JPH09283477A

JPH09283477A - 基板処理装置

Info

Publication number: JPH09283477A
Application number: JP8824796A
Authority: JP
Inventors: Mitsuaki Yoshitani; 光明芳谷
Original assignee: Dainippon Screen Manufacturing Co Ltd
Current assignee: Dainippon Screen Manufacturing Co Ltd
Priority date: 1996-04-10
Filing date: 1996-04-10
Publication date: 1997-10-31

Abstract

(57)【要約】【課題】設備の大型化を抑えた上で、基板の主面の処
理液の置換を確実に行わせ得るようにする。【解決手段】搬送中の基板Ｂの表裏面に洗浄水Ｌを供
給して所定の処理を施す基板Ｂ処理装置において、搬送
中の基板Ｂの少なくとも裏面に幅方向に向けて一方の側
端縁から洗浄水Ｌを吐出する下部処理液吐出手段６ｂ
と、この下部処理液吐出手段６ｂから吐出された洗浄水
Ｌに基板Ｂを幅方向に横断し得る圧力を付与する昇圧手
段とを備えている。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、フォトレジスト塗
布液、感光性ポリイミド樹脂、カラーフィルター用の染
色剤等からなる薄膜が表面に形成された液晶用のガラス
基板、フォトマスク用のガラス基板等を対象とし、これ
ら基板の主面に所定の処理液を供給することによって処
理する基板処理装置に関するものである。

【０００２】

【従来の技術】従来、前工程で所定の処理が施された基
板に薬液を供給した後、洗浄水による洗浄処理を施して
から後工程に搬送するようにした基板処理装置が知られ
ている。かかる基板処理装置は、薬液処理部、水洗部お
よび乾燥部が直列に配設されて形成されている。これら
薬液処理部、水洗部および乾燥部を貫通するように基板
の搬送手段が敷設され、基板はこの搬送手段によって基
板処理装置内を薬液処理部、水洗部および乾燥部の順に
搬送されつつ処理される。

【０００３】そして基板は、薬液処理部においてアルカ
リ洗浄液、現像液、エッチング液あるいは剥離液等の薬
液が表裏面に供給されて所定の処理が施され、ついで水
洗部において水洗処理が施され、最後に乾燥部において
気体の噴射等による乾燥処理が行われるようになってい
る。

【０００４】ところで、薬液処理部で薬液による所定の
処理が施された基板は、その表裏面に薬液が付着した状
態になっているため、そのまま薬液処理部から水洗部に
移されると、水洗部内に薬液が持ち込まれることにな
り、循環使用される洗浄水が薬液の混入によって汚染さ
れ、洗浄水の水質が悪化するという不都合が生じる。

【０００５】そこで、通常、薬液処理部と水洗部との境
界部分にエアーナイフが配設され、その気体吐出口から
基板の表裏面に向けてカーテン状の気体を吹き付け、基
板の表裏面に付着している薬液を、基板の表裏面が乾燥
しない程度に薬液処理部内に向けて吹き飛ばし、これに
よって薬液の水洗部への持ち込みを防止するようにして
いる。

【０００６】また、水洗部においては、第１の水洗部と
第２の水洗部とによる少なくとも２段階の水洗処理が施
され、水洗処理の完全を期すようになされている。

【０００７】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、近年、
基板の大型化に伴い、基板の上流側が第１の水洗部で第
１の洗浄水の供給を受けつつ下流側が第２の水洗部で第
２の洗浄水の供給を受けるという工程の重複が生じるよ
うになり、基板の上流側には第１の洗浄水が、下流側に
は第２の洗浄水が同時に供給された状態になるため、基
板の主面を通って第１の洗浄水が第２の水洗部に入り込
んだり、逆に第２の洗浄水が第１の水洗部に移動したり
することがあり、境界部分において洗浄水の確実な置換
が行われなくなるという問題点が発生するようになっ
た。特に、基板表面側は、供給された洗浄液により基板
上に液流が形成されるので、基板裏面側に比べれば効率
よく洗浄液の液置換が行われるものの、基板の裏面側に
おいては、洗浄液の噴射面では液置換が行われるもの
の、噴射面以外の部分では供給された洗浄液が下方へ落
下してしまうため、基板表面のように液流が形成されな
いため効率のよい液置換が行えない。

