JPH11237921A - マスフローコントローラ - Google Patents
マスフローコントローラInfo
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- JPH11237921A JPH11237921A JP4159998A JP4159998A JPH11237921A JP H11237921 A JPH11237921 A JP H11237921A JP 4159998 A JP4159998 A JP 4159998A JP 4159998 A JP4159998 A JP 4159998A JP H11237921 A JPH11237921 A JP H11237921A
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Abstract
量制御弁を備えたマスフローコントローラにおいて、予
圧を増加させることなく圧電アクチュエータの伸張をバ
ルブストロークに有効利用して大流量化を図ること。 【解決手段】 流入流路11と、バイパス流路12と、
センサ流路21と、流量センサ2と、中間流路13と、
シール部が径方向外側に拡がり流出流路14の入口端1
7に装着した弁座4と、弁座のシール面42に直接接離
する平坦部50を有し、この平坦部の外側に弾性変形部
51を形成すると共に外周縁52を挟着した金属製ダイ
アフラム5と、この金属製ダイアフラムの上部に位置し
弁座側に押圧力を発生させる圧電アクチュエータ60と
を有する流量制御弁6と、流量センサと流量制御弁を制
御する制御回路部3とからなり、前記金属ダイアフラム
5で仕切られる弁室40に中間流路13を連通して、流
体を中間流路13から弁室を40介して弁座上部より流
出流路14側に導き流すようになしたマスフローコント
ローラである。
Description
量流量を精密にかつ大流量まで制御することができるマ
スフローコントローラに関するものである。
チング処理等を精度よく行って半導体製品を製造するた
めには微量のプロセスガスを精度よく制御しながら流す
必要がある。このときの流量制御機器としては一般にマ
スフローコントローラが用いられている。
は、1SCCM(1分間当たり1cc)の極微少流量用
から100SLM(1分間当たり100l)以上の大流
量用のものまで使用されている。しかしながら、これら
は一様にダウンサイジングと極小デットスペースが叫ば
れ、同じサイズ/面間寸法でもデットスペースがなく且
つ大流量まで流せるマスフローコントローラが望まれて
いる。
16058号の発明において図4に示すマスフローコン
トローラを提案している。このマスフローコントローラ
8は、流入流路81の途中から分岐しセンサパイプ内を
流れる微量流体(通常ガス体である。)の質量流量を検
出する熱式質量流量計センサ2と、前記センサパイプと
同一のパイプを所定数だけ詰めて所定の流量比率に設定
したバイパス流路82と、これら両流路が合流し逆L字
状となった中間流路83と、この中間流路83の端部に
装着した弁座85と、弁座の周りに形成した弁室を介し
て連通した流出流路84と、積層型圧電アクチュエータ
87を駆動源とする流量制御弁88と、これらを制御す
る制御回路部3(詳細は図示せず)とから構成されてい
る。
のシール部89に対向する中央を平坦となしその外側に
半円環状の弾性変形部90を備え周縁を挟持した金属製
ダイアフラム86(以下、金属ダイアフラムという。)
と、ダイアフラム押さえ91、ダイアフラムスペーサ9
3、硬球94、ピエゾスペーサ95等を介して立設した
缶入りの圧電アクチュエータ87とからなり、この圧電
アクチュエータ87は通常(非通電時)は、ばね96に
よって上方に押圧された開弁状態となっている。この流
量制御弁の特徴の一つは、金属ダイアフラムを上下に変
位させて弁座シール面との間隙を直接調節するようにな
した極小デットスペース構造と、弁座上部のシール部を
テーパ状に拡げ実シール長さを長くして流量の拡大を図
った点であった。尚、この例はノーマリオープン形であ
るが、同様にノーマリークローズ形のマスフローコント
ローラもある。
状態で使用されるが、その荷重−変位特性は図3に示す
ように反比例の関係にある。即ち、最大約80Kgf
(784N)の発生力に対して40μm程度の伸張(こ
