KR100730043B1 - 플라즈마 디스플레이 패널의 유전체층 제조방법 - Google Patents

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Abstract

본 발명은 플라즈마 디스플레이 패널의 유전체층 제조방법에 관한 것이다. 플라즈마 디스플레이 패널의 유전체층 제조방법은 플라즈마 디스플레이 패널의 유전체층 제조방법은 지지필름상에 페이스트 조성물을 도포하여 형성된 막형성 재료층을 포함하는 그린 시트를 형성하는 제 1 단계; 상기 그린 시트의 막형성 재료층을 전극이 형성된 기판상에 전사하는 제 2 단계; 및 상기 기판상에 전사된 상기 막형성 재료층을 소성하는 제 3 단계를 포함하되, 상기 제 2 단계는, 상기 기판의 예열 온도가 40℃ 내지 100℃이고, 상기 그린시트와 기판의 간격이 2mm 이하를 유지하는 상태에서 수행되는 것을 특징으로 한다. 상기 플라즈마 디스플레이 패널의 유전체층 제조방법은 각 전극단의 추종성이 좋고 고온, 고압을 견딜 수 있는 그린 시트를 기판에 전사하여 유전체층을 형성함으로써 공정시간을 단축하고, 성능이 우수한 유전체층을 제조할 수 있다.
PDP, 유전체층, 그린 시트

Description

플라즈마 디스플레이 패널의 유전체층 제조방법{A DIELECTRIC LAYER MANUFACTURING METHOD OF PLASMA DISPLAY PANEL}
도 1a 내지 도 1d는 종래의 플라즈마 디스플레이 패널의 유전체층 제조공정을 도시한 단면도들이다.
도 2는 본 발명의 바람직한 일 실시예에 따른 플라즈마 디스플레이 패널을 도시한 단면도이다.
도 3은 본 발명의 바람직한 일 실시예에 따른 유전체층용 그린 시트를 도시한 단면도이다.
도 4a 및 도 4b는 도 3의 그린 시트의 필링력 특성을 도시한 단면도들이다.
도 5a 및 도 5b는 도 2의 유전체층을 도시한 도면들로서, 도 6a는 최적특성 범위 내의 그린 시트를 사용한 경우를 도시한 도면이고, 도 6b는 최적특성 범위 밖의 그린 시트를 사용한 경우를 도시한 도면이다.
도 6a 내지 도 6c는 도 2의 플라즈마 디스플레이 패널의 유전체층 제조공정을 도시한 단면도들이다.
도 7a 및 도 7b는 도 2의 플라즈마 디스플레이 패널을 제조하는 모기판을 도시한 도면들로서, 도 7a는 최적공정조건 범위 내에서 유전체층을 제조한 경우를 도 시한 도면이고, 도 7b는 최적공정조건 범위 밖에서 유전체층을 제조한 경우를 도시한 도면이다.
본 발명은 플라즈마 디스플레이 패널의 유전체층 제조방법에 관한 것으로, 더욱 상세하게는 최적의 조성물로 이루어진 그린 시트를 사용함으로써, 간단한 공정으로도 유전체층을 제조할 수 있는 유전체층용 페이스트 조성물, 그린 시트 및 플라즈마 디스플레이 패널의 유전체층 제조방법에 관한 것이다.
일반적으로 플라즈마 디스플레이 패널(Plasma Display Panel, 이하 "PDP"라 함)은, 플라즈마 방전에 의한 발광현상을 이용하여 영상이나 정보를 표시하는 평면 디스플레이로서, 패널 구조, 구동 방법에 따라 DC형과 AC형으로 나뉜다.
PDP는 격벽으로 분리된 방전 셀 내부에 플라즈마 방전을 발생시키며, 이때 각 방전 셀 내에 주입되어 있는 He, Xe 등의 가스의 방전에 의해 발생하는 자외선이 형광체를 여기 시켜 기저상태로 돌아갈 때의 에너지 차에 의해 발생하는 가시광선의 발광현상을 이용한 표시소자이다.
