JPH08502988A - 再石灰化デンタルケア製剤 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 通常の成分と、研磨成分としてシリカおよびリン酸二カルシウム二水和物（ブラッシュ石）の組み合わせとを含有する練歯磨は、歯の表面を特に良好に修復する。これは、特に擦傷および象牙細管における、調節的再石灰化によって達成される。この効果は、マグネシウムイオンおよび／またはフルオロリン酸イオンの添加によって更に向上し得る。

Description

【発明の詳細な説明】 再石灰化デンタルケア製剤 本発明は、歯表面の修復作用を有するデンタルケア製剤、および歯表面の修復 方法に関する。 デンタルケア製剤は主として、食物糟、変色、および強固に付着した細菌被膜 を歯表面から除去するために用いられる。また、特殊な添加剤、例えばフッ素化 合物または抗菌剤を組み合わせることによって、齲蝕または歯周炎のような歯科 疾患を予防する試みもなされている。 齲蝕の初期の一兆候として、エナメル質の病変および象牙細管（いわゆるトー ムス小窩）の開きが見られるが、これは酸生成細菌の作用下の溶解によって生じ るものである。象牙質にそのような損傷が起こると、例えば、歯頚が温度差に敏 感になる。知覚鈍麻剤を加えても、疼痛を抑制できるだけなので、アパタイトの 溶解性を低下する添加剤を組み合わせることによって、前記のような歯表面の病 変形成を予防する試みが、既になされている。再石灰化デンタルケア製剤を用い て、既存の損傷を軽減することも、最近提案されている。すなわち、チャウ（Ch ow）およびブラウン（Brown）は、象牙質の再石灰化のためにリン酸二カルシウ ム二水和物を使用することを提案した［ジャーナル・オブ・デンタル・リサーチ （Ｊ．Dent．Res．）、５４、（１９７５）、６５−７０］。米国特許第４０９ ７５８８号には、ＣａＨＰＯ₄・２Ｈ₂Ｏで飽和した再石灰化含嗽剤が記載されて いる。 しかし、そのようにして歯表面を修復しようとする既知の試みにおいては、歯 表面上におけるヒドロキシアパタイト結晶の成長を調節できない。それ故、歯表 面への更なる攻撃に対する抵抗性があまり得られない。従って、本発明の課題は 、とりわけ掻傷および象牙細管において、調節的な再石灰化を提供し、その部分 を実質的に平らにすることによって、歯表面を滑らかで連続的なものにする練歯 磨を開発することであった。 この課題は、本発明の研磨剤組み合わせによって好ましく解決されることがわ かった。 本発明は、研磨剤、フッ素化合物、湿潤剤、結合剤および水を含有する、歯表 面を修復するための練歯磨であって、研磨成分として、シリカとリン酸二カルシ ウム二水和物（ブラッシュ石）との、重量比１０：１ないし１：１の組み合わせ を含有する練歯磨に関する。本発明の練歯磨を用いて歯磨を続けると、象牙細管 が塞がり、歯表面が実質的に滑らかな状態に修復されることがわかった。 シリカ研磨剤としては、研磨剤として知られるゲルシリカ、ヒドロゲルシリカ および沈降シリカのいずれも適当である。ゲルシリカは、ケイ酸ナトリウム溶液 と水性強鉱酸とを反応させてヒドロゾルを生成し、エージングによりヒドロゲル を形成し、洗浄および乾燥することによって得られる。乾燥を穏やかな条件下に 行って、含水量を１５〜３５重量％とすれば、例えば米国特許第４１５３６８０ 号により既知の、いわゆるヒドロゲルシリカが得られる。含水量１５重量％未満 まで乾燥すると、緩んでいたヒドロゲルの構造が不可逆的に収縮して、いわゆる キシロゲルの密な構造になる。キシロゲルシリカは、例えば米国特許第３５３８ ２３０号に記載されている。 特に適当なシリカ研磨剤の第二の群は、沈降シリカである。沈降シリカは、ゾ ルおよびゲルへの凝集が起こり得ない条件下に、強酸を加えることにより、希ア ルカリ金属シリケート溶液からシリカを沈降させることによって得られる。沈降 シリカの適当な製法は、例えば、ドイツ連邦共和国公開特許第２５２２４８６号 および第３１１４４９３号に記載されている。