JPS63232476A - レ−ザ発振器制御回路 - Google Patents
レ−ザ発振器制御回路Info
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- JPS63232476A JPS63232476A JP62066777A JP6677787A JPS63232476A JP S63232476 A JPS63232476 A JP S63232476A JP 62066777 A JP62066777 A JP 62066777A JP 6677787 A JP6677787 A JP 6677787A JP S63232476 A JPS63232476 A JP S63232476A
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- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 3
- 230000010355 oscillation Effects 0.000 description 2
- 230000032683 aging Effects 0.000 description 1
- 238000000034 method Methods 0.000 description 1
- 239000010453 quartz Substances 0.000 description 1
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N silicon dioxide Inorganic materials O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
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- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01S—DEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
- H01S3/00—Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range
- H01S3/10—Controlling the intensity, frequency, phase, polarisation or direction of the emitted radiation, e.g. switching, gating, modulating or demodulating
- H01S3/102—Controlling the intensity, frequency, phase, polarisation or direction of the emitted radiation, e.g. switching, gating, modulating or demodulating by controlling the active medium, e.g. by controlling the processes or apparatus for excitation
- H01S3/104—Controlling the intensity, frequency, phase, polarisation or direction of the emitted radiation, e.g. switching, gating, modulating or demodulating by controlling the active medium, e.g. by controlling the processes or apparatus for excitation in gas lasers
-
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- H01S—DEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
- H01S3/00—Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range
- H01S3/09—Processes or apparatus for excitation, e.g. pumping
- H01S3/097—Processes or apparatus for excitation, e.g. pumping by gas discharge of a gas laser
- H01S3/0975—Processes or apparatus for excitation, e.g. pumping by gas discharge of a gas laser using inductive or capacitive excitation
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明はレーザ発振器制御回路に関し、特にディシイタ
ル的に制御パルス列を発生するようにしたレーザ発振器
制御回路に関する。
ル的に制御パルス列を発生するようにしたレーザ発振器
制御回路に関する。
レーザ発振器に電源を供給する方法としては、直流から