상기 PDP는 단순구조에 의한 제작의 용이성,고휘도 및 고발광 효율의 우수성, 메모리 기능 및 160도 이상의 광시야각을 갖는 점과 아울러 40 인치 이상 의 대화면을 구현할 수 있는 장점이 있다.
이하 상기 PDP의 구조를 개략적으로 설명한다.
상기 PDP는 대향 배치된 상부기판 및 하부기판, 격벽을 포함하며, 상기 상부기판, 하부기판 및 격벽에 의해 셀이 구획되어 형성된다. 상기 상부기판에는 투명전극이 형성되며, 상기 투명전극 상에는 상기 투명전극의 저항을 감소시키기 위하여 버스전극이 형성된다. 상기 하부기판에는 어드레스 전극이 형성된다.
상기 격벽에 의해 구획된 셀 내에는 형광 물질을 도포한다. 상기 상부기판에는 상기 투명전극 및 버스전극을 덮도록 상부 유전체층이 형성된다. 또한 상기 하부기판에는 상기 어드레스 전극을 피복하도록 하부 유전체층이 형성된다. 상기 상부 유전체층 상에는 산화마그네슘으로 이루어진 보호층이 형성된다.
한편, 상기 유전체층의 종래의 제조방법은 다음과 같다.
도 1a 내지 도 1d는 종래의 플라즈마 디스플레이 패널의 유전체층 제조공정을 도시한 단면도들이다. 이하 설명의 편의를 위해 상부 유전체층의 제조공정을 예로 들어 설명한다.
도 1a에 도시된 바와 같이, 유리 분말을 포함하는 페이스트 조성물(130)을 제조하고, 페이스트 조성물(130)을 메쉬(120)를 이용한 스크린 인쇄법에 의해 상기 상부기판(100)의 표면에 도포한다. 이때 상부기판(100)에는 투명전극(미도시) 및 버스전극(110)이 형성된 상태이다.
이어서, 도 1b에 도시된 바와 같이, 도포된 페이스트 조성물을 건조 후 소성함으로써 유기 물질을 제거하고 유리 분말을 소결시켜 1차 막형성 재료층(140)을 형성한다.
계속하여, 1차 막형성 재료층(140)이 형성된 상부기판에 도 1c에 도시된 바와 같이, 2차 막형성 재료층을 포함하는 그린 시트(150)를 전사한다.
이어서, 도 1d에 도시된 바와 같이, 그린 시트(150)를 소성함으로써 유기 물질을 제거하고 유리 분말을 소결시켜 유전체층(160)을 형성한다.
이와 같이 종래의 유전체층(160) 제조방법은 페이스트 조성물(130)을 스크린 인쇄법에 의해 1차로 도포한 후, 그린 시트(150)를 전사하여 유전체층(160)을 형성하였다.
이에 따라, 이에 따라, 공정이 복잡해지고, 제조에 소요되는 시간이 길어질 뿐만 아니라, 제조비용도 상승하게 된다.
또한, 유전체층(160)을 두 차례에 걸쳐 형성함으로써 1차 막형성 재료층(130)과 상기 2차 막형성 재료층 사이에 홀이나 크랙이 발생할 우려가 있으며, 유전체층(160)의 두께가 균일하지 못하게 되었다.
본 발명의 목적은 각 전극단의 추종성이 좋고 고온, 고압을 견딜 수 있는 그린 시트를 기판에 전사하여 유전체층을 형성함으로써 공정시간을 단축하고, 성능이 우수한 유전체층을 제조할 수 있는 플라즈마 디스플레이 패널의 유전체층 제조방법을 제공하는 것이다.
또한 본 발명의 목적은 그린 시트를 기판에 전사하는 공정의 조건을 최적화하여 두께의 균일성이 우수하고 결함이 없는 유전체층을 제조할 수 있는 플라즈마 디스플레이 패널의 유전체층 제조방법을 제공하는 것이다.
