JPH0519475A - 感光性樹脂組成物及びこれを用いた感光性エレメント - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【目的】 感光性ポリイミドの厚膜形成性を改善し、厚
膜として使用しても光感度に優れ、室温で長期間放置し
ても光感度が低下しない感光性樹脂組成物を提供するこ
と。 【構成】 共有結合又はイオン結合を解してビニル基を
導入した感光性ポリイミドに、光開始剤として３−ケト
クマリン化合物及びＮ−アリール−α−アミノ酸化合
物、橋架け剤として多官能性アクリレートを配合してな
る感光性樹脂組成物及びこれを用いた感光性エレメント
である。上記のアミノ混合物化合物のベンゼン環は、シ
アノ基、アセチル基等の電子吸引性基で置換されている
ので、組成物の光感度は長期間経過後でも低下しない。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、加熱処理により耐熱
性、接着性、可撓性、電気的及び機械的性質に優れたポ
リイミド樹脂とすることができ、厚膜形成が可能で、し
かも厚膜として利用する場合にも高い感度を有し、経日
後の像形成性にも優れる感光性樹脂組成物及びこれを用
いた感光性エレメントに関する。

【０００２】

【従来の技術】従来、ポリイミドに代表される耐熱性樹
脂は、耐熱性はもちろん、電気的及び機械的特性にも優
れているため、電気、自動車、宇宙航空機、原子力など
の分野で構造部材、プリント配線板材料、絶縁材料など
に広く用いられている。また、半導体分野の著しい進展
に伴い、半導体素子の表面保護膜、液晶表示素子の配向
膜などにも耐熱性樹脂の用途が拡がっている。

【０００３】ところで、こうした耐熱性樹脂をパターン
形成する際には、レジスト剤の造膜、所定箇所への露
光、エッチングによる不要箇所の除去、基材表面の清浄
など、煩雑な工程を必要とし、エッチング液として有害
な薬品を使用することなど、多くの問題点を抱えてい
る。

【０００４】そこで、露光、現像によってパターン形成
後も必要な部分を耐熱性樹脂としてそのまま残して用い
ることができる耐熱性感光性樹脂が望まれている。この
ような材料として、例えば、感光性ポリイミド、環化ポ
リブタジエンなどをベースポリマーとした耐熱性感光性
樹脂が提案されている。これらのうち感光性ポリイミド
は、その耐熱性が優れていることや不純物の排除が容易
であることなどの点から特に注目されている。このよう
な感光性ポリイミドとしては、例えば、特公昭５５−３
０２０７号公報によりポリイミド前駆体に感光基をエス
テル結合で導入した感光性ポリイミド前駆体が提案され
ているが、この材料は、光感度が低く、実用に供するに
は不充分である。また、特開昭６０−４２４２５号公報
には、ポリアミド酸にエチレン性不飽和基を有するアミ
ン及び芳香族モノアジドを配合してなる組成物が提案さ
れているが、膜厚を厚くするにしたがって光感度が低下
し、現像時に像が膨潤してしまうという問題がある。す
なわち、これらの従来技術においては、いわゆる感光性
ポリイミドの膜厚を厚くしていくと、光感度が極端に低
下し、光硬化に必要な露光時間が長くなるという欠点が
あった。

【０００５】さらに、特開昭５６−４６０４号公報に
は、光感度を向上させるために、エチレン性不飽和基を
有する化合物に３−ケトクマリン化合物と電子供与性置
換基又はハロゲン原子を有するＮ−アリール−α−アミ
ノ酸化合物を配合してなる組成物が提案されている。し
かし、この組成物は、経日により像形成性が低下すると
いう欠点を有している。

【０００６】

【発明が解決しようとする課題】本発明は、上記のよう
な従来技術の問題点を解消し、特に、厚膜として使用す
る場合にも高い光感度を有し、経日後の安定性及び耐熱
性に優れた感光性樹脂組成物及びこれを用いた感光性エ
レメントを提供するものである。

【０００７】

【課題を解決するための手段】本発明は、（Ａ）一般式
（Ｉ）又は（II）

【化４】 〔式中、Ｒ₁ 、Ｒ₂ 、Ｒ₃ 、Ｒ₄ 、Ｒ₅ 、Ｒ₆ 、Ｒ₇ 、
Ｒ₈ 、Ｒ₉、Ｒ₁₀、Ｒ₁₁、Ｒ₁₂、Ｒ₁₃、Ｒ₁₄及びＲ
₁₅は、それぞれ独立に水素原子、ヒドロキシ基、アルキ
ル基、アリール基、アルキルアミノ基、ジアルキルアミ
ノ基、アルコキシ基又はアシル基を表し、Ｒ₁₆はアルキ
ル基、アリール基、アルコキシ基又は複素環基を表し、
Ｒ₁ 〜Ｒ₁₆においてアルキル基、アリール基又は複素環
基が存在する場合、これらの基はヒドロキシ基、アルキ
ルアミノ基、ジアルキルアミノ基、アルコキシ基又はシ
アノ基で１個以上置換されていてもよい〕で示されるク
マリン化合物、（Ｂ）一般式（III)

【化５】 〔式中、Ｒ₁₇、Ｒ₁₈、Ｒ₁₉、Ｒ₂₀及びＲ₂₁は、それぞれ
独立に水素原子、シアノ基、ニトロ基又はアシル基を表
し、少なくとも１個は電子吸引性のシアノ基、ニトロ基
又はアシル基を表し、Ｒ₂₂は水素原子、アルキル基又は
アリール基を表し、Ｒ₂₃及びＲ₂₄は、それぞれ独立に水
素原子又はアルキル基を表し、Ｒ₂₂〜Ｒ₂₄においてアル
キル基又はアリール基が存在する場合、これらの基はヒ
ドロキシ基、アルキルアミノ基、ジアルキルアミノ基、
アルコキシ基又はシアノ基で１個以上置換されていても
よい〕で示されるＮ−アリール−α−アミノ酸化合物及
び（Ｃ）ポリアミド酸とエチレン性不飽和基を有するイ
ソシアナート化合物、エチレン性不飽和基を有するアミ
ン化合物若しくはエチレン性不飽和基を有するエポキシ
化合物との反応物又は一般式（IV）

【化６】 〔式中、Ｒ₂₅は４価の有機基を表し、Ｒ₂₆は２価の有機
基を表し、Ｙは１価のエチレン性不飽和基を有する有機
基を表し、ｎは０又は１、ｍは１又は２であり、かつｎ
＋ｍ＝２となるように選ばれる〕で表される繰り返し単
位を有する樹脂を含んでなる感光性樹脂組成物及び上記
感光性樹脂組成物を基体上に積層してなる感光性エレメ
ントに関する。

