JPH09213669A - 基板処理装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 設備コストを廉価に抑えた上で、基板の薬液
処理部から水洗部への搬送時に、基板の表裏面の液切り
を確実に行うことができ、かつ、薬液と洗浄水との混合
が起こらないようにする。 【解決手段】 複数の処理槽内で基板Ｂを搬送させつ
つ、それぞれ異なる処理液を基板Ｂに供給して所定の処
理を施す基板Ｂ処理装置において、上記複数の処理槽内
で基板Ｂを所定の搬送方向に搬送する搬送手段８と、複
数の処理槽の一つである薬液処理槽内で薬液を基板Ｂに
供給する薬液供給ノズルと、薬液処理槽２１の搬送方向
の下流側に隣接する液置換槽４１内で、基板Ｂの一方の
主面に向かう方向であり、かつ上記搬送方向に向かう方
向に、薬液と異なる洗浄水を帯状に吐出する第１リキッ
ドナイフ４２１と、上記第１リキッドナイフ４２１より
上記搬送方向の下流側に配置され記液置換槽４１内で、
一方の主面に向かう方向であり、かつ基板搬送方向と逆
方向に向かう方向に、洗浄水を帯状に吐出する第２リキ
ッドナイフ４２２とを有している。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、液晶用のガラス基
板、フォトマスク用のガラス基板等を対象とし、これら
基板の主面に所定の処理液を供給することによって所定
の処理を施す基板処理装置に関するものである。

【０００２】

【従来の技術】従来、前工程で所定の処理が施された基
板に薬液を供給した後、洗浄水による洗浄処理を施して
から後工程に搬送するようにした基板処理装置が知られ
ている。かかる基板処理装置は、薬液処理部、水洗部お
よび乾燥部が直列に配設されて形成されている。これら
薬液処理部、水洗部および乾燥部を貫通するように基板
の搬送手段が敷設され、基板はこの搬送手段によって基
板処理装置内を薬液処理部、水洗部および乾燥部の順に
搬送されつつ処理される。

【０００３】そして基板は、薬液処理部においてアルカ
リ洗浄液、現像液、エッチング液あるいは剥離液等の薬
液が表裏面に供給されて所定の処理が施され、ついで水
洗部において水洗処理が施され、最後に乾燥部において
気体の噴射等による乾燥処理が行われるようになってい
る。

【０００４】ところで、薬液処理部で薬液による所定の
処理が施された基板は、その表裏面に薬液が付着した状
態になっているため、そのまま薬液処理部から水洗部に
移されると、水洗部内に薬液が持ち込まれることにな
り、循環使用される洗浄水が薬液の混入によって汚染さ
れ、洗浄水の水質が悪化するという不都合が生じる。

【０００５】そこで、通常、薬液処理部と水洗部との境
界部分にエアーナイフが配設され、その気体吐出口から
基板の表裏面に向けて帯状の気体を吹き付け、基板の表
裏面に付着している薬液を、基板の表裏面が乾燥しない
程度に薬液処理部内に向けて吹き飛ばし、これによって
薬液の水洗部への持ち込みを防止するようにしている。

【０００６】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、近年、
基板の大型化に伴い、基板が薬液処理部で薬液の供給を
受けつつ水洗部で洗浄水の供給を受けるという事態が生
じるようになり、たとえ薬液処理部と水洗部との境界部
分でエアーナイフから基板の表裏面に向けて気体を噴射
しても、基板の上流側の表裏面には薬液が、下流側の表
裏面には洗浄水が同時に供給された状態になるため、基
板の表裏面を通って薬液が洗浄部に入り込んだり、逆に
洗浄水が薬液処理部に移動したりすることがあり、境界
部分で液の確実な置換が行われなくなるという問題点が
発生するようになった。

【０００７】かかる問題点を解消するために、薬液処理
部および水洗部の処理槽の容量を大きくし、基板が薬液
処理部と水洗部との境界部分に差し掛かった状態では、
薬液および洗浄水のいずれもが基板に供給されないよう
にすることが考えられるが、このようにすると処理槽を
大型化しなければならず、設備コストが嵩むという新た
な問題点が発生する。

【０００８】一方、処理槽が大型化することによって、
上記境界部分でエアーナイフから基板の表裏面に吐出さ
れる気体により基板の表裏面が乾燥してしまうことがあ
り、基板の表裏面が乾燥すると、そこに薬液の成分がシ
ミになって残留することになる。そして、このシミはつ
ぎの水洗処理によっても取り除くことができず、最終的
に基板が乾燥処理された後にこのシミからパーティクル
が発生し、これによって基板の表裏面が汚染されるとい
う問題点も有している。