高周波電源を使用した電源が広く使用されつつある。高
周波電源を発生するためにはこれを制御するためのパル
ス列を発生させるレーザ発振器制御回路が必要である。
高周波電源を使用した電源が広く使用されつつある。高
周波電源を発生するためにはこれを制御するためのパル
ス列を発生させるレーザ発振器制御回路が必要である。
このレーザ発振器制御回路は従来は入力電圧によって発
振周波数が変化する可変発振器を使用して構成されてい
た。この可変発振器は入力電圧を変化させることにより
出力パルス列を自由に変化させることができるので便利
であった。
振周波数が変化する可変発振器を使用して構成されてい
た。この可変発振器は入力電圧を変化させることにより
出力パルス列を自由に変化させることができるので便利
であった。
しかし、アナログ制御のためにパルス列の精度が温度、
経年変化等の影響を受けて必ずしも充分ではない。また
、パルス列のオフ時間が零の場合(100%オンのとき
)、パルス列のオン時間が零の場合(0%オンのとき)
は従来のアナログ制御型のレーザ発振器制御回路では特
別のモードを設けて制御する必要があり、制御が複雑に
なり、そのための部品点数も増加するという問題点があ
った。
経年変化等の影響を受けて必ずしも充分ではない。また
、パルス列のオフ時間が零の場合(100%オンのとき
)、パルス列のオン時間が零の場合(0%オンのとき)
は従来のアナログ制御型のレーザ発振器制御回路では特
別のモードを設けて制御する必要があり、制御が複雑に
なり、そのための部品点数も増加するという問題点があ
った。
本発明の目的は上記問題点を解決し、ディシイタル的に
制御パルス列を発生するようにしたレーザ発振器制御回
路を提供することにある。
制御パルス列を発生するようにしたレーザ発振器制御回
路を提供することにある。
C問題点を解決するための手段〕
本発明では上記の問題点を解決するために、第1図に示
すように、 レーザの出力パワーを制御する指令電圧を制御するレー
ザ発振器制御回路において、 オン時間とオフ時間を設定する時間設定手段(5,6)
と、 前記時間設定手段(5,6)からの信号によって、前記
オン時間及び前記オフ時間に対応したパルス列を発生す
るタイマを用いたパルス発生手段(8)と、 放電開始可能な最低レベルを決定するバイアス指令電圧
のデータを設定するバイアス指令電圧設定手段(9)と
、 出力パワーを発生させる電圧に前記バイアス指令電圧を
加算した出力パワー電圧データを設定する出力電圧設定
手段(10)と、 前記パルス列がオンのとき出力パワー電圧を選択し、前
記パルスがオフのとき前記バイアス指令電圧を選択出力
するように構成したセレクタ(11)と、 を有することを特徴とするレーザ発振器制御回路が、 提供される。
すように、 レーザの出力パワーを制御する指令電圧を制御するレー
ザ発振器制御回路において、 オン時間とオフ時間を設定する時間設定手段(5,6)
と、 前記時間設定手段(5,6)からの信号によって、前記
オン時間及び前記オフ時間に対応したパルス列を発生す
るタイマを用いたパルス発生手段(8)と、 放電開始可能な最低レベルを決定するバイアス指令電圧
のデータを設定するバイアス指令電圧設定手段(9)と
、 出力パワーを発生させる電圧に前記バイアス指令電圧を
加算した出力パワー電圧データを設定する出力電圧設定
手段(10)と、 前記パルス列がオンのとき出力パワー電圧を選択し、前
記パルスがオフのとき前記バイアス指令電圧を選択出力
するように構成したセレクタ(11)と、 を有することを特徴とするレーザ発振器制御回路が、 提供される。
パルス列は時間設定手段によってディシイタル的に設定
されるので精度がよく決定される。
されるので精度がよく決定される。
また、パルス列がオンのときに出力パワー電圧が選択さ
れ、パルス列がオフのときバイアス電圧が選択されるの
で、このセレクタの出力をレーザ発振器制御回路の制御
信号として使用できる。
れ、パルス列がオフのときバイアス電圧が選択されるの
で、このセレクタの出力をレーザ発振器制御回路の制御
信号として使用できる。
以下本発明の一実施例を図面に基づいて説明する。
第1図に本発明の一実施例のブロック図を示す。
図において、1はプロセッサであり、全体の制御を行う
。2はキーボードであり、バスでプロセッサ1に接続さ
れ、データの入力、変更等を行うことができる。3はC
RTであり、各種の表示をおこなう。CRT3に何を表
示させるかはキーボード2から指令することができる。
。2はキーボードであり、バスでプロセッサ1に接続さ
れ、データの入力、変更等を行うことができる。3はC
RTであり、各種の表示をおこなう。CRT3に何を表
示させるかはキーボード2から指令することができる。
4はメモリであり、制御プログラムを記憶するROMと
、各種のデータを記憶するRAMから構成されている。
、各種のデータを記憶するRAMから構成されている。
5はランチであり、パルス列のオン時間が設定される。
これは例えばキーボード2から入力することができる。
6はラッチでありパルス列のオフ時間が設定される。こ
の2つのラッチにパルス列のオン時間及びオフ時間が設
定されて、これによってパルス列が特定される。7はク
ロック発振器であり、一定周期のクロックパルスを発生
する。
の2つのラッチにパルス列のオン時間及びオフ時間が設
定されて、これによってパルス列が特定される。7はク
ロック発振器であり、一定周期のクロックパルスを発生
