JP2003031546A - スリット状の噴射口を複数有する基板の液切り装置 - Google Patents
スリット状の噴射口を複数有する基板の液切り装置Info
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- JP2003031546A JP2003031546A JP2001217958A JP2001217958A JP2003031546A JP 2003031546 A JP2003031546 A JP 2003031546A JP 2001217958 A JP2001217958 A JP 2001217958A JP 2001217958 A JP2001217958 A JP 2001217958A JP 2003031546 A JP2003031546 A JP 2003031546A
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Abstract
(57)【要約】 （修正有）
【課題】基板のサイズの大型化、搬送のスピードアッ
プ、乾燥工程の安定化、を具体的達成であり、（１）エ
アナイフの搬送方法と直行角度θは４５度まで調整可能
な液切り装置の開発と、（２）装置の長さを短縮、
（３）基板の角部及び、基板の表裏面と端面の処理液の
液切り乾燥の安定。 【解決手段】搬送方向と直行する向きに複数のエアナイ
フ７で構成され、流量制御弁１２を介して、独立に噴射
エア圧が調整でき、角度θを０度〜１８０度まで調整で
き、垂直方向に対して傾き角度φ１の調整可能の機能を
有した基板２の液切り装置５を搬送面の上下に対に設置
により、装置長を短縮と、基板２の上面と、下面に付着
した処理液を完全に吹き飛ばすことができ、乾燥工程が
安定する。
プ、乾燥工程の安定化、を具体的達成であり、（１）エ
アナイフの搬送方法と直行角度θは４５度まで調整可能
な液切り装置の開発と、（２）装置の長さを短縮、
（３）基板の角部及び、基板の表裏面と端面の処理液の
液切り乾燥の安定。 【解決手段】搬送方向と直行する向きに複数のエアナイ
フ７で構成され、流量制御弁１２を介して、独立に噴射
エア圧が調整でき、角度θを０度〜１８０度まで調整で
き、垂直方向に対して傾き角度φ１の調整可能の機能を
有した基板２の液切り装置５を搬送面の上下に対に設置
により、装置長を短縮と、基板２の上面と、下面に付着
した処理液を完全に吹き飛ばすことができ、乾燥工程が
安定する。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、液体によって表面
処理が施され、処理液が付着した液晶表示器用のガラス
基板、半導体ウエハ基板等に気体を噴射するようにした
基板の液切りに関する。
処理が施され、処理液が付着した液晶表示器用のガラス
基板、半導体ウエハ基板等に気体を噴射するようにした
基板の液切りに関する。
【０００２】
【従来の技術】従来、例えばカラーフィルタを製造する
場合では、板状のガラス基板２の表面に薬液や純水など
の処理液４を使用する湿式表面処理、いわゆる水洗処理
が施され、基板２表面上及び基板２裏面に付着している
処理液４は従来の液切り装置により除去している。
場合では、板状のガラス基板２の表面に薬液や純水など
の処理液４を使用する湿式表面処理、いわゆる水洗処理
が施され、基板２表面上及び基板２裏面に付着している
処理液４は従来の液切り装置により除去している。
【０００３】図５に示すように、搬送方向に並列に置か
れた搬送機構の搬送ローラ１面（搬送面）の上下に、搬
送方向に直交する方向にスリット状の噴射口６ａ、エア
ナイフ６を有した基板の液切り装置５を搬送方向と直交
する方向に対して角度θだけ傾斜させて設置し、水平状
態で搬送される基板２の表面及び裏面には処理液４が附
着している。
れた搬送機構の搬送ローラ１面（搬送面）の上下に、搬
送方向に直交する方向にスリット状の噴射口６ａ、エア
ナイフ６を有した基板の液切り装置５を搬送方向と直交
する方向に対して角度θだけ傾斜させて設置し、水平状
態で搬送される基板２の表面及び裏面には処理液４が附
着している。
【０００４】基板２は図５の左側より搬送ローラー１駆
動により基板液切り装置５を通過して図５の右側方向に
等速で、例えば２．０ｍ／分のスピードで予め装備して
いる搬送機構により搬送している。
動により基板液切り装置５を通過して図５の右側方向に
等速で、例えば２．０ｍ／分のスピードで予め装備して
いる搬送機構により搬送している。
【０００５】基板液切り装置５は高圧エア発生装置１
３、と高圧エアータンク１１、及び流量制御弁１２とエ
アナイフ６とスリット状噴射口６ａにより構成され、高
圧気体タンク１２に常時規定の圧力に維持準備している
高圧空気は流量制御弁１２を介して接続したエアナイフ
６、噴射口６ａより気体を噴射する機能を有し、この噴
流によって基板２に付着した処理液４を角部３へ押し流
し、吹き飛ばすようにしたものが知られている。
３、と高圧エアータンク１１、及び流量制御弁１２とエ
