RU2300792C2 - Проявляемые в печатной машине ик-чувствительные печатные формы с использованием связующих смол с полиэтиленоксидными сегментами - Google Patents
Проявляемые в печатной машине ик-чувствительные печатные формы с использованием связующих смол с полиэтиленоксидными сегментами Download PDFInfo
- Publication number
- RU2300792C2 RU2300792C2 RU2004132874/04A RU2004132874A RU2300792C2 RU 2300792 C2 RU2300792 C2 RU 2300792C2 RU 2004132874/04 A RU2004132874/04 A RU 2004132874/04A RU 2004132874 A RU2004132874 A RU 2004132874A RU 2300792 C2 RU2300792 C2 RU 2300792C2
- Authority
- RU
- Russia
- Prior art keywords
- polyethylene oxide
- block
- polymer
- image
- polymer binder
- Prior art date
Links
- 229920005989 resin Polymers 0.000 title description 3
- 239000011347 resin Substances 0.000 title description 3
- 239000000203 mixture Substances 0.000 claims abstract description 107
- 229920001577 copolymer Polymers 0.000 claims abstract description 87
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 claims abstract description 52
- 239000002491 polymer binding agent Substances 0.000 claims abstract description 48
- 229920001400 block copolymer Polymers 0.000 claims abstract description 43
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims abstract description 32
- 230000005855 radiation Effects 0.000 claims abstract description 32
- 238000011161 development Methods 0.000 claims abstract description 18
- 230000005670 electromagnetic radiation Effects 0.000 claims abstract description 6
- 229920003171 Poly (ethylene oxide) Polymers 0.000 claims description 92
- 229920005596 polymer binder Polymers 0.000 claims description 46
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 39
- 239000002245 particle Substances 0.000 claims description 30
- 238000000576 coating method Methods 0.000 claims description 21
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 claims description 19
- -1 hydrocarbon radical Chemical class 0.000 claims description 15
- 150000003254 radicals Chemical class 0.000 claims description 15
- 229920000578 graft copolymer Polymers 0.000 claims description 12
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 claims description 11
- 239000003999 initiator Substances 0.000 claims description 11
- 238000006116 polymerization reaction Methods 0.000 claims description 11
- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 10
- 239000006100 radiation absorber Substances 0.000 claims description 9
- 238000010526 radical polymerization reaction Methods 0.000 claims description 8
- 230000000977 initiatory effect Effects 0.000 claims description 7
- 150000003839 salts Chemical group 0.000 claims description 6
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 6
- 229920000233 poly(alkylene oxides) Polymers 0.000 claims description 5
- 238000010538 cationic polymerization reaction Methods 0.000 claims description 4
- 125000004435 hydrogen atom Chemical group [H]* 0.000 claims description 3
- ZTWMBHJPUJJJME-UHFFFAOYSA-N 3,4-dimethylpyrrole-2,5-dione Chemical group CC1=C(C)C(=O)NC1=O ZTWMBHJPUJJJME-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 125000000852 azido group Chemical group *N=[N+]=[N-] 0.000 claims description 2
- 238000001035 drying Methods 0.000 claims description 2
- 239000005267 main chain polymer Substances 0.000 claims description 2
- AHHWIHXENZJRFG-UHFFFAOYSA-N oxetane Chemical compound C1COC1 AHHWIHXENZJRFG-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 238000007142 ring opening reaction Methods 0.000 claims description 2
- DQFBYFPFKXHELB-VAWYXSNFSA-N trans-chalcone Chemical group C=1C=CC=CC=1C(=O)\C=C\C1=CC=CC=C1 DQFBYFPFKXHELB-VAWYXSNFSA-N 0.000 claims description 2
- WBYWAXJHAXSJNI-VOTSOKGWSA-M trans-cinnamate Chemical group [O-]C(=O)\C=C\C1=CC=CC=C1 WBYWAXJHAXSJNI-VOTSOKGWSA-M 0.000 claims description 2
- 239000002243 precursor Substances 0.000 claims 3
- 239000004215 Carbon black (E152) Substances 0.000 claims 2
- 229930195733 hydrocarbon Natural products 0.000 claims 2
- VGGSQFUCUMXWEO-UHFFFAOYSA-N Ethene Chemical compound C=C VGGSQFUCUMXWEO-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- 239000005977 Ethylene Substances 0.000 claims 1
- 150000002118 epoxides Chemical class 0.000 claims 1
- 239000006099 infrared radiation absorber Substances 0.000 claims 1
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 12
- 230000004069 differentiation Effects 0.000 abstract description 3
- 239000000126 substance Substances 0.000 abstract description 3
- 230000000694 effects Effects 0.000 abstract description 2
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 abstract 1
- 230000002209 hydrophobic effect Effects 0.000 description 36
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 description 25
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 description 25
- PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N Styrene Chemical compound C=CC1=CC=CC=C1 PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 24
- 239000000178 monomer Substances 0.000 description 22
- 239000000975 dye Substances 0.000 description 18
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 18
- 239000011230 binding agent Substances 0.000 description 12
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 description 12
- 230000018109 developmental process Effects 0.000 description 11
- 229910052736 halogen Inorganic materials 0.000 description 11
- 150000002367 halogens Chemical class 0.000 description 11
- 125000003545 alkoxy group Chemical group 0.000 description 10
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 9
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- 125000004093 cyano group Chemical group *C#N 0.000 description 9
- NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N Phosphoric acid Chemical compound OP(O)(O)=O NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- SMZOUWXMTYCWNB-UHFFFAOYSA-N 2-(2-methoxy-5-methylphenyl)ethanamine Chemical compound COC1=CC=C(C)C=C1CCN SMZOUWXMTYCWNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 238000009833 condensation Methods 0.000 description 7
- 230000005494 condensation Effects 0.000 description 7
- BDERNNFJNOPAEC-UHFFFAOYSA-N propan-1-ol Chemical compound CCCO BDERNNFJNOPAEC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- JESXATFQYMPTNL-UHFFFAOYSA-N 2-ethenylphenol Chemical compound OC1=CC=CC=C1C=C JESXATFQYMPTNL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-N Methacrylic acid Chemical compound CC(=C)C(O)=O CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N Sulfuric acid Chemical compound OS(O)(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-M methacrylate group Chemical group C(C(=C)C)(=O)[O-] CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 6
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 5
- 125000002252 acyl group Chemical group 0.000 description 5
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 5
- 230000000996 additive effect Effects 0.000 description 5
- 125000004453 alkoxycarbonyl group Chemical group 0.000 description 5
- 125000002877 alkyl aryl group Chemical group 0.000 description 5
- 238000007743 anodising Methods 0.000 description 5
- 125000003710 aryl alkyl group Chemical group 0.000 description 5
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 description 5
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 5
- 239000011148 porous material Substances 0.000 description 5
- 239000011241 protective layer Substances 0.000 description 5
- 239000007858 starting material Substances 0.000 description 5
- QGKMIGUHVLGJBR-UHFFFAOYSA-M (4z)-1-(3-methylbutyl)-4-[[1-(3-methylbutyl)quinolin-1-ium-4-yl]methylidene]quinoline;iodide Chemical compound [I-].C12=CC=CC=C2N(CCC(C)C)C=CC1=CC1=CC=[N+](CCC(C)C)C2=CC=CC=C12 QGKMIGUHVLGJBR-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 4
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 2-Propenoic acid Natural products OC(=O)C=C NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- IXAUCVOJRVFRBJ-UHFFFAOYSA-N 4-(trichloromethyl)triazine Chemical class ClC(Cl)(Cl)C1=CC=NN=N1 IXAUCVOJRVFRBJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- NLHHRLWOUZZQLW-UHFFFAOYSA-N Acrylonitrile Chemical class C=CC#N NLHHRLWOUZZQLW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000004952 Polyamide Substances 0.000 description 4
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 description 4
- 150000001252 acrylic acid derivatives Chemical class 0.000 description 4
- 125000004423 acyloxy group Chemical group 0.000 description 4
- 229910000147 aluminium phosphate Inorganic materials 0.000 description 4
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 4
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 4
- 229920001519 homopolymer Polymers 0.000 description 4
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 4
- 150000002734 metacrylic acid derivatives Chemical class 0.000 description 4
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 4
- FQPSGWSUVKBHSU-UHFFFAOYSA-N methacrylamide Chemical class CC(=C)C(N)=O FQPSGWSUVKBHSU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 4
- 229920002647 polyamide Polymers 0.000 description 4
- 229920000728 polyester Polymers 0.000 description 4
- 229920002635 polyurethane Polymers 0.000 description 4
- 239000004814 polyurethane Substances 0.000 description 4
- QTECDUFMBMSHKR-UHFFFAOYSA-N prop-2-enyl prop-2-enoate Chemical compound C=CCOC(=O)C=C QTECDUFMBMSHKR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000011253 protective coating Substances 0.000 description 4
- OZAIFHULBGXAKX-UHFFFAOYSA-N 2-(2-cyanopropan-2-yldiazenyl)-2-methylpropanenitrile Chemical compound N#CC(C)(C)N=NC(C)(C)C#N OZAIFHULBGXAKX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- CDSULTPOCMWJCM-UHFFFAOYSA-N 4h-chromene-2,3-dione Chemical class C1=CC=C2OC(=O)C(=O)CC2=C1 CDSULTPOCMWJCM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000004593 Epoxy Substances 0.000 description 3
- IAYPIBMASNFSPL-UHFFFAOYSA-N Ethylene oxide Chemical group C1CO1 IAYPIBMASNFSPL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- VVQNEPGJFQJSBK-UHFFFAOYSA-N Methyl methacrylate Chemical compound COC(=O)C(C)=C VVQNEPGJFQJSBK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- GYCMBHHDWRMZGG-UHFFFAOYSA-N Methylacrylonitrile Chemical compound CC(=C)C#N GYCMBHHDWRMZGG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- ZMANZCXQSJIPKH-UHFFFAOYSA-N Triethylamine Chemical compound CCN(CC)CC ZMANZCXQSJIPKH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000006096 absorbing agent Substances 0.000 description 3
- 150000003926 acrylamides Chemical class 0.000 description 3
- 230000004913 activation Effects 0.000 description 3
- 238000001994 activation Methods 0.000 description 3
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 description 3
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 3
- 125000005520 diaryliodonium group Chemical group 0.000 description 3
- 125000003700 epoxy group Chemical group 0.000 description 3
- 125000000449 nitro group Chemical group [O-][N+](*)=O 0.000 description 3
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 3
- 239000000123 paper Substances 0.000 description 3
- 229920000647 polyepoxide Polymers 0.000 description 3
- 229920001223 polyethylene glycol Polymers 0.000 description 3
- 239000011541 reaction mixture Substances 0.000 description 3
- 125000003107 substituted aryl group Chemical group 0.000 description 3
- 238000003786 synthesis reaction Methods 0.000 description 3
- 238000012546 transfer Methods 0.000 description 3
- 229920002554 vinyl polymer Polymers 0.000 description 3
- HIXDQWDOVZUNNA-UHFFFAOYSA-N 2-(3,4-dimethoxyphenyl)-5-hydroxy-7-methoxychromen-4-one Chemical compound C=1C(OC)=CC(O)=C(C(C=2)=O)C=1OC=2C1=CC=C(OC)C(OC)=C1 HIXDQWDOVZUNNA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- OMIGHNLMNHATMP-UHFFFAOYSA-N 2-hydroxyethyl prop-2-enoate Chemical compound OCCOC(=O)C=C OMIGHNLMNHATMP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000004172 4-methoxyphenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C(OC([H])([H])[H])=C([H])C([H])=C1* 0.000 description 2
- 206010073306 Exposure to radiation Diseases 0.000 description 2
- KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N Isopropanol Chemical compound CC(C)O KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000004698 Polyethylene Substances 0.000 description 2
- 239000002202 Polyethylene glycol Substances 0.000 description 2
- 239000004743 Polypropylene Substances 0.000 description 2
- 239000004793 Polystyrene Substances 0.000 description 2
- 239000004372 Polyvinyl alcohol Substances 0.000 description 2
- 229920002125 Sokalan® Polymers 0.000 description 2
- HVVWZTWDBSEWIH-UHFFFAOYSA-N [2-(hydroxymethyl)-3-prop-2-enoyloxy-2-(prop-2-enoyloxymethyl)propyl] prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OCC(CO)(COC(=O)C=C)COC(=O)C=C HVVWZTWDBSEWIH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000002679 ablation Methods 0.000 description 2
- 239000003377 acid catalyst Substances 0.000 description 2
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M acrylate group Chemical group C(C=C)(=O)[O-] NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- ROOXNKNUYICQNP-UHFFFAOYSA-N ammonium persulfate Chemical compound [NH4+].[NH4+].[O-]S(=O)(=O)OOS([O-])(=O)=O ROOXNKNUYICQNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000000129 anionic group Chemical group 0.000 description 2
- 125000000732 arylene group Chemical group 0.000 description 2
- 125000004429 atom Chemical group 0.000 description 2
- CUFNKYGDVFVPHO-UHFFFAOYSA-N azulene Chemical compound C1=CC=CC2=CC=CC2=C1 CUFNKYGDVFVPHO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- HRBFQSUTUDRTSV-UHFFFAOYSA-N benzene-1,2,3-triol;propan-2-one Chemical compound CC(C)=O.OC1=CC=CC(O)=C1O HRBFQSUTUDRTSV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000003917 carbamoyl group Chemical group [H]N([H])C(*)=O 0.000 description 2
- 125000002843 carboxylic acid group Chemical group 0.000 description 2
- 125000002091 cationic group Chemical group 0.000 description 2
- 239000007795 chemical reaction product Substances 0.000 description 2
- 238000007334 copolymerization reaction Methods 0.000 description 2
- 239000008367 deionised water Substances 0.000 description 2
- 229910021641 deionized water Inorganic materials 0.000 description 2
- RSJLWBUYLGJOBD-UHFFFAOYSA-M diphenyliodanium;chloride Chemical compound [Cl-].C=1C=CC=CC=1[I+]C1=CC=CC=C1 RSJLWBUYLGJOBD-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- 239000006185 dispersion Substances 0.000 description 2
- RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N ether Substances CCOCC RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000002170 ethers Chemical class 0.000 description 2
- SLGWESQGEUXWJQ-UHFFFAOYSA-N formaldehyde;phenol Chemical compound O=C.OC1=CC=CC=C1 SLGWESQGEUXWJQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000009477 glass transition Effects 0.000 description 2
- 238000003384 imaging method Methods 0.000 description 2
- 230000003993 interaction Effects 0.000 description 2
- 239000002609 medium Substances 0.000 description 2
- VHRYZQNGTZXDNX-UHFFFAOYSA-N methacryloyl chloride Chemical compound CC(=C)C(Cl)=O VHRYZQNGTZXDNX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000001570 methylene group Chemical group [H]C([H])([*:1])[*:2] 0.000 description 2
- 230000003020 moisturizing effect Effects 0.000 description 2
- 125000000896 monocarboxylic acid group Chemical group 0.000 description 2
- 239000012299 nitrogen atmosphere Substances 0.000 description 2
- ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N phenol group Chemical group C1(=CC=CC=C1)O ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229920001568 phenolic resin Polymers 0.000 description 2
- 239000003504 photosensitizing agent Substances 0.000 description 2
- 239000004584 polyacrylic acid Substances 0.000 description 2
- 229920001281 polyalkylene Polymers 0.000 description 2
- 229920000573 polyethylene Polymers 0.000 description 2
- 235000013824 polyphenols Nutrition 0.000 description 2
- 229920001155 polypropylene Polymers 0.000 description 2
- 229920001296 polysiloxane Polymers 0.000 description 2
- 229920002223 polystyrene Polymers 0.000 description 2
- 229920002451 polyvinyl alcohol Polymers 0.000 description 2
- 230000008569 process Effects 0.000 description 2
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 2
- 238000012712 reversible addition−fragmentation chain-transfer polymerization Methods 0.000 description 2
- 238000004626 scanning electron microscopy Methods 0.000 description 2
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 2
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 2
- 230000003595 spectral effect Effects 0.000 description 2
- 238000001228 spectrum Methods 0.000 description 2
- 229910052717 sulfur Inorganic materials 0.000 description 2
- 125000003866 trichloromethyl group Chemical group ClC(Cl)(Cl)* 0.000 description 2
- 229920001567 vinyl ester resin Polymers 0.000 description 2
- 239000004711 α-olefin Chemical class 0.000 description 2
- JIHQDMXYYFUGFV-UHFFFAOYSA-N 1,3,5-triazine Chemical class C1=NC=NC=N1 JIHQDMXYYFUGFV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZVEMLYIXBCTVOF-UHFFFAOYSA-N 1-(2-isocyanatopropan-2-yl)-3-prop-1-en-2-ylbenzene Chemical compound CC(=C)C1=CC=CC(C(C)(C)N=C=O)=C1 ZVEMLYIXBCTVOF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XNWFRZJHXBZDAG-UHFFFAOYSA-N 2-METHOXYETHANOL Chemical compound COCCO XNWFRZJHXBZDAG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NGNBDVOYPDDBFK-UHFFFAOYSA-N 2-[2,4-di(pentan-2-yl)phenoxy]acetyl chloride Chemical compound CCCC(C)C1=CC=C(OCC(Cl)=O)C(C(C)CCC)=C1 NGNBDVOYPDDBFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HRPVXLWXLXDGHG-UHFFFAOYSA-N Acrylamide Chemical class NC(=O)C=C HRPVXLWXLXDGHG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VHUUQVKOLVNVRT-UHFFFAOYSA-N Ammonium hydroxide Chemical compound [NH4+].[OH-] VHUUQVKOLVNVRT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BVKZGUZCCUSVTD-UHFFFAOYSA-M Bicarbonate Chemical class OC([O-])=O BVKZGUZCCUSVTD-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- BTBUEUYNUDRHOZ-UHFFFAOYSA-N Borate Chemical compound [O-]B([O-])[O-] BTBUEUYNUDRHOZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical group [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-M Chloride anion Chemical compound [Cl-] VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- KCXVZYZYPLLWCC-UHFFFAOYSA-N EDTA Chemical class OC(=O)CN(CC(O)=O)CCN(CC(O)=O)CC(O)=O KCXVZYZYPLLWCC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002841 Lewis acid Substances 0.000 description 1
- 229920002396 Polyurea Polymers 0.000 description 1
- DBMJMQXJHONAFJ-UHFFFAOYSA-M Sodium laurylsulphate Chemical compound [Na+].CCCCCCCCCCCCOS([O-])(=O)=O DBMJMQXJHONAFJ-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- QYKIQEUNHZKYBP-UHFFFAOYSA-N Vinyl ether Chemical class C=COC=C QYKIQEUNHZKYBP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DHKHKXVYLBGOIT-UHFFFAOYSA-N acetaldehyde Diethyl Acetal Natural products CCOC(C)OCC DHKHKXVYLBGOIT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000002777 acetyl group Chemical class [H]C([H])([H])C(*)=O 0.000 description 1
