JPS60142920A - 抗▲ざ▼瘡剤 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 この発明は、ベンゾイルペルオキシドを基礎とし日光フ
ィルター剤（Ｆｉｌｔｒｅ　５ｏｌａｉｒｅ　）少なく
とも１種を配合した新規な抗Ｗｉ剤（ａｎｔｉ　−ａｃ
ｎｅｉｑｕｅ　）に関するものである。上記フィルター
剤は、ベンゾイルペルオキシドのすぐれた安定性をもた
らすと共に、それがおかれる環境条件に応じて種々の型
の皮ふにすぐれた耐容性をもたらすものである。

挫癒の処置に推奨される種々の治療剤中で、ベンゾイル
ペルオキシドは特に有効な角質溶解剤であることか確証
されると共に抗菌性も有する。

しかしなから、ベンゾイルペルオキシドの使用には、そ
の不安定性、反応性および副作用に基つく不都合か伴な
っていた。

ヘンシイルベルオキシドの副作用を回避するために、例
えはサリチル酸またはグアニン誘導体のような薬剤を配
合することが提案されたが、この組成物は侵襲性および
小皿している皮ふの敏感化現象の低減を完全に満足でき
る程もたらすものではなかった。

すなわち、観察される副作用は単にベンゾイルペルオキ
シド自体によると思われず、組成物中に存在する他の化
合物の分解産物（この分解は基本的にベンゾイルペルオ
キシドの強い反応性により誘発される）によると思われ
た。

本出願人は、鋭意研究の結果、驚くべきことに、この角
質溶解剤を一群の特定日光フィルター剤または遮蔽剤と
配合することにより、経時的に極めテ安定で、種々の型
の皮ふ、特にベンゾイルペルオキシドに敏感な皮ふに対
してずくれた耐容性を有する抗樫瘉剤組成物が得られる
ことを確認したのである。

このような日光フィルター剤を含む組成物は、すぐれた
経時的安定性をもたら腰一般にｓ瘤の治療に用いられて
いる公知の組成物の不耐容現象を招くことなしに、種々
の型の纏疹、特に顔の周りのものを治療し得ることが確
認された。

マタ、ベンゾイルペルオキシド ー剤少なくとも１種に基つく抗涯疹剤組成物が極めて信
頼性が高く極めて長期の活性をもたらし、使用に際して
極めて安全であることが確認された。

他方、ベンゾイルペルオキシドの分解が防止されるので
、この組成物は種々の型の皮ふに対して耐容性がよい。

またこの発明の組成物を用いて治療した皮ふは、光線の
ような外部からの侵襲に対して損傷および感受性が少な
いが、これはベンゾイルペルオキシド単独の治療では見
られなかったことである。

すなわち、この発明は、ヘンシイルベルオキシド０．５
ないし２０重量％と、ペンジリデケカンファ−およびそ
の誘導体、２−フェニルベンズイミダゾール−５−スル
ホン酸およびその塩類、２−ヒドロキシベンゾフェノン
およびその誘導体、Ｐ−ジメチルアミ７安息香酸アルキ
ル（アルキル基は炭素原子１ないし１２個を含む）、サ
リチル酸エステル類、ジベンゾイルメタン誘導体、並び
に桂皮酸誘導体からなる群から選はれた日光フィルター
剤中なくとも１種を含有する、；座癒の局所的処置用新
規組成物を提供するものである。

既に使用されている公知の多数のフィルター剤中で、上
記の日光フィルター剤は、ベンゾイルペルオキシドに対
する安定化作用をもたらすと共に、この角質溶解剤の使
用により起る刺激現象を防ぐことか確証された。

この発明によると、組成物の全重量に対して、ベンゾイ
ルペルオキシドの濃度は好ましくは２．５ないし１０重
量％てあり、日光フィルター剤の濃度が０．１ないし１
０重量％である。ヘンシイルベルオキシドは、乾燥また
は湿潤状態、好ましくは湿潤状態の微粉形態で使用され
る。

