KR20100106934A - 캐리어박 부착 전해 동박, 캐리어박 부착 전해 동박의 제조 방법, 및 그 캐리어박 부착 전해 동박을 이용해 얻어지는 동박 적층판 - Google Patents
캐리어박 부착 전해 동박, 캐리어박 부착 전해 동박의 제조 방법, 및 그 캐리어박 부착 전해 동박을 이용해 얻어지는 동박 적층판 Download PDFInfo
- Publication number
- KR20100106934A KR20100106934A KR1020100026149A KR20100026149A KR20100106934A KR 20100106934 A KR20100106934 A KR 20100106934A KR 1020100026149 A KR1020100026149 A KR 1020100026149A KR 20100026149 A KR20100026149 A KR 20100026149A KR 20100106934 A KR20100106934 A KR 20100106934A
- Authority
- KR
- South Korea
- Prior art keywords
- copper foil
- electrolytic copper
- foil
- layer
- carrier foil
- Prior art date
Links
Images
Classifications
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B32—LAYERED PRODUCTS
- B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
- B32B15/00—Layered products comprising a layer of metal
- B32B15/20—Layered products comprising a layer of metal comprising aluminium or copper
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B32—LAYERED PRODUCTS
- B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
- B32B15/00—Layered products comprising a layer of metal
- B32B15/04—Layered products comprising a layer of metal comprising metal as the main or only constituent of a layer, which is next to another layer of the same or of a different material
- B32B15/043—Layered products comprising a layer of metal comprising metal as the main or only constituent of a layer, which is next to another layer of the same or of a different material of metal
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B32—LAYERED PRODUCTS
- B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
- B32B7/00—Layered products characterised by the relation between layers; Layered products characterised by the relative orientation of features between layers, or by the relative values of a measurable parameter between layers, i.e. products comprising layers having different physical, chemical or physicochemical properties; Layered products characterised by the interconnection of layers
- B32B7/02—Physical, chemical or physicochemical properties
- B32B7/027—Thermal properties
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C25—ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
- C25D—PROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
- C25D3/00—Electroplating: Baths therefor
- C25D3/02—Electroplating: Baths therefor from solutions
- C25D3/38—Electroplating: Baths therefor from solutions of copper
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05K—PRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
- H05K1/00—Printed circuits
- H05K1/02—Details
- H05K1/09—Use of materials for the conductive, e.g. metallic pattern
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Metallurgy (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Electrochemistry (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Thermal Sciences (AREA)
- Electroplating Methods And Accessories (AREA)
- Laminated Bodies (AREA)
- Electroplating And Plating Baths Therefor (AREA)
Abstract
Description
도 2는 GDS(GD-OES) 분석 장치를 이용하여, 종래의 전해 동박을 캐리어박으로 이용한 캐리어박 부착 전해 동박의 전해 동박층측에서 캐리어박측을 향해 아르곤 스퍼터링으로 파내려갔을 때의 깊이 방향의 내열 금속 성분의 프로파일이다.
도 3은 GDS(GD-OES) 분석 장치를 이용하여, 본건 발명에 따른 캐리어박 부착 전해 동박의 전해 동박층측에서 캐리어박측을 향해 아르곤 스퍼터링으로 파내려갔을 때의 깊이 방향의 내열 금속 성분의 프로파일이다.
