JPH11246690A - 耐紫外線物品及びその製造方法 - Google Patents
耐紫外線物品及びその製造方法Info
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- JPH11246690A JPH11246690A JP10354051A JP35405198A JPH11246690A JP H11246690 A JPH11246690 A JP H11246690A JP 10354051 A JP10354051 A JP 10354051A JP 35405198 A JP35405198 A JP 35405198A JP H11246690 A JPH11246690 A JP H11246690A
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 少なくとも一部が高分子材料からなる物品で
あって、該高分子材料本来の特性が維持されているとと
もに、該高分子材料の紫外線による劣化が十分抑制され
ており、さらに安全性が高い耐紫外線物品及びその製造
方法を提供する。 【解決手段】 少なくとも一部が高分子材料からなり、
該高分子材料からなる部分の表面の少なくとも一部に、
それ自体で紫外線遮断性を有する物質からなる紫外線遮
断性膜が形成されている耐紫外線物品。それ自体で紫外
線遮断性を有する物質からなる紫外線遮断性膜が形成さ
れた耐紫外線物品の製造方法であって、該紫外線遮断性
膜を形成すべき前記高分子材料からなる部分の表面に、
紫外線遮断性膜を気相成長法により形成する工程を含
み、該紫外線遮断性膜の形成に先立ち、或いは該膜の形
成の初期にイオンを照射エネルギ０．０５ｋｅＶ以上２
ｋｅＶ以下で、１×１０13ｉｏｎｓ／ｃｍ2 以上５×１
０17ｉｏｎｓ／ｃｍ2 以下照射する耐紫外線物品の製造
方法。
あって、該高分子材料本来の特性が維持されているとと
もに、該高分子材料の紫外線による劣化が十分抑制され
ており、さらに安全性が高い耐紫外線物品及びその製造
方法を提供する。 【解決手段】 少なくとも一部が高分子材料からなり、
該高分子材料からなる部分の表面の少なくとも一部に、
それ自体で紫外線遮断性を有する物質からなる紫外線遮
断性膜が形成されている耐紫外線物品。それ自体で紫外
線遮断性を有する物質からなる紫外線遮断性膜が形成さ
れた耐紫外線物品の製造方法であって、該紫外線遮断性
膜を形成すべき前記高分子材料からなる部分の表面に、
紫外線遮断性膜を気相成長法により形成する工程を含
み、該紫外線遮断性膜の形成に先立ち、或いは該膜の形
成の初期にイオンを照射エネルギ０．０５ｋｅＶ以上２
ｋｅＶ以下で、１×１０13ｉｏｎｓ／ｃｍ2 以上５×１
０17ｉｏｎｓ／ｃｍ2 以下照射する耐紫外線物品の製造
方法。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、高分子材料からな
る表面部分を有する物品であって、該高分子材料が紫外
線に対して耐性を有する耐紫外線物品及びその製造方法
に関する。
る表面部分を有する物品であって、該高分子材料が紫外
線に対して耐性を有する耐紫外線物品及びその製造方法
に関する。
【０００２】
【従来の技術】樹脂、ゴムのような高分子材料は軽量で
耐衝撃性に優れる等のことから様々な用途に用いられて
いるが、一般に紫外線に対する耐久性が劣り、紫外線の
照射により劣化し易い。従って、病院、実験室等の紫外
線ランプの周辺や日光の当たる屋外等で用いる機器、器
具その他の物品に高分子材料が用いられている場合、そ
の高分子材料部分の劣化が激しい。特に医療用物品は使
用前の通常の滅菌（高圧蒸気滅菌、ガス滅菌等）の他、
常時、滅菌のために紫外線照射環境下に保存されること
が多い。
耐衝撃性に優れる等のことから様々な用途に用いられて
いるが、一般に紫外線に対する耐久性が劣り、紫外線の
照射により劣化し易い。従って、病院、実験室等の紫外
線ランプの周辺や日光の当たる屋外等で用いる機器、器
具その他の物品に高分子材料が用いられている場合、そ
の高分子材料部分の劣化が激しい。特に医療用物品は使
用前の通常の滅菌（高圧蒸気滅菌、ガス滅菌等）の他、
常時、滅菌のために紫外線照射環境下に保存されること
が多い。
【０００３】そこで、紫外線照射による高分子材料の劣
化を抑制するために、紫外線吸収剤を高分子材料中に練
り込んで成形する方法、紫外線吸収性剤を含む塗料を高
分子材料部分の表面に塗布する方法等が採られている。
例えば、特開平８−９８８７０号公報によると、平均粒
径１０〜４０μｍの酸化チタンを０．０１〜１重量％添
加した熱可塑性樹脂からなる紫外線遮断性医療用容器で
は、該樹脂の透明性が維持されつつ、紫外線照射による
内容物の変質が防止されることが開示されている。
化を抑制するために、紫外線吸収剤を高分子材料中に練
り込んで成形する方法、紫外線吸収性剤を含む塗料を高
分子材料部分の表面に塗布する方法等が採られている。
例えば、特開平８−９８８７０号公報によると、平均粒
径１０〜４０μｍの酸化チタンを０．０１〜１重量％添
加した熱可塑性樹脂からなる紫外線遮断性医療用容器で
は、該樹脂の透明性が維持されつつ、紫外線照射による
内容物の変質が防止されることが開示されている。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、紫外線
吸収剤を高分子材料中に練り込む方法では、紫外線吸収
剤の添加により高分子材料本来の特性、例えば機械的強
度や耐熱性等が変化してしまう場合もある。また、この
紫外線吸収剤の安全性によっては、医療用物品等への適
用が困難な場合がある。
吸収剤を高分子材料中に練り込む方法では、紫外線吸収
剤の添加により高分子材料本来の特性、例えば機械的強
度や耐熱性等が変化してしまう場合もある。また、この
紫外線吸収剤の安全性によっては、医療用物品等への適
用が困難な場合がある。
【０００５】また、物品上に紫外線吸収性剤を含む塗料
を塗布する方法では、高分子材料本来の特性に影響は殆
ど無いことが多いが、紫外線吸収性剤を多く含めると塗
料の高分子材料への付着力が低下するから該紫外線吸収
性材料含有量には限度があり、そのため十分な紫外線遮
断性が得られないばかりか、塗料はもともと高分子材料
との密着性が悪く時間とともに該塗膜が剥がれ易く、こ
れらにより長期にわたり紫外線吸収性能を維持すること
が難しい。また、この場合も紫外線吸収性剤の安全性に
よっては、医療用物品等への適用が困難な場合がある。
を塗布する方法では、高分子材料本来の特性に影響は殆
ど無いことが多いが、紫外線吸収性剤を多く含めると塗
料の高分子材料への付着力が低下するから該紫外線吸収
性材料含有量には限度があり、そのため十分な紫外線遮
断性が得られないばかりか、塗料はもともと高分子材料
との密着性が悪く時間とともに該塗膜が剥がれ易く、こ
れらにより長期にわたり紫外線吸収性能を維持すること
が難しい。また、この場合も紫外線吸収性剤の安全性に
よっては、医療用物品等への適用が困難な場合がある。