【０００９】本発明は、上記のような問題点を解決する
ためになされたものであり、設備の大型化を抑えた上
で、基板の薬液処理部から水洗部への搬送時に、基板の
表裏面の処理液の置換を確実に行わせ得る基板処理装置
を提供することを目的としている。

【００１０】

【課題を解決するための手段】請求項１記載の発明は、
複数の処理槽内で基板を搬送させつつ、それぞれ異なる
処理液を基板に供給して所定の処理を施す基板処理装置
において、上記複数の処理槽内で基板を所定の搬送方向
に搬送する基板搬送手段と、上記複数の処理槽の一つで
ある第１処理槽内で第１処理液を基板に供給する第１処
理液供給手段と、上記第１処理槽の上記搬送方向の下流
側に隣接する第２処理槽内で、基板の一方の主面に向か
う方向であり、かつ上記搬送方向に向かう方向に、第１
処理液と異なる第２処理液を帯状に吐出する第１リキッ
ドナイフと、上記第１リキッドナイフより上記搬送方向
の下流側に配置され、上記第２処理槽内で、上記一方の
主面に向かう方向であり、かつ上記搬送方向と逆方向に
向かう方向に、上記第２処理液を帯状に吐出する第２リ
キッドナイフとを有することを特徴とするものである。

【００１１】この発明によれば、基板搬送手段によって
第２処理槽に搬入された基板は、その主面に向けて第１
リキッドナイフおよび第２リキッドナイフから、それぞ
れ第２処理液が基板主面上で互いに衝突するように吐出
され、第２処理液が供給された面はその液流に曝される
ため、基板に付着している第１処理液は置換除去され、
これによって基板主面上は第１処理液が第２処理液に置
換された状態になる。従って、第２処理槽からつぎの処
理槽に搬送された基板にはすでに第１処理液が除去され
た状態になっているため、以後の処理槽における処理
は、第１処理液が存在しない状態で行われ、第１処理液
の存在による悪影響が防止される。

【００１２】そして、互いに対向した一対のリキッドナ
イフから基板を幅方向に横断するように帯状の第２処理
液が吐出されるため、搬送手段によって搬送されつつあ
る基板の表面に一様に、かつ、上流側処理部および下流
側の処理槽へは向かわない状態の液流が形成される。し
かも一対のリキッドナイフから吐出された処理液は基板
の表面で衝突し、この衝突によって基板の表面に処理液
の乱流が形成され、これによって基板表面の液置換効果
は向上する。そして、上記液流は第１処理槽および下流
側の処理槽に向かわないため、吐出後の第２処理液が第
１処理槽および下流側の処理槽のいずれにも侵入するこ
とがなく、上記侵入による各処理液の汚染が生じなくな
る。

【００１３】請求項２記載の発明は、請求項１記載の発
明において、上記第２処理槽内で、基板の他方の主面に
向かう方向であり、かつ上記搬送方向に向かう方向に、
第２処理液を帯状に吐出する第３リキッドナイフと、上
記第３リキッドナイフより上記搬送方向の下流側に配置
され、上記第２処理槽内で、上記他方の主面に向かう方
向であり、かつ上記搬送方向と逆方向に向かう方向に、
上記第２処理液を帯状に吐出する第４リキッドナイフと
を有することを特徴とするものである。

【００１４】この発明によれば、第１〜第４リキッドナ
イフによって基板の表裏面が第２処理液によって同時に
処理される。

【００１５】請求項３記載の発明は、請求項１または２
記載の発明において、上記基板搬送手段は、上記基板の
主面を上記搬送方向に向かって左右いずれかに傾斜させ
て保持しつつ、基板を上記搬送方向に搬送する手段であ
ることを特徴とするものである。

【００１６】この発明によれば、基板の主面に供給され
た第２処理液は、基板の傾斜を自然流下するため液流が
速くなり、基板主面上での第１処理液の第２処理液への
置換が迅速に行われるようになる。

【００１７】

【発明の実施の形態】図１は、本発明に係る基板処理装
置１の一実施形態を示す説明図である。この図に示すよ
うに、基板処理装置１は、薬液処理部２、水洗部３、お
よび乾燥部７がそれぞれ上流側（図１の左方）から下流
側に向けて相互に隣接しながら直列に配設されて形成さ
れている。そして、上記薬液処理部２、水洗部３、およ
び乾燥部７を上流側から下流側に向けて貫通するように
搬送手段８が設けられ、薬液処理部２に順次送り込まれ
た基板Ｂは、この搬送手段８によって搬送されつつ薬液
処理部２、水洗部３、および乾燥部７において所定の処
理が施される。

【００１８】本実施形態においては、搬送手段８はロー
ラコンベアが適用されている。このローラコンベアは、
矩形でガラス製の基板Ｂの搬送方向（図１の左方から右
方に向かう方向）に直交する方向に支持軸を配した複数
のローラ８１が等ピッチで搬送方向に並設されて形成さ
れている。そして、駆動している搬送手段８上に基板Ｂ
を載置することにより、図略の駆動手段の駆動による各
ローラ８１の同一方向の同期回転に伴って基板Ｂは搬送
方向に向けて搬送される。