【０００８】本発明において（Ａ）一般式（Ｉ）で示さ
れるクマリン化合物としては、例えば、３，３’−カル
ボニルビスクマリン、３，３’−カルボニルビス（５，
７−ジエトキシクマリン）、３，３’−カルボニルビス
（５，７−ジ−ｎ−プロポキシクマリン）、３，３’−
カルボニルビス（５，７−ジ−イソプロポキシクマリ
ン）、３，３’−カルボニルビス（５，７−ジブトキシ
クマリン）、３，３’−カルボニルビス（５，７，７’
−トリメトキシクマリン）、３，３’−カルボニルビス
（５，７−ジメトキシクマリン）、３，３’−カルボニ
ルビス（７−メトキシクマリン）、３，３’−カルボニ
ルビス（６−メトキシクマリン）、３，３’−カルボニ
ルビス（７−ジエチルアミノクマリン）、３，３’−カ
ルボニルビス（７−ジメチルアミノクマリン）、３，
３’−カルボニルビス（７−アセトキシクマリン）など
が挙げられる。

【０００９】本発明において（Ａ）一般式（II）で示さ
れるクマリン化合物としては、例えば、３ベンゾイル−
７−メトキシクマリン、７−メトキシ−３−（４−ニト
ロベンゾイル）クマリン、３−（４−フルオロスルホニ
ルベンゾイル）−７−メトキシクマリン、５，７−ジエ
トキシ−３−（２−チエノイル）クマリン、３−ベンゾ
イル−５，７−ジ−ｎ−プロポキシクマリン、３−（２
−ベンゾフロイル）−５，７−ジエトキシクマリン、３
−（４−シアノベンゾイル）−５，７−ジ−ｎ−プロポ
キシクマリン、３−（４−メトキシベンゾイル）−５，
７−ジ−ｎ−プロポキシクマリン、３−（４−ニトロベ
ンゾイル）−５，７−ジ−ｎ−プロポキシクマリン、７
−メトキシ−３−（３−ピリジルカルボニル）クマリ
ン、３−（３−トリフルオロメチルベンゾイル）−５，
７−ジ−ｎ−プロポキシクマリン、３−ベンゾイル−
５，７−ジメトキシクマリン、３−ベンゾイル−７−ヒ
ドロキシクマリン、３−ベンゾイル−５，７−ジエトキ
シクマリン、３−（４−エトキシベンゾイル）−７−メ
トキシクマリン、３−ベンゾイル−６−メトキシクマリ
ン、７−アセトキシ−３−ベンゾイルクマリン、３−ベ
ンゾイル−８−エトキシクマリン、７−メトキシ−３−
（４−メトキシベンゾイル）−クマリン、３−（４−エ
トキシシンナモイル）−７−メトキシクマリン、３−ベ
ンゾイル−７−ジエチルアミノクマリン、７−ジエチル
アミノ−３−（４−ヨードベンゾイル）クマリン、７−
ジエチルアミノ−３−（４−ジメチルアミノベンゾイ
ル）クマリン、７−ジメチルアミノ−３−（２−チエノ
イル）クマリン、７−ジエチルアミノ−３−（２−フロ
イル）クマリン、３−（２−ベンゾフロイル）−７−ジ
エチルアミノクマリン、７−ジエチルアミノ−３−（２
−メトキシベンゾイル）クマリン、３−（２−ベンゾフ
ロイル）−７−（１−ピロリジニル）クマリン、３−シ
ンナモイル−７−ジエチルアミノクマリン、３−（４−
ジエチルアミノシンナモイル）−７−ジエチルアミノク
マリン、７−ジエチルアミノ−３−（４−モルホリノシ
ンナモイル）クマリン、７−ジエチルアミノ−３−（４
−ジメチルアミノシンナミリデンアセチル）クマリン、
９−（４−ジエチルアミノシンナモイル）−１，２，
４，５−テトラヒドロ−３Ｈ，６Ｈ，１０Ｈ〔１〕ベン
ゾピラノ〔６，７，８−ｉｊ〕キノリジン−１０−オ
ン、９−〔３−（９−ジュロリジイル）アクリロイル〕
−１，２，４，５−テトラヒドロ−３Ｈ，６Ｈ，１０Ｈ
〔１〕ベンゾピラノ〔６，７，８−ｉｊ〕キノリジン−
１０−オン、７−ジエチルアミノ−３−（３−フルオロ
スルホニルベンゾイル）クマリン、９−（７−ｎ−プロ
ピルアミノ−３−クマリノイル）−１，２，４，５−テ
トラヒドロ−３Ｈ，６Ｈ，１０Ｈ〔１〕ベンゾピラノ
〔６，７，８−ｉｊ〕キノリジン−１０−オン、３−
（２−ベンゾフリル）アクリロイル−７−ジエチルアミ
ノクマリン、７−ジエチルアミノ−３−〔３−（２−チ
エニル）アクリロイル〕クマリン、９−（７−ジエチル
アミノ−３−クマリノイル）−１，２，４，５−テトラ
ヒドロ−３Ｈ，６Ｈ，１０Ｈ〔１〕ベンゾピラノ〔６，
７，８−ｉｊ〕キノリジン−１０−オン、７−ジメチル
アミノ−３−〔３−（２−チエニル）アクリロイル〕ク
マリン、９−〔３−（２−チエニル）アクリロイル〕−
１，２，４，５−テトラヒドロ−３Ｈ，６Ｈ，１０Ｈ
〔１〕ベンゾピラノ〔６，７，８−ｉｊ〕キノリジン−
１０−オン、７−ジエチルアミノ−３−（４−エトキシ
シンナモイル）クマリン、３−（４−ブロモシンナモイ
ル）−７−ジエチルアミノクマリン、７−ジエチルアミ
ノ−３−〔３−（４−メトキシ−１−ナフチル）−アク
リロイル〕クマリン、７−ジエチルアミノ−３−シンナ
ミリデンアセチルクマリン、３−（４−シアノベンゾイ
ル）−７−ジエチルアミノクマリン、３−ベンゾイル−
７−ジメチルアミノクマリン、３−ベンゾイル−７−ピ
ロリジニルクマリン、７−ジメチルアミノ−３−（４−
ヨードベンゾイル）クマリン、７−ジエチルアミノ−３
−（４−ニトロベンゾイル）クマリン、７−ジエチルア
ミノ−３−（２−チエノイル）クマリン、７−ピロリジ
ニル−３−（２−チエノイル）クマリン、

