TW200527980A - Burning equipment for green sheet of plasma display panel and method of burning the same - Google Patents

Description

200527980 九、發明說明： 【發明所屬之技術領域】 本發明關於一種電漿顯示器面板，尤其關於一種用於 加熱電漿顯示器面板之生胚片的設備與方法。 【先前技術】 第一圖顯示用於加熱電漿顯示器（PDP )之生胚片的 相關設備。相關的加熱設備包括有：一個進給滾輪丄，其 _將生胚片5進給到一個PDP基板i 〇 〇 ; 一個張力滚輪 2，其將適當張力施加到該生胚片，以使該生胚片能從該 進給滾輪1處被緊緊地拉出；一個熱壓式滾輪3，其對該 生胚片進行熱壓合，以使該生胚片與該pDp基板i 〇 〇密 接，以及複數個輸送滾輪4，其等輸送該PDP基板1 〇 〇。 當熱壓式滾輪3將該生胚片5壓合在該PDP基板工〇 〇之上日宁，其會對该生胚片5進行加熱。因為該生胚片5 溫度的增加，該生胚片所包含的溶劑（結合劑的成份之一) •會被轉成氣體，並接著在該生胚片之表面擴散。 述私序被重複^行，因為該等輸送滾輪4輸送該pDp 基板1 〇 〇，使得該生胚片5中的溶劑在廢合該PDP基板 1 0 0時被移除。 :型上，該生胚片5大約10〜3 0 0 _厚，為相當 % 6「厚度，並含有大量的溶劑。因為厚度與溶劑濃度，增 胚胚片與PDP基板間的黏著力，並有效移去生 、心劑疋很重要的，使溶劑不會保持在生胚片令。 5 200527980 據此，該生胚片5在大約攝氏1 〇 〇度到2 〇 〇度的 温度下由該熱Μ式滾輪3快速加熱一段相當短的時間，大 約5分鐘或更短，而溶劑在此溫度範圍内可主動揮發，以 快速移除該生胚片5中的溶劑，從而防止生胚月因過度加 熱而受損。 相關的加熱設備適用於熱壓合生胚片5的上側，以使 生胚片5與pdp基板1 〇 〇密接，並移除該生胚片5的溶 劑。 然而，溶劑大體集中在生胚片5與PDP基板丄〇 〇密 接的下表面上。據此，藉由該熱壓式滾輪3對該生胚片5 之上表面進行加熱所產生的熱能並不足以傳送到該生胚片 5的下方部分。結果’因加熱程序期間未充分移除溶劑以 及生2片與PDP基板間之黏著力的降低而產生例如是泡 /包大出物、薄膜脫落等缺陷，而降低PDP製程的產量。 為了解決上述問胃，習知方式指出在被加熱到大約攝 氏1 〇 0度的溫度之後，將該PDP基板丄〇 〇導入用於卿 之生胚片的加熱設備中。然而，使用此一方法，仍然會有 因過度加熱而造成生胚片損壞的問題。 、曰 【發明内容】 據此：本發明關於加熱PDP之生胚片的設備與加熱生 胚片的方法’其大致排除因習知技藝之限制及缺點所造成 的一或多項問題。 本^明的優點之-為提供—種加熱設備，其被設計卿 6 4 > • 200527980 之期間’降低在加熱pDp之生胚片的後方薄膜時可能 會發生之例如是泡泡、突出4勿、薄膜脫落等缺陷，並防止 生胚片因加熱而變形’從而增大PDP的產量及效能 降低製造成本。 ^發明的另—項優點是提供—種用於加熱PDP之生胚 片的。又備其被設計以加熱一個被附接到PDp基板之生胚 片的上方及下方部分，以經由快速熱傳進人生胚片之中來 移除生胚片的溶劑，並在加熱後冷卻生胚片，卩降低因殘 餘溶劑出現在生胚片中所造成之例如是泡泡、冑出物、薄 膜脫洛等缺陷，因0主奸L山 5守防止生胚片因加熱而變形，從而增強 PDP製程的產量。