상기한 바와 같은 목적을 달성하기 위하여, 본 발명의 바람직한 일 실시예에 따른 플라즈마 디스플레이 패널의 유전체층 제조방법은 지지필름상에 페이스트 조성물을 도포하여 형성된 막형성 재료층을 포함하는 그린 시트를 형성하는 제 1 단계; 상기 그린 시트의 막형성 재료층을 전극이 형성된 기판상에 전사하는 제 2 단계; 및 상기 기판상에 전사된 상기 막형성 재료층을 소성하는 제 3 단계를 포함하되, 상기 제 2 단계는, 상기 기판의 예열 온도가 40℃ 내지 100℃이고, 상기 그린시트와 기판의 간격이 2mm 이하를 유지하는 상태에서 수행되는 것을 특징으로 한다.
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상기 플라즈마 디스플레이 패널의 유전체층 제조방법은 각 전극단의 추종성이 좋고 고온, 고압을 견딜 수 있는 그린 시트를 기판에 전사하여 유전체층을 형성함으로써 공정시간을 단축하고, 성능이 우수한 유전체층을 제조할 수 있다.
이하에서는 첨부된 도면들을 참조하여 본 발명에 따른 플라즈마 디스플레이 패널의 유전체층 제조방법의 바람직한 실시예를 자세히 설명하도록 한다.
도 2는 본 발명의 바람직한 일 실시예에 따른 플라즈마 디스플레이 패널을 도시한 단면도이다.
도 2를 참조하면, 플라즈마 디스플레이 패널(Plasma Display Panel, 이하 "PDP"라 함)은 상판구조(200) 및 하판구조(300)로 나뉜다.
PDP의 상판(200)에는, 글래스 기판(210, 이하, '상부기판'이라 함)의 하부에 투명전극(220), 버스전극(230), 상부 유전체층(240) 및 보호층(250)이 형성되어 있다.
투명전극(220)은 방전 셀로부터 공급되는 빛을 투과시키기 위하여 투명한 인듐주석산화물(이하 'ITO'라 함)로 형성한다.
버스전극(230)은 투명전극(220)의 하부에 형성되며, 투명전극(220)의 라인 저항을 감소시킨다.
버스전극(230)은 도전성이 높은 은(Ag) 페이스트로 형성한다. 이와 같이 버스전극(230)은 도전성이 높은 물질로 형성되기 때문에 도전성이 낮은 투명전극(220)의 구동 전압을 감소시킨다.
상부 유전체층(240)은 금속물질로 이루어진 버스전극(230)과 직접 접하는 층으로서, 버스전극(230)과의 화학반응을 피하기 위해 연화점이 높은 PbO계의 유리 를 사용한다.
이러한 상부 유전체층(240)은 방전전류를 제한하여 글로우(GLOW) 방전을 유지시키고, 플라즈마 방전시 발생된 전하가 축적된다.
보호막(250)은 플라즈마 방전시 스퍼터링에 의한 상부 유전체층(240)의 손상을 방지함과 아울러 2차 전자의 방전 효율을 높여준다. 보호막(250)은 산화마그네슘(MgO)으로 형성된다.
PDP의 하판(300)에는, 글래스 기판(310, 이하 '하부기판'이라 함)의 상부에 어드레스 전극(320), 하부 유전체층(330), 격벽(340) 및 형광층(350)이 형성되어 있다.
어드레스 전극(320)은 각 방전셀의 중앙에 위치한다. 어드레스 전극(320)은 70~80μm 정도의 선폭을 가진다.
하부 유전체층(330)은 어드레스 전극(320)과 하부기판(310)의 전면에 위치하며, 어드레스 전극(320)을 보호한다.
격벽(340)은 하부 유전체층(330)의 상부에 위치하며 어드레스 전극(320)으로부터 소정거리 이격되어 형성되고, 수직 방향으로 더 긴 형태로 구성된다.