【０００８】かかる問題点を解消するために、第１の水
洗部および第２の水洗部との間に未処理搬送部を設け、
基板が第１の水洗部と第２の水洗部との境界部分に差し
掛かった状態では、第１の洗浄水および第２の洗浄水の
いずれもが基板に供給されないようにすることが考えら
れるが、このようにするためには、水洗部を延長して基
板裏面側の洗浄液噴射領域を確保せねばならず、基板の
大型化とともに水洗部大型化の原因となり、設備コスト
が嵩むという新たな問題点が発生するとともに、従来と
同様に基板裏面側は液置換性が悪いという問題点は残
る。そこで、第１の水洗部と第２の水洗部との境界部分
にエアーナイフを設け、エアーナイフからの気流を第１
水洗部と第２水洗部との境界部分に噴射することも考え
られるが、上記境界部分でエアーナイフから基板の表面
に吐出される気体により基板の表面が乾燥してしまうこ
とがあり、基板の表面が乾燥すると、その部分にシミが
生じる。そして、このシミは水洗処理によっても取り除
くことができず、最終的に基板が乾燥処理された後に、
このシミからパーティクルが発生し、これによって基板
の表面が再汚染されるという問題点も有している。

【０００９】本発明は、上記のような問題点を解決する
ためになされたもので、装置の大型化を抑えた上で、処
理槽内での基板の搬送時に、特に基板の裏面の処理液の
置換を確実に行わせ得る基板処理装置を提供することを
目的としている。

【００１０】

【課題を解決するための手段】請求項１記載の発明は、
搬送中の基板の表裏面に処理液を供給して所定の処理を
施す基板処理装置において、搬送中の基板に対し、搬送
方向と交差する幅方向の一方側端縁より他方側端縁に向
けて斜め下方から処理液を吐出する裏面側処理液吐出手
段を備えたことを特徴とするものである。

【００１１】この発明によれば、裏面側処理液吐出手段
により搬送中の基板の裏面に向けて斜め下方から吐出さ
れた処理液は、基板の裏面を一方の側端縁から這うよう
に幅方向に進み、これによって基板の裏面に付着してい
た前工程の処理液がこの工程の処理液に置換されるとと
もに、基板の裏面はこの工程の処理液によって処理され
る。

【００１２】そして、処理液の液流が横断した後の基板
の裏面は、基板の搬送方向への移動によって処理液の薄
層が形成された状態になっているため、気流による基板
裏面の部分乾燥が起こらず、部分乾燥に起因したパーテ
ィクルの発生が防止される。

【００１３】請求項２記載の発明は、請求項１記載の発
明において、上記裏面側処理液吐出手段は、基板搬送方
向に長尺のスリット状の吐出口を有していることを特徴
とするものである。

【００１４】この発明によれば、吐出口から帯状に処理
液が吐出されるため、基板の裏面は帯状の液流に曝さ
れ、均一に処理される。

【００１５】請求項３記載の発明は、請求項１または２
記載の発明において、上記裏面側処理液吐出手段は、上
記吐出口から吐出された処理液が基板の裏面を伝わって
少なくとも基板の搬送方向と交差する幅方向の他方側端
縁まで届くのに必要な吐出圧を付与する吐出圧付与手段
を備えているものであることを特徴とするものである。

【００１６】この発明によれば、基板の裏面の一方の側
縁部に吐出された処理液は、基板の裏面を伝わって幅方
向に横断し、他方の側端縁にまで到達する。

【００１７】請求項４記載の発明は、請求項１乃至３の
いずれかに記載の発明において、搬送中の基板に対し、
搬送方向と交差する幅方向の一方側端縁に向けて斜め上
方から処理液を吐出する表面側処理液吐出手段を備えた
ことを特徴とするものである。

【００１８】この発明によれば、基板の表面側の一方の
側端縁に斜めに吐出された処理液は、基板の表面を横断
して他方の側端縁に到達する。

【００１９】請求項５記載の発明は、請求項１乃至４の
いずれかに記載の発明において、基板搬送方向と交差す
る向きに配設され、かつ、上記表面側および／または裏
面側処理液吐出手段の処理液吐出域に処理液を供給する
処理液供給手段を備えたことを特徴とするものである。

【００２０】この発明によれば、処理液吐出手段からの
処理液の吐出によって基板の主面上で形成した液流に、
さらに処理液供給手段からの処理液が重ねて供給される
ことになり、これによって基板主面上に乱流が発生する
ため、この乱流による撹拌で基板主面に対する処理液の
接触状態が良好になり、基板主面の処理効率が向上す
る。

【００２１】特に、基板処理装置が洗浄処理を行うもの
である場合には、上記処理液供給手段から供給された処
理液が基板の主面に衝突する際の衝撃効果により基板の
主面に付着しているパーティクルの除去が容易となり、
洗浄効果が向上する。