ベンジリデンカンファーおよびその誘導体は下記一般式 〔式中、ｋは水素原子、基−５Ｏ３Ｈおよびその塩類、
または基−５ＯＮＨ−Ｒ（ここで、ｋｏは炭１ 素原子１ないし１２個を有する直鎖もしくは分枝アルキ
ル基、好ましくは２−エチルヘキシル基、または蛋白質
残基、例えばケラチン、コラーゲン、ゼラチン、アルブ
ミン、カゼイン、ラクトアルブミン等の誘導体を示す）
、ｋ′は水素原子、炭素原チェないし４個を有するアル
キル基、炭素原子１ないし１８個を有する置換もしくは
非置換アルコキシ基、第４級アンモニウム基、好ましく
は基−（：Ｄ￥Ｊ（ＣＩ−１）　、基−５Ｏ３Ｈおよび
その塩類、基−３ ＳＯ２ＮＨ−Ｒ’、（ここで、ｋ′、は２−エチルヘキ
シル基、またはケラチニル基を示す）、基−Ｃ１ｌ−ｃ
（ｃｏ。ｋ２）２（ここで、Ｒ２は炭素原子１ないし１
２個を有するアルキル基を示す）、基に″は水素原子、
炭素原子１ないし４個を有するアルコキシ基、並びに基
−５Ｏ３Ｈおよびその塩類（ｋ′がアルキル基もしくは
アルコキシ基を示す場合）を意味する〕 で表わすことができる。

この日光フィルター剤（よ、特にフランス特許または特
許出願７３．３４１４０号、７４．０５４２７号、７４
．２８４７８号、７７．０７７２０号、７７゜２７３４
３号、７８．１０１５８号、７８．２０７０１号、８２
．１０４２５号、８２．１４４８０号、８３．１０６５
４号およびルクセンブルグ特許出願８４．２６４号に記
載されている。

上記一般式（１）に含まれるベンジリデンカンファー誘
導体中、特に興味ある結果をもたらすものは、次に示す
もの、すなわちｐ　−トＩＪ　Ｕデンカンファ−、トリ
メチルアンモニオベンジリデンカンファー・メチルスル
フェート、４−イソプロピルベンジリデンカンファー、
４−［２−オキソ−３−ボルニリデンメチル〕ベンゼン
スルホン酸およびその塩類、２−メチル−５−（２−オ
キソ−３−ボルニリデンメチル）ベンゼンスルホン酸オ
ヨひその塩類、Ｎ−（２−エチルヘキシル）−３−ベン
ジリチン−１Ｏ−カンフオスルホンアミド、３−（４−
（２−オキソ−３−ボルニリデンメチル）ベンジリチン
Ｊ−１０−カンフオスルホン酸およびその塩類、１，４
−フェニレンビス（３−メチレン−１０−カンフオスル
ホン）酸およびその４［、ｐ−（２−オキソ−３−ボル
ニリデンメチル）ベンジリデンマロン酸エチル、３−Ｐ
−メト中ソベンジリデン−１０−カンフオスルホン酸お
よびその塩類、３−ベンジリデン−２−オキソ−１０−
ボルナンスルホン酸およびその塩類、３−〔４−（２−
ヒドロキシ−３−モルホリノプロポキシ）ベンジリデン
クー２−オキソ−１０−ボルナンスルホン酸およびその
塩類、Ｎ−ケラチェルー２−オキソ−３−ボルニリデン
ベンゼンスルホンアミド、Ｎ−（２−エチルヘキシル）
−３−Ｐ−メトキンベンジリデン−１Ｏ−カンフオスル
ホンアミド、並びに４′−ブトキシ−３′−メトキシ−
３−ベンジリデン−２−オキソボルナンである。

２−ヒドロキシベンゾフェノンの誘導体中では、特ニ２
−１＝ドロキシー４−メトキシベンゾフェノン、２−ヒ
ドロキシ−４−メトキシベンゾフェノ′ンー５−スルホ
ン酸およびその塩類、２，２′−ジヒドロキシ−４−メ
トキシベンゾフェノン、並びに２．２’−’）ヒドロキ
シ−４，４′−ジメトキンペンゾフエノンー５−スルホ
ン酸ナトリウム塩が挙げられる。