アナイフ６とスリット状噴射口６ａにより構成され、高
圧気体タンク１２に常時規定の圧力に維持準備している
高圧空気は流量制御弁１２を介して接続したエアナイフ
６、噴射口６ａより気体を噴射する機能を有し、この噴
流によって基板２に付着した処理液４を角部３へ押し流
し、吹き飛ばすようにしたものが知られている。
【０００６】前記従来のものでは、エアナイフ６の搬送
方向と直交する方向に対して角度θだけ、例えば２０度
前後に傾斜設定させて設置し、例えば液切り能力不足気
味の場合は角度の調整をして最適条件にて運転してい
る。最も確かな液切り能力が望める角度θを４５度に設
定可能な機構の液切り装置５では搬送方向への全長が長
くなってしまうため、従来の技術では３０度付近以下の
角度調整で使用している事が一般的であり、基板２に付
着した処理液４の除去能力の向上の為には角度θ＝４５
度に設定できる装置が必要となっている。
方向と直交する方向に対して角度θだけ、例えば２０度
前後に傾斜設定させて設置し、例えば液切り能力不足気
味の場合は角度の調整をして最適条件にて運転してい
る。最も確かな液切り能力が望める角度θを４５度に設
定可能な機構の液切り装置５では搬送方向への全長が長
くなってしまうため、従来の技術では３０度付近以下の
角度調整で使用している事が一般的であり、基板２に付
着した処理液４の除去能力の向上の為には角度θ＝４５
度に設定できる装置が必要となっている。
【０００７】また、基板２の角部３へ押し流された処理
液４は基板角部３の表裏面および端面に付着するが、基
板角部３の端面部はエアナイフ６の噴流の力を受けにく
い為、噴流によって完全に処理液を吹き飛ばすことがで
きず、残留した処理液４により基板２表面にシミが発生
し基板汚染の原因となり、又その液滴が装置後段の処理
槽に持ち込まれ問題が発生する。
液４は基板角部３の表裏面および端面に付着するが、基
板角部３の端面部はエアナイフ６の噴流の力を受けにく
い為、噴流によって完全に処理液を吹き飛ばすことがで
きず、残留した処理液４により基板２表面にシミが発生
し基板汚染の原因となり、又その液滴が装置後段の処理
槽に持ち込まれ問題が発生する。
【０００８】上記の問題点をまとめると、次の（１）〜
（４）に示すような問題点がある。 （１）エアナイフ６の搬送方向と直交する方向に対して
角度θだけ実際には10〜２０度前後に設定に制限されて
いる。（２）最適４５度設定では装置が搬送方向の長く
なる。（３）基板２の角部３へ押し流された処理液４は
基板角部３の表裏面および端面に付着するが、噴流によ
って完全に処理液を吹き飛ばすことができない。（４）
不完全により残った液滴が装置後段の処理槽に持ち込ま
れ問題が発生する。
（４）に示すような問題点がある。 （１）エアナイフ６の搬送方向と直交する方向に対して
角度θだけ実際には10〜２０度前後に設定に制限されて
いる。（２）最適４５度設定では装置が搬送方向の長く
なる。（３）基板２の角部３へ押し流された処理液４は
基板角部３の表裏面および端面に付着するが、噴流によ
って完全に処理液を吹き飛ばすことができない。（４）
不完全により残った液滴が装置後段の処理槽に持ち込ま
れ問題が発生する。
【０００９】
【発明が解決しようとする課題】本発明は上記実情を考
慮してなされたもので、基板２のサイズの大型化、及び
搬送のスピードアップ、と乾燥工程の安定を具体的達成
するためになされたものであり、本発明の課題は（１）
傾斜エアナイフ６の搬送方向と直交する方向に対して角
度θは４５度まで調整可能な基板の液切り装置５の開
発。（２）装置の搬送方向への装置の長さを短縮する。
（３）基板２の角部３へ押し流された処理液４は基板角
部３の表裏面および端面に付着するが、噴流によって完
全に処理液を吹き飛ばす。（４）不完全により残った液
滴が装置後段の処理槽に持ち込まない。これにより基板
２のサイズの大型化、及び搬送のスピードアップ、と乾
燥工程の安定を具体的達成するためにスリット状の噴射
口を複数有する基板の液切り装置を提供することを目的
とする。
慮してなされたもので、基板２のサイズの大型化、及び
搬送のスピードアップ、と乾燥工程の安定を具体的達成
するためになされたものであり、本発明の課題は（１）
傾斜エアナイフ６の搬送方向と直交する方向に対して角
度θは４５度まで調整可能な基板の液切り装置５の開
発。（２）装置の搬送方向への装置の長さを短縮する。
（３）基板２の角部３へ押し流された処理液４は基板角
部３の表裏面および端面に付着するが、噴流によって完
全に処理液を吹き飛ばす。（４）不完全により残った液
滴が装置後段の処理槽に持ち込まない。これにより基板
２のサイズの大型化、及び搬送のスピードアップ、と乾
燥工程の安定を具体的達成するためにスリット状の噴射
口を複数有する基板の液切り装置を提供することを目的
とする。
【００１０】
【課題を解決するための手段】本発明の請求項１に係る
発明は搬送される基板の表面に向けてエアナイフのスリ
ット状の噴射口から気体を噴射するようにした基板の液
切り装置において、スリット状噴射口を複数有し、搬送