격벽(340)은 방전거리를 유지시키고, 인접한 방전 셀 간의 전기적, 광학적 간섭을 방지하기 위해 필요하다.
형광층(350)은 양 격벽(340)의 측면 및 하부 유전체층(330)의 상부에 걸쳐 위치한다.
형광층(350)은 플라즈마 방전시 발생된 자외선에 의해 여기되어 적색(R), 녹 색(G), 또는 청색(B) 중 어느 하나의 가시광선을 발생시킨다.
이하, PDP의 발광 동작을 상술하겠다.
투명전극(220)과 버스전극(230) 사이에 일정한 전압(전압마진 범위에 있는) 전압이 걸린 상태에서, 어드레스 전극(320)에 플라즈마를 생성할 만한 추가의 전압이 걸리게 되면, 투명전극(220)과 버스전극(230) 사이에 플라즈마가 형성되게 된다. 기체에는 어느 정도의 자유전자가 존재하게 되는데, 전기장이 걸리면, 그 자유전자들이 힘(F=qE)을 받게 된다.
이 힘을 받은 전자들이 불활성 기체들의 최외각 전자를 떼어낼 만큼의 에너지를 얻게 되면(제1이온화 에너지) 기체를 이온화시키게 되고, 여기서 발생한 이온과 전자는 전자장의 힘을 받아 양 전극으로 이동하게 된다. 특히 이온이 보호층(250)에 부딪치게 되면, 보호층(250)에서는 이차전자가 발생하게 되는데, 이 전자가 플라즈마의 형성을 돕게 된다.
따라서 초기 방전을 시작하기 위해서는 높은 전압이 필요하지만, 일단 방전이 되고 나면, 전자 밀도가 증가하면서 낮은 전압을 요하게 된다.
상기 PDP안에 주입되는 기체는 주로 Ne, Xe, He등의 불활성기체인데, 특히 Xe가 준안정상태에서 내놓는 147nm와 173nm의 파장의 자외선이 형광층(350)에 가해져서 적색, 녹색 또는 청색의 가시광선이 발생되도록 한다.
이 때 발생되는 가시광선은 그 형광층(350)의 종류에 따라 결정되며, 이에 따라 각 방전 셀은 적색, 녹색, 청색을 각각 표시하는 픽셀이 된다.
각 방전 셀의 알쥐비(RGB)값의 조합으로 색깔의 조절이 이루어진다. 상기 PDP의 경우는 플라즈마가 발생하는 시간을 조절하여 이를 조절하게 된다.
상기 발생된 가시광선은 상부기판(210)을 통해 외부로 발산하게 된다.
이하, 상부 유전체층(240) 및 하부 유전체층(330)의 조성물 및 제조방법에 관하여 상술한다. 설명의 편의를 위하여 상부 유전체층(이하 '유전체층'이라 함, 240)을 예로 들어 상술하겠다.
도 3은 본 발명의 바람직한 일 실시예에 따른 유전체층용 그린 시트를 도시한 단면도이고, 도 4a 및 도 4b는 도 3의 그린 시트의 필링력 특성을 도시한 단면도들이고, 도 5a 및 도 5b는 도 2의 유전체층을 도시한 도면들로서, 도 5a는 최적특성 범위 내의 그린 시트를 사용한 경우를 도시한 도면이고, 도 5b는 최적특성 범위 밖의 그린 시트를 사용한 경우를 도시한 도면이다.
도 3을 참조하면, 그린 시트(400)는 PDP 구성 요소의 형성 공정, 특히 유전체층(240)의 형성 공정에 적합하게 사용되는 시트이다. 그린 시트(400)는 유전체층(240)을 형성하기 위한 페이스트 조성물을 지지 필름(410)상에 도포하고, 건조함으로써 형성되는 막형성 재료층(420)을 구비한다. 막형성 재료층(420)의 표면에는 보호 필름(430)이 마련되어 있다. 지지 필름(410) 및 보호 필름(430)은 막형성 재료층(420)과 박리 가능하도록 형성된다.