2 캐리어박
3 접합 계면층(유기제층)
4 전해 동박층
5 내열 금속층
Claims (13)
- 캐리어박/접합 계면층/내열 금속층/전해 동박층의 층 구성을 구비하는 캐리어박 부착 전해 동박에 있어서,
GDS 분석 장치를 이용하여, 정상 상태의 당해 캐리어박 부착 전해 동박의 전해 동박층측에서 캐리어박측을 향해 상기 내열 금속 성분의 깊이 방향 프로파일을 측정했을 때의 피크의 반값폭을 W1이라고 하고,
상기 캐리어박 부착 전해 동박을 300℃의 대기 분위기에서 120분간 가열한 후에, 전해 동박층측에서 캐리어박측을 향해 상기 내열 금속 성분의 깊이 방향 프로파일을 측정했을 때의 피크의 반값폭을 W2라고 했을 때,
([W2]-[W1])/[W1]≤0.3의 관계를 만족하는 것을 특징으로 한 캐리어박 부착 전해 동박. - 제1항에 있어서,
GDS 분석 장치를 이용하여, 정상 상태의 상기 캐리어박 부착 전해 동박의 전해 동박층측에서 캐리어박측을 향해 상기 내열 금속 성분의 깊이 방향 프로파일을 측정했을 때의 피크의 정상 위치를 P1이라고 하고,
상기 캐리어박 부착 전해 동박을 300℃의 대기 분위기에서 30분간 가열한 후에, 전해 동박층측에서 캐리어박측을 향해 상기 내열 금속 성분의 깊이 방향 프로파일을 측정했을 때의 피크의 정상 위치를 P2라고 했을 때,
P1과 P2의 정상 위치의 차([P2]-[P1])가 0.20㎛ 이내인 캐리어박 부착 전해 동박. - 제1항에 있어서,
상기 캐리어박으로서 전해 동박을 이용한 캐리어박 부착 전해 동박. - 제3항에 있어서,
상기 캐리어박으로서 이용하는 전해 동박의 석출면은, 그 표면 조도(Rzjis)가 1.0㎛ 미만, 광택도[Gs(60°)]가 400 이상, 및 폭 방향으로 측정한 TD 광택도와 흐름 방향으로 측정한 MD 광택도의 비 [TD 광택도]/[MD 광택도]가 0.9 내지 1.1의 특성을 구비하는 캐리어박 부착 전해 동박. - 제3항에 있어서,
상기 캐리어박으로서 이용하는 전해 동박의 석출면이, 석출면측의 광택도[Gs(20°)]>광택도[Gs(60°)]의 관계를 갖는 전해 동박을 이용하는 캐리어박 부착 전해 동박. - 제1항에 있어서,
상기 접합 계면층은 유기제층인 캐리어박 부착 전해 동박. - 제6항에 있어서,
상기 접합 계면층으로서의 유기제층은, 질소 함유 유기 화합물로부터 선택되는 1종 또는 2종 이상을 이용하여 형성한 것인 캐리어박 부착 전해 동박. - 제6항에 있어서,
상기 접합 계면층으로서의 유기제층은, 두께가 1㎚ 내지 1㎛인 캐리어박 부착 전해 동박. - 제1항에 있어서,
상기 내열 금속층은 니켈층, 니켈 합금층, 코발트층, 코발트 합금층 중 어느 하나인 캐리어박 부착 전해 동박. - 제1항에 있어서,
상기 내열 금속층은 두께가 0.001㎛ 내지 0.05㎛인 캐리어박 부착 전해 동박. - 캐리어박/접합 계면층/내열 금속층/전해 동박층의 층 구성을 갖는 캐리어박 부착 전해 동박의 제조 방법으로서,
상기 캐리어박은, 3-메르캅토-1-프로판술폰산 또는 비스(3-술포프로필)디술파이드로부터 선택된 적어도 1종과 환상 구조를 갖는 4급 암모늄염 중합체와 염소를 함유하는 황산계 동전해액을 전해하여 얻어지는 전해 동박을 이용하고,
상기 전해 동박의 석출면측에, 접합 계면층으로서의 유기제층, 내열 금속층을 차례로 마련하고,
상기 내열 금속층 위에 전해 동박층을 마련하는 것을 특징으로 하는 캐리어박 부착 전해 동박의 제조 방법. - 제11항에 있어서,
상기 4급 암모늄염 중합체는 디알릴디메틸암모늄 클로라이드 중합체인 캐리어박 부착 전해 동박의 제조 방법. - 제1항에 기재된 캐리어박 부착 전해 동박을 이용하여 얻어지는 것을 특징으로 하는 동박 적층판.
