KR20060093125A - 방담 처리액 및 그의 제조방법, 방담성 물품 및 그의제조방법 - Google Patents

방담 처리액 및 그의 제조방법, 방담성 물품 및 그의제조방법 Download PDF

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Abstract

비커플링 부위에 적어도 1개 이상의 황을 포함하는 오가노실레인 또는 그 가수 분해물의 축합도를 제어하고, 단체 및 2량체 이상의 축합물로 하여, 친수성 유기용제에 함유한 방담 처리액. 또한, 비커플링 부위에 적어도 1개 이상의 황을 포함하는 오가노실레인 또는 그 가수 분해물의 2량체 이상의 축합물은 오가노실레인 총량의 1 중량% 이상 70중량% 미만이고, 처리액 유지 환경제어 또는/및 촉매에 의해 제조되는 방담성 처리액의 제조방법. 이것에 의해, 방담 성능, 방담 내구성이 우수하고, 높은 막 강도를 갖는 방담성 처리액, 및 그의 방담 성능막를 형성한 방담제 물품이 수득된다.

Description

방담 처리액 및 그의 제조방법, 방담성 물품 및 그의 제조방법{ANTI-FOGGING TREATING FLUID AND METHOD FOR PRODUCTION THEREOF, ANTI-FOGGING ARTICLE AND METHOD FOR PRODUCTION THEREOF}
본 발명은 각종 기재의 표면에 방담성(防曇性)이 우수한 피막을 형성할 수 있는 방담성 처리액 및 그의 제조방법, 그 방담성 처리액을 각종 기재의 표면에 피막으로 형성한 방담성 물품 및 그의 제조방법에 관한 것이다.
물품의 표면은, 미세 수적(水滴)의 부착 또는 상처 등에 의해 표면에 요철이 있으면, 빛의 산란에 의해 흐림이 발생한다. 본 발명은 광학 물품 표면에 미세한 수적이 부착됨으로써 발생하는 흐림의 방지, 이른바 방담 성능의 부여에 관한 것이다.
종래, 물품 표면에 방담 성능을 부여하는 방법으로서, 표면에 흡수성을 부여하여 수적을 흡수하는 방법, 다공질 막을 이용하여 수적을 흡수하는 방법, 표면의 물에 대한 정지 접촉각을 상승시켜 수적을 붙기 어렵게 하는 방법, 광학 물품을 가열하여 수적을 증발시키거나, 또는 표면에서의 노점(露点)을 상승시키는 방법 등이 개시되어 있다.
이러한 방법 중, 표면에 친수성을 부여하고, 물에 대한 표면의 정지 접촉각을 저하시켜 수적을 넓히는 방법으로서, 물품 표면에의 계면활성제의 도포 또는 표면에 계면활성제를 포함하는 막을 형성하는 방법이 제안되어 있다(예컨대, 일본 특허공개 제2001-190471호 공보).
또한, 물품 표면에 대하여, 특히 얇은 막에 방담 성능을 갖게 하는 경우, 방담 성능을 발현, 유지할 목적으로, 물품 표면에 친수성이 높은 설폰산기 또는 황산기를 갖는 오가노실레인 또는 그 가수 분해물을 이용하는 방법이 개시되어 있다(예컨대, 미국특허 제4,325,638호 명세서 및 일본 특허공개 제2002-60692호 공보).
그러나, 일본 특허공개 제2001-190471호 공보에 나타낸 바와 같이, 물품 표면에의 계면활성제의 도포 또는 표면에 계면활성제를 포함하는 막을 형성하는 구성으로서는, 물이 부착함으로써 계면활성제의 탈락이 일어나고, 방담효과의 지속성에 문제가 있다. 또한, 물품이 광학용도에 사용되는 경우, 표면에 형성되는 막의 막 두께에 따라서는 표면의 반사특성이 변화되어, 광선 반사율 및 투과율 등의 광학 특성이 변화되는 문제가 있다.
또한, 미국특허 제4,325,638호 명세서에 개시된 설폰산 변성 오가노실레인의 처리에 의해 얻어지는 친수성 물품은, 동시에 이용하고 있는 다량의 계면활성제의 효과로부터, 처리 직후에는 충분한 방담 성능이 얻어지지만, 세정 등에 의한 계면활성제의 탈락에 의해 지속성이 거의 없다.
또한, 일본 특허공개 제2002-60692호 공보에 개시된 설폰산 또는 설폰산 전 구체를 포함하는 오가노실레인 또는 그 가수 분해물을 친수성 유기용제에 희석시킨 방담 코팅액에 의해 얻어지는 친수성 물품은 친수성기의 밀도가 부족하고, 처리 직후에 있어서도, 높은 방담 성능이 얻어지지 않는다고 하는 문제가 있다.
본 발명의 목적은, 이러한 종래의 문제를 해소하여, 광학성능을 손상함이 없이 방담성을 부여하고, 더욱이 어떠한 사용 환경에서도 미세한 수적에 의한 흐림을 방지할 수 있고, 더욱이 방담 성능에 지속성을 갖는 방담성 물품을 얻게 하는 처리액, 및 그의 제조방법과, 그 방담성 처리액을 각종 기재의 표면에 피막으로 형성한 방담성 물품 및 그의 제조방법을 제공하는 데 있다.
발명의 요약
본 발명자들은 심도있는 연구를 거듭한 결과, 축합도가 다른 친수성 물질을 이용하는 것에 의해, 물품 표면의 친수성기 밀도를 저하시킴 없이, 충분한 막 강도를 부여할 수 있고, 즉, 우수한 방담특성을 가지고, 어떠한 사용 환경에서도 미세한 수적에 의한 흐림을 방지할 수 있고, 더욱이 방담 성능에 지속성을 갖는 방담성 물품의 제작이 가능한 것을 발견했다.
물품에서의 수적에 의한 흐림 현상은, 대기중에 포함되는 수증기가 노점 이하가 되는 경우에, 수증기가 물품 표면에 응결함으로써 발생한다.
수증기의 응결은 물품 표면의 임의의 다수의 장소가 핵으로 되고, 거기에서 수적이 성장하고, 성장하는 과정에서 인접한 수적이 결합을 반복하면서 발생한다.
물품의 표면에 방담성을 부여하기 위해서는, 이 수적이 성장하는 과정에서 인접한 수적의 결합을 빠르게 하여, 수적을 넓히는 것으로 흐림을 발생시키지 않는 방법이 효과적이다. 즉, 표면에 친수성을 갖게 하는 방법이 효과적이다. 그러나, 일반적으로 알려져 있는 계면활성제의 도포나, 표면에 계면활성제를 포함하는 막을 형성하는 구성으로서는, 초기의 방담효과는 우수하지만, 물이 부착하는 것에 의해 계면활성제의 탈락이 일어나, 방담효과의 지속성에 문제가 있다. 따라서, 방담효과를 지속시키기 위해서는, 물품 표면에 대한 친수성분의 고정화가 중요하다.
그러나, 종래의 방법으로서는, 물품 표면에 친수성분을 고정화하기 위한 부위, 또는 막내에서 가교하는 부위를 제공하면, 막내의 친수성기의 밀도가 낮아지게 되어 충분한 방담 성능이 얻어지지 않았다. 또한, 물품 표면에 친수성분을 고정화하기 위한 부위, 또는 막내에서 가교하는 부위가 충분하지 않으면, 막 자체의 내구성이 없다고 하는 문제가 있었다.
이러한 문제를 해결하기 위해, 본 발명의 방담 처리액은 비커플링 부위에 적어도 1개 이상의 황을 포함하는 오가노실레인 또는/및 그 가수 분해물(오가노실레인 및 그 가수 분해물의 적어도 한쪽)의 단체 및 2량체 이상의 축합물을 친수성 유기용제에 희석한 것을 특징으로 한다.
상기에 의하면, 충분한 방담 성능 및 막 자체의 내구성을 가지는 막을 제작하는 것이 가능한 방담 처리액을 제공할 수 있다. 즉, 단체로 존재하는 비커플링 부위에 적어도 1개 이상의 황을 포함하는 오가노실레인 또는/및 그 가수 분해물은 기재와 막의 고정화에 더하여, 2량체 이상의 축합물 사이 또는 2량체 이상의 축합물과 단체 분자 사이 및 단체 분자 사이에서 반응하여, 간극을 메우는 호료의 역할 을 한다. 이것에 의해, 물품 표면에 친수성분을 고정화하기 위한 부위, 및 막내에서 가교하는 부위가 존재하여, 충분한 방담 성능 및 막 자체의 내구성을 가지는 막의 제작이 가능하다.
또한, 본 발명의 방담 처리액은 비커플링 부위에 적어도 1개 이상의 황을 포함하는 오가노실레인의 2량체 이상의 축합물이 오가노실레인 총량의 1중량% 이상 70중량% 미만인 것을 특징으로 한다.
상기에 의하면, 충분한 방담 성능 및 막 자체의 내구성을 가진 막을 제작하는 것이 가능한 방담 처리액을 제공할 수 있다. 즉, 단체로 존재하는 비커플링 부위에 적어도 1개 이상의 황을 포함하는 오가노실레인 또는/및 그 가수 분해물은 기재와 막의 고정화에 더하여, 2량체 이상의 축합물 사이 또는 2량체 이상의 축합물과 단체 분자 사이 및 단체 분자 사이에서 반응하여, 간극을 메우는 호료의 역할을 한다. 비커플링 부위에 적어도 1개 이상의 황을 포함하는 오가노실레인의 2량체 이상의 축합물이 오가노실레인 총량의 1중량% 이상 70중량% 미만, 그 이외의 비커플링 부위에 적어도 1개 이상의 황을 포함하는 오가노실레인이 단체인 경우, 물품 표면에 친수성분을 고정화하기 위한 부위, 및 막내에서 가교하는 부위가 균형있게 존재하여 충분한 방담 성능 및 막 자체의 내구성을 가지는 막의 제작이 가능하다.
또한, 본 발명의 방담 처리액은 비커플링 부위에 적어도 1개 이상의 황을 포함하는 오가노실레인 또는/및 그 가수분해물이 설폰산에스터기, 싸이올기, 설파이드기, 다이설파이드기, 설폰산기로부터 선택되는 1종 이상의 작용기를 함유하는 것을 특징으로 한다.