【化７】

【化８】

【化９】

【化１０】

【化１１】 等が挙げられる。

【００１０】本発明における（Ｂ）一般式（ＩＩＩ）で
示されるＮ−アリール−α−アミノ酸化合物としては、
例えば、Ｎ−（４−ニトロフェニル）グリシン、Ｎ−
（４−シアノフェニル）グリシン、Ｎ−（４−アセチル
フェニル）グリシン、Ｎ−メチル−Ｎ−（４−ニトロフ
ェニル）グリシン、Ｎ−エチル−Ｎ−（４−ニトロフェ
ニル）グリシン、Ｎ−メチル−Ｎ−（４−シアノフェニ
ル）グリシン、Ｎ−エチル−Ｎ−（４−シアノフェニ
ル）グリシン、Ｎ−メチル−Ｎ−（４−アセチルフェニ
ル）グリシン、Ｎ−エチル−Ｎ−（４−アセチルフェニ
ル）グリシン、Ｎ−（３−ニトロフェニル）グリシン、
Ｎ−（３−シアノフェニル）グリシン、Ｎ−（３−アセ
チルフェニル）グリシン等が挙げられる。

【００１１】本発明における感光性樹脂組成物は、
（Ｃ）ポリアミド酸とエチレン性不飽和基を有するイソ
シアナート化合物、エチレン性不飽和基を有するアミン
化合物若しくはエチレン性不飽和基を有するエポキシ化
合物との反応物又は一般式（IV)で示される繰り返し単
位を有する樹脂を含有する。

【００１２】本発明に用いる前記のポリアミド酸は、例
えば、四塩基酸二無水物とアミン化合物を出発原料とし
て公知の方法で反応させて得られるものである。四塩基
酸二無水物とアミン化合物との反応は、通常、不活性な
有機溶媒中で０〜１００℃、好ましくは５〜６０℃の温
度で行われ、ポリアミド酸の有機溶媒溶液として得るこ
とができる。

【００１３】四塩基酸二無水物とアミン化合物は、前者
／後者が０.８／１〜１.２／２（モル比）の割合で使用
するのが好ましく、等モルで使用することがより好まし
い。

【００１４】また、上記の反応に用いる有機溶媒として
は、生成するポリアミド酸を完全に溶解する極性溶媒が
一般に好ましく、例えば、Ｎ−メチル−２−ピロリド
ン、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチル
ホルムアミド、ジメチルスルホキシド、テトラメチル尿
素、ヘキサメチルリン酸トリアミド、γ−ブチロラクト
ン、Ｎ，Ｎ−ジメチルプロピレンウレア、Ｎ，Ｎ−ジメ
チルエチレンウレア等が挙げられる。その他、必要に応
じて上記の極性溶媒に、一般的有機溶媒であるケトン
類、エステル類、エーテル類、ハロゲン化炭化水素類、
炭化水素類、例えばアセトン、メチルエチルケトン、メ
チルイソブチルケトン、シクロヘキサノン、酢酸メチ
ル、酢酸エチル、ジエチルエーテル、エチレングリコー
ルジメチルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエ
ーテル、テトラヒドロフラン、ジクロロメタン、１，２
−ジクロルエタン、１，４−ジクロルブタン、トリクロ
ルエタン、クロルベンゼン、ｏ−ジクロルベンゼン、ヘ
キサン、ヘプタン、オクタン、ベンゼン、トルエン、キ
シレン等も使用することができる。

【００１５】ポリアミド酸を完全に溶解させるために
は、これらの一般的有機溶媒を前記極性溶媒と混合して
用いることが望ましい。本発明の感光性樹脂組成物に
は、上記のような有機溶媒を含有させることができる。
このような場合、有機溶媒の使用量は、感光性樹脂組成
物の１０〜９５重量％とすることが好ましく、３０〜８
０重量％とすることがより好ましい。

【００１６】本発明においては、ポリアミド酸にエチレ
ン性不飽和基を有するイソシアナート化合物、エチレン
性不飽和基を有するアミン化合物又はエチレン性不飽和
基を有するエポキシ化合物を反応させることによりエチ
レン性不飽和基を有する反応物（樹脂）を得ることがで
きる。

【００１７】本発明におけるポリアミド酸とエチレン性
不飽和基を有するイソシアナート化合物、エチレン性不
飽和基を有するアミン化合物又はエチレン性不飽和基を
有するエポキシ化合物との反応は、ポリアミド酸の合成
後、引き続いて同一の有機溶媒中で０〜１００℃の温度
で行われるのが好ましく、２０〜７０℃の温度で行われ
るのがより好ましい。

【００１８】これらのエチレン性不飽和基を有するイソ
シアナート化合物、エチレン性不飽和基を有するアミン
化合物又はエチレン性不飽和基を有するエポキシ化合物
のポリアミド酸に対する割合は、組成物の感度及び塗膜
の耐熱性の点から、ポリアミド酸中のカルボキシル基１
当量に対して通常０．０５〜１．０当量が好ましく、
０．０８〜０．８当量がより好ましい。

【００１９】本発明におけるエチレン性不飽和基を有す
るイソシアナート化合物は、特に制限はないが、一般式
（Ｖ）又は（VI)

【化１２】 〔式中、Ｒ₂₇、Ｒ₂₈、Ｒ₂₉、Ｒ₃₁、Ｒ₃₂及びＲ₃₃は、そ
れぞれ独立に水素原子又はメチル基を表し、Ｒ₃₀、Ｒ₃₄
及びＲ₃₅は、それぞれ独立に２価の有機基を表す〕で示
される化合物であることが好ましい。

【００２０】一般式（Ｖ）で示される化合物としては、
例えば、イソシアナートエチルアクリレート、イソシア
ナートプロピルアクリレート、イソシアナートブチルア
クリレート、イソシアナートペンチルアクリレート、イ
ソシアナートヘキシルアクリレート、イソシアナートオ
クチルアクリレート、イソシアナートデシルアクリレー
ト、イソシアナートオクタデシルアクリレート、イソシ
アナートエチルメタクリレート、イソシアナートプロピ
ルメタクリレート、イソシアナートブチルメタクリレー
ト、イソシアナートペンチルメタクリレート、イソシア
ナートヘキシルメタクリレート、イソシアナートオクチ
ルメタクリレート、イソシアナートデシルメタクリレー
ト、イソシアナートオクタデシルメタクリレート、イソ
シアナートエチルクロトネート、イソシアナートプロピ
ルクロトネート、イソシアナートヘキシルクロトネート
等が挙げられる。

【００２１】また、一般式（VI)で示される化合物とし
ては、例えば、次式で示される化合物が挙げられる：

【化１３】

【化１４】

【００２２】エチレン性不飽和基を有するアミン化合物
としては、１分子中にエチレン性不飽和基とアミノ基を
持つ化合物であれば、特に制限はなく、例えば、２−
（Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ）エチルアクリレート、２−
（Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ）エチルメタクリレート、３
−（Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ）プロピルアクリレート、
３−（Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ）プロピルメタクリレー
ト、４−（Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ）ブチルアクリレー
ト、４−（Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ）ブチルメタクリレ
ート、５−（Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ）ペンチルアクリ
レート、５−（Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ）ペンチルメタ
クリレート、６−（Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ）ヘキシル
アクリレート、６−（Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ）ヘキシ
ルメタクリレート、２−（Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ）エ
チルシンナメート、３−（Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ）プ
ロピルシンナメート、次式に示すアジリジン化合物等が
挙げられる。

