JP2000281546A - 口腔用組成物 - Google Patents
口腔用組成物Info
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- JP2000281546A JP2000281546A JP11126193A JP12619399A JP2000281546A JP 2000281546 A JP2000281546 A JP 2000281546A JP 11126193 A JP11126193 A JP 11126193A JP 12619399 A JP12619399 A JP 12619399A JP 2000281546 A JP2000281546 A JP 2000281546A
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Abstract
(57)【要約】
【解決手段】 チタニウム結合量がTiO2としてSi
O2に対して0.5〜1.5重量%であり、遊離のアル
カリ金属(M)をM/SiO2として3.0〜12.0
モル/モル%を含有した合成無定型チタニウム結合ケイ
酸塩とグルカンの硫酸化物又はその水溶性塩とを併用し
て配合したことを特徴とする口腔用組成物。 【効果】 歯垢形成を大きく減少させ、口腔疾患の予防
(う蝕予防及び歯周疾患予防)に有効な効果を持つ。
O2に対して0.5〜1.5重量%であり、遊離のアル
カリ金属(M)をM/SiO2として3.0〜12.0
モル/モル%を含有した合成無定型チタニウム結合ケイ
酸塩とグルカンの硫酸化物又はその水溶性塩とを併用し
て配合したことを特徴とする口腔用組成物。 【効果】 歯垢形成を大きく減少させ、口腔疾患の予防
(う蝕予防及び歯周疾患予防)に有効な効果を持つ。
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、歯垢形成抑制効果
の持続性に優れた口腔用組成物に関する。
の持続性に優れた口腔用組成物に関する。
【0002】
【従来の技術及び発明が解決しようとする課題】近年、
食生活の変化、歯科医の増加及び歯磨回数の増加、歯磨
剤への有効成分配合などにより、重厚なう蝕を有する患
者は年々減少してきている。しかし、歯ブラシの届かな
い部分の歯垢を分解し及びその形成を抑制しなければ、
う蝕の減少には結びつきにくい。このため、う蝕の発生
し易いハイリスク部への歯垢形成を抑制させるために
は、より効果の高い口腔用組成物が求められている。
食生活の変化、歯科医の増加及び歯磨回数の増加、歯磨
剤への有効成分配合などにより、重厚なう蝕を有する患
者は年々減少してきている。しかし、歯ブラシの届かな
い部分の歯垢を分解し及びその形成を抑制しなければ、
う蝕の減少には結びつきにくい。このため、う蝕の発生
し易いハイリスク部への歯垢形成を抑制させるために
は、より効果の高い口腔用組成物が求められている。
【0003】口腔用組成物に使用される清掃効果をもた
らす基剤としては、炭酸カルシウム、水酸化アルミニウ
ム、第二リン酸カルシウム、無水リン酸カルシウム、ハ
イドロキシアパタイト等様々なものが使用されている
が、最近無水ケイ酸を使用したものが主流になりつつあ
る。しかしながら、無水ケイ酸は、他の基剤に比べ、口
腔用組成物に配合できる量が少ないゆえ、粒子の歯牙に
対する衝突回数が少なく、高清掃性が必要とされる。こ
のため、歯垢形成を効率的に抑制する機能が口腔用組成
物として要求される。
らす基剤としては、炭酸カルシウム、水酸化アルミニウ
ム、第二リン酸カルシウム、無水リン酸カルシウム、ハ
イドロキシアパタイト等様々なものが使用されている
が、最近無水ケイ酸を使用したものが主流になりつつあ
る。しかしながら、無水ケイ酸は、他の基剤に比べ、口
腔用組成物に配合できる量が少ないゆえ、粒子の歯牙に
対する衝突回数が少なく、高清掃性が必要とされる。こ
のため、歯垢形成を効率的に抑制する機能が口腔用組成
物として要求される。
【0004】この課題を解決するために、一般的には、
口腔用組成物中の無水ケイ酸量を調節し、物理的に清掃
