • · · … 連結 螺 絲 2 3 … ...... 閥 室 > 2 4 … ...... 內 盤 2' 4 a ...... … 閥 座 盤 插 著孔 9 2 4 b ...... … 氣 體 流 入 □， 2 5 … ...... 金 屬 隔 膜 2 6 … ...... 閥 座 盤 > 2 6 a ...... … 閥 座 » 2 7 … ...... 閥 體 扣 件 ， 2 8 … ...... 軸 ( 閥 桿 ) » 2 9 … ...... 彈 簧 ， 3 0 真 空 室 3 1 乾 式 泵 > 3 2 conv ectron 真空 ί 錶 ， 3 3 … ...... 差 壓 感 測 器 3 4 差 壓 感 測 器 放大 器 9 3 5 針 閥 > 3 6 儲 量 示 波 器 > 3 7 … ...... N 2氣 ,源 i 2 k g f / C (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210X297公釐） -19 -
Claims (1)
- 六、申請專利範圍 (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 1 . 一種具有壓力式流量控制裝置之氣體供應設備， 其係將孔口上游側壓力保持爲孔口下游側壓力之約2倍以 上狀態下邊進行氣體之流量控制透過孔口對應閥對於製程 供應氣體者，其特徵爲； 從氣體供應源接受氣體之控制閥，與設於控制閥下游 側之孔口對應閥，與設於上述控制閥與孔口對應閥間之壓 力檢測器，與設於孔口對應閥之閥機構部下游側之孔口， 與從上述壓力檢測器之檢出壓力PiW流量以Q C = KP，（但是K係常數）之公式演算，並且，將流量指令訊 號Q s與演算流量Q c之差値作爲控制訊號Q y而輸出於 控制閥之驅動部之演算控制裝置來構成氣體供應設備，控 制控制閥之開閉係藉調整壓力P ,來控制供應氣體流量。 2 .如申請專利範圍第1項之具有壓力式流量控制裝 置之氣體供應設備/其中將控制閥採用備有壓電元件驅動 型之驅動部之直接接觸型之金屬隔膜式閥，並且，將孔口 對應閥採用直接接觸型之金屬隔膜式閥，更且成爲將壓力 檢測器一體地組裝於控制閥之閥本體之構成。 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 3 .如申請專利範圍第1項之具有壓力式流量控制裝 置之氣體供應設備，其中將控制閥之閥本體與孔口對應閥 之閥本體形成爲一體。 4 .如申請專利範圍第1項之具有壓力式流量控制裝 置之氣體供應設備，其中將孔口對應閥之閥機構，插著於 閥本體之閥室內，在中央部穿設閥座盤插著孔又在外周部 穿設氣體流入孔之內盤，與對於上述內盤之閥座盤插著孔 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS)A4規格（210 X 297公釐） _ 20 A8 B8 C8 __ D8 ， 六、申請專利範圍. 內插著成氣密狀，在中央部形成閥座與和此連通之氣體流 出口與縮小氣體流出口之孔口所成之閥座盤，與配設於閥 座盤上方，藉接觸，離開閥座盤之閥座來開閉流體通路之 金屬隔膜所形成。 5 .如申請專利範圍第2項之具有壓力式流~量控制裝 置之氣體供應設備，其中將孔口對應閥採用了備有電磁線 圈驅動型之驅動部之孔口對應閥。 6 .如申請專利範圍第2項之具有壓力式流量控制裝 置之氣體供應設備，其中將孔口對應閥採用了備有空氣作 動型之驅動部之孔口對應閥。 7 .如申請專利範圍第4項之具有壓力式流量控制裝 置之氣體供應設備，其中不僅將閥座盤’在盤狀體上面側 突設環狀閥座’並且，在環狀之閥座盤之中央部之薄壁部 穿設連通於下方之氣體流出通路之小孔作爲孔口’並且將 該孔口部分之厚度t定爲0.03〜0.1mm。 \裝·！ I 訂·！ ！ J (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS)A4規格（210 X 297公釐） -21 -
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| EP1300619B1 (en) * | 2000-06-05 | 2006-08-02 | Fujikin Incorporated | Orifice-built-in valve |
| US6382228B1 (en) * | 2000-08-02 | 2002-05-07 | Honeywell International Inc. | Fluid driving system for flow cytometry |
| JP2002143751A (ja) * | 2000-10-17 | 2002-05-21 | L'air Liquide Sa Pour L'etude & L'exploitation Des Procede S Georges Claude | 処理液分配装置及び方法 |
| KR20040024854A (ko) | 2001-04-24 | 2004-03-22 | 셀레리티 그룹 아이엔씨 | 질량유량 제어장치를 위한 시스템 및 방법 |
| US9943847B2 (en) | 2002-04-17 | 2018-04-17 | Cytonome/St, Llc | Microfluidic system including a bubble valve for regulating fluid flow through a microchannel |
| JP3856730B2 (ja) * | 2002-06-03 | 2006-12-13 | 東京エレクトロン株式会社 | 流量制御装置を備えたガス供給設備からのチャンバーへのガス分流供給方法。 |
| EP1523701A2 (en) * | 2002-07-19 | 2005-04-20 | Celerity Group, Inc. | Methods and apparatus for pressure compensation in a mass flow controller |
| US7222636B2 (en) * | 2002-08-20 | 2007-05-29 | Applied Materials, Inc. | Electronically actuated valve |
| JP4085012B2 (ja) * | 2003-02-13 | 2008-04-30 | 忠弘 大見 | 真空排気系用バルブ |
| JP3754678B2 (ja) | 2003-04-16 | 2006-03-15 | 株式会社フジキン | 耐食金属製熱式質量流量センサとこれを用いた流体供給機器 |
| DE20314772U1 (de) * | 2003-09-22 | 2003-12-04 | Gce-Druva Gmbh & Co. Kg | Gasentnahmeeinrichtung insbesondere für hochreine Gase |
| JP2005241279A (ja) | 2004-02-24 | 2005-09-08 | Fujikin Inc | 耐食金属製流体用センサ及びこれを用いた流体供給機器 |