する。
8はタイマであり、クロック発振器7からのクロックパ
ルスによって、ラッチ5に設定された時間分オンとなり
、ラッチ6に設定された時間分オフとなるパルス列を出
力する。タイマは市販のプログラマブルタイマ等が便利
である。
ルスによって、ラッチ5に設定された時間分オンとなり
、ラッチ6に設定された時間分オフとなるパルス列を出
力する。タイマは市販のプログラマブルタイマ等が便利
である。
9はランチであり、レーザ管に供給されるバイアス電圧
に相当する電圧値が設定される。バイアス電圧はレーザ
管にかけておく電圧で、この値を越えると放電が開始さ
れ、レーザ発振が行われる電圧である。10はラッチで
あり、前述のバイアス電圧に出力パワーの値を加えた電
圧値が設定される。11はセレクタであり、タイマ8か
らの出力パルス列(電圧A)を受け、パルス列がオンの
ときラッチ10の指令電圧Cを選択し、出力する。
に相当する電圧値が設定される。バイアス電圧はレーザ
管にかけておく電圧で、この値を越えると放電が開始さ
れ、レーザ発振が行われる電圧である。10はラッチで
あり、前述のバイアス電圧に出力パワーの値を加えた電
圧値が設定される。11はセレクタであり、タイマ8か
らの出力パルス列(電圧A)を受け、パルス列がオンの
ときラッチ10の指令電圧Cを選択し、出力する。
また、パルス列(電圧A)がオフのときラッチ10の指
令電圧Bを選択し、出力する。
令電圧Bを選択し、出力する。
この関係を第2図に示す。第2図(a)はタイマ8の出
力である電圧Aであり、パルス列である。
力である電圧Aであり、パルス列である。
第2図(b)はラッチ9の出力であり、バイアス電圧を
示す指令電圧Bを表す。
示す指令電圧Bを表す。
第2図(C)はラッチ10の出力であり、バイアス電圧
に出力パワーの値を加えた指令電圧Cを表す。
に出力パワーの値を加えた指令電圧Cを表す。
第2図(d)はセレクタ11の出力であり、電圧A(パ
ルス列)がオンのとき指令電圧Cが選択され、電圧(パ
ルス列)がオフのとき指令電圧Bが選択され、図のよう
な出力指令電圧りを構成する。
ルス列)がオンのとき指令電圧Cが選択され、電圧(パ
ルス列)がオフのとき指令電圧Bが選択され、図のよう
な出力指令電圧りを構成する。
第1図に戻って、このセレクタ11の出力電圧りをDA
コンバータ12によってアナログ電圧に増幅、変換して
高周波電源21に供給する。高周波1521はDAコン
バータ12からの制御信号(信号形状は出力指令電圧り
と同じ)によって制御され、この信号と類似の、パワー
出力高周波を出力する。22はマツチング回路であり、
高周波電源とレーザ管とのマツチングをとることにより
、高周波電源の出力が効率よく、レーザ管に供給される
ようにしている。
コンバータ12によってアナログ電圧に増幅、変換して
高周波電源21に供給する。高周波1521はDAコン
バータ12からの制御信号(信号形状は出力指令電圧り
と同じ)によって制御され、この信号と類似の、パワー
出力高周波を出力する。22はマツチング回路であり、
高周波電源とレーザ管とのマツチングをとることにより
、高周波電源の出力が効率よく、レーザ管に供給される
ようにしている。
23はレーザ管であり、石英等で作られており、その内
部にレーザ媒質ガス25を有する。24a、24bは電
極であり、高周波電源が供給される。
部にレーザ媒質ガス25を有する。24a、24bは電
極であり、高周波電源が供給される。
このように、オン時間とオン時間をディシイタルに設定
できるのでパルス周波数、パルスデューティを安定に供
給できる。さらに、オフ時間を零にすれば、連続出力が
可能となり、逆にオン時間を零にすれば、バイアス電圧
のみの出力を得ることができる。
できるのでパルス周波数、パルスデューティを安定に供
給できる。さらに、オフ時間を零にすれば、連続出力が
可能となり、逆にオン時間を零にすれば、バイアス電圧
のみの出力を得ることができる。
以上説明したように本発明では、オン時間及びオフ時間
をディシイタル的に設定できるようにしたので、パルス
周波数、パルスデューティを安定に供給でき、さらに、
オフ時間を零にすれば、連続出力が可能となり、逆にオ
ン時間を零にすれば、バイアス電圧のみの電力を得るこ
とができる。
をディシイタル的に設定できるようにしたので、パルス
周波数、パルスデューティを安定に供給でき、さらに、
オフ時間を零にすれば、連続出力が可能となり、逆にオ
ン時間を零にすれば、バイアス電圧のみの電力を得るこ
とができる。
第1図は本発明の一実施例のブロック図、第2図(a)
、(b)、(C)、(d)は各部の波形を示す図である
。 1・・−・−−−一一一・−プロセッサ2−・−・−・
−・・−・・キーボード5・・−−一−−−・−・−ラ
ッチ(オンタイム)6−・−・・−・−・・−・ラッチ
(オフタイム)8−−−−−−−−−−−−−・−タイ
マ9・・・・−・−−−−−−・ラッチ(バイアス電圧
)10−・−−一一−−−・−・・−ラッチ(パワー+
バイアス電圧)11−・−・−・・・−・−セレクタ 12・−−−−−−−・−−−−−−D Aコンバータ
21−・・−・・−・−・−高周波電源23・・−・−
・・・−レーザ管 第1図
、(b)、(C)、(d)は各部の波形を示す図である
。 1・・−・−−−一一一・−プロセッサ2−・−・−・
−・・−・・キーボード5・・−−一−−−・−・−ラ
ッチ(オンタイム)6−・−・・−・−・・−・ラッチ