상기에 의하면, 양호한 친수성을 나타내고, 설폰산에스터기, 싸이올기, 설파이드기, 다이설파이드기, 설폰산기 중의 1종 이상, 비커플링 부위에 적어도 1개 이상 함유하는 것으로, 양호한 방담 성능을 가지는 막을 제작할 수 있다.
또한, 본 발명의 방담 처리액은 비커플링 부위에 적어도 1개 이상의 황을 포함하는 오가노실레인 또는/및 그 가수 분해물의 단체, 및 2량체 이상의 축합물을 친수성 유기용제에 희석한 방담 처리액이 계면활성제를 함유하는 것을 특징으로 한다.
상기에 의하면, 비커플링 부위에 적어도 1개 이상의 황을 함유하는 오가노실레인 또는/및 그 가수 분해물의 단체, 및 2량체 이상의 축합물을 친수성 유기용제에 희석한 방담 처리액이 계면활성제를 함유함으로써 이것을 물품에 처리한 경우, 방담특성을 저해함이 없이, 외관이 양호한 균일한 막을 제작할 수 있고, 보다 더 방담특성을 향상시키는 것이 가능하다.
또한, 본 발명의 방담성 물품은 상기 방담 처리액에 의해 방담 성능막을 기재 표면에 형성한 것을 특징으로 한다.
상기에 의하면, 충분한 방담 성능 및 막 자체의 내구성을 가지는 막을 갖는 방담성 물품이 얻어진다.
또한, 본 발명의 방담성 물품은 상기 기재가 렌즈인 것을 특징으로 한다.
상기에 의하면, 비커플링 부위에 적어도 1개 이상의 황을 포함하는 오가노실레인 또는/및 그 가수 분해물의 단체, 및 2량체 이상의 축합물을 친수성 유기용제에 희석한 처리액에 의해 형성한 방담 성능막은 광학 특성을 손상함이 없이, 방담 성능을 가진 렌즈를 제작할 수 있다. 물품이 광학용도에 사용되는 경우, 표면에 형성되는 막의 막 두께에 따라서는 표면의 반사특성이 변화되어, 광선 반사율 및 투과율 등의 광학 특성이 변화되는 우려가 있지만, 상기 친수성 유기용제에 희석한 처리액에 의해 형성된 방담 성능막은 매우 얇기 때문에, 광학 특성에 영향을 주지 않는다. 이 때문에 양호한 방담 성능을 갖는 렌즈가 얻어진다.
또한, 본 발명의 방담 처리액의 제조방법은 비커플링 부위에 적어도 1개 이상의 황을 포함하는 오가노실레인 또는/및 그 가수 분해물을 0℃ 이상 70℃ 이하로 0.1시간 이상 200시간 이하 유지하여, 단체 및 2량체 이상의 축합물로 하는 것을 특징으로 한다.
상기에 의하면, 비커플링 부위에 적어도 1개 이상의 황을 포함하는 오가노실레인 또는/및 그 가수분해물의 커플링 부위는 저온에서는 천천히, 고온에서는 보다 빠르게 가수분해 및 축합이 진행된다. 이 온도와 시간을 제어함으로써 비커플링 부위에 적어도 1개 이상의 황을 포함하는 오가노실레인의 2량체 이상의 축합물이 오가노실레인 총량의 1중량% 이상 70중량% 미만으로 되는 방담 처리액의 제조가 가능하다.
또한, 본 발명의 방담 처리액의 제조방법은 상기 비커플링 부위에 적어도 1개 이상의 황을 포함하는 오가노실레인 또는/및 그 가수 분해물을 산 촉매, 알칼리 촉매, 아민계 촉매, 금속화합물 촉매로부터 선택되는 1종 이상의 촉매의 존재하에서 처리하여, 단체 및 2량체 이상의 축합물로 하는 것을 특징으로 한다.
상기에 의하면, 비커플링 부위에 적어도 1개 이상의 황을 포함하는 오가노실 레인 또는/및 그 가수 분해물의 커플링 부위의 축합 및 가수분해를, 산 촉매, 알칼리 촉매, 아민계 촉매, 금속화합물 촉매로부터 선택되는 1종 이상의 촉매에 의해 제어하는 것으로, 비커플링 부위에 적어도 1개 이상의 황을 포함하는 오가노실레인의 2량체 이상의 축합물이 오가노실레인 총량의 1중량% 이상 70중량% 미만으로 되는 방담 처리액의 제조가 가능하다.
또한, 본 발명의 방담성 물품의 제조방법은 상기 비커플링 부위에 적어도 1개 이상의 황을 포함하는 오가노실레인 또는/및 그 가수 분해물이 설폰산에스터기, 싸이올기, 설파이드기, 다이설파이드기로부터 선택되는 1종 이상의 작용기를 함유하고, 이것을 설폰산기로 전환하는 것을 특징으로 한다.
상기에 의하면, 비커플링 부위에 적어도 1개 이상의 황을 포함하는 오가노실레인 또는/및 그 가수 분해물의 설폰산에스터기, 싸이올기, 설파이드기, 다이설파이드기는 또한 양호한 친수성을 나타내는 설폰산기로 변환하는 것으로, 또한 양호한 방담 성능을 갖는 막을 제조할 수 있다.
또한, 본 발명의 방담 처리액의 제조방법은 비커플링 부위에 적어도 1개 이상의 황을 포함하는 오가노실레인 또는/및 그 가수 분해물의 단체, 및 2량체 이상의 축합물을 친수성 유기용제에 희석한 처리액을 기재 표면에 도포하는 공정과, 상기 처리액이 도포된 기재를 가열처리하여 건조 경화하는 공정을 포함하는 것을 특징으로 한다.
상기에 의하면, 비커플링 부위에 적어도 1개 이상의 황을 포함하는 오가노실레인 또는/및 그 가수 분해물의 단체, 및 2량체 이상의 축합물을 친수성 유기용제 에 희석한 처리액을 기재 표면에 도포하고, 이것을 가열처리하여 건조 경화하는 것으로, 비커플링 부위에 적어도 1개 이상의 황을 포함하는 오가노실레인 또는/및 그 가수 분해물의 커플링 부위의 반응을 완결시켜 충분한 방담 성능 및 막 자체의 내구성을 갖는 방담성 물품이 얻어진다.
또한, 본 발명의 방담성 물품의 제조방법은 비커플링 부위에 적어도 1개 이상의 황을 포함하는 오가노실레인 또는/및 그 가수 분해물의 단체, 및 2량체 이상의 축합물을 친수성 유기용제에 희석한 처리액에 함유되는 설폰산에스터기, 싸이올기, 설파이드기, 다이설파이드기로부터 선택되는 1종 이상의 작용기를 설폰산기로 전환하는 공정과 상기 친수성 유기용제에 희석한 처리액을 기재 표면에 도포하는 공정과, 상기 처리액을 도포한 기재를 가열처리하여 건조 경화하는 공정을 포함하는 것을 특징으로 한다.
상기에 의하면, 비커플링 부위에 적어도 1개 이상의 황을 포함하는 오가노실레인 또는/및 그 가수 분해물의 설폰산에스터기, 싸이올기, 설파이드기, 다이설파이드기는 또한 양호한 친수성을 나타내는 설폰산기로 치환하는 것으로, 또한 양호한 방담 성능을 갖게 할 수 있다. 또한, 이 처리액을 기재 표면에 도포하여, 이것을 가열처리하여 건조 경화하는 것으로, 비커플링 부위에 적어도 1개 이상의 황을 포함하는 오가노실레인 또는/및 그 가수 분해물의 커플링 부위의 반응을 완결시켜, 충분한 방담 성능 및 막 자체의 내구성을 갖는 방담성 물품이 얻어진다.
또한, 본 발명의 방담성 물품의 제조방법은 비커플링 부위에 적어도 1개 이상의 황을 포함하는 오가노실레인 또는/및 그 가수 분해물의 단체, 및 2량체 이상 의 축합물을 친수성 유기용제에 희석한 처리액을 기재 표면에 도포하는 공정과, 상기 처리액을 도포한 기재를 가열처리하여 건조 경화하는 공정과, 비커플링 부위에 함유되는 설폰산에스터기, 싸이올기, 설파이드기, 다이설파이드기로부터 선택되는 1종 이상의 작용기를 설폰산기로 전환하는 공정을 포함하는 것을 특징으로 한다.
상기에 의하면, 비커플링 부위에 적어도 1개 이상의 황을 포함하는 오가노실레인 또는/및 그 가수 분해물의 단체, 및 2량체 이상의 축합물을 친수성 유기용제에 희석한 처리액을 기재 표면에 도포하고, 이것을 가열처리하여 건조 경화하는 것으로, 비커플링 부위에 적어도 1개 이상의 황을 포함하는 오가노실레인 또는/및 그 가수 분해물의 커플링 부위의 반응을 완결시켜, 방담 성능 및 막 자체의 내구성을 갖는 막을 제작하고, 또한, 비커플링 부위에 함유되는 설폰산에스터기, 싸이올기, 설파이드기, 다이설파이드기로부터 선택되는 1종 이상의 작용기를 설폰산기로 변환하는 것으로, 보다 양호한 방담 성능을 갖는 방담성 물품이 얻어진다.
또한, 본 발명의 방담성 물품의 제조방법은 상기 처리액을 도포한 기재를 가열처리하여 건조 경화하는 공정이 50℃ 이상 300℃ 이하의 온도범위로, 1분 이상 24시간 이하인 것을 특징으로 한다.
상기에 의하면, 비커플링 부위에 적어도 1개 이상의 황을 포함하는 오가노실레인 또는/및 그 가수 분해물을 친수성 유기용제에 희석한 처리액을 기재 표면에 도포한 후, 도포된 처리액중의 용매를 제거하여, 오가노실레인의 반응을 완결시켜, 충분한 방담 성능 및 막 자체의 내구성을 갖는 방담성 물품이 얻어진다.
또한, 본 발명의 방담성 물품의 제조방법은 상기 처리액을 기재 표면에 도포 하는 방법이 딥 코팅법인 것을 특징으로 한다.