曰本發明其他特性與優點在下文中揭示，並從描述内容 而"、員月或可藉由本發明之施作而獲得教示。本發明之目 的#其他優點將從書面描述内容與中請專利範胃，以及在 附圖中所特別指出的結構，而被了解與獲得。 為了達成這些與其 體現及廣泛描述所示， 被提供，此設備包括有 到PDP基板；一個熱壓式滾輪，其從該 對孩生胚片及該PDp基板進行熱壓合，· 他優點並根據本發明之目的，如所 一種用於加熱PDP之生胚片的設備 •一個進給部分，其將生胚片進給 PDP基板之上方 以及一個加熱模 組’其將熱量施加到一 的接觸部分。 個介於该生胚片與該PDp基板之間 根據本發明之另一能揭，辦担μ 力匕'樣，所挺供的是一種加熱PDP之 生胚片的方法，苴句乜古丨、,丁本碰.^， 一匕括有以下步驟·將生胚片進給到PDp 7 200527980 基板；主要藉由一個可定位式加熱模組來對-個在該生胚 片與該PDP基板之間的接觸部分進行加熱，以移除出現在 該生胚片之下方部分中的殘餘溶劑，增強在該生胚片 與該PDP基板之間的黏著力；對被主要加熱之生胚片與該 PDP基板進行熱壓合，以將該生胚片壓合到該基板； 以及輸送該PDP基板，同時對該生胚片與該pDp基板進 行熱壓合。 應了解的是，先前的-般性描述與下文的詳述二者為 不例性與說明肖，並意圖提供申請人所請求之本發明的進 一步解釋。 【實施方式】 現在將洋細荼照本發明之一實施例，其示例將被說明 於圖示中。 第一 A圖與第二B圖分別說明了一個pDP的前、後面 板。 PDP為一種利用冷光現象之氣體放電式顯示裝置，其 中’勞光物質由兩個相對之玻璃基板間的惰性氣體，例如 疋叹乳（Ne)、氦氣（He)、氙氣（Xe)等氣體，進行放 電時所產生的紫外線所激發。 茶第二A圖與第二b圖是關於PDP的一般結構，該 PDP的W面板包括有：pDP之前面板基板1 9 ;複數個顯 不用電極1 1 ’其等具有一種相對後面板基板2 〇的長條 ^丨J 西己 · ’一個第一介電層1 3，其被堆疊在該等顯示用電 200527980 極l 1上，以覆蓋該等顯示用電極1 1 ，來限制放電時之 放電電流，而同時容易產生壁部電荷；以及一個保護層1 4，以保護該第一介電層1 3，其中，每一個顯示用電極 1 1在前面板基板1 9與該第一介電層之間包括一個匯流 電極1 2 a與一個透明電極χ 2 b。關於前面板之建構， 應注意的是前面板被倒轉，使得該前面板基板i 9面朝 上’如第二A圖所見。 該PDP之後面板包括有：一 個位址電極1 5，其具有一種大致垂直於前面板基板2 〇 之顯示用電極1 i的長條型之配置，使得整個顯示螢幕由 頌示用電極1 1與位址電極丄5劃分成複數個單胞；一個 第二介電層1 6 ，其被塗敷到後面板基板2 〇的整個表 面’以保護該等位址電極丄5，同時使個別位址電極工5 彼此電氣絕緣；分隔壁部”，其具有一個在第二介電層 1 6上的長條型配置，以形成該等分隔壁部1 7間的放電 空間；以及一個螢光層1 8，其被印製與沉積在在由諸分 隔壁部17所形成的放電空間的内側，由紫外線激發，以 隨著個別單胞之放電而發出可見光。 ^供PDP之前、後面板時，在被塗敷到前、後面板基 及2 0 ’使得匯流電極丄2 a、第—介電層"、 位址广極1 5、第二介電層丄6、分隔壁部”、螢光層 1 8等被相應地印製在前、後面板基板i 9及2〇上: 加熱器之加熱裝置的直㈣ 9 * 200527980 在生胚片的加熱程序期間，該生胚片被加熱，而使其 溫度升高，如此，生胚片中的溶劑會激發成氣狀，並被放 電到該生胚片的外側。 茶fc、第二圖與第四圖，一種根據本發明之用於加熱 之生胚片的設備包括有一個進給部分工i 〇，其將一生胚 片1 5 0進給到- PDP基板1 〇〇。進給部分1丄〇包括 一個進給生胚片1 5 0之進給滾輪1 1 1，與-個將張力 施加到生胚片的張力滾輪1 1 2，以使該生胚片能從該進 給滾輪110處緊密拉出。 k Μ進給部分1 1 〇處被進給的生胚片1 5 〇合因加 熱而與卿基板10()密接。為了加熱生胚片15二，本 發明的加熱設備包括有一個熱壓式滚輪丄2 〇與一個加熱 130 β亥熱壓式滾輪12 ◦在生胚片15〇上，以 對生胚片進行熱壓纟，而加熱模組丄3 〇在生胚片1 5〇 的下方5以對一個辞；Ψ Hr μ ^ ^生胚片之下方部分與該PDP基板間的

=部分進行加熱，如此，生胚片150會與PDP基板工 5 0密接。 ，田°亥熱壓式滾輪1 2 0施加壓力到生胚片1 片Z °亥生胚片1 5 0會與該pDP基板1 〇 〇密接，並 當在生胚片1 + , PDP Ρ, „ 方的加熱模組1 3 0對在生胚片與 mp基板間的接觸部分 胚片溫度會升言，/ ”密接該PDP基板之生 ^ ° 13此，生胚片1 5 0的溶劑會轉化成氣 體，而擴散到該生胚片丄 以外丄 乃丄D U的表面，並因增大的動能而 攸该生胚片15〇處排放。 10 200527980 該加熱模組1 3 0包括有一個加熱器χ 3 1與一個聚 熱板1 3 2，而該加熱器；[3丄發出熱量，該聚熱板丄3 2則將加熱器所放出之熱輻射集中，以加熱在該生胚片工 5 0之下方部分與該PDP基板丄〇 〇之間的接觸部分。該 加熱器1 3 1可由一個紅外線加熱器所構成。該加熱模組 1 3 0可以被構型成能相對PDp基板丄〇 〇而至少在垂直 及水平上進行位移。 U可以在垂直及水平上進行位 甶於該加熱模組

一 < u m 私，並且可被準綠調整，其可以選擇性地加熱在該生胚片 5二口方部分與該PDP基板1 〇〇之表面間的接觸部 刀仗而忒生胚片1 5 〇的溶劑能從該處排放，同時能增 大在其間的黏著力。由於溶劑一般被集中在該生胚片的下 方部分之上，熱量可以藉由在該pDp基板丄〇 〇下方的加 熱模組1 3 〇 ’而被快速傳送通過該PDP基板丄〇 〇以到 達被集中在該生胚片1 5 〇之下方部分上的溶劑，如此， »亥生胚片5 〇的溶劑可從該處被有效排放，$時能夠增 強在該生胚片150與該PDP基板1〇〇間的黏著力。曰 或者，如第三圖所示，該加熱模組1 3 0可以在一個 ο 〇上Γ片1 5 〇下方的下方空間與一個位在PDP基板1 方的上表面之間，藉此其可以直接加熱在生胚片之 面肖卿基板1G〇的上方表面之間的接觸部分， 而;：熱在㈣基板1〇〇下方的區域，藉此增強生胚 :溶劑的排放’並且增強在生胚片15〇與PDP 1〇0之間的黏著力。在此狀況之中，由於熱量被直 11 200527980 接傳送到接觸部分而不會通過pDp基板1〇〇，熱傳可以 被快速騎，從而提供了更有效的操作。 、在此日寸’由於該加熱模組1 3 0經由-種快速加熱的 '杯作陕速加熱與快速冷卻可以被接續施行，使得 片月匕夠防止因過度加熱而受損。