Ｐ−ジメチルアミノ安息香酸アルキル中では、特にＰ−
ジメチルアミノ安息香酸２−エチルヘキシルが挙げられ
る。

サリチル酸エステル中では、特にサリチル酸ホモメンチ
ルまたはサリチル酸２−エチルヘキシルか挙げられる。

ジベンゾイルメタン誘導体中では、特に４−イソプロピ
ルジベンゾイルメタンが挙げられる。

桂皮酸誘導体中では、Ｐ−メトキシ桂皮酸ジェタノール
アミンまたはＰ−メトキン桂皮酸２−エチルヘキシルの
ような塩およびエステルが挙けられる。

上記化合物の塩としては、ナトリウム塩、カリラム塩お
よびアルカノールアミン塩が好ましい。

この発明の組成物において、日光フィルター剤は全遮蔽
剤が得られるように金属酸化物と配合することができる
。金属酸化物としては、亜鉛酸化物およびチタン酸化物
、特に「ルチル（Ｒｕｔｉｌｅ）」の名称で知られるチ
タン酸化物、および「チミカ（ＴＩＭＩＣＡ）Ｊの名称
で知られるメアル・コーポレイ７ヨン社発売品のような
雲母被覆チタン酸化物か用いられる。

この発明の抗倖癒組成物は、種々の形態、すなわち軟膏
（ｐｏｒｒｒｎａｄｅ　）　、ゲル、乳剤、ローション
、またはエアロゾルの形態にすることかできる。

「軟膏」の語は、例えはワセリン、ラノリン、ポリエチ
レングリコールおよびそれらの混合物のような吸収性油
基剤を含むクリームのような製剤を包含する。

乳剤は水中油型でも油中水型でもよく、ベンゾイルペル
オキシドを水相に分散し、それに配合する日光フィルタ
ー剤をその親和性に応じて乳剤を作る油相または水相に
分散させることにより製造される。

水相に対する気相の重量比は一般に約９５＝５ないし２
５ニア５である。

油相を構成するに適した種々の浦としては、例えばラノ
リン、ペルヒドロスクアレンのような動物油、およびせ
アーモンド油、アボカド油、唐ごま油、オリーブ油、ぶ
どう種子油、けし油、なたね油、落花生油、とうもろこ
し油、ひまわり油、はしはみ浦、ジョジョバ（ｊｏｊｏ
ｂａ　）　油、ベニハな油、小麦胚種部、バターの木の
バター、およびサラの木（５１１ｏｒｅａ　ｒｏｂｕｓ
ｔａ　）の油脂のような植物性油脂、並ひに例えはパラ
フィン油、他の油に可溶のシリコーン油のような鉱物油
の如き種々の油製品を用いることができる。

また例えは飽和エステル、特にパルミチン峻イソプロピ
ル、ミリスチン酸イソプロピル、ブチルまたはセチル、
ステアリン酸へキサデンル、グリセリンおよびポリエチ
レングリコール、パルミチン酸エチル、並びにトリグリ
セリド、オクタン酸およびデカン酸、並ひにリシノール
酸セチル、プルセラン（ｐｕｒｃｅｌｌｉｎ　）　浦お
よび水素化ポリインブテンのような合成品も用いること
かできる。

乳剤の油相はまた、ある種のろう、すなわちカルナウバ
ろう、密ろう、地ろうまたはキャンプリヤ（ｃａｎｄｅ
ｌｌｉｌａ　）ろうを含むことができる。

乳剤の形の組成物は、また保存剤、色素（顔料）、着香
剤、着色剤（染料）、硫酸マグネシウムのような乳化安
定剤、タルク、ナイロン、でんぷん、ポリエチレン等の
粉末のような増量剤を含むことかてきる。