상기에 의하면, 딥 코팅법을 이용하는 것에 의해, 외관이 양호한 균일한 막을 갖는 방담성 물품이 얻어진다.
또한, 본 발명의 방담성 물품의 제조방법은 상기 처리액을 기재 표면에 도포하는 방법이 스핀 코팅법인 것을 특징으로 한다.
상기에 의하면, 스핀 코팅법을 이용하는 것에 의해, 외관이 양호한 균일한 막을 갖는 방담성 물품이 얻어진다.
본 발명의 방담 처리액 중의 비커플링 부위에 적어도 1개 이상의 황을 포함하는 오가노실레인은 단체 및 2량체 이상의 축합물을 함유한다. 2량체 이상의 축합물은 막내의 친수성기의 밀도를 향상시킨다. 또한, 단체로 존재하는 오가노실레인은 기재와 막의 고정화에 더하여, 2량체 이상의 축합물 사이, 2량체 이상의 축합물과 단체 분자 사이 및 단체 분자 사이에서 반응하여, 간극을 메우는 호료의 역할을 한다. 이것에 의해, 막 강도 및 물품 표면과의 높은 밀착성을 발현하는 작용을 한다. 또한, 호료로서 작용하는 단체에는 친수성기가 함유되기 때문에, 막에 있어서의 친수성기의 밀도를 저하시키지 않고, 우수한 방담특성을 나타내는 것이 가능하다.
본 발명의 방담 처리액 중의 비커플링 부위에 적어도 1개 이상의 황을 포함하는 오가노실레인의 2량체 이상의 축합물은 2량체 이상이면 충분한 친수성기의 밀도가 얻어진다. 보다 높은 친수성기의 밀도를 얻기 위해, 2량체 이상의 다양한 축합도의 축합물을 포함하는 것이 바람직하고, 보다 바람직하게는 다양한 2량체 이상 의 축합물중 축합도가 작은 것을 큰 것보다도 많이 포함하여, 막내의 충전율이 저하되지 않는 것이 바람직하다.
본 발명의 방담 처리액으로 사용되는 적당한 친수성 유기용제로는, 메탄올, 에탄올, 프로판올, 뷰탄올 등의 알코올류, 에틸렌글라이콜, 프로필렌글라이콜 등의 글라이콜류, 글리세린, 프로필렌글라이콜모노메틸에터 등의 글라이콜에터류, 아세톤, 메틸아이소뷰틸케톤 등의 케톤류, 테트라하이드로퓨란, 다이옥세인 등의 에터류, 물 등이다. 친수성 유기용제는 1종 또는 2종 이상을 혼합한 용매일 수 있다.
비커플링 부위에 적어도 1개 이상의 황을 포함하는 오가노실레인 함유량은 0.1중량% 이상 25중량% 이하로 하는 것이 바람직하다. 0.1중량% 미만으로서는, 방담성 막이 얇아지고, 내구성에 문제가 있다. 25중량%보다 높은 농도로 이용하더라도, 방담성 막의 막 두께, 성능에 변화가 보이지 않고, 경제적으로도 단점으로 된다. 물품이 광학용도에 사용되는 경우, 표면에 형성되는 막의 막 두께에 따라서는 표면의 반사특성이 변화되어, 광선 반사율 및 투과율이 변화되고, 따라서 광학 특성이 변화되지 않는 막이 요구되고, 이 경우, 함유량은 0.1중량% 이상 2중량% 이하로 하는 것이 바람직하다.
본 발명의 방담 처리액 중의 비커플링 부위에 적어도 1개 이상의 황을 포함하는 오가노실레인 또는/및 그 가수 분해물의 2량체 이상의 축합물은 오가노실레인 총량의 1중량% 이상 70중량% 미만이다. 1중량% 미만인 경우, 막내의 친수성기 밀도가 낮게 되어, 충분한 방담특성이 얻어지지 않는다. 또한, 70중량% 이상인 경우, 단체의 오가노실레인이 호료로서의 충분한 역할을 다 할 수 없고, 충분한 막 강도가 얻어지지 않는다. 보다 높은 방담 성능 및 막 강도를 얻기 위해서는 비커플링 부위에 적어도 l개 이상의 황을 포함하는 오가노실레인 또는/및 그 가수 분해물 단체와 2량체 이상의 축합물의 존재비가 중요하다. 그러나, 이용하는 오가노실레인의 종류에 따라, 최적비율이 존재하기 때문에, 한정은 할 수 없지만, 2량체 이상의 축합물이 5중량% 이상 50중량% 미만인 것이 바람직하다.
본 발명에서 이용하는 비커플링 부위에 적어도 1개 이상의 황을 포함하는 오가노실레인 또는/및 그 가수 분해물은 설폰산에스터기, 싸이올기, 설파이드기, 다이설파이드기, 설폰산기로부터 선택되는 1종 이상의 작용기를 함유한다. 설폰산에스터기, 싸이올기, 설파이드기, 다이설파이드기는 산화되어 설폰산기 또는 황산기로 하는 것이 바람직하다.
설폰산에스터기, 싸이올기, 설파이드기, 다이설파이드기는 오가노실레인 또는/및 그 가수 분해물의 어떤 위치에 존재하더라도 좋지만, 친수성이 발현하기 쉽도록 하기 위해서는, 설폰산 또는 황산기로 변환했을 때에 말단에 있는 것이 바람직하다. 오가노실레인의 반응부위는 클로로실레인 또는 알콕시실레인, 실라잔 등의 실레인올로 변환하여 축합 및 물품 표면의 활성기와 반응하는 것이 가능한 기이다.
비커플링 부위에 적어도 1개 이상의 황을 포함하는 오가노실레인 또는/및 그 가수분해물의 예로서, 3-머캅토프로필 트라이에톡시실레인, 3-머캅토프로필트라이메톡시실레인, 3-머캅토프로필메틸다이메톡시실레인, 3-머캅토프로필다이메틸메톡시실레인, 2-머캅토프로필트라이에톡시실레인, 2-머캅토프로필트라이메톡시실레인, 2-머캅토프로필메틸다이메톡시실레인, 2-머캅토프로필다이메틸메톡시실레인, 2-머캅토에틸트라이에톡시실레인, 2-머캅토에틸트라이메톡시실레인, 2-머캅토에틸메틸다이메톡시실레인, 2-머캅토에틸다이메틸메톡시실레인, 2-(2-클로로에틸싸이오에틸)트라이에톡시실레인, 머캅토메틸트라이메톡시실레인, 다이메톡시-3-머캅토프로필메틸실레인, 2-(2-아미노에틸싸이오에틸)다이에톡시메틸실레인, 다이메톡시메틸-3-(3-페녹시프로필싸이오프로필)실레인, 3-(2-아세톡시에틸싸이오프로필)다이메톡시메틸실레인, 2-(2-아미노에틸싸이오에틸)트라이에톡시실레인, 3-트라이메톡시실릴프로판설폰산아이소프로필에스터, 비스[3-(트라이에톡시실릴)프로필]테트라설파이드, 비스[3-(트라이에톡시실릴)프로필]다이설파이드, 비스[3-(트라이에톡시실릴)프로필]설파이드, 3-트라이메톡시실릴프로필설폰산 등을 들 수 있다.
본 발명에 있어서 방담 처리액은 방담 처리막의 균일성, 외관 향상을 위해, 계면활성제를 혼합하는 것이 가능하다. 음이온성 계면활성제, 비이온성 계면활성제, 양이온성 계면활성제, 양면 계면활성제 등의 계면활성제류, 및 그 반응성 유도체 등을 들 수 있지만, 오가노실레인 측의 황을 포함하는 기와의 상호작용으로부터, 바람직하게는 음이온성의 것이 좋고, 또한 바람직하게는 음이온성기가 황산 또는 황산염 또는 설폰산 또는 설폰산염인 음이온성 계면활성제가 바람직하다. 사용되는 계면활성제는 특정한 1종 또는 2종류 이상을 혼합하여 사용할 수 있다. 계면활성제는 방담성 막 강도를 저해하지 않는 범위로 혼합가능하다. 이에 의하여, 비커플링 부위에 적어도 1개 이상의 황을 포함하는 오가노실레인 또는/및 그 가수 분해물에 대하여, 1중량% 내지 50중량%의 범위로 혼합이 가능하다.
구체적으로는, 음이온성 계면활성제로서는, 라우릴황산나트륨, 고급알코올황산나트륨, 라우릴황산트라이에탄올아민 등의 알킬황산에스터염; 도데실벤젠설폰산나트륨 등의 알킬벤젠설폰산염; 알킬나프탈렌설폰산나트륨 등의 알킬나프탈렌설폰산염; 다이알킬설포석신산나트륨 등의 알킬설포석신산염; 알킬다이페닐에터다이설폰산나트륨 등의 알킬다이페닐에터다이설폰산염; 알킬인산칼륨 등의 알킬인산염; 폴리옥시에틸렌라우릴에터황산나트륨, 폴리옥시에틸렌알킬에터황산나트륨, 폴리옥시에틸렌알킬에터황산트라이에탄올아민, 폴리옥시에틸렌알킬페닐에터황산나트륨 등의 폴리옥시에틸렌알킬(또는 알킬알릴) 황산에스터염; 특수 반응형 음이온 계면활성제; 특수 카복실산형 계면활성제; β-나프탈렌설폰산 포르말린 축합물의 나트륨염, 특수 방향족 설폰산 포르말린 축합물의 나트륨염 등의 나프탈렌 설폰산 포르말린 축합물; 특수 폴리카복실산형 고분자 계면활성제; 폴리옥시에틸렌알킬인산에스터 등이 있다.