- HFBMWMNUJJDEQZ-UHFFFAOYSA-N acryloyl chloride Chemical compound ClC(=O)C=C HFBMWMNUJJDEQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000012644 addition polymerization Methods 0.000 description 1
- 125000003158 alcohol group Chemical group 0.000 description 1
- 150000001346 alkyl aryl ethers Chemical class 0.000 description 1
- XYLMUPLGERFSHI-UHFFFAOYSA-N alpha-Methylstyrene Chemical class CC(=C)C1=CC=CC=C1 XYLMUPLGERFSHI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000908 ammonium hydroxide Substances 0.000 description 1
- 229910001870 ammonium persulfate Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000004458 analytical method Methods 0.000 description 1
- 150000008064 anhydrides Chemical group 0.000 description 1
- 238000010539 anionic addition polymerization reaction Methods 0.000 description 1
- 239000012736 aqueous medium Substances 0.000 description 1
- 125000004104 aryloxy group Chemical group 0.000 description 1
- 230000000712 assembly Effects 0.000 description 1
- 238000000429 assembly Methods 0.000 description 1
- 239000012298 atmosphere Substances 0.000 description 1
- 125000005235 azinium group Chemical group 0.000 description 1
- 230000004888 barrier function Effects 0.000 description 1
- 230000001588 bifunctional effect Effects 0.000 description 1
- XZKRXPZXQLARHH-UHFFFAOYSA-N buta-1,3-dienylbenzene Chemical compound C=CC=CC1=CC=CC=C1 XZKRXPZXQLARHH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000006229 carbon black Substances 0.000 description 1
- 150000007942 carboxylates Chemical class 0.000 description 1
- 229920002301 cellulose acetate Polymers 0.000 description 1
- 239000002738 chelating agent Substances 0.000 description 1
- 239000011247 coating layer Substances 0.000 description 1
- 239000002131 composite material Substances 0.000 description 1
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 1
- KUNSUQLRTQLHQQ-UHFFFAOYSA-N copper tin Chemical group [Cu].[Sn] KUNSUQLRTQLHQQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000004132 cross linking Methods 0.000 description 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 1
- 229920000359 diblock copolymer Polymers 0.000 description 1
- 238000009792 diffusion process Methods 0.000 description 1
- 238000004090 dissolution Methods 0.000 description 1
- 229920001971 elastomer Polymers 0.000 description 1
- 239000000806 elastomer Substances 0.000 description 1
- 230000002708 enhancing effect Effects 0.000 description 1
- 125000000219 ethylidene group Chemical group [H]C(=[*])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 description 1
- 230000008020 evaporation Effects 0.000 description 1
- 239000000706 filtrate Substances 0.000 description 1
- 238000001914 filtration Methods 0.000 description 1
- 230000004907 flux Effects 0.000 description 1
- 125000002485 formyl group Chemical class [H]C(*)=O 0.000 description 1
- 125000001188 haloalkyl group Chemical group 0.000 description 1
- 230000017525 heat dissipation Effects 0.000 description 1
- 125000000623 heterocyclic group Chemical group 0.000 description 1
- 229920001600 hydrophobic polymer Polymers 0.000 description 1
- 150000004679 hydroxides Chemical class 0.000 description 1
- 230000006872 improvement Effects 0.000 description 1
- 239000004615 ingredient Substances 0.000 description 1
- 238000009413 insulation Methods 0.000 description 1
- 238000012432 intermediate storage Methods 0.000 description 1
- 239000012948 isocyanate Substances 0.000 description 1
- 150000002513 isocyanates Chemical class 0.000 description 1
- 239000004816 latex Substances 0.000 description 1
- 229920000126 latex Polymers 0.000 description 1
- 150000007517 lewis acids Chemical class 0.000 description 1
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 1
- 230000000873 masking effect Effects 0.000 description 1
- DZVCFNFOPIZQKX-LTHRDKTGSA-M merocyanine Chemical compound [Na+].O=C1N(CCCC)C(=O)N(CCCC)C(=O)C1=C\C=C\C=C/1N(CCCS([O-])(=O)=O)C2=CC=CC=C2O\1 DZVCFNFOPIZQKX-LTHRDKTGSA-M 0.000 description 1
- 150000001247 metal acetylides Chemical class 0.000 description 1
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 1
- 150000004767 nitrides Chemical class 0.000 description 1
- 229920001220 nitrocellulos Polymers 0.000 description 1
- 125000004433 nitrogen atom Chemical group N* 0.000 description 1
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 description 1
- 150000002924 oxiranes Chemical class 0.000 description 1
- 239000011101 paper laminate Substances 0.000 description 1
- 239000003208 petroleum Substances 0.000 description 1
- WVDDGKGOMKODPV-ZQBYOMGUSA-N phenyl(114C)methanol Chemical compound O[14CH2]C1=CC=CC=C1 WVDDGKGOMKODPV-ZQBYOMGUSA-N 0.000 description 1
- IEQIEDJGQAUEQZ-UHFFFAOYSA-N phthalocyanine Chemical compound N1C(N=C2C3=CC=CC=C3C(N=C3C4=CC=CC=C4C(=N4)N3)=N2)=C(C=CC=C2)C2=C1N=C1C2=CC=CC=C2C4=N1 IEQIEDJGQAUEQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000000704 physical effect Effects 0.000 description 1
- 239000000049 pigment Substances 0.000 description 1
- 239000002985 plastic film Substances 0.000 description 1
- 229920006255 plastic film Polymers 0.000 description 1
- 229920002006 poly(N-vinylimidazole) polymer Polymers 0.000 description 1
- 229920000767 polyaniline Polymers 0.000 description 1
- 229920006289 polycarbonate film Polymers 0.000 description 1
- 229920006267 polyester film Polymers 0.000 description 1
- 229920001721 polyimide Polymers 0.000 description 1
- 229920000098 polyolefin Polymers 0.000 description 1
- 229920001451 polypropylene glycol Polymers 0.000 description 1
- 239000004800 polyvinyl chloride Substances 0.000 description 1
- 229920000915 polyvinyl chloride Polymers 0.000 description 1
- 230000002265 prevention Effects 0.000 description 1
- 239000000047 product Substances 0.000 description 1
- FBCQUCJYYPMKRO-UHFFFAOYSA-N prop-2-enyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCC=C FBCQUCJYYPMKRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000007342 radical addition reaction Methods 0.000 description 1
- 238000011160 research Methods 0.000 description 1
- 238000007151 ring opening polymerisation reaction Methods 0.000 description 1
- 238000007788 roughening Methods 0.000 description 1
- 238000006748 scratching Methods 0.000 description 1
- 230000002393 scratching effect Effects 0.000 description 1
- 238000007789 sealing Methods 0.000 description 1
- 150000004760 silicates Chemical class 0.000 description 1
- 150000003440 styrenes Chemical class 0.000 description 1
- 125000001424 substituent group Chemical group 0.000 description 1
- 238000006467 substitution reaction Methods 0.000 description 1
- 239000004094 surface-active agent Substances 0.000 description 1
- 239000000725 suspension Substances 0.000 description 1
- KKEYFWRCBNTPAC-UHFFFAOYSA-L terephthalate(2-) Chemical compound [O-]C(=O)C1=CC=C(C([O-])=O)C=C1 KKEYFWRCBNTPAC-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 238000007725 thermal activation Methods 0.000 description 1
- 125000003396 thiol group Chemical group [H]S* 0.000 description 1
- 150000003606 tin compounds Chemical class 0.000 description 1
- 125000005259 triarylamine group Chemical group 0.000 description 1
- ILWRPSCZWQJDMK-UHFFFAOYSA-N triethylazanium;chloride Chemical compound Cl.CCN(CC)CC ILWRPSCZWQJDMK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000391 vinyl group Chemical group [H]C([*])=C([H])[H] 0.000 description 1
- 239000001018 xanthene dye Substances 0.000 description 1
Images
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/004—Photosensitive materials
- G03F7/027—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds
- G03F7/032—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds with binders
- G03F7/033—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds with binders the binders being polymers obtained by reactions only involving carbon-to-carbon unsaturated bonds, e.g. vinyl polymers
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
- B41C—PROCESSES FOR THE MANUFACTURE OR REPRODUCTION OF PRINTING SURFACES
- B41C1/00—Forme preparation
- B41C1/10—Forme preparation for lithographic printing; Master sheets for transferring a lithographic image to the forme
- B41C1/1008—Forme preparation for lithographic printing; Master sheets for transferring a lithographic image to the forme by removal or destruction of lithographic material on the lithographic support, e.g. by laser or spark ablation; by the use of materials rendered soluble or insoluble by heat exposure, e.g. by heat produced from a light to heat transforming system; by on-the-press exposure or on-the-press development, e.g. by the fountain of photolithographic materials
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
- B41M—PRINTING, DUPLICATING, MARKING, OR COPYING PROCESSES; COLOUR PRINTING
- B41M5/00—Duplicating or marking methods; Sheet materials for use therein
- B41M5/26—Thermography ; Marking by high energetic means, e.g. laser otherwise than by burning, and characterised by the material used
- B41M5/36—Thermography ; Marking by high energetic means, e.g. laser otherwise than by burning, and characterised by the material used using a polymeric layer, which may be particulate and which is deformed or structurally changed with modification of its' properties, e.g. of its' optical hydrophobic-hydrophilic, solubility or permeability properties
- B41M5/368—Thermography ; Marking by high energetic means, e.g. laser otherwise than by burning, and characterised by the material used using a polymeric layer, which may be particulate and which is deformed or structurally changed with modification of its' properties, e.g. of its' optical hydrophobic-hydrophilic, solubility or permeability properties involving the creation of a soluble/insoluble or hydrophilic/hydrophobic permeability pattern; Peel development
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03C—PHOTOSENSITIVE MATERIALS FOR PHOTOGRAPHIC PURPOSES; PHOTOGRAPHIC PROCESSES, e.g. CINE, X-RAY, COLOUR, STEREO-PHOTOGRAPHIC PROCESSES; AUXILIARY PROCESSES IN PHOTOGRAPHY
- G03C1/00—Photosensitive materials
- G03C1/494—Silver salt compositions other than silver halide emulsions; Photothermographic systems ; Thermographic systems using noble metal compounds
- G03C1/498—Photothermographic systems, e.g. dry silver
- G03C1/49836—Additives
- G03C1/49863—Inert additives, e.g. surfactants, binders
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/004—Photosensitive materials
- G03F7/016—Diazonium salts or compounds
- G03F7/021—Macromolecular diazonium compounds; Macromolecular additives, e.g. binders
- G03F7/0212—Macromolecular diazonium compounds; Macromolecular additives, e.g. binders characterised by the polymeric binder or the macromolecular additives other than the diazo resins or the polymeric diazonium compounds
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
- B41C—PROCESSES FOR THE MANUFACTURE OR REPRODUCTION OF PRINTING SURFACES
- B41C2210/00—Preparation or type or constituents of the imaging layers, in relation to lithographic printing forme preparation
- B41C2210/04—Negative working, i.e. the non-exposed (non-imaged) areas are removed
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
- B41C—PROCESSES FOR THE MANUFACTURE OR REPRODUCTION OF PRINTING SURFACES
- B41C2210/00—Preparation or type or constituents of the imaging layers, in relation to lithographic printing forme preparation
- B41C2210/08—Developable by water or the fountain solution
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
- B41C—PROCESSES FOR THE MANUFACTURE OR REPRODUCTION OF PRINTING SURFACES
- B41C2210/00—Preparation or type or constituents of the imaging layers, in relation to lithographic printing forme preparation
- B41C2210/24—Preparation or type or constituents of the imaging layers, in relation to lithographic printing forme preparation characterised by a macromolecular compound or binder obtained by reactions involving carbon-to-carbon unsaturated bonds, e.g. acrylics, vinyl polymers
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03C—PHOTOSENSITIVE MATERIALS FOR PHOTOGRAPHIC PURPOSES; PHOTOGRAPHIC PROCESSES, e.g. CINE, X-RAY, COLOUR, STEREO-PHOTOGRAPHIC PROCESSES; AUXILIARY PROCESSES IN PHOTOGRAPHY
- G03C1/00—Photosensitive materials
- G03C1/005—Silver halide emulsions; Preparation thereof; Physical treatment thereof; Incorporation of additives therein
- G03C1/04—Silver halide emulsions; Preparation thereof; Physical treatment thereof; Incorporation of additives therein with macromolecular additives; with layer-forming substances
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10S—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10S430/00—Radiation imagery chemistry: process, composition, or product thereof
- Y10S430/1053—Imaging affecting physical property or radiation sensitive material, or producing nonplanar or printing surface - process, composition, or product: radiation sensitive composition or product or process of making binder containing
- Y10S430/1055—Radiation sensitive composition or product or process of making
- Y10S430/106—Binder containing
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10S—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10S430/00—Radiation imagery chemistry: process, composition, or product thereof
- Y10S430/1053—Imaging affecting physical property or radiation sensitive material, or producing nonplanar or printing surface - process, composition, or product: radiation sensitive composition or product or process of making binder containing
- Y10S430/1055—Radiation sensitive composition or product or process of making
- Y10S430/114—Initiator containing
- Y10S430/117—Free radical
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10S—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10S430/00—Radiation imagery chemistry: process, composition, or product thereof
- Y10S430/145—Infrared
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Thermal Sciences (AREA)
- Printing Plates And Materials Therefor (AREA)
- Materials For Photolithography (AREA)
- Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)
- Macromonomer-Based Addition Polymer (AREA)
- Graft Or Block Polymers (AREA)
- Compositions Of Macromolecular Compounds (AREA)
- Paints Or Removers (AREA)
Abstract
Изобретение относится к проявляемым в печатной машине негативным печатным формам, которые можно экспонировать УФ-, видимым или ИК-излучением. Описывается образующая покрытие композиция, которая включает (i) способное к полимеризации соединение и (ii) полимерное связующее, содержащее полиэтиленоксидные сегменты, где полимерное связующее выбирают из группы, состоящей из, по меньшей мере, одного привитого сополимера, содержащего полимер главной цепи и полиэтиленоксидные боковые цепи, блок-сополимера, содержащего, по меньшей мере, один полиэтиленоксидный блок и, по меньшей мере, один не-полиэтиленоксидный блок, и их сочетания. Описывается также элемент, в котором можно формировать изображение, включающий основу и способную к полимеризации покрывающую композицию. Предложенная композиция обеспечивает дифференциацию экспонированных и неэкспонированных электромагнитным излучением участков изображения, при котором облегчается проявление в водных проявителях неэкспонированных участков, повышается устойчивость к проявлению экспонированных участков и обеспечивается способность последних к окрашиванию в отсутствие стадии нагревания перед проявлением. 5 н. и 51 з.п. ф-лы, 3 ил., 2 табл.
Description
Предпосылки создания изобретения
1. Область техники, к которой относится изобретение
Настоящее изобретение относится к проявляемым в печатной машине негативным печатным формам, которые можно экспонировать УФ, видимым и инфракрасным излучением. В частности, настоящее изобретение относится к печатным формам, содержащим полимерные связующие, в состав которых входят дискретные частицы и которые содержат полиэтиленоксидные сегменты.
2. Предпосылки создания изобретения
Чувствительные к излучению композиции обычно используют при получении высококачественных исходных материалов для печатных форм. Существует два основных способа улучшения свойств чувствительных к излучению композиций и, таким образом, также соответствующих исходных материалов для печатных форм. Первый способ направлен на улучшение свойств чувствительных к излучению компонентов композиций (часто негативных диазосмол или фотоинициаторов). Другой способ имеет дело с улучшением физических свойств чувствительных к излучению слоев за счет применения новых полимерных соединений ("связующих").
Последние разработки в области исходных материалов для печатных форм имеют дело с чувствительными к излучению композициями, в которых можно сформировать скрытое изображение при экспонировании лазерами или лазерными диодами. Такой тип экспонирования не требует пленок как промежуточных носителей информации, так как лазеры могут управляться компьютерами.
Высокоэффективные лазеры или лазерные диоды, которые обычно используются в коммерчески доступных машинах для формирования изображения, излучают свет с длиной волны в интервалах от 800 до 850 нм и от 1060 до 1120 нм, соответственно. Следовательно, исходные материалы для печатных форм или содержащиеся в них системы инициаторов, в которых должно формироваться скрытое изображение с помощью таких машин, должны быть чувствительными к излучению вблизи ИК-области. Затем с такими исходными материалами для печатных форм можно работать по существу в условиях дневного освещения, что существенно облегчает их получение и переработку.
Существует два возможных пути использования чувствительных к излучению композиций для получения печатных форм. Для негативных печатных форм используют чувствительные к излучению композиции, в которых после формирующего скрытое изображение экспонирования экспонированные участки отвердевают. На стадии проявления с основы (подложки) удаляются только неэкспонированные участки. Для позитивных печатных форм используют чувствительные к излучению композиции, в которых экспонированные участки в данном проявителе растворяются быстрее, чем неэкспонированные участки. Такой процесс называют фотосолюбилизацией.
Для негативных форм после экспонирования обычно требуется стадия предварительного нагревания, как описано, например, в ЕР 0672544, ЕР 0672954, а также в патенте США № 5491046 и ЕР 0819985. Для таких форм требуется стадия предварительного нагревания в очень узком температурном интервале, в котором может происходить только частичное сшивание слоя с изображением. Для того, чтобы удовлетворить стандартным требованиям относительно числа копий и стойкости к химикатам в пресс-камере, осуществляют дополнительную стадию нагревания, называемую задубливанием, во время которой слой дополнительно сшивается с изображением.
В патенте США № 4997745 описываются фоточувствительные композиции, содержащие краситель, поглощающий в интервале 300-900 нм, и тригалогенметил-s-триазиновое соединение.
В патенте США № 5496903 и в DE 19648313 описываются фоточувствительные композиции, которые, кроме красителя, поглощающего в ИК-области, содержат боратные соинициаторы; также описываются галогенсодержащие s-триазины как дополнительные соинициаторы.
Другие фотополимеризующиеся композиции с системами инициаторов описываются в патенте США № 5756258, патенте США № 5545676, патенте США № 5914215, JP 11-038633, JP 09-034110, патенте США № 5763134 и ЕР 0522175.
