JP3932389B2 - マスフローコントローラの自己診断方法 - Google Patents
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Description
【発明の属する技術分野】
本発明はマスフローコントローラの自己診断方法に関し、さらに詳細にはシステム中に組み込んだ状態でマスフローコントローラにおけるガス流量の変化状態を診断することができるマスフローコントローラの自己診断方法に関する。
【0002】
【従来の技術】
半導体の製造プロセスにおける薄膜生成装置、乾式エッチング装置などにおいてプロセス機器へ送出するプロセスガスの流量を精密に制御することが要求される。このために、プロセスガスの流量制御のためにプロセス機器へプロセスガスを供給する管路中にマスフローコントローラが挿入されて、マスフローコントローラを構成する制御弁に印加する制御電圧を調整することによってガス流量設定が行われている。
【0003】
しかし、マスフローコントローラはガス流量のコントロールを目的としているためにマスフローコントローラ内部にオリフィスなどの細管部を有しており、プロセスガスが固形物を析出するようなガスの場合、プロセスガスの通過により経時的に管路中、あるいはマスフローコントローラ中において固形物が析出されてマスフローコントローラ中の管路の有効断面積を実質的に減少させることが生ずる。
【0004】
このような場合にマスフローコントローラに印加する制御電圧に対応するガス流量の関係は変化して、制御電圧を変更しなくてもマスフローコントローラを通過するガス流量が変化して、プロセスガスの状態に変化を発生させることになる。
【0005】
さらに、マスフローコントローラ中の管路の有効断面積が減少した状態で制御を継続すれば固形物に基づくパーティクルがプロセスガスと共にプロセス機器へ流出することになって、プロセス機器にとって不都合が生ずる。
【0006】
このために、マスフローコントローラの流量の測定が望まれ、例えば、特開平7−281760号公報に開示されているように、マスフローコントローラの絶対流量検定のときに、プロセスガス供給源から遮断弁を介してプロセスガスを計測用タンクに導き、計測用タンクに導かれたプロセスガスをマスフローコントローラを通してプロセス機器へ供給するように構成すると共に、マスフローコントローラの入力端の圧力を計測する圧力センサを設けて、遮断弁を閉止することによってプロセスガスの計測用タンクへの導入を遮断して計測用タンクに蓄積されたプロセスガスをマスフローコントローラに流し、同時に圧力センサによりマスフローコントローラの流入側の圧力を検出し、圧力センサによる検出圧力が所定値まで低下する時間を計測し、計測された時間と計測用タンクの容積とに基づいてマスフローコントローラの絶対流量を検定することが知られている。
【0007】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、上記した従来の検定方法によるときは通常操作のためのマスフローコントロールシステム構成のほかに検定のための計測用タンク、圧力センサ、遮断弁などを必要とするという問題点があった。
【0008】
本発明はこのような問題点を解消するためになされたものであって、自己診断のために新たに付加するハードウエアを不要としたマスフローコントローラの自己診断方法を提供することを目的とする。
【0009】
【課題を解決するための手段】
本発明にかかるマスフローコントローラの自己診断方法は、圧力制御もしくは流量制御をする制御弁と、前記制御弁の流入側を開閉する第1の遮断弁と、前記制御弁の流出側に設けた固定絞りと、前記固定絞りの流入側圧力を検出する圧力センサと、前記固定絞りの流出側を開閉する第2の遮断弁とを備えたマスフローコントローラの自己診断方法であって、前記制御弁の流入側を前記第1の遮断弁によって開放すると共に前記固定絞りの流出側を前記第2の遮断弁によって閉止して前記第1の遮断弁から前記第2の遮断弁に至る管路内に前記第1の遮断弁を通して所定圧力の予め定めたガスを充填し、次いで前記制御弁を開放状態にし、前記第1の遮断弁によって前記制御弁の流入側を閉止すると共に前記第2の遮断弁によって前記固定絞りの流出側を開放して管路内に充填されたガスを流出させ、この流出による前記圧力センサの検出圧力が予め定めた検出圧力に低下するまでの時間と、前記所定圧力と前記予め定めた検出圧力とから定められる基準時間とを比較することにより前記固定絞りの状態の診断を行うことを特徴とする。
【0010】
本発明にかかるマスフローコントローラの自己診断方法は、自己診断のときに制御弁の流入側が第1の遮断弁によって開放されると共に固定絞りの流出側が第2の遮断弁によって閉止されて第1の遮断弁から第2の遮断弁に至る管路内に第1の遮断弁を通して所定圧力の予め定めたガスが充填される。この充填に続いて制御弁を開放状態にし第1の遮断弁によって制御弁の流入側が閉止されると共に第2の遮断弁によって固定絞りの流出側が開放されて管路内に充填されたガスが流出させられる。この流出による圧力センサの検出圧力が予め定めた検出圧力に低下するまでの時間が計時されて、計時された時間と、所定圧力と予め定めた検出圧力とから定められる基準時間とを比較することにより固定絞りの状態の診断がなされる。
【0011】