【００１９】また、基板Ｂは、前工程からコンベアある
いはロボット等の上流側引継ぎ手段を介して薬液処理部
２内のローラ８１上に導入され、ついで搬送手段８の駆
動によるローラ８１の回転によって薬液処理部２、水洗
部３、および乾燥部７内を所定速度（例えば１ｍ／ｍｉ
ｎ）で搬送されつつ各部で所定の処理が施された後、乾
燥部７の下流端からコンベアあるいはロボット等からな
る下流側引継ぎ手段を介して次工程に向けて導出され
る。

【００２０】上記薬液処理部２は、搬送手段８によって
搬送されつつある基板Ｂの表裏にアルカリ洗浄液等の薬
液（第１処理液）を供給して基板Ｂを洗浄（薬洗）する
ためのものであり、内部に搬送手段８が敷設された薬液
処理槽（第１処理槽）２１、この薬液処理槽２１内に搬
送手段８を挟んで上下に配設された複数の薬液供給ノズ
ル２２、薬液を貯留する薬液槽２３、および、この薬液
槽２３内の薬液を薬液供給管路２３０を通して薬液供給
ノズル２２に供給する薬液ポンプ（薬液供給手段）２４
を備えている。

【００２１】上記薬液処理槽２１は、上流側および下流
側の壁部に基板Ｂを通過させる基板通過口１１を有して
おり、前工程からの基板Ｂは上流側の通過口１１を通っ
て薬液処理槽２１内に導入されるとともに、薬液処理部
２での薬洗処理が完了した基板Ｂは下流側の通過口１１
から水洗部３に向けて導出される。

【００２２】上記薬液供給ノズル２２は、各ローラ８１
の上部に形成された基板通過通路８０を挟むように上下
に設けられ、これら上下の薬液供給ノズル２２からの薬
液吐出によって基板Ｂの表裏面に薬液が供給されるよう
になっている。また、上記薬液ポンプ２４の下流側の薬
液供給管路２３０にはフィルター２５が介設され、薬液
供給ノズル２２に供給される薬液が濾過処理により清浄
化されるようにしている。そして、薬液処理槽２１内で
薬液供給ノズル２２から吐出され、基板Ｂの薬洗に使用
された後の薬液は、戻り管路２３１を通って薬液槽２３
に返され、薬液は循環使用される。

【００２３】上記水洗部３は、搬送手段８によって搬送
されつつある薬洗後の基板Ｂに洗浄水（第２処理液）を
供給して水洗するためのものであり、内部が仕切壁１２
によって３室に仕切られ、それぞれ上流側から液置換部
４、超音波洗浄部５、および仕上げ洗浄部６に区分され
ている。上記液置換部４、超音波洗浄部５、および仕上
げ洗浄部６は、それぞれ液置換槽（第２処理槽）４１、
超音波洗浄槽５１、および仕上げ洗浄槽６１を備えて形
成され、各槽は仕切壁１２に穿設された通過口１１によ
って連通されている。そして、基板Ｂは搬送手段８によ
り各通過口１１を通って液置換槽４１、超音波洗浄槽５
１、および仕上げ洗浄槽６１内に順次導入され、各槽な
いで所定の洗浄処理が施されたのち仕上げ洗浄槽６１の
下流側の通過口１１から乾燥部７に向けて導出されるよ
うになっている。

【００２４】上記液置換部４は、基板通路８０を挟むよ
うに上下に配設された２本ずつで合計４本のリキッドナ
イフ４２を有し、超音波洗浄部５は、基板通路８０を通
過する基板Ｂの表面に吐出口を向けた超音波水供給ノズ
ル５２を有している。また、仕上げ洗浄部６は、基板通
路８０を挟むように上下に配設された純水供給ノズル６
２を有している。

【００２５】上記リキッドナイフ４２は、基板Ｂの搬送
方向に直交しかつ水平方向に延びる細長いスリット状の
液吐出口を備えている。このリキッドナイフ４２の２本
が液吐出口を互いに斜めに対向させた状態で基板通路８
０の上部に設けられているとともに、他の２本が基板通
路８０の下部に同様に設けられている。具体的には、図
２に示すように、液置換槽４１内で、基板Ｂの表面（一
方の主面）に向かう方向であり、かつ基板搬送方向に向
かう方向に洗浄水を吐出する第１リキッドナイフ４２１
が設けられ、この第１リキッドナイフ４２１より基板搬
送方向の下流側に第１リキッドナイフ４２１に対向して
配置され、かつ、基板搬送方向と逆方向に向かう方向に
第２処理液を帯状に吐出する第２リキッドナイフ４２２
が設けられている。また、これらと基板通路８０を挟ん
で上下対象に、かつ、基板Ｂの裏面に洗浄水を供給する
第３リキッドナイフ４２３および第４リキッドナイフ４
２４が設けられている。