| JP2005307233A (ja) * | 2004-04-19 | 2005-11-04 | Tokyo Electron Ltd | 成膜装置及び成膜方法及びプロセスガスの供給方法 |
| US8828320B2 (en) | 2004-05-14 | 2014-09-09 | Honeywell International Inc. | Portable sample analyzer cartridge |
| US7216019B2 (en) * | 2004-07-08 | 2007-05-08 | Celerity, Inc. | Method and system for a mass flow controller with reduced pressure sensitivity |
| US7612871B2 (en) | 2004-09-01 | 2009-11-03 | Honeywell International Inc | Frequency-multiplexed detection of multiple wavelength light for flow cytometry |
| WO2006060783A2 (en) | 2004-12-03 | 2006-06-08 | Cytonome, Inc. | Unitary cartridge for particle processing |
| US9260693B2 (en) | 2004-12-03 | 2016-02-16 | Cytonome/St, Llc | Actuation of parallel microfluidic arrays |
| JP4965561B2 (ja) | 2005-04-29 | 2012-07-04 | ハネウェル・インターナショナル・インコーポレーテッド | サイトメータ細胞計数及びサイズ測定システム |
| CN101262950B (zh) | 2005-07-01 | 2011-03-09 | 霍尼韦尔国际公司 | 流量计量分析器 |
| US8361410B2 (en) | 2005-07-01 | 2013-01-29 | Honeywell International Inc. | Flow metered analyzer |
| EP1902298B1 (en) | 2005-07-01 | 2012-01-18 | Honeywell International Inc. | A molded cartridge with 3-d hydrodynamic focusing |
| US7843563B2 (en) | 2005-08-16 | 2010-11-30 | Honeywell International Inc. | Light scattering and imaging optical system |
| JP4911933B2 (ja) | 2005-08-31 | 2012-04-04 | サーパス工業株式会社 | 圧力計および圧力計組立体 |
| EP3121601A1 (en) | 2005-12-22 | 2017-01-25 | Honeywell International Inc. | Portable sample analyzer system |
| WO2007075919A2 (en) | 2005-12-22 | 2007-07-05 | Honeywell International Inc. | Portable sample analyzer system |
| CN101389947B (zh) | 2005-12-29 | 2013-08-21 | 霍尼韦尔国际公司 | 微流格式的测定工具 |
| US7603186B2 (en) * | 2006-04-28 | 2009-10-13 | Advanced Energy Industries, Inc. | Adaptive response time closed loop control algorithm |
| US7640078B2 (en) * | 2006-07-05 | 2009-12-29 | Advanced Energy Industries, Inc. | Multi-mode control algorithm |
| JP5177864B2 (ja) * | 2008-06-04 | 2013-04-10 | 株式会社フジキン | 熱式質量流量調整器用自動圧力調整器 |
| US7905139B2 (en) * | 2008-08-25 | 2011-03-15 | Brooks Instrument, Llc | Mass flow controller with improved dynamic |
| US8037354B2 (en) | 2008-09-18 | 2011-10-11 | Honeywell International Inc. | Apparatus and method for operating a computing platform without a battery pack |
| CN102640070B (zh) * | 2009-12-01 | 2015-04-22 | 株式会社富士金 | 压力式流量控制装置 |
| JP5652960B2 (ja) * | 2011-08-01 | 2015-01-14 | 株式会社フジキン | 原料気化供給装置 |
| US8663583B2 (en) | 2011-12-27 | 2014-03-04 | Honeywell International Inc. | Disposable cartridge for fluid analysis |
| US8741234B2 (en) | 2011-12-27 | 2014-06-03 | Honeywell International Inc. | Disposable cartridge for fluid analysis |
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| US8741235B2 (en) | 2011-12-27 | 2014-06-03 | Honeywell International Inc. | Two step sample loading of a fluid analysis cartridge |
| JP5754853B2 (ja) * | 2012-01-30 | 2015-07-29 | 株式会社フジキン | 半導体製造装置のガス分流供給装置 |
| JP5665793B2 (ja) | 2012-04-26 | 2015-02-04 | 株式会社フジキン | 可変オリフィス型圧力制御式流量制御器 |
| JP5665794B2 (ja) * | 2012-04-27 | 2015-02-04 | 株式会社フジキン | 半導体製造装置のガス分流供給装置 |