この場合に、第1の遮断弁および第2の遮断弁はマスフローコントローラを取り替えなどのときに管路から取り外すために通常設けられているものであって、通常運転状態のときにおける必要構成機器から自己診断のために特にハードウエアを付加することも、除去することも不要である。
【0012】
本発明にかかるマスフローコントローラの自己診断方法において、ガスを流出させたときにおける圧力センサの検出圧力が予め定めた検出圧力に低下するまでの時間が基準時間を超過しているときその旨表示すること、ガスを流出させたときにおける圧力センサの検出圧力が予め定めた検出圧力に低下するまでの時間が基準時間未満のときその旨表示することによって、表示に基づき自己診断結果が判ることになる。
【0013】
【発明の実施の形態】
以下、本発明にかかるマスフローコントローラの自己診断方法を実施の形態によって説明する。
【0014】
図1は本発明にかかるマスフローコントローラの自己診断方法が適用されるマスフローコントロールシステムの構成例を示すブロック図である。
【0015】
図1に示すマスフローコントロールシステム1は、プロセスガス源2から送出されるプロセスガスを入力側の例えば電磁駆動の遮断弁4を介してマスフローコントローラ5へ選択的に導入し、マスフローコントローラ5を通って流出するプロセスガスを出力側の例えば電磁駆動の遮断弁6を通してプロセス機器7へ導出するように構成されている。
【0016】
ここで、入力側の遮断弁4および出力側の遮断弁6は、通常、マスフローコントローラ5を取り替えるときに共に遮断状態に制御して、プロセスガス源2からのプロセスガスのマスフローコントローラ5への流入を遮断することによってプロセスガスの放出を防止し、かつプロセス機器7側への不純ガスの流入を防止するために設けられている。
【0017】
なお、遮断弁4の流入口に例えば電磁駆動の3方切替弁3が設けられていて、遮断弁4および遮断弁6の閉止に先だって3方切替弁3によってプロセスガス源2からマスフローコントローラ5へのプロセスガスの流入を遮断すると共に、不活性ガス源8からの不活性ガス、例えば窒素ガスを遮断弁4を通過する方向に切り替えて、3方切替弁3からプロセス機器7に至る配管内、マスフローコントローラ5内およびプロセス機器7の窒素ガスによるパージを行うが、かかる点についてはここでは触れない。
【0018】
マスフローコントローラ5は圧力制御方式のマスフローコントローラであって、電気信号によって開度が制御される圧力制御弁51と、圧力制御弁51の出力側の圧力を検出する圧力センサ52と、圧力制御弁51から送出されるプロセスガスを通過させて圧力制御弁51の出力側圧力を確立させるためのオリフィス53と、後記する制御装置14からの出力信号と圧力センサ52からの圧力出力信号とを比較してその差である偏差を求め、求めた偏差に基づいて圧力制御弁51の出力側の圧力が制御装置14からの出力信号に基づく圧力になるように圧力制御弁51の開度を制御する偏差演算制御器54とを備え、オリフィス53を通過したプロセスガスを遮断弁6を介してプロセス機器7へ導出させる。
【0019】
ここで、オリフィス53が設けられている理由について説明する。半導体の製造プロセスにおける薄膜生成装置、乾式エッチング装置などのプロセス機器7側は通常負圧で使用される。したがって、固定絞りであるオリフィス53を設けて、オリフィス53により圧力制御弁51の出力圧力を確立させるのである。
【0020】
一方、制御装置14はマイクロコンピュータからなり通常運転制御を行う通常運転制御部141と自己診断を行う自己診断制御部142とを機能的に備えており、圧力センサ52からの圧力出力信号、圧力制御弁51の出力側圧力を設定するための圧力設定器11の出力信号、通常運転指示を行う通常運転指示キースイッチ12の指示信号および自己診断指示キースイッチ13の指示信号が供給されて、圧力制御弁51の出力側圧力を圧力設定器11による設定圧力に制御するための制御信号または圧力制御弁51を開放状態に制御するための制御信号を選択的に偏差演算制御器54へ送出すると共に、3方切替弁3、遮断弁4、圧力制御弁51、遮断弁6の切り替えおよび開閉を制御する。
【0021】
また、制御装置14は自己診断指示がなされているとき、マスフローコントローラ5を継続使用可能か、取り替えが必要かを表示する表示器15へ表示信号を送出する。
【0022】
上記の構成において、通常運転指示キースイッチ12によって通常運転指示がなされているときは、制御装置14中の通常運転制御部141の制御のもとに、3方切替弁3はプロセスガス源2からのプロセスガスを遮断弁4の方向に通過させる状態に切り替えられ、遮断弁4および遮断弁6は開放状態に切り替えられ、かつ圧力制御弁51はその出力側圧力を圧力設定器11による設定圧力にするべく偏差演算制御器54の出力信号によって開度が制御されて、プロセス機器7へ圧力設定器11に設定した圧力に基づく流量のプロセスガスが流出される。
【0023】
この場合、予め求めた圧力制御弁51の出力側圧力すなわちオリフィス53の1次側圧力とオリフィス53に流れるフロセスガスの流量との関係に基づいて、圧力設定器11における設定圧力は希望流量に対応するオリフィス53の1次側圧力に設定する。このように設定することによって設定圧力にオリフィス53の1次側圧力が制御されて、オリフィス53を通過するプロセスガスの流量が前記希望流量に制御される。すなわち、圧力制御弁51の出力圧力を制御することによってオリフィス53を通して流れる流体の流量制御が行われる。
【0024】