В патенте США № 6245486 описываются чувствительные к излучению печатные формы, в том числе формы, проявляемые в печатной машине. Однако в указанном патенте требуются композиции с маскирующим слоем, способным к абляции ИК-излучением, поверх доступного для УФ негативного слоя, который можно проявлять в печатной машине и который способен к свободнорадикальной полимеризации.
В патенте США № 6245481 раскрываются способные к абляции ИК-излучением и УФ-полимеризуемые двухслойные композиции, для которых требуется ИК-экспонирование после облучения потоком УФ.
В патенте США № 5599650 раскрываются предназначенные для экспонирования УФ негативные проявляемые в печатной машине печатные формы, получаемые на основе свободнорадикальной полимеризации. Согласно данному патенту, в защитном слое требуется полимер-гаситель свободных радикалов для облегчения проявления, причем конкретно такой полимер содержит нитроксидные группы.
В патенте США № 6071675 раскрываются печатные формы, подобные печатным формам патента США № 5599650, но для которых дополнительно требуется добавление диспергированных твердых частиц в слой, в котором формируется изображение, для улучшения проявления в печатной машине или для уменьшения липкости.
В патенте США № 6309792 и WO 00/48836 описываются ИК-чувствительные композиции, содержащие полимерное связующее, систему, способную к свободнорадикальной полимеризации, и специфическую иницирующую систему. Для композиций по WO 00/48836 требуется стадия предварительного нагревания после экспонирования для достаточного отверждения композиций. Исходные материалы для печатных форм должны проявляться водным проявителем.
В заявке на патент США, порядковый № 09/832989 (реестр поверенного KPG 1109), описываются ИК-чувствительные композиции, содержащие лейкокрасители, добавляемые к красителям, описанным в патенте США № 6309792 и WO 00/48836. По заявке на патент США, порядковый № 09/832989, требуется стадия предварительного нагревания после ИК-экспонирования и стадия водного проявления для обработки.
В патенте США № 5204222 описывается композиция, содержащая способные полимеризоваться ингредиенты в сочетании с полимерным связующим, содержащим полиуретановую главную цепь. Боковые цепи полимерного связующего не содержат полиэтиленоксидных цепей.
В патенте США № 5800965 описывается композиция, подходящая для флексографских печатных форм, содержащая мономеры полиэтиленгликоля в качестве способных полимеризоваться компонентов.
В патенте США № 6037102, который также относится к флексографским печатным формам, описывается фотополимеризующаяся композиция, содержащая привитой сополимер с цепями поливинилового спирта, привитыми к полиэтиленоксидной (РЕО) главной цепи полимера.
В ЕР 1117005 раскрываются фотополимеризующиеся соединения, содержащие полиэтиленоксидные цепи с 1-10 этиленоксидными звеньями. В изобретении приводится пример применения полимеров, содержащих одно этиленоксидное звено. При числе этиленоксидных звеньев более десяти падают как разрешение, так и водостойкость отвержденных продуктов. Связующие смолы с достаточно длинными РЕО-сегментами согласно настоящему изобретению не раскрываются.
В одновременно рассматриваемой заявке на патент США, порядковый № 09/826300, раскрываются привитые сополимеры, содержащие полиэтиленоксидные боковые цепи, но не говорится о композиции, содержащей способные к полимеризации компоненты или гидрофобный сегмент между полиэтиленоксидным сегментом и главной цепью и гидрофобный сегмент на концах полиэтиленоксидных боковых цепей.
В совместно рассматриваемой заявке на патент США, порядковый №10/066874 (реестр поверенного KPG 1164), раскрываются полимеры и сополимеры простых полиалкиленэфиров, в том числе блок-сополимеры полиэтиленоксида и полипропиленоксида. Однако простые полиалкиленэфиры и сополимеры, описанные в указанной одновременно рассматриваемой заявке, не обеспечивают достаточной дифференциации для проявления неэкспонированных участков и стойкости экспонированных участков со сформированным изображением.
Ни в одной из вышеуказанных заявок на патент не описываются способные к полимеризации композиции, содержащие связующие смолы с РЕО-сегментами согласно настоящему изобретению.
Поэтому настоящее изобретение удовлетворяет имеющуюся в технике потребность в печатной форме и способе получения печатной формы, когда не требуется стадия предварительного нагревания или стадия проявления. В результате широких исследований обнаружено, что способные к полимеризации композиции, содержащие определенные полимерные связующие на основе дискретных частиц, которые (связующие) содержат полиэтиленоксидные (РЕО) сегменты, легко проявляются в водных проявителях, в том числе проявляются в печатной машине увлажняющим раствором и печатной краской. Кроме того, после формирующего скрытое изображение экспонирования электромагнитным излучением в ультрафиолетовой, видимой или инфракрасной области спектра экспонированные участки устойчивы к проявлению и служат в качестве прочных принимающих краску областей изображения без необходимости в стадии нагревания перед проявлением. Таким образом, неожиданно обнаружено, что некоторые полимерные связующие, содержащие РЕО-сегменты, усиливают дифференциацию экспонированных и неэкспонированных участков, облегчая проявление неэкспонированных участков наряду с увеличением прочности экспонированных участков изображения.
Краткое изложение сущности изобретения
Таким образом, целью настоящего изобретения является способная к полимеризации композиция, содержащая способное к полимеризации соединение и от примерно 10 до примерно 90 мас.% полимерного связующего, где полимерное связующее выбирают из группы, состоящей из, по меньшей мере, одного привитого сополимера, содержащего полимер главной цепи и полиэтиленоксидные боковые цепи, блок-сополимера, содержащего, по меньшей мере, один полиэтиленоксидный блок и, по меньшей мере, один не-полиэтиленоксидный блок, и их сочетания; и где композиция, способная к полимеризации, содержит дискретные частицы привитого сополимера или блок-сополимера.
Другой целью настоящего изобретения является элемент, в котором можно формировать изображение, включающий а) основу и b) способную к полимеризации композицию, нанесенную на основу, причем способная к полимеризации композиция содержит i) способное к полимеризации соединение и ii) от примерно 10 до примерно 90 мас.% полимерного связующего; где полимерное связующее выбирают из группы, состоящей из, по меньшей мере, одного привитого сополимера, содержащего полимер главной цепи и полиэтиленоксидные боковые цепи, блок-сополимера, содержащего, по меньшей мере, один полиэтиленоксидный блок и, по меньшей мере, один не-полиэтиленоксидный блок, и их сочетания; и где способная к полимеризации композиция содержит дискретные частицы привитого сополимера или блок-сополимера. Предпочтительно, элемент, в котором можно формировать изображение, можно экспонировать одним из видов излучения из числа ультрафиолетового, видимого и инфракрасного излучения.
Еще одной целью настоящего изобретения является способ получения проявляемой в печатной машине негативной печатной формы, включающий (а) обеспечение наличия основы; (b) нанесение на основу работающего в качестве негативного слоя, содержащего чувствительную к излучению композицию, где чувствительная к излучению композиция содержит способное к полимеризации соединение и полимерное связующее, где полимерное связующее выбирают из группы, состоящей из, по меньшей мере, одного привитого сополимера, содержащего полиэтиленоксидные боковые цепи, блок-сополимера, содержащего, по меньшей мере, один полиэтиленоксидный блок, и их сочетания, и где чувствительная к излучению композиция содержит дискретные частицы привитого сополимера или блок-сополимера; (с) экспонирование для формирования скрытого изображения работающего в качестве негативного слоя ультрафиолетовым, видимым или инфракрасным излучением; и (d) проявление в печатной машине, где способ не включает отдельную стадию проявления.
Изобретение допускает получение проявляемых в печатной машине или в водных проявителях литографических печатных форм, в которых изображение можно формировать с помощью рамок для УФ-экспонирования, инфракрасных лазерных фотонаборных машин и работающих в видимой области света автоматических повторителей, переносящих изображение с компьютера на форму. Данное изобретение также относится к исходным материалам для печатных форм, чувствительным к лазерному излучению, в которых формируют цифровое изображение, которые можно проявлять в печатной машине, причем за счет этого устраняется отдельная стадия проявления.
Краткое описание чертежей
Фигура 1 показывает полученное в растровом электронном микроскопе ("SEM") изображение покрытия примера 7 в данном описании.
Фигура 2 показывает полученное в растровом электронном микроскопе ("SEM") изображение покрытия примера 9 в данном описании.
Фигура 3 показывает полученное в растровом электронном микроскопе ("SEM") изображение покрытия примера 10 в данном описании.
Подробное описание изобретения
Способное к полимеризации соединение, присутствующее в композиции изобретения, предпочтительно содержит способную к полимеризации группу, выбранную из числа способной к полимеризации присоединением этиленненасыщенной группы, способной к поперечному сшиванию этиленненасыщенной группы, группы, способной к полимеризации с раскрытием цикла, азидогруппы, группы соли арилдиазония, арилдиазосульфонатной группы и их сочетания.
Способная к полимеризации присоединением этиленненасыщенная группа может полимеризоваться методом свободнорадикальной полимеризации, катионной полимеризации или их сочетанием. Способную к свободнорадикальной полимеризации присоединением этиленненасыщенную группу выбирают, предпочтительно, из группы, состоящей из метакрилатной группы, акрилатной группы и их сочетаний. Способную к катионной полимеризации присоединением этиленненасыщенную группу выбирают, предпочтительно, из группы, состоящей из винилового эфира, винилароматического соединения, включая стирол и алкоксипроизводные стирола, и их сочетаний.
Способную к поперечному сшиванию этиленненасыщенную группу выбирают, предпочтительно, из группы, состоящей из диметилмалеимидной группы, хальконовой группы и циннаматной группы.
Группу, способную к полимеризации с раскрытием цикла, выбирают, предпочтительно, из группы, состоящей из эпоксида, оксетана и их сочетания.
Способное к полимеризации соединение изобретения присутствует в количестве, достаточном для придания композиции свойства нерастворимости в водном проявителе после экспонирования излучением. Массовое отношение полимеризующегося соединения к полимерному связующему колеблется от примерно 5:95 до 95:5, предпочтительно от примерно 10:90 до примерно 90:10, предпочтительнее от примерно 20:80 до примерно 80:20, наиболее предпочтительно от примерно 30:70 до примерно 70:30.
Способная к полимеризации композиция, предпочтительно, содержит способную к свободнорадикальной полимеризации присоединением композицию, в том числе способные к полимеризации этиленненасыщенные соединения и фотоинициирующую систему для генерации свободных радикалов. Способная к полимеризации композиция также может содержать полимеризующееся соединение, содержащее, по меньшей мере, две тиольные группы. Можно использовать фотоинициирующие системы, активные в отношении электромагнитного излучения в ультрафиолетовой, видимой и/или инфракрасной областях спектра, соответствующие области спектра примерно 300-1400 нм. Такие фотоинициирующие системы включают трихлорметилтриазины, сами по себе, или в сочетании с фотосенсибилизатором, например, как описано в патенте США № 4997745; соли диарилиодония и фотосенсибилизатор, как описано в патенте США № 5546258; спектральные сенсибилизаторы для активации в видимой области вместе с трихлорметилтриазинами, как описано, например, в патенте США № 5599650; 3-кетокумарины для активации в ультрафиолетовой и видимой области вместе с соинициатором - поликарбоновой кислотой, такой как анилино-N,N-ацетоуксусная кислота, и вторым соинициатором, таким как соли диарилиодония, титаноцены, галогеналкилтриазины, гексаарилбисимидазолы, соли - бораты и фотооксиданты, содержащие атом азота в гетероцикле, замещенный алкокси- или ацилоксигруппой, как описано в патенте США № 5942372; цианиновый краситель, соль диарилиодония и соинициатор, содержащий карбокислотную группу, присоединенную через метиленовую группу к группе N, O или S, которая непосредственно присоединена к ароматическому циклу, как описано в патенте США № 5368990; цианиновый краситель для активации в области инфракрасного излучения вместе с трихлорметилтриазином и борорганической солью, как описано в патенте США № 5496903; поглотитель инфракрасного излучения - соединение, способное образовывать инициирующий свободный радикал, в том числе трихлорметилтриазины и соединения азиния, и соинициатор - поликарбоновую кислоту, содержащую карбокислотную группу, присоединенную через метиленовую группу к группе N, O или S, которая непосредственно присоединена к ароматическому циклу, как описано в патенте США № 6309792.
Предпочтительные фотоинициирующие системы включают поглотитель ультрафиолетового, видимого или инфракрасного излучения, акцептор электронов, способный создавать инициирующие свободные радикалы, и соинициатор, способный отдавать электрон и/или атом водорода и/или образовывать инициирующий свободный радикал. Количество поглотителя излучения является количеством, необходимым для придания композиции нерастворимости в водном проявителе после экспонирования излучением. Предпочтительно, концентрация поглотителя излучения находится в интервале, обеспечивающем молярный коэффициент поглощения в интервале от примерно 0,05 до 3 моль·л-1·см-1, предпочтительно от примерно 0,1 до 1,5 моль·л-1·см-1, предпочтительнее от примерно 0,3 до 1,0 моль·л-1·см-1.
Предпочтительными ИК-поглотителями для фото/термической активации являются скварилиевые красители, кроконатные красители, триариламиновые красители, тиазолиевые красители, индолиевые красители, оксакзолиевые красители, цианиновые и мероцианиновые красители, полианилиновые красители, полипирроловые красители, политиофеновые красители, халькогенопирилоарилиденовые и бис(халькогенопирило)полиметиновые красители, оксииндолизиновые красители, пирилиевые красители и фталоцианиновые пигменты. Другие пригодные классы включают азуленовые и ксантеновые красители, а также сажи, карбиды металлов, бориды, нитриды, карбонитриды и оксиды со структурами бронз. Особенно предпочтительны цианиновые красители.
В другом воплощении способная к полимеризации композиция, предпочтительно, содержит конденсат соли арилдиазония или смесь солей арилдиазония с соединением, способным к конденсации. Соединение, способное к конденсации, предпочтительно, выбирают из группы, состоящей из альдегидов, бисметоксиметилдифенилового эфира и их смесей. Композиция, способная к полимеризации, содержащая конденсат соли арилдиазония, предпочтительно, содержит также сореакционноспособное связующее.
Содержащие конденсированный арилдиазоний способные к полимеризации композиции также могут содержать композицию, способную к свободнорадикальной полимеризации присоединением, в том числе способные к полимеризации этиленненасыщенные соединения, и фотоинициирующую систему для генерации инициирующих свободных радикалов, как описано выше. Такие композиции известны как диазофотополимерные гибридные композиции.
Способная к полимеризации композиция изобретения содержит способное к полимеризации соединение и полимерное связующее, содержащее полиэтиленоксидные сегменты, где полимерное связующее выбирают из числа привитых сополимеров с полимером главной цепи и полиэтиленоксидными (РЕО) боковыми цепями и блоксополимеров, содержащих блоки РЕО наряду с блоками, иными чем РЕО, «не-РЕО блоки».
Предпочтительно, привитые и блоксополимеры являются амфифильными, что означает, что они содержат как гидрофильные, так и гидрофобные сегменты. Такие амфифильные сополимеры также имеют тенденцию к тому, чтобы быть поверхностно-активными. Сегменты РЕО являются гидрофильными. Не вдаваясь в какую-либо теорию, полагают, что сочетание гидрофильных и гидрофобных сегментов является важным для усиления различия между экспонированными и неэкспонированными участками.
Температура стеклования Tg полимерного связующего, используемого в данном изобретении, предпочтительно, колеблется от примерно 35 до примерно 220°С, предпочтительнее от примерно 45 до примерно 140°С, наиболее предпочтительно от примерно 50 до примерно 130°С. Полимерное связующее с величинами Tg в интервале, указанном выше, является твердым веществом и, предпочтительно, не является эластомером. Полимерные связующие могут являться сшитыми, но, предпочтительно, являются несшитыми. Температура стеклования Tg полимера главной цепи привитого сополимера и не-РЕО блока блоксополимера, предпочтительно, колеблется от примерно 40 до примерно 220°С, предпочтительнее от примерно 50 до примерно 140°С, наиболее предпочтительно от примерно 60 до примерно 130°С.
Предпочтительно, привитые и блоксополимеры имеют среднечисловую молекулярную массу от примерно 2000 до примерно 2000000. Предпочтительно, среднечисловая молекулярная масса (Mn) РЕО-сегментов колеблется от примерно 500 до примерно 10000, предпочтительнее от примерно 600 до примерно 8000, наиболее предпочтительно от примерно 750 до примерно 4000. Когда величины Mn составляют менее 500, гидрофильного сегмента недостает для адекватного промотирования способности к проявлению. Однако впитываемость печатной краски в областях изображения имеет склонность к снижению с увеличением величин Mn полиэтиленоксидных сегментов, достигающих 10000.
Количество РЕО-сегментов в привитых сополимерах колеблется от примерно 0,5 до примерно 60 мас.%, предпочтительно от примерно 2 до примерно 50 мас.%, предпочтительнее от примерно 5 до примерно 40 мас.%, наиболее предпочтительно от примерно 5 до примерно 20 мас.%. Количество РЕО-сегментов в блоксополимерах колеблется от примерно 5 до примерно 60 мас.%, предпочтительно от примерно 10 до примерно 50 мас.%, предпочтительнее от примерно 10 до примерно 30 мас.%. При низком содержании РЕО-сегментов в привитых и блоксополимерах способность к проявлению имеет тенденцию к снижению, в то время как при высоком содержании имеет тенденцию к снижению впитываемости печатной краски в областях изображения.
Полимерное связующее присутствует в количестве, достаточном для придания композиции, способной к фотополимеризации, растворимости или диспергируемости в водном проявителе. Количество полимерного связующего колеблется от примерно 10 мас.% до примерно 90 мас.%, предпочтительно от примерно 30 мас.% до примерно 70 мас.%. Способность к проявлению в водных проявителях имеет склонность повышаться с возрастанием содержания РЕО-сегментов в полимерном связующем. Однако при очень высоком содержании РЕО имеет склонность к снижению впитываемости печатной краски.
Предпочтительно, привитой сополимер имеет главную цепь гидрофобного полимера и множество боковых групп, представленных формулой
-Q-W-Y,
где Q представляет собой бифункциональную соединительную группу; W выбирают из группы, состоящей из гидрофильного сегмента и гидрофобного сегмента; Y выбирают из группы, состоящей из гидрофильного сегмента и гидрофобного сегмента; при условии, что когда W представляет собой гидрофильный сегмент, Y выбирают из группы, состоящей из гидрофильного сегмента и гидрофобного сегмента; а также при условии, что когда W является гидрофобным, Y представляет собой гидрофильный сегмент.