ＢＥＴ表面積が１５〜１１０m²／ g；粒子サイズが０．５〜２０μ；一次粒子の少なくとも８０重量％が粒子サイ ズ５μ未満；および３０％グリセロール／水（１：１）分散液としての粘度が３ ０〜６０Ｐａ・ｓ（２０℃）である、ドイツ連邦共和国公開特許第３１１４４９ ３号に従って製造した沈降シリカが特に適当であり、練歯磨全体に対して１０〜 ２０重量％の量で使用する。 更に、特に適当な沈降シリカは、角および端の丸いもので、シデント（Sident 、商標）１２ＤＳ［デグッサ（ＤＥＧＵＳＳＡ）］の名称で市販されている。 平均粒子サイズ５μ未満のシリカを割合を充分高めるため、特に、一次粒子サ イズ１〜３μのシリカの割合を練歯磨全体に対して少なくとも３重量％とするた めには、前記沈降シリカと共に、ＢＥＴ表面積１５０〜２５０の、より細かいタ イプのものを使用することが好ましい。適当なタイプのシリカは、例えばシパー ナト（Sipernat、商標）２２ＬＳ（デグッサ）であって、練歯磨全体に対して１ 〜５重量％の量で使用する。 歯表面を滑らかにするためには、本発明の練歯磨は、新しく沈降したシリカ、 すなわち該練歯磨の製造中にその場で生成したシリカを少量含有することが、特 に有利であるとわかった。これは、例えば、練歯磨の製造中にｐＨを３〜５に保 ち（例えばクエン酸の添加による）、次いで少量のケイ酸ナトリウム水溶液を加 えてｐＨを７〜７．５に上昇することによって達成することができる。このよう にその場で生成したシリカは、非常に細かい粒子から成り、練歯磨の０．１重量 ％未満を占める。 本発明の練歯磨は、シリカ研磨剤に加えて、他の既知の研磨剤、例えばγ−お よびα−酸化アルミニウムを含有する軽度に焼成したアルミナの形態の酸化アル ミニウムをも、少量含有し得る。そのような酸化アルミニウムは、ポリエルトネ ルデＰ１０ファインスト（Poliertonerde Ｐ１０ feinst）［ジュリーニ−ヒ ェミー（Giulini−Chemie）］の名称で市販されている。しかし、そのような更 なる研磨成分と、シリカ研磨剤との重量比は、（１〜１５）：１００を越えない ようにすべきである。 第二の必須研磨成分は、ブラッシュ石として天然に存在するリン酸二カルシウ ム二水和物（ＣａＨＰＯ₄・２Ｈ₂Ｏ）である。リン酸二カルシウム二水和物は、 練歯磨中の研磨剤として長年用いられており、適当な粒子サイズ１〜５０μのも のが市販されている。練歯磨全体に対して１〜５重量％の量で使用することが好 ましい。 本発明の練歯磨は、カルシウムイオンを生成する他の研磨剤、例えば白亜また は他のリン酸カルシウムを含有すべきではない。 一方、マグネシウムイオンが、歯の病変部分におけるヒドロキシアパタイトの 調節的結晶成長に対し好ましい効果を示し、エナメル質の硬化を促進し、それ故 、本発明の課題の解決に更に寄与することがわかった。従って、本発明は、本発 明 の練歯磨であって、水溶性マグネシウム塩を、Ｍｇ０．１〜０．５重量％相当の 量で含有する練歯磨にも関する。適当なマグネシウム塩は、２０℃において少な くとも０．５重量％（Ｍｇ換算）の量で水に溶解する塩、例えばＭｇＳＯ₄、Ｍ ｇＣｌ₂およびモノフルオロリン酸マグネシウム（ＭｇＰＯ₃Ｆ）のいずれであっ てもよい。 フルオロリン酸イオンも、ヒドロキシアパタイトの調節的結晶成長に好ましく 作用することがわかった。従って、フッ素化合物として、モノフルオロホスフェ ートを０．２〜２．０重量％（ＰＯ₃Ｆ^-）の量で含有する本発明の練歯磨が好ま しい。この目的のために、例えばアルカリ金属塩が適当である。適当なアルカリ 金属塩の一例は、市販のモノフルオロリン酸ナトリウムである。フッ素化合物と してモノフルオロリン酸マグネシウムを用いることによって、マグネシウムイオ ンおよびフルオロリン酸イオンの好ましい含量を、特に有利に達成し得る。 