【００２２】

【発明の実施の形態】図１は、本発明に係る基板処理装
置が適用された基板処理装置群の一実施形態を示す説明
図である。基板処理装置群１は、基板の主面に所定の薬
液を供給して処理する薬液処理部１ａ、この薬液処理部
１ａで薬液処理の施された基板Ｂに第１次の水洗処理を
施す第１次水洗部２、この第１次水洗部２で水洗された
基板Ｂに第２次の水洗処理を施す第２次水洗部３、およ
びこの第２次水洗部３で水洗処理の施された基板Ｂを乾
燥する乾燥部４が上流側（図１の左方）から直列に順次
配設されて形成されている。

【００２３】薬液処理部１ａ、第１次水洗部２、第２次
水洗部３および乾燥部４は、それぞれ箱型の薬液処理槽
１ｂ、第１次水洗槽２１、第２次水洗槽３１および乾燥
槽４１を備えて形成されている。各槽１ｂ，２１，３
１，４１の上流壁および下流壁には水平方向で互いに対
向した基板通過口１１が開口され、この基板通過口１１
を通して基板Ｂが各槽１ｂ，２１，３１，４１に入出さ
れるようになっている。

【００２４】基板Ｂを各槽１ｂ，２１，３１，４１内で
搬送する搬送手段としてはローラコンベアが適用されて
いる。このローラコンベアは、基板Ｂの搬送方向と直交
する向きの支持軸に設けられた搬送ローラ５が搬送方向
（図１の右方）に向けてほぼ等ピッチで並設配置されて
おり、図略の駆動手段の駆動によって同一方向に同期回
転されるようになっている。

【００２５】基板Ｂは、前工程からコンベアあるいはロ
ボット等による図略の上流側引継ぎ手段を介して薬液処
理槽１ｂの上流側に配設された搬送ローラ５に移され
る。ついで搬送ローラ５の駆動によって基板処理装置群
１内に導入され、ここで搬送ローラ５によって搬送方向
（図１の右方）に向けて搬送されつつ薬液処理槽１ｂ内
において薬液処理され、第１次水洗槽２１内において処
理液吐出手段６からの洗浄水の供給による１次洗浄処理
が施され、ついで第２次水洗槽３１内において処理液吐
出手段６や純水供給ノズル３２等からの洗浄水の供給に
よる２次水洗処理が施され、最後の乾燥槽４１において
エアナイフ４２からの気体噴射供給による乾燥処理が施
された後、乾燥槽４１の直ぐ下流側に配設された搬送ロ
ーラ５に導出され、ロボット等からなる図略の下流側引
継ぎ手段を介して次工程に向けて導出されるようになっ
ている。

【００２６】上記各槽１ｂ，２１，３１，４１内におい
ては、上記各搬送ローラ５はその軸心が基板Ｂの搬送方
向に対して直交する水平方向に延びるように配設されて
おり、これによって基板Ｂは各槽１ｂ，２１，３１，４
１内において水平姿勢で搬送方向に搬送されつつ処理さ
れる。

【００２７】本発明に係る基板処理装置１０は、本実施
形態においては上記第２次水洗部３の一部および第１次
水洗部２に適用されている。以下本発明に係る基板処理
装置１０が第１次水洗部２に適用されたもので説明す
る。図２は、第１次水洗槽２１の一実施形態を示す一部
切欠き斜視図である。この図に示すように、第１次水洗
槽２１内には、上流側および下流側の基板通過口１１間
に、同一高さレベルで搬送方向（右方）に向かって５本
の搬送ローラ５が配設され、図略の駆動手段による各搬
送ローラ５の同一方向の同期回転によって、上流側の基
板通過口１１から第１次水洗槽２１内に導入された基板
Ｂは、下流側の基板通過口１１に向けて第１次水洗槽２
１内を搬送されるようになっている。

【００２８】上記搬送ローラ５は、第１次水洗槽２１内
の側壁間に自軸心回りに回転可能に架橋されたローラ軸
５１と、このローラ軸５１の左右両側部にローラ軸５１
と共回り可能に設けられた左右一対の側部ローラ５２
と、ローラ軸５１の中央部に設けられた中央ローラ５３
とから形成された、いわゆる部分支持型ローラが採用さ
れている。かかる部分支持型ローラを適用することによ
り、搬送ローラ５による基板Ｂ裏面の接触域を少なく
し、基板Ｂ裏面への洗浄水供給を良好に行い得るととも
に、洗浄工程や乾燥工程における搬送ローラ５と基板Ｂ
裏面との接触による汚染を最小限に抑えることが可能に
なる。