【０００６】そこで本発明は、少なくとも一部が高分子
材料からなる物品であって、該高分子材料本来の特性が
維持されているとともに、該高分子材料の紫外線による
劣化が抑制されている耐紫外線物品を提供することを課
題とする。また本発明は、少なくとも一部が高分子材料
からなる物品であって、該高分子材料本来の特性が維持
されているとともに、該高分子材料の紫外線による劣化
が抑制されており、さらに安全性が高い耐紫外線物品を
提供することを課題とする。
材料からなる物品であって、該高分子材料本来の特性が
維持されているとともに、該高分子材料の紫外線による
劣化が抑制されている耐紫外線物品を提供することを課
題とする。また本発明は、少なくとも一部が高分子材料
からなる物品であって、該高分子材料本来の特性が維持
されているとともに、該高分子材料の紫外線による劣化
が抑制されており、さらに安全性が高い耐紫外線物品を
提供することを課題とする。
【０００７】また本発明は、少なくとも一部が高分子材
料からなる物品であって、該高分子材料本来の特性が維
持されているとともに、該高分子材料の紫外線による劣
化が長期にわたり十分抑制される耐紫外線物品を提供す
ることを課題とする。また本発明は、少なくとも一部が
高分子材料からなる物品であって、該高分子材料本来の
特性が維持されているとともに、該高分子材料の紫外線
による劣化が長期にわたり十分抑制され、さらに安全性
が高い耐紫外線物品を提供することを課題とする。
料からなる物品であって、該高分子材料本来の特性が維
持されているとともに、該高分子材料の紫外線による劣
化が長期にわたり十分抑制される耐紫外線物品を提供す
ることを課題とする。また本発明は、少なくとも一部が
高分子材料からなる物品であって、該高分子材料本来の
特性が維持されているとともに、該高分子材料の紫外線
による劣化が長期にわたり十分抑制され、さらに安全性
が高い耐紫外線物品を提供することを課題とする。
【０００８】また本発明は、少なくとも一部が高分子材
料からなる物品であって、該高分子材料本来の特性が維
持されているとともに、該高分子材料の紫外線による劣
化が長期にわたり抑制される耐紫外線物品の製造方法を
提供することを課題とする。また本発明は、少なくとも
一部が高分子材料からなる物品であって、該高分子材料
本来の特性が維持されているとともに、該高分子材料の
紫外線による劣化が長期にわたり十分抑制され、さらに
安全性が高い耐紫外線物品の製造方法を提供することを
課題とする。
料からなる物品であって、該高分子材料本来の特性が維
持されているとともに、該高分子材料の紫外線による劣
化が長期にわたり抑制される耐紫外線物品の製造方法を
提供することを課題とする。また本発明は、少なくとも
一部が高分子材料からなる物品であって、該高分子材料
本来の特性が維持されているとともに、該高分子材料の
紫外線による劣化が長期にわたり十分抑制され、さらに
安全性が高い耐紫外線物品の製造方法を提供することを
課題とする。
【０００９】
【課題を解決するための手段】本発明は、先ず、少なく
とも一部が高分子材料からなり、該高分子材料からなる
部分の表面の少なくとも一部に、紫外線遮断性能を有す
る物質からなる紫外線遮断性膜が形成されていることを
特徴とする耐紫外線物品を提供する。本発明の耐紫外線
物品によると、紫外線遮断性能のある膜で被覆されてい
る高分子材料部分は、紫外線による劣化が十分抑制され
ている。また、紫外線遮断性能のある物質が膜として被
成膜物品の外側に付与されているため、被成膜物品の高
分子材料部分の特性は損なわれない又は殆ど損なわれな
い。
とも一部が高分子材料からなり、該高分子材料からなる
部分の表面の少なくとも一部に、紫外線遮断性能を有す
る物質からなる紫外線遮断性膜が形成されていることを
特徴とする耐紫外線物品を提供する。本発明の耐紫外線
物品によると、紫外線遮断性能のある膜で被覆されてい
る高分子材料部分は、紫外線による劣化が十分抑制され
ている。また、紫外線遮断性能のある物質が膜として被
成膜物品の外側に付与されているため、被成膜物品の高
分子材料部分の特性は損なわれない又は殆ど損なわれな
い。
【００１０】前記紫外線遮断性膜としては、気相成長法
により形成された膜を代表例として挙げることができ
る。それ自体で紫外線遮断性能を有する物質からなる紫
外線遮断性膜は塗料を塗布する場合と異なり、物理的又
は化学的な気相成長による膜形成手法により高分子材料
部分表面に密着性よく形成できる。そうすることで高分
子材料の紫外線による劣化が長期にわたり十分抑制され
る。
により形成された膜を代表例として挙げることができ
る。それ自体で紫外線遮断性能を有する物質からなる紫
外線遮断性膜は塗料を塗布する場合と異なり、物理的又
は化学的な気相成長による膜形成手法により高分子材料
部分表面に密着性よく形成できる。そうすることで高分
子材料の紫外線による劣化が長期にわたり十分抑制され
る。
【００１１】本発明の耐紫外線物品における被成膜物品
は、物品の部品、物品の部分、物品それ自体のいずれで
あってもよい。本発明物品において、前記紫外線遮断性
膜は例えば酸化チタン膜又は酸化タンタル膜とすること
ができる。酸化チタン、酸化タンタルはそれ自体で高い
紫外線遮断性能を有するとともに人体に対して安全性の
高い物質である。これにより、本発明の耐紫外線物品は
人体に対して安全性の高いものとなる。なお、酸化チタ
ン膜及び酸化タンタル膜は透明に形成できるため、これ
らの膜を被成膜物品上に被覆しても被成膜物品本来の外
観が維持される。このことから、ディスプレイ関連製品
への応用も可能である。
は、物品の部品、物品の部分、物品それ自体のいずれで
あってもよい。本発明物品において、前記紫外線遮断性
膜は例えば酸化チタン膜又は酸化タンタル膜とすること
ができる。酸化チタン、酸化タンタルはそれ自体で高い
紫外線遮断性能を有するとともに人体に対して安全性の
高い物質である。これにより、本発明の耐紫外線物品は
人体に対して安全性の高いものとなる。なお、酸化チタ
ン膜及び酸化タンタル膜は透明に形成できるため、これ
らの膜を被成膜物品上に被覆しても被成膜物品本来の外
観が維持される。このことから、ディスプレイ関連製品
への応用も可能である。
【００１２】本発明物品における紫外線遮断性膜の膜厚
は、高分子材料の種類や物品の使用環境等によっても異
なるが、被成膜物品の高分子材料の紫外線照射による劣
化を抑制できるだけの厚さであればよい。また、余り厚
くなると膜密着性が低下する。例えば酸化チタン膜、酸
化タンタル膜の場合は、それには限定されないが概ね２
０ｎｍ以上２０００ｎｍ程度までを例示できる。
は、高分子材料の種類や物品の使用環境等によっても異
なるが、被成膜物品の高分子材料の紫外線照射による劣
化を抑制できるだけの厚さであればよい。また、余り厚
くなると膜密着性が低下する。例えば酸化チタン膜、酸
化タンタル膜の場合は、それには限定されないが概ね２
０ｎｍ以上２０００ｎｍ程度までを例示できる。