力を上げる方法をとるが、無水ケイ酸の吸液量から口腔
用組成物に配合できる量が限られてしまう。また、口腔
用組成物の物理的性質、嗜好性に影響する部分であるだ
けに様々な高度な技術が要求される。
口腔用組成物中の無水ケイ酸量を調節し、物理的に清掃
力を上げる方法をとるが、無水ケイ酸の吸液量から口腔
用組成物に配合できる量が限られてしまう。また、口腔
用組成物の物理的性質、嗜好性に影響する部分であるだ
けに様々な高度な技術が要求される。
【0005】本発明者は、上記目的を達成するため鋭意
検討を重ねた結果、チタニウムがTiO2としてSiO
2に対し0.5〜15重量%(TiO2換算・以下特に
表示しない限り同じ)の範囲で結合し、かつ遊離のアル
カリ金属(M)をM/SiO2として3.0〜12.0
モル/モル%含有した合成無定型チタニウム結合ケイ酸
塩を研磨基剤とし、これにグルカンの硫酸化物又はその
水溶性塩を併用配合することにより、優れた清掃効果を
与えると共に、細菌の歯面への付着抑制により歯垢形成
抑制効果の持続性に優れた口腔用組成物が得られること
を知見し、本発明をなすに至ったものである。
検討を重ねた結果、チタニウムがTiO2としてSiO
2に対し0.5〜15重量%(TiO2換算・以下特に
表示しない限り同じ)の範囲で結合し、かつ遊離のアル
カリ金属(M)をM/SiO2として3.0〜12.0
モル/モル%含有した合成無定型チタニウム結合ケイ酸
塩を研磨基剤とし、これにグルカンの硫酸化物又はその
水溶性塩を併用配合することにより、優れた清掃効果を
与えると共に、細菌の歯面への付着抑制により歯垢形成
抑制効果の持続性に優れた口腔用組成物が得られること
を知見し、本発明をなすに至ったものである。
【0006】以下、本発明について更に詳細に説明する
と、本発明の口腔用組成物は、練歯磨、液状歯磨、液体
歯磨、ゲル状歯磨などの歯磨類、洗口剤、塗布剤、マウ
スウォッシュ、歯科用パスタ、義歯洗浄剤等の口腔用組
成物として調製できるもので、チタニウム結合近がTi
O2としてSiO2に対し0.5〜15重量%、好まし
くは1.0〜10重量%の範囲であり、かつ遊離のアル
カリ金属(M)をM/SiO2として3.0〜12.0
モル/モル%、好ましくは3.5〜8モル/モル%含有
した合成無定型チタニウム結合ケイ酸塩を基剤とし、こ
れにグルカンの硫酸化物又はその水溶性塩を併用配合し
たものである。
と、本発明の口腔用組成物は、練歯磨、液状歯磨、液体
歯磨、ゲル状歯磨などの歯磨類、洗口剤、塗布剤、マウ
スウォッシュ、歯科用パスタ、義歯洗浄剤等の口腔用組
成物として調製できるもので、チタニウム結合近がTi
O2としてSiO2に対し0.5〜15重量%、好まし
くは1.0〜10重量%の範囲であり、かつ遊離のアル
カリ金属(M)をM/SiO2として3.0〜12.0
モル/モル%、好ましくは3.5〜8モル/モル%含有
した合成無定型チタニウム結合ケイ酸塩を基剤とし、こ
れにグルカンの硫酸化物又はその水溶性塩を併用配合し
たものである。
【0007】ここで、上記合成無定型チタニウム結合ケ
イ酸塩につき詳述すると、該ケイ酸塩は、チタニウムを
上述した結合量で含むもので、チタニウム結合量がTi
O2としてSiO2に対し0,5重近%より低いと清掃
力等の面で合成無定型チタニウム結合ケイ酸塩の特性が
実質的に発揮されない。また、チタニウム結合量が多い
と、その物性コントロールが困難になり、口腔用組成物
に使用するには好ましくない。なお、アルカリ金属とし
てはナトリウムが好ましい。
イ酸塩につき詳述すると、該ケイ酸塩は、チタニウムを
上述した結合量で含むもので、チタニウム結合量がTi
O2としてSiO2に対し0,5重近%より低いと清掃
力等の面で合成無定型チタニウム結合ケイ酸塩の特性が
実質的に発揮されない。また、チタニウム結合量が多い
と、その物性コントロールが困難になり、口腔用組成物
に使用するには好ましくない。なお、アルカリ金属とし
てはナトリウムが好ましい。
【0008】上記チタニウム結合ケイ酸塩は、その一次
粒子の平均粒子径が0.01〜0.50μmであり、か
つ凝集体の二次平均粒子径は3〜25μm、BET法に