方向と直交する方向に対して傾けられており、前記噴射
口が、搬送方向に対して垂直方向に並べられてあること
を特徴とするスリット状の噴射口を複数有する基板の液
切り装置である。
発明は搬送される基板の表面に向けてエアナイフのスリ
ット状の噴射口から気体を噴射するようにした基板の液
切り装置において、スリット状噴射口を複数有し、搬送
方向と直交する方向に対して傾けられており、前記噴射
口が、搬送方向に対して垂直方向に並べられてあること
を特徴とするスリット状の噴射口を複数有する基板の液
切り装置である。
【００１１】本発明の請求項２に係る発明は搬送される
基板の表面に向けてエアナイフのスリット状の噴射口か
ら気体を噴射するようにした基板の液切り装置におい
て、スリット状噴射口を複数有し、搬送方向と直交する
方向に対して傾けられており、前記噴射口が、搬送方向
に対して垂直方向に並べられてあることを特徴とするス
リット状の噴射口を複数有する基板の液切り装置であ
る。
基板の表面に向けてエアナイフのスリット状の噴射口か
ら気体を噴射するようにした基板の液切り装置におい
て、スリット状噴射口を複数有し、搬送方向と直交する
方向に対して傾けられており、前記噴射口が、搬送方向
に対して垂直方向に並べられてあることを特徴とするス
リット状の噴射口を複数有する基板の液切り装置であ
る。
【００１２】本発明の請求項３に係る発明は請求項１又
は請求項２記載の基板の液切り装置において、設けられ
た複数のスリット状の噴射口の少なくともひとつが、搬
送方向と直交する方向に対する傾きが可変となっている
ことを特徴とする複数のスリット状の噴射口を有する基
板の液切り装置である。
は請求項２記載の基板の液切り装置において、設けられ
た複数のスリット状の噴射口の少なくともひとつが、搬
送方向と直交する方向に対する傾きが可変となっている
ことを特徴とする複数のスリット状の噴射口を有する基
板の液切り装置である。
【００１３】本発明の請求項４に係る発明は請求項１又
は請求項２又は請求項３記載の基板の液切り装置におい
て、搬送面に垂直な方向に設置されている複数のスリッ
ト状噴射口の少なくともひとつが搬送面に垂直な方向に
対する傾きが可変であることを特徴とする複数のスリッ
ト状の噴射口を有する基板の液切り装置である。
は請求項２又は請求項３記載の基板の液切り装置におい
て、搬送面に垂直な方向に設置されている複数のスリッ
ト状噴射口の少なくともひとつが搬送面に垂直な方向に
対する傾きが可変であることを特徴とする複数のスリッ
ト状の噴射口を有する基板の液切り装置である。
【００１４】本発明の請求項５に係る発明は請求項１又
は請求項２又は請求項３記載の基板の液切り装置におい
て、設けられた複数のスリット状噴射口毎にエアナイフ
が独立した構成をもつ複数のスリット状の噴射口を有す
る基板の液切り装置において、設けられた複数のスリッ
ト状噴射口から、高圧で噴射される気体の量を、少なく
ともひとつの噴出口で増大させることを特徴とするスリ
ット状の噴射口を有する基板の液切り装置である。
は請求項２又は請求項３記載の基板の液切り装置におい
て、設けられた複数のスリット状噴射口毎にエアナイフ
が独立した構成をもつ複数のスリット状の噴射口を有す
る基板の液切り装置において、設けられた複数のスリッ
ト状噴射口から、高圧で噴射される気体の量を、少なく
ともひとつの噴出口で増大させることを特徴とするスリ
ット状の噴射口を有する基板の液切り装置である。
【００１５】本発明の請求項６に係る発明は搬送される
基板の表面に向けてエアナイフのスリット状の噴射口か
ら気体を噴射するようにした基板の液切り装置であっ
て、スリット状噴射口を複数有し、搬送方向と直交する
方向に対して傾けられており、前記噴射口が、搬送方向
に対して垂直方向に並べられている基板の液切り装置に
おいて、搬送面の上側及び、下側に対になって設置する
ことを特徴とするスリット状の噴射口を複数有する基板
の液切り装置である。
基板の表面に向けてエアナイフのスリット状の噴射口か
ら気体を噴射するようにした基板の液切り装置であっ
て、スリット状噴射口を複数有し、搬送方向と直交する
方向に対して傾けられており、前記噴射口が、搬送方向
に対して垂直方向に並べられている基板の液切り装置に
おいて、搬送面の上側及び、下側に対になって設置する
ことを特徴とするスリット状の噴射口を複数有する基板
の液切り装置である。
【００１６】
【発明の実施の形態】本発明の実施の形態に沿って図１
〜図４を用いて詳細に説明する。
〜図４を用いて詳細に説明する。
【００１７】図１に示す基板の液切り装置５は、搬送方
向と直行する向きに並ぶ複数のエアナイフ７で構成され
ている。それぞれのスリット状噴射口７ａを独立させて
設けることにより、各スリット状噴射口７ａは高圧気体
のタンク１１との配管途中に各々独立の流量制御弁１２
を介して連結された機能を有し、それぞれ独立に噴射エ
ア圧は調整できる。
向と直行する向きに並ぶ複数のエアナイフ７で構成され
ている。それぞれのスリット状噴射口７ａを独立させて