비이온성 계면활성제로서는 폴리옥시에틸렌라우릴에터, 폴리옥시에틸렌세틸에터, 폴리옥시에틸렌스테아릴에터, 폴리옥시에틸렌올레일에터, 폴리옥시에틸렌고급알코올에터 등의 폴리옥시에틸렌알킬에터, 폴리옥시에틸렌노닐페닐에터 등의 폴리옥시에틸렌알킬아릴에터; 폴리옥시에틸렌 유도체; 솔비탄모노라우레이트, 솔비탄모노팔미테이트, 솔비탄모노스테아레이트, 솔비탄트라이스테아레이트, 솔비탄모노올레이트, 솔비탄트라이올레이트, 솔비탄세스퀴오레이트, 솔비탄다이스테아레이트 등의 솔비탄지방산에스터; 폴리옥시에틸렌솔비탄모노라우레이트, 폴리옥시에틸렌솔비탄모노라우레이트, 폴리옥시에틸렌솔비탄모노팔미테이트, 폴리옥시에틸렌솔비탄 모노스테아레이트, 폴리옥시에틸렌솔비탄트라이스테아레이트, 폴리옥시에틸렌솔비탄모노올레이트, 폴리옥시에틸렌솔비탄트라이올레이트 등의 폴리옥시에틸렌솔비탄지방산에스터; 테트라올레산폴리옥시에틸렌솔비드 등의 폴리옥시에틸렌솔비톨지방산에스터; 글리세롤모노스테아레이트, 글리세롤모노올레이트, 자기유화형 글리세롤모노스테아레이트 등의 글리세린지방산에스터; 폴리에틸렌글라이콜모노라우레이트, 폴리에틸렌글라이콜모노스테아레이트, 폴리에틸렌글라이콜다이스테아레이트, 폴리에틸렌글라이콜모노올레이트 등의 폴리옥시에틸렌지방산에스터: 폴리옥시에틸렌알킬아민; 폴리옥시에틸렌경화 피마자유; 알킬알카놀아미드 등이 있다.
양이온성 계면활성제 및 양면 계면활성제로서는, 코코넛아민아세테이트, 스테아릴아민아세테이트 등의 알킬아민염; 라우릴트라이메틸암모늄클로라이드, 스테아릴트라이메틸암모늄클로라이드, 세틸트라이메틸암모늄클로라이드, 다이스테아릴다이메틸암모늄클로라이드, 알킬벤질다이메틸암모늄클로라이드 등의 제4급 암모늄염: 라우릴베타인, 스테아릴베타인, 라우릴카르복시메틸하이드록시에틸이미다졸리늄베타인 등의 알킬베타인; 라우릴다이메틸아민옥사이드 등의 아민옥사이드가 있다.
본 발명의 방담 처리액 중의 비커플링 부위에 적어도 1개 이상의 황을 포함하는 오가노실레인의 커플링 부위는 친수성 유기용제 중에서 저온에서는 천천히, 고온에서는 보다 빠르게 가수분해 및 축합이 진행된다. 0℃ 미만에서는 축합이 대단히 느리고, 2량체 이상의 축합물을 제조하는 데 매우 긴 시간이 걸리고, 작업성이 좋지 않다. 70℃를 초과하는 온도에서는 축합이 매우 빠르게 진행되기 때문에, 제어가 어렵다. 이에 의하여, 비커플링 부위에 적어도 1개 이상의 황을 포함하는 오가노실레인 또는/및 그 가수 분해물을 친수성 유기용제에 희석한 후, 0℃ 이상 70℃ 이하로 0.1시간 이상 200시간 이하로 유지하는 것이 바람직하다. 또한, 축합도의 제어를 보다 안정적으로 하기 위해서는, 0℃ 이상 40℃ 이하에서 2시간 이상 200시간 이하로 유지하는 것이 바람직하다.
비커플링 부위에 적어도 1개 이상의 황을 포함하는 오가노실레인의 2량체 이상의 축합물을 제조할 때, 환경에 의해서 제어하는 방법과 함께, 산 촉매, 알칼리 촉매, 아민계 촉매, 금속화합물 촉매로부터 선택되는 1종 이상의 촉매를 이용하는 방법을 조합시킬 수 있다.
본 발명의 방담 처리액 중의 비커플링 부위에 적어도 1개 이상의 황을 포함하는 오가노실레인 또는/및 그 가수 분해물의 커플링 부위의 축합 및 가수분해를, 산 촉매, 알칼리 촉매, 아민계 촉매, 금속화합물 촉매로부터 선택되는 1종 이상의 촉매에 의해서 제어하는 것으로, 비커플링 부위에 적어도 1개 이상의 황을 포함하는 오가노실레인의 2량체 이상의 축합물이 오가노실레인 총량의 1중량% 이상 70중량% 미만으로 되는 방담 처리액의 제조가 또한 용이하게 되는 것이 가능하다.
산 촉매는 염산, 황산, 질산, 아세트산, 개미산, 타르타르산, 시트르산, 탄산을 들 수 있다. 염산, 황산, 질산, 탄산 등의 카복실기를 갖지 않는 산에 관해서는, 오가노실레인의 가수분해를 촉진하는 효과가 있고, 카복실기를 갖는 산은 오가노실레인에 대하여 배위하기 때문에, 축합을 억제하는 효과가 있다. 이에 의하여, 카복실기를 갖지 않는 산과 카복실기를 혼합하여 이용하면, 축합도의 제어가 보다 용이하게 되는 것이 가능하다.
알칼리 촉매는 수산화나트륨, 수산화칼륨, 수산화칼슘, 암모늄화합물 등을 들 수 있다. 아민계 촉매는 구체적으로는, 에틸렌다이아민, N,N-다이메틸벤질아민, 트라이프로필아민, 트라이뷰틸아민, 트라이펜틸아민, n-뷰틸아민, 트라이에틸아민, 구아니딘 등의 아민, 글라이신 등의 아미노산, 2-메틸이미다졸, 2,4-다이에틸이미다졸, 2-페닐이미다졸 등의 이미다졸의 어느 것이라도 좋지만, 가수분해 및 축합물에 대하여, 수소결합을 만들어, 축합반응을 제어하는 효과로부터 하이드록실기를 함유하는 아민이 바람직하다.
금속화합물 촉매로서, 알루미늄아세틸아세토네이트, 티탄아세틸아세토네이트, 크로뮴아세틸아세토네이트 등의 금속아세틸아세토네이트, 아세트산나트륨, 나프텐산아연, 옥틸산주석 등의 유기산금속염, SnCl4, TiCl4, ZnCl2 등의 루이스산, 과염소산마그네슘 등을 들 수 있다.
3급아민, 유기주석 화합물 촉매에 관해서는, 그 효과를 높이기 위해 혼합하여 이용하더라도 좋은 것이 일반적으로 공지되어 있다. 촉매량은 각각의 촉매에 따라 효과가 다르기 때문에, 일반화할 수는 없지만, 막의 방담특성을 저해하지 않도록 이용하는 것이 바람직하고, 구체적으로는, 처리액 중의 고형분에 대하여, 75% 이하로 혼합하는 것이 바람직하다.
본 발명의 방담 처리액 중의 비커플링 부위에 적어도 1개 이상의 황을 포함하는 오가노실레인 또는/및 그 가수 분해물의 설폰산에스터기, 싸이올기, 설파이드 기, 다이설파이드기는 또한 양호한 친수성을 나타내는 설폰산기로 변환하는 것으로, 또한 양호한 방담 성능을 제공할 수 있다.
설폰산에스터기, 싸이올기, 설파이드기, 다이설파이드기의 산화는 오가노실레인 또는/및 그 가수 분해물을 축합하기 전 또는 축합한 후라도 상관없지만, 보다 효율적으로 산화를 수행하기 위해, 오가노실레인 또는/및 그 가수 분해물을 축합하기 전에 하는 것이 바람직하다. 산화는, 일반적으로 사용되고 있는 산화반응(과망간산나트륨, 과산화수소수, 염산, 브롬화수소, 오존함유 가스 등에 의한 산화)에 의해 실시된다.
비커플링 부위에 적어도 1개 이상의 황을 포함하는 오가노실레인 또는/및 그 가수 분해물과 물품 표면의 반응성을 높이기 위해, 플라즈마 처리, 알칼리 처리를 실시하여, 물품 표면의 활성을 상승시키면 물품 표면과의 반응율에 효과가 있고, 방담효과도 향상된다.
본 발명의 방담 처리액으로 처리되는 물품은 유리, 플라스틱, 산화물, 금속, 목재, 세라믹, 시멘트, 콘크리트, 섬유, 종이, 돌 및 피혁으로 이루어지는 군으로부터 선택된 재질의 것이다. 오가노실레인과의 반응을 감안하는 경우, 유리를 포함하는 산화물 표면인 것이 바람직하다.
본원 명세서에 있어서 사용하는 용어의 의의 및 본 발명의 상세한 설명은 이상과 같지만, 본 발명의 이해를 또한 용이하게 하도록 본 발명의 특징을 이하에 기재한다.
우선, 본 발명의 제 1 특징은 비커플링 부위에 적어도 1개 이상의 황을 포함 하는 오가노실레인 또는/및 그 가수 분해물의 단체, 및 2량체 이상의 축합물을 함유함으로써 충분한 친수성기의 밀도를 얻고, 우수한 방담성을 발현한다. 또한, 비커플링 부위에 적어도 1개 이상의 황을 포함하는 오가노실레인 또는/및 그 가수 분해물의 2량체 이상의 축합물은 오가노실레인 총량의 0.5중량% 이상 70중량% 미만인 것에 의해, 막내에 효율적으로 친수성기를 배치하여, 막 강도 및 물품 표면과의 밀착성을 향상시킨다.
제 2 특징은 비커플링 부위에 적어도 1개 이상의 황을 포함하는 오가노실레인 또는/및 그 가수 분해물의 2량체 이상의 축합물을 제조하는 방법으로서, 처리액을 일정 환경으로 유지하는 것에 따라 그 제어를 한다. 또한, 산 촉매, 알칼리 촉매, 아민계 촉매, 금속화합물 촉매로부터 선택되는 1종 이상의 촉매를 함유한 상태 또는 함유하지 않은 상태에서도 축합물을 제조하는 것이 가능하다.
제 3 특징은 비커플링 부위에 적어도 1개 이상의 황을 포함하는 오가노실레인 또는/및 그 가수 분해물의 단체 및 2량체 이상의 축합물을 친수성 유기용제에 희석한 처리액을 기재 표면에 처리함으로써 충분한 친수성기의 밀도가 얻어지고, 우수한 방담 성능막이 형성된 방담성 물품의 제조가 가능하다.