【００２９】上記左右の側部ローラ５２は、各々その外
方側部に鍔部５２ａを有しており、この鍔部５２ａによ
って各ローラ５２，５３上に載置され、搬送される基板
Ｂの横ずれを防止している。また、各ローラ５２，５３
にはゴム等の柔軟性材料からなる滑り止めとしてＯリン
グ５４が外嵌されており、このＯリング５４の滑り止め
作用によって基板Ｂの搬送を確実に行い得るようにして
いる。

【００３０】第１次水洗槽２１内には、搬送方向の略中
央部であって、搬送ローラ５の上方位置の一方の側壁
（図２では左方の側壁）に同一高さレベルで一対の上部
ブラケット２５が設けられ、これら上部ブラケット２５
間に一つの処理液吐出手段６（上部処理液吐出手段６
ａ）が取り付けられている。また、搬送ローラ５の下方
の一方の側壁には、第１次水洗槽２１内の基板搬送方向
中央部に設けられた搬送ローラ５を避けるように二対の
下方ブラケット２６が設けられ、各下方ブラケット２６
間に一対の処理液吐出手段６（下部処理液吐出手段６
ｂ）が取り付けられている。

【００３１】上記上部処理液吐出手段６ａは、基板搬送
方向に延びる洗浄水吐出口６５（図３）が搬送方向と交
差する基板Ｂ幅方向の一方の側端縁に斜めに対向するよ
うに角度設定され、これによって洗浄水吐出口６５から
の液流が基板Ｂの他方の側端縁に向かうようにブラケッ
ト２５に取り付けられているとともに、一対の下部処理
液吐出手段６ｂは、基板搬送方向に延びる吐出口が、基
板Ｂの一方の裏面側端縁に斜めに対向し、吐出液が基板
Ｂの裏面に向かうように各下方ブラケット２６に取り付
けられている。

【００３２】そして、基板Ｂが搬送ローラ５により第１
次水洗槽２１（図２）内に導入された状態で基板Ｂの表
裏面を横断するように処理液吐出手段６から吐出された
洗浄水Ｌの液流による洗浄水吐出域Ａが形成されるよう
にしている。

【００３３】一方、第１次水洗槽２１の近傍には上記処
理液吐出手段６に供給するための洗浄水Ｌを貯留する洗
浄水貯留槽２２（図２）が配設されている。この洗浄水
貯留槽２２と上記処理液吐出手段６との間に洗浄水管路
２２ａが配設されているとともに、第１次水洗槽２１の
底部と洗浄水貯留槽２２の上部との間には洗浄水戻り管
路２２ｂが配設され、これら洗浄水管路２２ａおよび洗
浄水戻り管路２２ｂによって洗浄水貯留槽２２内の洗浄
水Ｌを処理液吐出手段６を介して循環させる循環管路が
形成されている。

【００３４】また、上記洗浄水貯留槽２２の直ぐ下流側
の洗浄水管路２２ａには洗浄水ポンプ２３が設けられて
いるとともに、洗浄水ポンプ２３の直ぐ下流側にはフィ
ルター２４が設けられている。従って、洗浄水ポンプ２
３を駆動することにより、洗浄水貯留槽２２内の洗浄水
Ｌは、洗浄水管路２２ａを通してまずフィルター２４で
清浄化され、ついで上部処理液吐出手段６ａから搬送ロ
ーラ５上の基板Ｂの表面に向けて吐出されるとともに、
一対の下部処理液吐出手段６ｂから基板Ｂの裏面に向け
て吐出され、基板Ｂの表裏面に所定の処理を施した後、
基板Ｂの側部から第１次水洗槽２１の底部に流下し、洗
浄水戻り管路２２ｂを介して洗浄水貯留槽２２に戻さ
れ、以後、循環使用される。

【００３５】そして、洗浄水ポンプ２３は高圧の液を吐
出するいわゆる高圧ポンプが採用され、これによって処
理液吐出手段６からは高圧の洗浄水Ｌが基板Ｂの表裏面
に向けて吐出されるようにしている。本実施形態におい
ては、洗浄水Ｌは洗浄水ポンプ２３によって２〜１０kg
f／cm²Gに圧力設定されている。