一方、所定処理が終了して半導体ウエハなどの被処理体が取り替えられる直前には、図示しない不活性ガスパージ指示がなされて、この指示に基づいて3方切替弁3はプロセスガス源2からのプロセスガスを遮断し、不活性ガス源8からの不活性ガスを遮断弁4の方向に通過させる状態に切り替えられ、遮断弁4および遮断弁6は開放状態に切り替えられ、かつ圧力制御弁51は開放状態に制御されて、プロセス機器7へ不活性ガスがパージさせられる。
【0025】
自己診断指示キースイッチ13によって自己診断指示がなされたときの作用を図2〜図4にて示すフローチャートにしたがって説明する。
【0026】
自己診断指示がなされると制御装置14の自己診断制御部142の制御のもとに、遮断弁4が閉止状態に制御され(ステップS1)、続いて遮断弁6が開放状態に制御され(ステップS2)、続いて圧力制御弁51が開放状態に制御される(ステップS3)。この状態は遮断弁4からプロセス機器7までの配管内をプロセス機器7側の圧力にさせることを意味する。
【0027】
ステップS3の実行に続き圧力センサ52からの圧力出力信号を読み込み(ステップS4)、所定期間経過するのを待つ(ステップS5)。ステップS5において所定期間経過したとき、圧力センサ52からの圧力出力信号を読み込み(ステップS6)、ステップS4において読み込んだ圧力出力信号とステップS6において読み込んだ圧力出力信号とが等しいか否かがチェックされる(ステップS7)。ステップS7において等しいと判別されないときは、ステップS7に続いて再びステップS4から実行される。
【0028】
ステップS7において等しいと判別されたときは、遮断弁4からプロセス機器7までの配管内の圧力がプロセス機器7側の圧力に等しくなったことを示している。
【0029】
ステップS7において等しいと判別されたときは、ステップS7に続いて遮断弁4が開放状態にされ(ステップS8)、次いで遮断弁6が閉止状態にされる(ステップS9)。ステップS9に続いて圧力センサ52からの圧力出力信号が読み込まれ(ステップS10)、次いで所定期間経過するのを待つ(ステップS11)。ステップS11における所定期間は下記の(1)式に示す充填時定数tnの5倍の期間に選択してある。これは5倍の充填時定数tnの時間でプロセスガス源2から遮断弁6までの管路がプロセスガス源2からのプロセスガス圧力にほぼ充填されるためである。
【0030】
【数1】
【0031】
(1)式において、tnは充填時定数(s)、Vはプロセスガス源2から遮断弁6までの管路の容積(リッタ)、κは断熱指数(=1.4)、Sはオリフィス53の有効断面積(mm2 )、Tは絶対温度(K)である。
【0032】
ステップS11に次いで、圧力センサ52からの圧力出力信号が読み込まれ(ステップS12)、ステップS10において読み込んだ圧力センサ52からの圧力出力信号とステップS12において読み込んだ圧力センサ52からの圧力出力信号が等しいか否かがチェックされる(ステップS13)。ステップS13において等しくないと判別されたときはステップS13に続いて再びステップS10から実行される。ステップS11が実行されているためにステップS13においては通常等しいと判別される。
【0033】
ステップS13において等しいと判別されたときは、プロセスガス源2から遮断弁6までの管路が、プロセスガス源2からのプロセスガス圧力に充填されたことを示している。これは、プロセスガス源2から遮断弁6までの管路が自己診断のための計測用タンクとして作用することを示している。
【0034】
ステップS13において等しいと判別されたときは、遮断弁4は閉止状態にされ(ステップS14)、続いて遮断弁6が開放状態に制御され(ステップS15)、続いて計時が開始され(ステップS16)、圧力センサ52からの圧力出力信号が読み込まれる(ステップS17)。ステップS17に続いて圧力センサ52からの圧力出力信号が予め定められた設定圧力にまで低下したか否かがチェックされ(ステップS18)、予め定められた設定圧力にまで低下したと判別されないときは再びステップS17から実行される。ステップS18において予め定められた設定圧力にまで低下したと判別されたときは計時が終了させられる(ステップS19)。
【0035】
したがって、プロセスガス源2からのプロセスガス圧力に充填されたプロセスガス源2から遮断弁6までの管路の圧力が、ステップS15〜ステップS19の実行によって、予め定められた設定圧力にまで低下するのに要した時間が計時されることになる。
【0036】
この場合、予め定められた設定圧力と基準時間との関係は下記の(2)式に基づいて定める。
【0037】
【数2】
【0038】
(2)式において、tnは充填時定数(s)、PH はプロセスガス源2から遮断弁6までの管路のプロセスガス圧力の初期値(MPaG)、Pは前記管路開放後のプロセスガス源2から遮断弁6までの管路のガス圧力であって上記の予め定められた設定圧力(MPaG)、tdは前記管路開放後のプロセスガス源2から遮断弁6までの管路のガス圧力が上記の予め定められた設定圧力に低下するまでの基準時間(s)、κは断熱指数(=1.4)である。
【0039】
ステップS19の実行に続いて、計時終了時における計時時間が予め定められた基準時間(td)を超過しているか否かがチェックされる(ステップS20)。ステップS20において基準時間tdを超過していると判別されたときは、プロセスガスの通過による固形物の析出などによってオリフィス53の有効断面積が減少していて、遮断弁6の開放後のプロセスガス源2から遮断弁6までの管路のガス圧力が予め定められた設定圧力に低下するまでの時間がオリフィスの有効断面積か変化していないときの基準時間tdより長いためであって、表示器15にマスフローコントローラ5の取り替えを指示する取替指示表示がなされて(ステップS21)、自己診断は終了する。