Термин "привитой" полимер или сополимер в контексте настоящего изобретения относится к полимеру, который в качестве боковой цепи содержит группу с молекулярной массой, по меньшей мере, 200. Такой привитой сополимер можно получить, например, анионным, катионным, неионным или свободнорадикальным методами прививки, или его можно получить полимеризацией или сополимеризацией мономеров, содержащих такие группы. Термин "полимер" в контексте настоящего изобретения относится к высоко- и низкомолекулярным полимерам, в том числе олигомерам, и включает гомополимеры и сополимеры. Термин "сополимер" относится к полимерам, полученным из двух или большего числа разных мономеров. Термин "главная цепь" в контексте настоящего изобретения относится к цепи атомов в полимере, к которой присоединено множество боковых групп. Примером такой главной цепи является "полностью углеродная" главная цепь, полученная полимеризацией олефинненасыщенного мономера.
Привитой сополимер, предпочтительно, содержит повторяющиеся звенья, где каждое звено представлено формулой
где каждый R1 и R2 выбирают, независимо, из группы, состоящей из Н, алкила, арила, аралкила, алкарила, COOR5, R6CO, галогена и циано;
Q выбирают из группы, состоящей из
где R3 выбирают из группы, состоящей из Н и алкила; R4 выбирают из группы, состоящей из Н, алкила, галогена, циано, нитро, алкокси, алкоксикарбонила, ацила и их сочетаний;
W выбирают из группы, состоящей из гидрофильного сегмента и гидрофобного сегмента;
Y выбирают из группы, состоящей из гидрофильного сегмента и гидрофобного сегмента;
Z выбирают из группы, состоящей из Н, алкила, галогена, циано, ацилокси, алкокси, алкоксикарбонила, гидроксиалкилоксикарбонила, ацила, аминокарбонила, арила и замещенного арила;
при условии, что когда W представляет собой гидрофильный сегмент, Y выбирают из группы, состоящей из гидрофильного сегмента и гидрофобного сегмента, а также при условии, что когда W является гидрофобным, Y представляет собой гидрофильный сегмент.
В одном воплощении привитой сополимер настоящего изобретения содержит сегменты главной цепи, являющиеся преимущественно гидрофобными, и боковые сегменты, являющиеся преимущественно гидрофильными.
В другом воплощении привитой сополимер содержит сегменты главной цепи, являющиеся преимущественно гидрофобными, и боковые сегменты, включающие как гидрофобные, так и гидрофильные сегменты.
Гидрофильный сегмент в W в привитом сополимере настоящего изобретения представляет собой, предпочтительно, сегмент, представленный формулой
или
где каждый из R7, R8, R9 и R10 представляет собой водород; R3 может представлять собой Н или алкил; и n равен числу от примерно 12 до примерно 250. Гидрофобный сегмент в W может представлять собой -R12-, -O-R12―O-, -R3N-R12-NR3-, ―OOC-R12―O- или -OOC-R12―O-, где каждый R12 может представлять собой, независимо, линейный, разветвленный или циклический алкилен с 6-120 атомами углерода, галогеналкилен с 6-120 атомами углерода, арилен с 6-120 атомами углерода, алкарилен с 6-120 атомами углерода или аралкилен с 6-120 атомами углерода; и R3 может представлять собой Н или алкил.
Гидрофильный сегмент в Y может представлять собой Н, R15, OH, OR16, COOH, COOR16, O2CR16, или сегмент, представленный формулой
или
где каждый из R7, R8, R9 и R10 представляет собой водород; R3 может представлять собой Н или алкил; где каждый из R13, R14, R15 и R16 может представлять собой, независимо, Н или алкил с 1-5 атомами углерода и n равен числу от примерно 12 до примерно 250. Гидрофобный сегмент в Y может представлять собой линейный, разветвленный или циклический алкил с 6-120 атомами углерода, галогеналкил с 6-120 атомами углерода, арил с 6-120 атомами углерода, алкарил с 6-120 атомами углерода, аралкил с 6-120 атомами углерода, OR17, COOR17 или O2CR17, где R17 представляет собой алкил с 6-20 атомами углерода.
В предпочтительном воплощении привитой сополимер содержит повторяющиеся звенья, представленные формулой
где каждый R1 и R2 может представлять собой, независимо, Н, алкил, арил, аралкил, алкарил, COOR5, R6CO, галоген или циано;
где Q может представлять собой одну из групп
и где R3 может представлять собой Н или алкил; R4 может представлять собой, независимо, Н, алкил, галоген, циано, нитро, алкокси, алкоксикарбонил, ацил или их сочетания;
W выбирают из группы, состоящей из гидрофильного сегмента и гидрофобного сегмента;
Y выбирают из группы, состоящей из гидрофильного сегмента и гидрофобного сегмента;
Z выбирают из группы, состоящей из Н, алкила, галогена, циано, ацилокси, алкокси, алкоксикарбонила, гидроксиалкилоксикарбонила, ацила, аминокарбонила, арила и замещенного арила, где заместитель в вышеуказанном замещенном ариле может представлять собой алкил, галоген, циано, алкокси или алкоксикарбонил, и алкильная группа представляет собой, предпочтительно, алкил с 1-22 атомами углерода;
при условии, что когда W представляет собой гидрофильный сегмент, Y выбирают из группы, состоящей из гидрофильного сегмента и гидрофобного сегмента, а также при условии, что когда W является гидрофобным, Y представляет собой гидрофильный сегмент.
Сегмент W может представлять собой гидрофильный сегмент или гидрофобный сегмент, где гидрофильный сегмент может представлять собой сегмент, представленный формулой
или
где каждый из R7, R8, R9 и R10 представляет собой водород; R3 может представлять собой Н или алкил и n равен числу от примерно 12 до примерно 250. Гидрофобный сегмент может представлять собой -R12-, -O-R12-O-, -R3N-R12-NR3-, -OOC-R12-O- или -OOC-R12-O-, где каждый R12 может представлять собой, независимо, линейный, разветвленный или циклический алкилен с 6-120 атомами углерода, галогеналкилен с 6-120 атомами углерода, арилен с 6-120 атомами углерода, алкарилен с 6-120 атомами углерода или аралкилен с 6-120 атомами углерода; и R3 может представлять собой Н или алкил.
Y может представлять собой гидрофильный сегмент или гидрофобный сегмент, где гидрофильный сегмент может представлять собой Н, R15, OH, OR16, COOH, COOR16, O2CR16 или сегмент, представленный формулой
или
где каждый из R7, R8, R9 и R10 представляет собой водород; R3 может представлять собой Н или алкил; где каждый из R13, R14, R15 и R16 может представлять собой Н или алкил с 1-5 атомами углерода и n равен числу от примерно 12 до примерно 250. Гидрофобный сегмент в Y может представлять собой линейный, разветвленный или циклический алкил с 6-120 атомами углерода, галогеналкил с 6-120 атомами углерода, арил с 6-120 атомами углерода, алкарил с 6-120 атомами углерода, аралкил с 6―120 атомами углерода, OR17, COOR17 или O2CR17, где R17 может представлять собой алкил с 6-20 атомами углерода.
В другом предпочтительном воплощении сегмент W-Y может быть представлен формулой
где n равен числу от примерно 12 до примерно 75. В таком предпочтительном воплощении привитой сополимер содержит, например, повторяющиеся звенья, представленные формулой
где n равен числу от примерно 12 до примерно 75. Предпочтительнее, n имеет среднее значение примерно 45.
В другом предпочтительном воплощении привитой сополимер содержит, например, повторяющиеся звенья, представленные формулой
где n равен числу от примерно 12 до примерно 75, и предпочтительнее, n имеет среднее значение примерно 45.
В одном предпочтительном воплощении полимер главной цепи привитого сополимера изобретения содержит звенья мономеров, выбранных из группы, состоящей из акрилатов, метакрилатов, стирола, акриловой кислоты, метакриловой кислоты и их сочетаний. Предпочтительнее, мономерные звенья представляют собой метилметакрилат, аллилметакрилат или их сочетания.
Привитой сополимер, содержащий гидрофобные и/или гидрофильные сегменты, можно получить способом, включающим стадии:
(А) приведения в контакт следующих компонентов с образованием способного к полимеризации привитого сополимера:
(i) соединения, представленного формулой
где W выбирают из группы, состоящей из гидрофильного сегмента и гидрофобного сегмента, и Y выбирают из группы, состоящей из гидрофильного сегмента и гидрофобного сегмента, при условии, что когда W представляет собой гидрофильный сегмент, Y выбирают из группы, состоящей из гидрофильного сегмента и гидрофобного сегмента, а также при условии, что когда W является гидрофобным, Y представляет собой гидрофильный сегмент, и
(ii) полимеризующегося мономера, выбранного из группы, состоящей из соединений, представленных формулами
и
где каждый R1 выбирают, независимо, из группы, состоящей из Н, алкила, арила, аралкила, алкарила, COOR5, R6CO, галогена и циано; R4 выбирают из группы, состоящей из Н, алкила, галогена, циано, нитро, алкокси, алкоксикарбонила, ацила и их сочетаний; и Х представляет собой глицидилокси или удаляемую группу, выбранную из группы, состоящей из галогена, алкокси или арилокси, с получением способного к полимеризации привитого мономера; и
(В) сополимеризации способного к полимеризации привитого мономера и одного или нескольких сомономеров, при температуре и в течение времени, достаточных для получения привитого сополимера. При необходимости, стадию контактирования проводят в присутствии катализатора.
Предпочтительно, сомономер представляет собой один или несколько мономеров из числа стирола, замещенного стирола, альфа-метилстирола, акрилата, метакрилата, акрилонитрила, акриламида, метакриламида, винилгалогенида, сложного винилового эфира, простого винилового эфира и альфа-олефина.
Предпочтительный мономер, способный к полимеризации, может представлять собой любой мономер, способный взаимодействовать с H-W-Y, и включает способные к полимеризации мономеры, такие как м-изопропенил-α,α-диметилбензилизоцианат, акрилоилхлорид и метакрилоилхлорид. Взаимодействие, как правило, осуществляют в присутствии катализатора, который представляет собой, предпочтительно, основание, соединение олова или их смесь. При взаимодействии, при котором допускается применение кислотного катализатора, можно использовать такой кислотный катализатор, как кислота Льюиса или протонная кислота.
Предпочтительно, соединения, представленные формулой H-W-Y, могут представлять собой одно или несколько соединений, представленных формулой
и
где каждый из R7, R8, R9 и R10 представляет собой водород; R3 может представлять собой Н или алкил; Y может представлять собой алкил, ацилокси, алкокси или карбоксилат и n равен числу от примерно 12 до примерно 250.
Привитой сополимер обычно получают свободнорадикальной сополимеризацией привитого мономера и сомономера, предпочтительно, при массовом отношении сомономера к привитому мономеру от примерно 99:1 до примерно 45:55.
Альтернативно, привитой сополимер можно получить, вначале проводя сополимеризацию способного к полимеризации мономера по настоящему изобретению с одним или несколькими сомономерами при температуре и в течение времени, достаточных для получения сополимера, способного к прививанию, и затем прививая группу -W-Y на сополимер, способный к прививанию. Такой прививки можно достичь, приводя в контакт в присутствии катализатора вышеуказанный сополимер, способный к прививанию, и соединение, представленное формулой
где W может представлять собой гидрофильный сегмент или гидрофобный сегмент, и Y может представлять собой гидрофильный сегмент и гидрофобный сегмент, при условии, что когда W представляет собой гидрофильный сегмент, Y представляет собой гидрофильный сегмент или гидрофобный сегмент, а также при условии, что когда W является гидрофобным, Y представляет собой гидрофильный сегмент.
Привитые сополимеры настоящего изобретения можно получить взаимодействием гидроксифункциональных или аминфункциональных простых моноалкиловых эфиров полиэтиленгликоля с полимерами, имеющими сореакционноспособные группы, в том числе хлорангидридные, изоцианатные и ангидридные группы. Боковые цепи могут дополнительно содержать гидрофобный сегмент между РЕО-сегментом и главной цепью и гидрофобный сегмент на конце боковых цепей РЕО. Другие способы получения привитых сополимеров настоящего изобретения включают способы, описанные в заявке на патент США, порядковый №09/826300, по которой в настоящее время выдан Патент США №6582882.
Полимер главной цепи привитых сополимеров может представлять собой полимер, полученный ступенчатой полимеризацией (аддитивный), или конденсационный полимер. Аддитивные полимеры получают, предпочтительно, из акрилатов и метакрилатов, акриловой и метакриловой кислоты, акриламидов и метакриламидов, акрилонитрила и метакрилонитрила, стирола, винилфенола и их сочетаний. Предпочтительнее, аддитивные полимеры получают из стирола, метилметакрилата, аллилакрилата и метакрилата, акриловой и метакриловой кислоты и их сочетаний. Предпочтительно, конденсационные полимеры представляют собой полиуретаны, эпоксидные смолы, сложные полиэфиры, полиамиды и фенольные полимеры, в том числе фенолоформальдегидные и пирогаллолацетоновые полимеры.
Полимерное связующее также может содержать смесь привитых сополимеров, причем каждый содержит полимер главной цепи и полиэтиленоксидные боковые цепи. Полимер главной цепи каждого привитого сополимера выбирают, независимо, из числа аддитивного полимера и конденсационного полимера. Предпочтительными аддитивными полимерами являются гомополимеры и сополимеры мономеров, выбранных, независимо, из группы, состоящей из акрилатов и метакрилатов, в том числе аллилакрилата и метакрилата, акриловой и метакриловой кислоты, акриламидов и метакриламидов, акрилонитрила и метакрилонитрила, стирола, винилфенола и их сочетаний. Предпочтительные конденсационные полимеры выбирают, независимо, из числа полиуретанов, эпоксидных смол, сложных полиэфиров, полиамидов и фенольных полимеров, в том числе фенолоформальдегидных и пирогаллолацетоновых полимеров.
Блок-сополимеры настоящего изобретения можно получить обычными процедурами, в том числе анионной, катионной и свободнорадикальной полимеризацией. В частности, удобными способами могут быть радикальная полимеризация с переносом атома (ATRP) и полимеризация с переносом цепи с обратимым присоединением-фрагментацией (RAFT). РЕО-блок-сополимеры обычно получают методами ATRP, описанными в M. Ranger et al., "From well-defined diblock copolymers prepared by a versatile atom transfer radical polymerisation method to supramolecular assemblies", Journal of Polymer Science, часть A: Polymer Chemistry, том 39 (2001), сс. 3861-74.
По меньшей мере, один не-полиэтиленоксидный блок блок-сополимеров может представлять собой аддитивный полимер или конденсационный полимер. Аддитивные полимеры представляют собой, предпочтительно, гомополимеры или сополимеры мономеров, выбранных из числа акрилатов и метакрилатов, в том числе, аллилакрилата и метакрилата, акриловой и метакриловой кислоты, акриламидов и метакриламидов, акрилонитрила и метакрилонитрила, стирола и винилфенола. Предпочтительными конденсационными полимерами являются полиуретаны, эпоксидные смолы, сложные полиэфиры, полиамиды и полимочевины.
В одном предпочтительном воплощении изобретения, по меньшей мере, один не-полиэтиленоксидный блок блок-сополимеров не содержит полиалкиленоксидных сегментов. В другом предпочтительном воплощении, по меньшей мере, один не-полиэтиленоксидный блок содержит гомополимеры или сополимеры мономеров, выбранных из группы, состоящей из метилметакрилата, аллилакрилата и метакрилата, акриловой и метакриловой кислоты, стирола, винилфенола и их сочетаний.
Полимерное связующее может содержать смесь блок-сополимеров, причем каждый содержит, по меньшей мере, один РЕО-блок и, по меньшей мере, один не-РЕО-блок, описанные выше. Кроме того, полимерное связующее может содержать смесь привитого сополимера и блок-сополимеров, как описано выше.
Композиция, способная к полимеризации, содержит дискретные частицы привитого сополимера или блок-сополимера. Частицы могут включать смесь сополимеров, содержащих различные возможные комбинации мономерных звеньев. Дискретные частицы представляют собой частицы полимерного связующего, суспендированные в композиции, способной к полимеризации. В особенно предпочтительном воплощении полимерное связующее содержит, по меньшей мере, один привитой сополимер. Диаметр частиц в суспензии может колебаться от примерно 60 нм до примерно 300 нм. Присутствие таких дискретных частиц отражается в улучшении способности к проявлению неэкспонированных участков.
Основа элемента, в котором можно получить изображение, обычно представляет собой лист алюминия. Однако также можно использовать другие материалы, которые обычно известны специалистам в данной области техники. Подходящие основы включают любой листовой материал, обычно используемый для получения литографических печатных форм, в том числе металлы, например алюминиевые листы; бумагу; бумагу с покрытием с одной или обеих сторон из α-олефинового полимера, такого как полиэтилен; пленки, такие как пленка ацетата целлюлозы, поливинилацетальная пленка, полистирольная пленка, полипропиленовая пленка, пленка сложного полиэфира, такая как терефталатная пленка, полиамидная пленка, полиимидная пленка, нитроцеллюлозная пленка, поликарбонатная пленка, поливинилхлоридная пленка; композиционные пленки, такие как полиэфирная, полипропиленовая или полистирольная пленка с покрытием из полиэтиленовой пленки; металлизированные бумагу или пленки; ламинаты металл/бумага и подобные материалы.
Поверхность пластиковых пленок можно обрабатывать с использованием известных в технике методов обработки поверхности для улучшения адгезии между подложкой и органическими покрытиями.
Предпочтительной основой является алюминиевый лист. Поверхность алюминиевого листа можно обрабатывать методами финишной обработки металлов, известными в технике, в том числе, придавая шероховатость физическими, электрохимическими и химическими способами, анодированием и заделывания пор силикатами, и подобными методами. Если поверхность шероховатая, средняя шероховатость (Ra) находится, предпочтительно, в интервале от 0,1 до 0,8 мкм, а предпочтительнее в интервале от примерно 0,1 до примерно 0,4 мкм. Предпочтительная толщина алюминиевого листа находится в интервале от примерно 0,005 до примерно 0,020 дюйма. Предпочтительной основой является электрохимически зерненый и анодированный алюминий, такой, какой обычно используют для литографических печатных форм.
Размер пор после анодирования с серной кислотой обычно составляет менее 20 нм, тогда как при анодировании с фосфорной кислотой обычно превышает 30 нм. Использование анодированных основ с большим размером пор, как у анодированных с фосфорной кислотой, предпочтительнее, чем основ, анодированных с серной кислотой. Также можно использовать другие обычные способы анодирования основы по настоящему изобретению, включая, в частности, способы, при которых размер пор больше, чем размер пор, полученных при анодировании с серной кислотой.