よる比表面積は20〜200m2/gであることが好ま
しく、BET比表面積が20m2/gより小さいと隠蔽
力が低下し、200m2/gを超えるとフッ素との相溶
性が悪くなる場合がある。
粒子の平均粒子径が0.01〜0.50μmであり、か
つ凝集体の二次平均粒子径は3〜25μm、BET法に
よる比表面積は20〜200m2/gであることが好ま
しく、BET比表面積が20m2/gより小さいと隠蔽
力が低下し、200m2/gを超えるとフッ素との相溶
性が悪くなる場合がある。
【0009】上記チタニウム結合ケイ酸塩は、例えばS
iO2/X2O(X:アルカリ金属)が2〜4の範囲の
水溶性アルカリ金属ケイ酸塩と塩化チタニウム、オキシ
塩化チタニワム、硫酸チタニウム、硝酸チタニウム等の
水溶性チタニウム塩と塩酸、硫酸等の鉱酸とを主原料と
して反応させることによって得ることができる。この場
合、水溶性チタニウム塩を鉱酸に添加してチタニウム含
有鉱酸とし、これを水溶性アルカリ金属ケイ酸塩溶液と
反応させることが、シリカ中に均一にチタニウムを結合
することができるので好ましい。また、上記反応は、ア
ルカリ側から開始し、核生成をアルカリ側で行い、反応
終了pHが6〜9となるように行うことが推奨される。
ここで、上記遊離のアルカリ金属は主に水溶性アルカリ
金属ケイ酸塩に由来するものであるが、SiO2中の含
有量の調整は主に反応終了pHによって調整される.水
溶性アルカリ金属ケイ酸塩に由来するアルカリ金属で不
足するときは別途水溶性アルカリ金属塩を添加する。こ
れに使用する水溶性アルカリ金属としてはナトリウム、
カリウム、リチウムの水酸化物や炭酸塩、重炭酸塩が好
例として挙げられるが、ケイ酸塩中への遊離のアルカリ
金属含量を支配する主要因は上記の如く終了pHであ
る。なお、反応温度は50〜100℃がよい。
iO2/X2O(X:アルカリ金属)が2〜4の範囲の
水溶性アルカリ金属ケイ酸塩と塩化チタニウム、オキシ
塩化チタニワム、硫酸チタニウム、硝酸チタニウム等の
水溶性チタニウム塩と塩酸、硫酸等の鉱酸とを主原料と
して反応させることによって得ることができる。この場
合、水溶性チタニウム塩を鉱酸に添加してチタニウム含
有鉱酸とし、これを水溶性アルカリ金属ケイ酸塩溶液と
反応させることが、シリカ中に均一にチタニウムを結合
することができるので好ましい。また、上記反応は、ア
ルカリ側から開始し、核生成をアルカリ側で行い、反応
終了pHが6〜9となるように行うことが推奨される。
ここで、上記遊離のアルカリ金属は主に水溶性アルカリ
金属ケイ酸塩に由来するものであるが、SiO2中の含
有量の調整は主に反応終了pHによって調整される.水
溶性アルカリ金属ケイ酸塩に由来するアルカリ金属で不
足するときは別途水溶性アルカリ金属塩を添加する。こ
れに使用する水溶性アルカリ金属としてはナトリウム、
カリウム、リチウムの水酸化物や炭酸塩、重炭酸塩が好
例として挙げられるが、ケイ酸塩中への遊離のアルカリ
金属含量を支配する主要因は上記の如く終了pHであ
る。なお、反応温度は50〜100℃がよい。
【0010】合成無定型チタニウム結合ケイ酸塩の口腔
用組成物への配合量は必ずしも制限されないが、通常組
成物全体の1〜50重量%、特に5〜40重量%であ
る。
用組成物への配合量は必ずしも制限されないが、通常組
成物全体の1〜50重量%、特に5〜40重量%であ
る。
【0011】一方、グルカンの硫酸化物とはD−グルコ
ースから構成される多糖の硫酸化物である。このような
グルカンの硫酸化物としてはα−1,6−グルカンの硫
酸化物である硫酸化デキストラン、β−1,4−グルカ
ンの硫酸化物である硫酸化セルロース、α−1,4−グ
ルカンの硫酸化物である硫酸化デンプン、α−1,3−
1,6−グルカンの硫酸化物である硫酸化ムタン、α−
1,4−1,6−グルカンの硫酸化物の硫酸化プルラン
などが上げられる。グルカンの硫酸化物の水溶性塩とし
ては上記グルカンの硫酸化物とリチウム、ナトリウム、
カリウム等のアルカリ金属、マグネシウム、カルシウム
等のアルカリ土類金属、モノエタノールアミン、ジエタ
ノールアミン等の有機アミン、ジメチルジアルキルアン