然而，雖然利用快速 加熱方法’但為了進_步減少加熱後的冷卻時間，並有效 胚片因加熱而受損，本發明的加熱設備進一步包括 有-個冷卻模組16〇，其可針對被加熱模組"0所加 熱：被熱壓式滾輪1 2 0所壓合的生胚片1 5 0進行更快 二:卩彳文而防止生胚片因過度加熱所造成的變形。此一 v p方法的一項不例為一種在壓合生胚片之後，使冷卻模 組1 6 〇射出具有一相當低温之空氣在生胚片之壓合部分 5朝向生胚片之壓合部分的方法。該冷卻模組1 6 0可 以被構型成能相對該PDp基板丄〇 〇而至少在垂直及水平 上進行位移。 由方、4冷部模組1 6 〇亦可在垂直及水平上進行位 移，並可被準確調整，其可經由冷卻模組1 δ 〇之準確控 制而4擇性地冷卻已加熱的生胚片1 5 ◦，而防止該生胚 片1 5 〇之變形。 才據本么明之用於pDp之生胚片的加熱設備亦包括有 一個輸送部份i 4 〇，其在該PDp基板i Q Q的下方，並 且包括有用於輸送PDP基板！ 〇 〇之諸滾輪i 4 i，以及 一個用於驅動該等滾輪1 4 1的馬達（未顯示）。經由此 構型，當PDP基板J 〇 〇由輸送部份工4 〇輸送在用於 12 •200527980 PDP之生胚片的加熱設備之内時，從進給部分1 1 〇處所 進給的生胚片1 5 0在PDP基板1 0 0通過熱愿式滚輪i 2 0下方時會被壓合到該PDP基板1 〇 〇。 /艮據本發明之用於加熱PDP之生胚片的方法將於下文 中參照第五圖來描述。 在乂驟5 0 3，一個生胚片1 5 〇由進給部分1 1 〇 之進給滾輪1 1 ”斤進給。在此時，張力由該張力滾輪丄 1 2而被施加到該生胚片i 5 〇，以使該生胚片i 5 ◦可 以被緊密進給到一個PDp基板丄〇 〇，以防止在 皺摺。 取 在^驟5 0 5，主要加熱藉由一個加熱模組1 3 〇而 被施加到一個在該生胚片1 5 0與該PDP基板i “之間 的接觸”，而在此處生胚片1 5 〇將被壓合到PDP基板 1 〇 〇。此時，接觸部分可藉由在垂直及水平上準確=制 該加熱模組i 3 〇而被選擇性加熱。該加熱模組ι 3 〇可 心―個纟PDP基板i 〇〇下方的位置處對該接觸部分進 :加熱。或者’該加熱模組工3 〇可以對接觸部分直接進 行加熱，使得熱量能藉由在一個在生胚 :空間與-一基板上方的上表面之間的力:： 杈組1 3 〇而被施加到接觸部分。結果是，生胚片丄5 〇 的溶劑可以從該處被有效地排放，並且可以增強在生胜片 1 5 〇與PDP基板1 〇 〇之間的黏著力。 在步驟5 0 7 ’在步驟5 0 5處被主要加熱的生庇片 150與PDP基板1〇〇會由該熱壓式滾輪"ο熱屋 13 200527980 合。 在生胚片藉由熱壓式滾輪1 2 0而被熱壓a的狀況 中，生胚片150之㈣可能 。的狀況 μ…、里叩發生。A 昧， 該加熱模組1 3 0以一種快竦a 、 陕逮加熱的方式所操作。據此， 在快速加熱後的冷卻速率也相。_， 止已熱壓合的生胚片發生變形 ，、、、更有效防 ^根據本發明之加熱PDP之 生胚片的方法更包括有，在步驟 u Λ 處，熱壓合該生胚 片之後使用一冷卻模組1 6 〇料兮* u "# G。對该生胚片進行冷卻。冷卻 效率可猎由在垂直及水平上準確調整該冷卻模組160來 對生胚片1 5 0之已熱壓部分進行選擇性冷卻而被進一步 增強。 