本発明の練歯磨用の担体としては、湿潤剤、結合剤および水の組み合わせであ って、本発明に従って研磨剤と組み合わせた状態で、チューブ、ディスペンシン グ容器またはフレキシブルボトルから出すのに適当なコンシステンシーを示し得 るものが適当ある。 適当な湿潤剤は、例えばグリセロール、ソルビトール、キシリトール、プロピ レングリコール、ポリエチレングリコール（とりわけ平均分子量２００〜８００ のもの）である。適当なコンシステンシー調整剤（または結合剤）は、例えば、 天然および／または合成の水溶性ポリマー、例えばアルギネート、カラゲネート 、トラガカント、デンプンおよびデンプンエーテル、セルロースエーテル［例え ばカルボキシメチルセルロース（Ｎａ塩）、ヒドロキシエチルセルロース、メチ ルヒドロキシプロピルセルロース］、グアー、アラビアゴム、寒天、キサンタン ゴム、イナゴマメ粉、ぺクチン、水溶性カルボキシビニルポリマー［例えばカル ボポール（Carbopol）（商標）タイプのもの］、ポリビニルアルコール、ポリビ ニルピロリドンおよびポリエチレングリコールであり、特に分子量１５００〜１ ００００００のものである。 他の適当な粘度調整剤は、例えば層状シリケート（例えばモンモリロナイトク レー）、増粘コロイドシリカ（例えばエーロゲルシリカ、熱分解法シリカまたは 非 常に微細な沈降シリカ）である。 本発明に従って研磨剤組み合わせを含有する練歯磨を製造するための、特に適 当な担体は、 グリセロール １５ 〜２５重量％ ソルビトール １０ 〜２０重量％ ポリエチレングリコール（分子量４００） １ 〜 ５重量％ 増粘シリカ １ 〜 ５重量％ キサンタンゴム ０．１〜 １重量％ 水 ３５ 〜４５重量％ を含有する。 本発明の練歯磨は、粘度２０００〜１００００mＰａ・ｓ（２５℃）の「歯清 浄液体製剤」として、フレキシブルプラスチックボトルから歯ブラシに出して使 用することができるような低粘度に調節してもよい。そのような製剤は、歯ブラ シの毛の間に浸透するが、歯ブラシから滴り落ちることはない。この目的のため に適当な結合剤は、キサンタンゴム０．１〜１重量％と、 ・ヒドロキシプロピル置換ヒドロコロイド、または ・ポリエチレングリコール／ポリプロピレングリコールコポリマー（平均分子量 １０００〜５０００） から成る群から選択する粘度安定化添加剤０．０１〜５重量％との組み合わせか ら成ることが好ましい。 他の通常の練歯磨添加剤（合わせて、練歯磨組成の約５重量％までを占め得る ）は、例えば、清浄作用を補助するため、並びに場合によっては歯磨き中に泡を 発生するため、および担体中の研磨成分の分散を安定化するための界面活性剤で ある。適当な界面活性剤は、例えば、アルキル基中の炭素原子数１２〜１８の直 鎖状アルキル硫酸ナトリウムである。このような界面活性剤は、歯石の微生物代 謝に対して酵素阻害作用をも示す。他の適当な界面活性剤は、アルカリ金属塩、 好ましくはナトリウム塩の形態の、アルキルポリグリコールエーテルスルフェー ト（直鎖状アルキル基中の炭素原子数１２〜１６および分子中のグリコールエー テ ル基数２〜６）、直鎖状アルカン（Ｃ_12-18）スルホネート、スルホコハク酸モ ノアルキル（Ｃ_12-18）エステル、硫酸化脂肪酸モノグリセリド、硫酸化脂肪酸 アルカノールアミド、スルホ酢酸アルキル（Ｃ_12-16）エステル、アシルサルコ シン、アシルタウリドおよびアシルイセチオネート（アシル基中の炭素原子数８ 〜１８）である。双性イオン性、両性およびノニオン性界面活性剤、例えば、エ トキシレートの形態の、脂肪酸モノグリセリドおよびジグリセリド、並びに脂肪 酸ソルビタンエステルおよびアルキル（オリゴ）グルコシドも適当である。 