【００２６】一方、水洗部３の近傍には第１水槽４３お
よび第２水槽５３が配置され、第１水槽４３とリキッド
ナイフ４２との間にナイフ用ポンプ４４およびフィルタ
ー４５の介設された第１管路４３０が設けられている。
そして、第１水槽４３内の洗浄水は、ナイフ用ポンプ４
４の駆動によって第１管路４３０を通して汲み上げら
れ、フィルター４５によって清浄化されたのちリキッド
ナイフ４２から基板Ｂの表裏面に供給され、これによっ
て基板Ｂに付着している薬液を洗い落すようになってい
る。そして、リキッドナイフ４２から吐出された洗浄水
は、排水管路４３１を通って系外に排出される。

【００２７】上記第２水槽５３と超音波水供給ノズル５
２との間には第２管路５３０が設けられている。この第
２管路５３０には超音波水用ポンプ５４およびフィルタ
ー５５が介設され、超音波水用ポンプ５４の駆動によっ
て第２水槽５３内の洗浄水がフィルター５５で清浄化さ
れたのち超音波水供給ノズル５２に供給されるようにな
っている。

【００２８】超音波水供給ノズル５２は、洗浄水に超音
波振動を付与する機能を備えたノズルであり、内部に図
略の超音波発振器を有している。超音波水供給ノズル５
２に供給された洗浄水は、この超音波発振器によって略
４０ｋＨｚの振動が付与された状態で吐出口から吐出さ
れ、この洗浄水の超音波振動によって基板Ｂに洗浄処理
が施される。そして、超音波水供給ノズル５２から基板
Ｂに供給された洗浄水は基板Ｂの表面を洗浄した後、戻
り管路５３１を通って第２水槽５３に返送される。

【００２９】上記仕上げ洗浄部６は、基板Ｂに最終段階
の洗浄処理を施す部分であり、純水を用いて洗浄され
る。仕上げ洗浄槽６１内には基板通路８０を挟むように
所定本数の純水供給ノズル６２が配設されている。各純
水供給ノズル６２には純水源６３からの純水が純水管路
６３０を介して供給されるようになっており、基板通路
８０を通過中の基板Ｂの表裏面に純水を供給することに
よって仕上げの洗浄処理を行うようにしている。

【００３０】この仕上げ洗浄部６においては、基板通路
８０の上方にリキッドナイフタイプの純水供給ノズル６
２が設けられているとともに、基板通路８０の下方には
コーンタイプ等の純水供給ノズル６２が設けられてい
る。そして、純水供給ノズル６２から吐出された純水
は、基板Ｂの表裏面を洗浄した後、戻り管路６３１を通
して第２水槽５３に戻される。

【００３１】上記乾燥部７は、水洗部３の仕上げ洗浄部
６から導出された基板Ｂを乾燥するものであり、乾燥槽
７１と、この乾燥槽７１内の基板通路８０を挟むように
設けられた上下一対のエアーナイフ７２とを備えてい
る。上記乾燥槽７１の上流壁および下流壁には通過口１
１が開口され、これらの通過口１１を介して乾燥槽７１
に対する基板Ｂの搬入および搬出が行われる。上記乾燥
槽７１は、基板Ｂの搬送方向に直交するように設けられ
たスリット状の気体吐出口を有しており、この気体吐出
口から清浄化された帯状のエアーを基板Ｂの表裏面に吹
き付けることにより基板Ｂを乾燥するようにしている。

【００３２】そして、各エアーナイフ７２は気体管路７
３０を介してエアー源７３に接続され、エアー源７３か
らの高圧気体がエアーナイフ７２に供給されるようにな
っている。また、乾燥槽７１と第２水槽５３との間には
戻り管路７３１が接続され、乾燥槽７１の底部に溜った
純水を第２水槽５３に導入し得るようにしている。

【００３３】図２は、図１に示す液置換槽４１の一部切
欠き斜視図である。図２に示すように、液置換部４の液
置換槽４１内には、複数のローラ８１の上部に形成され
た基板通路８０を上下から挟むように、一対ずつで合計
４本のリキッドナイフ４２が配設されている。各リキッ
ドナイフ４２は、基板通路８０を横断する方向に延びる
ナイフ本体４２ａ、このナイフ本体４２ａの内部に長手
方向に延びるように形成された液通路４２ｂ、およびこ
の液通路４２ｂに帯状で連通し、かつ、先端部で長手方
向に延びるように開口したスリット状の吐出口４２ｃを
備えて形成されている。