【００１３】なお、紫外線遮断性膜が酸化チタン膜又は
酸化タンタル膜である場合、これらの膜と被成膜物品の
高分子材料部分との間に中間膜としてチタン膜、タンタ
ル膜が形成されていてもよく、これにより酸化チタン膜
又は酸化タンタル膜の密着性が向上する。また、前記高
分子材料の種類は特に限定されず、ポリエチレン、ポリ
プロピレン、ポリエステル、ポリ塩化ビニル、ポリウレ
タン、ポリスチレン、フッ素樹脂（ＰＴＦＥ：ポリテト
ラフルオロエチレン、ＰＦＥＰ：テトラフルオロエチレ
ン−ヘキサフルオロプロピレン共重合体、ＰＥＴＦＥ：
エチレン−テトラフルオロエチレン共重合体、ＰＦＡ：
テトラフルオロエチレン−パーフルオロアルキルビニル
エーテル共重合体、ＰＥＣＴＦＥ：エチレン−クロロト
リフルオロエチレン共重合体、ＰＣＴＦＥ：ポリクロロ
トリフルオロエチレン、ＰＶＤＦ：ポリビニリデンフル
オライド、ＰＶＦ：ポリビニルフルオライド等）、ケイ
素樹脂等のいずれでもよい。
酸化タンタル膜である場合、これらの膜と被成膜物品の
高分子材料部分との間に中間膜としてチタン膜、タンタ
ル膜が形成されていてもよく、これにより酸化チタン膜
又は酸化タンタル膜の密着性が向上する。また、前記高
分子材料の種類は特に限定されず、ポリエチレン、ポリ
プロピレン、ポリエステル、ポリ塩化ビニル、ポリウレ
タン、ポリスチレン、フッ素樹脂（ＰＴＦＥ：ポリテト
ラフルオロエチレン、ＰＦＥＰ：テトラフルオロエチレ
ン−ヘキサフルオロプロピレン共重合体、ＰＥＴＦＥ：
エチレン−テトラフルオロエチレン共重合体、ＰＦＡ：
テトラフルオロエチレン−パーフルオロアルキルビニル
エーテル共重合体、ＰＥＣＴＦＥ：エチレン−クロロト
リフルオロエチレン共重合体、ＰＣＴＦＥ：ポリクロロ
トリフルオロエチレン、ＰＶＤＦ：ポリビニリデンフル
オライド、ＰＶＦ：ポリビニルフルオライド等）、ケイ
素樹脂等のいずれでもよい。
【００１４】例えば耐紫外線物品が医療用物品等である
ときは、中でも、人体に対する安全性の点からフッ素樹
脂、ケイ素樹脂が好ましく、これらの樹脂からなる部分
に酸化チタン膜又は酸化タンタル膜を形成することによ
り、膜被覆物品全体として安全なものとなる。また本発
明物品は、上記に若干既述したとおり、医療用物品の高
分子材料部分に紫外線遮断性膜を形成したものとするこ
とができる。これにより、該医療用物品は紫外線照射滅
菌可能なものとなる。医療用物品としては、具体的には
カテーテル等のチューブ類、義歯、コンタクトレンズ、
人工血管、各種インプラント等を例示できる。
ときは、中でも、人体に対する安全性の点からフッ素樹
脂、ケイ素樹脂が好ましく、これらの樹脂からなる部分
に酸化チタン膜又は酸化タンタル膜を形成することによ
り、膜被覆物品全体として安全なものとなる。また本発
明物品は、上記に若干既述したとおり、医療用物品の高
分子材料部分に紫外線遮断性膜を形成したものとするこ
とができる。これにより、該医療用物品は紫外線照射滅
菌可能なものとなる。医療用物品としては、具体的には
カテーテル等のチューブ類、義歯、コンタクトレンズ、
人工血管、各種インプラント等を例示できる。
【００１５】また前記課題を解決するために本発明は、
次の（ａ）及び（ｂ）の耐紫外線物品の製造方法を提供
する。 （ａ） 少なくとも表面の一部が高分子材料からなり、
該高分子材料からなる部分の表面の少なくとも一部に紫
外線遮断性能を有する物質からなる紫外線遮断性膜が形
成された耐紫外線物品の製造方法であって、該紫外線遮
断性膜を形成すべき前記高分子材料からなる部分表面
に、イオンを照射エネルギ０．０５ｋｅＶ以上２ｋｅＶ
以下で、１×１０13ｉｏｎｓ／ｃｍ2 以上５×１０17ｉ
ｏｎｓ／ｃｍ 2 以下照射した後、該面上に紫外線遮断性
膜を形成することを特徴とする耐紫外線物品の製造方
法。 （ｂ） 少なくとも表面の一部が高分子材料からなり、
該高分子材料からなる部分の表面の少なくとも一部に紫
外線遮断性能を有する物質からなる紫外線遮断性膜が形
成された耐紫外線物品の製造方法であって、該紫外線遮
断性膜を高分子材料からなる部分表面上に形成し、該膜
形成の初期に、該膜形成対象面にイオンを照射エネルギ
０．０５ｋｅＶ以上２ｋｅＶ以下で、１×１０13ｉｏｎ
ｓ／ｃｍ2以上５×１０17ｉｏｎｓ／ｃｍ2 以下照射す
ることを特徴とする耐紫外線物品の製造方法。
次の（ａ）及び（ｂ）の耐紫外線物品の製造方法を提供
する。 （ａ） 少なくとも表面の一部が高分子材料からなり、
該高分子材料からなる部分の表面の少なくとも一部に紫
外線遮断性能を有する物質からなる紫外線遮断性膜が形
成された耐紫外線物品の製造方法であって、該紫外線遮
断性膜を形成すべき前記高分子材料からなる部分表面
に、イオンを照射エネルギ０．０５ｋｅＶ以上２ｋｅＶ
以下で、１×１０13ｉｏｎｓ／ｃｍ2 以上５×１０17ｉ
ｏｎｓ／ｃｍ 2 以下照射した後、該面上に紫外線遮断性
膜を形成することを特徴とする耐紫外線物品の製造方
法。 （ｂ） 少なくとも表面の一部が高分子材料からなり、
該高分子材料からなる部分の表面の少なくとも一部に紫
外線遮断性能を有する物質からなる紫外線遮断性膜が形
成された耐紫外線物品の製造方法であって、該紫外線遮
断性膜を高分子材料からなる部分表面上に形成し、該膜
形成の初期に、該膜形成対象面にイオンを照射エネルギ
０．０５ｋｅＶ以上２ｋｅＶ以下で、１×１０13ｉｏｎ
ｓ／ｃｍ2以上５×１０17ｉｏｎｓ／ｃｍ2 以下照射す
ることを特徴とする耐紫外線物品の製造方法。
【００１６】本発明の前記（ｂ）の方法において、全体
のイオン照射量が５×１０17ｉｏｎｓ／ｃｍ2 以下にな
る範囲内であれば、膜形成に先立ち被成膜物品の膜形成
対象面にイオン照射し、その後引き続き膜形成の初期に
（例えば膜厚が１０ｎｍになるまでの間に）イオン照射
するようにしても構わない。従って、このことをまとめ
ると、少なくとも表面の一部が高分子材料からなり、該
高分子材料からなる部分の表面の少なくとも一部に紫外
線遮断性能を有する物質からなる紫外線遮断性膜が形成
された耐紫外線物品の製造方法であって、該紫外線遮断
性膜を該高分子材料からなる部分表面上に形成し、該膜
形成前から膜形成の初期にかけて又は該膜形成の初期
に、該膜形成対象面にイオンを照射エネルギ０．０５ｋ
ｅＶ以上２ｋｅＶ以下で、１×１０13ｉｏｎｓ／ｃｍ2
以上５×１０17ｉｏｎｓ／ｃｍ2 以下照射する耐紫外線
物品の製造方法と言える。
のイオン照射量が５×１０17ｉｏｎｓ／ｃｍ2 以下にな
る範囲内であれば、膜形成に先立ち被成膜物品の膜形成
対象面にイオン照射し、その後引き続き膜形成の初期に
（例えば膜厚が１０ｎｍになるまでの間に）イオン照射
するようにしても構わない。従って、このことをまとめ
ると、少なくとも表面の一部が高分子材料からなり、該
高分子材料からなる部分の表面の少なくとも一部に紫外
線遮断性能を有する物質からなる紫外線遮断性膜が形成
された耐紫外線物品の製造方法であって、該紫外線遮断
性膜を該高分子材料からなる部分表面上に形成し、該膜
形成前から膜形成の初期にかけて又は該膜形成の初期