또한, 비커플링 부위에 적어도 1개 이상의 황을 포함하는 오가노실레인 또는/및 그 가수 분해물의 2량체 이상의 축합물은 오가노실레인 총량의 0.5중량% 이상 70중량% 미만인 것에 의해, 막내에 효율적으로 친수성기를 배치하여, 막 강도 및 기재 표면과의 밀착성이 향상된 방담성 물품의 제조가 가능하다. 더욱이, 비커플링 부위에 적어도 1개 이상의 황을 포함하는 오가노실레인 또는/및 그 가수 분해물 의 단체 및 2량체 이상의 축합물을 친수성 유기용제에 희석한 처리액은 계면활성제를 포함할 수 있다.
제 4 특징은 상기 기재가 렌즈인 것을 특징으로 하는 방담제 물품이다. 비커플링 부위에 적어도 1개 이상의 황을 포함하는 오가노실레인 또는/및 그 가수 분해물의 단체 및 2량체 이상의 축합물을 친수성 유기용제에 희석한 처리액에 의해 형성된 방담 성능막은 매우 얇기 때문에, 광학 특성을 손상함이 없이 방담 성능을 갖는 렌즈를 제작할 수 있다.
제 5 특징은 방담제 물품의 제조방법이, 도 1(a)의 방담성 물품의 제조 공정 순서도에 나타낸 바와 같이, 비커플링 부위에 적어도 1개 이상의 황을 포함하는 오가노실레인 또는/및 그 가수 분해물의 단체 및 2량체 이상의 축합물을 친수성 유기용제에 희석한 처리액을 기재 표면에 도포하는 공정과, 상기 처리액을 도포한 기재를 가열처리하여 건조 경화하는 공정을 포함하는 방담성 물품의 제조방법이다.
또한, 도 1(b)의 방담성 물품의 제조 공정 순서도에 나타낸 바와 같이, 비커플링 부위에 적어도 1개 이상의 황을 포함하는 오가노실레인 또는/및 그 가수 분해물의 단체 및 2량체 이상의 축합물을 친수성 유기용제에 희석한 처리액에 함유되는 설폰산에스터기, 싸이올기, 설파이드기, 다이설파이드기로부터 선택되는 1종 이상의 작용기를 설폰산기로 전환하는 공정과, 상기 처리액을 기재 표면에 도포하는 공정과, 상기 처리액을 도포한 기재를 가열 처리하여 건조 경화하는 공정을 포함하는 방담성 물품의 제조방법이다.
또한, 도 1(c)의 방담성 물품의 제조 공정 순서도에 나타낸 바와 같이, 비커 플링 부위에 적어도 1개 이상의 황을 포함하는 오가노실레인 또는/및 그 가수 분해물의 단체 및 2량체 이상의 축합물을 친수성 유기용제에 희석한 처리액을 기재 표면에 도포하는 공정과, 상기 처리액을 도포한 기재를 가열 처리하여 건조 경화하는 공정과, 비커플링 부위에 함유되는 설폰산에스터기, 싸이올기, 설파이드기, 다이설파이드기로부터 선택되는 1종 이상의 작용기를 설폰산기로 전환하는 공정을 포함하는 방담성 물품의 제조방법이다.
제 1 도는 본 발명의 방담성 물품의 제조 공정의 순서도이고, 3가지 예의 제조 공정 순서도를 (a) 내지 (c)에 나타낸다.
이하, 본 발명의 방담 처리액 및 그 제조방법에 대하여 설명한다. 한편, 방담 처리액은 처리액 A 내지 I의 9종류에 대하여 설명한다.
처리액 A
3-머캅토프로필트라이메톡시실레인 0.01mol을 에탄올 1.19ml에 용해하고, 여기에, 0.2 N 황산을 0.238g 첨가하여, 30℃에서 2시간 교반하고, 메톡시기의 가수분해를 실시했다. 여기에 7.6% 과산화수소수 77.54g을 가하여, 60℃의 환경하에서 24시간 교반하여, 싸이올기의 산화반응과 실란올기의 축합반응을 했다.
이 액을 FT-NMR에서 분석한 바, 머캅토기가 산화되고, 메톡시기가 가수분해되어, 트라이실록시프로판설폰산이 합성되는 것을 알게 되었다. 이 액의 일부를 순수로 200배 희석하여, LC/MS에서 분석한 바, 2량체 이상의 축합물의 존재가 확인되었고, 그 비율은 전체 고형분량 중의 42중량%인 것을 확인했다. 또한, 트라이실록시프로판설폰산 용액의 고형분 농도를 측정한 바, 2.4중량%였다.
이 트라이실록시프로판설폰산 용액을 에탄올로써 고형분 농도가 0.15중량%가 되도록 희석하고, 150g의 희석액을 수득했다. 이 희석액에, 다이라우릴설포석신산나트륨(닛코케미칼즈주식회사 제품 닛콜OTP-100)을 처리액 총량에 대하여 100ppm 가하여, 처리액 A로 했다.
처리액 B
비스[3-(트라이에톡시실릴)프로필]다이설파이드 0.01mo1(4.75g)을 t-뷰탄올 47.5g에 용해하고, 0.1N 질산 1.7g을 가하여 25℃에서 2시간 교반했다. 이것을 FT-NMR에서 분석한 결과, 에톡시기가 가수분해되어, 비스[3-(트라이실록시실릴)프로필]다이설파이드로 되는 것을 알았다.
이 용액 1.5g을 에탄올로 100배 희석하여, 전량 150g으로 했다. 또한, 여기에, 1N 수산화나트륨 용액 0.1g을 혼합하여, 실온으로 30분 교반했다(B-1액). 이 B-1액의 일부를 순수로 20배 희석하여, LC/MS에서 분석한 바, 2량체 이상의 축합물의 존재가 확인되어, 그 비율은 전화합물량 중의 30%인 것을 확인했다. 다음으로 B-1액에 라우릴황산나트륨을 처리액 총량에 대하여, 50 ppm 가하여 처리액 B로 했다.
처리액 C
비스[3-(트라이에톡시실릴)프로필]다이설파이드 0.02mol(4.75g)를 t-부탄올 40.5g에 용해하고, 0.1N 질산 1.2g을 가하여 30℃에서 5시간 교반했다. 이것을 FT-NMR에서 분석한 바, 에톡시기가 가수분해되어, 비스[3-(트라이실록시실릴)프로필]다이설파이드로 되는 것을 확인했다.
이 용액 2.25g을 에탄올로 100배 희석하여, 전량 150g으로 한 것을 처리액 C로 했다. 이 처리액 C의 일부를 순수로 20배 희석하여, LC/MS에서 분석한 바 2량체 이상의 축합물의 존재가 확인되어, 그 비율은 전화합물량 중의 29중량% 인 것을 확인했다.
처리액 D
처리액 C와 같은 방식으로 제작한 비스[3-(트라이실록시실릴)프로필]다이설파이드 용액을 에탄올/물(50/50 부피%) 용매로 10배 희석하여, 이것에 오존가스를 산소가스로 희석한 오존함유 가스(오존함유량 200g/m3)를 2.5 l/min으로 30분간 통과시켜 산화시켰다. 이 액을 FT-NMR에서 분석한 바, 다이설파이드기가 산화되어, 트라이실록시프로판설폰산이 합성되는 것을 확인했다. 이렇게 해서 수득된 트라이실록시프로판설폰산 용액의 고형분 농도를 측정한 바, 2.0%였다.
이 트라이실록시프로판설폰산 용액을 에탄올로써 고형분 농도가 0.15중량%가 되도록 희석하여, 150g의 희석액을 얻어, 처리액 D로 했다. 이 처리액 D의 일부를 순수로 20배 희석하여, LC/MS에서 분석한 바, 2량체 이상의 축합물의 존재가 확인되어, 그 비율은 전체 고형분량 중의 30중량%인 것을 확인했다.
처리액 E
아세톤 60 ml에 3-머캅토프로필트라이메톡시실레인 0.02mol을 용해하고, 이것을 빙냉된 0.4mol/l 과망간산칼륨 수용액 200 ml 중에 빙냉한 채로 1시간에 걸쳐 적하했다. 적하 종료후, 25℃에서 2시간 교반하여, 미반응의 과망간산칼륨을 이산화망간으로 했다. 이 반응액을 0℃에서 1일동안 보관하여, 이산화망간 미립자를 침강시켜, 이것을 여과시켰다. 이 여과액을 FT-NMR에서 분석한 바, 머캅토기가 산화되고, 메톡시기가 가수분해되어, 트라이실록시프로판설폰산칼륨이 합성되는 것을 알게 되었다. 또한, 트라이실록시프로판설폰산칼륨 용액의 고형분 농도를 측정한 바, 3중량%였다.
수득된 트라이실록시프로판설폰산칼륨 용액을 재생한 강산성 양이온 교환 수지(오가노주식회사 제품 앰버라이트 IR-120 Na) 100ml 중을 속도 SV4로써 통과시켰다. 트라이실록시프로판설폰산칼륨 용액의 pH 10.5인 것에 대하여, 이온 교환한 용액은 pH 1.3이고, 설폰산칼륨이 설폰산으로 이온 교환되어, 트라이실록시프로판설폰산 용액으로 되는 것이 확인되었다. 트라이실록시프로판설폰산 용액의 고형분 농도를 측정한 바, 1.5중량%였다.
이 트라이실록시프로판설폰산 용액을 에탄올로써 고형분 농도가 0.15중량%가 되도록 희석하여, 150g의 희석액을 수득했다. 이 희석액을 0℃에서 72시간 보관하여 축합물을 생성한 후, 다이라우릴설포석신산나트륨(닛코케미칼즈주식회사 제품 닛콜OTP-100)을 처리액 총량에 대하여 100 ppm 부가하여, 처리액 E로 했다.
이 처리액 E의 일부를 순수로 20배 희석하여, LC/MS에서 분석한 바, 2량체 이상의 축합물의 존재가 확인되고, 그 비율은 전체 고형분량 중의 15중량%인 것을 확인했다.