從上述說明變得顯明’根據本發明一實施例之用於加 熱刚> 之生胚片的設備及方法所提供之一有利效果為，被 附接到該PDP基板之生胚片的上方 ]上方及下方部分會被加熱， 使得生胚片中的溶劑會從該處有效排放，㈣能夠增強在 該生胚片與該PDP基板之間的”力，從而降低因殘餘溶 劑在加熱後仍出現在生胚片内所造成例如是泡泡、突出 物、薄膜聽等缺陷，p有利效果為，已加熱的生胚片 會被冷卻’以防止該生胚片因加熱而變形，從而增大了 pDp 製造程序的產量。 熟習此項技藝之人士所了解的是，本發明可施行數種 伶改與瓷化，而不會偏離本發明的精神與範疇。因此，吾 人所意欲的是，本發明涵蓋本發明所提供而落在隨附申請 專利範圍及其均等物之範疇内的修改與變化。 14 .200527980 【圖式簡單說明】 提供對本發明進-步了解且合併在說明書中並構成此 說明書之一部分的圖示’其說明了本發明之諸實施例，並 且連同描述内容一起用來解釋本發明的原理。 $ -圖說明-種用於加熱PDP之生胚片的相關設備； 第二A圖與第二B圖分別說明PDP之前、後面板； 第三圖說明了根據本發明一實施例之用於加熱pDp之 生胚片的設備； 第四圖為一個方塊目，其說明了根據本發明一實施例 之用於加熱PDP之生胚片的設備；以及 第五圖為一個流程圖，其說明了根據本發明一實施例 之用於加熱PDP之生胚片的方法。 【主要元件符號說明】 12345 a 2 b 進給滾輪 張力滾輪 熱壓式滾輪 輸送滾輪 生胚片 顯示用電極 匯流電極 透明電極 第一介電層 保護層 位址電極 15 4 200527980

17 19 2 0 10 0 110 12 0 13 0 1 3 2 14 0 14 1 15 0 16 0 第二介電層 分隔壁部 前面板基板 後面板基板 電漿顯示器面板（PDP )基板 進給部分 進給滾輪 張力滾輪 熱壓式滾輪 加熱模組 加熱器 聚熱板 輸送部份 滾輪 生胚片 冷卻模組

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Claims (1)

1. 200527980 十、申請專利範圍： 1、 一種用於加熱電漿顯示器面板之生胚片的設備， 其包括有： 一個進給部分，其將生胚片進給到電漿顯示器面板基 板， 一個熱壓式滾輪’其從該電漿顯示器面板基板之上方 對該生胚片及該電漿顯示器面板基板進行熱壓合；以及 一個加熱模組，其將熱量施加到一個在該生胚片與該 電漿顯示器面板基板之間的接觸部分。 2、 根據申請專利範圍第1項所述之設備，其中，該 進給部分包括有： 一個進給滾輪，其用以將該生胚片進給到該電漿顯示 器面板基板；以及 一個張力滾輪，其用以將來自該進給滾輪處所進給之 生胚片拉出，使該生胚片能夠被緊密提供到該電漿顯示器 面板基板。 ^ 3、根據巾請專利範圍第1項所述之設備，其中，該 熱壓式滾輪會與該電裝顯示器面板基板接觸，並將熱量及 壓力轭加到該生胚片，以使該生胚片與該電漿顯示器面板 基板密接，並使殘餘的溶劑從該生胚片處除去。 4、根據中請專㈣圍第1項所述之設備，其中，該 加熱模組包括有： 一個加熱器；以及 -個聚熱板，其用以使從該加熱器處所發出之熱輻射 17 200527980 集中，並使該接觸部分進行加熱。 5、根據巾請專利範圍第4項所述之設備，其中，令 加熱器為一個紅外線加熱器。 ^ b、根據申請專利範圍第1項所述之設備，其中，該 加熱模組可定位在相對於該電I顯示器面板基板之垂 水平中’以選擇性對該接觸部分進行加执。