設けることにより、各スリット状噴射口７ａは高圧気体
のタンク１１との配管途中に各々独立の流量制御弁１２
を介して連結された機能を有し、それぞれ独立に噴射エ
ア圧は調整できる。
【００１８】各スリット状噴射口７ａの搬送方向と直行
する方向に対する角度θ1（傾き）を０度〜１８０度ま
で容易に調整できるような機能を有し、又搬送面に対し
て垂直な方向に対する傾き角φ1の調整も同様の機能を
有し、個々のスリット状噴射口７ａ毎に簡易に変更でき
るようになっている。
する方向に対する角度θ1（傾き）を０度〜１８０度ま
で容易に調整できるような機能を有し、又搬送面に対し
て垂直な方向に対する傾き角φ1の調整も同様の機能を
有し、個々のスリット状噴射口７ａ毎に簡易に変更でき
るようになっている。
【００１９】複数のエアナイフ７が基板の搬送方向と直
交する方向に対して角度θだけ傾斜して設けられて、こ
の角度θは、45度で最も確かな液切り能力が望めるとさ
れているが、角度θを小さくすればより省スペース化が
可能になる理由から、30度近傍まで最適条件の幅が設定
可能となる。
交する方向に対して角度θだけ傾斜して設けられて、こ
の角度θは、45度で最も確かな液切り能力が望めるとさ
れているが、角度θを小さくすればより省スペース化が
可能になる理由から、30度近傍まで最適条件の幅が設定
可能となる。
【００２０】また、エアナイフの角度θは処理液４の種
類や噴射エア圧、基板２の搬送速度などを勘案して最適
の角度が設定され、処理液の残留しやすい基板角部３に
対応するスリット状噴射口７ａに関しては、他の噴射口
７ａと比べて、搬送方向と直行する方向に対する傾き
を、例えば４５度に近い値で設置する。
類や噴射エア圧、基板２の搬送速度などを勘案して最適
の角度が設定され、処理液の残留しやすい基板角部３に
対応するスリット状噴射口７ａに関しては、他の噴射口
７ａと比べて、搬送方向と直行する方向に対する傾き
を、例えば４５度に近い値で設置する。
【００２１】図３に示すように、スリット状噴射口７ａ
からの噴射方向が、基板２の搬送方向とは逆方向に向か
うように、すなわち、基板２の搬送面に垂直な方向に対
してφ1の角度をなすように配備されている。したがっ
て、噴射口７ａから噴出される高圧気流によって基板２
の上下両面に付着した液滴が基板２の搬送方向とは逆方
向に吹き飛ばされるようになっている。なお角度φ1は3
0度の近傍に設定されているがローラー面下側面のエア
ナイフの角度φ1を一致させなくてもよい。
からの噴射方向が、基板２の搬送方向とは逆方向に向か
うように、すなわち、基板２の搬送面に垂直な方向に対
してφ1の角度をなすように配備されている。したがっ
て、噴射口７ａから噴出される高圧気流によって基板２
の上下両面に付着した液滴が基板２の搬送方向とは逆方
向に吹き飛ばされるようになっている。なお角度φ1は3
0度の近傍に設定されているがローラー面下側面のエア
ナイフの角度φ1を一致させなくてもよい。
【００２２】以下、本発明の実施の形態を図面に基づい
て詳細に説明する。図２は、本発明に係る基板の液切り
装置を備えた洗浄処理装置の側面視の簡略図である。基
板２の液切り装置５は洗浄槽８に隣接配置された乾燥槽
９の内部に配備されており洗浄槽８において純水等の処
理液が吹きつけられ洗浄された基板２に付着した処理液
４を除去する。洗浄槽８の側壁に基板２を投入する投入
口８ａが、洗浄槽８と乾燥槽９との間の隔壁に基板２を
洗浄槽８から乾燥槽９へ導くための導入口９ａが、乾燥
槽９の出口側の側壁に基板２を搬出するための搬出口９
ｂがそれぞれ設けられている。
て詳細に説明する。図２は、本発明に係る基板の液切り
装置を備えた洗浄処理装置の側面視の簡略図である。基
板２の液切り装置５は洗浄槽８に隣接配置された乾燥槽
９の内部に配備されており洗浄槽８において純水等の処
理液が吹きつけられ洗浄された基板２に付着した処理液
４を除去する。洗浄槽８の側壁に基板２を投入する投入
口８ａが、洗浄槽８と乾燥槽９との間の隔壁に基板２を
洗浄槽８から乾燥槽９へ導くための導入口９ａが、乾燥
槽９の出口側の側壁に基板２を搬出するための搬出口９
ｂがそれぞれ設けられている。
【００２３】投入口８ａから投入された基板２が導入口
８ａを介して搬出口９ｂまで搬出されるように基板２の
搬出経路が構成されている。搬送機構は搬送方向に並列
軸支された複数の搬送ローラ１と、これらの搬送ローラ
１を同期して回転させる駆動機構とを備え基板２を水平
状態で搬送するように構成されている。なお洗浄槽８と
乾燥槽９の下部には、処理液４、及び基板から除去され
た不要物を排出する排出口８ｃ、９ｃが設けられてい
る。
８ａを介して搬出口９ｂまで搬出されるように基板２の
搬出経路が構成されている。搬送機構は搬送方向に並列
軸支された複数の搬送ローラ１と、これらの搬送ローラ
１を同期して回転させる駆動機構とを備え基板２を水平
状態で搬送するように構成されている。なお洗浄槽８と
乾燥槽９の下部には、処理液４、及び基板から除去され
た不要物を排出する排出口８ｃ、９ｃが設けられてい
る。