ケルは、半固体製剤であり、ベンゾイルペルオキシドの
けんたく液と日光フィルター剤を、Ｎ　Ｌインクストリ
ー社発売の「ベントンケル」のようなゲル化剤を油相用
に、または水相用にフッドリッチ社からカルボポール９
４０もしくは９４１の名称で発売されているもののよう
な網状ポリアクリル酸を、中和した形で用いるか、また
はさらにセルロース誘導体を用いて、ゲル化することに
より得られる。

所望の場合には、例えはエチレンオキシド４ないし２０
単位を含むポリオキシエチレンアルコールまたはソルビ
タンエステルのような非イオン界面活性剤であって、ベ
ンゾイルペルオキシドの分散性と流動性を改善するもの
を、ゲルに加えることができる。また、エタノールのよ
うな低級脂肪族アルコールの如き溶媒を、０．５ないし
３０重量％の割合で加え、また保存剤、着香剤、着色剤
等を加えることができる。

この発明の組成物はまた、例えばクリセリン、ソルビト
ールまたはプロピレングリコールのような湿潤剤を１な
いし２０％の割合で含むことかできる。

好ましい実施態様では、ベンゾイルペルオキシドに局所
的使用が可能な抗諌疹性物質少なくとも１種特に抗生物
質を配合することかできる。

この実施態様では、抗生物質を一般に組成物全重量に対
して０．５ないし５９６の濃度で存在させる。

好ましい抗生物質としては、エリスロマインンおよびそ
の塩類、クリンダマイ／ンおよびその塩類、並ひにリン
コマイシンおよびその塩類が挙げられる。

纏りＮの処置に際しては、上記のような組成物を少なく
とも１日１回病変部」−に０．５ないしＪＯｍｇ／　Ｃ
ａの割合て適用する。処置期間は皮ふ疾患の広がりと重
さに応じて２ないし４週間のオーダーとすることかでき
る。

以下、この発明の抗座疹組成物を実施例により示すか、
これらは限定を目的とするものではない。

実施例１ この発明にしたかつて、下記成分の混合物を加工するこ
とにより抗座疹剤ゲルを製造する。

ベンゾイルペルオキシド　１０ｇ ２−ヒドロキシ−４−メトキシベンゾ フェノン−５−スルホン酸　１ｇ ２−フェニルベンズイミダソール−５ −スルホン酸　１．９ ソーダ　適量加えて））ｎ　６とする。

ヒドロキノエチルセルロース　３ｇ バラヒドロキン安息香酸メチル　０．１５ｇプロピレン
グリコール　１０ｇ 水（ｑｓＰ　）　１００ｇ このゲルを作るには、まず２種の日光フィルター剤を、
次いでパラヒドロキシ安息香酸メチルを、水に溶かず。

得られた混合物にさらにヒドロキシエチルセルロース、
次いでプロピレングリコールを加える。こうして得たゲ
ルに、粉砕後ベンゾイルペルオキシドを分散する。

実施例２ この発明にしたがって、下記成分の混合物を加工するこ
とにより抗座疹剤ゲルを製造する。

ベンゾイルペルオキシド　５５’ ２−ヒドロキシ−４−メトキシベンゾ フェノン−５−スルホン酸　１ｇ ２−フェニルベンズイミダソール−５ −スルホン酸　１ｇ カルボポール（Ｃａｒｂｏｐｏｌ　）　９４０　０．９
　ｇトリエタノールアミン　適量加えてｐＨ６とする。

グリセリン　１２ｇ バラヒドロキン安息香酸メチル　０．１５ｇ水十１タノ
ール（８０／２０）ｑｓｐ　１００ｇこの実施例では、
２−フェニルベンスイミタソールー５−スルホン酸の代
りにベンジリデンカンファーを１．５％の濃度で用いる
ことができる。さらに、２棟の日光フィルター剤の代り
に１種のフィルター剤、すなわち１，４−フェニレンビ
ス（３−メチレン−１０−カンフォスルホン）酸または
３−［４−（２−オキソ−３−ボルニリデンメチル）ベ
ンジリデンクー１０−カンフオスルポン酸を、酸の形ま
たは無機もしくは有機塩基との塩（Ｎａ塩、Ｋ塩、トリ
エタノールアミン塩）の形で用いることかでき、上記フ
ィルター剤は１５９６の濃度て用いられる。