他の通常の練歯磨添加剤は、 −防腐剤および抗微生物剤、例えばｐ−ヒドロキシ安息香酸メチル、エチルまた はプロピルエステル、ソルビン酸ナトリウム、安息香酸ナトリウム、ブロモクロ ロフェン、サリチル酸フェニルエステル、ビグアニド、チモールなど、 −甘味料、例えばサッカリンナトリウム、シクラミン酸ナトリウム、スクロース 、ラクトース、マルトース、フルクトース、 −香料、例えばぺパーミント油、スペアミント油、ユーカリ油、アニス油、ウイ キョウ油、カールム油、酢酸メンチル、シンナムアルデヒド、アネトール、バニ リン、チモール並びにそれらおよび他の天然および合成香料の混合物、 −顔料、例えば二酸化チタン、 −色素、 −緩衝剤、例えば第一級、第二級または第三級のアルカリ金属ホスフェートまた はクエン酸／クエン酸ナトリウム、 −創傷治癒および抗炎症物質、例えばアラントイン、尿素およびアズレン、カモ ミレ由来の活性物質、アセチルサリチル酸誘導体 である。 以下の実施例は、本発明を説明することを意図するものである。 実施例 本発明の練歯磨（実施例１、２および３）および比較練歯磨（実施例Ｃ）を調 製した（第Ｉ表参照）。 下記市販品を使用した： シデント１２ＤＳ：フランクフルト・アム・マインのデグッサ社の沈降シリカ ；ＢＥＴ表面積８０m²／g、圧縮嵩密度２２０g／l シパーナト２２ＬＳ：フランクフルト・アム・マインのデグッサ社の沈降シリ カ；ＢＥＴ表面積１９０m²／g、圧縮嵩密度８０g／l シリカ（Silica）ＦＫ３２０ＤＳ：フランクフルト・アム・マインのデグッサ 社の沈降シリカ；ＢＥＴ表面積１７０m²／g、圧縮嵩密度８０g／l ケルトロール（Keltrol）Ｆ：ブリュッセルのケルコ（ＫＥＬＣＯ）のキサン タンゴム テキサポン（Texapon）Ｋ１２９６顆粒：デュッセルドルフのヘンケル社（Hen kel ＫＧａＡ）のラウリル硫酸ナトリウム 効果 本発明の練歯磨（実施例１）および比較練歯磨（実施例Ｃ：リン酸二カルシウ ム二水和物および硫酸マグネシウムを含まない）を、次のような試験に付した。 ヒトの歯の歯冠（エナメル質試験用）および歯根（象牙質試験用）から、４× ５mm片を切り採り、表面を、湿潤研磨紙で擦り、次いで滑らかになるまで研磨ペ ーストで磨いた。 エナメル質片は更に、ヒドロキシアパタイト５００mg／lを含有する０．１Ｍ 乳酸水溶液により、ｐＨ４．６／３７℃で６時間浸蝕した。 このように調製したサンプルを、試験練歯磨（水で１：１希釈）で、１日２回 ５分間磨いた。それ以外の時間は、サンプルはＣａＨＰＯ₄・２Ｈ₂Ｏ懸濁液中に ３７℃で保存した。ＣａＨＰＯ₄・２Ｈ₂Ｏ懸濁液は、沈降（ＣａＣｌ₂＋Ｎａ₂Ｈ ＰＯ₄→ＣａＨＰＯ₄＋２ＮａＣｌ）により、１日２回（朝晩）新しく調製した。 このような処理を、２０日間にわたって行った。 処理前（すなわち片の研磨後）および処理終了時に、サンプル表面の走査電子 顕微鏡写真を撮影した。 倍率５０００：１の顕微鏡写真を、第１〜６図に示す。 第１図：未処理ヒトエナメル質 第２図：未処理ヒト象牙質 第３図：比較練歯磨Ｃで処理したヒトエナメル質 第４図：比較練歯磨Ｃで処理したヒト象牙質 第５図：実施例１の練歯磨で処理したヒトエナメル質。表面の掻傷内にヒドロ キシアパタイトが沈着したことがわかる。 第６図：実施例１の練歯磨で処理したヒト象牙質。沈着したヒドロキシアパタ イトによって、象牙細管が実質的に塞がったことが明らかである。

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １．研磨剤、フッ素化合物、湿潤剤、結合剤および水を含有する、歯表面を修 復するための練歯磨であって、研磨成分として、シリカとリン酸二カルシウム二 水和物（ブラッシュ石）との、重量比１０：１ないし１：１の組み合わせを含有 する練歯磨。 ２．水溶性マグネシウム塩を、Ｍｇ０．１〜０．５重量％相当の量で含有する 請求項１記載の練歯磨。 ３．フッ素化合物として、モノフルオロホスフェートを０．２〜２．０重量％ （ＰＯ₃Ｆ^-）相当の量で含有する請求項１または２記載の練歯磨。 ４．フッ素化合物としてモノフルオロリン酸マグネシウムを含有する請求項２ または３記載の練歯磨。 ５．研磨剤として、平均粒子サイズ０．５〜３０μの沈降シリカ１０〜２０重 量％、およびリン酸二カルシウム二水和物（ブラッシュ石）１〜５重量％を含有 する請求項１〜４のいずれかに記載の練歯磨。