【００２４】洗浄槽８は、搬送される基板２を挟んで上
下に対抗配備された複数個の洗浄ノズル１０を備え、洗
浄液供給源から供給された純水等の処理液４を各ノズル
１０から搬送される基板の上下両面に向けて吹きつける
ことにより基板２の表面及び裏面に付着した不要物等を
洗い流すように構成されている。
下に対抗配備された複数個の洗浄ノズル１０を備え、洗
浄液供給源から供給された純水等の処理液４を各ノズル
１０から搬送される基板の上下両面に向けて吹きつける
ことにより基板２の表面及び裏面に付着した不要物等を
洗い流すように構成されている。
【００２５】次に、乾燥槽８内部に配備された基板の液
切り装置５の構成を図１と図３を参照して説明する。図
３より、乾燥槽８は基板２を水平方向へ搬送する搬送ロ
ーラ１にて構成される搬送機構と、搬送ローラーにより
搬送される基板２の上下両面に向けて気体を噴射する基
板の液切り装置５とで構成されている。
切り装置５の構成を図１と図３を参照して説明する。図
３より、乾燥槽８は基板２を水平方向へ搬送する搬送ロ
ーラ１にて構成される搬送機構と、搬送ローラーにより
搬送される基板２の上下両面に向けて気体を噴射する基
板の液切り装置５とで構成されている。
【００２６】図１に示す平面図は、基板の液切り装置の
簡略図であり、複数のスリット状噴射口７ａは、それぞ
れエア配管を介してエア供給源１２に接続されており、
エア供給源１２から供給される高圧エアを、それぞれの
噴射口７ａから基板２両面に向けて噴射するようにして
いる。スリット状噴射口７ａはそれぞれのエア配管には
それぞれ個別に流量制御弁１２が設けてあり、個々の噴
射口の流量調節ができるようになっている。そのスリッ
ト状噴射口７ａのそれぞれのエア流量は処理液４の種類
や搬送速度などを勘案し、基板２に残留する処理液４が
完全に除去されるように設定される。特に、基板角部３
に対応するスリット状噴射口７ａに関しては、他のスリ
ット状噴射口７ａよりエア流量を大きくする等の策を施
している。また、洗浄エア供給源１２から供給される気
体は、例えば清浄エアに限定されるものではなく、例え
ばＮ2ガスなどの不活性ガスを用いてもよい。
簡略図であり、複数のスリット状噴射口７ａは、それぞ
れエア配管を介してエア供給源１２に接続されており、
エア供給源１２から供給される高圧エアを、それぞれの
噴射口７ａから基板２両面に向けて噴射するようにして
いる。スリット状噴射口７ａはそれぞれのエア配管には
それぞれ個別に流量制御弁１２が設けてあり、個々の噴
射口の流量調節ができるようになっている。そのスリッ
ト状噴射口７ａのそれぞれのエア流量は処理液４の種類
や搬送速度などを勘案し、基板２に残留する処理液４が
完全に除去されるように設定される。特に、基板角部３
に対応するスリット状噴射口７ａに関しては、他のスリ
ット状噴射口７ａよりエア流量を大きくする等の策を施
している。また、洗浄エア供給源１２から供給される気
体は、例えば清浄エアに限定されるものではなく、例え
ばＮ2ガスなどの不活性ガスを用いてもよい。
【００２７】複数のスリット状噴射口７ａが搬送方向に
対して垂直方向に並べて配置されたエアナイフ７で構成
されている。複数のスリット状噴射口７ａを有するエア
ナイフ7が基板２の搬送方向と直交する方向に対して角
度θだけ傾斜して設けられている。この角度θは、３０
度〜45度近傍に設定され、最も確かな液切り効果が望め
るように調整されている。それぞれのスリット状噴射口
７ａの角度θを一致させなくてもよく、処理液の種類や
噴射エア圧、搬送速度などを勘案して設定される。な
お、設置されているスリット状噴射口の数は３となって
いるが、本発明はこれに限定されるものではない。スリ
ット状噴射口の長さや配置についても限定されるもので
はなく、処理液の種類、噴射エア圧、搬送速度などを勘
案して設定される。
対して垂直方向に並べて配置されたエアナイフ７で構成
されている。複数のスリット状噴射口７ａを有するエア
ナイフ7が基板２の搬送方向と直交する方向に対して角
度θだけ傾斜して設けられている。この角度θは、３０
度〜45度近傍に設定され、最も確かな液切り効果が望め
るように調整されている。それぞれのスリット状噴射口
７ａの角度θを一致させなくてもよく、処理液の種類や
噴射エア圧、搬送速度などを勘案して設定される。な
お、設置されているスリット状噴射口の数は３となって
いるが、本発明はこれに限定されるものではない。スリ
ット状噴射口の長さや配置についても限定されるもので
はなく、処理液の種類、噴射エア圧、搬送速度などを勘
案して設定される。
【００２８】図３に示すように、噴射口７ａからの噴射
方向が基板２の搬送方向とは逆方向に向かうように基板
２の搬送面に垂直な方向に対してφ1の角度をなすよう
に配備され、例えば３０度に調整してスリット状噴射口
７ａから噴射される高圧気流によって、基板２の上下両
面に付着した処理液４が基板２の搬送方向とは逆方向に
吹き飛ばされるようになっている。また、吹き飛ばされ
た処理液４は乾燥槽９の下部に設けられた排出口９ｃか
ら排出される。なお、角度φ1は30度に設定されている