こではバルブストローク)しか得ることが出来ないので
ある。一方で上記した例のように金属ダイアフラムを弁
座シール面に直接接離(当接と離間をいう。)させるも
のでは、金属ダイアフラムの剛性が比較的低いために接
触シール面がうねる等して閉め切り時のシール性が充分
でない。そのため金属ダイアフラムを弁座シール面に当
接させた後、さらに押圧力を与えてシール面圧を上げる
ことが行われる。このときの押圧力を予圧と言っている
が、例えば従来のマスフローコントローラで約40μm
の伸張を発生する圧電アクチュエータを用いた場合、全
変位量のうち約32μm(80%)程度は弁座に当接す
るまでのバルブストローク、即ち流量制御に利用され、
残りの約8μm(20%)程度が弁座当接後の予圧発生
のための伸張(実際はこのときは既に弁座にダイアフラ
ムが当接しており変位なしで弁座に押し付けるだけ)に
利用されているのが実状である。これを図3の線図で示
せばa線の軌跡となる。
4のマスフローコントローラの流量制御弁では、さらに
弁座のシール部口径が拡がっていることから流入側流体
の受圧面積が大きくなった。その為、差圧が大きくなる
と金属ダイアフラムを押し上げる力が大きくなり、圧電
アクチュエータからの押圧力、すなわち予圧がさらに必
要となる。実際、バルブストロークを犠牲にして予圧を
増やす結果となり大流量化の効果が十分発揮できないと
いうことが分かってきた。特に弁座シール部の口径がφ
30mmを超え50SLM以上の流量を流すようなマス
フローコントローラでは、予圧の増加分が大きくなり無
視できない阻害要因となっている。これを図3の例で示
せばストロークが約7μm減少し、予圧が約14Kgf
増えたb線の軌跡となる。また、長い間圧力を受けてい
るとダイアフラム平坦部のシール面に変形やうねりが生
じて流量制御の精度やシール性能に悪影響を及ぼすこと
になっていた。
スフローコントローラの改良に関し、弁座と金属ダイア
フラムを直接接離させる流量制御弁を備えたマスフロー
コントローラにおいて、予圧を増加させることなく圧電
アクチュエータの伸張をバルブストロークに有効利用し
て大流量化を達成できるマスフローコントローラを提供
することを目的とする。
路と、所定の流量比に設定されたバイパス流路と、所定
の流量が分流されるセンサ流路と、該センサ流路内を流
れる流体の流量を検出する流量センサと、前記バイパス
流路とセンサ流路の流体が合流して流れる中間流路と、
中間流路と流出流路の間に設けた弁座と、この弁座のシ
ール面に直接接離する平坦部を有し、この平坦部の外側
に弾性変形部を形成すると共に外周縁を挟着した金属製
ダイアフラムと、該金属製ダイアフラムの上部に位置し
弁座側に押圧力を発生させる圧電アクチュエータとを有
する流量制御弁と、前記流量センサと流量制御弁を制御
する制御回路部とからなるマスフローコントローラにお
いて、前記弁座はシール部が径方向外側に拡がった弁座
を前記流出流路の入口端に装着し、前記金属ダイアフラ
ムで仕切られる弁室に前記中間流路を連通して、流体を
中間流路から弁室を介して弁座上部より流出流路に導き
出すようになしたマスフローコントローラである。
いて弁室側に面した金属製ダイアフラムの受圧面積を流
出流路側に面した非受圧面積より小さくすること。ま
た、弁座のシール部はテーパ状に金属製ダイアフラムの
弾性変形部の近傍まで拡げることは望ましいことであ
る。
では、弁座周りの流体の流れの経路を従来と逆にしてい
る。これによって流入流体の圧力がかかる受圧部は金属
ダイアフラムの外周部(挟着部の近傍)ということにな
る。この部分は中央部よりも剛性が高く金属ダイアフラ
ムの変形やうねりは少ないからシール性能に与える影響
は少なく圧電アクチュエータの押圧力を余分に必要とし
ない。即ち、予圧が余分に必要でなくなりその分をバル
ブストローク側に回して大流量化が達成できる。また、
弁座内径側の非受圧面積を拡げると共に金属ダイアフラ
ム外径側の受圧面積をより小さくすることにより流量の
確保と共に流量制御弁の小型コンパクト化が図られる。
照して説明する。図1は、本発明のマスフローコントロ
ーラの一実施例を示す縦断面図である。図2は、弁座周
りの拡大図である。先ず、図1のマスフローコントロー
ラの全体構成について説明する。マスフローコントロー
ラ1は、ステンレス材(SUS316L)等からなりブロック
状の本体10と流入側継手部20と流出側継手部30を