に、該膜形成対象面にイオンを照射エネルギ０．０５ｋ
ｅＶ以上２ｋｅＶ以下で、１×１０13ｉｏｎｓ／ｃｍ2
以上５×１０17ｉｏｎｓ／ｃｍ2 以下照射する耐紫外線
物品の製造方法と言える。
【００１７】そしてこの場合、イオン照射は、形成され
る前記膜の厚さが１０ｎｍになるまでの間に行う場合を
例示できる。前記いずれの耐紫外線物品製造方法におい
ても、それ自体で紫外線遮断性能を有する物質からなる
紫外線遮断性膜は、物理的又は化学的な気相成長による
膜形成手法により高分子材料部分表面に密着性よく形成
できる。
る前記膜の厚さが１０ｎｍになるまでの間に行う場合を
例示できる。前記いずれの耐紫外線物品製造方法におい
ても、それ自体で紫外線遮断性能を有する物質からなる
紫外線遮断性膜は、物理的又は化学的な気相成長による
膜形成手法により高分子材料部分表面に密着性よく形成
できる。
【００１８】かかる気相成長法による膜形成としては、
被成膜物品の高分子材料部分に熱的損傷等の無視できな
い損傷を与えない方法であれば特に限定されず、真空蒸
着法、スパッタリング法、イオンプレーティング法（反
応性イオンプレーティング法、アークイオンプレーティ
ング法等）、各種ＣＶＤ法等のいずれでもよい。いずれ
の方法による場合も、膜組成を調整するために酸素ガス
雰囲気下で成膜を行うことができる。
被成膜物品の高分子材料部分に熱的損傷等の無視できな
い損傷を与えない方法であれば特に限定されず、真空蒸
着法、スパッタリング法、イオンプレーティング法（反
応性イオンプレーティング法、アークイオンプレーティ
ング法等）、各種ＣＶＤ法等のいずれでもよい。いずれ
の方法による場合も、膜組成を調整するために酸素ガス
雰囲気下で成膜を行うことができる。
【００１９】前記いずれの耐紫外線物品製造方法におい
ても、被成膜物品の高分子材料部分を紫外線遮断性能を
有する膜で被覆するため、該高分子材料の特性を損なう
ことなく紫外線照射による劣化が十分抑制された耐紫外
線物品を製造できる。また、前記（ａ）の方法による
と、紫外線遮断性膜の形成に先立ち被成膜物品の膜形成
面にイオンが照射されることにより該面が活性化される
ため、その後形成される膜と該面との密着性が向上す
る。このように、紫外線遮断性膜が剥がれ難くなるた
め、長期にわたり高分子材料部分の劣化が抑制された耐
紫外線物品が得られる。
ても、被成膜物品の高分子材料部分を紫外線遮断性能を
有する膜で被覆するため、該高分子材料の特性を損なう
ことなく紫外線照射による劣化が十分抑制された耐紫外
線物品を製造できる。また、前記（ａ）の方法による
と、紫外線遮断性膜の形成に先立ち被成膜物品の膜形成
面にイオンが照射されることにより該面が活性化される
ため、その後形成される膜と該面との密着性が向上す
る。このように、紫外線遮断性膜が剥がれ難くなるた
め、長期にわたり高分子材料部分の劣化が抑制された耐
紫外線物品が得られる。
【００２０】また前記（ｂ）等の方法によると、紫外線
遮断性膜形成の初期に該膜の形成とともに膜形成面にイ
オンを照射することにより、被成膜物品の膜形成対象面
が活性化されるとともに、該膜と膜形成面との界面部分
に該両者の混合層が形成されるため、膜密着性が向上す
る。このように、紫外線遮断性膜が剥がれ難くなるた
め、長期にわたり高分子材料部分の劣化が抑制された耐
紫外線物品が得られる。
遮断性膜形成の初期に該膜の形成とともに膜形成面にイ
オンを照射することにより、被成膜物品の膜形成対象面
が活性化されるとともに、該膜と膜形成面との界面部分
に該両者の混合層が形成されるため、膜密着性が向上す
る。このように、紫外線遮断性膜が剥がれ難くなるた
め、長期にわたり高分子材料部分の劣化が抑制された耐
紫外線物品が得られる。
【００２１】なお、高分子材料は比較的耐熱性が劣る材
料であるが、前記いずれの耐紫外線物品製造方法におい
ても、イオン照射を照射エネルギ２ｋｅＶ以下、照射量
５×１０17ｉｏｎｓ／ｃｍ2 以下で行うため、イオン照
射によって被成膜物品が加熱されてその特性が劣化する
ことは無い。仮にあったとしても無視できる程度であ
る。
料であるが、前記いずれの耐紫外線物品製造方法におい
ても、イオン照射を照射エネルギ２ｋｅＶ以下、照射量
５×１０17ｉｏｎｓ／ｃｍ2 以下で行うため、イオン照
射によって被成膜物品が加熱されてその特性が劣化する
ことは無い。仮にあったとしても無視できる程度であ
る。
【００２２】前記いずれの耐紫外線物品製造方法におい
ても、イオン照射エネルギを０．０５ｋｅＶ以上２ｋｅ
Ｖ以下とし、イオン照射量を１×１０13ｉｏｎｓ／ｃｍ
2 以上５×１０17ｉｏｎｓ／ｃｍ2 以下とするのは、次
の理由による。すなわち、イオン照射エネルギが０．０
５ｋｅＶより小さいと又はイオン照射量が１×１０13ｉ
ｏｎｓ／ｃｍ2 より少ないと、被成膜物品の膜形成面の
活性化或いはさらに前記混合層の形成が十分に行われな
いからである。また、イオン照射エネルギが２ｋｅＶよ
り大きいと又はイオン照射量が５×１０17ｉｏｎｓ／ｃ
ｍ2 より多いと、前述したようにイオン照射面に熱的損
傷等の損傷を与える恐れがあるからである。いずれの耐
紫外線物品製造方法においても、照射するイオンとして
は、膜の種類を問わず不活性ガス（ネオン、アルゴン、
クリプトン、キセノン等）等のイオンを用いることがで
きる。また、酸化チタン膜、酸化タンタル膜を形成する
場合、この他、酸素ガスイオン又は酸素ガスイオンと不
活性ガスイオンを混合したイオン等を用いることができ
る。
ても、イオン照射エネルギを０．０５ｋｅＶ以上２ｋｅ
Ｖ以下とし、イオン照射量を１×１０13ｉｏｎｓ／ｃｍ
2 以上５×１０17ｉｏｎｓ／ｃｍ2 以下とするのは、次
の理由による。すなわち、イオン照射エネルギが０．０
５ｋｅＶより小さいと又はイオン照射量が１×１０13ｉ
ｏｎｓ／ｃｍ2 より少ないと、被成膜物品の膜形成面の
活性化或いはさらに前記混合層の形成が十分に行われな
いからである。また、イオン照射エネルギが２ｋｅＶよ
り大きいと又はイオン照射量が５×１０17ｉｏｎｓ／ｃ
ｍ2 より多いと、前述したようにイオン照射面に熱的損
傷等の損傷を与える恐れがあるからである。いずれの耐
紫外線物品製造方法においても、照射するイオンとして
は、膜の種類を問わず不活性ガス（ネオン、アルゴン、
クリプトン、キセノン等）等のイオンを用いることがで
きる。また、酸化チタン膜、酸化タンタル膜を形成する
場合、この他、酸素ガスイオン又は酸素ガスイオンと不
活性ガスイオンを混合したイオン等を用いることができ
る。
【００２３】また、前記いずれの耐紫外線物品製造方法
においても、紫外線遮断性膜として、それには限定され
ないが、例えば酸化チタン膜又は酸化タンタル膜を形成
することができる。紫外線遮断性膜の膜厚については、
前記の耐紫外線物品で説明したと同様の膜厚とすること
ができる。
においても、紫外線遮断性膜として、それには限定され
ないが、例えば酸化チタン膜又は酸化タンタル膜を形成
することができる。紫外線遮断性膜の膜厚については、