   7、 根據中請專利範圍第i項所述之設備，其中，， 加熱模組被定位在該電漿顯示器面板基板的下方，並且通 過該電漿顯示器面板基板而選擇性對在該生胚片之下方部 为與遠電槳顯示H面板基板間的接觸部分進行加熱， ΓΓ胚片之下方部分中的溶劑，同時能夠增大在該生胚 片與該電榘顯示器面板基板之間的黏著力。 8、 根據巾請專利_第1項所述之設備，其中，今 加熱模組被定位在該生胚片與該電聚顯示器面板基板之： ::之間，並對在該生胚片之下方部分與該電衆顯示器面 上表面間的接觸部分直接進行加熱，以移除該生 :片之下方部分中的溶劑，並且用以增大在該生胚片盘該 电漿顯示器面板基板間的黏著力。 9、 根據巾請專利範圍第^所述之設備，其更包括 有· 一個冷卻模組， 板基板被壓合後對該 加熱而變形。 其用以在該生胚片及該電漿顯示器面 生胚片進行冷卻，以防止該生胚片因 〇、根據申請專利範圍第9項所述之設備，其中 18 200527980 該冷卻模組將具有相當低溫之空氣射出到該生胚片及該電 漿顯示器面板基板之被壓合部分上，以使該被壓合部分進 行冷卻。 1 1、根據申請專利範圍第9項所述之設備，其甲， 該冷卻模組能夠在相對於該電漿顯示器面板基板之垂直及 水平上位移’並且能夠被準確調整’以便能選擇性對該已 壓合部分進行冷卻。 1 2、根據申請專利範圍第“所述之設備， 括有： 、 -個輸送部份’其在該電渡顯示器面板基板的下方， 乂輸送該電漿顯示器面板基板。 1 3、根據申請專利節圚坌Ί 該輪送部份包括有 ㈣12 W，其中， f滾輪、，其等用以運送該電襞顯示器面板基板；以及 個馬達，其用以驅動該等滾輪。 其包括有·種用於加熱電漿顯示器面板之生胚片的方法， 將生=片進給到電漿顯示器面板基板； 主要藉由使用一個可多動 极片與該電激顯示…、模組來對-個在該生 以移除MM 的接觸部分進行加熱， 生-片與該”顯示：:::：殘餘溶劑，同時增強在該 。。面板基板之間的黏著力； 熱壓人，以：：熱之生胚片及該電漿顯示器面板基板進行 權生胜片壓合到該電㈣示器面板基板；： 19 200527980 及 輸送該電漿顯示器面板基板，同時對該生胚片及該電 漿顯示器面板基板進行熱壓合。 1 5、根據申請專利範圍第1 4項所述之方法，其中， 進給該生胚片之步驟包括有： 將該生胚片進給到該電漿顯示器面板基板，同時被緊 緊拉出’用防止在其上形成皺摺。 1 6、根據申請專利範圍第i 4項所述之方法，其中， ® 該主要加熱步驟包括有·· 藉由使該加熱模組相對於該電漿顯示器面板基板而在 垂直及水平上移動，同時施行該加熱模組織準確調整，來 對該接觸部分進行選擇性地加熱。 1 7、根據申請專利範圍第丄4項所述之方法，其更 包括有： / ^ _ ........〜歹鄉後，藉田 使用-個冷卻模組來對該生胚片之被熱塵部分進行冷卻， 以防止該生胚片之變形。 1 8、根據申請專利範圍第1 7項所述之方法，"， 该冷钟杈組將具有一相當低 上。 没 < 二乳射出到該生胚片 以、根據申請專利範圍第17項 冷卻步驟包括有： < 方法’其中， 藉由使該冷卻模組相對於該電 垂直及水平上移動，同時 ^ &面板基板而在 周冷卻模組，來對該生 20 200527980 - 胚片之被熱壓部分進行選擇性冷卻 十一、圖式： 如次頁

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