지지 필름(410)은 내열성 및 내용제성을 가짐과 동시에 가요성(flexibility)을 갖는 수지 필름인 것이 바람직하다. 지지 필름(410)이 가요성을 가짐으로써 롤 코터, 블레이드 코터 등을 사용하여 상기 페이스트 조성물을 도포할 수 있다. 이에 따라, 막 두께가 균일한 막형성 재료층(420)을 형성할 수 있을 뿐만 아니라, 막형 성 재료층(420)을 롤 형태로 말아서 보존할 수 있다.
막형성 재료층(420)은 소성함으로써 유전체층(240)이 되는 층이다. 막형성 재료층(420)을 형성하기 위해 지지 필름상에 도포되는 상기 페이스트 조성물은 유리 분말, 결합제 수지, 분산제, 가소제 및 용제가 함유되어 있다. 또한 상기 페이스트 조성물은 소포제 및 레벨링제를 더 포함하는 것이 바람직하다.
상기 페이스트 조성물은 50wt% 내지 70wt%의 PbO계 유리 분말, 15wt% 내지 25wt%의 결합 수지, 0.1wt% 내지 2wt%의 분산제, 0.1wt% 내지 5wt%의 가소제, 10wt% 내지 30wt%의 용제, 1wt% 이하의 소포제 및 1wt% 이하의 레벨링제로 이루어지는 것이 바람직하다.
상기 유리 분말은 PbO계 유리를 사용한다.
상기 결합제 수지는 메타아크릴계 수지 및 아크릴계 수지로 이루어진 군에서 선택된다. 상기 메타아크릴계 수지가 분해온도가 낮아 바람직하다.
상기 분산제는 상기 유리 분말의 분산력을 증대시켜 막형성 재료층(420)에 상기 유리 분말이 침전되는 것을 방지하기 위하여 첨가하는 조성물로서, 폴리아민아마이드계 화합물을 사용한다.
상기 가소제는 열가소성을 증대시킴으로써 고온에서 성형가공을 용이하게 하기 위하여 첨가하는 조성물로서, 프탈레이트계, DOA(디옥틸아디페이트)계, DOZ(디옥틸아졸레이트)계 및 에스테르계로 이루어진 군에서 선택된 화합물을 사용한다.
상기 용제는 무기 입자와의 친화성과 상기 결합제 수지를 용해하는 성질이 양호하여 상기 페이스트 조성물에 적절한 점성을 부여할 수 있고, 또한 건조될 때 용이하게 증발되는 것이 바람직하다. 이러한 용제로는 톨루엔, PGME(프로필렌 글리콜 모노 메틸 에테르), BA(부틸 아세테이트), CYC(싸이클로 헥사논), MEK(메틸 에틸 케톤)로 이루어진 군에서 선택하여 사용할 수 있다.
상기 소포제는 막형성 재료층(420)의 기포를 제거하기 위하여 첨가하는 조성물로서, 탄화수소 및 에틸헥사놀로 이루어진 군에서 선택하여 사용할 수 있다.
상기 레벨링제는 막형성 재료층(420)을 균일하게 형성하기 위하여 첨가하는 조성물이다. 폴리하이드록시카르복실릭산 아마이드계 및 아크릴 레이트로 이루어진 군에서 선택하여 사용할 수 있다.
이와 같이 구성된 페이스트 조성물로 형성된 그린 시트(400)는 강도가 100gf/mm2 내지 500gf/mm2이고, 연신율이 100% 내지 2000%이고, 점착성이 10gf 내지 100gf 이고, 필링력이 1gf/mm2 내지 30gf/mm2이고, 잔류용제의 함량이 0.2% 내지 2%이다.