(オフタイム)8−−−−−−−−−−−−−・−タイ
マ9・・・・−・−−−−−−・ラッチ(バイアス電圧
)10−・−−一一−−−・−・・−ラッチ(パワー+
バイアス電圧)11−・−・−・・・−・−セレクタ 12・−−−−−−−・−−−−−−D Aコンバータ
21−・・−・・−・−・−高周波電源23・・−・−
・・・−レーザ管 第1図
Claims (1)
- (1)レーザの出力パワーを制御する指令電圧を制御す
るレーザ発振器制御回路において、 オン時間とオフ時間を設定する時間設定手段と、前記時
間設定手段からの信号によって、前記オン時間及び前記
オフ時間に対応したパルス列を発生するタイマを用いた
パルス発生手段と、 放電開始可能な最低レベルを決定するバイアス指令電圧
のデータを設定するバイアス指令電圧設定手段と、 出力パワーを発生させる電圧に前記バイアス指令電圧を
加算した出力パワー電圧データを設定する出力電圧設定
手段と、 前記パルス列がオンのとき出力パワー電圧を選択し、前
記パルスがオフのとき前記バイアス指令電圧を選択出力
するように構成したセレクタと、を有することを特徴と
するレーザ発振器制御回路。
Priority Applications (6)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP62066777A JP2651147B2 (ja) | 1987-03-20 | 1987-03-20 | レーザー発振器制御回路 |
EP88901931A EP0308511B2 (en) | 1987-03-20 | 1988-02-19 | Laser oscillator control circuit |
DE8888901931T DE3864639D1 (de) | 1987-03-20 | 1988-02-19 | Regelschaltung fuer laseroszillator. |
US07/273,520 US4890291A (en) | 1987-03-20 | 1988-02-19 | Laser oscillator control circuit |
PCT/JP1988/000184 WO1988007274A1 (en) | 1987-03-20 | 1988-02-19 | Laser oscillator control circuit |
KR1019880701499A KR890700948A (ko) | 1987-03-20 | 1988-11-19 | 레이저발진기 제어회로 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP62066777A JP2651147B2 (ja) | 1987-03-20 | 1987-03-20 | レーザー発振器制御回路 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS63232476A true JPS63232476A (ja) | 1988-09-28 |
JP2651147B2 JP2651147B2 (ja) | 1997-09-10 |
Family
ID=13325633
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP62066777A Expired - Fee Related JP2651147B2 (ja) | 1987-03-20 | 1987-03-20 | レーザー発振器制御回路 |
Country Status (6)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US4890291A (ja) |
EP (1) | EP0308511B2 (ja) |
JP (1) | JP2651147B2 (ja) |
KR (1) | KR890700948A (ja) |
DE (1) | DE3864639D1 (ja) |
WO (1) | WO1988007274A1 (ja) |
Families Citing this family (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
GB2204442B (en) * | 1987-05-06 | 1992-01-08 | Ferranti Plc | Radio-frequency excited gas laser |
JP2647598B2 (ja) * | 1992-03-27 | 1997-08-27 | 動力炉・核燃料開発事業団 | レーザーシステムの出力制御方法 |
US5463650A (en) * | 1992-07-17 | 1995-10-31 | Kabushiki Kaisha Komatsu Seisakusho | Apparatus for controlling output of an excimer laser device |
JPH07273387A (ja) * | 1994-03-31 | 1995-10-20 | Fanuc Ltd | 出力波形制御方式 |
US5764505A (en) * | 1996-01-23 | 1998-06-09 | Cymer, Inc. | Gas discharge laser control systems using multiple CPU's with shared memory on a common bus |