モニウム、トリメチルアルキルアンモニウム等の有機ア
ンモニウムなどとの水溶性塩が挙げられる。
ースから構成される多糖の硫酸化物である。このような
グルカンの硫酸化物としてはα−1,6−グルカンの硫
酸化物である硫酸化デキストラン、β−1,4−グルカ
ンの硫酸化物である硫酸化セルロース、α−1,4−グ
ルカンの硫酸化物である硫酸化デンプン、α−1,3−
1,6−グルカンの硫酸化物である硫酸化ムタン、α−
1,4−1,6−グルカンの硫酸化物の硫酸化プルラン
などが上げられる。グルカンの硫酸化物の水溶性塩とし
ては上記グルカンの硫酸化物とリチウム、ナトリウム、
カリウム等のアルカリ金属、マグネシウム、カルシウム
等のアルカリ土類金属、モノエタノールアミン、ジエタ
ノールアミン等の有機アミン、ジメチルジアルキルアン
モニウム、トリメチルアルキルアンモニウム等の有機ア
ンモニウムなどとの水溶性塩が挙げられる。
【0012】グルカンの硫酸化物の水溶性塩の分子量は
500乃至1000万であり、より好ましくは1,00
0乃至100万である。硫黄含有量は1乃至20重量%
であり、より好ましくは10乃至20重量%である。こ
のよなデキストラン硫酸としては名糖産業(株)のDS
−500、DST−Hや、硫酸化セルロースとしては一
方社油脂工業(株)製のグルコース残基に対する置換度
が2.5の硫酸化セルロースなどが挙げられる。
500乃至1000万であり、より好ましくは1,00
0乃至100万である。硫黄含有量は1乃至20重量%
であり、より好ましくは10乃至20重量%である。こ
のよなデキストラン硫酸としては名糖産業(株)のDS
−500、DST−Hや、硫酸化セルロースとしては一
方社油脂工業(株)製のグルコース残基に対する置換度
が2.5の硫酸化セルロースなどが挙げられる。
【0013】本発明の口腔用組成物へのグルカンの硫酸
化物及び水溶性塩の配合量は、組成物全体の0.005
乃至15重量%、特に0.01乃至10重量%が好まし
く、0.005重量%未満では十分な効果が得られない
場合があり、15重量%を超えると粘度が上昇し組成物
配合が困難となる。
化物及び水溶性塩の配合量は、組成物全体の0.005
乃至15重量%、特に0.01乃至10重量%が好まし
く、0.005重量%未満では十分な効果が得られない
場合があり、15重量%を超えると粘度が上昇し組成物
配合が困難となる。
【0014】本発明の口腔用組成物は、その剤型に応
じ、上記必須成分に加えて任意成分としてその他の添加
剤を配合できる。
じ、上記必須成分に加えて任意成分としてその他の添加
剤を配合できる。
【0015】歯磨類の場合は、例えば研磨剤、粘調剤、
粘結剤、界面活性剤、甘味剤、防腐剤、有効成分、色
素、香料等を配合でき、これら成分と水とを混合し、製
造でき、研磨剤としては、本発明の基剤(上記チタニウ
ム結合ケイ酸塩)に加えて以下の1種類以上のものとも
組み合わせて使用することが可能である、即ち、かかる
研磨剤として、シリカゲル、沈降性シリカ、火成性シリ
カ、アルミノシリケート、ジルコノシリケート等のシリ
カ系研磨剤、第2リン酸カルシウム2水和物、第2リン
酸カルシウム無水和物、ピロリン酸カルシウム、水酸化
アルミニウム、アルミナ、2酸化チタン、結晶性ジルコ
ニウムシリケート、ポリメチルメタアクリレート、不溶
性メタリン酸カルシウム、軽質炭酸カルシウム、重質炭
酸カルシウム、炭酸マグネシウム、第3リン酸マグネシ
ウム、ゼオライト、ケイ酸ジルコニウム、第3リン酸カ
ルシウム、ハイドロキシアパタイト、フルオロアパタイ
ト、カルシウム欠損アパタイト、第3リン酸カルシウ
ム、第4リン酸カルシウム、第8リン酸カルシウム、合
成樹脂系研磨剤などが挙げられる。
粘結剤、界面活性剤、甘味剤、防腐剤、有効成分、色
素、香料等を配合でき、これら成分と水とを混合し、製
造でき、研磨剤としては、本発明の基剤(上記チタニウ
ム結合ケイ酸塩)に加えて以下の1種類以上のものとも
組み合わせて使用することが可能である、即ち、かかる
研磨剤として、シリカゲル、沈降性シリカ、火成性シリ
カ、アルミノシリケート、ジルコノシリケート等のシリ
カ系研磨剤、第2リン酸カルシウム2水和物、第2リン