それぞれメタルOリングを介してボルト部材18で締結
している。本体10には流入流路11とバイパス流路1
2、中間流路13、弁座4及び流出流路14がそれぞれ
形成され、流入流路12と中間流路13の間に流量セン
サ部2が構成され、中間流路13の下流に流量制御弁6
が構成されている。バイパス流路12は、バイパス部材
15に下記するセンサパイプと同一のパイプを所定数詰
め込んで所定の流量比を流すようにしたもので流路内に
嵌入されている。本例ではこのバイパス部材15の上部
からセンサー流路(センサーパイプ)が分岐し再び中間
流路13側に開口している。センサパイプ20は、例え
ば内径0.5mm程度のステンレス管を略U字状に形成
したもので、パイプの上流側と下流側にはそれぞれ感熱
コイル22、23が巻回されており、さらに他の抵抗体
と組み合わせてブリッジ回路を構成し、これらによって
センサ部2を構成している。このセンサの感熱コイル2
2、23はガス温度より高い一定温度に加熱されるので
あるが、上流側の感熱コイル22は、ガスが流れること
によって熱が奪われて温度が下がり、他方の下流側コイ
ル23は上流側で温まったガスが流れるために逆に温度
が上がることになり温度勾配が生じる。このような熱移
動はブリッジ回路の不平衡電圧として検出され、この電
位差は質量流量に比例することから質量流量センサとし
て機能する。
らの流量信号は、増幅回路によって増幅され比較制御回
路へ入力される。ここで予め設定された設定流量信号と
比較され、その差分を無くすような駆動信号(バルブ駆
動電圧)がアクチュエータ駆動部に入力され、その結
果、流量制御弁6の開度を調節してガス流量を制御する
ことができる。これらの制御は制御回路部3(図示せ
ず)によって行われている。
製弁座4は流出流路14の入口端の隔壁17にかしめ手
段により装着されている。そして弁座4に対向して金属
製ダイアフラム5(以下、金属ダイアフラムという。)
が配置されており、この金属ダイアフラム5は弁座4の
シール面42に直接接離して中間流路13と流出流路1
4とが仕切られる。また、この金属ダイアフラム5に仕
切られた弁座4の周囲に弁室40を形成し、この弁室4
0に通路131部分で中間流路13が連通している。
に拡がるテーパ内面41となし外周側に拡がった弁座シ
ール面42を形成している。尚、これは必ずしもテーパ
内面である必要はなく平行面であっても外周側に拡がっ
たシール面を形成していれば良い。また、同時に本体の
上面16と弁座シール面42の高さ位置は同一面に形成
し、弁座取付け後、弁座シール面42と本体上面16と
を同時にラップ仕上げが可能なようにしている。尚、こ
のラップ仕上げは、結果的にマスフローコントローラ本
体10の上面16の全体が0.2S程度の鏡面に仕上げ
られるので流量制御弁およびセンサ部のメタルOリング
のシール面にも良好で加工上また組立上きわめて効率的
である。
面16に対してメタルOリング67とスペーサ66を介
して金属ダイアフラム5を載置し、ダイアフラム押さえ
62によって金属ダイアフラム5の外周縁部を挟着シー
ルしボルト18により本体10に締結している。また、
ハウジング64を押さえ部材63とボルト18によって
ダイアフラム押さえ62に立設している。一方、金属ダ
イアフラム5の上面には円盤状で下部の弁座シール面4
2に対向する位置に押さえ面611を形成したダイアフ
ラムスペーサ61を配置しており、その上部に缶入りの
圧電アクチュエータ60を設け、両者は調芯作用のある
凹凸600と610及びベアリング68を介して圧電ア
クチュエータ60の押圧力を伝達するようにしている。
圧電アクチュエータ60は、望ましくは熱膨張係数が極
めて小さい金属材料からなるケース内に積層型圧電素子
体を密封したもので、その上部はハウジングキャップ6
5とナットによってハウジング64に対し軸芯を合わせ
た状態で螺合し組み付けられている。
金属ダイアフラム5の自己の弾性力によりダイアフラム
スペーサ61と圧電アクチュエータ60は押し上げられ
ており、シール面が開放された開弁状態となっている。
そして、通電による圧電アクチュエータ60の伸張をダ
イアフラムスペーサ61に伝達してこれを下方に押し下
げ、両者の間隙を調節して流量制御を行うノーマリーオ
ープン形のマスフローコントローラである。尚、これは