처리액 F
처리액 E를 조제할 때와 같은 방식으로, 트라이실록시프로판설폰산 용액을 제조하고, 이것을 고형분 농도가 0.15중량%가 되도록 에탄올로 희석하고, 150g의 희석액을 수득했다. 여기에 N-아미노에틸에탄올아민을 0.3g 혼합하여, 40℃에서 2시간 유지하여 축합물을 생성한 후, 다이라우릴설포석신산나트륨(닛코케미칼즈주식회사 제품 닛콜OTP-100)을 처리액 총량에 대하여 100ppm 가하여, 처리액 F로 했다.
이 처리액 F의 일부를 순수로 20배 희석하여, LC/MS에서 분석한 바, 2량체 이상의 축합물의 존재가 확인되고, 그 비율은 전체 고형분량 중의 62중량%인 것을 확인했다.
처리액 G
처리액 E를 조제할 때와 같은 방식으로, 트라이실록시프로판설폰산 용액을 제조하고, 이것을 에탄올로써 고형분 농도가 0.15중량%가 되도록 희석하여, 150g의 희석액을 수득했다. 이 희석직후의 액을 처리액 G로 했다.
이 처리액 G의 일부를 순수로 20배 희석하여, LC/MS에서 분석한 바, 2량체 이상의 축합물의 존재가 확인되고, 그 비율은 전체 고형분량 중의 0.6중량%인 것을 확인했다.
처리액 H
처리액 F를 조제할 때와 같은 방식으로, 트라이실록시프로판설폰산 용액을 제조하고, 이것을 고형분 농도가 0.15중량%가 되도록 에탄올로 희석하고, 150g의 희석액을 수득했다. 여기에 N-아미노에틸에탄올아민을 0.3g 혼합하여, 75℃에서 200시간 유지하여 축합물을 생성하고 처리액 H로 했다.
이 처리액 H의 일부를 순수로 20배 희석하여, LC/MS에서 분석한 바, 2량체 이상의 축합물의 존재가 확인되고, 그 비율은 전체 고형분량 중의 79중량%인 것을 확인했다.
처리액 I
처리액 C에서 비스[3-(트라이에톡시실릴)프로필]다이설파이드 대신에, n-헥실트라이에톡시실레인을 4.96g 이용한 것 이외에는 같은 방식으로 가수분해, 축합을 하고, 에탄올로써 고형분 농도가 0.15중량%가 되도록 희석하여, 150g의 처리액 I를 수득했다.
이 처리액 I의 일부를 순수로 20배 희석하여, LC/MS에서 분석한 바, 2량체 이상의 축합물의 존재가 확인되고, 그 비율은 전화합물량 중의 52중량%인 것을 확인했다.
다음으로, 상기에서 설명한 방담 처리액(처리액 A 내지 I)을 이용하여, 기재의 표면에 방담 성능막을 형성한 방담성 물품 및 그 제조방법의 실시 형태를 설명한다. 한편, 기재로서, 안경용 플라스틱렌즈, 프로젝터용 광학부품, 카메라용 아이피스, 백판유리를 이용했다.
실시예 1
딥 코팅에 의해 기재 표면에 도포하는 공정: 렌즈재료로서, 하드 코팅막, 반사 방지막(최외층이 SiO2막)의 층을 갖는 안경용 플라스틱 렌즈(「SEICO SUPER SOVEREIGN」세이코엡슨주식회사 제품)를 준비했다. 그 안경용 플라스틱 렌즈의 표면을 세정하기 위해 플라즈마 처리를 했다. 플라즈마 처리의 조건으로서는, 처리압력: 0.1Torr, 도입가스: 건조 공기, 전극간 거리: 24cm, 전원출력: DC 1KV, 처리시간: 15초로 했다.
플라즈마 처리한 안경용 플라스틱 렌즈를 처리액 A에 침지하여, 등속 인상 장치에서 20cm/분의 인상 속도로 도공했다.
가열 처리하여 건조 경화하는 공정: 처리액 B를 도포한 안경용 플라스틱 렌즈를 열풍 순환식 항온조내에서, 60℃로 4시간 유지하여, 기재와의 반응을 완결시켜, 방담 안경렌즈를 수득했다(시료 1).
수득된 방담 안경렌즈의 순수에 대한 접촉각은 5° 이하이고, 백탁 등의 외관상의 불량은 확인되지 않았다. 또한, 반사율은 처리전과 후에 변화가 보이지 않았다.
실시예 2
스핀 코팅에 의해 기재 표면에 도포하는 공정: 40℃의 1.6N 수산화칼륨액에 3분 침지하여, 순수로 충분히 세정한 프로젝터용 광학부품에, 스핀 코터를 이용하여 이하의 방법으로 처리액 B를 도공했다. 프로젝터용 광학부품의 중심부 부근을 진공 척으로 잡고, 회전수 500rpm에서 회전시킨 상태로 처리액 5ml를 토출하여, 회전수 2500rpm에서 10초간 회전시켜, 잉여 처리액을 분리하였다.
가열 처리하여 건조 경화하는 공정: 처리액 B를 도포한 프로젝터용 광학부품을 열풍 순환식 항온조내에서 120℃에서 1시간 유지하여 기재와의 반응을 완결시켰다.
작용기를 설폰산기로 전환하는 공정: 오존가스를 산소가스로 희석한 오존함유 가스(오존함유량 200g/m3)를 90℃에서 10분간 접촉시켜 산화처리함으로써 설파이드기를 설폰산기로 치환하여, 방담 프로젝터용 광학부품을 수득했다(시료 2).
설폰산기의 존재의 확인은, 메틸렌블루에 의한 염색에 의해서 실시했다. 메틸렌블루는 설폰산에 대하여, 이온적으로 매우 강하게 결합하기 때문에, 설폰산기가 존재하는 경우, 푸르게 염색되는 것으로 알려져 있다. 수득된 방담 프로젝터용 광학부품의 일부를 1mM 메틸렌블루 수용액(pH 4)에 25℃에서 1분간 침지한 후, 순수를 채운 초음파 세정기(욕 용량 2.6리터, 발진 주파수: 45kHz, 출력: 120W)로 3분간 세정을 한 바, 청색으로 염색되어 있는 것이 확인되었고, 설폰산기의 존재가 확인되었다. 수득된 방담 프로젝터용 광학부품의 순수에 대한 접촉각은 5° 이하이고, 백탁 등의 외관상의 불량은 확인되지 않았다. 반사율은 처리 전과 후에 변화가 발견되지 않았다.
실시예 3
스핀 코팅에 의해 기재 표면에 도포하는 공정: 처리액 C를 40℃의 1.6N 수산화칼륨액에 3분 침지하여, 순수로 충분히 세정한 프로젝터용 광학부품을 준비했다. 그 프로젝터용 광학부품에 스핀 코터를 이용하여 처리액 B를 도공했다. 스핀 코터를 이용한 처리액의 도공은 프로젝터용 광학부품의 중심부 부근을 진공 척으로 잡고, 회전수 500rpm에서 회전시킨 상태로 처리액 3ml를 토출하여 3초간 회전을 유지하고, 또한 회전수 2500rpm에서 10초간 회전시켜 잉여 처리액을 분리하였다.
가열 처리하여 건조 경화하는 공정: 처리액 C를 도포한 프로젝터용 광학부품을 열풍 순환식 항온조내에서 120℃에서 1시간 유지하여 기재와의 반응을 완결시켰다.
작용기를 설폰산기로 전환하는 공정: 오존가스를 용해한 오존물(오존 함유량 70 내지 80ppm)을 상온에서 20분간 접촉시켜 산화처리함으로써 설파이드기를 설폰산기로 치환하여, 방담 프로젝터용 광학부품을 수득하였다(시료 3).
설폰산기의 존재의 확인은, 메틸렌블루에 의한 염색에 의해서 실시했다. 수득된 방담 프로젝터용 광학부품의 일부를 1mM 메틸렌블루 수용액(pH 4)에 25℃에서 1분간 침지한 후, 순수를 채운 초음파 세정기(욕 용량 2.6리터, 발진 주파수: 45kHz, 출력: 120W)로 3분간 세정을 한 바, 청색으로 염색되어 있는 것을 확인하였고, 설폰산기의 존재가 확인되었다. 수득된 방담 프로젝터용 광학부품의 순수에 대한 접촉각은 5° 이하이고, 백탁 등의 외관상의 불량은 확인되지 않았다. 반사율은 처리 전과 후에 변화가 보이지 않았다.
실시예 4
딥 코팅에 의해 기재 표면에 도포하는 공정: 렌즈재료(기재)로서 하드 코팅막, 반사 방지막(최외층이 SiO2막)의 층을 갖는 안경용 플라스틱 렌즈(「SEICO SUPER SOVEREIGN」세이코엡슨주식회사 제품)를 준비했다. 그 안경용 플라스틱 렌즈의 표면을 세정하기 위해 플라즈마 처리를 했다. 플라즈마 처리의 조건으로서는, 처리압력: 0.1Torr, 도입가스: 건조 공기, 전극간 거리: 24cm, 전원출력: DC 1KV, 처리시간: 15초로 했다.
플라즈마 처리한 안경용 플라스틱 렌즈를 처리액 C에 침지하여, 등속 인상 장치에서 20cm/분의 인상 속도로 도공했다.
가열 처리하여 건조 경화하는 공정: 처리액 C를 도포한 안경용 플라스틱 렌즈를 열풍 순환식 항온조내에서 60℃에서 4시간 유지하여, 기재와의 반응을 완결시켜, 방담 안경렌즈를 수득했다(시료 4).
수득된 방담 안경렌즈의 순수에 대한 접촉각은 5°이하이고, 백탁 등의 외관상의 불량은 확인되지 않았다. 또한, 반사율은 처리 전과 후에 변화가 보이지 않았다.
실시예 5
딥 코팅에 의해 기재 표면에 도포하는 공정: 40℃의 1.6N 수산화칼륨액에 3분 침지하여, 순수로 충분히 세정한 프로젝터용 광학부품을 준비한다. 그 프로젝터용 광학부품을 처리액 D에 침지하여, 등속 인상 장치를 이용하여 20cm/분의 인상 속도로 도공했다.