Полимерное связующее можно наносить на основу в виде раствора или дисперсии в жидкой композиции для нанесения слоя, формирующего изображение, обычным способом нанесения покрытия. Иллюстрацией такого способа является растворение привитого сополимера в органическом несмешивающемся с водой растворителе, диспергирование полученного раствора в водной среде, нанесение полученной дисперсии на основу и последующее удаление растворителя выпариванием. После соответствующей сушки масса слоя покрытия находится, предпочтительно, в интервале от примерно 0,2 до примерно 5,0 г/м2, предпочтительнее в интервале от примерно 0,7 до примерно 2,5 г/м2.
Предпочтительно, экспонирование осуществляют с использованием инфракрасного лазера и поглотителя излучения для поглощения ИК-излучения. Однако также можно использовать экспонирование лазером, работающим в УФ и видимой области, вместе с соответствующим поглотителем излучения. Соответственно, композиция настоящего изобретения, в которой можно формировать изображение, также может содержать поглотитель излучения, который может служить сенсибилизатором для промотирования полимеризации или в качестве материала, способного превращать электромагнитное излучение в тепло.
Элемент, в котором можно формировать изображение, также может содержать защитный слой. Одной из возможных функций защитного слоя является функция барьерного слоя за счет включения соединения, непроницаемого для кислорода. Термин "непроницаемое для кислорода соединение" предназначен для обозначения соединения, которое препятствует диффузии кислорода из атмосферы в слой на протяжении периода времени жизни радикалов, генерированных воздействием ИК. Защитный слой должен быть растворимым, диспергируемым или, по меньшей мере, проницаемым для проявителя. Другими возможными функциями защитного слоя являются:
(1) предотвращение повреждения, например царапания, поверхности слоя во время работы с ним перед экспонированием для получения скрытого изображения;
(2) предотвращение повреждения поверхности экспонированных участков скрытого изображения, например, за счет переэкспонирования, которое может привести к частичной абляции; и
(3) облегчение проявления неэкспонированных участков.
Предпочтительно, стадию экспонирования для получения скрытого изображения по изобретению осуществляют с помощью излучения в интервале от примерно 300 до примерно 1400 нм, предпочтительно от примерно 350 до примерно 900 нм.
Предпочтительно, проявление водным проявителем не составляет отдельную стадию проявления. Печатную форму можно непосредственно установить на печатную машину, где неэкспонированные участки удаляют увлажняющим раствором и/или печатной краской, за счет чего устраняется отдельная стадия проявления. Следует отметить, что формы, сконструированные для проявления в печатной машине, также можно проявлять обычным способом с использованием подходящего водного проявителя. Формы, раскрываемые в данном изобретении, включают формы, проявляемые в печатной машине, а также формы, предполагающие другие способы проявления.
Композиция водного проявителя зависит от характера композиции привитого сополимера. Обычными компонентами водных проявителей являются поверхностно-активные вещества, хелатообразующие вещества, такие как соли этилендиаминтетрауксусной кислоты, органические растворители, такие как бензиловый спирт, и щелочные компоненты, такие как неорганические метасиликаты, органические метасиликаты, гидроксиды и бикарбонаты. Величина рН водного проявителя находится, предпочтительно, в пределах от примерно 5 до примерно 14, в зависимости от характера композиции привитого сополимера.
После проявления для увеличения срока службы в печатной машине можно использовать задубливание.
Кроме слоя, в котором можно получить изображение термическим способом, элемент, в котором можно получить изображение термическим способом, может иметь дополнительные слои, такие как подслой. Возможными функциями подслоя являются:
(1) усиление способности к проявлению неэкспонированных участков скрытого изображения; и
(2) действие в качестве теплоизоляционного слоя для экспонированных участков скрытого изображения.
Такой теплоизоляционный полимерный слой предотвращает быстрое, в ином случае, рассеяние тепла, например, через теплопроводящую алюминиевую основу. Это создает возможность для более эффективного термического формирования изображения в слое, в котором можно получить изображение термическим способом, в частности, в нижних участках. В соответствии с такими функциями подслой должен быть растворимым или, по меньшей мере, диспергируемым в проявителе и, предпочтительно, иметь относительно низкий коэффициент теплопроводности.
Далее изобретение описывается с помощью приведенных примеров, предназначенных для иллюстрации, но не для ограничения изобретения.
Пример 1. Синтез макромера 1
В атмосфере N2 в 500-мл колбу загружают толуол (266 г) и затем добавляют поли(монометиловый эфир этиленгликоля) (80 г) (Mn 2000) и метакрилоилхлорид (4,2 г). Затем в течение 20 минут добавляют триэтиламин (4,52 г), поддерживая температуру реакции 30°С. Еще через 2 часа температуру реакционной смеси поднимают до 50°С, и смесь выдерживают при указанной температуре еще 2 часа. Затем реакционную смесь охлаждают до комнатной температуры и фильтруют для удаления соли гидрохлорида триэтиламина, которая образуется в теоретическом количестве. К фильтрату добавляют петролейный эфир для выпадения в осадок макромера 1, который собирают фильтрацией и сушат в вакууме при комнатной температуре. Реакция показана на схеме, приведенной выше. Предпочтительно, среднее значение n равно примерно 45.
Пример 2. Синтез привитого сополимера 1
Макромер 1 (7,5 г), воду (48 г) и 1-пропанол (192 г) загружают в 500-мл колбу, которую нагревают до 80°С. В отдельном стакане смешивают стирол (66,9 г) и азобисизобутиронитрил (0,48 г) (Vazo-64 от DuPont de Nemours Co) и часть полученного раствора (12 г) добавляют к раствору макромера, который в течение примерно 10 минут становится мутным. Затем в течение 30 мин добавляют оставшийся раствор. Еще через 3 часа конверсия в привитой сополимер 1 составляет примерно 97% на основании определения процентного содержания нелетучих компонентов. Массовое отношение стирол: макромер 1 в привитом сополимере 1 равно примерно 90:10.
Пример 3. Получение печатной формы, проявляемой в печатной машине
На очищенную на щеточной машине шероховатую и анодированную с фосфорной кислотой алюминиевую основу с подслоем полиакриловой кислоты наносят раствор, описанный в таблице 1, и получают покрытие с сухой массой 2 г/м2.
| Таблица 1 Композиция примера 3 (состав в массовых частях) |
|
| Компонент | Части, мас.% |
| Продукт реакции DESMODUR® N100 с гидроксиэтилакрилатом и триакрилатом пентаэритрита | 3,74 |
| Привитой сополимер 1 | 3,53 |
| Сартомер 3551 | 0,78 |
| 2-(4-метоксифенил)-4,6-бис(трихлорметил)-2-триазин | 0,42 |
| Анилино-N,N-ацетоуксусная кислота | 0,23 |
| Краситель IR2 | 0,09 |
| Byk 3073 | 0,02 |
| н-Пропанол | 72,95 |
| Вода | 18,24 |
| 1 Сартомер 355 представляет собой многофункциональный акриловый мономер, доступный от Sartomer Co., Inc. 2 Краситель IR представляет собой хлорид 2-[2-[2-фенилтио-3-[(1,3-дигидро-1,3,3-триметил-2Н-индол-2-илиден)этилиден]-1-циклогексен-1-ил]этенил]-1,3,3-триметил-3Н-индолия. 3 Byk 307 представляет собой модифицированный полисилоксан, доступный от Byk Chemie. |
|
Затем на полученное покрытие наносят раствор поливинилового спирта (5,26 частей) и поливинилимидазола (0,93 части) в изопропаноле (3,94 части) и воде (89,87 частей), и получают покрытие с сухой массой 2 г/м2. Полученную форму экспонируют на Creo Trendsetter 3244х при 250 мДж/см2 и затем устанавливают непосредственно на печатную машину AB Dick. Форма дает более 500 копий оттисков хорошего качества. Вторую форму экспонируют на вакуумной рамке Olec (лампа накаливания 5 кВт) до 12 кВт/час при средней интенсивности. Форму устанавливают на печатную машину AB Dick и получают более 500 копий оттисков хорошего качества.
Пример 4. Получение УФ-чувствительной печатной формы, проявляемой в печатной машине
Повторяют пример 3, за исключением того, что удаляют краситель IR и не наносят защитное покрытие. Полученную форму экспонируют на вакуумной рамке Olec (лампа накаливания 5 кВт) до 6 кВт/час при средней интенсивности. Форму устанавливают на печатную машину AB Dick, и получают более 300 копий оттисков хорошего качества.
Пример 5. Получение чувствительной к видимому свету печатной формы, проявляемой в печатной машине
На очищенную на щеточной машине шероховатую и анодированную с фосфорной кислотой алюминиевую основу с подслоем полиакриловой кислоты наносят раствор, описанный в таблице 2, и получают покрытие с сухой массой 1,3 г/м2.
| Таблица 2 Композиция примера 5 (состав в массовых частях) |
|
| Компонент | Части, мас.% |
| Продукт реакции DESMODUR® N100 с гидроксиэтилакрилатом и триакрилатом пентаэритрита | 2,44 |
| Привитой сополимер 1 | 2,22 |
| Сартомер 3551 | 0,51 |
| Хлорид дифенилиодония2 | 0,29 |
| Анилино-N,N-ацетоуксусная кислота | 0,23 |
| Кетокумарин 934 | 0,06 |
| Byk 3073 | 0,02 |
| н-Пропанол | 75,38 |
| Вода | 18,85 |
| 1 Сартомер 355 представляет собой многофункциональный акриловый мономер, доступный от Sartomer Co., Inc. 2 Хлорид дифенилиодония от Aldrich. 3 Byk 307 представляет собой модифицированный полисилоксан, доступный от Byk Chemie. 4 Кетокумарин 93 имеет структуру |
|
Затем на полученное покрытие наносят раствор, описанный в примере 3, и получают покрытие с сухой массой 2 г/м2. Полученную форму экспонируют на Oriel 1000 W Solar Simulator, модель № 81291 (Oriel Instruments, Stratford, CT), снабженном рабочим фильтром 530, в течение 5 сек при 4 мВт/см2.
Форму обрабатывают в ванне с водой и раствором 30% Varn 142W/30% Varn Par и затем устанавливают непосредственно на печатную машину AB Dick. Форма печатает более 500 копий оттисков хорошего качества.
Пример 6. Синтез привитого сополимера 2
В 4-горлую колбу в атмосфере азота загружают деионизованную воду (314,8 г) и додецилсульфат натрия (2,0 г) и нагревают до 70°С. При 70°С в течение 15 минут добавляют предварительно полученную смесь персульфата аммония (0,65 г) и деионизованной воды (20 г). При 70°С в течение 3 часов добавляют предварительно полученную смесь стирола (79,5 г), макромера 1 (10 г) и акриловой кислоты (7,9 г). Через полтора часа находят, что содержание нелетучих компонентов составляет 22,5% против 23% (теоретическое значение). Реакционную смесь охлаждают до комнатной температуры водой. При комнатной температуре добавляют раствор гидроксида аммония (8 г) для стабилизации латекса.
Пример 7. Получение ИК-чувствительной печатной формы
Повторяют пример 3, за исключением того, что защитное покрытие не наносят, и привитой сополимер 1 заменяют на привитой сополимер 2 для иллюстрации влияния кислотного числа связующего. Фигура 1 показывает анализ полученного покрытия на растровом электронном микроскопе ("SEM"). Как видно на фигуре 1, покрытие содержит дискретные частицы. Диаметр частиц составляет до примерно 60 нм.
Полученную форму экспонируют на Creo Trendsetter 3244x при 496 мДж/см2 и затем устанавливают на печатную машину Komori. Затем форму обрабатывают жидким очистителем для очистки печатных форм Frisco. Форма дает более 27500 копий оттисков хорошего качества.
Пример 8. Получение ИК-чувствительной печатной формы, проявляемой в печатной машине
Повторяют пример 3, за исключением того, что обработанную на щеточной машине шероховатую основу заменяют на основу, обработанную электрохимическим способом, со слоем оксидной пленки, уплотненным поливинилфосфоновой кислотой.
Полученную форму экспонируют на Creo Trendsetter 3244x при 250 мДж/см2 и затем устанавливают непосредственно на печатную машину АВ Dick. Форма дает более 500 копий оттисков хорошего качества.
Пример 9. Получение ИК-чувствительной печатной формы, проявляемой в печатной машине, без защитного покрытия
Повторяют пример 3, за исключением того, что не наносят защитного покрытия. Фигура 2 показывает SEM анализ полученного покрытия. Как видно на фигуре 2, покрытие содержит дискретные частицы. Диаметр частиц составляет до примерно 100-200 нм.
Полученную форму экспонируют на Creo Trendsetter 3244x при 250 мДж/см2 и затем устанавливают непосредственно на печатную машину АВ Dick. Форма дает более 600 копий оттисков хорошего качества.
Пример 10. Получение печатной формы, проявляемой в печатной машине
Повторяют пример 7, за исключением того, что привитой сополимер 2 заменяют сочетанием привитого сополимера 1 (3,35 мас. частей) и привитого сополимера 2 (0,18 мас. частей). Фигура 3 показывает SEM анализ полученного покрытия. Как видно на фигуре 3, покрытие содержит дискретные частицы. Диаметр частиц составляет до примерно 100-200 нм.
Полученную форму экспонируют на Creo Trendsetter 3244x при 496 мДж/см2 и затем устанавливают на печатную машину АВ Dick. Форма дает более 1000 копий оттисков хорошего качества.
Другую форму, полученную и экспонированную соответствующим образом, устанавливают на печатную машину Komori, снабженную жестким офсетным полотном, и с использованием печатной краски Equinox. Форма дает более 30000 копий оттисков хорошего качества.
Пример для сравнения 1. Получение ИК-чувствительной проявляемой в печатной машине печатной формы без генератора свободных радикалов
Повторяют пример 3, за исключением того, что в фотополимеризующееся покрытие не включают 2-(4-метоксифенил)-4,6-бис(трихлорметил)-2-триазин.
Полученную форму экспонируют на Creo Trendsetter 3244x при 250 мДж/см2 и затем устанавливают непосредственно на печатную машину АВ Dick. Покрытие полностью смывается, и печать отсутствует, так как на форме нет изображения.
Хотя настоящее изобретение описано в связи с конкретными примерами его воплощения, следует иметь в виду, что можно осуществить различные изменения, замещения и вариации в описанных воплощениях без отхода от сущности и объема изобретения, установленных в прилагаемой формуле изобретения.
Claims (56)
1. Элемент, в котором можно формировать изображение, включающий основу и способную к полимеризации композицию, нанесенную на основу, причем способная к полимеризации композиция содержит способное к полимеризации соединение и от примерно 10 до примерно 90 мас.% полимерного связующего; где полимерное связующее выбирают из группы, состоящей из, по меньшей мере, одного привитого сополимера, содержащего полимер главной цепи и полиэтиленоксидные боковые цепи, блок-сополимера, содержащего, по меньшей мере, один полиэтиленоксидный блок и, по меньшей мере, один не-полиэтиленоксидный блок, и их сочетания; и где способная к полимеризации композиция содержит дискретные частицы привитого сополимера или блок-сополимера.
2. Элемент, в котором можно формировать изображение, по п.1, где дискретные частицы характеризуются диаметром в интервале от примерно 60 нм до примерно 300 нм.
3. Элемент, в котором можно формировать изображение, по п.1, где полиэтиленоксидные сегменты полиэтиленоксидных боковых цепей или полиэтиленоксидного блока имеют среднечисловую молекулярную массу в интервале от примерно 500 до примерно 10000.
4. Элемент, в котором можно формировать изображение, по п.1, где полимерное связующее представляет собой привитой сополимер, и полиэтиленоксидные сегменты полиэтиленоксидных боковых цепей присутствуют в количестве в интервале от примерно 0,5 до примерно 60 мас.%.
5. Элемент, в котором можно формировать изображение, по п.1, где не-полиэтиленоксидный блок блок-сополимера не содержит полиалкиленоксидных сегментов.
6. Элемент, в котором можно формировать изображение, по п.1, где полимерное связующее содержит, по меньшей мере, один привитой сополимер, содержащий полимер главной цепи и полиэтиленоксидные боковые цепи.
7. Элемент, в котором можно формировать изображение, по п.1, где полимерное связующее содержит смесь, по меньшей мере, двух сополимеров, содержащую, независимо, привитой сополимер, содержащий полимер главной цепи и полиэтиленоксидные боковые цепи, или блок-сополимер, содержащий, по меньшей мере, один полиэтиленоксидный блок и, по меньшей мере, один не-полиэтиленоксидный блок.
8. Элемент, в котором можно формировать изображение, по п.7, где полимерное связующее содержит смесь привитых сополимеров, каждый из которых содержит полимер главной цепи и полиэтиленоксидные боковые цепи.
9. Элемент, в котором можно формировать изображение, по п.7, где смесь сополимеров содержит, по меньшей мере, один привитой сополимер не в форме дискретных частиц.
10. Элемент, в котором можно формировать изображение, по п.1, где полимерное связующее представляет собой блок-сополимер, и полиэтиленоксидные сегменты блок-сополимера присутствуют в количестве в интервале от примерно 5 до примерно 60 мас.%.
11. Элемент, в котором можно формировать изображение, по п.1, где элемент, в котором можно получить изображение, чувствителен к ультрафиолетовому, видимому или инфракрасному излучению.
12. Элемент, в котором можно формировать изображение, по п.1, где соединение, способное к полимеризации, содержит способную к полимеризации присоединением этиленненасыщенную группу, способную к поперечному сшиванию этиленненасыщенную группу, группу, способную к полимеризации с раскрытием цикла, азидогруппу, группу соли арилдиазония, арилдиазосульфонатную группу или их сочетания.
13. Элемент, в котором можно формировать изображение, по п.12, где способную к полимеризации присоединением этиленненасыщенную группу можно полимеризовать методом свободнорадикальной полимеризации, катионной полимеризации или их сочетанием.
14. Элемент, в котором можно формировать изображение, по п.12, где способную к поперечному сшиванию этиленненасыщенную группу выбирают из группы, состоящей из диметилмалеимидной группы, хальконовой группы и циннаматной группы.
15. Элемент, в котором можно формировать изображение, по п.12, где группу, способную к полимеризации с раскрытием цикла, выбирают из группы, состоящей из эпоксида, оксетана и их сочетания.
16. Элемент, в котором можно формировать изображение, по п.1, где массовое отношение способного к полимеризации соединения к полимерному связующему находится в интервале от примерно 5:95 до примерно 95:5.
17. Элемент, в котором можно формировать изображение, по п.1, где композиция, способная к полимеризации, дополнительно содержит поглотитель излучения, адаптированный к поглощению электромагнитного излучения в интервале от примерно 300 до примерно 1400 нм.