상기 필링력은 보호 필름(430)이 막형성 재료층(420)에서 박리되는 힘을 나타낸다. 도 4a에 도시된 바와 같이, 이하 후술할 유전체층(240)을 형성하는 공정에서는 보호 필름(430)의 일단이 막형성 재료층(420)에서 박리된 상태에서 수 초간 대기한다. 이 때, 막형성 재료층(420)의 점착성에 따라 보호 필름(430)과 접한 막형성 재료층(420) 부분(A)이 보호 필름(430)에 붙어 올라가게 된다.
이와 같은 그린 시트(400)를 상부기판(210)에 전사할 경우 도 4b에 도시된 바와 같이 A영역의 막형성 재료층(420)의 일단이 돌출된 상태를 유지한다. 열 압착 에 의해 막형성 재료층(420)이 균일한 두께로 형성되기 위해서는 A영역의 높이가 5μm 이하이어야 한다. A영역의 높이가 5μm를 넘을 경우, A영역의 유전체층(240) 특성이 저하된다.
상기 필링력이 상기와 같이 1gf/mm2 내지 30gf/mm2일 경우, A영역의 높이가 5μm 이하로 된다.
상기의 강도, 연신률, 점착성, 필링력 및 잔류용제 함량의 특성 범위를 유지하여야만 그린 시트(400)를 버스 전극(230)이 형성된 상부기판(210)에 전사하는 공법으로 유전체층(240)을 형성할 수 있다. 이는 버스 전극(230) 단의 추종성이 확보되어야 하고, 고온 및 고압에서 수행되는 제조공정상 그린 시트(400)에 변형이 발생하지 않아야 하기 때문이다.
상기의 특성 범위를 유지하는 그린 시트(400)를 사용하여 유전체층(240)을 형성할 경우, 도 5a에 도시된 바와 같이 버스 전극(230) 단에 기포가 발생되지 않고, 그린 시트(400)의 변형도 일어나지 않는다.
한편, 상기의 특성 범위를 벋어나는 그린 시트(400)를 사용하여 유전체층(240)을 형성할 경우, 도 5b에 도시된 바와 같이, 유전체층(240)에 다량의 기포가 발생하고, 그린 시트(400)가 변형된다.
이하, 상기 페이스트 조성물로 형성된 그린 시트의 특성 실험 결과를 상술한다.
성분(wt%) 파우더 결합수지 분산제 가소제 소포제 레벨링제 용제
실시예1 60 18 1 3 1 1 16
실시예2 63 20 1.3 3 0.1 0.1 12.5
실시예3 64 22 2 2 0 0 10
투과율 (%) 분산성 내전압 (Kv) 강도 (gf/mm2) 연신율 (%) 점착성 (gf) 필링력 (gf/mm2) 잔류용제 (%)
실시예1 60 이상 양호 4.0 이상 250~300 600 이하 40~70 20 이하 1 이하
실시예2 60 이상 양호 4.0 이상 200~300 1000 이하 20~30 10 이하 1 이하
실시예3 60 이상 양호 3.5 이상 350~450 300 이하 10~15 6 이하 1 이하
표 1은 본 발명의 제 1 내지 제 3 실시예에 따른 페이스트 조성물의 조성비를 나타내며, 표 2는 표 1의 조성비로 이루어진 페이스트 조성물로 형성된 그린 시트들의 특성을 나타낸다.
제 1 실시예는 60wt%의 파우더, 18wt%의 결합수지, 1wt%의 분산제, 3wt%의 가소제, 1wt%의 소포제, 1wt%의 레벨링제 및 16wt%의 용제로 이루어진 페이스트 조성물이다.
제 2 실시예는 63wt%의 파우더, 20wt%의 결합수지, 1.3wt%의 분산제, 3wt%의 가소제, 0.1wt%의 소포제, 0.1wt%의 레벨링제 및 12.5wt%의 용제로 이루어진 페이스트 조성물이다.