が、本発明はこれに限定されるものではなく、また搬送
ローラー面の上面側及び下面側に配置したエアナイフの
噴射口の角度φ1を一致させなくてよい。
方向が基板２の搬送方向とは逆方向に向かうように基板
２の搬送面に垂直な方向に対してφ1の角度をなすよう
に配備され、例えば３０度に調整してスリット状噴射口
７ａから噴射される高圧気流によって、基板２の上下両
面に付着した処理液４が基板２の搬送方向とは逆方向に
吹き飛ばされるようになっている。また、吹き飛ばされ
た処理液４は乾燥槽９の下部に設けられた排出口９ｃか
ら排出される。なお、角度φ1は30度に設定されている
が、本発明はこれに限定されるものではなく、また搬送
ローラー面の上面側及び下面側に配置したエアナイフの
噴射口の角度φ1を一致させなくてよい。
【００２９】図４を参照して説明する。図４（ａ）及び
図４（ｂ）は液滴が除去される状態を示した図である。
水洗槽８から基板２を搬入すると、その表面には純水な
どの処理液４が付着しているが、この基板２が更に（右
方向）下流へ搬送されると、スリット状噴射口が搬送方
向と直行する方向に対して、傾斜させて設置されたスリ
ット状噴射口７ａから噴射される噴流により基板２上の
処理液４の大部分が除去され、基板端部の処理液４は角
部３へ押し流される。
図４（ｂ）は液滴が除去される状態を示した図である。
水洗槽８から基板２を搬入すると、その表面には純水な
どの処理液４が付着しているが、この基板２が更に（右
方向）下流へ搬送されると、スリット状噴射口が搬送方
向と直行する方向に対して、傾斜させて設置されたスリ
ット状噴射口７ａから噴射される噴流により基板２上の
処理液４の大部分が除去され、基板端部の処理液４は角
部３へ押し流される。
【００３０】基板角部３に残留する処理液４に関して
も、基板角部３に対応するスリット状噴射口７ａから噴
射するエア流量の増加させるか、もしくはスリット状噴
射口の傾き角θ1、φ1微調整する等の設置条件を適宜設
定することにより噴射口７ａから噴射される噴流が搬送
方向とは逆方向側へ噴射され、処理液４が完全に除去す
ることができる。
も、基板角部３に対応するスリット状噴射口７ａから噴
射するエア流量の増加させるか、もしくはスリット状噴
射口の傾き角θ1、φ1微調整する等の設置条件を適宜設
定することにより噴射口７ａから噴射される噴流が搬送
方向とは逆方向側へ噴射され、処理液４が完全に除去す
ることができる。
【００３１】また、エアナイフ７、および、スリット状
噴出口、７ａが搬送面に上下それぞれ対になって設けら
れていることにより、基板２の上面及び下面の両方に付
着した処理液４を一挙に完全に吹き飛ばすことができ
る。
噴出口、７ａが搬送面に上下それぞれ対になって設けら
れていることにより、基板２の上面及び下面の両方に付
着した処理液４を一挙に完全に吹き飛ばすことができ
る。
【００３２】前記実施形態では、基板２を水平搬送する
洗浄装置を例にとって説明したが、本発明はこれに限定
されず、基板の垂直搬送、斜め搬送等でも、搬送される
基板の表裏両面に、それぞれ実施例のように本発明のス
リット状の噴射口を複数有する基板の液切り装置のエア
ナイフ７を配置してもよい。
洗浄装置を例にとって説明したが、本発明はこれに限定
されず、基板の垂直搬送、斜め搬送等でも、搬送される
基板の表裏両面に、それぞれ実施例のように本発明のス
リット状の噴射口を複数有する基板の液切り装置のエア
ナイフ７を配置してもよい。
【００３３】
【発明の効果】前記請求項１記載の発明によれば、複数
のエアナイフを搬送方向に対して垂直方向に並設するこ
とにより、従来の単一で設置するエアナイフのスリット
状噴射口が搬送方向と直行する方向に対して傾けて設置
したものに比べて、装置を搬送方向に短くすることがで
きる。前記請求項２記載、及び請求項５記載の発明によ
れば、基板角部に残留してしまう処理液に関して、その
箇所に対応するスリット状噴射口のエア流量を増加調整
することで完全に吹き飛ばすことが可能である。その場
合、エアナイフを２段構成等にして対処することに比べ
れば、気体の使用量も少なく、調整作業も容易となる。
請求項３記載の発明によれば、前記請求項１及び２記載
の装置における複数のスリット状噴射口がそれぞれの噴
射口毎にエアナイフが独立して設置されているため、個
々のスリット状噴射口の搬送方向と直行する方向に対す
る角度θを調整ができる。請求項４の発明依れば搬送面
に垂直な方向に対する角度φ1等を可変にすることでエ
アナイフの噴射口から噴出される噴流が搬送方向とは逆
方向へと方向づけられるから、基板に付着する処理液が
確実に角部へ押し流され、残留処理液を確実に吹き飛ば
すことができる。前記載の請求項６の発明によれば、本
発明のスリット状の噴射口を複数有する基板の液切り装
置を搬送面の上側、及び下側に対に設置した効果は基板
角部に残留してしまう処理液に関して、その箇所に対応
する上下両面のスリット状噴射口の搬送方向と直行する
方向に対しての傾きを調節することで、残留処理液を吹