前記の耐紫外線物品で説明したと同様の膜厚とすること
ができる。
【００２４】また、紫外線遮断性膜が酸化チタン膜又は
酸化タンタル膜である場合、これらの膜と被成膜物品の
高分子材料部分との間に中間膜としてチタン膜、タンタ
ル膜を形成してもよい。また、高分子材料の種類につい
ても、前記の耐紫外線物品で説明したと同様のものを採
用できる。
酸化タンタル膜である場合、これらの膜と被成膜物品の
高分子材料部分との間に中間膜としてチタン膜、タンタ
ル膜を形成してもよい。また、高分子材料の種類につい
ても、前記の耐紫外線物品で説明したと同様のものを採
用できる。
【００２５】例えば耐紫外線物品が医療用物品等である
ときは、中でも、安全性の点からフッ素樹脂、ケイ素樹
脂が好ましく、これらの樹脂からなる部分に酸化チタン
膜又は酸化タンタル膜を形成することにより、膜被覆物
品全体として人体に安全な耐紫外線物品を製造できる。
製造する物品の具体的なものとして、カテーテル等のチ
ューブ類、義歯、コンタクトレンズ、人工血管、各種イ
ンプラント等の医療用物品を例示できる。
ときは、中でも、安全性の点からフッ素樹脂、ケイ素樹
脂が好ましく、これらの樹脂からなる部分に酸化チタン
膜又は酸化タンタル膜を形成することにより、膜被覆物
品全体として人体に安全な耐紫外線物品を製造できる。
製造する物品の具体的なものとして、カテーテル等のチ
ューブ類、義歯、コンタクトレンズ、人工血管、各種イ
ンプラント等の医療用物品を例示できる。
【００２６】
【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態を図面
を参照して説明する。図１の図（Ａ）、（Ｂ）、（Ｃ）
は、それぞれ本発明の実施形態である耐紫外線物品の一
部の拡大断面図である。図（Ａ）に示す耐紫外線物品
は、ここでは全体が樹脂からなる被成膜物品（ここでは
包装用シート）Ｓの外表面Ｓ１に紫外線遮断性膜Ｍが形
成されたものである。この耐紫外線物品によると、紫外
線遮断性能のある膜Ｍが外表面Ｓ１上に形成されている
ため、外表面Ｓ１への紫外線照射による樹脂の劣化が十
分抑制されている。また、紫外線遮断性能のある物質が
膜Ｍとして被成膜物品Ｓの外側に付与されているため、
被成膜物品Ｓの樹脂の特性は損なわれない又は殆ど損な
われない。
を参照して説明する。図１の図（Ａ）、（Ｂ）、（Ｃ）
は、それぞれ本発明の実施形態である耐紫外線物品の一
部の拡大断面図である。図（Ａ）に示す耐紫外線物品
は、ここでは全体が樹脂からなる被成膜物品（ここでは
包装用シート）Ｓの外表面Ｓ１に紫外線遮断性膜Ｍが形
成されたものである。この耐紫外線物品によると、紫外
線遮断性能のある膜Ｍが外表面Ｓ１上に形成されている
ため、外表面Ｓ１への紫外線照射による樹脂の劣化が十
分抑制されている。また、紫外線遮断性能のある物質が
膜Ｍとして被成膜物品Ｓの外側に付与されているため、
被成膜物品Ｓの樹脂の特性は損なわれない又は殆ど損な
われない。
【００２７】また、図（Ｂ）に示す耐紫外線物品は、こ
こでは全体が樹脂からなる被成膜物品Ｓの外表面Ｓ１に
紫外線遮断性膜Ｍが形成され、膜Ｍと物品Ｓとの界面部
分に該両者の混合層ｍが形成されたものである。この耐
紫外線物品によると、混合層ｍの存在により、紫外線遮
断性膜Ｍの密着性が向上する。このように、該膜Ｍが剥
がれ難いため、外表面Ｓ１への紫外線照射による樹脂の
劣化が長期にわたり抑制されたものとなる。
こでは全体が樹脂からなる被成膜物品Ｓの外表面Ｓ１に
紫外線遮断性膜Ｍが形成され、膜Ｍと物品Ｓとの界面部
分に該両者の混合層ｍが形成されたものである。この耐
紫外線物品によると、混合層ｍの存在により、紫外線遮
断性膜Ｍの密着性が向上する。このように、該膜Ｍが剥
がれ難いため、外表面Ｓ１への紫外線照射による樹脂の
劣化が長期にわたり抑制されたものとなる。
【００２８】また、図（Ｃ）は医療用物品の１例である
樹脂製カテーテルＣＴの一部の断面を示しており、表周
面には紫外線遮断性膜Ｍが形成されている。なお、この
場合も混合層が形成されていてもよい。なお、ここでは
全体が樹脂からなる被成膜物品の外表面全体に紫外線遮
断性膜が形成された耐紫外線物品を示したが、被成膜物
品の一部に樹脂等の高分子材料部分があり、この高分子
材料部分に紫外線遮断性膜が形成されたものも考えられ
る。
樹脂製カテーテルＣＴの一部の断面を示しており、表周
面には紫外線遮断性膜Ｍが形成されている。なお、この
場合も混合層が形成されていてもよい。なお、ここでは
全体が樹脂からなる被成膜物品の外表面全体に紫外線遮
断性膜が形成された耐紫外線物品を示したが、被成膜物
品の一部に樹脂等の高分子材料部分があり、この高分子
材料部分に紫外線遮断性膜が形成されたものも考えられ
る。
【００２９】また、図２は、本発明方法による耐紫外線
物品の製造に用いることができる成膜装置の１例の概略
構成を示す図である。この装置は、真空排気装置１１を
接続した真空容器１を有しており、容器１内には被成膜
物品を支持するホルダ２が設置され、ホルダ２に対向す
る位置には蒸発源３及びイオン源４が設置されている。
また、ホルダ２の付近には、膜厚モニタ５及びイオン電
流測定器６が配置されている。
物品の製造に用いることができる成膜装置の１例の概略
構成を示す図である。この装置は、真空排気装置１１を
接続した真空容器１を有しており、容器１内には被成膜
物品を支持するホルダ２が設置され、ホルダ２に対向す
る位置には蒸発源３及びイオン源４が設置されている。
また、ホルダ２の付近には、膜厚モニタ５及びイオン電
流測定器６が配置されている。
【００３０】なお、被成膜物品の外表面全体にイオン照
射及び成膜を行う場合や、複雑な構造の被成膜物品の上
にイオン照射及び成膜を行う場合は、均一処理を行うた
めに、図２の装置のホルダ２を回転機構、歳差運動機構
等を備えたものとすればよい。この装置を用いて、本発
明の前記（ａ）の方法を実施するにあたっては、ここで
は全体が樹脂からなる被成膜物品Ｓを図示しない搬送装
置により真空容器１内に搬入し、ホルダ２に支持させ
る。次いで、排気装置１１の運転にて容器１内を所定真
空度とし、被成膜物品Ｓの膜形成面（紫外線照射を受け
る面）にイオン源２から、不活性ガスイオン（酸化チタ
ン膜、酸化タンタル膜を形成する場合は不活性ガスイオ
ン及び酸素ガスイオンでもよい。）のうちの少なくとも
１種のイオンを照射エネルギ０．０５ｋｅＶ以上２ｋｅ
Ｖ以下で、１×１０13ｉｏｎｓ／ｃｍ2 以上５×１０17
ｉｏｎｓ／ｃｍ2 以下照射する。次いで、蒸発源３から
紫外線遮断性膜の種類に応じた所定の蒸発物質を蒸発さ
せて、該イオン照射面に所定の膜厚になるまで所定の紫
外線遮断性膜を形成する。これにより、図１の図（Ａ）
に示すような耐紫外線物品が得られる。
射及び成膜を行う場合や、複雑な構造の被成膜物品の上
にイオン照射及び成膜を行う場合は、均一処理を行うた
めに、図２の装置のホルダ２を回転機構、歳差運動機構
等を備えたものとすればよい。この装置を用いて、本発
明の前記（ａ）の方法を実施するにあたっては、ここで