【００３４】そして、基板通路８０の上方側に設けられ
た一対のリキッドナイフ４２は、各吐出口４２ｃからの
液流がそれぞれ斜めに互いに接近する方向に吐出され、
これによって基板Ｂが存在しないときには、液流の交差
位置が基板通路８０の下方に形成されるように側面視で
Ｖ字形状に配設されている。また、各リキッドナイフ４
２は、それぞれの吐出口４２ｃの下部にローラ８１上の
基板Ｂを通過させ得る空間が形成されるように位置設定
されている。

【００３５】また、基板通路８０の下方側に設けられた
一対のリキッドナイフ４２は、上方側の一対のリキッド
ナイフ４２に対して基板通路８０を挟んで上下対象に位
置設定されている。

【００３６】本実施形態では、液置換槽４１の互いに対
向した内側壁にリキッドナイフ４２の両端部を外嵌し得
るナイフ支持部４２ｄを備えたナイフ支持部材４２ｅが
固定され、これらナイフ支持部材４２ｅのナイフ支持部
４２ｄにリキッドナイフ４２の両端部を嵌め込むことに
よってリキッドナイフ４２が液置換槽４１内に装着さ
れ、また、リキッドナイフ４２の中央頂部は、第１管路
４３０の先端部に設けられたジョイント部材４２ｆが接
続し得るように構成され、このジョイント部材４２ｆを
リキッドナイフ４２に接続することにより、ナイフ用ポ
ンプ４４によって昇圧された第１水槽４３内の洗浄水が
第１管路４３０およびジョイント部材４２ｆを介してリ
キッドナイフ４２の液通路４２ｂに供給される。

【００３７】かかるリキッドナイフ４２の構成および液
置換槽４１内における配置によれば、液置換槽４１内の
ローラ８１上の基板通路８０に基板Ｂが存在する状態
で、上部のリキッドナイフ４２の各吐出口４２ｃから吐
出された洗浄水は、それぞれ斜めに基板Ｂの表面に衝突
し、しかも左右の吐出口４２ｃからの液流が基板Ｂの表
面で衝突し、この衝突によって基板Ｂ上の洗浄水が吐出
される吐出域Ｒに激しい乱流が生じる。

【００３８】上記乱流の形成された後の吐出域Ｒの洗浄
水は、基板Ｂの幅方向両側部から液置換槽４１の底部に
落下する。この吐出域Ｒにおける乱流の形成によって、
薬液処理部２で付与され、基板Ｂの表面に付着している
薬液が洗い流され、これによって基板Ｂの表面には薬液
が除去され、洗浄水に置換される。同様に基板Ｂの裏面
についても、下方の一対のリキッドナイフ４２から吐出
される洗浄水によって洗浄され、基板Ｂの裏面の薬液も
洗浄水に置換される。

【００３９】そして、本実施形態においては、各リキッ
ドナイフ４２が液置換槽４１内に装着された状態で、吐
出口４２ｃからの液流の基板搬送面に対する角度は１０
°〜８０°に設定されている。

【００４０】上記角度が１０°〜８０°に設定されるの
は、１０°未満であると互いに対向した吐出口４２ｃか
ら吐出された洗浄水が基板Ｂ上で正面衝突した状態にな
り、これによって洗浄水の飛沫が飛散し、それが薬液処
理槽２１内に侵入するおそれがあり、また、８０°を越
えると、吐出口４２ｃから突出された洗浄水が基板Ｂに
反射しただけで基板Ｂの両側部から流れ落ちてしまい、
吐出域Ｒに適切な乱流が形成されず、基板Ｂに対する良
好な置換効果が得られ難いからである。なお、本実施形
態においては、上記角度は略３０°に設定されている。

【００４１】また、液置換槽４１内のローラ８１は、ロ
ーラ支持軸８２、このローラ支持軸８２の中央部に設け
られた中央ローラ８３、および上記ローラ支持軸８２の
両側部に設けられ、かつ、外側に鍔部８４ａを有する一
対の側部ローラ８４からなる、いわゆる部分支持型ロー
ラが採用されている。そして、基板Ｂは、その幅方向両
側部が左右の側部ローラ８４に、中央部が中央ローラ８
３に載置され、かつ、左右の鍔部８４ａにより幅方向の
移動が規制された状態で複数のローラ８１に支持され、
図略の駆動手段によるローラ８１の回転駆動によって搬
送される。

【００４２】かかる部分支持型のローラ８１を用いるこ
とにより、ローラ８１と基板Ｂ裏面との接触面積を少な
くし、基板Ｂの裏面への洗浄水の供給を良好に行い得る
ようにしている。なお、このローラ８１は、薬液処理槽
２１、超音波洗浄槽５１、洗浄槽６１、および乾燥槽７
１にも採用され、これによって他の洗浄過程や乾燥過程
での基板Ｂの裏面の処理を行い易くするとともに、ロー
ラ８１との接触による基板Ｂの裏面の汚染を最小限に抑
えることができる。