【0040】
ステップS20において基準時間tdを超過していないと判別されたときは、オリフィス53の有効断面積がまだ取り替えるまでには減少しておらず、開放後のプロセスガス源2から遮断弁6までの管路のガス圧力が予め定められた設定圧力に低下するまでの時間が基準時間がより短いためであって、表示器15にマスフローコントローラ5を継続使用してもよいことを示す継続使用可の表示がなされて(ステップS22)、自己診断が終了する。
【0041】
この場合、プロセス機器7側の圧力は前記のように負圧である。しかるに、プロセスガス源2のプロセスガス圧力に充填された管路内の圧力は0.1MPaG以上であり、遮断弁6を開放したときにおけるオリフィス53の前後差圧は臨界差圧以上となり、オリフィス53に流れる流体の流速は音速となって、オリフィス53の通過流量はオリフィス53の有効断面積に比例する。
【0042】
本発明の実施の一形態では、この関係を利用して、プロセスガス源2から遮断弁6までの管路を自己診断のための計測用タンクとし、前記管路によって形成された計測用タンクにプロセスガス源2からプロセスガスを充填し、充填したプロセスガスをオリフィス53を介して放出させ、このオリフィス53の通過流量に対応してプロセスガス圧力に充填された前記管路内の圧力が低下していき、この圧力低下の早さ、すなわち前記管路によって形成された計測用タンクが所定圧力に低下するまでの時間によって有効断面積の減少が、取り替えを必要とする程度に達しているか否かを判定しているのである。この自己診断のために、通常運転に必要な構成以外にハードウエアの新たな構成を必要としない。
【0043】
また、上記において、プロセスガス自体を自己診断に用いる場合を例示したが不活性ガスをプロセスガスに代えて用いてもよく、この場合は自己診断開始時に3方切替弁3によって不活性ガスを遮断弁4へ導くように切り替えた後、自己診断を行えばよい。
【0044】
次に、オリフィス53がプロセスガスによって浸食される場合もある。この場合には、図4に示すように、ステップS19に続いて基準時間未満か否かがチェックされ(ステップS201)、基準時間未満と判別されたときは表示器15にマスフローコントローラ5の取り替えを指示する取替指示表示がなされて(ステップS211)、自己診断が終了する。基準時間未満でないと判別されたときは表示器15にマスフローコントローラ5を継続使用してもよいことを示す継続使用可の表示がなされて(ステップS221)、自己診断は終了する。
【0045】
ステップS211が実行される場合は、オリフィス53の有効断面積が浸食によって大きくなりすぎた場合であり、ステップS221が実行される場合は、オリフィス53の有効断面積が浸食によって大きくなったがまだ使用できる場合である。
【0046】
次に、上記した本発明の実施の一形態にかかるマスフローコントロールシステム1の変形例について説明する。
【0047】
図5は本発明の実施の一形態にかかるマスフローコントロールシステム1の変形例の構成を示すブロック図である。
【0048】
本発明にかかる実施の一形態の変形例では、マスフローコントローラ5に加えて、マスフローコントローラ5aにオリフィス53の2次側の圧力を検出する圧力センサ55と、圧力センサ52からの圧力出力信号と圧力センサ55からの圧力出力信号との差を演算する差動増幅器56とが新たに設けてあり、差動増幅器56の出力を圧力センサ52からの圧力出力信号に代わって偏差演算制御器54に供給する。なお、圧力設定器11は流量設定器11aとしてガス流量を設定する。他の構成は図1に示す本発明の実施の一形態にかかるマスフローコントロールシステム1と同一の構成である。
【0049】
本発明にかかる実施の一形態の変形例では、マスフローコントローラ5aに圧力センサ52、55が設けられた2圧力センサ方式の場合であって、プロセス機器7が負圧でなくて所定の正の圧力を持っているものであっても、オリフィス53の2次側圧力が圧力センサ55によって検出され、差動増幅器56でオリフィス53による圧力損失が検出されて差動増幅器56の出力はオリフィス53に流れるガス流量に対応し、圧力制御弁51は流量制御弁として作用し、通常運転制御のときにはプロセス機器7へ流入させるプロセスガスの流量を制御することができる。
【0050】
自己診断制御のときは圧力制御弁(流量制御弁)51は開放され、本発明にかかる実施の一形態の場合と同様に、圧力センサ52からの圧力出力信号の所定圧力までへの低下時間によって自己診断を行うことができる。
【0051】
【発明の効果】
以上説明したように本発明にかかるマスフローコントローラの自己診断方法によれば、第1および第2の遮断弁間の管路に所定圧力のガスを充填し、該ガスを第1の遮断弁を閉止した状態で第2の遮断弁を開放して放出させ、この放出による固定絞りの流入側の圧力の所定圧力まで低下するまでの時間に基づいて自己診断することができ、この場合に、第1および第2の遮断弁間の管路が計測用タンクとして作用することになり、第1の遮断弁および第2の遮断弁はマスフローコントローラを取り替えなどのときに管路から取り外すために通常設けられているものであって、通常運転状態のときにおける必要構成機器から自己診断のために特にハードウエアを付加することも、除去することを必要としないで自己診断が行えるという効果が得られる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明にかかるマスフローコントローラの自己診断方法が適用されるマスフローコントロールシステムの構成例を示すブロック図である。