は全体が樹脂からなる被成膜物品Ｓを図示しない搬送装
置により真空容器１内に搬入し、ホルダ２に支持させ
る。次いで、排気装置１１の運転にて容器１内を所定真
空度とし、被成膜物品Ｓの膜形成面（紫外線照射を受け
る面）にイオン源２から、不活性ガスイオン（酸化チタ
ン膜、酸化タンタル膜を形成する場合は不活性ガスイオ
ン及び酸素ガスイオンでもよい。）のうちの少なくとも
１種のイオンを照射エネルギ０．０５ｋｅＶ以上２ｋｅ
Ｖ以下で、１×１０13ｉｏｎｓ／ｃｍ2 以上５×１０17
ｉｏｎｓ／ｃｍ2 以下照射する。次いで、蒸発源３から
紫外線遮断性膜の種類に応じた所定の蒸発物質を蒸発さ
せて、該イオン照射面に所定の膜厚になるまで所定の紫
外線遮断性膜を形成する。これにより、図１の図（Ａ）
に示すような耐紫外線物品が得られる。
【００３１】この方法によると、膜形成に先立ちイオン
照射を行うため、被成膜物品Ｓの膜形成面が活性化され
てその後形成する紫外線遮断性膜の被成膜物品Ｓとの密
着性が向上する。これにより、耐紫外線性能が長期にわ
たり維持された耐紫外線物品が得られる。なお、図１の
図（Ａ）の耐紫外線物品は、イオン照射を行わず、被成
膜物品に所定の蒸発物質を蒸着することのみによっても
形成することができる。
照射を行うため、被成膜物品Ｓの膜形成面が活性化され
てその後形成する紫外線遮断性膜の被成膜物品Ｓとの密
着性が向上する。これにより、耐紫外線性能が長期にわ
たり維持された耐紫外線物品が得られる。なお、図１の
図（Ａ）の耐紫外線物品は、イオン照射を行わず、被成
膜物品に所定の蒸発物質を蒸着することのみによっても
形成することができる。
【００３２】また、図２の装置を用いて、本発明の前記
（ｂ）の方法を実施するにあたっては、前記（ａ）の方
法の実施において、成膜前のイオン照射を行わず、イオ
ン照射を、蒸着により被成膜物品Ｓ上に膜が１０ｎｍ堆
積するまでの間に行う。その他は前記（ａ）の方法の実
施と同様である。これにより、図１の図（Ｂ）に示すよ
うな耐紫外線物品が得られる。
（ｂ）の方法を実施するにあたっては、前記（ａ）の方
法の実施において、成膜前のイオン照射を行わず、イオ
ン照射を、蒸着により被成膜物品Ｓ上に膜が１０ｎｍ堆
積するまでの間に行う。その他は前記（ａ）の方法の実
施と同様である。これにより、図１の図（Ｂ）に示すよ
うな耐紫外線物品が得られる。
【００３３】この方法によると、膜形成の初期に蒸着と
ともにイオン照射を行うため、被成膜物品と紫外線遮断
性膜との界面部分に混合層が形成されて、紫外線遮断性
膜の被成膜物品との密着性が向上する。これにより、耐
紫外線性能が長期にわたり維持された耐紫外線物品が得
られる。次に、図２の装置を用いた本発明方法実施の具
体例及びそれにより得られた耐紫外線物品について説明
する。 実施例１ ５×１０-5Ｔｏｒｒの真空度下で、ＰＴＦＥからなる被
成膜物品の紫外線被照射面に、Ａｒイオンを照射エネル
ギ０．５ｋｅＶで１×１０16ｉｏｎｓ／ｃｍ2照射した
後、酸化チタンを５００ｎｍの膜厚になるまで真空蒸着
した。 実施例２ ５×１０-5Ｔｏｒｒの真空度下で、ＰＣＴＦＥからなる
被成膜物品の紫外線照射面に、酸化チタンを５００ｎｍ
の膜厚になるまで蒸着した。このとき、膜厚が５ｎｍに
なるまでの間、酸化チタンの蒸着とともにＡｒイオンを
照射エネルギ０．５ｋｅＶで１×１０16ｉｏｎｓ／ｃｍ
2 照射した。 比較例１ 前記実施例１において、イオン照射エネルギを１０ｋｅ
Ｖとした他は実施例１と同様にして酸化チタン膜を５０
０ｎｍ形成した。 比較例２ 前記実施例１において、膜厚を１０μｍ（１００００ｎ
ｍ）とした他は実施例１と同様にして酸化チタン膜を形
成した。
ともにイオン照射を行うため、被成膜物品と紫外線遮断
性膜との界面部分に混合層が形成されて、紫外線遮断性
膜の被成膜物品との密着性が向上する。これにより、耐
紫外線性能が長期にわたり維持された耐紫外線物品が得
られる。次に、図２の装置を用いた本発明方法実施の具
体例及びそれにより得られた耐紫外線物品について説明
する。 実施例１ ５×１０-5Ｔｏｒｒの真空度下で、ＰＴＦＥからなる被
成膜物品の紫外線被照射面に、Ａｒイオンを照射エネル
ギ０．５ｋｅＶで１×１０16ｉｏｎｓ／ｃｍ2照射した
後、酸化チタンを５００ｎｍの膜厚になるまで真空蒸着
した。 実施例２ ５×１０-5Ｔｏｒｒの真空度下で、ＰＣＴＦＥからなる
被成膜物品の紫外線照射面に、酸化チタンを５００ｎｍ
の膜厚になるまで蒸着した。このとき、膜厚が５ｎｍに
なるまでの間、酸化チタンの蒸着とともにＡｒイオンを
照射エネルギ０．５ｋｅＶで１×１０16ｉｏｎｓ／ｃｍ
2 照射した。 比較例１ 前記実施例１において、イオン照射エネルギを１０ｋｅ
Ｖとした他は実施例１と同様にして酸化チタン膜を５０
０ｎｍ形成した。 比較例２ 前記実施例１において、膜厚を１０μｍ（１００００ｎ
ｍ）とした他は実施例１と同様にして酸化チタン膜を形
成した。
【００３４】次に、前記実施例１、２、比較例１、２に
より得られた各耐紫外線物品及び未処理のＰＴＦＥから
なる被成膜物品（比較例３）のそれぞれを、通常の滅菌
用の紫外線ランプ点灯下に１０日間放置し、その前後で
の表面の状態を走査型電子顕微鏡（ＳＥＭ）にて観察
し、紫外線照射による表面状態変化を評価した。また、
前記実施例１、２及び比較例１、２により得られた各耐
紫外線物品の膜の密着性をテープ引き剥がし試験により
評価した。結果を次表に示す。
より得られた各耐紫外線物品及び未処理のＰＴＦＥから
なる被成膜物品（比較例３）のそれぞれを、通常の滅菌
用の紫外線ランプ点灯下に１０日間放置し、その前後で
の表面の状態を走査型電子顕微鏡（ＳＥＭ）にて観察
し、紫外線照射による表面状態変化を評価した。また、
前記実施例１、２及び比較例１、２により得られた各耐
紫外線物品の膜の密着性をテープ引き剥がし試験により
評価した。結果を次表に示す。
【００３５】 表面観察 テープ引き剥がし試験 実施例１ 変化なし 剥離なし 実施例２ 変化なし 剥離なし 比較例１ 変化なし 剥離あり 比較例２ 変化なし 剥離あり 比較例３ 表面あれ発生 ─ この結果、高分子材料からなる被成膜物品の外表面に酸
化チタン膜を形成することにより紫外線に対する耐久性
が向上したことがわかる。また、イオン照射により膜密
着性を向上させるにあたり、照射エネルギを１０ｋｅＶ
という高いエネルギにすると、膜密着性が余り向上しな
いことが分かる。また、膜厚を１０μｍという大きいも
のにすると膜密着性が悪いことも分かる。
化チタン膜を形成することにより紫外線に対する耐久性
が向上したことがわかる。また、イオン照射により膜密
着性を向上させるにあたり、照射エネルギを１０ｋｅＶ
という高いエネルギにすると、膜密着性が余り向上しな
いことが分かる。また、膜厚を１０μｍという大きいも
のにすると膜密着性が悪いことも分かる。
【００３６】なお、前記比較例３では、紫外線照射によ
る表面あれが発生したが、ＰＴＦＥからなる被成膜物品
の紫外線照射前後の表面部分の組成をＸ線光電子分光分