| US9454158B2 (en) | 2013-03-15 | 2016-09-27 | Bhushan Somani | Real time diagnostics for flow controller systems and methods |
| JP6380401B2 (ja) * | 2013-09-30 | 2018-08-29 | 日立金属株式会社 | 流量制御弁及びそれを用いた質量流量制御装置 |
| JP6216389B2 (ja) * | 2013-10-31 | 2017-10-18 | 株式会社フジキン | 圧力式流量制御装置 |
| TWI651486B (zh) * | 2013-12-05 | 2019-02-21 | Ｃｋｄ股份有限公司 | 流體供給控制裝置 |
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| JP6372998B2 (ja) * | 2013-12-05 | 2018-08-15 | 株式会社フジキン | 圧力式流量制御装置 |
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| CN104216424B (zh) * | 2014-08-29 | 2019-04-09 | 湖南三德科技股份有限公司 | 用于便携设备的精密流量控制器 |
| CN108780332B (zh) * | 2016-02-29 | 2021-10-01 | 株式会社富士金 | 流量控制装置 |
| US11137779B2 (en) * | 2016-04-28 | 2021-10-05 | Fujikin Incorporated | Fluid control device, method for controlling fluid control device, and fluid control system |
| KR102188285B1 (ko) | 2016-07-29 | 2020-12-08 | 가부시키가이샤 후지킨 | 오리피스 내장 밸브 및 압력식 유량 제어 장치 |
| US10983538B2 (en) | 2017-02-27 | 2021-04-20 | Flow Devices And Systems Inc. | Systems and methods for flow sensor back pressure adjustment for mass flow controller |
| CN107422754B (zh) * | 2017-09-01 | 2023-11-14 | 中国人民解放军军事科学院军事医学研究院 | 一种微量气体流速控制装置及控制方法 |
| JP7122102B2 (ja) | 2017-11-08 | 2022-08-19 | 東京エレクトロン株式会社 | ガス供給システム及びガス供給方法 |
| CN111417809A (zh) * | 2017-11-30 | 2020-07-14 | 株式会社富士金 | 阀装置、使用该阀装置的流体控制装置以及半导体制造装置 |
| JP6606221B2 (ja) * | 2018-04-27 | 2019-11-13 | 株式会社フジキン | 圧力式流量制御装置 |
| JP7222542B2 (ja) * | 2018-05-31 | 2023-02-15 | 株式会社フジキン | 流体封止装置及び圧力検出器校正装置 |
| US11914407B2 (en) * | 2019-04-25 | 2024-02-27 | Fujikin Incorporated | Flow rate control device |
| JP2023548331A (ja) | 2020-11-04 | 2023-11-16 | スウェージロック カンパニー | 一体型オリフィス絞り付きバルブ |
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| US12000723B2 (en) * | 2022-02-18 | 2024-06-04 | Mks Instruments, Inc. | Method and apparatus for pressure based mass flow control |
Family Cites Families (13)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| FR1398799A (fr) * | 1964-03-02 | 1965-05-14 | Raffinage Cie Francaise | Procédé et dispositif pour le réglage de la chauffe au gaz |
| JPS63115970A (ja) * | 1986-10-31 | 1988-05-20 | Motoyama Seisakusho:Kk | ダイヤフラム弁 |
| JP2517744Y2 (ja) * | 1987-09-28 | 1996-11-20 | 株式会社ベン | 定流量弁装置 |
| US5025952A (en) * | 1987-09-30 | 1991-06-25 | Spectra-Physics, Inc. | Gas resupply valve with microscopic aperture and with sealing member supported by valve body |
| JP2731080B2 (ja) * | 1991-05-31 | 1998-03-25 | 株式会社本山製作所 | ガス制御装置 |
| JP3280119B2 (ja) * | 1993-06-02 | 2002-04-30 | 清原 まさ子 | ダイヤフラム弁 |
| JP3372091B2 (ja) * | 1993-11-15 | 2003-01-27 | 株式会社本山製作所 | ダイヤフラム弁構造 |
| JP3017398B2 (ja) * | 1994-06-29 | 2000-03-06 | 株式会社本山製作所 | ダイヤフラム弁構造及びガス配管系 |
| JP3291161B2 (ja) * | 1995-06-12 | 2002-06-10 | 株式会社フジキン | 圧力式流量制御装置 |
| JP3580645B2 (ja) * | 1996-08-12 | 2004-10-27 | 忠弘 大見 | 圧力式流量制御装置 |
| JP3387777B2 (ja) * | 1997-06-11 | 2003-03-17 | 株式会社フジキン | 混合ガス供給装置 |
| JPH11119835A (ja) * | 1997-10-13 | 1999-04-30 | Horiba Ltd | マスフローコントローラおよび集積化流量制御装置 |
| JP3932389B2 (ja) * | 1998-01-19 | 2007-06-20 | Ｓｍｃ株式会社 | マスフローコントローラの自己診断方法 |
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