18. Элемент, в котором можно формировать изображение, по п.17, где поглотитель излучения представляет собой поглотитель инфракрасного излучения.
19. Элемент, в котором можно формировать изображение, по п.17, где композиция, способная к полимеризации, дополнительно содержит инициирующую свободные радикалы систему, содержащую акцептор электронов и соинициатор, способный отдавать электроны, отдавать атомы водорода или образовывать углеводородный радикал.
20. Элемент, в котором можно формировать изображение, по п.1, где элемент, в котором можно формировать изображение, является материалом-предшественником для печатной формы.
21. Элемент, в котором можно формировать изображение, по п.20, где материал-предшественник для печатной формы адаптирован для проявления в печатной машине.
22. Композиция, способная к полимеризации, содержащая способное к полимеризации соединение и от примерно 10 до примерно 90 мас.% полимерного связующего, где полимерное связующее выбирают из группы, состоящей из, по меньшей мере, одного привитого сополимера, содержащего полимер главной цепи и полиэтиленоксидные боковые цепи, блок-сополимера, содержащего, по меньшей мере, один полиэтиленоксидный блок и, по меньшей мере, один не-полиэтиленоксидный блок, и их сочетания; где композиция, способная к полимеризации, содержит дискретные частицы привитого сополимера или блок-сополимера.
23. Композиция по п.22, где дискретные частицы характеризуются диаметром в интервале от примерно 60 нм до примерно 300 нм.
24. Композиция по п.22, где массовое отношение способного к полимеризации соединения к полимерному связующему находится в интервале от примерно 5:95 до примерно 95:5.
25. Композиция по п.22, где композиция, способная к полимеризации, дополнительно содержит поглотитель излучения, способный поглощать электромагнитное излучение в интервале примерно 300-1400 нм.
26. Композиция по п.22, дополнительно содержащая инициирующую свободные радикалы систему, содержащую акцептор электронов и соинициатор, способный отдавать электроны, отдавать атомы водорода или образовывать углеводородный радикал.
27. Композиция по п.22, где полиэтиленоксидные сегменты полиэтиленоксидных боковых цепей или полиэтиленоксидного блока имеют среднечисловую молекулярную массу в интервале от примерно 500 до примерно 10000.
28. Композиция по п.22, где полимерное связующее содержит, по меньшей мере, один привитой сополимер, содержащий полимер главной цепи и полиэтиленоксидные боковые цепи.
29. Способ получения печатной формы, включающий обеспечение наличия основы; нанесение на основу работающего в качестве негативного слоя, содержащего чувствительную к излучению композицию, где чувствительная к излучению композиция содержит способное к полимеризации соединение и полимерное связующее, где полимерное связующее выбирают из группы, состоящей из, по меньшей мере, одного привитого сополимера, содержащего полиэтиленоксидные боковые цепи, блок-сополимера, содержащего, по меньшей мере, один полиэтиленоксидный блок, и их сочетания, и где чувствительная к излучению композиция содержит дискретные частицы привитого сополимера или блок-сополимера; экспонирование для формирования скрытого изображения, работающего в качестве негативного слоя ультрафиолетовым, видимым или инфракрасным излучением; и проявление работающего в качестве негативного слоя с получением печатной формы.
30. Способ по п.29, где дискретные частицы характеризуются диаметром в интервале от примерно 60 нм до примерно 300 нм.
31. Способ по п.29, где стадию экспонирования для формирования скрытого изображения осуществляют с помощью инфракрасного излучения с использованием инфракрасного лазера.
32. Способ по п.29, дополнительно включающий стадию задубливания печатной формы после стадии проявления.
33. Способ по п.29, где стадию проявления осуществляют в печатной машине.
34. Способ по п.29, где чувствительная к излучению композиция содержит от примерно 10 до примерно 90 мас.% полимерного связующего.
35. Способ по п.29, где полимерное связующее содержит, по меньшей мере, один привитой сополимер, содержащий полимер главной цепи и полиэтиленоксидные боковые цепи.
36. Способ получения элемента, в котором можно формировать изображение, включающий обеспечение наличия основы и нанесение на основу чувствительной к излучению композиции, причем чувствительная к излучению композиция содержит способное к полимеризации соединение, поглотитель излучения и от примерно 10 до примерно 90 мас.% полимерного связующего, выбранного из группы, состоящей из, по меньшей мере, одного привитого сополимера, содержащего полиэтиленоксидные боковые цепи, блок-сополимера, содержащего, по меньшей мере, один полиэтиленоксидный блок, и их сочетания, где чувствительная к излучению композиция содержит дискретные частицы привитого сополимера или блок-сополимера.
37. Способ по п.36, где стадия нанесения покрытия включает сушку чувствительной к излучению композиции.
38. Элемент, в котором можно формировать изображение, включающий основу и работающий в качестве негативного слой, нанесенный на основу, содержащий способное к полимеризации соединение и полимерное связующее, выбранное из смеси блок-сополимеров, причем каждый блок-сополимер содержит, по меньшей мере, один полиэтиленоксидный блок и, по меньшей мере, один не-полиэтиленоксидный блок, где работающий в качестве негативного слой содержит дискретные частицы, по меньшей мере, одного блок-сополимера из смеси.
39. Элемент, в котором можно формировать изображение, по п.38, где дискретные частицы блок-сополимера характеризуются диаметром в интервале от примерно 60 нм до примерно 300 нм.
40. Композиция по п.22, где не-полиэтиленоксидный блок блок-сополимера не содержит полиалкиленоксидных сегментов.
41. Композиция по п.22, где полимерное связующее содержит смесь, по меньшей мере, двух сополимеров, содержащую, независимо, привитой сополимер, содержащий полимер главной цепи и полиэтиленоксидные боковые цепи, или блок-сополимер, содержащий, по меньшей мере, один полиэтиленоксидный блок и, по меньшей мере, один не-полиэтиленоксидный блок.
42. Композиция по п.41, где полимерное связующее содержит смесь привитых сополимеров, каждый из которых содержит полимер главной цепи и полиэтиленоксидные боковые цепи.
43. Композиция по п.41, где смесь сополимеров содержит, по меньшей мере, один привитой сополимер не в форме дискретных частиц.
44. Способ по п.29, где полиэтиленоксидные сегменты полиэтиленоксидных боковых цепей или полиэтиленоксидного блока имеют среднечисловую молекулярную массу в интервале от примерно 500 до примерно 10000.
45. Способ по п.29, где не-полиэтиленоксидный блок блок-сополимера не содержит полиалкиленоксидных сегментов.
46. Способ по п.29, где полимерное связующее содержит смесь, по меньшей мере, двух сополимеров, содержащую, независимо, привитой сополимер, содержащий полимер главной цепи и полиэтиленоксидные боковые цепи, или блок-сополимер, содержащий, по меньшей мере, один полиэтиленоксидный блок и, по меньшей мере, один не-полиэтиленоксидный блок.
47. Способ по п.46, где полимерное связующее содержит смесь привитых сополимеров, каждый из которых содержит полимер главной цепи и полиэтиленоксидные боковые цепи.
48. Способ по п.46, где смесь сополимеров содержит, по меньшей мере, один привитой сополимер не в форме дискретных частиц.
49. Способ по п.36, где полиэтиленоксидные сегменты полиэтиленоксидных боковых цепей или полиэтиленоксидного блока имеют среднечисловую молекулярную массу в интервале от примерно 500 до примерно 10000.
50. Способ по п.36, где не-полиэтиленоксидный блок блок-сополимера не содержит полиалкиленоксидных сегментов.
51. Способ по п.36, где полимерное связующее содержит, по меньшей мере, один привитой сополимер, содержащий полимер главной цепи и полиэтиленоксидные боковые цепи.
52. Способ по п.36, где полимерное связующее содержит смесь, по меньшей мере, двух сополимеров, содержащую, независимо, привитой сополимер, содержащий полимер главной цепи и полиэтиленоксидные боковые цепи, или блок-сополимер, содержащий, по меньшей мере, один полиэтиленоксидный блок и, по меньшей мере, один не-полиэтиленоксидный блок.
53. Способ по п.52, где полимерное связующее содержит смесь привитых сополимеров, каждый из которых содержит полимер главной цепи и полиэтиленоксидные боковые цепи.
54. Способ по п.52, где смесь сополимеров содержит, по меньшей мере, один привитой сополимер не в форме дискретных частиц.
55. Способ по п.36, где элемент, в котором можно формировать изображение, является исходным материалом-предшественником для печатной формы.
56. Способ по п.55, где исходный материал-предшественник для печатной формы адаптирован для проявления в печатной машине.
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| US10/119,454 US6899994B2 (en) | 2001-04-04 | 2002-04-10 | On-press developable IR sensitive printing plates using binder resins having polyethylene oxide segments |
| US10/119,454 | 2002-04-10 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| RU2004132874A RU2004132874A (ru) | 2005-06-10 |
| RU2300792C2 true RU2300792C2 (ru) | 2007-06-10 |
Family
ID=29248249
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| RU2004132874/04A RU2300792C2 (ru) | 2002-04-10 | 2003-04-10 | Проявляемые в печатной машине ик-чувствительные печатные формы с использованием связующих смол с полиэтиленоксидными сегментами |
Country Status (13)
| Country | Link |
|---|---|
| US (2) | US6899994B2 (ru) |
| EP (1) | EP1493058B1 (ru) |
| JP (3) | JP2005522362A (ru) |
| KR (1) | KR100953771B1 (ru) |
| CN (1) | CN100495207C (ru) |
| AU (1) | AU2003221914B2 (ru) |
| BR (1) | BR0309165A (ru) |
| CA (1) | CA2479515A1 (ru) |
| ES (1) | ES2583103T3 (ru) |
| HK (1) | HK1079578A1 (ru) |
| RU (1) | RU2300792C2 (ru) |
| WO (1) | WO2003087939A2 (ru) |
| ZA (1) | ZA200408146B (ru) |
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| RU2533490C1 (ru) * | 2010-12-16 | 2014-11-20 | Кэнон Кабусики Кайся | Светочувствительная негативная полимерная композиция |
| RU174441U1 (ru) * | 2017-08-14 | 2017-10-13 | Акционерное общество "Научно-исследовательский институт электромеханики" (АО "НИИЭМ") | Электронагреватель |
| US10500304B2 (en) | 2013-06-21 | 2019-12-10 | DePuy Synthes Products, Inc. | Films and methods of manufacture |
| US10617653B2 (en) | 2011-12-28 | 2020-04-14 | DePuy Synthes Products, Inc. | Films and methods of manufacture |
| US10814112B2 (en) | 2005-10-13 | 2020-10-27 | DePuy Synthes Products, Inc. | Drug-impregnated encasement |
Families Citing this family (196)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP4266077B2 (ja) * | 2001-03-26 | 2009-05-20 | 富士フイルム株式会社 | 平版印刷版原版及び平版印刷方法 |
| US7045271B2 (en) * | 2004-05-10 | 2006-05-16 | Eastman Kodak Company | On press developable imageable element |
| US6899994B2 (en) * | 2001-04-04 | 2005-05-31 | Kodak Polychrome Graphics Llc | On-press developable IR sensitive printing plates using binder resins having polyethylene oxide segments |
| US7592128B2 (en) * | 2001-04-04 | 2009-09-22 | Eastman Kodak Company | On-press developable negative-working imageable elements |
| US7261998B2 (en) | 2001-04-04 | 2007-08-28 | Eastman Kodak Company | Imageable element with solvent-resistant polymeric binder |
| US7049046B2 (en) * | 2004-03-30 | 2006-05-23 | Eastman Kodak Company | Infrared absorbing compounds and their use in imageable elements |
| US6846614B2 (en) * | 2002-02-04 | 2005-01-25 | Kodak Polychrome Graphics Llc | On-press developable IR sensitive printing plates |
| US7056639B2 (en) * | 2001-08-21 | 2006-06-06 | Eastman Kodak Company | Imageable composition containing an infrared absorber with counter anion derived from a non-volatile acid |
| US7659046B2 (en) * | 2002-04-10 | 2010-02-09 | Eastman Kodak Company | Water-developable infrared-sensitive printing plate |
| US7172850B2 (en) * | 2002-04-10 | 2007-02-06 | Eastman Kodak Company | Preparation of solvent-resistant binder for an imageable element |
| US7217502B2 (en) * | 2003-03-27 | 2007-05-15 | Eastman Kodak Company | Nanopastes for use as patterning compositions |
| US7323288B2 (en) * | 2003-04-14 | 2008-01-29 | Kodak Graphic Communications Canada Company | Layers in printing plates, printing plates and method of use of printing plates |
| US7368215B2 (en) * | 2003-05-12 | 2008-05-06 | Eastman Kodak Company | On-press developable IR sensitive printing plates containing an onium salt initiator system |
| US7371454B2 (en) * | 2003-12-15 | 2008-05-13 | Eastman Kodak Company | Imageable element comprising sulfated polymers |
| JP2005047181A (ja) * | 2003-07-30 | 2005-02-24 | Fuji Photo Film Co Ltd | 平版印刷版の製版方法、平版印刷方法および平版印刷原版 |
| JP4603873B2 (ja) * | 2003-12-26 | 2010-12-22 | 富士フイルム株式会社 | 平版印刷版原版および平版印刷方法 |
| US7214469B2 (en) * | 2003-12-26 | 2007-05-08 | Fujifilm Corporation | Lithographic printing plate precursor and lithographic printing method |
| JP4620369B2 (ja) * | 2004-03-10 | 2011-01-26 | 岡本化学工業株式会社 | 感光性組成物およびそれを用いた感光性平版印刷版 |
| US20050208423A1 (en) * | 2004-03-19 | 2005-09-22 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Lithographic printing plate precursor |
| JP4524218B2 (ja) * | 2004-03-29 | 2010-08-11 | 富士フイルム株式会社 | 平版印刷版原版およびそれを用いる平版印刷方法 |
| JP2005305690A (ja) * | 2004-04-19 | 2005-11-04 | Konica Minolta Medical & Graphic Inc | 印刷版材料、印刷版材料の印刷方法及びオフセット印刷機 |
| JP4607521B2 (ja) * | 2004-08-25 | 2011-01-05 | コダック株式会社 | 平版印刷版原版の現像処理方法及び装置 |
| US7083895B2 (en) * | 2004-09-01 | 2006-08-01 | Kodak Polychrome Graphics Llc | Adhesion promoting ingredients for on-press developable lithographic printing plate precursors |
| JP5089866B2 (ja) | 2004-09-10 | 2012-12-05 | 富士フイルム株式会社 | 平版印刷方法 |
| JP2006088384A (ja) * | 2004-09-21 | 2006-04-06 | Fuji Photo Film Co Ltd | 平版印刷版原版 |
| JP2006181838A (ja) | 2004-12-27 | 2006-07-13 | Fuji Photo Film Co Ltd | 平版印刷版原版 |
| US7910286B2 (en) * | 2005-01-26 | 2011-03-22 | Fujifilm Corporation | Lithographic printing plate precursor, lithographic printing method and packaged body of lithographic printing plate precursors |
| US20080271627A1 (en) * | 2005-02-14 | 2008-11-06 | Gary Ganghui Teng | Lithographic printing press and method for on-press imaging laser sensitive lithographic plate |
| US20070095232A1 (en) * | 2005-02-14 | 2007-05-03 | Teng Gary G | Lithographic printing press and method for on-press imaging lithographic printing plate |
| JP4486904B2 (ja) * | 2005-03-11 | 2010-06-23 | 富士フイルム株式会社 | 平版印刷版原版および平版印刷方法 |
| US7189494B2 (en) * | 2005-05-26 | 2007-03-13 | Eastman Kodak Company | On-press developable imageable element comprising a tetraarylborate salt |
| US8137897B2 (en) * | 2005-07-29 | 2012-03-20 | Anocoil Corporation | Processless development of printing plate |
| US8343707B2 (en) | 2005-07-29 | 2013-01-01 | Anocoil Corporation | Lithographic printing plate for in-solidus development on press |
| US8133658B2 (en) * | 2005-07-29 | 2012-03-13 | Anocoil Corporation | Non-chemical development of printing plates |
| US8377630B2 (en) * | 2005-07-29 | 2013-02-19 | Anocoil Corporation | On-press plate development without contamination of fountain fluid |
| JP2009502574A (ja) * | 2005-07-29 | 2009-01-29 | アノコイル コーポレイション | 機上現像用の画像形成可能な印刷版 |
| US7153632B1 (en) * | 2005-08-03 | 2006-12-26 | Eastman Kodak Company | Radiation-sensitive compositions and imageable materials |
| DE602005017147D1 (de) * | 2005-08-26 | 2009-11-26 | Agfa Graphics Nv | photopolymer Druckplattenvorläufer |