【図2】本発明にかかるマスフローコントローラの自己診断方法が適用されるマスフローコントロールシステムの作用の説明に供するフローチャートである。
【図3】本発明にかかるマスフローコントローラの自己診断方法が適用されるマスフローコントロールシステムの作用の説明に供するフローチャートである。
【図4】本発明にかかるマスフローコントローラの自己診断方法が適用されるマスフローコントロールシステムの作用の説明に供するフローチャートである。
【図5】本発明にかかるマスフローコントローラの自己診断方法が適用されるマスフローコントロールシステムの変形例の構成例を示すブロック図である。
【符号の説明】
1…マスフローコントロールシステム 2…プロセスガス源
3…3方切替弁 4、6…遮断弁
5、5a…マスフローコントローラ 7…プロセス機器
8…不活性ガス源 11…圧力設定器
11a…流量設定器 12…通常運転指示キースイッチ
13…自己診断指示キースイッチ 14…制御装置
15…表示器 51…圧力制御弁
52、55…圧力センサ 53…オリフィス
54…偏差演算制御器 56…差動増幅器
141…通常運転制御部 142…自己診断制御部
Claims (3)
- 圧力制御もしくは流量制御をする制御弁と、前記制御弁の流入側を開閉する第1の遮断弁と、前記制御弁の流出側に設けた固定絞りと、前記固定絞りの流入側圧力を検出する圧力センサと、前記固定絞りの流出側を開閉する第2の遮断弁とを備えたマスフローコントローラの自己診断方法であって、
前記制御弁の流入側を前記第1の遮断弁によって開放すると共に前記固定絞りの流出側を前記第2の遮断弁によって閉止して前記第1の遮断弁から前記第2の遮断弁に至る管路内に前記第1の遮断弁を通して所定圧力の予め定めたガスを充填し、
次いで前記制御弁を開放状態にし、前記第1の遮断弁によって前記制御弁の流入側を閉止すると共に前記第2の遮断弁によって前記固定絞りの流出側を開放して管路内に充填されたガスを流出させ、この流出による前記圧力センサの検出圧力が予め定めた検出圧力に低下するまでの時間と、前記所定圧力と前記予め定めた検出圧力とから定められる基準時間とを比較することにより前記固定絞りの状態の診断を行うことを特徴とするマスフローコントローラの自己診断方法。 - 請求項1記載のマスフローコントローラの自己診断方法において、ガスを流出させたときにおける圧力センサの検出圧力が予め定めた検出圧力に低下するまでの時間が基準時間を超過しているときその旨表示することを特徴とするマスフローコントローラの自己診断方法。
- 請求項1記載のマスフローコントローラの自己診断方法において、ガスを流出させたときにおける圧力センサの検出圧力が予め定めた検出圧力に低下するまでの時間が基準時間未満のときその旨表示することを特徴とするマスフローコントローラの自己診断方法。
Priority Applications (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP757998A JP3932389B2 (ja) | 1998-01-19 | 1998-01-19 | マスフローコントローラの自己診断方法 |
US09/231,773 US6125869A (en) | 1998-01-19 | 1999-01-15 | Self-diagnosis method for mass flow controller |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP757998A JP3932389B2 (ja) | 1998-01-19 | 1998-01-19 | マスフローコントローラの自己診断方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH11202945A JPH11202945A (ja) | 1999-07-30 |
JP3932389B2 true JP3932389B2 (ja) | 2007-06-20 |
Family
ID=11669734
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP757998A Expired - Lifetime JP3932389B2 (ja) | 1998-01-19 | 1998-01-19 | マスフローコントローラの自己診断方法 |
Country Status (2)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US6125869A (ja) |
JP (1) | JP3932389B2 (ja) |
Families Citing this family (32)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP3522535B2 (ja) * | 1998-05-29 | 2004-04-26 | 忠弘 大見 | 圧力式流量制御装置を備えたガス供給設備 |