【００４３】図３は、液置換槽４１における液切り処理
の前半を説明するための説明図であり、（イ）は、基板
Ｂが液置換槽４１内に導入される直前の状態、（ロ）
は、基板Ｂの上流側端部が吐出域に突入した状態、
（ハ）は、基板Ｂの前半部分が液切り処理されつつある
状態をそれぞれ示している。なお、図３の（ロ）および
（ハ）においては、リキッドナイフ４２から吐出された
洗浄液の状態を判り易くするために、右側に斜視図を示
している。

【００４４】また、図４は、液置換槽４１における液切
り処理の後半を説明するための説明図であり、（イ）
は、基板Ｂの後半部分が液切り処理されつつある状態、
（ロ）は、基板Ｂの下流側端部が吐出域から抜け出しつ
つある状態、（ハ）は、基板Ｂが液置換槽４１から導出
される直前の状態をそれぞれ示している。

【００４５】まず、図３の（イ）に示すように、基板Ｂ
が液置換槽４１内に導入される前であって、液置換槽４
１内の吐出域Ｒに基板Ｂが存在していない状態では、各
リキッドナイフ４２から吐出された洗浄水は、吐出域Ｒ
まで到達した後そのまま液置換槽４１の底部に落下して
いる。

【００４６】ついで基板Ｂが吐出域Ｒに突入すると、図
３の（ロ）に示すように、基板Ｂの下流側の端部の表裏
面に左側の上下のリキッドナイフ４２から吐出される洗
浄水が供給され、これによって基板Ｂの表裏面の洗浄水
による洗浄が開始され、薬液処理槽２１で基板Ｂの表裏
面に付着した薬液が基板Ｂの搬送に伴って順次洗い流さ
れる。

【００４７】そして、基板Ｂの下流側の端部が吐出域Ｒ
を通過した状態では、図３の（ハ）および図４の（イ）
に示すように、基板Ｂの中央部分が完全に吐出域Ｒに位
置した状態になり、これによって洗浄液が上流側および
下流側の上下のリキッドナイフ４２から基板Ｂの表裏面
に向かって吐出される。

【００４８】この吐出によって、図３の（ハ）の右側の
斜視図に示すように、上流側のリキッドナイフ４２の吐
出口４２ｃ（図２）からの液流と、下流側の吐出口４２
ｃ（図２）からの液流とが、基板Ｂの表裏面における吐
出域Ｒの中央部で互いに衝突し、これによって基板Ｂの
表裏面で洗浄液の乱流が形成され、この乱流によって薬
液の除去効果が向上する。

【００４９】そして、基板Ｂの表裏面を洗浄した後の洗
浄水は、基板Ｂの幅方向両側部から液置換槽４１の底部
に向けて落下し、図１に示すように、排水管路４３１を
通って系外に排出される。この洗浄処理後の洗浄液が循
環使用されずに系外に排出されるのは、洗浄処理後の洗
浄水には多くの薬液が含まれており、これを循環使用す
ると、基板Ｂに供給する洗浄水が薬液で汚染された状態
になり、液置換槽４１内での基板Ｂの表裏面からの薬液
洗い落し用として不適になるからである。

【００５０】ついで、基板Ｂの前進により吐出域Ｒにお
いてその下流側の端部が上流側の上下のリキッドナイフ
４２から吐出される洗浄水を供給されない位置に到達す
ると、図４の（ロ）に示すように、基板Ｂの表裏面は、
下流側の上下のリキッドナイフ４２から吐出された洗浄
液を受けるのみとなるため、基板Ｂの表裏面には上流側
に向かう液流が形成され、この一方向に向かう液流によ
って基板Ｂの表裏面は順次処理が施された状態になる。

【００５１】そして、図４の（ハ）に示すように、基板
Ｂがその前進によって吐出域Ｒから抜け出した状態で
は、基板Ｂはその表裏面に付着していた薬液が洗浄液と
置換され、しかも乾燥しない程度に液切りされた状態に
なり、つぎの超音波洗浄槽５１に送り込まれる。また、
各リキッドナイフ４２から吐出された洗浄水は吐出域Ｒ
を通って液置換槽４１の底部に落下し、つぎに搬送され
てくる基板Ｂを待つ状態になる。