析（ＸＰＳ）により調べたところ、紫外線照射によりフ
ッ素原子が減少していることが分かった。なお被成膜物
品がＰＴＦＥやＰＣＴＦＥ以外の樹脂からなる場合であ
っても、また、酸化チタン膜に代えて酸化タンタル膜を
形成してもこれらと同様の結果が得られる。
る表面あれが発生したが、ＰＴＦＥからなる被成膜物品
の紫外線照射前後の表面部分の組成をＸ線光電子分光分
析（ＸＰＳ）により調べたところ、紫外線照射によりフ
ッ素原子が減少していることが分かった。なお被成膜物
品がＰＴＦＥやＰＣＴＦＥ以外の樹脂からなる場合であ
っても、また、酸化チタン膜に代えて酸化タンタル膜を
形成してもこれらと同様の結果が得られる。
【００３７】
【発明の効果】本発明によると、少なくとも一部が高分
子材料からなる物品であって、該高分子材料本来の特性
が維持されているとともに、該高分子材料の紫外線によ
る劣化が十分抑制されている耐紫外線物品を提供するこ
とができる。また本発明によると、少なくとも一部が高
分子材料からなる物品であって、該高分子材料本来の特
性が維持されているとともに、該高分子材料の紫外線に
よる劣化が十分抑制されており、さらに安全性が高い耐
紫外線物品を提供することができる。
子材料からなる物品であって、該高分子材料本来の特性
が維持されているとともに、該高分子材料の紫外線によ
る劣化が十分抑制されている耐紫外線物品を提供するこ
とができる。また本発明によると、少なくとも一部が高
分子材料からなる物品であって、該高分子材料本来の特
性が維持されているとともに、該高分子材料の紫外線に
よる劣化が十分抑制されており、さらに安全性が高い耐
紫外線物品を提供することができる。
【００３８】また本発明によると、少なくとも一部が高
分子材料からなる物品であって、該高分子材料本来の特
性が維持されているとともに、該高分子材料の紫外線に
よる劣化が長期にわたり十分抑制される耐紫外線物品を
提供することができる。また本発明によると、少なくと
も一部が高分子材料からなる物品であって、該高分子材
料本来の特性が維持されているとともに、該高分子材料
の紫外線による劣化が長期にわたり十分抑制され、さら
に安全性が高い耐紫外線物品を提供することができる。
分子材料からなる物品であって、該高分子材料本来の特
性が維持されているとともに、該高分子材料の紫外線に
よる劣化が長期にわたり十分抑制される耐紫外線物品を
提供することができる。また本発明によると、少なくと
も一部が高分子材料からなる物品であって、該高分子材
料本来の特性が維持されているとともに、該高分子材料
の紫外線による劣化が長期にわたり十分抑制され、さら
に安全性が高い耐紫外線物品を提供することができる。
【００３９】さらに本発明によると、少なくとも一部が
高分子材料からなる物品であって、該高分子材料本来の
特性が維持されているとともに、該高分子材料の紫外線
による劣化が長期にわたり十分抑制される耐紫外線物品
の製造方法を提供することができる。また本発明による
と、少なくとも一部が高分子材料からなる物品であっ
て、該高分子材料本来の特性が維持されているととも
に、該高分子材料の紫外線による劣化が長期にわたり十
分抑制され、さらに安全性が高い耐紫外線物品の製造方
法を提供することができる。
高分子材料からなる物品であって、該高分子材料本来の
特性が維持されているとともに、該高分子材料の紫外線
による劣化が長期にわたり十分抑制される耐紫外線物品
の製造方法を提供することができる。また本発明による
と、少なくとも一部が高分子材料からなる物品であっ
て、該高分子材料本来の特性が維持されているととも
に、該高分子材料の紫外線による劣化が長期にわたり十
分抑制され、さらに安全性が高い耐紫外線物品の製造方
法を提供することができる。
【図１】図（Ａ）、図（Ｂ）、図（Ｃ）はそれぞれ本発
明の実施形態である耐紫外線物品の例の一部の拡大断面
図である。
明の実施形態である耐紫外線物品の例の一部の拡大断面
図である。
【図２】本発明方法の実施に用いることができる成膜装
置の１例の概略構成を示す図である。
置の１例の概略構成を示す図である。
１ 真空容器 １１ 真空排気装置 ２ 被成膜物品ホルダ ３ 蒸発源 ４ イオン源 ５ 膜厚モニタ ６ イオン電流測定器 Ｓ 被成膜物品 Ｓ１ 被成膜物品の膜形成面 Ｍ 紫外線遮断性膜 ｍ 混合層 ＣＴ カテーテル
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 ＦＩ Ｃ２３Ｃ 16/02 Ｃ２３Ｃ 16/02 (72)発明者 緒方 潔 京都市右京区梅津高畝町47番地 日新電機 株式会社内
Claims (8)
- 【請求項１】 少なくとも一部が高分子材料からなり、
該高分子材料からなる部分の表面の少なくとも一部に、
紫外線遮断性能を有する物質からなる紫外線遮断性膜が
形成されていることを特徴とする耐紫外線物品。 - 【請求項２】 前記紫外線遮断性膜が酸化チタン膜、酸
化タンタル膜から選ばれた１種の膜である請求項１記載
の耐紫外線物品。 - 【請求項３】 前記紫外線遮断性膜の膜厚が２０００ｎ
ｍ以下である請求項２記載の耐紫外線物品。 - 【請求項４】 前記高分子材料がフッ素樹脂、ケイ素樹
脂から選ばれた少なくとも一種の樹脂である請求項１、
２又は３記載の耐紫外線物品。 - 【請求項５】 医療用物品である請求項１から４のいず
れかに記載の耐紫外線物品。 - 【請求項６】 少なくとも表面の一部が高分子材料から
なり、該高分子材料からなる部分の表面の少なくとも一
部に紫外線遮断性能を有する物質からなる紫外線遮断性
膜が形成された耐紫外線物品の製造方法であって、該紫
外線遮断性膜を形成すべき前記高分子材料からなる部分
表面に、イオンを照射エネルギ０．０５ｋｅＶ以上２ｋ
ｅＶ以下で、１×１０13ｉｏｎｓ／ｃｍ2 以上５×１０
17ｉｏｎｓ／ｃｍ2 以下照射した後、該面上に紫外線遮
断性膜を形成することを特徴とする耐紫外線物品の製造
方法。 - 【請求項７】 少なくとも表面の一部が高分子材料から
なり、該高分子材料からなる部分の表面の少なくとも一
部に紫外線遮断性能を有する物質からなる紫外線遮断性
膜が形成された耐紫外線物品の製造方法であって、該紫
外線遮断性膜を該高分子材料からなる部分表面上に形成
し、該膜形成前から膜形成の初期にかけて又は該膜形成
の初期に、該膜形成対象面にイオンを照射エネルギ０．
０５ｋｅＶ以上２ｋｅＶ以下で、１×１０13ｉｏｎｓ／
ｃｍ2 以上５×１０17ｉｏｎｓ／ｃｍ2 以下照射するこ
とを特徴とする耐紫外線物品の製造方法。 - 【請求項８】 前記イオン照射は、形成される前記膜の
厚さが１０ｎｍになるまでの間に行う請求項７記載の耐
紫外線物品の製造方法。
Priority Applications (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10354051A JP3066863B2 (ja) | 1997-12-17 | 1998-12-14 | 耐紫外線物品の製造方法 |