【００３６】洗浄水Ｌの圧力を２〜１０kgf／cm²Gの範
囲内に設定することにより、２kgf／cm²G未満である
と、下部処理液吐出手段６ｂからの洗浄水Ｌの吐出圧力
が低すぎ、基板Ｂの裏面左側端縁に供給された洗浄水Ｌ
が、裏面右側端縁に到達するまでに落下し、基板Ｂの裏
面が完全に洗浄処理し得なくなるという不都合が解消さ
れるとともに、１０kgf／cm²Gを越えると、洗浄水Ｌの
圧力が高すぎることにより、洗浄水ポンプ２３、洗浄水
貯留槽２２および処理液吐出手段６を特別の高圧仕様に
しなければならず、設備コストが嵩むという不都合が解
消される。

【００３７】因に、実際の洗浄水Ｌの吐出圧力は、上記
範囲内において、基板Ｂのサイズ、基板Ｂの搬送速度、
洗浄水Ｌの粘度、および洗浄水Ｌの吐出量等が勘案さ
れ、下部処理液吐出手段６ｂから吐出された洗浄水Ｌが
基板Ｂの裏面の一方側端縁から他方側端縁に到達し得る
値に設定される。

【００３８】図３は、処理液吐出手段６の一実施形態を
示す一部切欠き斜視図である。処理液吐出手段６は、基
板搬送方向に延びる長尺直方体状の吐出手段本体６１
と、この吐出手段本体６１の下部から延設された先細り
のノズル部６２とを備えて形成されている。上記吐出手
段本体６１は、内部に基板搬送方向に延びる洗浄水供給
管路６３を有しているとともに、吐出手段本体６１の側
面に雄ネジの螺設された接続筒６４を有している。この
接続筒６４に洗浄水管路２２ａの下流端に設けられたジ
ョイント２２ｃが螺着されることにより、洗浄水管路２
２ａが処理液吐出手段６に接続されるようになってい
る。

【００３９】また、上記ノズル部６２には、洗浄水供給
管路６３に連通した基板搬送方向に延びるスリット状の
洗浄水吐出口６５が設けられており、洗浄水管路２２ａ
を通して洗浄水供給管路６３に供給された洗浄水Ｌは、
洗浄水吐出口６５から基板Ｂ上に供給される。

【００４０】上記ブラケット２５，２６の互いに対向し
た面には、互いに対向するように円柱状の支持ロッド２
５ａが一体に突設されている一方、吐出手段本体６１の
幅方向両側部には上記各支持ロッド２５ａに外嵌する一
対の外嵌筒６１ａが一体に突設され、左右の外嵌筒６１
ａがそれぞれに対応した支持ロッド２５ａに外嵌される
ことによって処理液吐出手段６が支持ロッド２５ａの軸
心回りに回動可能になっている。

【００４１】そして、上記各外嵌筒６１ａには、外周面
から筒内に向けて貫通した締結ネジ６１ｂが螺着されて
おり、この締結ネジ６１ｂを締結することによって処理
液吐出手段６の支持ロッド２５ａ回りの回動が固定され
るようにしている。従って、締結ネジ６１ｂを弛めた状
態で処理液吐出手段６を支持ロッド２５ａ回りに回動さ
せ、処理液吐出手段６が所望の傾斜姿勢になった時点で
締結ネジ６１ｂを締め付けることにより、上記設定され
た処理液吐出手段６の傾斜角度が固定される。

【００４２】上記各処理液吐出手段６の水平面に対する
傾斜角度は、５°〜８０°の範囲内の角度に設定されて
いる。上記傾斜角度を５°〜８０°に設定したのは、傾
斜角度が５°未満であると、液噴射口４３ａから噴射さ
れた噴射液流が基板Ｂの表面をなでるようにして通過し
てしまうため、基板Ｂの表面に付着している異物を確実
に除去することができない場合が生じる。また、傾斜角
度が８０°を越えると、基板Ｂの表裏面に吐出された洗
浄水Ｌが吐出点から跳ね返るため、吐出された洗浄水Ｌ
の全量を基板Ｂに横断させることができなくなり、洗浄
水Ｌが無駄になるからである。ちなみに、本実施形態に
おいては上記傾斜角度は略３０°に設定されている。

【００４３】図４は、処理液吐出手段６から吐出された
洗浄水Ｌの基板表裏面における流れを示す側面視の説明
図である。図４に示すように、上部処理液吐出手段６ａ
および下部処理液吐出手段６ｂから基板Ｂの左側端縁の
表裏面に高圧で供給された洗浄水Ｌは、基板Ｂの表裏面
を速い液流になって右側端縁に向かって流れ、これによ
って基板Ｂの表裏面が洗浄処理される。そして、下部処
理液吐出手段６ｂから吐出される洗浄水Ｌは、上記のよ
うに高圧に設定されているため、基板Ｂの裏面を左側端
縁から右側端縁に向けて途中で落下することなく横断
し、基板Ｂの裏面を洗浄処理する。