【化１５】

【化１６】

【００２３】エチレン性不飽和基を有するエポキシ化合
物としては、例えば、グリシジルメタクリレート、グリ
シジルアクリレート、アリルグリシジルエーテル、

【化１７】 等が挙げられる。

【００２４】上記のようなエチレン性不飽和基を有する
イソシアナート化合物、アミン化合物又はエポキシ化合
物は、単独でも、２種類以上組合せても使用することが
できる。

【００２５】さらに、本発明に用いられる一般式（IV）
で示される繰り返し単位を有する樹脂は、例えば、一般
式（VII)又は（ＶＩＩＩ）

【化１８】 〔式中、Ｒ_３６及びＲ₃₇は４価の有機基を表し、Ｘはハ
ロゲン原子又はヒドロキシ基を表し、Ｙは１価のエチレ
ン性不飽和基を有する有機基を表す〕で示される化合物
とアミン化合物とを重縮合することによって得られる。

【００２６】一般式（VII)又は（VIII)で示される化合
物とアミン化合物との反応は、不活性な有機溶媒中で０
〜１００℃の温度で行われることが好ましく、５〜６０
℃の温度で行われることがより好ましい。

【００２７】一般式（VII)又は（VIII)で示される化合
物とアミン化合物との反応には、一般式（VII)又は（VI
II)で示される化合物／アミン化合物を０．８／１〜
１．２／２（モル比）の割合で使用するのが好ましく、
ほぼ等モルで使用するのがより好ましい。

【００２８】また、一般式（VII)又は（VIII)で示され
る化合物とアミン化合物との反応は、カルボジイミド型
脱水縮合剤、例えば、ジシクロヘキシルカルボジイミド
等、脱ハロゲン化剤、例えば、ピリジン、トリエチルア
ミン等のアミン類などを用いることにより促進される。

【００２９】上記反応に用いられる有機溶媒としては、
生成する一般式（Ｉ）で表される繰り返し単位を有する
重合体を完全に溶解する極性溶媒が一般に好ましく、上
記の四塩基酸二無水物とアミン化合物との反応に用いた
有機溶媒が挙げられる。

【００３０】また、場合により上記の反応混合物から重
合体を単離するには、アルコール類又は水に反応混合物
を少量ずつ加える方法が好ましい。このようにして得ら
れた固体を、再度反応に用いた有機溶媒に溶解し、アル
コール類又は水に加えて再沈殿させることを繰り返すこ
とにより精製することができる。

【００３１】一般式（VII)又は（VIII) で示される化合
物は、例えば、四塩基酸二無水物を、エチレン性不飽和
基を有するヒドロキシ化合物で全て又は部分的に開環さ
せて半エステル化することにより、あるいはさらに、前
記半エステル化物を塩化チオニルや五塩化リン等で酸ハ
ロゲン化することにより得ることができる。芳香族テト
ラカルボン酸二無水物とエチレン性不飽和基を有するヒ
ドロキシ化合物との反応は、例えば、ピリジン、ジメチ
ルアミノピリジン等を添加することにより促進できる。

【００３２】一般式（VII)又は（VIII)で示される化合
物を得るのに用いられるエチレン性不飽和基を有するヒ
ドロキシ化合物としては、例えば、トリメチロールプロ
パンジアクリレート、トリメチロールプロパンジメタク
リレート、トリメチロールエタンジアクリレート、トリ
メチロールエタンジメタクリレート、ペンタエリスリト
ールトリアクリレート、ペンタエリスリトールトリメタ
クリレート、２−ヒドロキシエチルアクリレート、２−
ヒドロキシエチルメタクリレート、２−ヒドロキシプロ
ピルアクリレート、２−ヒドロキシプロピルメタアクリ
レート、２−ヒドロキシ−３−フェノキシプロピルアク
リレート、２−ヒドロキシ−３−フェノキシプロピルメ
タアクリレート、アリルアルコール、グリセロールジア
リルエーテル、トリメチロールプロパンジアリルエーテ
ル、トリメチロールエタンジアリルエーテル、ペンタエ
リスリトールトリアリルエーテル、エチレングリコール
モノアリルエーテル、ジエチレングリコールモノアリル
エーテル、ジグリセロールトリアリルエーテル、クロト
ニルアルコール、アルキルフェノール、ｏ−シンナミル
フェノール

