JPS63226640A - 感光性樹脂組成物 - Google Patents
感光性樹脂組成物Info
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- 239000011342 resin composition Substances 0.000 title claims description 18
- 239000004642 Polyimide Substances 0.000 claims abstract description 46
- 229920001721 polyimide Polymers 0.000 claims abstract description 46
- 239000002243 precursor Substances 0.000 claims abstract description 39
- 239000003999 initiator Substances 0.000 claims abstract description 9
- 239000012948 isocyanate Substances 0.000 claims abstract description 9
- 125000002723 alicyclic group Chemical group 0.000 claims abstract description 8
- 125000004435 hydrogen atom Chemical group [H]* 0.000 claims abstract description 4
- 125000005375 organosiloxane group Chemical group 0.000 claims abstract description 4
- -1 isocyanate compound Chemical class 0.000 claims description 36
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims description 31
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 claims description 23
- 125000001931 aliphatic group Chemical group 0.000 claims description 13
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 claims description 11
- 125000000962 organic group Chemical group 0.000 claims description 8
- 239000000126 substance Substances 0.000 claims description 3
- 229920005989 resin Polymers 0.000 abstract description 16
- 239000011347 resin Substances 0.000 abstract description 16
- 238000002156 mixing Methods 0.000 abstract description 6
- 239000002904 solvent Substances 0.000 abstract description 6
- 150000002513 isocyanates Chemical class 0.000 abstract 2
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 22
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 20
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 20
- 150000008064 anhydrides Chemical class 0.000 description 19
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 13
- ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 2-Butanone Chemical compound CCC(C)=O ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 12
- 238000000034 method Methods 0.000 description 11
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 9
- CURLTUGMZLYLDI-UHFFFAOYSA-N Carbon dioxide Chemical compound O=C=O CURLTUGMZLYLDI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 238000002834 transmittance Methods 0.000 description 8
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N Diethyl ether Chemical compound CCOCC RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 229910001873 dinitrogen Inorganic materials 0.000 description 7
- 150000002440 hydroxy compounds Chemical class 0.000 description 7
- 239000000463 material Substances 0.000 description 7
- VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N n-Hexane Chemical compound CCCCCC VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- FXHOOIRPVKKKFG-UHFFFAOYSA-N N,N-Dimethylacetamide Chemical compound CN(C)C(C)=O FXHOOIRPVKKKFG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- ZMANZCXQSJIPKH-UHFFFAOYSA-N Triethylamine Chemical compound CCN(CC)CC ZMANZCXQSJIPKH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 6
- 239000007983 Tris buffer Substances 0.000 description 5
- 150000004985 diamines Chemical class 0.000 description 5
- 125000005442 diisocyanate group Chemical group 0.000 description 5
- ZFSLODLOARCGLH-UHFFFAOYSA-N isocyanuric acid Chemical compound OC1=NC(O)=NC(O)=N1 ZFSLODLOARCGLH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 239000002798 polar solvent Substances 0.000 description 5
- 238000002411 thermogravimetry Methods 0.000 description 5
- OMIGHNLMNHATMP-UHFFFAOYSA-N 2-hydroxyethyl prop-2-enoate Chemical compound OCCOC(=O)C=C OMIGHNLMNHATMP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- RGSFGYAAUTVSQA-UHFFFAOYSA-N Cyclopentane Chemical compound C1CCCC1 RGSFGYAAUTVSQA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- PEDCQBHIVMGVHV-UHFFFAOYSA-N Glycerine Chemical compound OCC(O)CO PEDCQBHIVMGVHV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- ATUOYWHBWRKTHZ-UHFFFAOYSA-N Propane Chemical compound CCC ATUOYWHBWRKTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 150000001412 amines Chemical class 0.000 description 4
- RWCCWEUUXYIKHB-UHFFFAOYSA-N benzophenone Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(=O)C1=CC=CC=C1 RWCCWEUUXYIKHB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000012965 benzophenone Substances 0.000 description 4
- 239000001569 carbon dioxide Substances 0.000 description 4
- 229910002092 carbon dioxide Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000011229 interlayer Substances 0.000 description 4
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 4
- 150000000000 tetracarboxylic acids Chemical class 0.000 description 4
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N Acetic acid Chemical compound CC(O)=O QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N Acetone Chemical compound CC(C)=O CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N Acrylic acid Chemical class OC(=O)C=C NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N Benzene Chemical compound C1=CC=CC=C1 UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N Dichloromethane Chemical compound ClCCl YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N Ethyl acetate Chemical compound CCOC(C)=O XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- WMFOQBRAJBCJND-UHFFFAOYSA-M Lithium hydroxide Chemical compound [Li+].[OH-] WMFOQBRAJBCJND-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-M Methacrylate Chemical compound CC(=C)C([O-])=O CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-N Methacrylic acid Chemical class CC(=C)C(O)=O CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N N,N-Dimethylformamide Chemical compound CN(C)C=O ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- KWYUFKZDYYNOTN-UHFFFAOYSA-M Potassium hydroxide Chemical compound [OH-].[K+] KWYUFKZDYYNOTN-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M Sodium hydroxide Chemical compound [OH-].[Na+] HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- ISKQADXMHQSTHK-UHFFFAOYSA-N [4-(aminomethyl)phenyl]methanamine Chemical compound NCC1=CC=C(CN)C=C1 ISKQADXMHQSTHK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- UKLDJPRMSDWDSL-UHFFFAOYSA-L [dibutyl(dodecanoyloxy)stannyl] dodecanoate Chemical compound CCCCCCCCCCCC(=O)O[Sn](CCCC)(CCCC)OC(=O)CCCCCCCCCCC UKLDJPRMSDWDSL-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 3
- 229920005601 base polymer Polymers 0.000 description 3
- 125000003178 carboxy group Chemical group [H]OC(*)=O 0.000 description 3
- 230000003247 decreasing effect Effects 0.000 description 3
- 239000012975 dibutyltin dilaurate Substances 0.000 description 3
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 3
- 150000002430 hydrocarbons Chemical class 0.000 description 3
- 239000011810 insulating material Substances 0.000 description 3
- OFBQJSOFQDEBGM-UHFFFAOYSA-N n-pentane Natural products CCCCC OFBQJSOFQDEBGM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- TVMXDCGIABBOFY-UHFFFAOYSA-N octane Chemical compound CCCCCCCC TVMXDCGIABBOFY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000001294 propane Substances 0.000 description 3
- 125000001424 substituent group Chemical group 0.000 description 3
- LENZDBCJOHFCAS-UHFFFAOYSA-N tris Chemical compound OCC(N)(CO)CO LENZDBCJOHFCAS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- OOCCDEMITAIZTP-QPJJXVBHSA-N (E)-cinnamyl alcohol Chemical compound OC\C=C\C1=CC=CC=C1 OOCCDEMITAIZTP-QPJJXVBHSA-N 0.000 description 2
- RFFLAFLAYFXFSW-UHFFFAOYSA-N 1,2-dichlorobenzene Chemical compound ClC1=CC=CC=C1Cl RFFLAFLAYFXFSW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- RBGUKBSLNOTVCD-UHFFFAOYSA-N 1-methylanthracene-9,10-dione Chemical compound O=C1C2=CC=CC=C2C(=O)C2=C1C=CC=C2C RBGUKBSLNOTVCD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000005160 1H NMR spectroscopy Methods 0.000 description 2
- HCLJOFJIQIJXHS-UHFFFAOYSA-N 2-[2-[2-(2-prop-2-enoyloxyethoxy)ethoxy]ethoxy]ethyl prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OCCOCCOCCOCCOC(=O)C=C HCLJOFJIQIJXHS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- JESXATFQYMPTNL-UHFFFAOYSA-N 2-ethenylphenol Chemical compound OC1=CC=CC=C1C=C JESXATFQYMPTNL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- GWZMWHWAWHPNHN-UHFFFAOYSA-N 2-hydroxypropyl prop-2-enoate Chemical compound CC(O)COC(=O)C=C GWZMWHWAWHPNHN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- JWAZRIHNYRIHIV-UHFFFAOYSA-N 2-naphthol Chemical compound C1=CC=CC2=CC(O)=CC=C21 JWAZRIHNYRIHIV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ATVJXMYDOSMEPO-UHFFFAOYSA-N 3-prop-2-enoxyprop-1-ene Chemical compound C=CCOCC=C ATVJXMYDOSMEPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VVBLNCFGVYUYGU-UHFFFAOYSA-N 4,4'-Bis(dimethylamino)benzophenone Chemical compound C1=CC(N(C)C)=CC=C1C(=O)C1=CC=C(N(C)C)C=C1 VVBLNCFGVYUYGU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- HLBLWEWZXPIGSM-UHFFFAOYSA-N 4-Aminophenyl ether Chemical compound C1=CC(N)=CC=C1OC1=CC=C(N)C=C1 HLBLWEWZXPIGSM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- HRPVXLWXLXDGHG-UHFFFAOYSA-N Acrylamide Chemical compound NC(=O)C=C HRPVXLWXLXDGHG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M Acrylate Chemical compound [O-]C(=O)C=C NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- KAKZBPTYRLMSJV-UHFFFAOYSA-N Butadiene Chemical group C=CC=C KAKZBPTYRLMSJV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- SOGAXMICEFXMKE-UHFFFAOYSA-N Butylmethacrylate Chemical compound CCCCOC(=O)C(C)=C SOGAXMICEFXMKE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XTHFKEDIFFGKHM-UHFFFAOYSA-N Dimethoxyethane Chemical compound COCCOC XTHFKEDIFFGKHM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- IAZDPXIOMUYVGZ-UHFFFAOYSA-N Dimethylsulphoxide Chemical compound CS(C)=O IAZDPXIOMUYVGZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- GUUVPOWQJOLRAS-UHFFFAOYSA-N Diphenyl disulfide Chemical compound C=1C=CC=CC=1SSC1=CC=CC=C1 GUUVPOWQJOLRAS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000004593 Epoxy Substances 0.000 description 2
- 239000005977 Ethylene Substances 0.000 description 2
- QIGBRXMKCJKVMJ-UHFFFAOYSA-N Hydroquinone Chemical compound OC1=CC=C(O)C=C1 QIGBRXMKCJKVMJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WOBHKFSMXKNTIM-UHFFFAOYSA-N Hydroxyethyl methacrylate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCCO WOBHKFSMXKNTIM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- OWYWGLHRNBIFJP-UHFFFAOYSA-N Ipazine Chemical compound CCN(CC)C1=NC(Cl)=NC(NC(C)C)=N1 OWYWGLHRNBIFJP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- BAPJBEWLBFYGME-UHFFFAOYSA-N Methyl acrylate Chemical compound COC(=O)C=C BAPJBEWLBFYGME-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- IMNFDUFMRHMDMM-UHFFFAOYSA-N N-Heptane Chemical compound CCCCCCC IMNFDUFMRHMDMM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 206010034972 Photosensitivity reaction Diseases 0.000 description 2