【００４４】図５は、本発明の作用を説明するための説
明図であり、（イ）は基板Ｂの搬送方向下流側の先端部
が洗浄水吐出域Ａに侵入した直後の状態、（ロ）は基板
Ｂの基板搬送方向の中央部が洗浄水吐出域Ａに位置した
状態、（ハ）は基板Ｂが洗浄水吐出域Ａから導出された
状態をそれぞれ示している。

【００４５】まず、図５の（イ）に示すように、搬送ロ
ーラ５の駆動により上流側（左方）の基板通過口１１を
介して第１次水洗槽２１内に導入され、洗浄水吐出域Ａ
に侵入した基板Ｂは、その下流側先端部に洗浄水ポンプ
２３（図１、図２）の駆動で洗浄水管路２２ａを通して
処理液吐出手段６の洗浄水吐出口６５から吐出された洗
浄水Ｌが基板Ｂを幅方向に横断（図５の紙面の表裏方
向）し、これによって基板Ｂの先端側の表裏面が洗浄処
理される。

【００４６】ついで、図５の（ロ）に示すように、搬送
ローラ５の駆動によって基板Ｂの中央部が洗浄水吐出域
Ａに位置した状態になると、処理液吐出手段６から吐出
された洗浄水Ｌは、基板Ｂの中央部（洗浄水吐出域Ａ）
に供給され、これによって基板Ｂの中央部が洗浄処理さ
れる。

【００４７】洗浄水吐出域Ａにおいて基板Ｂ上に供給さ
れた洗浄水Ｌは、高圧で処理液吐出手段６から吐出され
ているため、高速で基板Ｂの表裏面を横断し、洗浄水吐
出域Ａを通過した基板Ｂの表裏面には、洗浄水Ｌが極め
て薄い薄膜状態で残留するのみの状態になっている。

【００４８】そして、図５の（ハ）に示すように、搬送
ローラ５の駆動で基板Ｂが完全に洗浄水吐出域Ａから外
れた状態になると、基板Ｂの表裏面はすでに洗浄水Ｌに
よる洗浄処理が完了し、かつ、基板Ｂの表裏面には極め
て薄い薄膜状態の洗浄水Ｌが存在するのみの液切れ状態
になっているため、次工程である第２次水洗部３（図
１）での水洗処理時に洗浄水Ｌの第２次水洗部３への混
入量を最小限に抑えることができるとともに、基板Ｂの
表裏面が部分乾燥することによる洗浄水Ｌに起因したパ
ーティクルの発生を確実に抑制することが可能になる。

【００４９】図６は、上部処理液吐出手段６ａに散水配
管（処理液供給手段）６０が付加された状態を示す斜視
図である。この実施形態においては、図２に示す実施形
態の第１次水洗槽２１がベースとして採用され、その基
板搬送方向の中央部に、搬送中の基板の上部を横断する
ように散水配管６０が設けられている。この散水配管６
０は、下面部に長手方向に亘って配列された複数の散水
ノズル６０１を有している。この散水ノズル６０１とし
ては、コーンノズルや扇形ノズル等の通常のスプレーノ
ズルが採用されている。

【００５０】そして、散水配管６０からは、散水ノズル
６０１を介して洗浄水吐出域Ａに向けて洗浄水Ｌが供給
されるようになっている。その他は、先の第１次水洗槽
２１と同一構成である。

【００５１】上記ような散水配管６０を処理液吐出手段
６に追加することにより、処理液吐出手段６から吐出さ
れる洗浄水Ｌに加え、散水配管６０からも洗浄水Ｌ１が
基板Ｂの表面に供給されるため、基板Ｂの表面上での洗
浄水Ｌの流れに乱流が生じ、乱流による混合で洗浄水Ｌ
と基板Ｂ主面との接触状態が均一になるとともに、散水
配管６０から供給される洗浄水Ｌの基板Ｂ主面への衝突
による衝撃によってパーティクルの除去が容易になり、
洗浄効率を向上させることができる。

【００５２】図７は、基板Ｂが傾斜姿勢で搬送される場
合に、処理液吐出手段６から洗浄水Ｌが供給された状態
を示す側面視の説明図である。この実施形態において
は、基板Ｂは、基板搬送方向と交差する面内で所定角度
傾斜して搬送される。基板Ｂを傾斜姿勢で搬送するため
に、搬送ローラ５（図２）は基板処理装置群１（図１）
において基板搬送方向と交差する面内で所定角度傾斜し
て配設されている。