酸カルシウム無水和物、ピロリン酸カルシウム、水酸化
アルミニウム、アルミナ、2酸化チタン、結晶性ジルコ
ニウムシリケート、ポリメチルメタアクリレート、不溶
性メタリン酸カルシウム、軽質炭酸カルシウム、重質炭
酸カルシウム、炭酸マグネシウム、第3リン酸マグネシ
ウム、ゼオライト、ケイ酸ジルコニウム、第3リン酸カ
ルシウム、ハイドロキシアパタイト、フルオロアパタイ
ト、カルシウム欠損アパタイト、第3リン酸カルシウ
ム、第4リン酸カルシウム、第8リン酸カルシウム、合
成樹脂系研磨剤などが挙げられる。
【0016】粘稠剤としては、グリセリン、ソルビッ
ト、プロピレングリコール、分子量200〜6000の
ポリエチレングリコール、エチレングリコール、還元で
んぷん糖化物等の多価アルコール等の1種又は2種以上
が使用できる。
ト、プロピレングリコール、分子量200〜6000の
ポリエチレングリコール、エチレングリコール、還元で
んぷん糖化物等の多価アルコール等の1種又は2種以上
が使用できる。
【0017】粘結剤としては、キサンタンガム、アルギ
ン酸ナトリウム、アルギン酸プロピレングリコールエス
テル、カルボキシメチルセルロース、ポリビニルアルコ
ール、ヒドロキシエチルセルロース、カラギーナン、カ
ーボポール、グアガム、ゼラチン、アビセル、それにモ
ンモリロナイト、カオリン、ベントナイト等の無機粘結
剤等が挙げられる。
ン酸ナトリウム、アルギン酸プロピレングリコールエス
テル、カルボキシメチルセルロース、ポリビニルアルコ
ール、ヒドロキシエチルセルロース、カラギーナン、カ
ーボポール、グアガム、ゼラチン、アビセル、それにモ
ンモリロナイト、カオリン、ベントナイト等の無機粘結
剤等が挙げられる。
【0018】界面活性剤としては、アニオン活性剤、カ
チオン活性剤、ノニオン活性剤等が挙げられ、具体的に
はラウリル硫酸ナトリウム、N−ラウロイルタウリンナ
トリウム、N−アシルサルコシネート、α−オレフィン
スルホン酸ナトリウム、N−アシルグルタメート、2−
アルキル−N−カルボキシメチル−N−ヒドロキンエチ
ルイミダゾリニウムベタイン、N−アシルタウレート、
ショ糖脂肪酸エステル、アルキロールアマイド、ポリオ
キシエチレンソルビタンモノステアレート、プルロニッ
ク、ラウリン酸デカグリセリル等が挙げられる。
チオン活性剤、ノニオン活性剤等が挙げられ、具体的に
はラウリル硫酸ナトリウム、N−ラウロイルタウリンナ
トリウム、N−アシルサルコシネート、α−オレフィン
スルホン酸ナトリウム、N−アシルグルタメート、2−
アルキル−N−カルボキシメチル−N−ヒドロキンエチ
ルイミダゾリニウムベタイン、N−アシルタウレート、
ショ糖脂肪酸エステル、アルキロールアマイド、ポリオ
キシエチレンソルビタンモノステアレート、プルロニッ
ク、ラウリン酸デカグリセリル等が挙げられる。
【0019】甘味剤としては、サッカリンナトリウム、
アスパラテーム、ステビオサイド、ステビアエキス、パ
ラメトキシシンナミックアルデヒド、ネオヘスペリジル
ジヒドロカルコン、ペリラルチン等、防腐剤としては、
ブチルパラベン、エチルパラベン等のパラベン類、パラ
オキシ安息香酸エステル、安息香酸ナトリウム等が挙げ
られる。
アスパラテーム、ステビオサイド、ステビアエキス、パ
ラメトキシシンナミックアルデヒド、ネオヘスペリジル
ジヒドロカルコン、ペリラルチン等、防腐剤としては、
ブチルパラベン、エチルパラベン等のパラベン類、パラ
オキシ安息香酸エステル、安息香酸ナトリウム等が挙げ
られる。
【0020】各種有効成分としては、フッ化ナトリウ
ム、フッ化カリウム、フッ化第1錫、フッ化ストロンチ
ウム、モノフルオロリン酸ナトリウム等のフッ化物、正
リン酸のカリウム塩、ナトリウム塩等の水溶性リン酸化
合物、アラントインクロルヒドロキシアルミニウム、ヒ
ノキチオール、アスコルビン酸、塩化リゾチーム、グリ
チルリチン酸及びその塩類、塩化ナトリウム、トラネキ
サム酸、イプシロンアミノカプロン酸、酢酸dl−トコ
フェロール、ジヒドロコレステロール、α−ビサボロー
ル、イソプロピルメチルフェノール、クロルヘキシジン