JP2001147722A (ja) * | 1999-11-22 | 2001-05-29 | Ace:Kk | ガス流量制御装置 |
US6655408B2 (en) | 2001-06-13 | 2003-12-02 | Applied Materials, Inc. | Tunable ramp rate circuit for a mass flow controller |
TW552490B (en) | 2001-10-18 | 2003-09-11 | Ckd Corp | Apparatus and method of pulse type flow rate adjustment |
JP3872776B2 (ja) * | 2003-07-16 | 2007-01-24 | 東京エレクトロン株式会社 | 半導体製造装置及び半導体製造方法 |
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US8997686B2 (en) * | 2010-09-29 | 2015-04-07 | Mks Instruments, Inc. | System for and method of fast pulse gas delivery |
JP5058358B2 (ja) * | 2010-09-30 | 2012-10-24 | 株式会社堀場エステック | 診断機構 |
US10126760B2 (en) | 2011-02-25 | 2018-11-13 | Mks Instruments, Inc. | System for and method of fast pulse gas delivery |
US10353408B2 (en) | 2011-02-25 | 2019-07-16 | Mks Instruments, Inc. | System for and method of fast pulse gas delivery |
US10031531B2 (en) | 2011-02-25 | 2018-07-24 | Mks Instruments, Inc. | System for and method of multiple channel fast pulse gas delivery |
US9958302B2 (en) | 2011-08-20 | 2018-05-01 | Reno Technologies, Inc. | Flow control system, method, and apparatus |
US9188989B1 (en) | 2011-08-20 | 2015-11-17 | Daniel T. Mudd | Flow node to deliver process gas using a remote pressure measurement device |
US20130118609A1 (en) * | 2011-11-12 | 2013-05-16 | Thomas Neil Horsky | Gas flow device |
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US9910448B2 (en) * | 2013-03-14 | 2018-03-06 | Christopher Max Horwitz | Pressure-based gas flow controller with dynamic self-calibration |
US10303189B2 (en) | 2016-06-30 | 2019-05-28 | Reno Technologies, Inc. | Flow control system, method, and apparatus |
US10679880B2 (en) | 2016-09-27 | 2020-06-09 | Ichor Systems, Inc. | Method of achieving improved transient response in apparatus for controlling flow and system for accomplishing same |
US11144075B2 (en) | 2016-06-30 | 2021-10-12 | Ichor Systems, Inc. | Flow control system, method, and apparatus |
US10838437B2 (en) | 2018-02-22 | 2020-11-17 | Ichor Systems, Inc. | Apparatus for splitting flow of process gas and method of operating same |
US10663337B2 (en) | 2016-12-30 | 2020-05-26 | Ichor Systems, Inc. | Apparatus for controlling flow and method of calibrating same |
US10920729B2 (en) * | 2017-02-08 | 2021-02-16 | Pratt & Whitney Canada Corp. | Method and system for testing operation of solenoid valves |