- CDBYLPFSWZWCQE-UHFFFAOYSA-L Sodium Carbonate Chemical compound [Na+].[Na+].[O-]C([O-])=O CDBYLPFSWZWCQE-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- UIIMBOGNXHQVGW-UHFFFAOYSA-M Sodium bicarbonate Chemical compound [Na+].OC([O-])=O UIIMBOGNXHQVGW-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N Tetrahydrofuran Chemical compound C1CCOC1 WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- DAKWPKUUDNSNPN-UHFFFAOYSA-N Trimethylolpropane triacrylate Chemical compound C=CC(=O)OCC(CC)(COC(=O)C=C)COC(=O)C=C DAKWPKUUDNSNPN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- GCNKJQRMNYNDBI-UHFFFAOYSA-N [2-(hydroxymethyl)-2-(2-methylprop-2-enoyloxymethyl)butyl] 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCC(CO)(CC)COC(=O)C(C)=C GCNKJQRMNYNDBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- TUOBEAZXHLTYLF-UHFFFAOYSA-N [2-(hydroxymethyl)-2-(prop-2-enoyloxymethyl)butyl] prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OCC(CO)(CC)COC(=O)C=C TUOBEAZXHLTYLF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- JUDXBRVLWDGRBC-UHFFFAOYSA-N [2-(hydroxymethyl)-3-(2-methylprop-2-enoyloxy)-2-(2-methylprop-2-enoyloxymethyl)propyl] 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCC(CO)(COC(=O)C(C)=C)COC(=O)C(C)=C JUDXBRVLWDGRBC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- HVVWZTWDBSEWIH-UHFFFAOYSA-N [2-(hydroxymethyl)-3-prop-2-enoyloxy-2-(prop-2-enoyloxymethyl)propyl] prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OCC(CO)(COC(=O)C=C)COC(=O)C=C HVVWZTWDBSEWIH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CWRYPZZKDGJXCA-UHFFFAOYSA-N acenaphthene Chemical compound C1=CC(CC2)=C3C2=CC=CC3=C1 CWRYPZZKDGJXCA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 2
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 description 2
- XXROGKLTLUQVRX-UHFFFAOYSA-N allyl alcohol Chemical compound OCC=C XXROGKLTLUQVRX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- MWPLVEDNUUSJAV-UHFFFAOYSA-N anthracene Chemical compound C1=CC=CC2=CC3=CC=CC=C3C=C21 MWPLVEDNUUSJAV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000008901 benefit Effects 0.000 description 2
- ISAOCJYIOMOJEB-UHFFFAOYSA-N benzoin Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(O)C(=O)C1=CC=CC=C1 ISAOCJYIOMOJEB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- IVVOCRBADNIWDM-UHFFFAOYSA-N bicyclo[2.2.1]heptane-2,3-dicarboxylic acid Chemical compound C1CC2C(C(O)=O)C(C(=O)O)C1C2 IVVOCRBADNIWDM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 2
- VYHBFRJRBHMIQZ-UHFFFAOYSA-N bis[4-(diethylamino)phenyl]methanone Chemical compound C1=CC(N(CC)CC)=CC=C1C(=O)C1=CC=C(N(CC)CC)C=C1 VYHBFRJRBHMIQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VHRGRCVQAFMJIZ-UHFFFAOYSA-N cadaverine Chemical compound NCCCCCN VHRGRCVQAFMJIZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- MVPPADPHJFYWMZ-UHFFFAOYSA-N chlorobenzene Chemical compound ClC1=CC=CC=C1 MVPPADPHJFYWMZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- JHIVVAPYMSGYDF-UHFFFAOYSA-N cyclohexanone Chemical compound O=C1CCCCC1 JHIVVAPYMSGYDF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KQWGXHWJMSMDJJ-UHFFFAOYSA-N cyclohexyl isocyanate Chemical compound O=C=NC1CCCCC1 KQWGXHWJMSMDJJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000018109 developmental process Effects 0.000 description 2
- 125000004177 diethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 235000019441 ethanol Nutrition 0.000 description 2
- 238000001914 filtration Methods 0.000 description 2
- 125000000524 functional group Chemical group 0.000 description 2
- 235000011187 glycerol Nutrition 0.000 description 2
- DMEGYFMYUHOHGS-UHFFFAOYSA-N heptamethylene Natural products C1CCCCCC1 DMEGYFMYUHOHGS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NAQMVNRVTILPCV-UHFFFAOYSA-N hexane-1,6-diamine Chemical compound NCCCCCCN NAQMVNRVTILPCV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000007062 hydrolysis Effects 0.000 description 2
- 238000006460 hydrolysis reaction Methods 0.000 description 2
- 239000003112 inhibitor Substances 0.000 description 2
- UAEPNZWRGJTJPN-UHFFFAOYSA-N methylcyclohexane Chemical compound CC1CCCCC1 UAEPNZWRGJTJPN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LQNUZADURLCDLV-UHFFFAOYSA-N nitrobenzene Chemical compound [O-][N+](=O)C1=CC=CC=C1 LQNUZADURLCDLV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000036211 photosensitivity Effects 0.000 description 2
- 229920001296 polysiloxane Polymers 0.000 description 2
- BWHMMNNQKKPAPP-UHFFFAOYSA-L potassium carbonate Chemical compound [K+].[K+].[O-]C([O-])=O BWHMMNNQKKPAPP-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- 230000008569 process Effects 0.000 description 2
- KIDHWZJUCRJVML-UHFFFAOYSA-N putrescine Chemical compound NCCCCN KIDHWZJUCRJVML-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WQGWDDDVZFFDIG-UHFFFAOYSA-N pyrogallol Chemical compound OC1=CC=CC(O)=C1O WQGWDDDVZFFDIG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000007261 regionalization Effects 0.000 description 2
- 230000035945 sensitivity Effects 0.000 description 2
- 239000007858 starting material Substances 0.000 description 2
- 238000003786 synthesis reaction Methods 0.000 description 2
- WGTYBPLFGIVFAS-UHFFFAOYSA-M tetramethylammonium hydroxide Chemical compound [OH-].C[N+](C)(C)C WGTYBPLFGIVFAS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- 238000012719 thermal polymerization Methods 0.000 description 2
- 150000003606 tin compounds Chemical class 0.000 description 2
- XFNJVJPLKCPIBV-UHFFFAOYSA-N trimethylenediamine Chemical compound NCCCN XFNJVJPLKCPIBV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000004580 weight loss Effects 0.000 description 2
- 230000002087 whitening effect Effects 0.000 description 2
- HHQAGBQXOWLTLL-UHFFFAOYSA-N (2-hydroxy-3-phenoxypropyl) prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OCC(O)COC1=CC=CC=C1 HHQAGBQXOWLTLL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920002818 (Hydroxyethyl)methacrylate Polymers 0.000 description 1
- RXUVWJWQFPJWOV-OWOJBTEDSA-N (e)-1,2-diisocyanatoethene Chemical compound O=C=N\C=C\N=C=O RXUVWJWQFPJWOV-OWOJBTEDSA-N 0.000 description 1
- UOCLXMDMGBRAIB-UHFFFAOYSA-N 1,1,1-trichloroethane Chemical compound CC(Cl)(Cl)Cl UOCLXMDMGBRAIB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AVQQQNCBBIEMEU-UHFFFAOYSA-N 1,1,3,3-tetramethylurea Chemical compound CN(C)C(=O)N(C)C AVQQQNCBBIEMEU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CHRJZRDFSQHIFI-UHFFFAOYSA-N 1,2-bis(ethenyl)benzene;styrene Chemical compound C=CC1=CC=CC=C1.C=CC1=CC=CC=C1C=C CHRJZRDFSQHIFI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MSAHTMIQULFMRG-UHFFFAOYSA-N 1,2-diphenyl-2-propan-2-yloxyethanone Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(OC(C)C)C(=O)C1=CC=CC=C1 MSAHTMIQULFMRG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KJDRSWPQXHESDQ-UHFFFAOYSA-N 1,4-dichlorobutane Chemical compound ClCCCCCl KJDRSWPQXHESDQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CBCKQZAAMUWICA-UHFFFAOYSA-N 1,4-phenylenediamine Chemical compound NC1=CC=C(N)C=C1 CBCKQZAAMUWICA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PWGJDPKCLMLPJW-UHFFFAOYSA-N 1,8-diaminooctane Chemical compound NCCCCCCCCN PWGJDPKCLMLPJW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FYBFGAFWCBMEDG-UHFFFAOYSA-N 1-[3,5-di(prop-2-enoyl)-1,3,5-triazinan-1-yl]prop-2-en-1-one Chemical compound C=CC(=O)N1CN(C(=O)C=C)CN(C(=O)C=C)C1 FYBFGAFWCBMEDG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YAOJJEJGPZRYJF-UHFFFAOYSA-N 1-ethenoxyhexane Chemical compound CCCCCCOC=C YAOJJEJGPZRYJF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OSSNTDFYBPYIEC-UHFFFAOYSA-N 1-ethenylimidazole Chemical compound C=CN1C=CN=C1 OSSNTDFYBPYIEC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000012956 1-hydroxycyclohexylphenyl-ketone Substances 0.000 description 1
- CVIUJSXIENVAGJ-UHFFFAOYSA-N 1-methyl-2H-pyrrol-2-ide Chemical compound CN1C=CC=[C-]1 CVIUJSXIENVAGJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FCBZNZYQLJTCKR-UHFFFAOYSA-N 1-prop-2-enoxyethanol Chemical compound CC(O)OCC=C FCBZNZYQLJTCKR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WJFKNYWRSNBZNX-UHFFFAOYSA-N 10H-phenothiazine Chemical compound C1=CC=C2NC3=CC=CC=C3SC2=C1 WJFKNYWRSNBZNX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HGOUNPXIJSDIKV-UHFFFAOYSA-N 2,2-bis(hydroxymethyl)butyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CCC(CO)(CO)COC(=O)C(C)=C HGOUNPXIJSDIKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JHSWSKVODYPNDV-UHFFFAOYSA-N 2,2-bis(prop-2-enoxymethyl)propane-1,3-diol Chemical compound C=CCOCC(CO)(CO)COCC=C JHSWSKVODYPNDV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KWVGIHKZDCUPEU-UHFFFAOYSA-N 2,2-dimethoxy-2-phenylacetophenone Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(OC)(OC)C(=O)C1=CC=CC=C1 KWVGIHKZDCUPEU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SMZOUWXMTYCWNB-UHFFFAOYSA-N 2-(2-methoxy-5-methylphenyl)ethanamine Chemical compound COC1=CC=C(C)C=C1CCN SMZOUWXMTYCWNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DIOZVWSHACHNRT-UHFFFAOYSA-N 2-(2-prop-2-enoxyethoxy)ethanol Chemical compound OCCOCCOCC=C DIOZVWSHACHNRT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DPBJAVGHACCNRL-UHFFFAOYSA-N 2-(dimethylamino)ethyl prop-2-enoate Chemical compound CN(C)CCOC(=O)C=C DPBJAVGHACCNRL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RGADKZXRWFOTFV-UHFFFAOYSA-N 2-(hydroxymethyl)-2-methylpropane-1,3-diol;prop-2-enoic acid Chemical compound OC(=O)C=C.OC(=O)C=C.OCC(C)(CO)CO RGADKZXRWFOTFV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HZAXFHJVJLSVMW-UHFFFAOYSA-N 2-Aminoethan-1-ol Chemical compound NCCO HZAXFHJVJLSVMW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QIRNGVVZBINFMX-UHFFFAOYSA-N 2-allylphenol Chemical compound OC1=CC=CC=C1CC=C QIRNGVVZBINFMX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DZZAHLOABNWIFA-UHFFFAOYSA-N 2-butoxy-1,2-diphenylethanone Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(OCCCC)C(=O)C1=CC=CC=C1 DZZAHLOABNWIFA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DJKKWVGWYCKUFC-UHFFFAOYSA-N 2-butoxyethyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CCCCOCCOC(=O)C(C)=C DJKKWVGWYCKUFC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PTJDGKYFJYEAOK-UHFFFAOYSA-N 2-butoxyethyl prop-2-enoate Chemical compound CCCCOCCOC(=O)C=C PTJDGKYFJYEAOK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MAKLMMYWGTWPQM-UHFFFAOYSA-N 2-butylanthracene-9,10-dione Chemical compound C1=CC=C2C(=O)C3=CC(CCCC)=CC=C3C(=O)C2=C1 MAKLMMYWGTWPQM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KMNCBSZOIQAUFX-UHFFFAOYSA-N 2-ethoxy-1,2-diphenylethanone Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(OCC)C(=O)C1=CC=CC=C1 KMNCBSZOIQAUFX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SFPNZPQIIAJXGL-UHFFFAOYSA-N 2-ethoxyethyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CCOCCOC(=O)C(C)=C SFPNZPQIIAJXGL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FWWXYLGCHHIKNY-UHFFFAOYSA-N 2-ethoxyethyl prop-2-enoate Chemical compound CCOCCOC(=O)C=C FWWXYLGCHHIKNY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VZMLJEYQUZKERO-UHFFFAOYSA-N 2-hydroxy-1-(2-methylphenyl)-2-phenylethanone Chemical compound CC1=CC=CC=C1C(=O)C(O)C1=CC=CC=C1 VZMLJEYQUZKERO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IEVADDDOVGMCSI-UHFFFAOYSA-N 2-hydroxybutyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CCC(O)COC(=O)C(C)=C IEVADDDOVGMCSI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000954 2-hydroxyethyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])O[H] 0.000 description 1