塩類、トリクロサン、ビオゾール、塩化セチルピリジニ
ウム、アズレン、グリチルレチン、グリチルレチン酸、
銅クロロフィリンナトリウム、クロロフィル、グリセロ
ホスフェートなどのキレート性リン酸化合物、グルコン
酸銅等の銅化合物、乳酸アルミニウム、塩化ストロンチ
ウム、硝酸カリウム、ベルベリン、ヒドロキサム酸及び
その誘導体、トリポリリン酸ナトリウム、ゼオライト、
メトキシエチレン、無水マレイン酸共重合体、ポリビニ
ルピロリドン、エピジヒドロコレステリン、塩化ベンゼ
トニウム、塩化ナトリウム、ジヒドロコレステロール、
トリクロロカルバニリド、クエン酸亜鉛、トウキ軟エキ
ス、オウバクエキス、カミツレ、チョウジ、ローズマリ
ー、オウゴン、ベニバナ等の抽出物などが挙げられる。
ム、フッ化カリウム、フッ化第1錫、フッ化ストロンチ
ウム、モノフルオロリン酸ナトリウム等のフッ化物、正
リン酸のカリウム塩、ナトリウム塩等の水溶性リン酸化
合物、アラントインクロルヒドロキシアルミニウム、ヒ
ノキチオール、アスコルビン酸、塩化リゾチーム、グリ
チルリチン酸及びその塩類、塩化ナトリウム、トラネキ
サム酸、イプシロンアミノカプロン酸、酢酸dl−トコ
フェロール、ジヒドロコレステロール、α−ビサボロー
ル、イソプロピルメチルフェノール、クロルヘキシジン
塩類、トリクロサン、ビオゾール、塩化セチルピリジニ
ウム、アズレン、グリチルレチン、グリチルレチン酸、
銅クロロフィリンナトリウム、クロロフィル、グリセロ
ホスフェートなどのキレート性リン酸化合物、グルコン
酸銅等の銅化合物、乳酸アルミニウム、塩化ストロンチ
ウム、硝酸カリウム、ベルベリン、ヒドロキサム酸及び
その誘導体、トリポリリン酸ナトリウム、ゼオライト、
メトキシエチレン、無水マレイン酸共重合体、ポリビニ
ルピロリドン、エピジヒドロコレステリン、塩化ベンゼ
トニウム、塩化ナトリウム、ジヒドロコレステロール、
トリクロロカルバニリド、クエン酸亜鉛、トウキ軟エキ
ス、オウバクエキス、カミツレ、チョウジ、ローズマリ
ー、オウゴン、ベニバナ等の抽出物などが挙げられる。
【0021】香料としては、1−メントール、カルボ
ン、アネトール、シネオール、メチルサリシレート、リ
モネン、エチルブチレート、オイゲノール、チモール、
シンナミックアルデヒド等の香料成分又はその誘導体、
ペパーミント、スペアミント等の精油成分が例示され、
着色剤としては青色1号、責色4号、緑色3号等が例示
される。なお、これら成分の配合量は、本発明の効果を
妨げない範囲で通常量とすることができる。
ン、アネトール、シネオール、メチルサリシレート、リ
モネン、エチルブチレート、オイゲノール、チモール、
シンナミックアルデヒド等の香料成分又はその誘導体、
ペパーミント、スペアミント等の精油成分が例示され、
着色剤としては青色1号、責色4号、緑色3号等が例示
される。なお、これら成分の配合量は、本発明の効果を
妨げない範囲で通常量とすることができる。
【0022】
【発明の効果】本発明の口腔用組成物は、清掃力が高
く、しかも歯垢形成抑制の効果、その持続性に優れたも
のである。
く、しかも歯垢形成抑制の効果、その持続性に優れたも
のである。
【0023】
【実施例】以下、実施例を示して本発明を具体的に説明
するが、本発明は下記の例に制限されるものではない。
なお、特にことわらない限り%は重量%を示す。
するが、本発明は下記の例に制限されるものではない。
なお、特にことわらない限り%は重量%を示す。
【0024】[実験例]微生物による歯面での歯垢形成
抑制実験として、表1に示すサンプルについて唾液被服
ヒドロキシアパタイト板上でのストレプトコッカス・ミ
ュータンス10449の歯垢形成抑制効果を下記方法で
評価した。結果を表1に示す。 (1)歯のモデルとしてヒドロキシアパタイト片(旭光
学工業社製)を用い、人の濾過唾液に37℃、2時間浸
漬した。 (2)表1に示すサンプル組成物を純水で3倍に希釈し
た液に30分浸漬後、蒸留水で洗浄した。 (3)ストレプトコッカス・ミュータンスをOD550
=0.01で分散させた緩衝液(0.05M KCl、
1mM KH2PO4、0.1mM CaCl2、0.