【００５３】そして、傾斜姿勢で搬送中の基板Ｂの上位
側表裏面に向けて上部処理液吐出手段６ａおよび下部処
理液吐出手段６ｂから洗浄水Ｌが吐出されるようにして
いる。これによって基板Ｂの表裏面に上位側から下位側
に向かう液流が形成され、基板Ｂの表裏面が洗浄処理さ
れるようになっている。

【００５４】このように、基板Ｂを傾斜姿勢で搬送する
ことにより、処理液吐出手段６から吐出された洗浄水Ｌ
は基板Ｂの傾斜に沿って流下するため、基板Ｂを水平姿
勢で搬送する場合に比べて液流がより高速になり、その
分洗浄処理が良好に行われることになる。なお、図７に
は図示していないが、図６に示すような散水配管６０を
併用するようにしてもよい。

【００５５】本発明は、上記の実施形態に限定されるも
のではなく、以下の内容をも包含するものである。

【００５６】（１）上記の実施形態においては、基板Ｂ
の表面側に洗浄水Ｌを供給するために高圧で洗浄水Ｌを
吐出する上部処理液吐出手段６ａが設けられているが、
本発明は基板Ｂの表面側に向けて高圧で洗浄水Ｌを吐出
することに限定されるものではなく、通常の圧力で、か
つ、コーンタイプや扇状タイプ等の通常のノズルを用い
て基板Ｂの表面に洗浄水Ｌを供給するようにしてもよ
い。

【００５７】（２）上記の実施形態においては、基板Ｂ
の表裏面を対象に高圧の洗浄水Ｌを吐出する上部処理液
吐出手段６ａおよび下部処理液吐出手段６ｂが設けられ
ているが、上部処理液吐出手段６ａからは通常の圧力の
洗浄水Ｌを吐出するようにし、その代りに上部処理液吐
出手段６ａの少なくとも下流側に搬送中の基板Ｂを幅方
向に横断するようにエアナイフ等の液切り手段を配設
し、これで基板Ｂ表面の液切りを行うようにしてもよ
い。

【００５８】（３）上記の実施形態においては、基板処
理装置１０として第１次水洗槽２１が適用されている
が、第１次水洗槽２１に適用することに限定されるもの
ではなく、第２次水洗槽３１に適用してもよい。ただ
し、第２次水洗槽３１に適用する場合は、第１次水洗槽
２１の直後で行われる最初の水洗処理に適用し、その後
の水洗処理の洗浄水とは別系統にするのが好ましい。

【００５９】（４）上記の実施形態においては、処理液
として基板Ｂの表裏面を洗浄する洗浄水Ｌを用いている
が、洗浄水Ｌに代えて現像液、基板Ｂの表面に形成され
た金属薄膜をエッチングするエッチング液、エッチング
処理された基板Ｂの表面に被着したレジスト膜を剥離す
る剥離液、あるいは剥離液を置換するイソプロピルアル
コール等の置換液または剥離液を洗い流す純水であって
もよい。

【００６０】

【発明の効果】請求項１記載の発明によれば、裏面側処
理液吐出手段は、搬送中の基板に対し、搬送方向と交差
する幅方向の一方側端縁より他方側端縁に向けて斜め下
方から処理液を吐出するため、処理液吐出手段から吐出
された処理液は、一方の側端縁から基板の裏面を幅方向
に横断し、これによって基板の裏面に付着していた前工
程の処理液がこの工程の処理液に置換されるとともに、
基板の裏面をこの工程の処理液によって確実に処理する
ことができる。

【００６１】そして、処理液の液流が横断した後の基板
裏面は、基板の搬送方向への移動によって処理液の薄層
が形成された状態になっているため、気流による基板裏
面の部分乾燥が起こらず、部分乾燥に起因したパーティ
クルの発生が防止され、パーティクルの発生による基板
の汚染を確実に防止することができる。

【００６２】請求項２記載の発明によれば、裏面側処理
液吐出手段には基板搬送方向に長尺のスリット状の吐出
口が設けられ、吐出口からは帯状で処理液が吐出される
ため、基板の裏面は帯状の液流に曝され、基板の裏面を
均一に処理することができる。

【００６３】請求項３記載の発明によれば、裏面側処理
液吐出手段は、上記吐出口から吐出された処理液が基板
の裏面を伝わって少なくとも基板の搬送方向と交差する
幅方向の他方側端縁まで届くのに必要な吐出圧を付与す
る吐出圧付与手段を備えているため、基板の裏面の一方
の側縁部に吐出された処理液は、基板の裏面を伝わって
幅方向に横断し、他方の側端縁にまで確実に到達するこ
とができる。