- VHSHLMUCYSAUQU-UHFFFAOYSA-N 2-hydroxypropyl methacrylate Chemical compound CC(O)COC(=O)C(C)=C VHSHLMUCYSAUQU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YXYJVFYWCLAXHO-UHFFFAOYSA-N 2-methoxyethyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound COCCOC(=O)C(C)=C YXYJVFYWCLAXHO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HFCUBKYHMMPGBY-UHFFFAOYSA-N 2-methoxyethyl prop-2-enoate Chemical compound COCCOC(=O)C=C HFCUBKYHMMPGBY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IXPWKHNDQICVPZ-UHFFFAOYSA-N 2-methylhex-1-en-3-yne Chemical compound CCC#CC(C)=C IXPWKHNDQICVPZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CFVWNXQPGQOHRJ-UHFFFAOYSA-N 2-methylpropyl prop-2-enoate Chemical compound CC(C)COC(=O)C=C CFVWNXQPGQOHRJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GCYHRYNSUGLLMA-UHFFFAOYSA-N 2-prop-2-enoxyethanol Chemical compound OCCOCC=C GCYHRYNSUGLLMA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000003903 2-propenyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])=C([H])[H] 0.000 description 1
- LZHCVNIARUXHAL-UHFFFAOYSA-N 2-tert-butyl-4-ethylphenol Chemical compound CCC1=CC=C(O)C(C(C)(C)C)=C1 LZHCVNIARUXHAL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IKEHOXWJQXIQAG-UHFFFAOYSA-N 2-tert-butyl-4-methylphenol Chemical compound CC1=CC=C(O)C(C(C)(C)C)=C1 IKEHOXWJQXIQAG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JRBJSXQPQWSCCF-UHFFFAOYSA-N 3,3'-Dimethoxybenzidine Chemical compound C1=C(N)C(OC)=CC(C=2C=C(OC)C(N)=CC=2)=C1 JRBJSXQPQWSCCF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BJOWTLCTYPKRRU-UHFFFAOYSA-N 3-ethenoxyoctane Chemical compound CCCCCC(CC)OC=C BJOWTLCTYPKRRU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XHULUQRDNLRXPF-UHFFFAOYSA-N 3-ethenyl-1,3-oxazolidin-2-id-4-one Chemical compound C(=C)N1[CH-]OCC1=O XHULUQRDNLRXPF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GNSFRPWPOGYVLO-UHFFFAOYSA-N 3-hydroxypropyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCCCO GNSFRPWPOGYVLO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QZPSOSOOLFHYRR-UHFFFAOYSA-N 3-hydroxypropyl prop-2-enoate Chemical compound OCCCOC(=O)C=C QZPSOSOOLFHYRR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JIGUICYYOYEXFS-UHFFFAOYSA-N 3-tert-butylbenzene-1,2-diol Chemical compound CC(C)(C)C1=CC=CC(O)=C1O JIGUICYYOYEXFS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XDLMVUHYZWKMMD-UHFFFAOYSA-N 3-trimethoxysilylpropyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCCOC(=O)C(C)=C XDLMVUHYZWKMMD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YBRVSVVVWCFQMG-UHFFFAOYSA-N 4,4'-diaminodiphenylmethane Chemical compound C1=CC(N)=CC=C1CC1=CC=C(N)C=C1 YBRVSVVVWCFQMG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NDWUBGAGUCISDV-UHFFFAOYSA-N 4-hydroxybutyl prop-2-enoate Chemical compound OCCCCOC(=O)C=C NDWUBGAGUCISDV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HOOIIRHGHALACD-UHFFFAOYSA-N 5-(2,5-dioxooxolan-3-yl)-3-methylcyclohex-3-ene-1,2-dicarboxylic acid Chemical compound C1C(C(O)=O)C(C(O)=O)C(C)=CC1C1C(=O)OC(=O)C1 HOOIIRHGHALACD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940076442 9,10-anthraquinone Drugs 0.000 description 1
- VHUUQVKOLVNVRT-UHFFFAOYSA-N Ammonium hydroxide Chemical compound [NH4+].[OH-] VHUUQVKOLVNVRT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BVKZGUZCCUSVTD-UHFFFAOYSA-M Bicarbonate Chemical class OC([O-])=O BVKZGUZCCUSVTD-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- DKPFZGUDAPQIHT-UHFFFAOYSA-N Butyl acetate Natural products CCCCOC(C)=O DKPFZGUDAPQIHT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NLZUEZXRPGMBCV-UHFFFAOYSA-N Butylhydroxytoluene Chemical compound CC1=CC(C(C)(C)C)=C(O)C(C(C)(C)C)=C1 NLZUEZXRPGMBCV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-M Chloride anion Chemical compound [Cl-] VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- PMPVIKIVABFJJI-UHFFFAOYSA-N Cyclobutane Chemical compound C1CCC1 PMPVIKIVABFJJI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XDTMQSROBMDMFD-UHFFFAOYSA-N Cyclohexane Chemical compound C1CCCCC1 XDTMQSROBMDMFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LVZWSLJZHVFIQJ-UHFFFAOYSA-N Cyclopropane Chemical compound C1CC1 LVZWSLJZHVFIQJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QSJXEFYPDANLFS-UHFFFAOYSA-N Diacetyl Chemical group CC(=O)C(C)=O QSJXEFYPDANLFS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LCGLNKUTAGEVQW-UHFFFAOYSA-N Dimethyl ether Chemical compound COC LCGLNKUTAGEVQW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VGGSQFUCUMXWEO-UHFFFAOYSA-N Ethene Chemical compound C=C VGGSQFUCUMXWEO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JIGUQPWFLRLWPJ-UHFFFAOYSA-N Ethyl acrylate Chemical compound CCOC(=O)C=C JIGUQPWFLRLWPJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PIICEJLVQHRZGT-UHFFFAOYSA-N Ethylenediamine Chemical compound NCCN PIICEJLVQHRZGT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000005057 Hexamethylene diisocyanate Substances 0.000 description 1
- DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M Ilexoside XXIX Chemical compound C[C@@H]1CC[C@@]2(CC[C@@]3(C(=CC[C@H]4[C@]3(CC[C@@H]5[C@@]4(CC[C@@H](C5(C)C)OS(=O)(=O)[O-])C)C)[C@@H]2[C@]1(C)O)C)C(=O)O[C@H]6[C@@H]([C@H]([C@@H]([C@H](O6)CO)O)O)O.[Na+] DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M 0.000 description 1
- 229930194542 Keto Natural products 0.000 description 1
- OFOBLEOULBTSOW-UHFFFAOYSA-N Malonic acid Chemical compound OC(=O)CC(O)=O OFOBLEOULBTSOW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 241000343235 Maso Species 0.000 description 1
- VVQNEPGJFQJSBK-UHFFFAOYSA-N Methyl methacrylate Chemical compound COC(=O)C(C)=C VVQNEPGJFQJSBK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CNCOEDDPFOAUMB-UHFFFAOYSA-N N-Methylolacrylamide Chemical compound OCNC(=O)C=C CNCOEDDPFOAUMB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SECXISVLQFMRJM-UHFFFAOYSA-N N-Methylpyrrolidone Chemical compound CN1CCCC1=O SECXISVLQFMRJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WHNWPMSKXPGLAX-UHFFFAOYSA-N N-Vinyl-2-pyrrolidone Chemical compound C=CN1CCCC1=O WHNWPMSKXPGLAX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N O-Xylene Chemical compound CC1=CC=CC=C1C CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910019142 PO4 Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000005062 Polybutadiene Substances 0.000 description 1
- XBDQKXXYIPTUBI-UHFFFAOYSA-M Propionate Chemical compound CCC([O-])=O XBDQKXXYIPTUBI-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 239000004115 Sodium Silicate Substances 0.000 description 1
- VMHLLURERBWHNL-UHFFFAOYSA-M Sodium acetate Chemical compound [Na+].CC([O-])=O VMHLLURERBWHNL-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 244000028419 Styrax benzoin Species 0.000 description 1
- 235000000126 Styrax benzoin Nutrition 0.000 description 1
- UCKMPCXJQFINFW-UHFFFAOYSA-N Sulphide Chemical compound [S-2] UCKMPCXJQFINFW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 235000008411 Sumatra benzointree Nutrition 0.000 description 1
- 241000270666 Testudines Species 0.000 description 1
- GSEJCLTVZPLZKY-UHFFFAOYSA-N Triethanolamine Chemical compound OCCN(CCO)CCO GSEJCLTVZPLZKY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GQPVFBDWIUVLHG-UHFFFAOYSA-N [2,2-bis(hydroxymethyl)-3-(2-methylprop-2-enoyloxy)propyl] 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCC(CO)(CO)COC(=O)C(C)=C GQPVFBDWIUVLHG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CQHKDHVZYZUZMJ-UHFFFAOYSA-N [2,2-bis(hydroxymethyl)-3-prop-2-enoyloxypropyl] prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OCC(CO)(CO)COC(=O)C=C CQHKDHVZYZUZMJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ULQMPOIOSDXIGC-UHFFFAOYSA-N [2,2-dimethyl-3-(2-methylprop-2-enoyloxy)propyl] 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCC(C)(C)COC(=O)C(C)=C ULQMPOIOSDXIGC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FDLQZKYLHJJBHD-UHFFFAOYSA-N [3-(aminomethyl)phenyl]methanamine Chemical compound NCC1=CC=CC(CN)=C1 FDLQZKYLHJJBHD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- APZPSKFMSWZPKL-UHFFFAOYSA-N [3-hydroxy-2,2-bis(hydroxymethyl)propyl] 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCC(CO)(CO)CO APZPSKFMSWZPKL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZCZFEIZSYJAXKS-UHFFFAOYSA-N [3-hydroxy-2,2-bis(hydroxymethyl)propyl] prop-2-enoate Chemical compound OCC(CO)(CO)COC(=O)C=C ZCZFEIZSYJAXKS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XQAXGZLFSSPBMK-UHFFFAOYSA-M [7-(dimethylamino)phenothiazin-3-ylidene]-dimethylazanium;chloride;trihydrate Chemical compound O.O.O.[Cl-].C1=CC(=[N+](C)C)C=C2SC3=CC(N(C)C)=CC=C3N=C21 XQAXGZLFSSPBMK-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 description 1
- 150000001242 acetic acid derivatives Chemical class 0.000 description 1
- KXKVLQRXCPHEJC-UHFFFAOYSA-N acetic acid trimethyl ester Natural products COC(C)=O KXKVLQRXCPHEJC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HXGDTGSAIMULJN-UHFFFAOYSA-N acetnaphthylene Natural products C1=CC(C=C2)=C3C2=CC=CC3=C1 HXGDTGSAIMULJN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000005396 acrylic acid ester group Chemical group 0.000 description 1
- 229910052783 alkali metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000001340 alkali metals Chemical class 0.000 description 1
- 125000003545 alkoxy group Chemical group 0.000 description 1
- OOCCDEMITAIZTP-UHFFFAOYSA-N allylic benzylic alcohol Natural products OCC=CC1=CC=CC=C1 OOCCDEMITAIZTP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000908 ammonium hydroxide Substances 0.000 description 1
- PYKYMHQGRFAEBM-UHFFFAOYSA-N anthraquinone Natural products CCC(=O)c1c(O)c2C(=O)C3C(C=CC=C3O)C(=O)c2cc1CC(=O)OC PYKYMHQGRFAEBM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000004056 anthraquinones Chemical class 0.000 description 1
- 239000002585 base Substances 0.000 description 1
- HFACYLZERDEVSX-UHFFFAOYSA-N benzidine Chemical compound C1=CC(N)=CC=C1C1=CC=C(N)C=C1 HFACYLZERDEVSX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229960002130 benzoin Drugs 0.000 description 1
- AOJOEFVRHOZDFN-UHFFFAOYSA-N benzyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCC1=CC=CC=C1 AOJOEFVRHOZDFN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001797 benzyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(C([H])=C1[H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- JQRRFDWXQOQICD-UHFFFAOYSA-N biphenylen-1-ylboronic acid Chemical compound C12=CC=CC=C2C2=C1C=CC=C2B(O)O JQRRFDWXQOQICD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AJCHRUXIDGEWDK-UHFFFAOYSA-N bis(ethenyl) butanedioate Chemical compound C=COC(=O)CCC(=O)OC=C AJCHRUXIDGEWDK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MQDJYUACMFCOFT-UHFFFAOYSA-N bis[2-(1-hydroxycyclohexyl)phenyl]methanone Chemical compound C=1C=CC=C(C(=O)C=2C(=CC=CC=2)C2(O)CCCCC2)C=1C1(O)CCCCC1 MQDJYUACMFCOFT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000001273 butane Substances 0.000 description 1
- CQEYYJKEWSMYFG-UHFFFAOYSA-N butyl acrylate Chemical compound CCCCOC(=O)C=C CQEYYJKEWSMYFG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000004649 carbonic acid derivatives Chemical class 0.000 description 1
- 230000008859 change Effects 0.000 description 1
- 239000013522 chelant Substances 0.000 description 1
- 229910001430 chromium ion Inorganic materials 0.000 description 1
- OIWOHHBRDFKZNC-UHFFFAOYSA-N cyclohexyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OC1CCCCC1 OIWOHHBRDFKZNC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000113 cyclohexyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])C1([H])[H] 0.000 description 1
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 1