き飛ばす能力の向上を図ることができ、基板の上面およ
び下面の両面に付着した処理液を完全に吹き飛ばすこと
ができ、その改善の効果により基板２のサイズの大型
化、及び搬送のスピードアップ、と乾燥工程の安定を達
成するスリット状の噴射口を複数有する基板の液切り装
置を提供することできる。
のエアナイフを搬送方向に対して垂直方向に並設するこ
とにより、従来の単一で設置するエアナイフのスリット
状噴射口が搬送方向と直行する方向に対して傾けて設置
したものに比べて、装置を搬送方向に短くすることがで
きる。前記請求項２記載、及び請求項５記載の発明によ
れば、基板角部に残留してしまう処理液に関して、その
箇所に対応するスリット状噴射口のエア流量を増加調整
することで完全に吹き飛ばすことが可能である。その場
合、エアナイフを２段構成等にして対処することに比べ
れば、気体の使用量も少なく、調整作業も容易となる。
請求項３記載の発明によれば、前記請求項１及び２記載
の装置における複数のスリット状噴射口がそれぞれの噴
射口毎にエアナイフが独立して設置されているため、個
々のスリット状噴射口の搬送方向と直行する方向に対す
る角度θを調整ができる。請求項４の発明依れば搬送面
に垂直な方向に対する角度φ1等を可変にすることでエ
アナイフの噴射口から噴出される噴流が搬送方向とは逆
方向へと方向づけられるから、基板に付着する処理液が
確実に角部へ押し流され、残留処理液を確実に吹き飛ば
すことができる。前記載の請求項６の発明によれば、本
発明のスリット状の噴射口を複数有する基板の液切り装
置を搬送面の上側、及び下側に対に設置した効果は基板
角部に残留してしまう処理液に関して、その箇所に対応
する上下両面のスリット状噴射口の搬送方向と直行する
方向に対しての傾きを調節することで、残留処理液を吹
き飛ばす能力の向上を図ることができ、基板の上面およ
び下面の両面に付着した処理液を完全に吹き飛ばすこと
ができ、その改善の効果により基板２のサイズの大型
化、及び搬送のスピードアップ、と乾燥工程の安定を達
成するスリット状の噴射口を複数有する基板の液切り装
置を提供することできる。
【図１】本発明のスリット状の噴射口を複数有する基板
の液切り装置の平面図である。
の液切り装置の平面図である。
【図２】図１の基板の液切り装置を備えた洗浄処理装置
の一実施例の側面図である。
の一実施例の側面図である。
【図３】図１の複数ののスリット状噴射口を有するエア
ナイフで構成される基板の液切り装置の側面図である。
ナイフで構成される基板の液切り装置の側面図である。
【図４】図１の液切りの状態を示した平面図である。
【図５】従来の基板の液切り装置を説明する平面図であ
る。
る。
【図６】図５の１個スリット状噴射口を有するエアナイ
フで構成される基板の液切り装置の平面図である。
フで構成される基板の液切り装置の平面図である。
１…搬送ローラ
２…基板
３…基板角部
４…処理液
５…基板の液切り装置
６…（従来の）エアナイフ
６ａ…（従来の）スリット状噴射口
７…（本発明の）エアナイフ
７ａ…（本発明の）スリット状噴射口
９…乾燥槽
１０…洗浄ノズル
１１…高圧気体のタンク
１２…流量制御弁
１３…高圧エア発生装置
Claims (6)
- 【請求項１】搬送される基板の表面に向けてエアナイフ
のスリット状の噴射口から気体を噴射するようにした基
板の液切り装置において、スリット状噴射口を複数有
し、搬送方向と直交する方向に対して傾けられており、
前記噴射口が、搬送方向に対して垂直方向に並べられて
あることを特徴とするスリット状の噴射口を複数有する
基板の液切り装置。 - 【請求項２】請求項１記載の基板の液切り装置におい
て、設けられた複数のスリット状噴射口毎にエアナイフ
が独立した構成をもつことを特徴とするスリット状の噴
射口を複数有する基板の液切り装置。 - 【請求項３】請求項１又は請求項２記載の基板の液切り
装置において、設けられた複数のスリット状の噴射口の
少なくともひとつが、搬送方向と直交する方向に対する
傾きが可変となっていることを特徴とする複数のスリッ
ト状の噴射口を有する基板の液切り装置。 - 【請求項４】請求項１又は請求項２又は請求項３記載の
基板の液切り装置において、搬送面に垂直な方向に設置
されている複数のスリット状噴射口の少なくともひとつ
が搬送面に垂直な方向に対する傾きが可変であることを
特徴とする複数のスリット状の噴射口を有する基板の液
切り装置。 - 【請求項５】請求項１又は請求項２又は請求項３記載の
基板の液切り装置において、設けられた複数のスリット
状噴射口毎にエアナイフが独立した構成をもつ複数のス
リット状の噴射口を有する基板の液切り装置において、
設けられた複数のスリット状噴射口から、高圧で噴射さ
れる気体の量を、少なくともひとつの噴出口で増大させ
ることを特徴とするスリット状の噴射口を有する基板の
液切り装置。 - 【請求項６】搬送される基板の表面に向けてエアナイフ
のスリット状の噴射口から気体を噴射するようにした基
板の液切り装置であって、スリット状噴射口を複数有
し、搬送方向と直交する方向に対して傾けられており、