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2009072381A JP5379528B2 (ja) | 2009-03-24 | 2009-03-24 | キャリア箔付電解銅箔、キャリア箔付電解銅箔の製造方法及びそのキャリア箔付電解銅箔を用いて得られる銅張積層板 |
JPJP-P-2009-072381 | 2009-03-24 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
KR20100106934A true KR20100106934A (ko) | 2010-10-04 |
KR101133162B1 KR101133162B1 (ko) | 2012-04-06 |
Family
ID=43040160
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
KR1020100026149A KR101133162B1 (ko) | 2009-03-24 | 2010-03-24 | 캐리어박 부착 전해 동박, 캐리어박 부착 전해 동박의 제조 방법, 및 그 캐리어박 부착 전해 동박을 이용해 얻어지는 동박 적층판 |
Country Status (3)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP5379528B2 (ko) |
KR (1) | KR101133162B1 (ko) |
TW (1) | TWI452177B (ko) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2012046804A1 (ja) * | 2010-10-06 | 2012-04-12 | 古河電気工業株式会社 | 銅箔及びその製造方法、キャリア付き銅箔及びその製造方法、プリント配線板、多層プリント配線板 |
Families Citing this family (15)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR101510370B1 (ko) * | 2011-03-30 | 2015-04-07 | 미쓰이금속광업주식회사 | 다층 프린트 배선판의 제조 방법 |
MY163173A (en) * | 2011-03-30 | 2017-08-15 | Mitsui Mining & Smelting Co | Manufacturing method of multilayer printed wiring board |
JP5816230B2 (ja) * | 2012-05-11 | 2015-11-18 | Jx日鉱日石金属株式会社 | 表面処理銅箔及びそれを用いた積層板、銅箔、プリント配線板、電子機器、並びに、プリント配線板の製造方法 |
CN107031143A (zh) * | 2013-03-04 | 2017-08-11 | Jx日矿日石金属株式会社 | 附载体铜箔、使用其的覆铜积层板、印刷配线板、电子机器及印刷配线板的制造方法 |
JP6176948B2 (ja) * | 2013-03-05 | 2017-08-09 | Jx金属株式会社 | キャリア付銅箔、キャリア付銅箔の製造方法、プリント回路板の製造方法、銅張積層板の製造方法、及び、プリント配線板の製造方法 |
JP6140480B2 (ja) * | 2013-03-05 | 2017-05-31 | Jx金属株式会社 | キャリア付銅箔、キャリア付銅箔の製造方法、プリント配線板、プリント回路板、銅張積層板、及び、プリント配線板の製造方法 |
JP6140481B2 (ja) * | 2013-03-05 | 2017-05-31 | Jx金属株式会社 | キャリア付銅箔、キャリア付銅箔の製造方法、プリント配線板、プリント回路板、銅張積層板、及び、プリント配線板の製造方法 |
JP5885790B2 (ja) * | 2013-08-20 | 2016-03-15 | Jx金属株式会社 | 表面処理銅箔及びそれを用いた積層板、キャリア付銅箔、プリント配線板、電子機器、電子機器の製造方法、並びに、プリント配線板の製造方法 |
JP5885791B2 (ja) * | 2013-08-20 | 2016-03-15 | Jx金属株式会社 | 表面処理銅箔及びそれを用いた積層板、キャリア付銅箔、銅箔、プリント配線板、電子機器、電子機器の製造方法、並びに、プリント配線板の製造方法 |
CN105745360B (zh) * | 2013-11-27 | 2017-12-08 | 三井金属矿业株式会社 | 带有载体箔的铜箔、覆铜层压板及印刷线路板 |
JP5842077B1 (ja) * | 2015-07-01 | 2016-01-13 | 三井金属鉱業株式会社 | キャリア付銅箔、銅張積層板及びプリント配線板 |
JP6782561B2 (ja) * | 2015-07-16 | 2020-11-11 | Jx金属株式会社 | キャリア付銅箔、積層体、積層体の製造方法、プリント配線板の製造方法及び電子機器の製造方法 |
JP6432684B2 (ja) * | 2015-07-31 | 2018-12-05 | 住友金属鉱山株式会社 | 導電性基板、導電性基板の製造方法 |
WO2017149810A1 (ja) * | 2016-02-29 | 2017-09-08 | 三井金属鉱業株式会社 | キャリア付銅箔及びその製造方法、並びに配線層付コアレス支持体及びプリント配線板の製造方法 |
US11453823B2 (en) * | 2017-02-20 | 2022-09-27 | InkTee Co., Ltd. | Method for manufacturing transfer film including seed layer, method for manufacturing circuit board by selectively etching seed layer, and etching solution composite |