| ES2322655T5 (es) | 2005-11-18 | 2019-06-27 | Agfa Nv | Método para fabricar una plancha de impresión litográfica |
| ATE422066T1 (de) | 2005-11-18 | 2009-02-15 | Agfa Graphics Nv | Verfahren zur herstellung einer lithografiedruckform |
| DE602005012630D1 (de) | 2005-11-18 | 2009-03-19 | Agfa Graphics Nv | Verfahren zur Herstellung einer Lithografiedruckform |
| ATE426190T1 (de) | 2005-11-18 | 2009-04-15 | Agfa Graphics Nv | Verfahren zur herstellung einer lithografiedruckform |
| ATE426191T1 (de) | 2005-11-18 | 2009-04-15 | Agfa Graphics Nv | Verfahren zur herstellung einer lithographischen druckplatte |
| EP2772805A1 (en) | 2005-11-18 | 2014-09-03 | Agfa Graphics Nv | Method of making a lithographic printing plate |
| DE602005022594D1 (de) | 2005-11-18 | 2010-09-09 | Agfa Graphics Nv | Verfahren zur Herstellung einer Lithografiedruckform |
| EP1788444B1 (en) | 2005-11-18 | 2011-01-26 | Agfa Graphics N.V. | Method of making a lithographic printing plate |
| ES2411697T3 (es) | 2005-11-21 | 2013-07-08 | Agfa Graphics N.V. | Método de fabricación de una plancha de impresión litográfica |
| ES2324542T3 (es) | 2005-11-21 | 2009-08-10 | Agfa Graphics N.V. | Metodo para fabricar una plancha de impresion litografica. |
| EP1788449A1 (en) | 2005-11-21 | 2007-05-23 | Agfa Graphics N.V. | Method for making a lithographic printing plate |
| US7279255B2 (en) * | 2006-02-07 | 2007-10-09 | Eastman Kodak Company | Negative-working radiation-sensitive compositions and imageable materials |
| US7175949B1 (en) | 2006-02-17 | 2007-02-13 | Eastman Kodak Company | Radiation-sensitive compositions and imageable materials |
| US7910768B2 (en) * | 2006-05-17 | 2011-03-22 | American Dye Source, Inc. | Materials for lithographic plates coatings, lithographic plates and coatings containing same, methods of preparation and use |
| US7524614B2 (en) * | 2006-05-26 | 2009-04-28 | Eastman Kodak Company | Negative-working radiation-sensitive compositions and imageable materials |
| EP1872942B1 (en) | 2006-06-30 | 2014-06-18 | FUJIFILM Corporation | Lithographic printing plate precursor and lithographic printing method |
| US7175969B1 (en) * | 2006-07-18 | 2007-02-13 | Eastman Kodak Company | Method of preparing negative-working radiation-sensitive elements |
| US7332253B1 (en) * | 2006-07-27 | 2008-02-19 | Eastman Kodak Company | Negative-working radiation-sensitive compositions and imageable materials |
| EP1884372B1 (en) | 2006-08-03 | 2009-10-21 | Agfa Graphics N.V. | A lithographic printing plate support |
| JP4902292B2 (ja) * | 2006-08-11 | 2012-03-21 | 富士フイルム株式会社 | 光硬化性着色組成物及びそれを用いたカラーフィルタ |
| JP5593068B2 (ja) * | 2006-08-24 | 2014-09-17 | アメリカン・ダイ・ソース・インコーポレーテッド | 反応性近赤外吸収性ポリマー粒子、その調製方法、及びその使用 |
| US20080145789A1 (en) * | 2006-10-13 | 2008-06-19 | Elizabeth Knight | Method of making lithographic printing plates |
| JP4881756B2 (ja) * | 2007-02-06 | 2012-02-22 | 富士フイルム株式会社 | 感光性組成物、平版印刷版原版、平版印刷方法、及び新規シアニン色素 |
| US7429445B1 (en) * | 2007-03-07 | 2008-09-30 | Eastman Kodak Company | Negative-working imageable elements and methods of use |
| EP1972460B1 (en) * | 2007-03-19 | 2009-09-02 | Agfa Graphics N.V. | A method for making a lithographic printing plate support |
| EP1972440B1 (en) | 2007-03-23 | 2010-06-23 | FUJIFILM Corporation | Negative lithographic printing plate precursor and lithographic printing method using the same |
| JP5002295B2 (ja) * | 2007-03-26 | 2012-08-15 | 富士フイルム株式会社 | 平版印刷版原版および平版印刷版の作製方法 |
| US7862984B2 (en) | 2007-03-28 | 2011-01-04 | Eastman Kodak Company | Polyonium borates and radiation-sensitive composition and imageable elements containing same |
| US7781143B2 (en) | 2007-05-31 | 2010-08-24 | Eastman Kodak Company | Negative-working imageable elements and methods of use |
| JP5247261B2 (ja) * | 2007-07-02 | 2013-07-24 | 富士フイルム株式会社 | 平版印刷版原版、及びそれを用いた印刷方法 |
| TWI409280B (zh) * | 2007-07-31 | 2013-09-21 | American Dye Source Inc | 聚合物染料、塗覆層組合物及熱微影印刷板 |
| ATE468981T1 (de) | 2007-11-30 | 2010-06-15 | Agfa Graphics Nv | Verfahren zur behandlung einer lithografiedruckplatte |
| ES2430562T3 (es) | 2008-03-04 | 2013-11-21 | Agfa Graphics N.V. | Método para la fabricación de un soporte de una plancha de impresión litográfica |
| EP2098367A1 (en) | 2008-03-05 | 2009-09-09 | Eastman Kodak Company | Sensitizer/Initiator Combination for Negative-Working Thermal-Sensitive Compositions Usable for Lithographic Plates |
| EP2105298B1 (en) | 2008-03-28 | 2014-03-19 | FUJIFILM Corporation | Negative-working lithographic printing plate precursor and method of lithographic printing using same |
| ATE514561T1 (de) | 2008-03-31 | 2011-07-15 | Agfa Graphics Nv | Verfahren zur behandlung einer lithografischen druckplatte |
| US20090263746A1 (en) * | 2008-04-17 | 2009-10-22 | Ray Kevin B | Method of making lithographic printing plates with simple processing |
| US8084182B2 (en) * | 2008-04-29 | 2011-12-27 | Eastman Kodak Company | On-press developable elements and methods of use |
| US8053162B2 (en) * | 2008-06-17 | 2011-11-08 | Eastman Kodak Company | Substrate and imageable element with hydrophilic interlayer |
| JP5444933B2 (ja) * | 2008-08-29 | 2014-03-19 | 富士フイルム株式会社 | ネガ型平版印刷版原版及びそれを用いる平版印刷方法 |
| US8304170B2 (en) * | 2008-09-04 | 2012-11-06 | Eastman Kodak Company | Negative-working imageable element and method of use |
| ES2382371T3 (es) | 2008-10-23 | 2012-06-07 | Agfa Graphics N.V. | Plancha de impresión litográfica |
| US20100129616A1 (en) * | 2008-11-21 | 2010-05-27 | Collins Jeffrey J | Negative-working on-press developable imageable elements |
| US20100147173A1 (en) * | 2008-12-15 | 2010-06-17 | Gary Ganghui Teng | On-press development of lithographic plate utilizing plate holder for exposed plate |
| US20100151385A1 (en) | 2008-12-17 | 2010-06-17 | Ray Kevin B | Stack of negative-working imageable elements |
| US8034538B2 (en) | 2009-02-13 | 2011-10-11 | Eastman Kodak Company | Negative-working imageable elements |
| US20100215919A1 (en) | 2009-02-20 | 2010-08-26 | Ting Tao | On-press developable imageable elements |
| JP2010221692A (ja) | 2009-02-26 | 2010-10-07 | Fujifilm Corp | 平版印刷版原版及びその製版方法 |
| US20100227269A1 (en) | 2009-03-04 | 2010-09-09 | Simpson Christopher D | Imageable elements with colorants |
| US8318405B2 (en) | 2009-03-13 | 2012-11-27 | Eastman Kodak Company | Negative-working imageable elements with overcoat |
| JP2010228356A (ja) * | 2009-03-27 | 2010-10-14 | Fujifilm Corp | 平版印刷版原版 |
| JP5277039B2 (ja) * | 2009-03-30 | 2013-08-28 | 富士フイルム株式会社 | 平版印刷版原版およびその製版方法 |
| JP2010234588A (ja) | 2009-03-30 | 2010-10-21 | Fujifilm Corp | 平版印刷版原版およびその製版方法 |
| US8221960B2 (en) * | 2009-06-03 | 2012-07-17 | Eastman Kodak Company | On-press development of imaged elements |
| US8247163B2 (en) | 2009-06-12 | 2012-08-21 | Eastman Kodak Company | Preparing lithographic printing plates with enhanced contrast |
| US8257907B2 (en) * | 2009-06-12 | 2012-09-04 | Eastman Kodak Company | Negative-working imageable elements |
| US20110045408A1 (en) * | 2009-08-20 | 2011-02-24 | Shota Suzuki | Color-forming photosensitive composition, lithographic printing plate precursor and novel cyanine dye |
| UA104323C2 (ru) | 2009-09-15 | 2014-01-27 | Майлен Груп | Сополимеры и сополимерные связующие вещества для светочувствительных покровных композиций для светочувствительных офсетных печатных форм для негативного копирования |
| JP5276560B2 (ja) * | 2009-09-25 | 2013-08-28 | 富士フイルム株式会社 | 平版印刷版原版 |
| JP5266176B2 (ja) * | 2009-09-25 | 2013-08-21 | 富士フイルム株式会社 | 平版印刷版原版 |
| EP2481603A4 (en) | 2009-09-24 | 2015-11-18 | Fujifilm Corp | LITHOGRAPHIC ORIGINAL PRESSURE PLATE |
| JP5433362B2 (ja) * | 2009-09-29 | 2014-03-05 | 富士フイルム株式会社 | 平版印刷版原版及び平版印刷版の製版方法 |
| JP2011073212A (ja) * | 2009-09-29 | 2011-04-14 | Fujifilm Corp | 新聞印刷用平版印刷版原版及び製版方法 |
| JP5433363B2 (ja) * | 2009-09-29 | 2014-03-05 | 富士フイルム株式会社 | 平版印刷版原版及び平版印刷版の製版方法 |
| JP5481339B2 (ja) * | 2009-09-30 | 2014-04-23 | 富士フイルム株式会社 | 平版印刷版原版及びその製版方法 |
| US8426104B2 (en) | 2009-10-08 | 2013-04-23 | Eastman Kodak Company | Negative-working imageable elements |
| WO2011050442A1 (en) | 2009-10-29 | 2011-05-05 | Mylan Group | Gallotannic compounds for lithographic printing plate coating compositions |
| US8329383B2 (en) | 2009-11-05 | 2012-12-11 | Eastman Kodak Company | Negative-working lithographic printing plate precursors |
| JP2011148292A (ja) | 2009-12-25 | 2011-08-04 | Fujifilm Corp | 平版印刷版原版及びその製版方法 |
| JP5537980B2 (ja) * | 2010-02-12 | 2014-07-02 | 富士フイルム株式会社 | 平版印刷版原版及びその製版方法 |
| JP5433460B2 (ja) * | 2010-02-26 | 2014-03-05 | 富士フイルム株式会社 | 新聞印刷用平版印刷版原版及びその製造方法 |
| CN102812402B (zh) | 2010-03-19 | 2015-08-05 | 富士胶片株式会社 | 着色感光性组合物、平版印刷版原版和制版方法 |
| BR112012024532A2 (pt) | 2010-03-26 | 2016-09-06 | Fujifilm Corp | precursor de placa de impressão litográfica e método de produção do mesmo |
| CN102834264B (zh) * | 2010-03-30 | 2015-03-25 | 富士胶片株式会社 | 平版印刷版的制版方法 |
| JP5572576B2 (ja) | 2010-04-30 | 2014-08-13 | 富士フイルム株式会社 | 平版印刷版原版及びその製版方法 |
| FR2963011B1 (fr) * | 2010-07-21 | 2012-08-31 | Commissariat Energie Atomique | Procede de preparation de nouveaux copolymeres a squelette polymere fluore comprenant des chaines pendantes du type polyoxyalkylene |
| MX336236B (es) | 2010-09-14 | 2016-01-11 | Mylan Group | Copolimeros para composiciones de revestimiento sensibles a radiacion casi-infrarroja para placas de impresion litografica termica de trabajo positivo. |
| JP5656784B2 (ja) | 2010-09-24 | 2015-01-21 | 富士フイルム株式会社 | 重合性組成物及びそれを用いた平版印刷版原版、並びに平版印刷方法 |
| US8900798B2 (en) * | 2010-10-18 | 2014-12-02 | Eastman Kodak Company | On-press developable lithographic printing plate precursors |
| US20120090486A1 (en) | 2010-10-18 | 2012-04-19 | Celin Savariar-Hauck | Lithographic printing plate precursors and methods of use |
| US20120141941A1 (en) | 2010-12-03 | 2012-06-07 | Mathias Jarek | Developing lithographic printing plate precursors in simple manner |
| US20120141942A1 (en) | 2010-12-03 | 2012-06-07 | Domenico Balbinot | Method of preparing lithographic printing plates |
| US20120141935A1 (en) | 2010-12-03 | 2012-06-07 | Bernd Strehmel | Developer and its use to prepare lithographic printing plates |
| JP5205505B2 (ja) | 2010-12-28 | 2013-06-05 | 富士フイルム株式会社 | 平版印刷版原版及びその平版印刷方法 |
| US20120199028A1 (en) | 2011-02-08 | 2012-08-09 | Mathias Jarek | Preparing lithographic printing plates |
| JP5705584B2 (ja) | 2011-02-24 | 2015-04-22 | 富士フイルム株式会社 | 平版印刷版の製版方法 |
| JP5211187B2 (ja) | 2011-02-28 | 2013-06-12 | 富士フイルム株式会社 | 平版印刷版原版及び製版方法 |
| EP2693270B1 (en) | 2011-03-28 | 2015-12-09 | FUJIFILM Corporation | Method for producing lithographic printing plate |
| US8632940B2 (en) | 2011-04-19 | 2014-01-21 | Eastman Kodak Company | Aluminum substrates and lithographic printing plate precursors |
| US8722308B2 (en) | 2011-08-31 | 2014-05-13 | Eastman Kodak Company | Aluminum substrates and lithographic printing plate precursors |
| US8703381B2 (en) | 2011-08-31 | 2014-04-22 | Eastman Kodak Company | Lithographic printing plate precursors for on-press development |
| JP5401522B2 (ja) | 2011-09-15 | 2014-01-29 | 富士フイルム株式会社 | コーティング組成物、ならびに該組成物を用いた、画像形成材料、平版印刷版原版及び酸素遮断性フィルム |
| US9029063B2 (en) | 2011-09-22 | 2015-05-12 | Eastman Kodak Company | Negative-working lithographic printing plate precursors |
| US8632941B2 (en) | 2011-09-22 | 2014-01-21 | Eastman Kodak Company | Negative-working lithographic printing plate precursors with IR dyes |
| EP2762973B1 (en) | 2011-09-26 | 2017-11-29 | Fujifilm Corporation | Method for producing lithographic printing plate |
| JP5732012B2 (ja) | 2011-09-26 | 2015-06-10 | 富士フイルム株式会社 | 平版印刷版の製版方法 |
| JP5758263B2 (ja) * | 2011-10-11 | 2015-08-05 | メルク、パテント、ゲゼルシャフト、ミット、ベシュレンクテル、ハフツングＭｅｒｃｋ Ｐａｔｅｎｔ ＧｍｂＨ | 微細レジストパターン形成用組成物およびそれを用いたパターン形成方法 |
| CN104159976B (zh) | 2012-02-23 | 2016-10-12 | 富士胶片株式会社 | 发色性组合物、发色性固化组合物、平版印刷版原版及制版方法、以及发色性化合物 |
| JP5579217B2 (ja) | 2012-03-27 | 2014-08-27 | 富士フイルム株式会社 | 平版印刷版原版 |
| CN106183520B (zh) | 2012-03-29 | 2019-05-17 | 富士胶片株式会社 | 平版印刷版原版、及其印刷方法 |
| US8679726B2 (en) | 2012-05-29 | 2014-03-25 | Eastman Kodak Company | Negative-working lithographic printing plate precursors |
| US9329479B2 (en) | 2012-06-05 | 2016-05-03 | Agfa Graphics Nv | Lithographic printing plate precusor |
| JP5699112B2 (ja) | 2012-07-27 | 2015-04-08 | 富士フイルム株式会社 | 平版印刷版原版及びその製版方法 |
| US8889341B2 (en) | 2012-08-22 | 2014-11-18 | Eastman Kodak Company | Negative-working lithographic printing plate precursors and use |
| BR112015006131A2 (pt) | 2012-09-26 | 2019-11-19 | Fujifilm Corp | precursor de chapa de impressão litográfica e método de fabricação de chapas de chapa de impressão litográfica |
| US8927197B2 (en) | 2012-11-16 | 2015-01-06 | Eastman Kodak Company | Negative-working lithographic printing plate precursors |
| EP2735903B1 (en) | 2012-11-22 | 2019-02-27 | Eastman Kodak Company | Negative working lithographic printing plate precursors comprising a hyperbranched binder material |
| WO2014090178A1 (en) * | 2012-12-13 | 2014-06-19 | Toray Advanced Materials Research Laboratories (China) Co., Ltd. | Multi-block copolymer and polymer electrolyte |
| JP5899371B2 (ja) | 2013-02-27 | 2016-04-06 | 富士フイルム株式会社 | 赤外線感光性発色組成物、赤外線硬化性発色組成物、平版印刷版原版及び製版方法 |
| US9063423B2 (en) | 2013-02-28 | 2015-06-23 | Eastman Kodak Company | Lithographic printing plate precursors and use |
| EP2778782B1 (en) | 2013-03-13 | 2015-12-30 | Kodak Graphic Communications GmbH | Negative working radiation-sensitive elements |
| EP3008517A1 (en) | 2013-06-14 | 2016-04-20 | Agfa Graphics N.V. | A lithographic printing plate precursor |
| US9201302B2 (en) | 2013-10-03 | 2015-12-01 | Eastman Kodak Company | Negative-working lithographic printing plate precursor |
| EP2883699B1 (en) | 2013-12-11 | 2017-05-03 | Agfa Graphics Nv | A lithographic printing plate precursor and monomer |
| EP2916171B1 (en) | 2014-03-03 | 2017-05-31 | Agfa Graphics Nv | A method for making a lithographic printing plate precursor |
| JP2015202586A (ja) * | 2014-04-11 | 2015-11-16 | イーストマン コダック カンパニー | 平版印刷版原版 |
| US9360759B2 (en) | 2014-09-12 | 2016-06-07 | Eastman Kodak Company | Forming conductive metal patterns using water-soluble polymers |
| EP3032334B1 (en) | 2014-12-08 | 2017-10-18 | Agfa Graphics Nv | A system for reducing ablation debris |
| US9417524B1 (en) | 2015-03-10 | 2016-08-16 | Eastman Kodak Company | Infrared radiation-sensitive lithographic printing plate precursors |
| US9366962B1 (en) | 2015-03-10 | 2016-06-14 | Eastman Kodak Company | Negative-working lithographic printing plate precursor and use |
| US20170021656A1 (en) | 2015-07-24 | 2017-01-26 | Kevin Ray | Lithographic imaging and printing with negative-working photoresponsive printing members |
| US20170217149A1 (en) | 2016-01-28 | 2017-08-03 | Eastman Kodak Company | Negatively-working lithographic printing plate precursor and method |
| JP2019513240A (ja) | 2016-03-16 | 2019-05-23 | アグファ・ナームローゼ・フェンノートシャップＡｇｆａ Ｎｖ | 平版印刷版の処理方法 |
| TWI629564B (zh) * | 2016-06-17 | 2018-07-11 | 長興材料工業股份有限公司 | 可聚合組合物及其應用 |
| CN106313870B (zh) | 2016-08-19 | 2018-06-15 | 浙江康尔达新材料股份有限公司 | 一种可成像涂层、热敏阴图平版印刷版及其制版方法 |
| US20180157176A1 (en) | 2016-12-02 | 2018-06-07 | Eastman Kodak Company | Lithographic printing plate precursor and use |
| WO2018128830A1 (en) | 2017-01-04 | 2018-07-12 | Eastman Kodak Company | Negative-working lithographic printing plate precursor and use |