제 3 실시예는 64wt%의 파우더, 22wt%의 결합수지, 2wt%의 분산제, 2wt%의 가소제 및 10wt%의 용제로 이루어진 페이스트 조성물이다.
상기 제 1 내지 제 3 실시예에서, 파우더는 PbO계 유리 분말이고, 결합 수지는 메타아크릴계 또는 아크릴계이고, 분산제는 폴리아민 아마이드계이고, 가소제는 프탈레이트계이고, 소포제는 에틸헥사놀이고, 레벨링제는 아크릴레이트이며, 용제는 톨루엔 또는 PGME를 사용하였다.
투과율은 550nm의 파장을 투과시키는 정도를 나타낸 것으로, 제 1 내지 제 3 실시예 모두 투과율이 60% 이상으로 측정되었다.
분산성은 상기 페이스트 조성물의 분산이 잘 이루어지는 정도를 나타내는 것으로, 그린 시트를 제조한 후에 상기 파우더의 응집이 발생하는지의 여부로 판단한다. 제 1 내지 제 3 실시예 모두 양호한 특성을 보였다.
내전압은 기포 발생 정도를 확인하기 위해 측정하는 것으로, 기포의 발생량이 많으면 내전압이 떨어지게 된다. 제 1 내지 제 3 실시예 모두 내전압이 4.0Kv 또는 3.5Kv 이상으로 특성이 양호함을 확인할 수 있다.
제 1 내지 제 3 실시예의 강도는 200 내지 450gf/mm2의 범위 내로, 상기한 특성 범위를 만족함을 확인할 수 있다.
연신율은 제 2 실시예가 1000 이하로 최고치를 보였으나, 이는 상기한 특성 범위 내에 속함을 확인할 수 있다.
점착성은 제 1 내지 제 3 실시예에서 최저 10gf, 최고 70gf로, 상기한 특성 범위 내에 속함을 확인할 수 있다.
필링력은 제 1 실시예가 20gf/mm2로 최고치를 보였으나, 상기한 특성 범위 내에 속함을 확인할 수 있다.
잔류용제의 함량은 제 1 내지 제 3 실시예 모두 1% 이하로 만족할만한 특성 범위 내에 속함을 확인할 수 있다.
이와 같이 상기의 조성비의 페이스트 조성물로 형성된 그린 시트(400)는 유전체층(240)으로 사용하기에 만족할만한 특성을 나타냄을 확인할 수 있다.
이하, PDP의 상부 유전체층 제조공정을 상술한다.
도 6a 내지 도 6c는 도 2의 플라즈마 디스플레이 패널의 유전체층 제조공정을 도시한 단면도들이고, 도 7a 및 도 7b는 도 2의 플라즈마 디스플레이 패널을 제조하는 모기판을 도시한 도면들로서, 도 7a는 최적공정조건 범위 내에서 유전체층을 제조한 경우를 도시한 도면이고, 도 7b는 최적공정조건 범위 밖에서 유전체층을 제조한 경우를 도시한 도면이다.
도 6a에 도시된 바와 같이, 상부기판(210)에 투명전극(미도시) 및 버스전극(230)이 이미 형성된 상태에서 그린시트(400)를 전사한다.
이를 위해, 막형성 재료층(420)의 표면에서 보호 필름(430)을 박리한 후, 상부기판(210) 표면에 막형성 재료층(420)의 표면이 접하도록 그린 시트(400)를 중첩한다.
이어서, 중첩된 그린 시트(400) 상에 가열된 롤러(500)를 이동시켜 도 6b에 도시된 바와 같이 열압착시킨다.
이와 같은 방법에 의해 지지필름(410) 상에 형성된 막형성 재료층(420)이 상부기판(210)에 전사된다. 이때, 최적공정조건으로 가열 롤러의 온도가 50℃ 내지 100℃이고, 가열 롤러에 의한 롤 압력이 2kgf/cm2 내지 10kgf/cm2이며, 막형성 재료층(420)과 상부기판(210) 사이의 간격이 2mm 이하가 유지되어야 한다. 또한 상부기판(210)은 40℃ 내지 100℃로 예열되어 있는 것이 바람직하다.