実施例３ この発明にしたがって、下記成分の混合物を加工するこ
とにより水中油型乳剤の形の抗卦疹剤クリームを製造す
る。

ベンゾイルペルオキシド　１ｏｇ チタンジオキシド　２ｇ ティミカシルクホワイト　３ｇ ポリエチレングリコールステアレート　４ｇベンジリデ
ンカンファー　１ｙ グリセロールモノステアレート　１ｇ セチルアルコール　２ｇ 甘せ−モンド油　５ｇ ’／／”）ツクス（Ｓｉｎｎｏｗａｘ）　ＳＸ　４　ｆ
（９０％ステアリルアルコールおよび１０％ラウリル硫
酸すｌ−ＩＪウムの混合物） バラヒドロキシ安息香酸メチル　０．２ｇベルヒドロス
クアレン　５ｇ 水（９ＳＰ　）　１００ｇ 実施例４ この発明にしたがって、下記成分の混合物を加工するこ
とにより油中水型乳剤の形の抗座瘉剤クリームを製造す
る。

ペンゾイルペルオキシ）’　１０ｇ ２−ヒドロキシ−４−メトキシベンゾ フェノン　１．５！７ Ｐ−ジメチルアミン安息香酸２−エチ ルベキシル　１．５ｙ １−フロテジンＸｊ　（ゴールドシュミツワセリン油　
１１ パラヒドロキシ安息香酸メチル　０．２ｇバラヒドロキ
ン安息香酸プロピル　０２ｇグリセリン　５ｇ 硫酸マグネシウム　０．５ｊ／ 水（ｑｓｐ）　１００ｇ ｔａ）　：　ｒプロテジ７　（ＤｒｏＬｅｇｉｎ）ＸＪ
−鉱油、ワセリン、地ろう、グリセリルオレエートおよ
びラノリンアルコールの混合物。

実施例５ この発明にしたがって、下記成分の混合物を加工するこ
とにより抗ｓ瘉剤ゲルを製造する。

カルボポール９４０　１１ トリエタノールアミン　１ｇ プロピレングリコール　５ｇ パラヒドロ　キシ安息香酸メチル　０．１５ｇベンゾイ
ルペルオキシド　１０ｇ チタンジオキッド　２ｇ チミカンルクホワイト　３ｇ ２−フェニルベンズイミダソール−５ −スルホン酸　１．５ｇ 水（９ＳＰ　）　１０１ 実施例に の発明にしたがって、下記成分の混合物を加工すること
により抗座癒剤組成物を製造する。

カルボポール９４０　０．８ｇ アエロンル２００　０．０２１ｆ プロピレングリコール　１−０ｇ トリトンＧＲ５Ｍ（２−エチルヘキ シルアルコールとスルホこはく酸の ジエステルナトリウム塩）　０．０８ｆｉ’プルロニツ
タ　Ｌ６２（エチレンオ キシドとポリプロピレンクリコール の重縮合物）　０．２Ｆ ＥＤＴＡジナトリウム　０．１ｇ ソーダ（１０％’１．　Ｓ、Ｐ、　）　ＰＨ＝５．３ベ
ンゾイルペルオキシド　ｌ０ｇ ２−フェニルベンズイミタソール−５ −スルホン酸　１ｙ 水（（ＩＳＰ）　１００ｆｌ 実施例７ この発明にしたがって、下記成分の混合物を加工するこ
とにより抗ａ癒剤組成物を製造する。