【化１９】 等が挙げられる。

【００３３】本発明に用いられる四塩基酸二無水物とし
ては、例えば、ピリメリット酸二無水物、３，３’，
４，４’−ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物、
３，３’，４，４’−ビフェニルテトラカルボン酸二無
水物、メタ−ターフェニル−３，３”，４，４”−テト
ラカルボン酸二無水物、パラ−ターフェニル−３，
３”，４，４”−テトラカルボン酸二無水物、１，２，
５，６−ナフタレンテトラカルボン酸二無水物、２，
３，６，７−ナフタレンテトラカルボン酸二無水物、
２，３，５，６−ピリジンテトラカルボン酸二無水物、
１，４，５，８−ナフタレンテトラカルボン酸二無水
物、３，４，９，１０−ペリレンテトラカルボン酸二無
水物、４，４’−スルホニルジフタル酸二無水物、ビス
（３，４−ジカルボキシフェニル）エーテル二無水物、
２，２−ビス（３，４−ジカルボキシフェニル）プロパ
ン二無水物、２，２−ビス（３，４−ジカルボキシフェ
ニル）ヘキサフルオロプロパン二無水物、２，２−ビス
〔４−（３，４−ジカルボキシフェノキシ）フェニル〕
ヘキサフルオロプロパン二無水物、２，２−ビス〔４−
（２，３−ジカルボキシフェノキシ）フェニル〕ヘキサ
フルオロプロパン二無水物、（トリフルオロメチル）ピ
ロメリット酸二無水物、ビス（トリフルオロメチル）ピ
ロメリット酸二無水物、３，３’−ビス（トリフルオロ
メチル）−４，４’，５，５’−テトラカルボキシビフ
ェニル二無水物、２，２’，５，５’−テトラキス（ト
リフルオロメチル）−３，３’，４，４’−テトラカル
ボキシビフェニル二無水物、３，３’−ビス（トリフル
オロメチル）−４，４’，５，５’−テトラカルボキシ
ビフェニルエーテル二無水物、２，２’−ビス（トリフ
ルオロメチル）−４，４’，５，５’−テトラカルボキ
シビフェニルエーテル二無水物、３，３’−ビス（トリ
フルオロメチル）−４，４’，５，５’−テトラカルボ
キシベンゾフェノン二無水物、２，２’−ビス（トリフ
ルオロメチル）−４，４’，５，５’−テトラカルボキ
シベンゾフェノン二無水物、１，４−ビス〔３−（トリ
フルオロメチル）−４，５−ジカルボキシフェノキシ〕
ベンゼン二無水物、１，４−ビス〔２−（トリフルオロ
メチル）−４，５−ジカルボキシフェノキシ〕ベンゼン
二無水物、４，４’−ビス〔３−（トリフルオロメチ
ル）−４，５−ジカルボキシフェノキシ〕ビフェニル二
無水物、１−トリフルオロメチル−２，５−ビス〔３−
（トリフルオロメチル）−４，５−ジカルボキシフェノ
キシ〕ベンゼン二無水物、１，１’−ビス（トリフルオ
ロメチル）−３，３’−ビス〔３−（トリフルオロメチ
ル）−４，５−ジカルボキシフェノキシ〕ビフェニル二
無水物、４，４’−ビス〔３−（トリフルオロメチル）
−４，５−ジカルボキシフェノキシ〕ビフェニルエーテ
ル二無水物、１−トリフルオロメチル−３，５−ビス
（３，４−ジカルボキシフェニル）ベンゼン二無水物、
１，４−ビス（トリフルオロメチル）−３，５−ビス
（３，４−ジカルボキシフェニル）ベンゼン二無水物、
１，２，４，６−テトラキス（トリフルオロメチル）−
３，５−ビス（３，４−ジカルボキシフェニル）ベンゼ
ン二無水物、１，１’−ビス（トリフルオロメチル）−
３，３’−（３，４−ジカルボキシフェノキシ）ビフェ
ニル二無水物、１，１’，４，４’−テトラキス（トリ
フルオロメチル）−３，３’−（３，４−ジカルボキシ
フェノキシ）ビフェニル二無水物、２，２−ビス〔４−
（２，３−ジカルボキシベンゾイルオキシ）フェニル〕
ヘキサフルオロプロパン二無水物、２，２−ビス〔３−
メチル−４−（２，３−ジカルボキシベンゾイルオキ
シ）フェニル〕ヘキサフルオロプロパン二無水物、２，
２−ビス〔４−（２−トリフルオロメチル−３，４−ジ
カルボキシベンゾイルオキシ）フェニル〕ヘキサフルオ
ロプロパン二無水物、１，５−ビス〔４−（３，４−ジ
カルボキシベンゾイルオキシ）フェニル〕デカフルオロ
ペンタン二無水物、１，３−ビス〔４−（３，４−ジカ
ルボキシベンゾイルオキシ）フェニル〕ヘキサフルオロ
プロパン二無水物、１，６−ビス〔４−（３，４−ジカ
ルボキシベンゾイルオキシ）フェニル〕ドデカフルオロ
ヘキサン二無水物、２，２−ビス〔３，５−ジメチル−
４−（３，４−ジカルボキシフェノキシ）フェニル〕ヘ
キサフルオロプロパン二無水物、２，２−ビス〔４−
（３，４−ジカルボキシフェノキシ）フェニル〕オクタ
フルオロブタン二無水物、２，２−ビス〔４−（２−ト
リフルオロメチル−３，４−ジカルボキシ）フェニル〕
ヘキサフルオロプロパン二無水物、１，３−ビス〔４−
（３，４−ジカルボキシフェノキシ）フェニル〕ヘキサ
フルオロプロパン二無水物、１，５−ビス〔４−（３，
４−ジカルボキシフェノキシ）フェニル〕デカフルオロ
ペンタン二無水物、１，６−ビス〔４−（３，４−ジカ
ルボキシフェノキシ）フェニル〕ドデカフルオロプロパ
ン二無水物、１，３−ビス（３，４−ジカルボキシフェ
ニル）−１，１，３，３−テトラメチルジシロキサン二
無水物、１，３−ビス（３，４−ジカルボキシフェニ
ル）−１，１，３，３−テトラエチルジシロキサン二無
水物、１，３−ビス（３，４−ジカルボキシフェニル）
−１，１，３，３−テトラフェニルジシロキサン二無水
物、１，３−ビス（３，４−ジカルボキシフェニル）−
１，３−ジメチル−１，３−ジフェニルジシロキサン二
無水物等が挙げられる。