【００５２】本実施形態の基板処理装置１は、以上詳述
したように、水洗部３が液置換部４（液置換槽４１）、
超音波洗浄部５（超音波洗浄槽５１）、および仕上げ洗
浄部６（仕上げ洗浄槽６１）に３分割され、しかも液置
換槽４１と超音波洗浄槽５１との間は仕切壁１２によっ
て下部に溜った液が相互に混ざり合わないように仕切ら
れた状態で、液置換槽４１においてリキッドナイフ４２
から吐出される洗浄水により基板Ｂの表裏面を洗浄し、
液切りするようにしているため、薬液処理部２において
薬液が供給されることによって表裏面に薬液の付着した
基板Ｂの薬液は液置換槽４１内で確実に洗い落され、し
かも表裏面が乾燥しない程度に液切りされた状態でつぎ
の超音波洗浄槽５１に送り込まれる。

【００５３】従って、薬液処理部２と水洗部３との境界
部分にエアーナイフを設け、これより吐出される気流に
よって基板Ｂの表裏面に付着している薬液を吹き飛ばす
ようにした従来の液切り方式に比較し、基板Ｂ上の薬液
の除去効果は向上するとともに、基板Ｂの搬送に伴った
洗浄水の薬液処理槽２１内への混入や薬液の超音波洗浄
槽５１への持ち込みが確実になくなり、薬液処理槽２１
で循環使用する薬液の劣化や超音波洗浄槽５１で循環使
用する洗浄水の汚染が確実に防止され、これらによって
基板Ｂの洗浄処理効果も向上する。

【００５４】また、たとえ基板の大型化が行われても、
薬液処理槽２１と液置換槽４１との境界部分を通過する
基板Ｂ上に薬液および洗浄水が供給されないようにする
ために薬液処理槽２１および液置換槽４１の設備容量を
大きくするようなことを行う必要はなく、設備コストの
増大を抑制する上での効果も大きい。

【００５５】本発明は、上記の実施形態に限定されるも
のではなく、以下の内容をも包含するものである。

【００５６】（１）上記の実施形態形態においては、基
板Ｂは水平姿勢で搬送されるようにしているが、基板Ｂ
を搬送方向に直交する面内において傾斜するようにした
傾斜姿勢で搬送するようにしてもよい。こうすることに
よって、液置換槽４１内において上流側および下流側の
リキッドナイフ４２から吐出された洗浄水は、基板Ｂの
傾斜に沿って流下するため、液切り効果が向上する。ま
た、基板Ｂを傾斜姿勢にすると、リキッドナイフ４２を
基板Ｂの傾斜面に沿う上方側に配置することによって吐
出口４２ｃから吐出された洗浄水が基板Ｂの傾斜面に沿
って流下し、基板Ｂの傾斜面の下方側も洗浄し得るた
め、リキッドナイフ４２の長さ寸法を短くすることが可
能になる。

【００５７】（２）上記の実施形態においては、薬液処
理槽２１において、基板Ｂに薬液供給ノズル２２からの
薬液が散布供給されるようにしているが、薬液が例えば
現像液である場合、薬液処理槽２１内に基板Ｂの搬送高
さレベルを越えるように薬液を貯留し、基板Ｂを薬液内
に潜らせながら搬送手段８によって搬送するようにして
もよい。

【００５８】（３）上記の実施形態においては、液置換
槽４１内において、基板通路８０を挟むように上下にリ
キッドナイフ４２が配設され、基板Ｂの表裏面をリキッ
ドナイフ４２から吐出される洗浄水で洗浄処理するよう
にしているが、こうする代わりにリキッドナイフ４２は
基板通路８０の上方または下方のいずれか一方にのみ設
けてもよい。

【００５９】（４）上記の実施形態においては、液置換
槽４１内において、左方および右方の双方にリキッドナ
イフ４２が設けられているが、こうする代わりに左方お
よび右方のリキッドナイフ４２の内のいずれか一方をエ
アーナイフや液切りローラ等の他の液切り手段に代えて
もよい。

【００６０】（５）上記の実施形態においては、液置換
槽４１内において、リキッドナイフ４２から洗浄水が常
に吐出されるようにしているが、こうする代わりに、液
置換槽４１内の適所に基板Ｂの進入および進出を検出す
るセンサを設け、このセンサによって基板Ｂが被処理域
に存在することが検出されたときのみリキッドナイフ４
２から洗浄水を吐出させるようにしてもよい。

【００６１】（６）上記の実施形態においては、基板Ｂ
の表面の一対のリキッドナイフ４２は、基板の幅方向に
延びるように相互に平行に配設されているが、こうする
代わりに、少なくとも一方のリキッドナイフ４２を基板
Ｂの幅方向に対して斜めに配設してもよい。こうするこ
とによって、一対のリキッドナイフ４２から基板Ｂの表
面に吐出された洗浄水は、リキッドナイフ４２間の幅広
部分に向けて流れ易くなり、洗浄効果が向上する。