カルボポール９４０　１ｐ トリエタノールアミン　１ｇ プロピレンクリコール　３ｇ パラヒドロキシ安息香酸メチル　ｏ、ｉｇスルホこはく
酸ジオクチルナトリウム　０．０５！アエロノル２００
　１５７ ペンゾイルペルオキシド　１０ｐ ２−ヒドロキシ−４−メトキシベンゾ フェノン−５−スルホン酸　１ｙ ２−フェニルベンズイミダソール−５ −スルホン酸　１ｆ Ｅ（’ＤＴＡ　シｔ　？　’）　’７ム０．０５ｆ水（
ｑ、ｓ、ｐ　）　ｔ００ｇ 実施例８ この発明にしたがって、下記成分の混合物を加工するこ
とにより抗生物質配合抗ｓ疹剤組成物を製造する。

カルボポール９４０　１ｆｌ す（・す、ラムヒドロキシド（Ｑ−８−Ｐ　）　ｐＩＩ
　＝　５．４プロピレングリコール　５ｇ ＥＤＴＡジナトリウム　ｏ、０１ｇ ポリオキシエチレンラウリルアルコール　３ｐバラヒド
ロキシ安息香酸メチル　０．１５ｐベンゾイルペルオキ
シド　１０ｆＩ クリンダマイシン燐酸塩　２Ｓ Ｐ−メトキシ桂皮酸ジェタノールアミン　ＩＦ水（（ｌ
　Ｓ　Ｐ）　１００ｆ 特許出願人　ロレアル 代理人弁理士青山葆　はが１名 第１頁の続き ■Ｉｎｔ、ＣＩ、’　識別記号　庁内整理番号３１：１
９Ｕ　／況Ｕ−４し