【００６４】請求項４記載の発明によれば、搬送中の基
板の搬送方向と交差する幅方向の一方側端縁に向けて斜
め上方から処理液を吐出する表面側処理液吐出手段を備
えているため、表面側処理液吐出手段から基板の表面側
の一方の側端縁に向けて斜めに処理液を吐出することに
より、吐出された処理液は、基板の表面を横断して他方
の側端縁に向かって流れ、この処理液の横断によって基
板の表面を処理することができる。

【００６５】請求項５記載の発明によれば、基板搬送方
向と交差する向きに配設され、かつ、上記表面側および
／または裏面側処理液吐出手段の処理液吐出域に処理液
を供給する処理液供給手段を備えたため、処理液吐出手
段からの処理液の吐出によって基板の主面上で形成した
液流に、さらに処理液供給手段からの処理液が重ねて供
給されることになり、これによって基板主面上に乱流が
発生し、この乱流による撹拌で基板主面に対する処理液
の接触状態が良好になり、基板主面の処理効率を向上さ
せることができる。

【００６６】特に、基板処理装置が洗浄処理を行うもの
である場合には、上記処理液供給手段から供給された処
理液が基板の主面に衝突する際の衝撃効果により基板の
主面に付着しているパーティクルの除去が容易となり、
洗浄効果を向上させることができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明に係る基板処理装置が適用された基板処
理装置群の一実施形態を示す説明図である。

【図２】第１次水洗槽の一実施形態を示す一部切欠き斜
視図である。

【図３】処理液吐出手段の一実施形態を示す一部切欠き
斜視図である。

【図４】処理液吐出手段から吐出された洗浄水の基板表
裏面における流れを示す側面視の説明図である。

【図５】本発明の作用を説明するための説明図であり、
（イ）は基板の下流側の先端部が処理液吐出域に侵入し
た直後の状態、（ロ）は基板の基板搬送方向の中央部が
処理液吐出域に位置した状態、（ハ）は基板が処理液吐
出域から導出された状態をそれぞれ示している。

【図６】処理液吐出手段に散液配管が付加された状態を
示す斜視図である。

【図７】基板が傾斜姿勢で搬送される場合に、処理液吐
出手段からの洗浄水が基板に供給された状態を示す側面
視の説明図である。

【符号の説明】

１基板処理装置群１０基板処理装置１１基板通過口２第１次洗浄部２１第１次洗浄槽２２洗浄水貯留槽２２ａ洗浄水管路２２ｂ洗浄水戻り管路２３洗浄水ポンプ２４フィルター３水洗部３１水洗槽３２純水供給ノズル４乾燥部４１乾燥槽４２エアナイフ５搬送ローラ５１ローラ軸５２側部ローラ５２ａ鍔部５３中央ローラ５４Ｏリング６処理液吐出手段６１吐出手段本体６２ノズル部６３洗浄水供給管路６４接続筒６５洗浄水吐出口Ａ処理液吐出域Ｂ基板

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】搬送中の基板の表裏面に処理液を供給し
て所定の処理を施す基板処理装置において、搬送中の基板に対し、搬送方向と交差する幅方向の一方
側端縁より他方側端縁に向けて斜め下方から処理液を吐
出する裏面側処理液吐出手段を備えたことを特徴とする
基板処理装置。
【請求項２】上記裏面側処理液吐出手段は、基板搬送
方向に長尺のスリット状の吐出口を有していることを特
徴とする請求項１記載の基板処理装置。
【請求項３】上記裏面側処理液吐出手段は、上記吐出
口から吐出された処理液が基板の裏面を伝わって少なく
とも基板の搬送方向と交差する幅方向の他方側端縁まで
届くのに必要な吐出圧を付与する吐出圧付与手段を備え
ているものであることを特徴とする請求項１または２記
載の基板処理装置。
【請求項４】請求項１乃至３のいずれかに記載の基板
処理装置において、搬送中の基板に対し、搬送方向と交差する幅方向の一方
側端縁に向けて斜め上方から処理液を吐出する表面側処
理液吐出手段を備えたことを特徴とする基板処理装置。
【請求項５】請求項１乃至４のいずれかに記載の基板
処理装置において、基板搬送方向と交差する向きに配設
され、かつ、上記表面側および／または裏面側処理液吐
出手段の処理液吐出域に処理液を供給する処理液供給手
段を備えたことを特徴とする基板処理装置。