가열 처리하여 건조 경화하는 공정: 처리액 D를 도포한 프로젝터용 광학부품을 열풍 순환식 항온조내에서 120℃에서 1시간 유지하여, 기재와의 반응을 완결시켜, 방담 프로젝터용 광학부품을 수득하였다(시료 5).
수득된 방담 프로젝터용 광학부품의 순수에 대한 접촉각은 5° 이하이고, 백탁 등의 외관상의 불량은 확인되지 않았다. 반사율은 처리 전과 후에 변화가 보이지 않았다.
실시예 6
딥 코팅에 의해 기재 표면에 도포하는 공정: 40℃의 1.6N 수산화칼륨액에 3분 침지하여, 순수로 충분히 세정한 백판유리를 준비했다. 그 백판유리를 처리액 E에 침지하여, 등속 인상 장치를 이용하여 20cm/분의 인상 속도로 도공했다.
가열 처리하여 건조 경화하는 공정: 처리액 E를 도포한 백판유리를 열풍 순환식 항온조내에서 120℃에서 1시간 유지하고, 기재와의 반응을 완결시켜, 방담 백판 유리를 수득하였다(시료 6).
수득된 방담 백판 유리의 순수에 대한 접촉각은 5° 이하이고, 백탁 등의 외관상의 불량은 확인되지 않았다. 또한, 반사율은 처리 전과 후에 변화가 보이지 않았다.
실시예 7
딥 코팅에 의해 기재 표면에 도포하는 공정: 플라즈마 처리를 60초간 행한 카메라용 아이피스를 기재로서 준비했다. 플라즈마 처리의 조건으로서는 처리압력: 0.1Torr, 도입가스: 건조 공기, 전극간 거리: 24cm, 전원출력: DC 1KV, 처리시간: 60초로 했다. 이 플라즈마 처리를 한 카메라용 아이피스를 처리액 F에 침지하고, 등속 인상 장치를 이용하여 20cm/분의 인상 속도로 도공했다.
가열 처리하여 건조 경화하는 공정: 처리액 F를 도포한 카메라용 아이피스를 열풍 순환식 항온조내에서 120℃에서 1시간 유지하여 기재와의 반응을 완결시켜, 방담 카메라용 아이피스를 수득하였다(시료 7).
수득된 방담 카메라용 아이피스의 순수에 대한 접촉각은 5° 이하이고, 백탁 등의 외관상의 불량은 확인되지 않았다. 반사율은 처리 전과 후에 변화가 보이지 않았다.
비교예 1
딥 코팅에 의해 기재 표면에 도포하는 공정 및 가열 처리하여 건조 경화하는 공정: 40℃의 1.6N 수산화칼륨액에 3분 침지하고, 순수로 충분히 세정한 백판 유리를 처리액 G에 침지하여, 등속 인상 장치를 이용하여 20cm/분의 인상 속도로 도공했다. 이것을 열풍 순환식 항온조내에서 120℃에서 1시간 유지하는 것에 의해 건조 경화를 하여, 방담 백판 유리를 수득하였다(시료 8).
수득된 방담 백판 유리의 순수에 대한 접촉각은 10°이고, 백탁 등의 외관상의 불량은 확인되지 않았다. 반사율은 처리 전과 후에 변화가 보이지 않았다.
비교예 2
딥 코팅에 의해 기재 표면에 도포하는 공정: 40℃의 1.6N 수산화칼륨액에 3분 침지하고, 순수로 충분히 세정한 프로젝터용 광학부품을 처리액 H에 침지하여, 등속 인상 장치를 이용하여 2.0cm/분의 인상 속도로 도공했다.
가열 처리하여 건조 경화하는 공정: 처리액 H를 도포한 프로젝터용 광학부품을 열풍 순환식 항온조내에서 120℃에서 1시간 유지하는 것에 의해 건조 경화를 하여, 기재와의 반응을 완결시켜, 방담 프로젝터용 광학부품을 수득하였다(시료 9).
수득된 방담 프로젝터용 광학부품의 순수에 대한 접촉각은 12°이고, 외관상 약간의 백탁이 확인되었다. 편면 반사율은 처리전 5%인 것에 대하여, 8%로 증가하였다.
비교예 3
스핀 코팅에 의해 기재 표면에 도포하는 공정: 40℃의 1.6N 수산화칼륨액에 3분 침지하고, 순수로 충분히 세정한 백판 유리에 스핀 코터를 이용하여 이하의 방법으로 처리액 I를 도공했다. 백판 유리의 중심부 부근을 진공 척으로 잡고, 회전수 500rpm에서 회전시킨 상태로 처리액 3ml를 토출하여 3초간 유지하고, 또한 회전수 2500 rpm에서 10초간 회전시켜, 잉여 처리액을 분리하였다.
가열 처리하여 건조 경화하는 공정: 처리액 I를 도포한 백판 유리를 열풍 순환식 항온조내에서 120℃에서 1시간 유지하여, 기재와의 반응을 완결시켰다(시료 10).
수득된 처리액 I로 처리한 방담 백판 유리의 순수에 대한 접촉각은 43°이고, 백탁 등의 외관상의 불량은 확인되지 않았다. 반사율은 처리 전과 후에 변화가 보이지 않았다. 메틸렌블루 염색법에 의해, 이 방담 백판 유리의 염색을 했지만, 염색되지 않았다.
비교예 4
스핀 코팅에 의해 기재 표면에 도포하는 공정: 40℃의 1.6N 수산화칼륨액에 3분 침지하고, 순수로 충분히 세정한 백판 유리에 스핀 코터를 이용하여, 이하의 방법으로 처리액 I를 도공했다. 백판 유리의 중심부 부근을 진공 척으로 잡고, 회전수 500rpm에서 회전시킨 상태로 처리액 3 ml를 토출하여 3초간 회전을 유지하여, 또한 회전수 2500rpm에서 10초간 회전시켜 잉여 처리액을 분리하였다.
가열 처리하여 건조 경화하는 공정: 처리액 I를 도포한 백판 유리를 열풍 순환식 항온조내에서 120℃에서 1시간 유지하여 기재와의 반응을 완결시켰다.
작용기를 설폰산기로 전환하는 공정: 오존가스를 산소가스로 희석한 오존함유 가스(오존 함유량 200g/m3)를 90℃에서 10분간 접촉시켜 산화 처리함으로써 방담 백판 유리를 수득하였다(시료 11).
설폰산기의 존재의 확인은, 메틸렌블루에 의한 염색에 의해서 실시했다. 수득된 방담 백판 유리의 일부를 1mM 메틸렌블루 수용액(pH 4)에 25℃에서 1분간 침지한 후, 순수를 채운 초음파 세정기(욕 용량 2.6리터, 발진 주파수: 45kHz, 출력: 120W)로 3분간 세정을 한 바, 청색으로 염색되어 있는 것을 확인하였고, 설폰산기의 존재가 확인되었다. 수득된 방담 백판 유리의 순수에 대한 접촉각은 7° 이하이고, 백탁 등의 외관상의 불량은 확인되지 않았다. 반사율은 처리 전과 후에 변화가 보이지 않았다.
비교예 5
딥 코팅에 의해 기재 표면에 도포하는 공정: 플라즈마 처리를 60초간 행한 카메라용 아이피스를 기재로서 준비했다. 플라즈마 처리의 조건으로서는 처리압력: 0.1Torr, 도입가스: 건조 공기, 전극간 거리: 24cm, 전원출력: DC 1KV, 처리시간: 60초로 했다. 이 플라즈마 처리를 한 카메라용 아이피스를 처리액 E에 침지하고, 등속 인상 장치를 이용하여 20cm/분의 인상 속도로 도공했다.
가열 처리하여 건조 경화하는 공정: 처리액 E를 도포한 카메라용 아이피스를 열풍 순환식 항온조내에서 40℃에서 1시간 유지하고, 기재와의 반응을 완결시켜, 방담 카메라용 아이피스를 수득하였다(시료 12).
수득된 방담 카메라용 아이피스의 순수에 대한 접촉각은 5° 이하이고, 백탁 등의 외관상의 불량은 확인되지 않았다. 또한, 반사율은 처리 전과 후에 변화가 보이지 않았다.
이상의 각 실시 형태 및 비교예에 있어서 방담성 물품(시료 1 내지 12)의 제작조건을 표 1에 나타낸다.
Figure 112006037295174-PCT00001
또한, 이상의 각 실시예 및 비교예에서 수득한 광학 물품은 이하에 나타내는 평가 방법으로 평가했다. 그 결과를 표 2에 나타낸다. 평가 항목은, 초기 방담성, 방담 내구성, 내긁힘성, 물얼룩 시험, 염색시험으로 했다. 이하, 각 평가 항목에 대한 평가 방법을 설명한다.
평가 방법
초기 방담성: 20℃로 보관된 샘플을 온도 40℃, 습도 90%로 유지한 환경 중에 옮겨, 표면의 흐림 발생을 육안 관찰한다. 이 흐림도를 3단계로 나눠 평가한다. 즉, ○는 전혀 흐림이 없다. △는 2분 후에 흐림이 소멸한다(실용상 문제있음). ×는 2분후에도 흐림이 소멸하지 않는다.
방담 내구성: 물품 표면을 천(목면)으로 500g의 하중을 걸어 1000회 마찰한 후, 순수로 잘 세정, 건조한다. 이것을 20℃로 보관한 샘플을 온도 40℃, 습도 90%로 유지한 환경 중에 옮겨, 표면의 흐림 발생을 육안 관찰한다. 이 흐림도를 3단계로 나눠 평가한다. 즉, ○는 전혀 흐림이 없다. △는 2분 후에 흐림이 소멸한다(실용상 문제있음). ×는 2분후에도 흐림이 소멸하지 않는다.
내긁힘성: 광학 물품 표면을 #0000의 스틸 울로 1kg의 하중을 걸어 50회 마찰했다. 상처가 붙은 정도를 이하의 3단계로 나눠 평가했다. ○는 전혀 상처가 붙지 않는다. △는 1 내지 10개의 미세한 상처가 붙는다(실용상 문제는 없다). ×는 미세하고 무수히 상처가 난다.