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 ；１）ベンゾイルペルオキシド０．５ないし２０重量％
   に、ベンジリデンカンファーおよびその誘導体、２−フ
   ェニルベンズイミダソール−５−スルホン酸およびその
   塩類、２−ヒドロキシベンゾフェノンおよびその誘導体
   、Ｐ−ジメチルアミノ安息香酸アルキル（アルキル基は
   炭素原チェないし１２個を含む）、サリチル酸エステル
   類、ジベンゾイルメタン誘導体、並びに桂皮酸誘導体か
   らなる群から選はれた日光フィルター剤少なくとも１種
   を配合したものを含有する、；座もの局所的処置用組成
   物。 （２）組成物の全重量に対して、ベンゾイルペルオキシ
   ドの濃度が好ましくは２．５ないし１０重量％であり、
   日光フィルター剤の濃度が０．１ないし１０重量％であ
   る、特許請求の範囲第１項記載の組成物。 （３）ベンジリデンカンファーおよびその誘導体が下記
   一般式 〔式中、ｋは水素原子、基−５Ｏａ　Ｈもしくはその塩
   類、または基−５Ｏ□ＮＨ−Ｒ□　（ここで、ｋ□は炭
   素原子１ないし１２個を有する直鎖もしくは分枝アルキ
   ル基、または蛋白質残基を示す）、ｋ′は水素原子、炭
   素原チェないし４個を有するアルキル基、炭素原子１な
   いし１８個を有する置換もしくは非置換アルコキシ基、
   基−■Ｎ（ＣＨ３）３、基−５Ｏａ　ＩＩもしくはその
   塩類、基−５Ｑ、２Ｎｌ−１−Ｒ′１（ここで、Ｒ’１
   は２−エチルヘキシル基、またはケラチニル基を示す）
   、基−ＣＨ−Ｃ（ＣＯ２Ｒ２）２（ここで、Ｒ２は炭素
   原チェないし１２個を有すないし４個を有するアルコキ
   シ基、または基−５Ｏ３■］もしくはその塩類（Ｒ’が
   アルキル基もしくはアルコキシ基を示す場合）を意味す
   る〕 で示されるものである、特許請求の範囲第１または２項
   記載の組成物。 （イ）　ベンジリデンカンファーの誘導体が、Ｐ−トリ
   リデンカンファー、トリメチルアンモニオヘンシリデン
   カンファー・メチルスルフェート、４−イソプロピルベ
   ンジリデンカンファー、４−〔２−オキソ−３−ボルニ
   リデンメチル〕ベンゼンスルホン酸もしくはその塩類、
   ２−メチル−５−（２−オキソ−３−ボルニリデンメチ
   ル）ヘンゼンスルホン酸もしくはその塩類、Ｎ−（２−
   エチルヘキシル）−３−ベンジリデン−１０−カンフオ
   スルホンアミド、３−（４−（２−オキソ−３−ボルニ
   リデンメチル）ベンジリデン）−ｉｏ−カンフオスルホ
   ン酸もしくはその塩類、１，４−フェニレンビス（３−
   メチレン−１０−カンフオスルホン）酸もしくはその塩
   類、Ｐ−（２−オキソ３−ボルニリデンメチル）ベンジ
   リデンマロン酸エチル、３−Ｐ−メトキシベンジリデン
   −１０−カンフオスルホン酸もしくはその塩類、３−ベ
   ンジリチン−２−オキソ−１０−ボルナンスルホン酸も
   しくはその塩類、３−［４−（２−ヒドロキシ−３−モ
   ルホリノプロポキシ）ベンジリデン〕−２−オキソ−１
   ０−ボルナンスルホン酸もしくはその塩類、Ｎ−ケラチ
   ェルー２−オキシー３−ボルニリデンベンゼンスルホン
   アミド、Ｎ−（２−エチルヘキシル）−３−ｐ−メトキ
   シベンジリデン−１０−カンフオスルホンアミド、また
   は４′−ブトキシー３′−メトキシ−３−ベンジリデン
   −２−オキソボルナンである、特許請求の範囲第１−３
   項の何れか１項記載の組成物。 （５）２−ヒドロキシベンゾフェノンの誘導体か、２−
   ヒドロキシ−４−メトキシベンゾフェノン、２−ヒドロ
   キシ−４−メトキシベンゾフェノン−５−スルホン酸も
   しくはその塩類、２，２′−ジヒドロキシ−４−メトキ
   シベンゾフェノン、マタハ２゜２′−ジヒドロキシ−４
   ，４′−ジメトキシベンゾフェノン−５−スルホン酸ナ
   トリウム塩である、特許請求の範囲第１または２項記載
   の組成物。 （６）Ｐ−ジメチルアミノ安息香酸アルキルがＰ−ジメ
   チルアミノ安息香酸２−エチルヘキシルである、特許請
   求の範囲第１または２項記載の組成物。 （７）　サリチル酸エステルがサリチル酸ホモメンチル
   またはサリチル酸２−エチルヘキシルである、特許請求
   の範囲第１または２項記載の組成物。 （８）　ジベンゾイルメタン誘導体が４−イソプロピル
   ジベンゾイルメタンである、特許請求の範囲第１または
   ２項記載の組成物。 （９）桂皮酸誘導体がＰ−メトキシ桂皮酸ジェタノール
   アミンまたはＰ−メトキシ桂皮酸２−エチルヘキシルで
   ある、特許請求の範囲第１または２項記載の組成物。 （１０）さらに金属酸化物少なくとも１棟を含有するこ
   とを特徴とする特許請求の範囲第１−９項項の何れか１
   項記載の組成物。 Ｏｌ）金属酸化物が亜鉛またはチタンの酸化物である、
   特許請求の範囲第１０項記載の組成物。 ０２１　さらに局所適用可能な抗座癒物質少なくとも１
   種、特にエリスロマイシンもしくはその塩類、クリンダ
   マイシンもしくはその塩類、またはリンコマイシンもし
   くはその塩類のような抗生物質少なくとも１種を含有す
   ることを特徴とする特許請求の範囲第１−１１項の何れ
   か１項記載の組成物。 ＋１３）　軟ｔ　乳剤、ゲル、ローションまたはエアロ
   ゾルの形態をとるものである、特許請求の範囲第１−１
   ２項の何れか１項記載の組成物。 ＋＋４ｉ　さらに、保存剤、色素、湿潤剤、着香剤、着
   色剤、界面活性剤、増粘剤、またはタルク、ナイロンも
   しくはでんぷんもしくはポリエチレンの粉末、溶媒、安
   定剤のような増量剤を含有することを特徴とする特許請
   求の範囲第１−１３項の何れか１項記載の組成物。