【００３４】また、これらの四塩基酸二無水物の他に、
耐熱性及び機械特性を低下させない程度に脂肪族又は脂
環式四塩基酸二無水物を用いてもよい。

【００３５】本発明に用いられるアミン化合物として
は、例えば、４，４’−ジアミノジフェニルエーテル、
４，４’−ジアミノジフェニルメタン、４，４’−ジア
ミノジフェニルスルホン、４，４’−ジアミノジフェニ
ルスルフィド、ベンジジン、メタ−フェニレンジアミ
ン、パラ−フェニレンジアミン、１，５−ナフタレンジ
アミン、２，６−ナフタレンジアミン、２，２−ビス
（４−アミノフェノキシフェニル）プロパン、ビス（４
−アミノフェノキシフェニル）スルホン、２，２−ビス
（３−アミノ−４−ヒドロキシフェニル）ヘキサフルオ
ロプロパン、２，２−ビス（４−アミノフェニル）ヘキ
サフルオロプロパン、２，２−ビス（３−アミノ−４−
メチルフェニル）ヘキサフルオロプロパン、２，２−ビ
ス（３−メチル−４−アミノフェニル）ヘキサフルオロ
プロパン、２，２−ビス（３，５−ジメチル−４−アミ
ノフェニル）ヘキサフルオロプロパン、２，２−ビス
〔４−（４−アミノフェノキシ）フェニル〕ヘキサフル
オロプロパン、２，２−ビス〔４−（３−アミノフェノ
キシ）フェニル〕ヘキサフルオロプロパン、２，２−ビ
ス〔４−（２−アミノフェノキシ）フェニル〕ヘキサフ
ルオロプロパン、２，２−ビス〔３，５−ジメチル−４
−（４−アミノフェノキシ）フェニル〕ヘキサフルオロ
プロパン、１，４−ビス〔２−（トリフルオロメチル）
−４−アミノフェノキシ〕ベンゼン、４，４’−ビス
〔２−（トリフルオロメチル）−４−アミノフェノキ
シ〕ビフェニル、４，４’−ビス〔２−（トリフルオロ
メチル）−４−アミノフェノキシ〕ビフェニルスルホ
ン、４，４’−ビス〔４−（４−アミノフェニルチオ）
−フェニル〕ビフェニル、２，２’−ビス〔４−（４−
アミノフェニルチオ）−フェニル〕ヘキサフルオロプロ
パン、２，２’−ビス〔４−（２−トリフルオロメチル
−４−アミノフェノキシ）フェニル〕ヘキサフルオロプ
ロパン、１，３−ビス（４−アミノフェニル）−１，
１，３，３−テトラメチルジシロキサン、１，３−ビス
（４−アミノフェニル）−１，３−ジメチル−１，３−
ジフェニルジシロキサン、１，３−ビス（３−アミノフ
ェニル）−１，１，３，３−テトラメチルジシロキサ
ン、１，３−ビス（３−アミノフェニル）−１，１，
３，３−テトラフェニルジシロキサン、４，４’−ジア
ミノジフェニルエーテル−３−スルホンアミド、３，
４’−ジアミノジフェニルエーテル−４−スルホンアミ
ド、３，４’−ジアミノジフェニルエーテル−３’−ス
ルホンアミド、３，３’−ジアミノジフェニルエーテル
−４−スルホンアミド、４，４’−ジアミノジフェニル
メタン−３−スルホンアミド、３，４’−ジアミノジフ
ェニルメタン−４−スルホンアミド、３，４’−ジアミ
ノジフェニルメタン−３’−スルホンアミド、３，３’
−ジアミノジフェニルメタン−４−スルホンアミド、
４，４’−ジアミノジフェニルスルホン−３−スルホン
アミド、３，４’−ジアミノジフェニルスルホン−４−
スルホンアミド、３，４’−ジアミノジフェニルスルホ
ン−３’−スルホンアミド、３，３’−ジアミノジフェ
ニルスルホン−４−スルホンアミド、４，４’−ジアミ
ノジフェニルサルファイド−３−スルホンアミド、３，
４’−ジアミノジフェニルサルファイド−４−スルホン
アミド、３，３’−ジアミノジフェニルサルファイド−
４−スルホンアミド、３，４’−ジアミノジフェニルサ
ルファイド−３’−スルホンアミド、１，４−ジアミノ
ベンゼン−２−スルホンアミド、４，４’−ジアミノジ
フェニルエーテル−３−カルボンアミド、３，４’−ジ
アミノジフェニルエーテル−４−カルボンアミド、３，
４’−ジアミノジフェニルエーテル−３’−カルボンア
ミド、３，３’−ジアミノジフェニルエーテル−４−カ
ルボンアミド、４，４’−ジアミノジフェニルメタン−
３−カルボンアミド、３，４’−ジアミノジフェニルメ
タン−４−カルボンアミド、３，４’−ジアミノジフェ
ニルメタン−３’−カルボンアミド、３，３’−ジアミ
ノジフェニルメタン−４−カルボンアミド、４，４’−
ジアミノジフェニルスルホン−３−カルボンアミド、
３，４’−ジアミノジフェニルスルホン−４−カルボン
アミド、３，４’−ジアミノジフェニルスルホン−３’
−カルボンアミド、３，３’−ジアミノジフェニルスル
ホン−４−カルボンアミド、４，４’−ジアミノジフェ
ニルサルファイド−３−カルボンアミド、３，４’−ジ
アミノジフェニルサルファイド−４−カルボンアミド、
３，３’−ジアミノジフェニルサルファイド−４−カル
ボンアミド、３，４’−ジアミノジフェニルサルファイ
ド−３’−カルボンアミド、１，４−ジアミノベンゼン
−２−カルボンアミド等が挙げられる。これらのアミン
化合物は、単独でも２種類以上を組み合わせても使用す
ることができる。

【００３６】（Ｃ）成分の反応物又は樹脂は、数平均分
子量が５０００〜５００００であることが好ましく、１
００００〜２００００であることがより好ましい。重量
平均分子量が１００００〜１０００００であることがよ
り好ましく、２００００〜４００００であることがより
好ましい。分子量が低すぎると、膜強度が劣る傾向があ
り、分子量が高すぎると、作業性、現像性が劣る傾向が
ある。

【００３７】また、本発明の感光性樹脂組成物の熱安定
性を向上させるために、公知の熱重合禁止剤を共存させ
ることができる。熱重合禁止剤としては、例えば、ｐ−
メトキシフェノール、ヒドロキノン、ｔ−ブチルカテコ
ール、ピロガロール、フェノチアジン、クロラニール、
ナフチルアミン、β−ナフトール、２，６−ジ−ｔ−ブ
チル−ｐ−クレゾール、ピリジン、ニトロベンゼン、ｐ
−トルイジン、メチレンブルー、２，２’−メチレンビ
ス（４−メチル−６−ｔ−ブチルフェノール）、２，
２’−メチレンビス（４−エチル−６−ｔ−ブチルフェ
ノール）等が挙げられ、その使用量は、エチレン性不飽
和基を有する樹脂１００重量部又はエチレン性不飽和基
を有する樹脂と必要に応じて用いれる橋架け剤との合計
１００重量部に対して、通常０．００１〜１０重量部と
するのが好ましい。

【００３８】本発明においては、必要に応じて（Ｄ）橋
架け剤を用いることができる。この（Ｄ）橋架け剤とし
ては、例えば、アクリル酸、メチルアクリレート、エチ
ルアクリレート、ｎ−プロピルアクリレート、イソプロ
ピルアクリレート、ｎ−ブチルアクリレート、イソブチ
ルアクリレート、シクロヘキシルアクリレート、ベンジ
ルアクリレート、カルビトールアクリレート、メトキシ
エチルアクリレート、エトキシエチルアクリレート、ジ
プロピレングリコールアクリレート、２，２−ビス−
（４−アクリロキシジエトキシフェニル）プロパン、
２，２−ビス−（４−アクリロキシプロピルオキシフェ
ニル）プロパン、トリメチロールプロパンジアクリレー
ト、ペンタエリスリトールジアクリレート、トリメチロ
ールプロパントリアクリレート、ペンタエリスリトール
トリアクリレート、トリアクリルホルマール、テトラメ
チロールメタンテトラアクリレート、トリス（２−ヒド
ロキシエチル）イソシアヌル酸、１，４−ブタンジオー
ルジアクリレート、１，６−ヘキサンジオールジアクリ
レート、

【化２０】

【化２１】

【化２２】 等のアクリル酸エステルを挙げることができる。

【００３９】また、メタクリル酸エステルとしては、例
えば、メタクリル酸、メチルメタクリレート、エチルメ
タクリレート、プロピルメタクリレート、２，２−ビス
−（４−メタクリロキシジエトキシフェニル）プロパ
ン、トリメチロールプロパンジメタクリレート、ペンタ
エリスリトールジメタクリレート、トリメチロールプロ
パントリアクリレート、ペンタエリスリトールトリメタ
クリレート、テトラメチロールメタンテトラメタクリレ
ート、トリス（２−ヒドロキシエチル）イソシアヌル酸
のメタクリル酸エステル、１，４−ブタンジオールジメ
タクリレート、１，６−ヘキサンジオールジメタクリレ
ート、

【化２３】

【化２４】

【化２５】 等が挙げられる。

【００４０】また、アジド化合物としては、例えば、

【化２６】

【化２７】

【化２８】 等を挙げることができる。これらの（Ｄ）橋架け剤は、
単独でも２種類以上組合せても使用することができる。

【００４１】（Ａ）〜（Ｄ）の各成分の使用割合は、光
感度、光感度安定性、耐熱性等の点から（Ｃ）１００重
量部に対して、（Ａ）0.15〜4.5重量部、好ましくは
０．７〜１重量部、（Ｂ）２．８〜１４重量部、好まし
くは５〜１０重量部、（Ｄ）０〜６０重量部、好ましく
は２０〜６０重量部とすることが望ましい。