従来と同様にノーマリークローズ形のマスフローコント
ローラに構成することも可能である。
ンレス材(SUS316Lなど)で形成されているが、金属ダ
イアフラム5については、Co基合金やNi−Co合
金、例えば本実施例では、重量%でNi13〜18%、
Cr18〜23%、Mo5〜9%、Co38〜44%、
残部Feおよび不純物からなる高弾性金属材料から構成
し、耐食性と耐久性が高く、ばね性と自己復元力を有す
るものとしている。そして厚さ約0.1〜0.3mm程
度の円形薄板で、中央部に平坦部50とその外側に環状
で断面半円形の弾性変形部51を、更にその外側に挟着
周縁部52を形成したものである。この金属ダイアフラ
ムでは剛性の低い平坦部がほとんどを占めているので剛
性をアップするために平坦部に同材料の円形薄板をスポ
ット溶接又は接着剤などで一体的に貼り付けたものを使
用することもできる。
トローラ1をさらに説明する。先ず、このマスフローコ
ントローラの流体の流れ経路は、矢印で示すように流体
は中間流路13の通路131から弁室40内に入り込み
弁座4の周囲に拡がって弁座シール面42の全周から入
り下方に向かって流れ、そのまま流出流路14側に導か
れて流出する。すなわちこの経路は従来のマスフローコ
ントローラとは逆の流れ方向となっている。これによっ
て流入流体圧は矢印Pで示すように金属ダイアフラム5
の外周部分にのみ作用する。この部分は弾性変形部51
と挟着部52があるところで比較的剛性が高く変形やう
ねりが生じ難い所であるし、変形があっても流量制御の
精度やシール性能に影響を与えない。逆に、金属ダイア
フラムのシール面である平坦部50に与える悪影響がな
くシール性能が安定する。従って、圧電アクチュエータ
に目を向ければ余分な押圧力、すなわち予圧が小さくな
り、その分バルブストロークを多くとれる。
いう面を考えると、弁座と金属ダイアフラムで仕切られ
たシール部に対して上流側である弁室40の大きさが影
響を与えることは少なく、シール面長さが長いことと下
流側の部屋が大きいことが流れ易さに利いてくる。本例
では弁座の上部シール部の口径を拡げシール長さを長く
すると共に金属ダイアフラム5の外径を出来る限り小さ
くして受圧面積に差を付けて流れ易くすると共に小型コ
ンパクト化を達成した。また、弁座のシール部の両側に
ある中間流路13と流出流路14も大きくしてコンパク
トでありながら流れ易い構造としている。
コントローラによれば、流体圧力を押し下げる力及び流
体圧力による金属ダイアフラムの変形やうねりが減少す
るので、シール性能に悪影響がなく圧電アクチュエータ
の力は少ない押圧力で足りる。よって、圧電アクチュエ
ータの伸張の多くをバルブストローク側に利用して大流
量を流すことができる。また、金属ダイアフラムの全体
外径を小さくしてコンパクト化ができる。
ーラの縦断面図である。
す特性線図である。
縦断面図である。
センサー部 3:制御回路部 4:
弁座 5:金属ダイアフラム 6:
流量制御弁 10:マスフローコントローラ本体 11:
流入流路 12:バイパス流路 13:
中間流路 14:流出流路 15:
バイパス部材 16:本体の上面 17:
隔壁 18:締結部材(ボルト) 19:
カバー 20:流入側継手部材 30:
流出側継手部材 21:センサパイプ 22:
上流側コイル 23:下流側コイル 40:
弁室 41:テーパ内面 42:
弁座シール面 50:金属ダイアフラムの平坦部 51:
弾性変形部 52:金属ダイアフラムの周縁挟着部 60:缶入り圧電アクチュエータ 61:
ダイアフラムスペーサ 62:ダイアフラム押さえ 63:
ハウジング押さえ 64:ハウジング 65:
ハウジングキャップ 66:外径スペーサ 67:
メタルOリング 68:ベアリング
Claims (3)
- 【請求項1】 流体の流入流路と、所定の流量比に設定
されたバイパス流路と、所定の流量が分流されるセンサ
流路と、該センサ流路内を流れる流体の流量を検出する
流量センサと、前記バイパス流路とセンサ流路の流体が
合流して流れる中間流路と、中間流路と流出流路の間に
設けた弁座と、この弁座のシール面に直接接離する平坦
部を有し、この平坦部の外側に弾性変形部を形成すると
共に外周縁を挟着した金属製ダイアフラムと、該金属製
ダイアフラムの上部に位置し弁座側に押圧力を発生させ
る圧電アクチュエータとを有する流量制御弁と、前記流