- SOCTUWSJJQCPFX-UHFFFAOYSA-N dichromate(2-) Chemical compound [O-][Cr](=O)(=O)O[Cr]([O-])(=O)=O SOCTUWSJJQCPFX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XSBSXJAYEPDGSF-UHFFFAOYSA-N diethyl 3,5-dimethyl-1h-pyrrole-2,4-dicarboxylate Chemical compound CCOC(=O)C=1NC(C)=C(C(=O)OCC)C=1C XSBSXJAYEPDGSF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YSCOODQOCWOXNL-UHFFFAOYSA-N diethylamino 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CCN(CC)OC(=O)C(C)=C YSCOODQOCWOXNL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OWMBTIRJFMGPAC-UHFFFAOYSA-N dimethylamino 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CN(C)OC(=O)C(C)=C OWMBTIRJFMGPAC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 235000011180 diphosphates Nutrition 0.000 description 1
- 238000010894 electron beam technology Methods 0.000 description 1
- 125000003700 epoxy group Chemical group 0.000 description 1
- 150000002148 esters Chemical class 0.000 description 1
- YCUBDDIKWLELPD-UHFFFAOYSA-N ethenyl 2,2-dimethylpropanoate Chemical compound CC(C)(C)C(=O)OC=C YCUBDDIKWLELPD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XJELOQYISYPGDX-UHFFFAOYSA-N ethenyl 2-chloroacetate Chemical compound ClCC(=O)OC=C XJELOQYISYPGDX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MPOGZNTVZCEKSW-UHFFFAOYSA-N ethenyl 2-hydroxypropanoate Chemical compound CC(O)C(=O)OC=C MPOGZNTVZCEKSW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MEGHWIAOTJPCHQ-UHFFFAOYSA-N ethenyl butanoate Chemical compound CCCC(=O)OC=C MEGHWIAOTJPCHQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LZWYWAIOTBEZFN-UHFFFAOYSA-N ethenyl hexanoate Chemical compound CCCCCC(=O)OC=C LZWYWAIOTBEZFN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000002170 ethers Chemical class 0.000 description 1
- SUPCQIBBMFXVTL-UHFFFAOYSA-N ethyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CCOC(=O)C(C)=C SUPCQIBBMFXVTL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001495 ethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- STVZJERGLQHEKB-UHFFFAOYSA-N ethylene glycol dimethacrylate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCCOC(=O)C(C)=C STVZJERGLQHEKB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000007717 exclusion Effects 0.000 description 1
- VOZRXNHHFUQHIL-UHFFFAOYSA-N glycidyl methacrylate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCC1CO1 VOZRXNHHFUQHIL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 235000019382 gum benzoic Nutrition 0.000 description 1
- 150000008282 halocarbons Chemical class 0.000 description 1
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 1
- PWSKHLMYTZNYKO-UHFFFAOYSA-N heptane-1,7-diamine Chemical compound NCCCCCCCN PWSKHLMYTZNYKO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RRAMGCGOFNQTLD-UHFFFAOYSA-N hexamethylene diisocyanate Chemical compound O=C=NCCCCCCN=C=O RRAMGCGOFNQTLD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GNOIPBMMFNIUFM-UHFFFAOYSA-N hexamethylphosphoric triamide Chemical compound CN(C)P(=O)(N(C)C)N(C)C GNOIPBMMFNIUFM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FUZZWVXGSFPDMH-UHFFFAOYSA-N hexanoic acid Chemical compound CCCCCC(O)=O FUZZWVXGSFPDMH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229930195733 hydrocarbon Natural products 0.000 description 1
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-M hydroxide Chemical compound [OH-] XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 150000004679 hydroxides Chemical class 0.000 description 1
- 230000006872 improvement Effects 0.000 description 1
- 239000012535 impurity Substances 0.000 description 1
- 229910010272 inorganic material Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011147 inorganic material Substances 0.000 description 1
- 230000005865 ionizing radiation Effects 0.000 description 1
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 description 1
- 150000002576 ketones Chemical class 0.000 description 1
- FQPSGWSUVKBHSU-UHFFFAOYSA-N methacrylamide Chemical compound CC(=C)C(N)=O FQPSGWSUVKBHSU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000005397 methacrylic acid ester group Chemical group 0.000 description 1
- YDKNBNOOCSNPNS-UHFFFAOYSA-N methyl 1,3-benzoxazole-2-carboxylate Chemical compound C1=CC=C2OC(C(=O)OC)=NC2=C1 YDKNBNOOCSNPNS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 1
- GYNNXHKOJHMOHS-UHFFFAOYSA-N methyl-cycloheptane Natural products CC1CCCCCC1 GYNNXHKOJHMOHS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229960000907 methylthioninium chloride Drugs 0.000 description 1
- ZZSKMNCIAKKVRB-UHFFFAOYSA-N morpholin-4-yl-(2-nitrophenyl)methanone Chemical compound [O-][N+](=O)C1=CC=CC=C1C(=O)N1CCOCC1 ZZSKMNCIAKKVRB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WFKDPJRCBCBQNT-UHFFFAOYSA-N n,2-dimethylprop-2-enamide Chemical compound CNC(=O)C(C)=C WFKDPJRCBCBQNT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UTSYWKJYFPPRAP-UHFFFAOYSA-N n-(butoxymethyl)prop-2-enamide Chemical compound CCCCOCNC(=O)C=C UTSYWKJYFPPRAP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IJDNQMDRQITEOD-UHFFFAOYSA-N n-butane Chemical compound CCCC IJDNQMDRQITEOD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZIWDVJPPVMGJGR-UHFFFAOYSA-N n-ethyl-2-methylprop-2-enamide Chemical compound CCNC(=O)C(C)=C ZIWDVJPPVMGJGR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XFHJDMUEHUHAJW-UHFFFAOYSA-N n-tert-butylprop-2-enamide Chemical compound CC(C)(C)NC(=O)C=C XFHJDMUEHUHAJW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KKFHAJHLJHVUDM-UHFFFAOYSA-N n-vinylcarbazole Chemical compound C1=CC=C2N(C=C)C3=CC=CC=C3C2=C1 KKFHAJHLJHVUDM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KQSABULTKYLFEV-UHFFFAOYSA-N naphthalene-1,5-diamine Chemical compound C1=CC=C2C(N)=CC=CC2=C1N KQSABULTKYLFEV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SXJVFQLYZSNZBT-UHFFFAOYSA-N nonane-1,9-diamine Chemical compound NCCCCCCCCCN SXJVFQLYZSNZBT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KCAMXZBMXVIIQN-UHFFFAOYSA-N octan-3-yl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CCCCCC(CC)OC(=O)C(C)=C KCAMXZBMXVIIQN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NZIDBRBFGPQCRY-UHFFFAOYSA-N octyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CCCCCCCCOC(=O)C(C)=C NZIDBRBFGPQCRY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000011368 organic material Substances 0.000 description 1
- RPQRDASANLAFCM-UHFFFAOYSA-N oxiran-2-ylmethyl prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OCC1CO1 RPQRDASANLAFCM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NWVVVBRKAWDGAB-UHFFFAOYSA-N p-methoxyphenol Chemical compound COC1=CC=C(O)C=C1 NWVVVBRKAWDGAB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000003973 paint Substances 0.000 description 1
- 238000002161 passivation Methods 0.000 description 1
- PNJWIWWMYCMZRO-UHFFFAOYSA-N pent‐4‐en‐2‐one Natural products CC(=O)CC=C PNJWIWWMYCMZRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229950000688 phenothiazine Drugs 0.000 description 1
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 description 1
- 235000021317 phosphate Nutrition 0.000 description 1
- 150000003013 phosphoric acid derivatives Chemical class 0.000 description 1
- FSDNTQSJGHSJBG-UHFFFAOYSA-N piperidine-4-carbonitrile Chemical compound N#CC1CCNCC1 FSDNTQSJGHSJBG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920002857 polybutadiene Polymers 0.000 description 1
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 1
- 238000006116 polymerization reaction Methods 0.000 description 1
- 229920001289 polyvinyl ether Polymers 0.000 description 1
- 238000011417 postcuring Methods 0.000 description 1
- 229910000027 potassium carbonate Inorganic materials 0.000 description 1
- FBCQUCJYYPMKRO-UHFFFAOYSA-N prop-2-enyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCC=C FBCQUCJYYPMKRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QTECDUFMBMSHKR-UHFFFAOYSA-N prop-2-enyl prop-2-enoate Chemical compound C=CCOC(=O)C=C QTECDUFMBMSHKR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LYBIZMNPXTXVMV-UHFFFAOYSA-N propan-2-yl prop-2-enoate Chemical compound CC(C)OC(=O)C=C LYBIZMNPXTXVMV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NHARPDSAXCBDDR-UHFFFAOYSA-N propyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CCCOC(=O)C(C)=C NHARPDSAXCBDDR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PNXMTCDJUBJHQJ-UHFFFAOYSA-N propyl prop-2-enoate Chemical compound CCCOC(=O)C=C PNXMTCDJUBJHQJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940079877 pyrogallol Drugs 0.000 description 1
- 125000001453 quaternary ammonium group Chemical group 0.000 description 1
- 230000005855 radiation Effects 0.000 description 1
- 230000009257 reactivity Effects 0.000 description 1
- 230000001235 sensitizing effect Effects 0.000 description 1
- 150000004760 silicates Chemical class 0.000 description 1
- 239000011734 sodium Substances 0.000 description 1
- 229910052708 sodium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000001632 sodium acetate Substances 0.000 description 1
- 235000017281 sodium acetate Nutrition 0.000 description 1
- 229910000030 sodium bicarbonate Inorganic materials 0.000 description 1
- 235000017557 sodium bicarbonate Nutrition 0.000 description 1
- 229910000029 sodium carbonate Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000001488 sodium phosphate Substances 0.000 description 1
- 229910000162 sodium phosphate Inorganic materials 0.000 description 1
- NTHWMYGWWRZVTN-UHFFFAOYSA-N sodium silicate Chemical compound [Na+].[Na+].[O-][Si]([O-])=O NTHWMYGWWRZVTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052911 sodium silicate Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000001228 spectrum Methods 0.000 description 1
- 150000003440 styrenes Chemical class 0.000 description 1
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 1
- 150000005846 sugar alcohols Polymers 0.000 description 1
- 229920003002 synthetic resin Polymers 0.000 description 1
- 239000000057 synthetic resin Substances 0.000 description 1
- MUTNCGKQJGXKEM-UHFFFAOYSA-N tamibarotene Chemical compound C=1C=C2C(C)(C)CCC(C)(C)C2=CC=1NC(=O)C1=CC=C(C(O)=O)C=C1 MUTNCGKQJGXKEM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N tetrahydrofuran Natural products C=1C=COC=1 YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YRHRIQCWCFGUEQ-UHFFFAOYSA-N thioxanthen-9-one Chemical compound C1=CC=C2C(=O)C3=CC=CC=C3SC2=C1 YRHRIQCWCFGUEQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000003944 tolyl group Chemical group 0.000 description 1
- QXJQHYBHAIHNGG-UHFFFAOYSA-N trimethylolethane Chemical compound OCC(C)(CO)CO QXJQHYBHAIHNGG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RYFMWSXOAZQYPI-UHFFFAOYSA-K trisodium phosphate Chemical compound [Na+].[Na+].[Na+].[O-]P([O-])([O-])=O RYFMWSXOAZQYPI-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 1
- KOZCZZVUFDCZGG-UHFFFAOYSA-N vinyl benzoate Chemical compound C=COC(=O)C1=CC=CC=C1 KOZCZZVUFDCZGG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000391 vinyl group Chemical group [H]C([*])=C([H])[H] 0.000 description 1
- 229920002554 vinyl polymer Polymers 0.000 description 1
- 239000008096 xylene Substances 0.000 description 1
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/004—Photosensitive materials
- G03F7/027—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
(産業上の利用分野)
本発明は、感光性樹脂組成物、詳しくは、得られる塗膜
が耐熱性、電気的及び機械的性質に優れ。
が耐熱性、電気的及び機械的性質に優れ。
半導体工業における固体素子への絶縁膜、パッシベーシ
ョン膜の形成材料、半導体の集積回路、多層プリント配
線板等の層間絶縁材料などとして好適な溶解性及び光透
過性に優れ、厚膜形成可能な゛感光性樹脂組成物に関す
る。
ョン膜の形成材料、半導体の集積回路、多層プリント配
線板等の層間絶縁材料などとして好適な溶解性及び光透
過性に優れ、厚膜形成可能な゛感光性樹脂組成物に関す
る。
(従来の技術)
近年、半導体工業においては、従来の無機材料を用いて
行なわれていた層間絶#lK有機物が、その特性を活か
して使用されており、主としてポリイミド樹脂等の耐熱
性に優れている材料が用いられている。しかしながら、
パターン形成上煩雑な工程を必要とすることから露光、
現*によってパターン形成後も、これをそのまま残し絶
縁材料として用いることができる耐熱感光材料の出現が
望まれている。