계속하여, 도 6c에 도시된 바와 같이 막형성 재료층(420)에서 지지 필름(410)을 박리 제거한다. 지지 필름(410)이 제거된 막형성 재료층(420)을 소성하여 유전체층(240)을 형성한다.
이와 같이, 최적공정조건 범위 내에서 유전체층(240)을 형성할 경우, 도 7a에 도시된 바와 같이 버스 전극(230) 단 주변에 기포의 발생량이 적은 것을 확인할 수 있다.
반면, 최적공정조건 범위 밖에서 유전체층(240)을 형성할 경우, 도 7b에 도시된 바와 같이 버스 전극(230) 단 주변에 다량의 기포가 발생하는 것을 확인할 수 있다.
상기한 본 발명의 바람직한 실시예는 예시의 목적을 위해 개시된 것이고, 본 발명에 대한 통상의 지식을 가지는 당업자라면 본 발명의 사상과 범위 안에서 다양한 수정, 변경, 부가가 가능할 것이며, 이러한 수정, 변경 및 부가는 하기의 특허청구범위에 속하는 것으로 보아야 할 것이다.
이상에서 설명한 바와 같이, 본 발명에 따른 플라즈마 디스플레이 패널의 유전체층 제조방법은 각 전극단의 추종성이 좋고 고온, 고압을 견딜 수 있는 그린 시트를 기판에 전사하여 유전체층을 형성함으로써 공정시간을 단축하고, 성능이 우수한 유전체층을 제조할 수 있다는 장점이 있다.
또한 본 발명에 따른 플라즈마 디스플레이 패널의 유전체층 제조방법은 그린 시트를 기판에 전사하는 공정의 조건을 최적화하여 두께의 균일성이 우수하고 결함이 없는 유전체층을 제조할 수 있다는 장점이 있다.

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  21. 지지필름상에 페이스트 조성물을 도포하여 형성된 막형성 재료층을 포함하는 그린 시트를 형성하는 제 1 단계;
    상기 그린 시트의 막형성 재료층을 전극이 형성된 기판상에 전사하는 제 2 단계; 및
    상기 기판상에 전사된 상기 막형성 재료층을 소성하는 제 3 단계를 포함하되,
    상기 제 2 단계는, 상기 기판의 예열 온도가 40℃ 내지 100℃이고, 상기 그린시트와 기판의 간격이 2mm 이하를 유지하는 상태에서 수행되는 것을 특징으로 하는 플라즈마 디스플레이 패널의 유전체층 제조방법.
  22. 제 21 항에 있어서,
    상기 제 2 단계와 제 3 단계 사이에는, 상기 지지필름을 제거하는 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 플라즈마 디스플레이 패널의 유전체층 제조방법.
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  24. 제 21 항에 있어서,
    상기 제 2 단계는, 상기 그린시트의 가열 롤러의 온도가 50℃ 내지 100℃인 상태에서 수행되는 것을 특징으로 하는 플라즈마 디스플레이 패널의 유전체층 제조방법.
  25. 삭제
  26. 제 21 항에 있어서,
    상기 제 2 단계는, 상기 그린시트의 가열 롤러의 압력이 2kgf/cm2 내지 10kgf/cm2인 상태에서 수행되는 것을 특징으로 하는 플라즈마 디스플레이 패널의 유전체층 제조방법.
  27. 제 21 항에 있어서,
    상기 페이스트 조성물은 50wt% 내지 70wt%의 PbO계 유리 분말, 15wt% 내지 25wt%의 결합 수지, 0.1wt% 내지 2wt%의 분산제, 0.1wt% 내지 5wt%의 가소제 및 10wt% 내지 30wt%의 용제를 포함하는 것을 특징으로 하는 플라즈마 디스플레이 패널의 유전체층 제조방법.
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