물얼룩 시험: 수도물을 광학 물품 표면에 떨어뜨리고, 건조시킨 후, 천으로 잔류물을 닦았다. ○는 완전히 닦여진다. △는 일부 잔류물이 남는다(실용상 문제 있음). ×는 잔류물이 거의 남는다.
염색 시험: 설폰산기의 존재의 확인을 메틸렌블루에 의한 염색에 의해서 실시했다. 메틸렌블루는 설폰산에 대하여, 이온적으로 매우 강하게 결합하기 때문에, 설폰산기가 존재하는 경우, 푸르게 염색되는 것으로 알려져 있다. 수득된 방담 백판 유리의 일부를 1mM 메틸렌블루 수용액(pH 4)에 25℃에서 1분간 침지한 후, 순수를 채운 초음파 세정기(욕 용량 2.6리터, 발진 주파수: 45kHz, 출력: 120W)로 3분간 세정하여, 청색으로 염색되어 있는 것을 확인하였다. ○는 염색되어 있다. ×는 염색되어 있지 않다.
Figure 112006037295174-PCT00002
표 2의 결과로부터, 실시예 l 내지 7(처리액 A 내지 F를 이용한 시료 1 내지 7)의 초기 방담 성능 및 방담 내구성, 내긁힘성은 양호하고, 비교예 3(처리액 I를 이용한 시료 10) 및 실시예 11(처리액 I를 이용한 시료 11)의 초기 방담 성능 및 방담 내구성이 불량한 것으로부터 비커플링 부위에 적어도 1개 이상의 황을 포함하는 오가노실레인 또는/및 그 가수 분해물의 단체 및 2량체 이상의 축합물을 친수성 유기용제에 희석한 처리액을 물품 표면에 처리하는 것에 의해, 충분한 친수성기의 밀도가 얻어져, 우수한 방담 성능막을 형성하는 방담 처리액을 얻을 수 있다.
또한, 실시예 1 내지 7(처리액 A 내지 F를 이용한 시료 1 내지 7)의 초기 방담 성능 및 방담 내구성, 내긁힘성은 양호하고, 비교예 1(처리액 G를 이용한 시료 8) 및 비교예 2(처리액 H를 이용한 시료 9)의 초기 방담 성능 및 방담 내구성, 내긁힘성이 불량한 것부터, 비커플링 부위에 적어도 1개 이상의 황을 포함하는 오가노실레인 또는/및 그 가수 분해물의 2량체 이상의 축합물은 오가노실레인 총량의 1중량% 이상 70중량% 미만인 것에 의해, 막내에 효율적으로 친수성기를 배치하고, 막 강도 및 물품 표면과의 밀착성이 향상된 방담 성능막을 형성하는 방담 처리액이 얻어진다.
또한, 실시예 1 내지 7(처리액 A 내지 F를 이용한 시료 1 내지 7)의 초기 방담 성능 및 방담 내구성이 양호한 것으로부터, 비커플링 부위에 적어도 1개 이상의 황을 포함하는 오가노실레인 또는/및 그 가수 분해물의 단체 및 2량체 이상의 축합물을 친수성 유기용제에 희석한 처리액이 계면활성제를 포함하더라도 바람직하다.
또한, 실시예 1 내지 7(처리액 A 내지 F를 이용한 시료 1 내지 7)에 있어서 외관상 불량이 보이지 않는 것으로부터, 비커플링 부위에 적어도 1개 이상의 황을 포함하는 오가노실레인 또는/및 그 가수 분해물의 단체 및 2량체 이상의 축합물을 친수성 유기용제에 희석한 처리액에 의해, 형성된 방담 성능막은 매우 얇기 때문에 광학 특성을 손상하지 않고, 방담 성능을 갖는 방담 백판 유리(광학 물품)를 제작할 수 있다. 비교예 2(처리액 H를 이용한 시료 9)에서 외관상 불량이 생긴 것은 축합물의 함유량이 많고, 막 구성 물질이 막내에 균일하게 배치되지 않았기 때문이라고 여겨진다.
또한, 실시예 1 내지 7(처리액 A 내지 F를 이용한 시료 1 내지 7)에 있어서 방염 내구성, 내물얼룩성, 내긁힘성은 양호하고, 비교예 5(처리액 E를 이용하여, 가열처리하여 건조 경화하는 공정이 40℃에서 1시간 유지한 시료 12)의 방담 내구성, 내물얼룩성, 내긁힘성은 불량하다. 이에 의해, 비커플링 부위에 적어도 1개 이상의 황을 포함하는 오가노실레인 또는/및 그 가수 분해물의 단체 및 2량체 이상의 축합물을 친수성 유기용제에 희석한 처리액을 도포한 기재를, 50℃ 이상 300℃ 이하의 온도범위로, 1분 이상 24시간 이하로 가열처리하여 건조 경화하는 공정에 의해 우수한 방담 성능막이 형성된 방담성 물품의 제작이 가능하다.

Claims (15)

  1. 비커플링 부위에 적어도 1개 이상의 황을 포함하는 오가노실레인 또는/및 그 가수 분해물의 단체, 및 2량체 이상의 축합물을 친수성 유기용제에 희석한 방담(防曇) 처리액.
  2. 제 1 항에 있어서,
    상기 비커플링 부위에 적어도 1개 이상의 황을 포함하는 오가노실레인의 2량체 이상의 축합물이 오가노실레인 총량의 1중량% 이상 70중량% 미만인 것을 특징으로 하는 방담 처리액.
  3. 제 1 항 또는 제 2 항에 있어서,
    상기 비커플링 부위에 적어도 1개 이상의 황을 포함하는 오가노실레인 또는/및 그 가수 분해물이 설폰산에스터기, 싸이올기, 설파이드기, 다이설파이드기, 설폰산기로부터 선택되는 1종 이상의 작용기를 함유하는 것을 특징으로 하는 방담 처리액.
  4. 제 1 항 내지 제 3 항중 어느 한 항에 있어서,
    상기 비커플링 부위에 적어도 1개 이상의 황을 포함하는 오가노실레인 또는/및 그 가수 분해물의 단체 및 2량체 이상의 축합물을 친수성 유기용제에 희석한 방담 처리액이 계면활성제를 함유하는 것을 특징으로 하는 방담 처리액.
  5. 제 1 항 내지 제 4 항중 어느 한 항에 기재된 방담 처리액에 의한 방담 성능막을 기재 표면에 형성한 방담성 물품.
  6. 제 5 항에 있어서,
    상기 기재가 렌즈인 것을 특징으로 하는 방담성 물품.
  7. 비커플링 부위에 적어도 1개 이상의 황을 포함하는 오가노실레인 또는/및 그 가수 분해물을 0℃ 이상 70℃ 이하로 0.1시간 이상 200시간 이하 유지하여, 단체 및 2량체 이상의 축합물로 하는 방담 처리액의 제조방법.
  8. 제 7 항에 있어서,
    상기 비커플링 부위에 적어도 1개 이상의 황을 포함하는 오가노실레인 또는/및 그 가수 분해물을 산 촉매, 알칼리 촉매, 아민계 촉매, 금속화합물 촉매로부터 선택되는 1종 이상의 촉매의 존재하에 처리하여, 단체 및 2량체 이상의 축합물로 하는 것을 특징으로 하는 방담 처리액의 제조방법.
  9. 제 7 항 또는 제 8 항에 있어서,
    상기 비커플링 부위에 적어도 1개 이상의 황을 포함하는 오가노실레인 또는/및 그 가수 분해물이 설폰산에스터기, 싸이올기, 설파이드기, 다이설파이드기로부터 선택 되는 1종 이상의 작용기를 함유하고, 이를 설폰산기로 전환하는 것을 특징으로 하는 방담 처리액의 제조방법.
  10. 비커플링 부위에 적어도 1개 이상의 황을 포함하는 오가노실레인 또는/및 그 가수 분해물의 단체, 및 2량체 이상의 축합물을 친수성 유기용제에 희석한 처리액을 기재 표면에 도포하는 공정, 및 상기 처리액이 도포된 기재를 가열 처리하여 건조 경화하는 공정을 포함하는 방담성 물품의 제조방법.
  11. 비커플링 부위에 적어도 1개 이상의 황을 포함하는 오가노실레인 또는/및 그 가수 분해물의 단체, 및 2량체 이상의 축합물을 친수성 유기용제에 희석한 처리액에 함유되는 설폰산에스터기, 싸이올기, 설파이드기, 다이설파이드기로부터 선택되는 1종 이상의 작용기를 설폰산기로 전환하는 공정, 상기 처리액을 기재 표면에 도포하는 공정, 및 상기 처리액을 도포한 기재를 가열 처리하여 건조 경화하는 공정을 포함하는 방담성 물품의 제조방법.
  12. 비커플링 부위에 적어도 1개 이상의 황을 포함하는 오가노실레인 또는/및 그 가수 분해물의 단체, 및 2량체 이상의 축합물을 친수성 유기용제에 희석한 처리액을 기재 표면에 도포하는 공정, 상기 처리액을 도포한 기재를 가열 처리하여 건조 경화하는 공정, 및 비커플링 부위에 함유되는 설폰산에스터기, 싸이올기, 설파이드기, 다이설파이드기로부터 선택되는 1종 이상의 작용기를 설폰산기로 전환하는 공정을 포함하는 방담성 물품의 제조방법.
  13. 제 10 항 내지 제 12 항중 어느 한 항에 있어서,
    상기 처리액을 도포한 기재를 가열 처리하여 건조 경화하는 공정이 50℃ 이상 300℃ 이하의 온도범위에서 1분 이상 24시간 이하로 하는 것을 특징으로 하는 방담성 물품의 제조방법.
  14. 제 10 항 내지 제 12 항중 어느 한 항에 있어서,
    상기 처리액을 기재 표면에 도포하는 방법이 딥 코팅법인 것을 특징으로 하는 방담성 물품의 제조방법.
  15. 제 10 항 내지 제 12 항중 어느 한 항에 있어서,
    상기 처리액을 기재 표면에 도포하는 방법이 스핀 코팅법인 것을 특징으로 하는 방담성 물품의 제조방법.
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