【００４２】本発明になる感光性樹脂組成物は、有機溶
媒を含んでいてもよく、この有機溶媒は上記の反応に用
いた有機溶媒であってもよく、また、反応に用いた有機
溶媒を上記の他の有機溶媒に変えてもよい。

【００４３】また、有機溶媒を使用する場合、その使用
量は感光性樹脂組成物の１０〜９５重量％とすることが
好ましく、３０〜８０重量％の範囲とすることがより好
ましい。

【００４４】本発明になる感光性樹脂組成物は、上記の
成分を含むが、これらの混合順序、混合方法等には特に
制限はなく、浸漬法、スプレー法、スクリーン印刷法、
スピンナー塗布法などによって銅張り積層板、シリコン
ウェハー等の基材に塗布され、乾燥できる。

【００４５】また、感光性樹脂組成物を可撓性の基体フ
ィルム、例えば、ポリエステルフィルム上に塗布・乾燥
して積層し、この上に必要に応じてポリエチレン等のカ
バーシートを設けてサンドイッチ構造の感光性エレメン
トを予め作製し、この感光性エレメントのカバーシート
を剥がして被覆すべき基体上に塗膜を形成することも可
能である。

【００４６】この塗膜上に、所望のパターンを描いたマ
スク上から活性光線を照射することにより、照射部にお
いて重合が起こり、この照射部は非照射部に対して溶解
性が大きく低下する。

【００４７】上記活性光線としては、通常紫外光が用い
られるが、ｉ線、ｇ線などの単色光や電子線、放射線の
ような電離性放射線を照射することによっても塗膜に対
して同様の効果を与えることができる。

【００４８】かくして上記のように処理された塗膜を、
適当な現像液で処理すれば、高い溶解性を保持している
非照射部は現像除去されるとともに、活性光線の照射に
より溶解性が低下せしめられた照射部は残り、所望の樹
脂パターンを得ることができる。

【００４９】現像液としては、非照射部を適当な時間内
に完全に溶解除去しうるものが好ましく、有機溶媒及び
／又はアルカリ液を用いることができる。有機溶媒とし
ては、例えば、Ｎ−メチルピロリドン、Ｎ−アセチル−
２−ピロリドン、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ，
Ｎ−ジメチルアセトアミド、ジメチルスルホキシド、ヘ
キサメチレンホスホリックトリアミド、γ−ブチロラク
トン等の極性溶媒を単独で用いてもよい。あるいは、こ
れらにメタノール、エタノール、イソプロパノール等の
アルコール類、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素
化合物、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブ
チルケトン等のケトン類、酢酸エチル、プロピオン酸メ
チル等のエステル類、テトラヒドロフラン、ジオキサン
等のエーテルなどの一般的有機溶媒を混合して用いても
よい。

【００５０】また、このような有機溶媒で現像残りを生
じる場合には、極性溶媒や一般的有機溶媒に塩基性物
質、アルカリ液を添加して用いることができる。

【００５１】塩基性物質としては、例えば、水酸化リチ
ウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化アン
モニウム、トリメチルベンジルアンモニウムヒドロキシ
ド、テトラメチルアンモニウムヒドロキシド、炭酸ナト
リウム、炭酸カリウム、炭酸水素ナトリウム、珪酸ナト
リウム、リン酸ナトリウム、ピロリン酸ナトリウム、酢
酸ナトリウム、モノエタノールアミン、ジエタノールア
ミン、トリエタノールアミン、コリン等が挙げられる。

【００５２】アルカリ液は、通常、水１００重量部に対
して塩基性物質０．５〜１００重量部、好ましくは５〜
７０重量部を溶解し調整できる。

【００５３】得られた厚膜の樹脂パターンは、その後８
０〜４５０℃の焼き付け、すなわちポストキュアにより
イミド化され、必要に応じてさらに活性光線の露光によ
り優れた耐熱性を有する半導体、プリント配線板等の表
面保護膜、層間絶縁膜などに変換しうるもので、本発明
の感光性樹脂組成物は、主として前述のような微細加工
の分野においても非常に有用である。

【００５４】

【実施例】次に、本発明を参考例、実施例及び比較例に
よって具体的に説明するが、本発明はこれらによって制
限されるものではない。

【００５５】エチレン性不飽和基を有する樹脂の合成例 合成例１ 温度計、窒素ガス導入口及び攪拌装置を装着した５００
mlの四つ口フラスコに４，４−ジアミノジフェニルエー
テル４０.０５ｇ(０．２モル）及びＮ−メチル−２−ピ
ロリドン２５７ｇを加え、窒素ガス流通下の室温で攪拌
した。この溶液に３，３’，４，４’−ベンゾフェノン
テトラカルボン酸二無水物４８．３３ｇ(０．１５モ
ル）及び１，３−ビス（３，４−ジカルボキシフェニ
ル）−１，１，３，３−テトラメチルジシロキサン二無
水物２１.３３ｇ(０．０５モル）を加え、室温で４時間
攪拌して粘稠な樹脂溶液を得た。

【００５６】さらに、この樹脂溶液に光遮断下の室温で
イソシアナートエチルメタクリレート１５．５ｇ(０．
１モル）を加え、６時間攪拌した。得られたエチレン性
不飽和基を含む樹脂溶液を“ＰＩ−１”と命名する。

【００５７】合成例２ 温度計、窒素ガス導入口及び攪拌装置を装着した５００
mlの四つ口フラスコに４，４−ジアミノジフェニルエー
テル４０.０５ｇ(０．２モル）及びＮ−メチル−２−ピ
ロリドン２５７ｇを加え、窒素ガス流通下の室温で攪拌
した。この溶液に３，３’，４，４’−ベンゾフェノン
テトラカルボン酸二無水物４８．３３ｇ(０．１５モ
ル）及び１，３−ビス（３，４−ジカルボキシフェニ
ル）−１，１，３，３−テトラメチルジシロキサン二無
水物２１．３３ｇ(０．０５モル）を加え、室温で４時
間攪拌して粘稠な樹脂溶液を得た。

【００５８】さらに、この樹脂溶液に光遮断下の室温で
Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノエチルメタクリレート４２.９
ｇ(０．４モル）を加え、６時間攪拌した。得られたエ
チレン性不飽和基を含む樹脂溶液を“ＰＩ−２”と命名
する。