行なわれていた層間絶#lK有機物が、その特性を活か
して使用されており、主としてポリイミド樹脂等の耐熱
性に優れている材料が用いられている。しかしながら、
パターン形成上煩雑な工程を必要とすることから露光、
現*によってパターン形成後も、これをそのまま残し絶
縁材料として用いることができる耐熱感光材料の出現が
望まれている。
これらの材料として9例えば感光性ポリイミド。
環化ポリブタジェンをベースポリマとした耐熱感光材料
等が提案されており、特に感光性ポリイミドはその耐熱
性の優秀さや不純物排除の容易さ等から特に注目されて
いる。
等が提案されており、特に感光性ポリイミドはその耐熱
性の優秀さや不純物排除の容易さ等から特に注目されて
いる。
感光性ポリイミドとしては、ポリイミド前駆体と重クロ
ム酸塩からなる系が最初に提案されたが(特公昭49−
17374号公報)、この材料は実用的な感光度を有し
、膜形成能が高い等の長所を有する反面、保存安定性に
欠けまたポリイミド中にクロムイオンが残存するなどの
欠点があり。
ム酸塩からなる系が最初に提案されたが(特公昭49−
17374号公報)、この材料は実用的な感光度を有し
、膜形成能が高い等の長所を有する反面、保存安定性に
欠けまたポリイミド中にクロムイオンが残存するなどの
欠点があり。
実用には至らなかった。また他の例として、ポリイミド
前駆体に感光基をエステル結合で導入した感光性ポリイ
ミド前駆体が提案されているが(特公昭55−3020
7号公報)、感光基を導入する際に脱塩酸反応を含むた
めに最終的に塩化物が残り、この除去が問題となってい
る。
前駆体に感光基をエステル結合で導入した感光性ポリイ
ミド前駆体が提案されているが(特公昭55−3020
7号公報)、感光基を導入する際に脱塩酸反応を含むた
めに最終的に塩化物が残り、この除去が問題となってい
る。
このような問題を回避すべく、ポリイミド前駆体に感光
基を有する化合物を混合する方法(特開昭54−109
828号公報)やポリイミド前駆体中の官能基と感光基
を有する化合物の官能基とを反応させて感光基を導入す
る方法も開発されている(特開昭56−24343号公
報、I!#開F!fA60−100143号公報)。
基を有する化合物を混合する方法(特開昭54−109
828号公報)やポリイミド前駆体中の官能基と感光基
を有する化合物の官能基とを反応させて感光基を導入す
る方法も開発されている(特開昭56−24343号公
報、I!#開F!fA60−100143号公報)。
しかしながら、これらの感光性ポリイミドは。
その耐熱性重視の観点から芳香族ポリイミド前駆体がベ
ースポリマとして用いられている。こうした芳香族ポリ
イミド前駆体は、溶解性に本質的な問題があシ、さらに
紫外領域での光透過率が低く厚膜を形成するのが困難で
ある。こうして厚膜形成が困難なために絶縁材料として
用いる場合には回路の平坦化や低誘電率化に問題を残し
ており。
ースポリマとして用いられている。こうした芳香族ポリ
イミド前駆体は、溶解性に本質的な問題があシ、さらに
紫外領域での光透過率が低く厚膜を形成するのが困難で
ある。こうして厚膜形成が困難なために絶縁材料として
用いる場合には回路の平坦化や低誘電率化に問題を残し
ており。
その改善が望まれている。例えば感光性ポリイミドとし
て芳香族ポリイミド前駆体と感光基を有する化合物とを
溶解した場合に、この溶液から塗膜を形成する乾燥工程
においては大部分の曳溶媒が揮発し、乾燥後の塗膜は、
芳香族ポリイミド前駆体と感光基を有する化合物から構
成されることKなる。このような感光基を有する化合物
は、一般に芳香族ポリイミド前駆体く対しては貧溶媒で
多るため、芳香族ポリイミド前駆体は不溶化し白化現象
を塗膜に発生させ、こうし良溶解性の問題から、露光工
程に供することが困難となる。
て芳香族ポリイミド前駆体と感光基を有する化合物とを
溶解した場合に、この溶液から塗膜を形成する乾燥工程
においては大部分の曳溶媒が揮発し、乾燥後の塗膜は、
芳香族ポリイミド前駆体と感光基を有する化合物から構
成されることKなる。このような感光基を有する化合物
は、一般に芳香族ポリイミド前駆体く対しては貧溶媒で
多るため、芳香族ポリイミド前駆体は不溶化し白化現象
を塗膜に発生させ、こうし良溶解性の問題から、露光工
程に供することが困難となる。
また、感光性ポリイミドを含めた大部分の感光性樹脂は
、共存させた光重合開始剤に吸収された光エネルギーが
反応の引きがねとなシ9分子内または分子間に化学的又
は構造的変化を生ずることKよシ儂形成を行なうもので
あシ、現行の大部分の光重合開始剤は吸収波長が紫外領
域であるため。
、共存させた光重合開始剤に吸収された光エネルギーが
反応の引きがねとなシ9分子内または分子間に化学的又
は構造的変化を生ずることKよシ儂形成を行なうもので
あシ、現行の大部分の光重合開始剤は吸収波長が紫外領
域であるため。
この領域での光透過率の小さい芳香族ポリイミド前駆体
を用い九ペースポリマでは厚膜形成が難しくなる。この
ため、芳香族ポリイミド前駆体をベースポリマに用いた
感光性ポリイミドでは、白化現象及び光透過性の悪さか
ら、膜厚が限定されてしまい厚膜なパターンを形成する
ことは甚だしく困難である。また、このような溶解性及
び光透過性の問題を回避するために、脂肪族ポリイミド
前駆体く感光基を有する化合物を混合する方法(特開昭
59−131927号公報)が開発されているが、この
ような脂肪族ポリイミド前駆体は、アミド結合に隣接し
ているカルボキシル基がキワメて多く存在している念め
に加水分解を受けやすく。
を用い九ペースポリマでは厚膜形成が難しくなる。この
ため、芳香族ポリイミド前駆体をベースポリマに用いた
感光性ポリイミドでは、白化現象及び光透過性の悪さか
ら、膜厚が限定されてしまい厚膜なパターンを形成する
ことは甚だしく困難である。また、このような溶解性及
び光透過性の問題を回避するために、脂肪族ポリイミド
前駆体く感光基を有する化合物を混合する方法(特開昭
59−131927号公報)が開発されているが、この
ような脂肪族ポリイミド前駆体は、アミド結合に隣接し
ているカルボキシル基がキワメて多く存在している念め
に加水分解を受けやすく。
長期間保存しておくと加水分解のために脂肪族ポリイミ
ド前駆体の分子量が著しく低下するという欠点を有する
。i九、脂肪族ポリイミド前駆体に重合性不飽和結合す
るエポキシ化合物を付加せしめた付加物溶液に感光基を
有する化合物を混合する方法C%開昭59−68332
号公報)も開発されているが、エポキシ化合物エポキシ
基とポリイミド前駆体との反応性が低いため付加物が得
にくいという問題がある。
ド前駆体の分子量が著しく低下するという欠点を有する
。i九、脂肪族ポリイミド前駆体に重合性不飽和結合す
るエポキシ化合物を付加せしめた付加物溶液に感光基を
有する化合物を混合する方法C%開昭59−68332
号公報)も開発されているが、エポキシ化合物エポキシ
基とポリイミド前駆体との反応性が低いため付加物が得
にくいという問題がある。
(発明が解決しようとする問題点)
本発明は、上記に示した従来技術の問題点を解決し、上
記の用途に好適な溶解性及び光透過性に優れ、厚膜形成
可能な感光性樹脂組成物を提供するものである。
記の用途に好適な溶解性及び光透過性に優れ、厚膜形成
可能な感光性樹脂組成物を提供するものである。
(問題点を除去するための手段)
本発明は1式(1)
(式中&は4価の脂肪族基または脂環式基でオシ。
島は2価の芳香族基、脂肪族基、脂環式基またはオルガ
ノシロキサン基である)で表わされる繰返し単位を有す
るポリイミド前駆体と式(2)(式中、Rsは4価の有
機基であ!D、 R4は2価の有機基であF)、 Yl
、 YxおよびYlは水素原子および不飽和二重結合を
有する1価の有機基から選択された基で6’)、 Yl
s YlおよびY3のうち少なくとも1つは不飽和二重
結合を有する1価の有機基である)で表わされる分子内
に少なくとも1つの不飽和二重結合およびウレタン結合
を有するイソシアネート化合物との感光性付加物、光重
合開始剤。
ノシロキサン基である)で表わされる繰返し単位を有す
るポリイミド前駆体と式(2)(式中、Rsは4価の有
機基であ!D、 R4は2価の有機基であF)、 Yl
、 YxおよびYlは水素原子および不飽和二重結合を
有する1価の有機基から選択された基で6’)、 Yl
s YlおよびY3のうち少なくとも1つは不飽和二重
結合を有する1価の有機基である)で表わされる分子内
に少なくとも1つの不飽和二重結合およびウレタン結合
を有するイソシアネート化合物との感光性付加物、光重
合開始剤。
有機溶媒及び場合によシ重合性不飽和化合物を含有して
なる感光性樹脂組成物に関する。
なる感光性樹脂組成物に関する。
本発明における上記の式(1)で表わされる繰返し単位
を有するポリイミド前駆体は、既に公知の化合物であり
、脂肪族または脂環式テトラカルボ/酸又はその無水物
とジアミン化合物を出発原料として容易に得られる。
を有するポリイミド前駆体は、既に公知の化合物であり
、脂肪族または脂環式テトラカルボ/酸又はその無水物
とジアミン化合物を出発原料として容易に得られる。
脂肪族または脂環式テトラカルボン酸又はそのm水物と
しては、ブタン−、ペンタン−、ヘキサン−、シクロペ
ンタン、ビシクロヘキセン−、シクロプロパン−、シク
ロブタン−、シクロペンタン、シクロヘキサン−、メチ
ルーシクロヘキ七ンー、エチレン−等のテトラカルボン
酸又はその無水物、λ3,5−)リカルボキシーシクロ
ペンチル酢酸又はその無水物、ビシクロ−(λス2)−
オクト−7エンー2.a&6−テトラカルボン酸又はそ
の無水物、テトラヒドロフラン−2,λ45−テトラカ
ルボン酸又はその無水物、5−(2,5−ジオキソテト
ラヒドロフリル)−3−メチル−3−シクロヘキセン−
1,2−ジカルボン酸又はその無水物、&&6−)ジカ
ルボキシ−2−カルボキシメチルノルボンナンー2:5
,5:8又はその無水物1氏5′−チオビス(ノルボル
ナン−2,3−ジカルボン酸)又はその無水物、5.5
’−メチレンジチオビス(ノルボナンース3−ジカルボ
ン酸)又ハソの無水物、5.5’−エチレンジチオビス
(ノルボナンー乙3−ジカルボン酸)又はその無水物。
しては、ブタン−、ペンタン−、ヘキサン−、シクロペ
ンタン、ビシクロヘキセン−、シクロプロパン−、シク
ロブタン−、シクロペンタン、シクロヘキサン−、メチ
ルーシクロヘキ七ンー、エチレン−等のテトラカルボン
酸又はその無水物、λ3,5−)リカルボキシーシクロ
ペンチル酢酸又はその無水物、ビシクロ−(λス2)−
オクト−7エンー2.a&6−テトラカルボン酸又はそ
の無水物、テトラヒドロフラン−2,λ45−テトラカ
ルボン酸又はその無水物、5−(2,5−ジオキソテト
ラヒドロフリル)−3−メチル−3−シクロヘキセン−
1,2−ジカルボン酸又はその無水物、&&6−)ジカ
ルボキシ−2−カルボキシメチルノルボンナンー2:5
,5:8又はその無水物1氏5′−チオビス(ノルボル
ナン−2,3−ジカルボン酸)又はその無水物、5.5
’−メチレンジチオビス(ノルボナンース3−ジカルボ
ン酸)又ハソの無水物、5.5’−エチレンジチオビス
(ノルボナンー乙3−ジカルボン酸)又はその無水物。
玩5′−プロピレンジチオビス(ノルボナンース3−ジ
カルボンり又はその無水物、へ5′−スルホニルビス(
ノルボルナン−2,3−ジカルボン酸)又はその無水物
、翫5′−メチレンジスルホニルビス(ノルボナンース
3−ジカルボン酸)又はその無水物、 as’−エチレ
ンジスルホニルビス(ノルボナンー43−ジカルボン酸
)又はその無水物。
カルボンり又はその無水物、へ5′−スルホニルビス(
ノルボルナン−2,3−ジカルボン酸)又はその無水物
、翫5′−メチレンジスルホニルビス(ノルボナンース
3−ジカルボン酸)又はその無水物、 as’−エチレ
ンジスルホニルビス(ノルボナンー43−ジカルボン酸
)又はその無水物。
氏5′−プロピレンジスルホニルビス(ノルピナン−2
,3−ジカルボン酸)又はその無水物等が挙げられる。
,3−ジカルボン酸)又はその無水物等が挙げられる。
勿論これらのテトラカルボン酸又はその無水物の骨格が
アルキル基等の置換基で置換されてもよい。これらのテ
トラカルボン酸又はその無水物は単独でも2種以上を組
み合わせても使用することができる。
アルキル基等の置換基で置換されてもよい。これらのテ
トラカルボン酸又はその無水物は単独でも2種以上を組
み合わせても使用することができる。
また上記のテトラカルボン酸またはその無水物と反応し
てポリイミド前駆体を与えるジアミン化合物としては9
式(3) %式%(3) (式中、&は2価の芳香族基、脂肪族基、脂環式基また
はオルガノシロキサン基である)で表わされる化合物が
挙げられる。前記式(3)における好ましい亀としては
1例えば。
てポリイミド前駆体を与えるジアミン化合物としては9
式(3) %式%(3) (式中、&は2価の芳香族基、脂肪族基、脂環式基また
はオルガノシロキサン基である)で表わされる化合物が
挙げられる。前記式(3)における好ましい亀としては
1例えば。
兄
(nはO1九は1の整数)
(式中、 Xl、 Xs、 XsおよびX4は、同一か
又は異なっていてもよく、水素原子、炭化水素化合物ま
たけその置換体の1価の基であシ、Zは一−−CsHa
−,−〇 、 −8+、 −C−。
又は異なっていてもよく、水素原子、炭化水素化合物ま
たけその置換体の1価の基であシ、Zは一−−CsHa
−,−〇 、 −8+、 −C−。
CHs CFs
−(CHs)、、−(mは2〜40の整数)。
?H″
−(c市)s C−(CHI )s −C几
シ シ
h 馬
(式中R5およびRsは2価の有機基であり、島。
&、 R4およびEll(1は同−又は異なる炭化水素
化合物またはその置換体の1価の基でろり、 J、 k
は0又は1〜20の整数である)などがある。
化合物またはその置換体の1価の基でろり、 J、 k
は0又は1〜20の整数である)などがある。
上記式(3)で表わされるジアミン化合物の具体例トシ
てli、p−フェニレンジアミン、m−7二二レンジア
ミン、4.4’−ジアミノジフェニルメタン。
てli、p−フェニレンジアミン、m−7二二レンジア
ミン、4.4’−ジアミノジフェニルメタン。
44′−ジアミノジフェニルエタン、ベンジジン。
4.4′−ジアミノジフェニルスルフィド、4.4’−
ジアミノジフェニルスルホン、44′−ジアミノジフェ
ニルエーテル、3.3’−ジアミノベンゾフェノ/。
ジアミノジフェニルスルホン、44′−ジアミノジフェ
ニルエーテル、3.3’−ジアミノベンゾフェノ/。
44′−ジアミノベンゾフェノン、1.5−ジアミノナ
フタレy、3a’−ジメチル−44′−ジアミノビフェ
ニル、34’−ジアミノジフェニルエーテル。
フタレy、3a’−ジメチル−44′−ジアミノビフェ
ニル、34’−ジアミノジフェニルエーテル。
2.2−シ(p−アミノフェニル)ヘキサ70ロプロパ
ン、&4′−ジアミノベンズアニリド、m−キシリレン
ジアミン、p−キシリレンジアミン、エチレンジアミン
、1.3−プロパンジアミン、テトラメチレンジアミン
、ペンタメチレンジアミン。
ン、&4′−ジアミノベンズアニリド、m−キシリレン
ジアミン、p−キシリレンジアミン、エチレンジアミン
、1.3−プロパンジアミン、テトラメチレンジアミン
、ペンタメチレンジアミン。
ヘキサメチレンジアミン、ヘプタメチレンジアミン、オ
クタメチレンジアミン、ノナメチレンジアミン、44′
−ジメチルへブタメチレンジアミン。
クタメチレンジアミン、ノナメチレンジアミン、44′
−ジメチルへブタメチレンジアミン。
1.4−ジアミノシクロヘキサン、テトラヒドロジシク
ロペ/タジエニレンジアミン、ヘキサヒドロ−47−メ
タノインダニレンシメチレンジアミン。
ロペ/タジエニレンジアミン、ヘキサヒドロ−47−メ
タノインダニレンシメチレンジアミン。
トリシフE’[6,2,1,0龜7〕−ランデシレンジ
メチルジアミン。
メチルジアミン。
(両式においてRはHlたはCHI)
(両式においてR′はH,CHs、 C1またはBr)
CHI C迅 CHs CHs 等を挙げることができる。これらのジアミン化合物は、
1種類単独でも2種類以上を組み合わせても使用するこ
とができる。
CHI C迅 CHs CHs 等を挙げることができる。これらのジアミン化合物は、
1種類単独でも2種類以上を組み合わせても使用するこ
とができる。
脂肪族teは脂環式テトラカルボン酸又はその無水物と
ジアミン化合物との反応は通常不活性な有機溶媒中で1
通常0〜100℃、好ましくは5〜60℃の温度で行な
われ、ポリイミド前駆体の有機溶媒溶液として得られる
。脂肪族または脂環式テトラカルボン酸又はその無水物
とジアミン化合物は前者/後者が0.8 / 1〜1.
2/1(モル比)の割合で使用するのが好ましく、’F
IK均等モルで使用するのが好ましい。
ジアミン化合物との反応は通常不活性な有機溶媒中で1
通常0〜100℃、好ましくは5〜60℃の温度で行な
われ、ポリイミド前駆体の有機溶媒溶液として得られる
。脂肪族または脂環式テトラカルボン酸又はその無水物
とジアミン化合物は前者/後者が0.8 / 1〜1.
2/1(モル比)の割合で使用するのが好ましく、’F
IK均等モルで使用するのが好ましい。
上記反応に用いる有機溶媒としては生成するポリイミド
前駆体を完全に溶解する極性溶媒が一般に好ましく9例
えばN−メチル−2−ピロリド/。
前駆体を完全に溶解する極性溶媒が一般に好ましく9例
えばN−メチル−2−ピロリド/。
N、N−ジメチルアセトアミド、N、N−ジメチルホル
ムアミド、ジメチルスルホキシド、テトラメチル尿素、
ヘキサメチルリン酸トリアミド、r−ブチロラクトン等
が挙げられる。この他、この極性溶媒以外に一般的有機
溶媒であるクトン類、エステル類、ラクト/類、エーテ
ル類、ハロゲン化炭化水素類、炭化水素類1例えばアセ
トン、メチルエチルケトン、メチルインブチルケトン、
シクロヘキサノン、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ブチ
ル、シェラ酸ジエチル、叩ロン酸ジエチル、r−ブチロ
ラクトン、ジエチルエーテル、エチレングリコールジメ
チルエーテル、ジエチレン/ IJ :I−ルジメチル
エーテル、テトラヒドロフラン、ジクロロメタン、l、
2−ジクロルエタン、1.4−ジクロルブタン、トリク
ロルエタン、クロルベンゼン。
ムアミド、ジメチルスルホキシド、テトラメチル尿素、
ヘキサメチルリン酸トリアミド、r−ブチロラクトン等
が挙げられる。この他、この極性溶媒以外に一般的有機
溶媒であるクトン類、エステル類、ラクト/類、エーテ
ル類、ハロゲン化炭化水素類、炭化水素類1例えばアセ
トン、メチルエチルケトン、メチルインブチルケトン、
シクロヘキサノン、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ブチ
ル、シェラ酸ジエチル、叩ロン酸ジエチル、r−ブチロ
ラクトン、ジエチルエーテル、エチレングリコールジメ
チルエーテル、ジエチレン/ IJ :I−ルジメチル
エーテル、テトラヒドロフラン、ジクロロメタン、l、
2−ジクロルエタン、1.4−ジクロルブタン、トリク
ロルエタン、クロルベンゼン。
O−ジクロルベンゼン、ヘキサン、ヘプタン、オクタン
、ベンゼン、トルエン、キシレン[使用することができ
る。ポリイミド前駆体及び完全に溶解させる九めKは、
これらの一般的有機溶媒は前記の極性溶媒と混合して用
いることが望ましい。
、ベンゼン、トルエン、キシレン[使用することができ
る。ポリイミド前駆体及び完全に溶解させる九めKは、
これらの一般的有機溶媒は前記の極性溶媒と混合して用
いることが望ましい。
本発明においては、ポリイミド前駆体に、上記の式(2
)で表わされる分子内に少なくとも1つの不飽和二重結
合およびウレタン結合を有するインシアネート化合物を
付加させることKより感光性付加物を得る。
)で表わされる分子内に少なくとも1つの不飽和二重結
合およびウレタン結合を有するインシアネート化合物を
付加させることKより感光性付加物を得る。
本発明におけるポリイミド前駆体とイソシアネート化合
物との反応は、上記ポリイミド前駆体の合成に用い九有
機溶媒中で2通常θ〜100℃。
物との反応は、上記ポリイミド前駆体の合成に用い九有
機溶媒中で2通常θ〜100℃。
好ましくは20〜70℃の温度で行なわれる。インシア
ネート化合物のポリイミド前駆体に対する割合は9組成
物の感度および塗膜の耐熱性の点からポリイミド前駆体
中のカルボ中シル基1当量に対して通常0.1〜08g
当量、好ましくは0.4〜O,S当量である。
ネート化合物のポリイミド前駆体に対する割合は9組成
物の感度および塗膜の耐熱性の点からポリイミド前駆体
中のカルボ中シル基1当量に対して通常0.1〜08g
当量、好ましくは0.4〜O,S当量である。
更にインシアネート化合物とポリイミド前駆体との反応
は、トリエチルアミン、1.4−ジアゾビシクロ(2,
2,2)オクタン等のアミン、ジブチルスズジラウレー
ト、ジブチルスズジアセテート等のスズ化合物などを用
いると容易と凍る。これらは通常インシアネート化合物
に対して約0.05〜25重量−の範囲で用いることが
できる。
は、トリエチルアミン、1.4−ジアゾビシクロ(2,
2,2)オクタン等のアミン、ジブチルスズジラウレー
ト、ジブチルスズジアセテート等のスズ化合物などを用
いると容易と凍る。これらは通常インシアネート化合物
に対して約0.05〜25重量−の範囲で用いることが
できる。
このインシアネート化合物は、少なくとも1つの不飽和
二重結合を有するヒドロキシ化合物とジイノシアネート
化合物を出発原料として合成される。少なくとも1つの
不飽和二重結合を有するヒドロキシ化合物としては、ト
リメチロールプロパンジアクリレート、トリメチロール
プロパンジメタクリレート、トリメチロールエタンジア
クリレート、トリメチクールエタンジメタクリレート。
二重結合を有するヒドロキシ化合物とジイノシアネート
化合物を出発原料として合成される。少なくとも1つの
不飽和二重結合を有するヒドロキシ化合物としては、ト
リメチロールプロパンジアクリレート、トリメチロール
プロパンジメタクリレート、トリメチロールエタンジア
クリレート、トリメチクールエタンジメタクリレート。
ペンタエリスリトールトリアクリレート、ペンタエリス
リトールトリメタクリレート、2−ヒドロキシエチルア
クリレート、2−ヒドロキシエチルメタクリレート、2
−ヒドロキシプロピルアクリレート、2−ヒドロキシプ
ロピルメタクリレート。
リトールトリメタクリレート、2−ヒドロキシエチルア
クリレート、2−ヒドロキシエチルメタクリレート、2
−ヒドロキシプロピルアクリレート、2−ヒドロキシプ
ロピルメタクリレート。
2−ヒトaキシ−3−フ二ノ午ジプロピルアクリレート
、2−ヒドロキシ−3−フェノキシプロピルメタクリレ
ート、アリルアルコール、グリセリンジアリルエーテル
、トリメチロールプロパンジアリルエーテル、トリメチ
ロールエタンジアリルエーテル、ペンタエリスリトール
ジ了りルエーテル、エチレングリコールモノアリルエー
テル、ジエチレングリコールモノアリルエーテル、ジク
リセクールトリアリルエーテル、ククチルアルコール、
ビニルフェノール、シンナミルアルコール。
、2−ヒドロキシ−3−フェノキシプロピルメタクリレ
ート、アリルアルコール、グリセリンジアリルエーテル
、トリメチロールプロパンジアリルエーテル、トリメチ
ロールエタンジアリルエーテル、ペンタエリスリトール
ジ了りルエーテル、エチレングリコールモノアリルエー
テル、ジエチレングリコールモノアリルエーテル、ジク
リセクールトリアリルエーテル、ククチルアルコール、
ビニルフェノール、シンナミルアルコール。
アリルフェノール、0−シンナミルフェノールOR
α−−OC−C−CHt
■
R
(nは1〜30の整数)
(几はHまたはCHs)
−C&−CH−CHs
H
(RはHまたはCHs)
(RはHlたはCHs)
等が挙げられる。これらのヒドロキシ化合物は。
1種類単独でも2種類以上を組み合わせても使用するこ
とができる。また、このヒドロキシ化合物と反応して分
子内に不飽和二重結合およびウレタン結合を有するイソ
シアネート化合物を与えるジイソシアネート化合物とし
ては、44′−ジフェニルメタンジイソシアネート、ジ
アニシジンインシアネート、トリデンジイソシアネート
、ヘキサメチレンジイソシアネート、2.4−)リレン
ジイソシアネート、 2.6−)リレンジイソシアネー
ト。
とができる。また、このヒドロキシ化合物と反応して分
子内に不飽和二重結合およびウレタン結合を有するイソ
シアネート化合物を与えるジイソシアネート化合物とし
ては、44′−ジフェニルメタンジイソシアネート、ジ
アニシジンインシアネート、トリデンジイソシアネート
、ヘキサメチレンジイソシアネート、2.4−)リレン
ジイソシアネート、 2.6−)リレンジイソシアネー
ト。
メタキシリレンジイソシアネート、1.5−ナフタレン
ジイソシアネート、トランスビニレンジインシアネート
、2I2,4−)リメチルへキサメチレンジイノシアネ
ート、2.44−)リメチルへキサメチレンジイノシア
ネート、3−インシアナートメチル−3,5,5−)リ
メチルーシクロヘキシルイソシアネート CO 等が挙げられる。さらに、これらのジインシアネート化
合物は、1種類単独でも2種類以上を組み合わせても使
用することができる。
ジイソシアネート、トランスビニレンジインシアネート
、2I2,4−)リメチルへキサメチレンジイノシアネ
ート、2.44−)リメチルへキサメチレンジイノシア
ネート、3−インシアナートメチル−3,5,5−)リ
メチルーシクロヘキシルイソシアネート CO 等が挙げられる。さらに、これらのジインシアネート化
合物は、1種類単独でも2種類以上を組み合わせても使
用することができる。
分子内に少なくとも1つの不飽和二重結合を有するヒド
ロキシ化合物とジイソシアネート化合物との反応は、無
溶媒あるいは不活性な有機溶媒中で2通常0〜100℃
、好ましくは20〜70℃の温度で行なわれる。分子内
に少々くとも1つの不飽和二重結合を有するヒドロキシ
化合物とジイソシアネート化合物は、前者/後者が0.