US5657334A (en) * | 1996-02-15 | 1997-08-12 | Cymer, Inc. | External high voltage control for a laser system |
JP3292125B2 (ja) * | 1997-03-21 | 2002-06-17 | 三菱電機株式会社 | ガスレーザ加工機 |
Citations (1)
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---|---|---|---|---|
JPS57183088A (en) * | 1981-05-08 | 1982-11-11 | Sumitomo Electric Ind Ltd | Laser controller with pulse repetition |
Family Cites Families (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US3806829A (en) * | 1971-04-13 | 1974-04-23 | Sys Inc | Pulsed laser system having improved energy control with improved power supply laser emission energy sensor and adjustable repetition rate control features |
JPS55148480A (en) * | 1979-05-08 | 1980-11-19 | Mitsubishi Electric Corp | Laser device |
JPS56144587A (en) * | 1980-04-11 | 1981-11-10 | Toshiba Corp | Pulse laser waveform controller |
JPS6030269A (ja) * | 1983-07-29 | 1985-02-15 | Nec Corp | ファクシミリ装置 |
JPS60223179A (ja) * | 1984-04-20 | 1985-11-07 | Mitsubishi Electric Corp | レ−ザ発振器 |
JPH107693A (ja) * | 1996-03-25 | 1998-01-13 | Yoshitomi Fine Chem Kk | 新規糖誘導体、その製造法、リパーゼ活性測定用試薬およびリパーゼ活性測定方法 |
-
1987
- 1987-03-20 JP JP62066777A patent/JP2651147B2/ja not_active Expired - Fee Related
-
1988
- 1988-02-19 WO PCT/JP1988/000184 patent/WO1988007274A1/ja active IP Right Grant
- 1988-02-19 EP EP88901931A patent/EP0308511B2/en not_active Expired - Lifetime
- 1988-02-19 DE DE8888901931T patent/DE3864639D1/de not_active Expired - Lifetime
- 1988-02-19 US US07/273,520 patent/US4890291A/en not_active Expired - Lifetime
- 1988-11-19 KR KR1019880701499A patent/KR890700948A/ko not_active Application Discontinuation
Patent Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS57183088A (en) * | 1981-05-08 | 1982-11-11 | Sumitomo Electric Ind Ltd | Laser controller with pulse repetition |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
EP0308511A1 (en) | 1989-03-29 |
US4890291A (en) | 1989-12-26 |
EP0308511B2 (en) | 1995-04-26 |
WO1988007274A1 (en) | 1988-09-22 |
EP0308511B1 (en) | 1991-09-04 |
KR890700948A (ko) | 1989-04-28 |
EP0308511A4 (en) | 1989-02-23 |
JP2651147B2 (ja) | 1997-09-10 |
DE3864639D1 (de) | 1991-10-10 |
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Legal Events
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---|---|---|---|
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