| US10828884B2 (en) | 2017-03-02 | 2020-11-10 | Eastman Kodak Company | Lithographic printing plate precursors and method of use |
| EP3392709A1 (en) | 2017-04-21 | 2018-10-24 | Agfa Nv | A lithographic printing plate precursor |
| US10576730B2 (en) * | 2017-07-19 | 2020-03-03 | Eastman Kodak Company | Method for preparing lithographic printing plates |
| EP3587112B1 (en) | 2018-06-21 | 2024-04-03 | Eco3 Bv | A lithographic printing plate precursor |
| EP3587113B1 (en) | 2018-06-21 | 2023-01-04 | Agfa Offset Bv | A lithographic printing plate precursor |
| US20200096865A1 (en) | 2018-09-21 | 2020-03-26 | Eastman Kodak Company | Lithographic printing plate precursor and color-forming composition |
| EP3991987A4 (en) * | 2019-06-28 | 2022-09-14 | FUJIFILM Corporation | PRECURSOR OF A LITHOGRAPHIC PRINTING PLATE WITH PRINTING DEVELOPMENT, METHOD OF MAKING A LITHOGRAPHIC PRINTING PLATE AND LITHOGRAPHIC PRINTING PROCESS |
| US20210078350A1 (en) | 2019-09-17 | 2021-03-18 | Eastman Kodak Company | Lithographic printing plate precursor and method of use |
| US11117412B2 (en) | 2019-10-01 | 2021-09-14 | Eastman Kodak Company | Lithographic printing plate precursors and method of use |
| EP3815900A1 (en) | 2019-10-31 | 2021-05-05 | Agfa Nv | A lithographic printing plate precursor and method for making hydrophobic resin particles |
| US11633948B2 (en) | 2020-01-22 | 2023-04-25 | Eastman Kodak Company | Method for making lithographic printing plates |
| EP3875271A1 (en) | 2020-03-04 | 2021-09-08 | Agfa Nv | A lithographic printing plate precursor |
| US11714354B2 (en) | 2020-03-25 | 2023-08-01 | Eastman Kodak Company | Lithographic printing plate precursor and method of use |
| EP3892469B1 (en) | 2020-04-10 | 2023-11-08 | Eco3 Bv | Lithographic printing plate precursor |
| EP3960455A1 (en) | 2020-08-31 | 2022-03-02 | Agfa Offset Bv | A lithographic printing plate precursor |
| US11760081B2 (en) | 2020-09-04 | 2023-09-19 | Eastman Kodak Company | Lithographic printing plate precursor and method of use |
| US20230382100A1 (en) | 2020-10-09 | 2023-11-30 | Agfa Offset Bv | A Lithographic Printing Plate Precursor |
| EP4255737A1 (en) | 2020-12-04 | 2023-10-11 | Eastman Kodak Company | Lithographic printing plate precursors and method of use |
| EP4263224A1 (en) | 2020-12-16 | 2023-10-25 | Eco3 Bv | Lithographic printing press make-ready method |
| JP2023554644A (ja) | 2020-12-17 | 2023-12-28 | イーストマン コダック カンパニー | 平版印刷版原版および使用方法 |
| EP4035897A1 (en) | 2021-01-28 | 2022-08-03 | Agfa Offset Bv | A lithographic printing plate precursor |
| WO2022212032A1 (en) | 2021-04-01 | 2022-10-06 | Eastman Kodak Company | Lithographic printing plate precursor and method of use |
| EP4101830A1 (en) | 2021-06-10 | 2022-12-14 | FEW Chemicals GmbH | Novel diaryliodonium salt mixtures as low molecular weight photoinitiators with minimized crystallization behavior and elevated solubility |
| US20230091079A1 (en) | 2021-07-23 | 2023-03-23 | Eastman Kodak Company | Lithographic printing plate precursor and method of use |
| EP4129682A1 (en) | 2021-08-05 | 2023-02-08 | Agfa Offset Bv | A lithographic printing plate precursor |
| CN113942289B (zh) | 2021-10-26 | 2023-02-28 | 浙江康尔达新材料股份有限公司 | 一种用于光敏阴图型平版印刷版的可成像组合物及其制版方法 |
| US20230314935A1 (en) | 2022-03-03 | 2023-10-05 | Eastman Kodak Company | Lithographic printing plate precursor and method of use |
| EP4239411A1 (en) | 2022-03-04 | 2023-09-06 | Eco3 Bv | Method and apparatus for processing a lithographic printing plate precursor |
| US20240061337A1 (en) | 2022-08-04 | 2024-02-22 | Eastman Kodak Company | Lithographic printing plate precursors, methods of using and manufacture |
| US20240069439A1 (en) | 2022-08-12 | 2024-02-29 | Eastman Kodak Company | Lithographic printing plate precursor and method of use |
| EP4382306A1 (en) | 2022-12-08 | 2024-06-12 | Eco3 Bv | Lithographic printing press make-ready method |
Family Cites Families (52)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS52102023A (en) | 1976-02-21 | 1977-08-26 | Tokyo Ouka Kougiyou Kk | Novel relief photosensitive composition |
| JPS6068992A (ja) | 1983-09-27 | 1985-04-19 | Mitsui Toatsu Chem Inc | 画像形成方法 |
| JPS62121445A (ja) | 1985-11-21 | 1987-06-02 | Kuraray Co Ltd | 感光性組成物 |
| CA1323949C (en) | 1987-04-02 | 1993-11-02 | Michael C. Palazzotto | Ternary photoinitiator system for addition polymerization |
| US5204222A (en) | 1988-07-16 | 1993-04-20 | Hoechst Aktiengesellschaft | Photocurable elastomeric mixture and recording material, obtained therefrom, for the production of relief printing plates |
| JPH0820734B2 (ja) | 1988-08-11 | 1996-03-04 | 富士写真フイルム株式会社 | 感光性組成物及びそれを用いた光重合性組成物 |
| FR2644933A1 (fr) * | 1989-03-24 | 1990-09-28 | Gen Electric | Lampe monobloc a reflecteur |
| JPH02277695A (ja) | 1989-04-20 | 1990-11-14 | Fuji Photo Film Co Ltd | 熱転写受像材料 |
| DE3928289A1 (de) | 1989-08-26 | 1991-02-28 | Basf Ag | Wasserloesliches oder -dispergierbares photopolymerisierbares gemisch und seine verwendung zu druckzwecken |
| JP2677457B2 (ja) | 1991-01-22 | 1997-11-17 | 日本ペイント株式会社 | 光重合性組成物 |
| GB9110417D0 (en) | 1991-05-14 | 1991-07-03 | Du Pont Howson Ltd | Improvements in or relating to the formation of images |
| US5258263A (en) * | 1991-09-10 | 1993-11-02 | Polaroid Corporation | Printing plate and methods of making and use same |
| US5756258A (en) | 1992-07-13 | 1998-05-26 | Kyowa Hakko Co., Ltd. | Photopolymerizable composition containing an addition polymerizable compound, a radical-producing agent and a squarylium compound |
| GB2273366B (en) | 1992-11-18 | 1996-03-27 | Du Pont | Forming images on radiation-sensitive plates |
| EP0672954B1 (en) | 1994-03-14 | 1999-09-15 | Kodak Polychrome Graphics LLC | Radiation-sensitive composition containing a resole resin, a novolac resin, an infrared absorber and a triazine and use thereof in lithographic printing plates |
| DE69502323T2 (de) | 1994-03-16 | 1998-12-24 | Eastman Kodak Co., Rochester, N.Y. | Wärmeempfindliches Aufzeichnungselement mit klebender Zwischenschicht |
| JP3321288B2 (ja) | 1994-04-25 | 2002-09-03 | 日本ペイント株式会社 | 近赤外光重合性組成物 |
| US5491046A (en) | 1995-02-10 | 1996-02-13 | Eastman Kodak Company | Method of imaging a lithographic printing plate |
| US5658708A (en) | 1995-02-17 | 1997-08-19 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Image recording material |
| US5629354A (en) | 1995-02-28 | 1997-05-13 | Eastman Kodak Company | Photopolymerization initiator system comprising a spectral sensitizer and a polycarboxylic acid co-initiator |
| US5599650A (en) | 1995-04-28 | 1997-02-04 | Polaroid Corporation | Photoreaction quenchers in on-press developable lithographic printing plates |
| DE19536805A1 (de) | 1995-10-02 | 1997-04-03 | Basf Lacke & Farben | Zur Herstellung von Flexodruckplatten durch digitale Informationsübertragung geeignetes mehrschichtiges Aufzeichnungselement |
| US5800965A (en) | 1996-02-29 | 1998-09-01 | Mitsubishi Chemical Corporation | Photopolymerizable composition for a photosensitive lithographic printing plate and photosensitive lithographic printing plate employing it |
| DE825927T1 (de) | 1996-04-23 | 1998-07-16 | Horsell, Graphic Industries Ltd., Leeds | Warmeempfindliche zusammensetzung und verfahren zur herstellung einer lithographischen druckform damit |
| US5763134A (en) | 1996-05-13 | 1998-06-09 | Imation Corp | Composition comprising photochemical acid progenitor and specific squarylium dye |
| EP0816070B1 (en) | 1996-06-24 | 2000-10-18 | Agfa-Gevaert N.V. | A heat sensitive imaging element and a method for producing lithographic plates therewith |
| DE69608679D1 (de) | 1996-07-19 | 2000-07-06 | Agfa Gevaert Nv | IR-Strahlungsempfindliches Bildaufzeichnungselement und Verfahren zur Herstellung von lithographischen Druckplatten mit diesem Element |
| EP0819985B1 (en) | 1996-07-19 | 2002-06-05 | Agfa-Gevaert | A radiation sensitive imaging element and a method for producing lithographic plates therewith |
| US6489078B1 (en) * | 1996-07-19 | 2002-12-03 | Agfa-Gevaert | IR radiation-sensitive imaging element and a method for producing lithographic plates therewith |
| JP3814961B2 (ja) | 1996-08-06 | 2006-08-30 | 三菱化学株式会社 | ポジ型感光性印刷版 |
| US5811220A (en) * | 1996-10-10 | 1998-09-22 | Polaroid Corporation | On-press lithographic development methodology facilitated by the use of a disperse hydrophilic microgel |
| EP0839647B2 (en) | 1996-10-29 | 2014-01-22 | Agfa Graphics N.V. | Method for making a lithographic printing plate with improved ink-uptake |
| US6071369A (en) | 1996-10-29 | 2000-06-06 | Agfa-Gevaert, N.V. | Method for making an lithographic printing plate with improved ink-uptake |
| DE19648311A1 (de) | 1996-11-21 | 1998-05-28 | Wanzl Entwicklung Gmbh | Transportwagen |
| EP0881096B1 (en) | 1997-05-27 | 2001-10-17 | Agfa-Gevaert N.V. | A heat sensitive imaging element and a method for producing lithographic plates therewith |
| US6022667A (en) | 1997-05-27 | 2000-02-08 | Agfa-Gevaert, N.V. | Heat sensitive imaging element and a method for producing lithographic plates therewith |
| JP3844853B2 (ja) | 1997-07-22 | 2006-11-15 | 富士写真フイルム株式会社 | ネガ型画像記録材料 |
| JP2000194132A (ja) * | 1998-12-25 | 2000-07-14 | Sumitomo Chem Co Ltd | 着色感光性樹脂組成物 |
| DE19906823C2 (de) | 1999-02-18 | 2002-03-14 | Kodak Polychrome Graphics Gmbh | IR-Empfindliche Zusammensetzung und deren Verwendung zur Herstellung von Druckplatten |
| US6071675A (en) | 1999-06-05 | 2000-06-06 | Teng; Gary Ganghui | On-press development of a lithographic plate comprising dispersed solid particles |
| US6245481B1 (en) | 1999-10-12 | 2001-06-12 | Gary Ganghui Teng | On-press process of lithographic plates having a laser sensitive mask layer |
| JP2001270919A (ja) | 2000-01-17 | 2001-10-02 | Toyo Gosei Kogyo Kk | 高分子化合物及びその製造方法並びに感光性組成物及びパターン形成方法 |
| US6309792B1 (en) | 2000-02-18 | 2001-10-30 | Kodak Polychrome Graphics Llc | IR-sensitive composition and use thereof for the preparation of printing plate precursors |
| US6245486B1 (en) | 2000-06-30 | 2001-06-12 | Gary Ganghui Teng | Method for imaging a printing plate having a laser ablatable mask layer |
| US6548222B2 (en) * | 2000-09-06 | 2003-04-15 | Gary Ganghui Teng | On-press developable thermosensitive lithographic printing plates |
| US6740470B2 (en) * | 2001-02-08 | 2004-05-25 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Lithographic printing plate precursor |
| JP2002251008A (ja) * | 2001-02-23 | 2002-09-06 | Fuji Photo Film Co Ltd | 画像記録材料 |
| US6582882B2 (en) * | 2001-04-04 | 2003-06-24 | Kodak Polychrome Graphics Llc | Imageable element comprising graft polymer |
| US6899994B2 (en) * | 2001-04-04 | 2005-05-31 | Kodak Polychrome Graphics Llc | On-press developable IR sensitive printing plates using binder resins having polyethylene oxide segments |
| ATE342800T1 (de) * | 2001-04-09 | 2006-11-15 | Fuji Photo Film Co Ltd | Flachdruckplattenvorläufer |
| JP4303898B2 (ja) * | 2001-06-05 | 2009-07-29 | 富士フイルム株式会社 | 平版印刷版用原版 |
| US7299749B2 (en) * | 2003-02-10 | 2007-11-27 | Fujifilm Corporation | Lithographic printing plate support and production method thereof |
-
2002
- 2002-04-10 US US10/119,454 patent/US6899994B2/en not_active Expired - Lifetime
-
2003
- 2003-04-10 KR KR1020047015922A patent/KR100953771B1/ko active IP Right Grant
- 2003-04-10 BR BR0309165-1A patent/BR0309165A/pt not_active Application Discontinuation
- 2003-04-10 ES ES03718373.8T patent/ES2583103T3/es not_active Expired - Lifetime
- 2003-04-10 EP EP03718373.8A patent/EP1493058B1/en not_active Expired - Lifetime
- 2003-04-10 WO PCT/US2003/011358 patent/WO2003087939A2/en active Application Filing
- 2003-04-10 AU AU2003221914A patent/AU2003221914B2/en not_active Ceased
- 2003-04-10 RU RU2004132874/04A patent/RU2300792C2/ru active
- 2003-04-10 CN CNB038094916A patent/CN100495207C/zh not_active Expired - Lifetime
- 2003-04-10 JP JP2003584821A patent/JP2005522362A/ja not_active Withdrawn
- 2003-04-10 CA CA002479515A patent/CA2479515A1/en not_active Abandoned
-
2004
- 2004-10-08 ZA ZA2004/08146A patent/ZA200408146B/en unknown
-
2005
- 2005-03-28 US US11/091,124 patent/US7258964B2/en not_active Expired - Lifetime
- 2005-12-19 HK HK05111672.7A patent/HK1079578A1/xx not_active IP Right Cessation
-
2009
- 2009-06-16 JP JP2009143497A patent/JP5270463B2/ja not_active Expired - Lifetime
-
2013
- 2013-02-08 JP JP2013023341A patent/JP5480412B2/ja not_active Expired - Lifetime
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US10814112B2 (en) | 2005-10-13 | 2020-10-27 | DePuy Synthes Products, Inc. | Drug-impregnated encasement |
| RU2533490C1 (ru) * | 2010-12-16 | 2014-11-20 | Кэнон Кабусики Кайся | Светочувствительная негативная полимерная композиция |
| US10617653B2 (en) | 2011-12-28 | 2020-04-14 | DePuy Synthes Products, Inc. | Films and methods of manufacture |
| US10500304B2 (en) | 2013-06-21 | 2019-12-10 | DePuy Synthes Products, Inc. | Films and methods of manufacture |
| RU174441U1 (ru) * | 2017-08-14 | 2017-10-13 | Акционерное общество "Научно-исследовательский институт электромеханики" (АО "НИИЭМ") | Электронагреватель |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| KR100953771B1 (ko) | 2010-04-21 |
| CN1650233A (zh) | 2005-08-03 |
| WO2003087939A3 (en) | 2004-03-04 |
| AU2003221914A2 (en) | 2003-10-27 |
| JP2009234268A (ja) | 2009-10-15 |
| JP2013107399A (ja) | 2013-06-06 |
| WO2003087939A2 (en) | 2003-10-23 |
| JP5480412B2 (ja) | 2014-04-23 |
| EP1493058A2 (en) | 2005-01-05 |
| CA2479515A1 (en) | 2003-10-23 |
| KR20040106325A (ko) | 2004-12-17 |
| US6899994B2 (en) | 2005-05-31 |
| BR0309165A (pt) | 2005-01-25 |
| US7258964B2 (en) | 2007-08-21 |
| JP2005522362A (ja) | 2005-07-28 |
| US20030064318A1 (en) | 2003-04-03 |
| AU2003221914A1 (en) | 2003-10-27 |
| HK1079578A1 (en) | 2006-04-07 |
| EP1493058B1 (en) | 2016-06-22 |
| US20050170286A1 (en) | 2005-08-04 |
| RU2004132874A (ru) | 2005-06-10 |
| JP5270463B2 (ja) | 2013-08-21 |
| ZA200408146B (en) | 2005-11-30 |
| AU2003221914B2 (en) | 2008-03-06 |
| CN100495207C (zh) | 2009-06-03 |
| ES2583103T3 (es) | 2016-09-19 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| RU2300792C2 (ru) | Проявляемые в печатной машине ик-чувствительные печатные формы с использованием связующих смол с полиэтиленоксидными сегментами | |
| EP1765593B1 (en) | Imageable element with solvent-resistant polymeric binder | |
| EP2047333B1 (en) | Negative-working radiation-sensitive compositions and imageable materials | |
| RU2436799C2 (ru) | Негативные композиции, чувствительные к излучению, и печатающие материалы | |
| US7781143B2 (en) | Negative-working imageable elements and methods of use | |
| US20030118939A1 (en) | High speed negative working thermal printing plates | |
| EP1622768A1 (en) | On-press developable ir sensitive printing plates containing an onium salt initiator system | |
| US20120015295A1 (en) | Infrared-sensitive composition for printing plate precursors | |
| JP2003262958A (ja) | 画像記録材料 | |
| WO2007121871A1 (en) | Bakeable lithographic printing plates with a high resistance to chemicals | |
| JP2002062648A (ja) | 画像記録材料 | |
| US5733707A (en) | Negative-working image recording material | |
| JP2002156757A (ja) | 画像記録材料 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| PD4A | Correction of name of patent owner |