前記噴射口が、搬送方向に対して垂直方向に並べられて
いる基板の液切り装置において、搬送面の上側及び、下
側に対になって設置することを特徴とするスリット状の
噴射口を複数有する基板の液切り装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2001217958A JP2003031546A (ja) | 2001-07-18 | 2001-07-18 | スリット状の噴射口を複数有する基板の液切り装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2001217958A JP2003031546A (ja) | 2001-07-18 | 2001-07-18 | スリット状の噴射口を複数有する基板の液切り装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2003031546A true JP2003031546A (ja) | 2003-01-31 |
Family
ID=19052204
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2001217958A Pending JP2003031546A (ja) | 2001-07-18 | 2001-07-18 | スリット状の噴射口を複数有する基板の液切り装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2003031546A (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR20170093850A (ko) * | 2014-12-05 | 2017-08-16 | 레나 테크놀로지스 게엠베하 | 기판 처리 장치 |
| KR101831142B1 (ko) * | 2016-06-20 | 2018-02-22 | 주식회사 우리선테크 | 도금 기판의 세정용 조성물 및 이를 이용한 기판 세정 장치 |
| WO2019011382A1 (de) * | 2017-07-14 | 2019-01-17 | RENA Technologies GmbH | Trocknungsvorrichtung und verfahren zur trocknung eines substrats |
| CN112020481A (zh) * | 2018-02-27 | 2020-12-01 | 康宁公司 | 用于干化材料片的设备和方法 |
-
2001
- 2001-07-18 JP JP2001217958A patent/JP2003031546A/ja active Pending
Cited By (9)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR20170093850A (ko) * | 2014-12-05 | 2017-08-16 | 레나 테크놀로지스 게엠베하 | 기판 처리 장치 |
| JP2017537858A (ja) * | 2014-12-05 | 2017-12-21 | レナ テクノロジー ゲーエムベーハーＲＥＮＡ Ｔｅｃｈｎｏｌｏｇｉｅｓ ＧｍｂＨ | サブストレートを処理するための装置 |
| US10529606B2 (en) | 2014-12-05 | 2020-01-07 | RENA Technologies GmbH | Device for treating substrates |
| US11270901B2 (en) | 2014-12-05 | 2022-03-08 | RENA Technologies GmbH | Method and device for treating substrates |
| KR102433121B1 (ko) | 2014-12-05 | 2022-08-16 | 레나 테크놀로지스 게엠베하 | 기판 처리 장치 |
| KR101831142B1 (ko) * | 2016-06-20 | 2018-02-22 | 주식회사 우리선테크 | 도금 기판의 세정용 조성물 및 이를 이용한 기판 세정 장치 |
| WO2019011382A1 (de) * | 2017-07-14 | 2019-01-17 | RENA Technologies GmbH | Trocknungsvorrichtung und verfahren zur trocknung eines substrats |
| CN112020481A (zh) * | 2018-02-27 | 2020-12-01 | 康宁公司 | 用于干化材料片的设备和方法 |
| CN112020481B (zh) * | 2018-02-27 | 2023-02-03 | 康宁公司 | 用于干化材料片的设备和方法 |
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