Family Cites Families (15)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US4357395A (en) * | 1980-08-22 | 1982-11-02 | General Electric Company | Transfer lamination of vapor deposited foils, method and product |
JP3466506B2 (ja) * | 1999-04-23 | 2003-11-10 | 三井金属鉱業株式会社 | キャリア箔付電解銅箔及びその電解銅箔の製造方法並びにその電解銅箔を使用した銅張積層板 |
JP3370624B2 (ja) | 1999-08-24 | 2003-01-27 | 三井金属鉱業株式会社 | キャリア箔付電解銅箔及びその電解銅箔を使用した銅張積層板 |
JP2001068804A (ja) * | 1999-08-31 | 2001-03-16 | Mitsui Mining & Smelting Co Ltd | キャリア箔付電解銅箔及びその電解銅箔の製造方法並びにその電解銅箔を使用した銅張積層板 |
JP2001089892A (ja) * | 1999-09-21 | 2001-04-03 | Mitsui Mining & Smelting Co Ltd | キャリア箔付電解銅箔及びその製造方法並びにそのキャリア箔付電解銅箔を用いた銅張積層板 |
LU90532B1 (en) * | 2000-02-24 | 2001-08-27 | Circuit Foil Luxembourg Trading Sarl | Comosite copper foil and manufacturing method thereof |
JP3690962B2 (ja) * | 2000-04-26 | 2005-08-31 | 三井金属鉱業株式会社 | キャリア箔付電解銅箔及びそのキャリア箔付電解銅箔の製造方法並びに銅張積層板 |
US7026059B2 (en) * | 2000-09-22 | 2006-04-11 | Circuit Foil Japan Co., Ltd. | Copper foil for high-density ultrafine printed wiring boad |
JP4073248B2 (ja) * | 2002-05-14 | 2008-04-09 | 三井金属鉱業株式会社 | 高温耐熱用キャリア箔付電解銅箔の製造方法及びその製造方法で得られる高温耐熱用キャリア箔付電解銅箔 |
JP3812834B2 (ja) * | 2002-08-12 | 2006-08-23 | 三井金属鉱業株式会社 | キャリア箔付電解銅箔並びにその製造方法及びそのキャリア箔付電解銅箔を用いた銅張積層板 |
JP2005288856A (ja) * | 2004-03-31 | 2005-10-20 | Mitsui Mining & Smelting Co Ltd | キャリア箔付電解銅箔及びその製造方法並びにそのキャリア箔付電解銅箔を用いた銅張積層板 |
JP4065004B2 (ja) * | 2005-03-31 | 2008-03-19 | 三井金属鉱業株式会社 | 電解銅箔、その電解銅箔を用いて得られた表面処理電解銅箔、その表面処理電解銅箔を用いた銅張積層板及びプリント配線板 |
JP3910623B1 (ja) * | 2005-03-31 | 2007-04-25 | 三井金属鉱業株式会社 | 電解銅箔の製造方法及びその製造方法で得られた電解銅箔、その電解銅箔を用いて得られた表面処理電解銅箔、その表面処理電解銅箔を用いた銅張積層板及びプリント配線板 |
TW200728515A (en) * | 2005-10-31 | 2007-08-01 | Mitsui Mining & Smelting Co | Method for manufacture of electrolytic copper foil, electrolytic copper foil manufactured by the method, surface-treated copper foil manufactured using the electrolytic copper foil, and copper-clad laminate manufactured using the electrolytic copper |
TW200804626A (en) * | 2006-05-19 | 2008-01-16 | Mitsui Mining & Smelting Co | Copper foil provided with carrier sheet, method for fabricating copper foil provided with carrier sheet, surface-treated copper foil provided with carrier sheet, and copper-clad laminate using the surface-treated copper foil provided with carrier she |
-
2009
- 2009-03-24 JP JP2009072381A patent/JP5379528B2/ja active Active
-
2010
- 2010-02-26 TW TW099105608A patent/TWI452177B/zh active
- 2010-03-24 KR KR1020100026149A patent/KR101133162B1/ko active IP Right Grant
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2012046804A1 (ja) * | 2010-10-06 | 2012-04-12 | 古河電気工業株式会社 | 銅箔及びその製造方法、キャリア付き銅箔及びその製造方法、プリント配線板、多層プリント配線板 |
JPWO2012046804A1 (ja) * | 2010-10-06 | 2014-02-24 | 古河電気工業株式会社 | 銅箔及びその製造方法、キャリア付き銅箔及びその製造方法、プリント配線板、多層プリント配線板 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP5379528B2 (ja) | 2013-12-25 |