量センサと流量制御弁を制御する制御回路部とからなる
マスフローコントローラにおいて、 前記弁座はシール部が径方向外側に拡がった弁座を前記
流出流路の入口端に装着し、前記金属ダイアフラムで仕
切られる弁室に前記中間流路を連通して、流体を中間流
路から弁室を介して弁座上部より流出流路に導き出すこ
とを特徴とするマスフローコントローラ。 - 【請求項2】 前記弁室側に面した金属製ダイアフラム
の受圧面積を流出流路側に面した非受圧面積より小さく
したことを特徴とする請求項1記載のマスフローコント
ローラ。 - 【請求項3】 前記弁座のシール部はテーパ状に金属製
ダイアフラムの弾性変形部の近傍まで拡がっていること
を特徴とする請求項1または2記載のマスフローコント
ローラ。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP04159998A JP3856259B2 (ja) | 1998-02-24 | 1998-02-24 | マスフローコントローラ |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP04159998A JP3856259B2 (ja) | 1998-02-24 | 1998-02-24 | マスフローコントローラ |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH11237921A true JPH11237921A (ja) | 1999-08-31 |
JP3856259B2 JP3856259B2 (ja) | 2006-12-13 |
Family
ID=12612868
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP04159998A Expired - Lifetime JP3856259B2 (ja) | 1998-02-24 | 1998-02-24 | マスフローコントローラ |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP3856259B2 (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2019181397A1 (ja) * | 2018-03-19 | 2019-09-26 | 日立金属株式会社 | ダイアフラム弁及びそれを用いた質量流量制御装置 |
WO2019188240A1 (ja) * | 2018-03-26 | 2019-10-03 | 日立金属株式会社 | 流量制御装置 |
-
1998
- 1998-02-24 JP JP04159998A patent/JP3856259B2/ja not_active Expired - Lifetime
Cited By (8)
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US11143318B2 (en) | 2018-03-19 | 2021-10-12 | Hitachi Metals, Ltd. | Diaphragm valve and mass flow controller using the same |
WO2019188240A1 (ja) * | 2018-03-26 | 2019-10-03 | 日立金属株式会社 | 流量制御装置 |
CN111936948A (zh) * | 2018-03-26 | 2020-11-13 | 日立金属株式会社 | 流量控制装置 |
JPWO2019188240A1 (ja) * | 2018-03-26 | 2021-03-11 | 日立金属株式会社 | 流量制御装置 |
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CN111936948B (zh) * | 2018-03-26 | 2024-07-23 | 株式会社博迈立铖 | 流量控制装置 |
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---|---|
JP3856259B2 (ja) | 2006-12-13 |
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