8 / 1〜1.2/1(モル比)の割合で使用するの
が好ましく、特に等モルで使用することが好ましい。さ
らに1分子内に少なくとも1つの不飽和二重結合を有す
るヒドロキシ化合物とジインシアネート化合物との反応
は、トリエチルアミン、1.4−ジアゾビシクロ〔スλ
2〕オクタンのようなアミン又はジブチルスズジラウレ
ート、ジブチルスズジアセテートのようなスズ化合物を
用いると容易となる。
ロキシ化合物とジイソシアネート化合物との反応は、無
溶媒あるいは不活性な有機溶媒中で2通常0〜100℃
、好ましくは20〜70℃の温度で行なわれる。分子内
に少々くとも1つの不飽和二重結合を有するヒドロキシ
化合物とジイソシアネート化合物は、前者/後者が0.
8 / 1〜1.2/1(モル比)の割合で使用するの
が好ましく、特に等モルで使用することが好ましい。さ
らに1分子内に少なくとも1つの不飽和二重結合を有す
るヒドロキシ化合物とジインシアネート化合物との反応
は、トリエチルアミン、1.4−ジアゾビシクロ〔スλ
2〕オクタンのようなアミン又はジブチルスズジラウレ
ート、ジブチルスズジアセテートのようなスズ化合物を
用いると容易となる。
これらはジイソシアネート化合物に対して約0.05〜
25重量−の範囲で通常用いることができる。
25重量−の範囲で通常用いることができる。
本発8Aにおいて、必要に応じて用いられる重合性不飽
和化合物としては各種のものがおるが、アクリル酸系化
合物、メタクリル酸系化合物等が実用的である。具体的
なアクリル酸系化合物としてはアクリル酸、メチルアク
リレート、エチルアクリレート、n−プロピルアクリレ
ート、イソプロピルアクリレート、n−ブチルアクリレ
ート、イソブチルアクリレート、シクロヘキシルアクリ
レ−トウベンジルアクリレート、カルピトールアクリレ
ート、メトキシエチルアクリレート、エトキシエチルア
クリレート、ブトキシエチルアクリレート、ヒドロキシ
エチルアクリレート、ヒドロキシプロピルアクリレート
、ブチレングリコールモノアクリレート、N、N−ジメ
チルアミノエチルアクリレート、N、N−ジエチルアミ
ノエチルアクリレート、グリシジルアクリレート、テト
ラヒドロフルフリルアクリレート、ペンタエリスリトー
ルモノアクリレート、トリメチクールプロパンモノアク
リレート、アリルアクリレート、1.3−プロピレング
リコールジアクリレート、L4−ブチレングリコールジ
アクリレート、1.6−ヘキサングリコールジアクリレ
ート、ネオペンチルグリコールジアクリレート、ジプロ
ピレングリコールジアクリレート、ス2−ビス−(4−
アクリロキシジェトキシフェニル)フロパン、2.2−
ビス−(4−アクリロキシプロピルキシフェニル)フロ
パン。
和化合物としては各種のものがおるが、アクリル酸系化
合物、メタクリル酸系化合物等が実用的である。具体的
なアクリル酸系化合物としてはアクリル酸、メチルアク
リレート、エチルアクリレート、n−プロピルアクリレ
ート、イソプロピルアクリレート、n−ブチルアクリレ
ート、イソブチルアクリレート、シクロヘキシルアクリ
レ−トウベンジルアクリレート、カルピトールアクリレ
ート、メトキシエチルアクリレート、エトキシエチルア
クリレート、ブトキシエチルアクリレート、ヒドロキシ
エチルアクリレート、ヒドロキシプロピルアクリレート
、ブチレングリコールモノアクリレート、N、N−ジメ
チルアミノエチルアクリレート、N、N−ジエチルアミ
ノエチルアクリレート、グリシジルアクリレート、テト
ラヒドロフルフリルアクリレート、ペンタエリスリトー
ルモノアクリレート、トリメチクールプロパンモノアク
リレート、アリルアクリレート、1.3−プロピレング
リコールジアクリレート、L4−ブチレングリコールジ
アクリレート、1.6−ヘキサングリコールジアクリレ
ート、ネオペンチルグリコールジアクリレート、ジプロ
ピレングリコールジアクリレート、ス2−ビス−(4−
アクリロキシジェトキシフェニル)フロパン、2.2−
ビス−(4−アクリロキシプロピルキシフェニル)フロ
パン。
トリメチロールプロパンジアクリレート、ペンタエリス
リトールジアクリレート、トリメチロールプロパントリ
アクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート
、トリアクリルホルマール。
リトールジアクリレート、トリメチロールプロパントリ
アクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート
、トリアクリルホルマール。
テトラメチロールメタンテトラアクリレート、トリス(
2−ヒドロキシエチル)イソシアヌル酸のアクリル酸エ
ステル。
2−ヒドロキシエチル)イソシアヌル酸のアクリル酸エ
ステル。
(nは1〜30の整数)
(n、mはn−)−mが2〜30となる整数)HsBr
等を挙げることができ、またメタクリル酸系化合物とし
ては、メタクリル酸、メチルメタク゛リレート、エチル
メタクリレート、プロピルメタクリレート、イングロビ
ルメタクリレート、ブチルメタクリレート、インブチル
メタクリレート、シクロヘキシルメタクリレート、ベン
ジルメタクリレート、オクチルメタクリレート、エチル
へキシルメタクリレート、メトキシエチルメタクリレー
ト。
ては、メタクリル酸、メチルメタク゛リレート、エチル
メタクリレート、プロピルメタクリレート、イングロビ
ルメタクリレート、ブチルメタクリレート、インブチル
メタクリレート、シクロヘキシルメタクリレート、ベン
ジルメタクリレート、オクチルメタクリレート、エチル
へキシルメタクリレート、メトキシエチルメタクリレー
ト。
エトキシエチルメタクリレート、ブトキシエチルメタク
リレート、ヒドロキシエチルメタクリレート、ヒドロキ
シプロピルメタクリレート、ヒドロキシブチルメタクリ
レート、ヒドロキシエチルアクリレート、N、N−ジメ
チルアミノメタクリレート、N、N−ジエチルアミノメ
タクリレート。
リレート、ヒドロキシエチルメタクリレート、ヒドロキ
シプロピルメタクリレート、ヒドロキシブチルメタクリ
レート、ヒドロキシエチルアクリレート、N、N−ジメ
チルアミノメタクリレート、N、N−ジエチルアミノメ
タクリレート。
グリシジルメタクリレート、テトラヒトミフルフリルメ
タクリレート、メタクリロキシプロピルトリメトキシシ
ラン、アリルメタクリレート、トリメチロールプロパン
モノメタクリレート、ペンタエリスリトールモノメタク
リレート、1.3−ブチレングリコールジメタクリレー
ト、1.6−へキサングリコールジメタクリレート、ネ
オペンチルグリコールジメタクリレート、2.2−ビス
−(4−メタクリロキシジェトキシフェニル)プロパン
。
タクリレート、メタクリロキシプロピルトリメトキシシ
ラン、アリルメタクリレート、トリメチロールプロパン
モノメタクリレート、ペンタエリスリトールモノメタク
リレート、1.3−ブチレングリコールジメタクリレー
ト、1.6−へキサングリコールジメタクリレート、ネ
オペンチルグリコールジメタクリレート、2.2−ビス
−(4−メタクリロキシジェトキシフェニル)プロパン
。
トリメチロールプロパンジメタクリレート、ペンタエリ
スリトールジメタクリレート、トリメチロールプロパン
トリアクリレート、ペンタエリスリトールトリメタクリ
レート、テトラメチロールメタンテトラメタクリレート
、トリス(2−ヒドロキシエチル)インシアヌル酸のメ
タクリル酸エステル。
スリトールジメタクリレート、トリメチロールプロパン
トリアクリレート、ペンタエリスリトールトリメタクリ
レート、テトラメチロールメタンテトラメタクリレート
、トリス(2−ヒドロキシエチル)インシアヌル酸のメ
タクリル酸エステル。
(nは1〜30の整数)
Hs
(n、mはn−)−mが1〜30となる整数)CルBr
0 Br Br
等を挙げることができ、クロトン酸ブチル、グリセリン
モノクロネート、ビニルブチレート、ビニルトリメチル
アセテート、ビニルカプロエート。
モノクロネート、ビニルブチレート、ビニルトリメチル
アセテート、ビニルカプロエート。
ビニルクロルアセテート、ビニルラクテート、安息香酸
ビニル、ジビニルサクシネート、ジビニル7タレート、
メタクリルアミド、N−メチルメタクリルアミド、N−
エチルメタクリルアミド、N−アリールメタクリルアミ
ド、N−ヒドロキシエチル−N−メチルメタクリルアミ
ド、アクリルアミド、N−t−ブチルアクリルアミド、
N−メチロールアクリルアミド、N−インブトキシメチ
ルアクリルアミド、N−ブトキシメチルアクリルアミド
、ダイア七トンアクリルアミド、ヘキシルビニルエーテ
ル、エチルヘキシルビニルエーテル。
ビニル、ジビニルサクシネート、ジビニル7タレート、
メタクリルアミド、N−メチルメタクリルアミド、N−
エチルメタクリルアミド、N−アリールメタクリルアミ
ド、N−ヒドロキシエチル−N−メチルメタクリルアミ
ド、アクリルアミド、N−t−ブチルアクリルアミド、
N−メチロールアクリルアミド、N−インブトキシメチ
ルアクリルアミド、N−ブトキシメチルアクリルアミド
、ダイア七トンアクリルアミド、ヘキシルビニルエーテ
ル、エチルヘキシルビニルエーテル。
ビニルトリルエーテル、多価アルコールのポリビニルエ
ーテル、スチレン誘導体として例えばオルト及ヒハラ位
にアルキル基、アルコキシ基、ノ・ロゲン、カルボキシ
ル基、アリル基などの置換基を持ったスチレンジビニル
ベンゼン、アリルオキシエタノール、ジカルボン酸のジ
アリルエステル。
ーテル、スチレン誘導体として例えばオルト及ヒハラ位
にアルキル基、アルコキシ基、ノ・ロゲン、カルボキシ
ル基、アリル基などの置換基を持ったスチレンジビニル
ベンゼン、アリルオキシエタノール、ジカルボン酸のジ
アリルエステル。
N−ビニルオキサゾリドン、N−ビニルイミダゾール、
N−ビニルピロリドン、N−ビニルカルバゾール等を挙
げることができる。これらは単独でまたは混合物として
用いられる。
N−ビニルピロリドン、N−ビニルカルバゾール等を挙
げることができる。これらは単独でまたは混合物として
用いられる。
光重合開始剤としては一般に紫外線硬化型塗料の光重合
開始剤として用いられている各種の化合物を使用できる
。例えば、ミヒラーズケトン、ベンゾイン、2・−メチ
ルベンゾイン、べ/ゾインメチルエーテル、ベンゾイン
エチルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル、ベ
ンゾインブチルエーテル、2−1−ブチルアントラキノ
ン、l、2−ベンゾ−9,10−アントラキノン、アン
トラキノン、メチルアントラキノン、4.4’−ビス(
ジエチルアミノ)ベンゾフェノン、アセナフテン。
開始剤として用いられている各種の化合物を使用できる
。例えば、ミヒラーズケトン、ベンゾイン、2・−メチ
ルベンゾイン、べ/ゾインメチルエーテル、ベンゾイン
エチルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル、ベ
ンゾインブチルエーテル、2−1−ブチルアントラキノ
ン、l、2−ベンゾ−9,10−アントラキノン、アン
トラキノン、メチルアントラキノン、4.4’−ビス(
ジエチルアミノ)ベンゾフェノン、アセナフテン。
ベンゾフェノン、チオキサントン、L5−アセナフテン
、2.2−ジメトキシ−2−フェニルアセトフェノン、