【００６２】

【発明の効果】上記請求項１記載の発明によれば、搬送
中の基板の一方の主面に向けて第１リキッドナイフおよ
び第２リキッドナイフから互いに逆向けに、かつ、主面
上で衝突するように第２処理液が供給されるようにして
いるため、基板に付着している第１処理液は、第１およ
び第２リキッドナイフからの第２処理液による液置換処
理によって置換され、基板上では第１処理液が第２処理
液に置換された状態になり、最上流側の処理槽からつぎ
の処理槽に搬送された基板にはすでに第１処理液が除去
された状態になっており、以後の下流側処理部における
処理は、第１処理液が存在しない状態で行われ、これに
よって第１処理液の存在による悪影響を確実に防止する
ことが可能になる。

【００６３】そして、一対のリキッドナイフから吐出さ
れた処理液は、基板の被処理液供給面で衝突し、この衝
突によって基板の主面に処理液の乱流が形成され、これ
によって主面の液置換効果は向上するとともに、リキッ
ドナイフからの液流は第１処理槽および下流側の処理槽
に向かわず、第２処理液が第１処理槽および下流側の処
理槽のいずれにも侵入することがなく、上記侵入による
処理液の汚染を確実に防止することができる。

【００６４】上記請求項２記載の発明によれば、基板の
他方の主面をも対象にし、かつ、第１および第２リキッ
ドナイフにそれぞれ対応した第３および第４のリキッド
ナイフが設けられているため、第１〜第４リキッドナイ
フによって基板の表裏面を第２処理液によって同時に処
理することが可能になる。

【００６５】上記請求項３記載の発明によれば、基板搬
送手段は、基板を搬送方向に向かって左右いずれかに傾
斜させて保持しつつ、いわゆる傾斜姿勢で搬送方向に搬
送するようにしているため、基板の主面に供給された第
２処理液は、基板の傾斜を自然流下して液流が速まり、
基板主面上での第１処理液の第２処理液への置換を迅速
に行わせることができるようになる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明に係る基板処理装置の一実施形態を示す
説明図である。

【図２】図１に示す液置換槽の一部切欠き斜視図であ
る。

【図３】（イ）〜（ハ）は液置換槽における液切り処理
の前半を説明するための説明図である。

【図４】（イ）〜（ハ）は液置換槽における液切り処理
の後半を説明するための説明図である。

【符号の説明】

１ 基板処理装置 ２ 薬液処理部 ２１ 薬液処理槽 ２２ 薬液供給ノズル ３ 水洗部 ４ 液置換部 ４１ 液置換槽 ４２ リキッドナイフ ４２１ 第１リキッドナイフ ４２２ 第２リキッドナイフ ４２３ 第３リキッドナイフ ４２４ 第４リキッドナイフ ４２ａ ナイフ本体 ４２ｂ 液通路 ４２ｃ 吐出口 ４３ 第１水槽 ５ 超音波洗浄部 ６ 仕上げ洗浄部 ７ 乾燥部 Ｂ 基板

Claims (3)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 複数の処理槽内で基板を搬送させつつ、
   それぞれ異なる処理液を基板に供給して所定の処理を施
   す基板処理装置において、 上記複数の処理槽内で基板を所定の搬送方向に搬送する
   基板搬送手段と、 上記複数の処理槽の一つである第１処理槽内で第１処理
   液を基板に供給する第１処理液供給手段と、 上記第１処理槽の上記搬送方向の下流側に隣接する第２
   処理槽内で、基板の一方の主面に向かう方向であり、か
   つ上記搬送方向に向かう方向に、第１処理液と異なる第
   ２処理液を帯状に吐出する第１リキッドナイフと、 上記第１リキッドナイフより上記搬送方向の下流側に配
   置され、上記第２処理槽内で、上記一方の主面に向かう
   方向であり、かつ上記搬送方向と逆方向に向かう方向
   に、上記第２処理液を帯状に吐出する第２リキッドナイ
   フと、を有することを特徴とする基板処理装置。
2. 【請求項２】 請求項１記載の基板処理装置において、 上記第２処理槽内で、基板の他方の主面に向かう方向で
   あり、かつ上記搬送方向に向かう方向に、第２処理液を
   帯状に吐出する第３リキッドナイフと、 上記第３リキッドナイフより上記搬送方向の下流側に配
   置され、上記第２処理槽内で、上記他方の主面に向かう
   方向であり、かつ上記搬送方向と逆方向に向かう方向
   に、上記第２処理液を帯状に吐出する第４リキッドナイ
   フと、を有することを特徴とする基板処理装置。
3. 【請求項３】 請求項１または２記載の基板処理装置に
   おいて、 上記基板搬送手段は、上記基板の主面を上記搬送方向に
   向かって左右いずれかに傾斜させて保持しつつ、基板を
   上記搬送方向に搬送する手段であることを特徴とする基
   板処理装置。