【００５９】合成例３ 温度計、窒素ガス導入口及び攪拌装置を装着した５００
mlの四つ口フラスコに３，３’，４，４’−ベンゾフェ
ノンテトラカルボン酸二無水物４８.３３ｇ(０．１５モ
ル）、１，３−ビス（３，４−ジカルボキシフェニル）
−１，１，３，３−テトラメチルジシロキサン二無水物
２１.３３ｇ(０．０５モル）、ヒドロキシエチルメタク
リレート３９ｇ(０．３モル）及びＮ−メチル−２−ピ
ロリドン３００ｇを加え、室温で１２時間攪拌した。次
に、この溶液に氷冷下、塩化チオニル３５ｇを１時間か
けて滴下し、その後室温で２時間攪拌を行った。この溶
液にジアミノジフェニルエーテル４０.０５ｇ(０．２モ
ル）を加えて８時間攪拌した。

【００６０】さらに、エタノール４０mlを加えて４時間
攪拌し、その後５リットルの水中に徐々に注入したとこ
ろ、エチレン性不飽和基を有する樹脂の固形物が析出し
た。この固形物６０ｇをＮ−メチル−２−ピロリドン１
４０ｇに溶解し、得られたエチレン性不飽和基を含む樹
脂溶液を“ＰＩ−３”と命名する。

【００６１】実施例１〜１０ エチレン性不飽和基を含む樹脂溶液ＰＩ−１、ＰＩ−２
及びＰＩ−３に、表１に示したクマリン化合物、Ｎ−ア
リール−α−アミノ酸化合物及び橋架け剤を同表に示し
た割合で加え、感光性樹脂組成物を得た。この樹脂組成
物をフィルタで濾過し、シリコンウェハー上に塗布・乾
燥して塗膜を得た。塗膜の膜厚は、約２０μｍであっ
た。

【００６２】次に、パターンマスクを解して露光した。
露光装置には、キャノン社製ＰＬＡ６００ＦＡを用い
た。露光後、１０重量％トリエタノールアミン水溶液で
現像し、イオン交換水でリンスし、乾燥した。現像後の
残膜率（現像後の膜厚÷現像前の膜厚×１００）が８０
％以上になる最小の露光量から感度を求めた。感度が高
いほど、露光量は小さくなる。結果を表１に示した。

【００６３】次に、表１に示した感光性樹脂組成物を２
５℃で暗所に保管し、上記と同様にして露光量から感度
を求めた。保管前と同じ感度を保つまでの日数から保存
安定性を求めた。結果を表１に示した。

【００６４】なお、表１に記号で示したクマリン化合
物、Ｎ−アリール−α−アミノ酸化合物及び橋架け剤
は、下記の式で示される物質を意味する。

【００６５】 クマリン化合物

【化２９】

【００６６】Ｎ−アリール−α−アミノ酸化合物

【化３０】

【００６７】橋架け剤

【化３１】

【００６８】

【表１】

【００６９】比較例１ １００ｇのＰＩ−１に対して３，３’−カルボニル−ビ
ス（７−ジエチルアミノクマリン）０.２２ｇ、ｐ−ジ
エチルアミノ安息香酸エチル３．０ｇ及びテトラエチレ
ングリコールジアクリレート１３．０ｇを加えた。この
ものをフィルタで濾過し、シリコンウェハー上に塗布・
乾燥後、膜厚約２０μｍの塗膜を得た。次に、上記実施
例と同様にして感度及び経日安定性を求め、結果を表２
に示した。

【００７０】比較例２ 比較例１で用いたｐ−ジエチルアミノ安息香酸エチルの
代わりにＮ−フェニルグリシン２．２ｇを用いた以外
は、比較例１と同様にして感度及び経日安定性を求め、
結果を表２に示した。

【００７１】

【表２】

【００７２】

【発明の効果】本発明の感光性樹脂組成物及びこれを用
いた感光性エレメントは、厚膜を形成することができ、
厚膜でも高い光感度を示し、経日安定性及び耐熱性に優
れている。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.⁵ 識別記号 庁内整理番号 ＦＩ 技術表示箇所 Ｈ０１Ｌ 21/027 Ｈ０５Ｋ 3/28 Ｄ 6736−4Ｅ (72)発明者 西澤 廣 茨城県日立市東町四丁目13番１号 日立化 成工業株式会社茨城研究所内

Claims (2)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 （Ａ）一般式（Ｉ）又は（II） 【化１】 〔式中、Ｒ₁ 、Ｒ₂ 、Ｒ₃ 、Ｒ₄ 、Ｒ₅ 、Ｒ₆ 、Ｒ₇ 、
   Ｒ₈ 、Ｒ₉、Ｒ₁₀、Ｒ₁₁、Ｒ₁₂、Ｒ₁₃、Ｒ₁₄及びＲ
   ₁₅は、それぞれ独立に水素原子、ヒドロキシ基、アルキ
   ル基、アリール基、アルキルアミノ基、ジアルキルアミ
   ノ基、アルコキシ基又はアシル基を表し、Ｒ₁₆はアルキ
   ル基、アリール基、アルコキシ基又は複素環基を表し、
   Ｒ₁ 〜Ｒ₁₆においてアルキル基、アリール基又は複素環
   基が存在する場合、これらの基はヒドロキシ基、アルキ
   ルアミノ基、ジアルキルアミノ基、アルコキシ基又はシ
   アノ基で１個以上置換されていてもよい〕で示されるク
   マリン化合物、（Ｂ）一般式（ＩＩＩ） 【化２】 〔式中、Ｒ_１７、Ｒ₁₈、Ｒ₁₉、Ｒ₂₀及びＲ₂₁は、それぞ
   れ独立に水素原子、シアノ基、ニトロ基又はアシル基を
   表し、少なくとも１個は電子吸引性のシアノ基、ニトロ
   基又はアシル基を表し、Ｒ₂₂は水素原子、アルキル基又
   はアリール基を表し、Ｒ₂₃及びＲ₂₄は、それぞれ独立に
   水素原子又はアルキル基を表し、Ｒ₂₂〜Ｒ₂₄においてア
   ルキル基又はアリール基が存在する場合、これらの基は
   ヒドロキシ基、アルキルアミノ基、ジアルキルアミノ
   基、アルコキシ基又はシアノ基で１個以上置換されてい
   てもよい〕で示されるＮ−アリール−α−アミノ酸化合
   物及び（Ｃ）ポリアミド酸とエチレン性不飽和基を有す
   るイソシアナート化合物、エチレン性不飽和基を有する
   アミン化合物若しくはエチレン性不飽和基を有するエポ
   キシ化合物との反応物又は一般式（IV） 【化３】 〔式中、Ｒ₂₅は４価の有機基を表し、Ｒ₂₆は２価の有機
   基を表し、Ｙは１価のエチレン性不飽和基を有する有機
   基を表し、ｎは０又は１、ｍは１又は２であり、かつｎ
   ＋ｍ＝２となるように選ばれる〕で表される繰り返し単
   位を有する樹脂を含んでなる感光性樹脂組成物。
2. 【請求項２】 請求項１記載の感光性樹脂組成物を基体
   上に積層してなる感光性エレメント。