| US09/212,381 US6103321A (en) | 1997-12-17 | 1998-12-16 | Method of manufacturing an ultraviolet resistant object |
Applications Claiming Priority (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP34766697 | 1997-12-17 | ||
| JP9-347666 | 1997-12-17 | ||
| JP10354051A JP3066863B2 (ja) | 1997-12-17 | 1998-12-14 | 耐紫外線物品の製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH11246690A true JPH11246690A (ja) | 1999-09-14 |
| JP3066863B2 JP3066863B2 (ja) | 2000-07-17 |
Family
ID=26578581
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP10354051A Expired - Fee Related JP3066863B2 (ja) | 1997-12-17 | 1998-12-14 | 耐紫外線物品の製造方法 |
Country Status (2)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US6103321A (ja) |
| JP (1) | JP3066863B2 (ja) |
Cited By (9)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2001260270A (ja) * | 2000-03-21 | 2001-09-25 | 邦明 ▲高▼松 | 紫外線遮断シート及び紫外線遮断シートの製造方法 |
| US6815037B2 (en) | 2001-09-19 | 2004-11-09 | Nippon Mitsubishi Oil Corporation | Carrier member made of a UV resistant fiber-reinforced composite material and process for producing thereof |
| JP2007526147A (ja) * | 2004-03-02 | 2007-09-13 | イスト・イオーネンシュトラールテヒノロギー・ゲゼルシャフト・ミト・ベシュレンクテル・ハフツング | 接合複合体およびその製造方法 |
| WO2010026887A1 (ja) * | 2008-09-05 | 2010-03-11 | 株式会社シンクロン | 成膜方法及び撥油性基材 |
| WO2010041524A1 (ja) * | 2008-10-09 | 2010-04-15 | 株式会社シンクロン | 成膜方法 |
| JP2010232569A (ja) * | 2009-03-30 | 2010-10-14 | Lintec Corp | 太陽電池モジュール用保護シート及び太陽電池モジュール |
| JP2011510173A (ja) * | 2008-01-18 | 2011-03-31 | サンドビック インテレクチュアル プロパティー アクティエボラーグ | コーティングされた医療用骨インプラントを製造する方法およびそれにより製造した医療用骨インプラント |
| KR101220431B1 (ko) * | 2010-12-30 | 2013-01-10 | 한국원자력연구원 | 고분자 소재의 내광성 향상방법 |
| JP2020032717A (ja) * | 2018-06-13 | 2020-03-05 | ザ・ボーイング・カンパニーＴｈｅ Ｂｏｅｉｎｇ Ｃｏｍｐａｎｙ | Ｕｖ放射から表面を保護するためのシステム及び方法 |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR100730343B1 (ko) * | 2006-11-21 | 2007-06-19 | 주식회사 레이 | 덴탈 ｃｔ를 이용한 인공치아 제조방법 및 장치 |
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2692187B2 (ja) * | 1988-11-02 | 1997-12-17 | 凸版印刷株式会社 | 透明防湿包装材 |
| JPH05179034A (ja) * | 1991-11-28 | 1993-07-20 | Japan Synthetic Rubber Co Ltd | 基材の表面処理方法 |
| JPH05209072A (ja) * | 1992-01-29 | 1993-08-20 | Japan Synthetic Rubber Co Ltd | 基材の表面処理方法 |
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| JPH09142539A (ja) * | 1995-11-14 | 1997-06-03 | Toppan Printing Co Ltd | 紫外線遮断性包装材料 |
| JPH10316780A (ja) * | 1997-05-16 | 1998-12-02 | Plast Gijutsu Shinko Center | プラスチック成形品への硬質薄膜形成方法およびその製品 |
-
1998
- 1998-12-14 JP JP10354051A patent/JP3066863B2/ja not_active Expired - Fee Related
- 1998-12-16 US US09/212,381 patent/US6103321A/en not_active Expired - Fee Related
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| US6815037B2 (en) | 2001-09-19 | 2004-11-09 | Nippon Mitsubishi Oil Corporation | Carrier member made of a UV resistant fiber-reinforced composite material and process for producing thereof |
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| WO2010026887A1 (ja) * | 2008-09-05 | 2010-03-11 | 株式会社シンクロン | 成膜方法及び撥油性基材 |
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