1mM MgCl2、pH7)に37℃、2時間浸漬し
菌を付着させた。 (4)液体培地(Brain Heart Infus
ion,BBL+0.5%シュークロース)に37℃、
15時間浸漬し付着菌を培養した。 (4)蒸留水で洗浄後フクシン染色し、形成された歯垢
量を下記の5段階で評価した。 0:ヒドロキシアパタイト表面への歯垢形成割合が10%未満 1: 10%以上30%未満 2: 30%以上50%未満 3: 50%以上80%未満 4: 80%以上
抑制実験として、表1に示すサンプルについて唾液被服
ヒドロキシアパタイト板上でのストレプトコッカス・ミ
ュータンス10449の歯垢形成抑制効果を下記方法で
評価した。結果を表1に示す。 (1)歯のモデルとしてヒドロキシアパタイト片(旭光
学工業社製)を用い、人の濾過唾液に37℃、2時間浸
漬した。 (2)表1に示すサンプル組成物を純水で3倍に希釈し
た液に30分浸漬後、蒸留水で洗浄した。 (3)ストレプトコッカス・ミュータンスをOD550
=0.01で分散させた緩衝液(0.05M KCl、
1mM KH2PO4、0.1mM CaCl2、0.
1mM MgCl2、pH7)に37℃、2時間浸漬し
菌を付着させた。 (4)液体培地(Brain Heart Infus
ion,BBL+0.5%シュークロース)に37℃、
15時間浸漬し付着菌を培養した。 (4)蒸留水で洗浄後フクシン染色し、形成された歯垢
量を下記の5段階で評価した。 0:ヒドロキシアパタイト表面への歯垢形成割合が10%未満 1: 10%以上30%未満 2: 30%以上50%未満 3: 50%以上80%未満 4: 80%以上
【0025】
【表1】
【0026】表1の結果より、本発明に係る合成無定型
チタニウム結合ケイ酸塩とグルカンの硫酸化物またはそ
の水溶性塩とを配合した口腔用組成物は歯垢形成を大き
く抑制させ、口腔疾患の予防(う蝕予防及び歯周疾患予
防)に有効な口腔用組成物であることが確認された。
チタニウム結合ケイ酸塩とグルカンの硫酸化物またはそ
の水溶性塩とを配合した口腔用組成物は歯垢形成を大き
く抑制させ、口腔疾患の予防(う蝕予防及び歯周疾患予
防)に有効な口腔用組成物であることが確認された。
【0027】以下に各種剤型の実施例を示す。いずれの
組成物も良好な歯垢形成抑制効果を有している。
組成物も良好な歯垢形成抑制効果を有している。
【0028】以下用途別の実施例を示す。なお、下記の
例において、合成無定型チタニウム結合ケイ酸塩(N
o.1)は、TiO2のSiO2に対する結合量が1%
の合成無定型チタニウム結合ケイ酸塩、合成無定型チタ
ニウム結合ケイ酸塩(No.2)は、同結合量が5%の
合成撫定型チタニウム結合ケイ酸塩、合成無定型チタニ
ウム結合ケイ酸塩(No.3)は、同結合量が15%の
合成無定型チタニウム結合ケイ酸塩である。なお、これ
らケイ酸塩中の遊離のアルカリ金属としてNa金属をN
a/SiO2でNa5.4mol%含むものである。
例において、合成無定型チタニウム結合ケイ酸塩(N
o.1)は、TiO2のSiO2に対する結合量が1%
の合成無定型チタニウム結合ケイ酸塩、合成無定型チタ
ニウム結合ケイ酸塩(No.2)は、同結合量が5%の
合成撫定型チタニウム結合ケイ酸塩、合成無定型チタニ
ウム結合ケイ酸塩(No.3)は、同結合量が15%の
合成無定型チタニウム結合ケイ酸塩である。なお、これ
らケイ酸塩中の遊離のアルカリ金属としてNa金属をN
a/SiO2でNa5.4mol%含むものである。
【0029】 [実施例1] 練歯磨 合成無定型チタニウム結合ケイ酸塩(No.1) 15 重量% ソルビット 30 ラウリル硫酸ナトリウム 1.5 ポリオキシエチレン(60)硬化ひまし油 0.5 サッカリンナトリウム 0.1 プロピレングリコール 5 香料 1.3 デキストラン硫酸ナトリウム(DS−500) 1.5精製水 残量 計 100 重量%
【0030】 [実施例2] 練歯磨 合成無定型チタニウム結合ケイ酸塩(No.2) 25 重量% ソルビット 20 グリセリン 10 カルボキシメチルセルロース 1.2 ラウリル硫酸ナトリウム 0.9 サッカリンナトリウム 0.1 プロピレングリコール 5 グリチルリチン酸ジカリウム 0.05 モノフルオロリン酸ナトリウム 0.05 トリクロサン 0.05 デキストラン硫酸ナトリウム(DST−H) 0.5 香料 1.3精製水 残量 計 100 重量%