1−ヒドロキシシクロへキシルフェニルケトン、2−メ
チル−〔4−(メチルチオ)フェニル〕−2−モル7オ
リノー1−プロパン、ジアセチル、ベンジル、ベンジル
ジメチルケタール。
、2.2−ジメトキシ−2−フェニルアセトフェノン、
1−ヒドロキシシクロへキシルフェニルケトン、2−メ
チル−〔4−(メチルチオ)フェニル〕−2−モル7オ
リノー1−プロパン、ジアセチル、ベンジル、ベンジル
ジメチルケタール。
ベンジルジエチルケタール、ジフェニルジスルフィド、
アントラセン等を挙げることができる。これらの光重合
開始剤の使用量は2組成物の感度および塗膜の耐熱性の
点から感光性付加物100重量部又は感光性付加物と重
合性不飽和化合物109重量部に対して通常0.01〜
30重量部、好ましくはα1〜10重量部とされる。こ
れらの光重合開始剤に公知の増感助剤であるアミン類を
少量併用することもできる。まそ組成物の熱的な安定性
を向上させるために、公知の熱重合禁止剤を共存させる
ことが好ましい。
アントラセン等を挙げることができる。これらの光重合
開始剤の使用量は2組成物の感度および塗膜の耐熱性の
点から感光性付加物100重量部又は感光性付加物と重
合性不飽和化合物109重量部に対して通常0.01〜
30重量部、好ましくはα1〜10重量部とされる。こ
れらの光重合開始剤に公知の増感助剤であるアミン類を
少量併用することもできる。まそ組成物の熱的な安定性
を向上させるために、公知の熱重合禁止剤を共存させる
ことが好ましい。
熱重合禁止剤の具体例としては、p−メトキシフェノー
ル、ヒドロキノン、t−ブチルカテコール、ピロガロー
ル、フェノチアジン、フロラニール、す7チルアミン、
β−ナフトール、2.6−ジーt−ブチル−p−クレゾ
ール、ヒ+)ジン、ニトロベンゼン、 p−)ルイジ
ン、メチレンブルー、2゜2′−メチレンビス(4−メ
チル−6−t−ブチルフェノール)、2.2’−メチレ
ンビス(4−エチル−6−t−ブチルフェノール)等が
挙げられ、その使用量は感光性付加物100重量部又は
感光性付加物と重合性不飽和化合物100重量部に対し
て通常0.001〜10重量部とするのが好ましい。
ル、ヒドロキノン、t−ブチルカテコール、ピロガロー
ル、フェノチアジン、フロラニール、す7チルアミン、
β−ナフトール、2.6−ジーt−ブチル−p−クレゾ
ール、ヒ+)ジン、ニトロベンゼン、 p−)ルイジ
ン、メチレンブルー、2゜2′−メチレンビス(4−メ
チル−6−t−ブチルフェノール)、2.2’−メチレ
ンビス(4−エチル−6−t−ブチルフェノール)等が
挙げられ、その使用量は感光性付加物100重量部又は
感光性付加物と重合性不飽和化合物100重量部に対し
て通常0.001〜10重量部とするのが好ましい。
本発FJAKなる感光性樹脂組成物は有機溶媒を含むが
、この有機溶媒は、上記の反応に用いた有機溶媒を用い
てもよく、また2反応に用いた有機溶媒を上記に記載さ
れた他の有機溶媒に変えてもよい。
、この有機溶媒は、上記の反応に用いた有機溶媒を用い
てもよく、また2反応に用いた有機溶媒を上記に記載さ
れた他の有機溶媒に変えてもよい。
有機溶媒の使用量は感光性樹脂組成物の10〜95重量
%組成物の粘度の点から好ましくは30〜80重量−の
範囲とされる。
%組成物の粘度の点から好ましくは30〜80重量−の
範囲とされる。
本発明になる感光性樹脂組成物は、上記の成分を含むが
、これらの混合順序、混合方法等には特に制限はない。
、これらの混合順序、混合方法等には特に制限はない。
本発明になる感光性樹脂組成物は、適宜の手段で銅張シ
積層板、シリコーンウエノ・等の基材に塗布され乾燥さ
れる。この際本発明の感光性樹脂組成物の骨格である感
光性付加物は、溶解性及び光透過性が非常に良好で9重
合性不飽和化合物の存在下でも均一で、しかも透明性に
優れた塗膜を与える。この塗膜上に所望のパターンを描
いたマスク上から活性光線を照射するととKより、照射
部において重合が起こり、非照射部に対して溶解性が大
きく低下する。場合により電子線、放射線のような電離
性放射線を照射することによっても同様の効果を与える
。かくして、これに適当な有機溶媒もしくはアルカリ水
溶液を現像液として用いて、非照射部を現像除去するこ
とにより所望の厚膜な樹脂パターンを得ることができる
。有機溶媒としては、上記のポリイミド前駆体の合成溶
媒が用いられる。また、このような有機溶媒を用いて現
像残シを生じる場合には有機溶媒に水を添加して用いる
こともできる。水の使用量は、有機溶媒100重量部に
対して通常1〜100重量部、好ましくは5〜50重量
部である。
積層板、シリコーンウエノ・等の基材に塗布され乾燥さ
れる。この際本発明の感光性樹脂組成物の骨格である感
光性付加物は、溶解性及び光透過性が非常に良好で9重
合性不飽和化合物の存在下でも均一で、しかも透明性に
優れた塗膜を与える。この塗膜上に所望のパターンを描
いたマスク上から活性光線を照射するととKより、照射
部において重合が起こり、非照射部に対して溶解性が大
きく低下する。場合により電子線、放射線のような電離
性放射線を照射することによっても同様の効果を与える
。かくして、これに適当な有機溶媒もしくはアルカリ水
溶液を現像液として用いて、非照射部を現像除去するこ
とにより所望の厚膜な樹脂パターンを得ることができる
。有機溶媒としては、上記のポリイミド前駆体の合成溶
媒が用いられる。また、このような有機溶媒を用いて現
像残シを生じる場合には有機溶媒に水を添加して用いる
こともできる。水の使用量は、有機溶媒100重量部に
対して通常1〜100重量部、好ましくは5〜50重量
部である。
アルカリ水溶液に用いられる適当な塩基としてはアルカ
リ金属、4級アンモニウムの水酸化物。
リ金属、4級アンモニウムの水酸化物。
炭酸塩2重炭酸塩、ケイ酸塩、リン酸塩、ピロリン酸塩
、酢酸塩、アミン類等が用いられる。これらの具体例と
しては、水酸化リチウム、水酸化ナトリウム、水酸化カ
リウム、水酸化アンモニウム。
、酢酸塩、アミン類等が用いられる。これらの具体例と
しては、水酸化リチウム、水酸化ナトリウム、水酸化カ
リウム、水酸化アンモニウム。
トリメチルペンジルアンモニウムヒドロキシト。
テトラメチルアンモニウムヒドロキシド、炭酸ナトリウ
ム、炭酸カリウム、炭酸水素ナトリウム。
ム、炭酸カリウム、炭酸水素ナトリウム。
ケイ酸ナトリウム、リン酸ナトリウム、ビロリン酸ナト
リウム、酢酸ナトリウム、モノエタノールアミン、ジェ
タノールアミン、トリエタノールアミン等が挙げられる
。その使用量は、水100重量部に対して通常0.00
01〜30重量部、好ましくはo、oos〜5重量部で
ある。
リウム、酢酸ナトリウム、モノエタノールアミン、ジェ
タノールアミン、トリエタノールアミン等が挙げられる
。その使用量は、水100重量部に対して通常0.00
01〜30重量部、好ましくはo、oos〜5重量部で
ある。
また、このようなアルカリ水溶液で現像残シを ・生
じる場合にはアルカリ水溶液に有機溶媒を添加して用い
ることもできる。有機溶媒としては上記したポリイミド
前駆体の合成時に使用した極性溶媒が一般KtFFt
Lい。その他、この極性溶媒以外に上記した一般的有機
溶媒も使用することができる。有機溶媒の使用量は、ア
ルカリ水溶液100重量部に対して通常0.1〜100
重量部、好ましくは5〜50重量部である。
じる場合にはアルカリ水溶液に有機溶媒を添加して用い
ることもできる。有機溶媒としては上記したポリイミド
前駆体の合成時に使用した極性溶媒が一般KtFFt
Lい。その他、この極性溶媒以外に上記した一般的有機
溶媒も使用することができる。有機溶媒の使用量は、ア
ルカリ水溶液100重量部に対して通常0.1〜100
重量部、好ましくは5〜50重量部である。
得られた厚膜の樹脂パターンは、その後の焼き付は即ち
ボストキュアーによシ優れた耐熱性を有する半導体、多
層印刷配線板等の層間絶縁膜に変換しうるもので1本発
明の感光性樹脂組成物は。
ボストキュアーによシ優れた耐熱性を有する半導体、多
層印刷配線板等の層間絶縁膜に変換しうるもので1本発
明の感光性樹脂組成物は。
主として前述のような微細加工の分野において非常に有
用である。
用である。
(発明の効果)
本発明になる感光性樹脂組成物は、溶解性及び光透過性
に優れ、厚膜形成可能な上記の用途に好適である感光性
樹脂組成物である。
に優れ、厚膜形成可能な上記の用途に好適である感光性
樹脂組成物である。
(実施例)
次に2本発明を実施例によシ説明するが9本発明はこれ
らに限定されるものではない。
らに限定されるものではない。
なお、実施例で使用し九分子内に少なくとも1つの不飽
和二重結合およびウレタン結合を有するイソシアネート
化合物(1)および(II)は次のように調製し九。
和二重結合およびウレタン結合を有するイソシアネート
化合物(1)および(II)は次のように調製し九。
(1)温度計、窒素ガス導入口及び攪拌装置を付した2
00 ml!の四つロフラスコに44−トリレンジイ
ソシアネートを17.49(0,1モル)及び乾燥させ
たメチルエチルケトン100 mlとジブチルスズジラ
ウレートを21!1g加え、乾燥窒素ガス流通下で室温
で攪拌し虎。次に2−ヒドロキシエチルアクリレートを
11.69(0,1モル)加えて。
00 ml!の四つロフラスコに44−トリレンジイ
ソシアネートを17.49(0,1モル)及び乾燥させ
たメチルエチルケトン100 mlとジブチルスズジラ
ウレートを21!1g加え、乾燥窒素ガス流通下で室温
で攪拌し虎。次に2−ヒドロキシエチルアクリレートを
11.69(0,1モル)加えて。
この溶液を室温で8時間攪拌後、メチルエチルケトンを
除去してインシアネート化合物(1)を得意。
除去してインシアネート化合物(1)を得意。
生成物の”H−NMRスペクトルでは、435p1)m
に一0CR冨CHsO−のシグナルと&7〜6.4 p
pm KCH= CHsのシグナルが見られた。
に一0CR冨CHsO−のシグナルと&7〜6.4 p
pm KCH= CHsのシグナルが見られた。
(2)温度計、窒素ガス導入口及び攪拌装置を付した2
00 mlの四つロフラスコに3−イソシアナートメ
チル−3,5,5−)リメチルーシクロヘキシルイソシ
アナートを2229(0,1モル)及び乾燥させたメチ
ルエチルケトン100 mlとジブチルスズジラウレー
トを2!IIg加え、乾燥窒素ガス流通下で室温で攪拌
した。次に2−ヒドロキシプロビルアクリレートを11
.3 g(0,1モル)加えて。
00 mlの四つロフラスコに3−イソシアナートメ
チル−3,5,5−)リメチルーシクロヘキシルイソシ
アナートを2229(0,1モル)及び乾燥させたメチ
ルエチルケトン100 mlとジブチルスズジラウレー
トを2!IIg加え、乾燥窒素ガス流通下で室温で攪拌
した。次に2−ヒドロキシプロビルアクリレートを11
.3 g(0,1モル)加えて。
この溶液を室温で8時間攪拌後、メチルエチルケト/を
除去してイソシアネート化合物(II)を得な。
除去してイソシアネート化合物(II)を得な。
生成物の”H−NMR,1,ベクトルでは、4.28p
I)mK −OCH宜CH*0−tD シグナルと5.
7〜a4ppmに−CH−CH意のシグナルが見られた
。
I)mK −OCH宜CH*0−tD シグナルと5.