US10649471B2 (en) * | 2018-02-02 | 2020-05-12 | Mks Instruments, Inc. | Method and apparatus for pulse gas delivery with isolation valves |
JP7148302B2 (ja) * | 2018-07-17 | 2022-10-05 | 株式会社堀場エステック | 流量制御装置 |
JP7398306B2 (ja) * | 2020-03-24 | 2023-12-14 | 東京エレクトロン株式会社 | ガス検査方法、基板処理方法及び基板処理システム |
KR20230150309A (ko) | 2021-03-03 | 2023-10-30 | 아이커 시스템즈, 인크. | 매니폴드 조립체를 포함하는 유체 유동 제어 시스템 |
Family Cites Families (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US4672997A (en) * | 1984-10-29 | 1987-06-16 | Btu Engineering Corporation | Modular, self-diagnostic mass-flow controller and system |
JP2814378B2 (ja) * | 1988-06-20 | 1998-10-22 | 忠弘 大見 | マスフローコントローラ |
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JP2692770B2 (ja) * | 1992-09-30 | 1997-12-17 | シーケーディ株式会社 | マスフローコントローラ流量検定システム |
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-
1998
- 1998-01-19 JP JP757998A patent/JP3932389B2/ja not_active Expired - Lifetime
-
1999
- 1999-01-15 US US09/231,773 patent/US6125869A/en not_active Expired - Lifetime
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US6125869A (en) | 2000-10-03 |
JPH11202945A (ja) | 1999-07-30 |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20041209 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20051208 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
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|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20060308 |
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A02 | Decision of refusal |
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A521 | Request for written amendment filed |
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|
A911 | Transfer to examiner for re-examination before appeal (zenchi) |
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TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20070130 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20070228 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110330 Year of fee payment: 4 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120330 Year of fee payment: 5 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130330 Year of fee payment: 6 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20140330 Year of fee payment: 7 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
EXPY | Cancellation because of completion of term |