【0031】 [実施例3] 歯磨 合成無定型チタニウム結合ケイ酸塩(No.3) 20 重量% 無水ケイ酸 3.0 ソルビット 30 グリセリン 18 プルロニック F−88 2 デカグリセリンモノラウレート 1 プロピレングリコール 5 香料 1.5 NaF 0.1 ポリオキシエチレングリコール#4000 0.5 硫酸化セルロース (置換度:2.5、一方社油脂工業(株)) 1.5 トリクロサン 0.1精製水 残量 計 100 重量%
【0032】 [実施例4] 液状歯磨 合成無定型チタニウム結合ケイ酸塩(No.3) 15 重量% ソルビット 50 グリセリン 18 ラウリル硫酸ナトリウム 1.0 キサンタンガム 0.5 デキストラン硫酸ナトリウム(DS−500) 1.5 サッカリンナトリウム 0.1 ラウリン酸ジエタノールアミド 1.0 プロピレングリコール 2.0 トリクロサン 0.1 香料 1.5精製水 残量 計 100 重量%
【0033】 [実施例5] 洗口剤 合成無定型チタニウム結合ケイ酸塩(No.1) 1.0 重量% 変性エタノール 10 ポリオキシエチレン硬化ヒマシ油 1.0 グリセリン 10 デキストラン硫酸ナトリウム(DS−500) 0.5 クエン酸 0.01 クエン酸3ナトリウム 0.3 0.1%緑色201号 0.8 香料 0.5精製水 残量 計 100 重量%
【0034】 [実施例6] マウスウォシュ 合成無定型チタニウム結合ケイ酸塩(No.1) 0.5 重量% 90%エタノール 18 ポリオキシエチレン(80)ソルビタンモノラウレート 1.0 モノフルオロリン酸ナトリウム 0.1 硫酸化セルロース (置換度:2.5、一方社油脂工業(株)) 1.0 トリクロサン 0.02 0.1%黄色4号 0.8 香料 0.5精製水 残量 計 100 重量%
【0035】 [実施例7] 歯科用パスタ 合成無定型チタニウム結合ケイ酸塩(No.2) 5.0 重量% ヒドロキシエチルセルロース 3.0 カラギーナン 2.0 ソルビット 40 ショ糖パルミチン酸モノエステル 2.0 サッカリンナトリウム 0.1 乳酸アルミニウム 3.0 デキストラン硫酸ナトリウム(DS−500) 1.5 グリチルリチン酸ジカリウム 0.05 香料 0.5精製水 残量 計 100 重量%
フロントページの続き Fターム(参考) 4C083 AB052 AB171 AB172 AB241 AB242 AB292 AB322 AB431 AB432 AB472 AC102 AC122 AC132 AC302 AC422 AC432 AC642 AC782 AC812 AC852 AC862 AD042 AD211 AD212 AD222 AD262 AD272 AD282 AD352 AD532 CC41 DD22 DD23 EE36
Claims (1)
- 【請求項1】 チタニウム結合量がTiO2としてSi
O2に対して0.5〜15重量%であり、遊離のアルカ
リ金属(M)をM/SiO2として3.0〜12.0モ
ル/モル%を含有した合成無定型チタニウム結合ケイ酸
塩とグルカンの硫酸化物又はその水溶性塩とを併用して
配合したことを特徴とする口腔用組成物。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP11126193A JP2000281546A (ja) | 1999-03-30 | 1999-03-30 | 口腔用組成物 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP11126193A JP2000281546A (ja) | 1999-03-30 | 1999-03-30 | 口腔用組成物 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2000281546A true JP2000281546A (ja) | 2000-10-10 |
Family
ID=14929011
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP11126193A Pending JP2000281546A (ja) | 1999-03-30 | 1999-03-30 | 口腔用組成物 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2000281546A (ja) |
-
1999
- 1999-03-30 JP JP11126193A patent/JP2000281546A/ja active Pending
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