TW201035390A (en) | 2010-10-01 |
KR101133162B1 (ko) | 2012-04-06 |
TWI452177B (zh) | 2014-09-11 |
JP2010222657A (ja) | 2010-10-07 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
KR101133162B1 (ko) | 캐리어박 부착 전해 동박, 캐리어박 부착 전해 동박의 제조 방법, 및 그 캐리어박 부착 전해 동박을 이용해 얻어지는 동박 적층판 | |
KR101056692B1 (ko) | 케리어 부착 극박 동박의 제조방법 및 이 제조방법으로제조된 케리어 부착 극박동박, 프린트 배선기판, 다층프린트 배선판 및 칩온필름용 배선판 | |
EP1995354B1 (en) | Surface treated elctrolytic copper foil and process for producing the same | |
EP1802183B1 (en) | Ultrathin copper foil with carrier and printed circuit board using same | |
JP3973197B2 (ja) | キャリア箔付電解銅箔及びその製造方法 | |
WO2012046804A1 (ja) | 銅箔及びその製造方法、キャリア付き銅箔及びその製造方法、プリント配線板、多層プリント配線板 | |
KR100859614B1 (ko) | 복합 구리박 및 그 제조방법 | |
US8329315B2 (en) | Ultra thin copper foil with very low profile copper foil as carrier and its manufacturing method | |
JP4129429B2 (ja) | 複合フォイル及びその製造方法 | |
US20070154692A1 (en) | Ultrathin copper foil with carrier and printed circuit board using same | |
US20080107865A1 (en) | Electrodeposited Copper Foil with Carrier Foil with a Primer Resin Layer and Manufacturing Method Thereof | |
JP2007186797A (ja) | キャリア付き極薄銅箔の製造方法、及び該製造方法で製造された極薄銅箔、該極薄銅箔を使用したプリント配線板、多層プリント配線板、チップオンフィルム用配線基板 | |
JP5441945B2 (ja) | ベリーロープロファイル銅箔を担体とした極く薄い銅箔及びその製法。 | |
JP2011179078A (ja) | 処理銅箔 | |
EP2821528B1 (en) | Copper foil with attached carrier foil, method for manufacturing copper foil with attached carrier foil, and method for manufacturing copper clad laminate board for laser beam drilling obtained by using copper foil with attached carrier foil | |
KR20150077306A (ko) | 표면처리동박 및 적층판 | |
JP5503789B2 (ja) | キャリア箔付電解銅箔及びそのキャリア箔付電解銅箔を用いて得られる銅張積層板 | |
TWI337207B (en) | Peel strength enhancement of copper laminates | |
WO2005081657A2 (en) | Laser ablation resistant copper foil | |
WO2020246467A1 (ja) | 表面処理銅箔、銅張積層板、及びプリント配線板 | |
TWI791429B (zh) | 黑化鍍液、導電性基板之製造方法 | |
JP2024510819A (ja) | 異なる電流密度による銅の電気化学的析出の方法 | |
JPS6324088A (ja) | 電着銅箔及びその製造方法 | |
KR20140035552A (ko) | 담체로서 매우 낮은 프로파일의 구리 호일을 갖는 초박형 구리 호일 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A201 | Request for examination | ||
E701 | Decision to grant or registration of patent right | ||
GRNT | Written decision to grant | ||
FPAY | Annual fee payment |
Payment date: 20150302 Year of fee payment: 4 |
|
FPAY | Annual fee payment |
Payment date: 20160309 Year of fee payment: 5 |
|
FPAY | Annual fee payment |
Payment date: 20170302 Year of fee payment: 6 |
|
FPAY | Annual fee payment |
Payment date: 20180302 Year of fee payment: 7 |
|
FPAY | Annual fee payment |
Payment date: 20190306 Year of fee payment: 8 |
|
FPAY | Annual fee payment |
Payment date: 20200303 Year of fee payment: 9 |