7〜a4ppmに−CH−CH意のシグナルが見られた
。
実施例1
温度計、窒素ガス導入口及び攪拌装置を付し九500
mj’の四つロフラスコに5−(λ5−ジオキソテトラ
ヒドロ7リル)−3−メチル−3−シクロヘキセン−1
,2−ジカルボン酸無水物(大日本インキ化学工業社製
)52.849(0,2モル)及びN、N−ジメチルア
セトアミド250 mlを加え、乾燥窒素ガス流通下で
室温で攪拌した。次に44′−ジアミノジフェニルエー
テル(三井東圧イヒ学社製)を40.059(0,2モ
ル)加えてこの溶液を室温で8時間攪拌して、粘稠なポ
リイミド前駆体を得た。更に光遮断下の室温で(1)で
得たイソシアネート化合物を29.0g(0,1モル)
加え24時間攪拌した。反応中は二酸化炭素が発生した
。この溶液にテトラエチレングリコールジアクリレート
(新中村化学社製)を92−9g加え、光遮断下でベン
ゾフェノン5.4g及び4.4′−ビス(ジエチルアミ
ノ)ベンゾフェノン0.69を加え攪拌混合後、フィル
ターにてろ過して感光性樹脂組成物を得た。
mj’の四つロフラスコに5−(λ5−ジオキソテトラ
ヒドロ7リル)−3−メチル−3−シクロヘキセン−1
,2−ジカルボン酸無水物(大日本インキ化学工業社製
)52.849(0,2モル)及びN、N−ジメチルア
セトアミド250 mlを加え、乾燥窒素ガス流通下で
室温で攪拌した。次に44′−ジアミノジフェニルエー
テル(三井東圧イヒ学社製)を40.059(0,2モ
ル)加えてこの溶液を室温で8時間攪拌して、粘稠なポ
リイミド前駆体を得た。更に光遮断下の室温で(1)で
得たイソシアネート化合物を29.0g(0,1モル)
加え24時間攪拌した。反応中は二酸化炭素が発生した
。この溶液にテトラエチレングリコールジアクリレート
(新中村化学社製)を92−9g加え、光遮断下でベン
ゾフェノン5.4g及び4.4′−ビス(ジエチルアミ
ノ)ベンゾフェノン0.69を加え攪拌混合後、フィル
ターにてろ過して感光性樹脂組成物を得た。
この組成物を銅張シ積層板(日立化成工業■製MCL−
E−61)上にバーコータによって乾燥厚みが50μm
となるように塗工し、80℃で30分間加熱乾燥し、つ
いで、上記の塗膜面をパターンマスクし、 300 m
J/cm”の紫外線を照射ffl、 N−メチルピロリ
ドンで現像し、エチルアルコールでリンスを行なったと
ころ、鮮明な樹脂パターンを得た。この樹脂パターンの
塗膜は、250℃で1時間加熱によるボストキュア後、
熱重量分析を行なったところ、10%重量重量減変温4
18℃と良好な耐熱性を有するものであった。
E−61)上にバーコータによって乾燥厚みが50μm
となるように塗工し、80℃で30分間加熱乾燥し、つ
いで、上記の塗膜面をパターンマスクし、 300 m
J/cm”の紫外線を照射ffl、 N−メチルピロリ
ドンで現像し、エチルアルコールでリンスを行なったと
ころ、鮮明な樹脂パターンを得た。この樹脂パターンの
塗膜は、250℃で1時間加熱によるボストキュア後、
熱重量分析を行なったところ、10%重量重量減変温4
18℃と良好な耐熱性を有するものであった。
実施例2
実施例1と同様にフラスコに1.2.3.4−ブタンテ
トラカルボン酸二無水物に井東圧ファイン社!1)39
.63s(0,2モル)及びN、N−ジメチルアセトア
ミド2 s Omlを加え、実施例1と同様にして4.
4′−ジアミノジフェニルエーテル40.059(0,
2モル)を加えて、粘稠なボリイ・ミド前駆体を得た。
トラカルボン酸二無水物に井東圧ファイン社!1)39
.63s(0,2モル)及びN、N−ジメチルアセトア
ミド2 s Omlを加え、実施例1と同様にして4.
4′−ジアミノジフェニルエーテル40.059(0,
2モル)を加えて、粘稠なボリイ・ミド前駆体を得た。
更に実施例1と同様にして室温で(1)で得たインシア
ネート化合物(1)j9.09(0,1モル)を加え、
24時間攪拌した。反応中は二酸化炭素が発生した。こ
の溶液にFA−731A(日立化成工業■製 トリス(
2−アクリロイルエチル)インシアヌレート)を79.
3G加え、光遮断下でベンジルジメチルケタール(チバ
俸ガイギー社製)4.2gを加えて攪拌混合後、フィル
ターでろ過して感光性樹脂組成物を得意。この組成物を
実施例1と同様にして塗布し、透明な50μm厚の塗膜
を得た。この塗@K 300 mJ/ai”の照射を行
ない、実施例1と同様にして現儂、リンスを行なったと
ころ鮮明な樹脂パターンを得た。
ネート化合物(1)j9.09(0,1モル)を加え、
24時間攪拌した。反応中は二酸化炭素が発生した。こ
の溶液にFA−731A(日立化成工業■製 トリス(
2−アクリロイルエチル)インシアヌレート)を79.
3G加え、光遮断下でベンジルジメチルケタール(チバ
俸ガイギー社製)4.2gを加えて攪拌混合後、フィル
ターでろ過して感光性樹脂組成物を得意。この組成物を
実施例1と同様にして塗布し、透明な50μm厚の塗膜
を得た。この塗@K 300 mJ/ai”の照射を行
ない、実施例1と同様にして現儂、リンスを行なったと
ころ鮮明な樹脂パターンを得た。
この樹脂パターンの塗膜を実施例11C記載の方法で熱
重量分析を行なったところ、10チ重量減少温度は42
4℃と良好な耐熱性を有するものであった。
重量分析を行なったところ、10チ重量減少温度は42
4℃と良好な耐熱性を有するものであった。
実施例3
実施例1と同様にフラスコに5−(スラージオキソテト
ラヒドロフリル)−3−メチル−3−シクロヘキセン−
1,2−ジカルボン酸無水物51849(0,2モル)
及びN、N−ジメチルアセトアミド250 mlを加え
、実施例1と同様にして4.4’ −ジアミノジフェニ
ルエーテル40.05(0,29)を用いて粘稠なポリ
イミド前駆体を得た。更に室温で(2)で得たインシア
ネート化合物(II)36.59(0,1モル)を加え
、24時間攪拌した。反応中は二酸化炭素が発生した。
ラヒドロフリル)−3−メチル−3−シクロヘキセン−
1,2−ジカルボン酸無水物51849(0,2モル)
及びN、N−ジメチルアセトアミド250 mlを加え
、実施例1と同様にして4.4’ −ジアミノジフェニ
ルエーテル40.05(0,29)を用いて粘稠なポリ
イミド前駆体を得た。更に室温で(2)で得たインシア
ネート化合物(II)36.59(0,1モル)を加え
、24時間攪拌した。反応中は二酸化炭素が発生した。
この溶液KFA−731A(日立化成工業■製 トリス
(2−アクリロイルエチル)インシアヌレート)を91
89加え、光遮断下でベンゾフェノン5.4g及び4.
4′−ビス(ジエチルアミノ)ベンゾフェノン0.6g
を加え攪拌混合後フィルターでろ過して感光性樹脂組成
物を得な。
(2−アクリロイルエチル)インシアヌレート)を91
89加え、光遮断下でベンゾフェノン5.4g及び4.
4′−ビス(ジエチルアミノ)ベンゾフェノン0.6g
を加え攪拌混合後フィルターでろ過して感光性樹脂組成
物を得な。
この組成物を実施例1と同様にして塗布し、透明な50
μm厚の塗膜を得た。この塗膜に300mJ/an”の
照射を行ない実施例1と同様にして現像、リンスを行な
ったところ、鮮明な樹脂パターンを得た。
μm厚の塗膜を得た。この塗膜に300mJ/an”の
照射を行ない実施例1と同様にして現像、リンスを行な
ったところ、鮮明な樹脂パターンを得た。
この樹脂パターンの塗膜を実施例1記載の方法で熱重量
分析を行なったところ、10%重量減少温車上422℃
と良好な耐熱性を有するものであった。
分析を行なったところ、10%重量減少温車上422℃
と良好な耐熱性を有するものであった。
実施例4
実施例1と同様にフラスコに1.2.3.4−ブタンテ
トラカルボン酸二無水物39.63(0,2モル)及び
N、N−ジメチルアセトアミド250 mlを加え、実
施例1と同様にして4.4′−ジアミノジフェニルエー
テル40.059(0,2モル)を用いて粘稠なポリイ
ミド前駆体を得た。更に実施例3と同様にして室温でイ
ンシアネート化合物(If)15.5G添加し24時間
攪拌した。
トラカルボン酸二無水物39.63(0,2モル)及び
N、N−ジメチルアセトアミド250 mlを加え、実
施例1と同様にして4.4′−ジアミノジフェニルエー
テル40.059(0,2モル)を用いて粘稠なポリイ
ミド前駆体を得た。更に実施例3と同様にして室温でイ
ンシアネート化合物(If)15.5G添加し24時間
攪拌した。
この溶液にA−BPE−10(新中村化学社製ス2−ビ
ス(4−アクリロキンペンタエトキシフェニル)プロパ
ン)79.69を加え光遮断下でベンゾフェノン5.4
g及び44′−ビス(ジエチルアミノ)ベンゾフェノ7
0.6gを加え攪拌混合後。
ス(4−アクリロキンペンタエトキシフェニル)プロパ
ン)79.69を加え光遮断下でベンゾフェノン5.4
g及び44′−ビス(ジエチルアミノ)ベンゾフェノ7
0.6gを加え攪拌混合後。
フィルターでろ過して感光性樹脂組成物を得た。
この組成物を実施9’llと同様にして塗布し、透明な
50μm厚の塗膜を得意。この塗膜に300mJ/♂の
照射を行ない、実施例1と同様にして現像、リンスを行
なったところ、鮮明な樹脂パターンを得た。
50μm厚の塗膜を得意。この塗膜に300mJ/♂の
照射を行ない、実施例1と同様にして現像、リンスを行
なったところ、鮮明な樹脂パターンを得た。
この樹脂パターンの塗膜を実施例1記載の方法で熱重量
分析を行なったところ、10%重量減少温車上416℃
と良好な耐熱性を有するものであった。
分析を行なったところ、10%重量減少温車上416℃
と良好な耐熱性を有するものであった。
実施PU5
実施例1と同様にフラスコに5−(ZS−ジオキンテト
ラヒドロフリル)−3−メチル−3−シクロヘキセン−
1,2−ジカルボン111g水物5zs9(0,2モル
)及びN、N−ジメチルアセトアミド250 mlを加
え、乾燥窒素ガス流通下で室温で攪拌した。次に下記の
構造式を有するシリコーンジアミン(信越化学工業■製
LP−103)49.6g(o、zモル) CHs CHj 山 CHs を加え、この溶液を室温で8時間攪拌して、粘稠なポリ
イミド前駆体を得た。更に光遮断下の室温で、(1)で
得たインシアネート化合物29.0g(o、iモル)を
加え24時間攪拌し念。反応中は二酸化炭素が発生した
。この溶液にFA−731AC日立化成工業■製トリス
(2−7クリロイルエチル)イソシアヌレ−))79.
3gを加え、光遮断下でベンジルジメチルケタール(チ
バ・ガイギー社製)429を加えて攪拌混合後、フィル
ターでろ過して感光性樹脂組成物を得た。この組成物を
実施例1と同様にして塗工し、80℃で30分間加熱乾
燥し、透明な50μm厚の塗膜を得意。この塗膜面をパ
ターンマスクし300 mJ/am”の紫外線照射を行
ない、実施例1と同様にして現像、リンスを行なったと
ころ、鮮明な樹脂パターンを得た。
ラヒドロフリル)−3−メチル−3−シクロヘキセン−
1,2−ジカルボン111g水物5zs9(0,2モル
)及びN、N−ジメチルアセトアミド250 mlを加
え、乾燥窒素ガス流通下で室温で攪拌した。次に下記の
構造式を有するシリコーンジアミン(信越化学工業■製
LP−103)49.6g(o、zモル) CHs CHj 山 CHs を加え、この溶液を室温で8時間攪拌して、粘稠なポリ
イミド前駆体を得た。更に光遮断下の室温で、(1)で
得たインシアネート化合物29.0g(o、iモル)を
加え24時間攪拌し念。反応中は二酸化炭素が発生した
。この溶液にFA−731AC日立化成工業■製トリス
(2−7クリロイルエチル)イソシアヌレ−))79.
3gを加え、光遮断下でベンジルジメチルケタール(チ
バ・ガイギー社製)429を加えて攪拌混合後、フィル
ターでろ過して感光性樹脂組成物を得た。この組成物を
実施例1と同様にして塗工し、80℃で30分間加熱乾
燥し、透明な50μm厚の塗膜を得意。この塗膜面をパ
ターンマスクし300 mJ/am”の紫外線照射を行
ない、実施例1と同様にして現像、リンスを行なったと
ころ、鮮明な樹脂パターンを得た。
この樹脂パターンの塗膜を実施例1に記載の方法で熱重
量分析を行なったところ、10%重量減少温車上408
℃と良好な耐熱性を有するものであった。
量分析を行なったところ、10%重量減少温車上408
℃と良好な耐熱性を有するものであった。
実施例6〜14
実施Mlで得られた感光性樹脂組成物を鋼張シ積層板(
日立化成工業■製MCL−E−61)上にバーコータに
よって乾燥厚みが50μmとなるようVCI!!工し、
80℃で30分間乾燥し、ついで上記の塗膜面をパター
ンマスクL、 300 mJ/liの紫外線を照射後、
下記表IK示したアルカリ水溶液で現像し、水でリンス
を行なったところ、鮮明な樹脂パターンが得られた。
日立化成工業■製MCL−E−61)上にバーコータに
よって乾燥厚みが50μmとなるようVCI!!工し、
80℃で30分間乾燥し、ついで上記の塗膜面をパター
ンマスクL、 300 mJ/liの紫外線を照射後、
下記表IK示したアルカリ水溶液で現像し、水でリンス
を行なったところ、鮮明な樹脂パターンが得られた。
以下余白
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1、式(1) ▲数式、化学式、表等があります▼(1) (式中R_1は4価の脂肪族基または脂環式基であり、
R_2は2価の芳香族基、脂肪族基、脂環式基またはオ
ルガノシロキサン基である)で表わされる繰返し単位を
有するポリイミド前駆体と式(2)▲数式、化学式、表
等があります▼(2) (式中、R_3は4価の有機基であり、R_4は2価の
有機基であり、Y_1、Y_2およびY_3は水素原子
および不飽和二重結合を有する1価の有機基から選択さ
れた基であり、Y_1、Y_2およびY_3のうち少な
くとも1つは不飽和二重結合を有する1価の有機基であ
る)で表わされる分子内に少なくとも1つの不飽和二重
結合およびウレタン結合を有するイソシアネート化合物
との感光性付加物、光重合開始剤、有機溶媒及び場合に
より重合性不飽和化合物を含有してなる感光性樹脂組成
物。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP61-239499 | 1986-10-08 | ||
JP23949986 | 1986-10-08 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS63226640A true JPS63226640A (ja) | 1988-09-21 |
Family
ID=17045691
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP62015608A Pending JPS63226640A (ja) | 1986-10-08 | 1987-01-26 | 感光性樹脂組成物 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS63226640A (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2007241195A (ja) * | 2006-03-13 | 2007-09-20 | Asahi Kasei Electronics Co Ltd | 感光性樹脂組成物 |
CN108099340A (zh) * | 2016-08-31 | 2018-06-01 | 南通凯英薄膜技术有限公司 | 一种聚酰亚胺复合材料 |
-
1987
- 1987-01-26 JP JP62015608A patent/JPS63226640A/ja active Pending
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2007241195A (ja) * | 2006-03-13 | 2007-09-20 | Asahi Kasei Electronics Co Ltd | 感光性樹脂組成物 |
CN108099340A (zh) * | 2016-08-31 | 2018-06-01 | 南通凯英薄膜技术有限公司 | 一种聚酰亚胺复合材料 |
CN108099340B (zh) * | 2016-08-31 | 2019-09-24 | 苏州凯英工业材料有限公司 | 一种聚酰亚胺复合材料 |
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