JPH0762436A - 極めて低い鉄損をもつ一方向性電磁鋼板の製造方法 - Google Patents
極めて低い鉄損をもつ一方向性電磁鋼板の製造方法Info
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- JPH0762436A JPH0762436A JP5209575A JP20957593A JPH0762436A JP H0762436 A JPH0762436 A JP H0762436A JP 5209575 A JP5209575 A JP 5209575A JP 20957593 A JP20957593 A JP 20957593A JP H0762436 A JPH0762436 A JP H0762436A
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 本発明により、良好な鉄損特性を有する一方
向性電磁鋼板を製造することができる。 【構成】 重量でＣ：０．１０％以下、Ｓｉ：２．５〜
７．０％ならびに通常のインヒビター成分を含み、残余
はＦｅおよび不可避的不純物よりなる一方向性電磁鋼熱
延板に熱延板焼鈍を施し、１回あるいは中間焼鈍をはさ
む２回以上の冷間圧延を実施し、脱炭焼鈍した後、最終
仕上焼鈍を施して一方向性電磁鋼板を製造する方法にお
いて、最終板厚まで圧延されたストリップを脱炭焼鈍す
る直前に、Ｐ H2 O ／Ｐ H2 が０．２以下の非酸化性雰
囲気中で１００℃／秒以上の加熱速度で７００℃以上の
温度へ加熱処理することを特徴とする、極めて低い鉄損
をもつ一方向性電磁鋼板の製造方法。
向性電磁鋼板を製造することができる。 【構成】 重量でＣ：０．１０％以下、Ｓｉ：２．５〜
７．０％ならびに通常のインヒビター成分を含み、残余
はＦｅおよび不可避的不純物よりなる一方向性電磁鋼熱
延板に熱延板焼鈍を施し、１回あるいは中間焼鈍をはさ
む２回以上の冷間圧延を実施し、脱炭焼鈍した後、最終
仕上焼鈍を施して一方向性電磁鋼板を製造する方法にお
いて、最終板厚まで圧延されたストリップを脱炭焼鈍す
る直前に、Ｐ H2 O ／Ｐ H2 が０．２以下の非酸化性雰
囲気中で１００℃／秒以上の加熱速度で７００℃以上の
温度へ加熱処理することを特徴とする、極めて低い鉄損
をもつ一方向性電磁鋼板の製造方法。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、２．５〜７．０％のＳ
ｉを含み、低い鉄損をもつ一方向性電磁鋼板の製造方法
を提供するものである。
ｉを含み、低い鉄損をもつ一方向性電磁鋼板の製造方法
を提供するものである。
【０００２】
【従来の技術】一般に、一方向性電磁鋼板の磁気特性は
鉄損特性と励磁特性の両方で評価される。励磁特性を高
めることは設計磁束密度を高める機器の小型化に有効で
ある。一方鉄損特性を少なくすることは、電気機器とし
て使用する際、熱エネルギーとして失われるものを少な
くし、消費電力を節約できる点で有効である。さらに、
製品の結晶粒の〈１００〉軸を圧延方向に揃えること
は、磁化特性を高め、鉄損特性も低くすることができ、
近年特にこの面で多くの研究が重ねられ、様々な製造技
術が開発された。
鉄損特性と励磁特性の両方で評価される。励磁特性を高
めることは設計磁束密度を高める機器の小型化に有効で
ある。一方鉄損特性を少なくすることは、電気機器とし
て使用する際、熱エネルギーとして失われるものを少な
くし、消費電力を節約できる点で有効である。さらに、
製品の結晶粒の〈１００〉軸を圧延方向に揃えること
は、磁化特性を高め、鉄損特性も低くすることができ、
近年特にこの面で多くの研究が重ねられ、様々な製造技
術が開発された。
【０００３】たとえば、特公昭４０−１５６４４号公報
に高い磁束密度を得るために、方向性電磁鋼板の製造方
法が開示されている。これは、ＡｌＮ＋ＭｎＳをインヒ
ビターとして機能させ、最終冷延工程における圧下率が
８０％を超える強圧下とする製造である。この方法によ
り二次再結晶粒の（１１０）〈００１〉方位の集積度が
高く、Ｂ8 が１．８７０Ｔ以上の高磁束密度を有する方
向性電磁鋼板が得られる。しかし、この製造方法はある
程度の鉄損の低減は図れるのであるが、未だに二次再結
晶マクロの粒径が１０mmオーダと大きく、鉄損に影響す
る因子である渦電流損を減らすことができず、良好な鉄
損値が得られていなかった。これを改善するために、特
公昭５７−２２５２号公報に開示されている鋼板にレー
ザ処理を施す方法、さらに特公昭５８−２５６９号公報
に鋼板に機械的な歪みを加える方法など、磁区を細分化
する様々な方法が開示されている。
に高い磁束密度を得るために、方向性電磁鋼板の製造方
法が開示されている。これは、ＡｌＮ＋ＭｎＳをインヒ
ビターとして機能させ、最終冷延工程における圧下率が
８０％を超える強圧下とする製造である。この方法によ
り二次再結晶粒の（１１０）〈００１〉方位の集積度が
高く、Ｂ8 が１．８７０Ｔ以上の高磁束密度を有する方
向性電磁鋼板が得られる。しかし、この製造方法はある
程度の鉄損の低減は図れるのであるが、未だに二次再結
晶マクロの粒径が１０mmオーダと大きく、鉄損に影響す
る因子である渦電流損を減らすことができず、良好な鉄
損値が得られていなかった。これを改善するために、特
公昭５７−２２５２号公報に開示されている鋼板にレー
ザ処理を施す方法、さらに特公昭５８−２５６９号公報
に鋼板に機械的な歪みを加える方法など、磁区を細分化
する様々な方法が開示されている。
【０００４】これに対し、特開平１−２９０７１６号公
報では、常温圧延された鋼板に１００℃／秒以上の加熱
速度で６５７℃以上の温度へ超急速焼きなまし処理を施
し、該ストリップを脱炭素処理し、最終高温焼きなまし
処理を施して二次成長を行い、それによって前記ストリ
ップが低減した寸法の二次粒子および応力除去焼きなま
し処理後も有意の変化なしに持続する改善された鉄損を
もつことを特徴とする方法が開示されている。しかし、
この製造方法により単に二次再結晶粒径を微細化するだ
けでは、従来の磁区の細分化並みの鉄損特性を得ること
は困難であった。
報では、常温圧延された鋼板に１００℃／秒以上の加熱
速度で６５７℃以上の温度へ超急速焼きなまし処理を施
し、該ストリップを脱炭素処理し、最終高温焼きなまし
処理を施して二次成長を行い、それによって前記ストリ
ップが低減した寸法の二次粒子および応力除去焼きなま
し処理後も有意の変化なしに持続する改善された鉄損を
もつことを特徴とする方法が開示されている。しかし、
この製造方法により単に二次再結晶粒径を微細化するだ
けでは、従来の磁区の細分化並みの鉄損特性を得ること
は困難であった。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】以上の従来の製造方法
では、十分に低い鉄損をもつ一方向性電磁鋼板を得るこ
とは困難であり、本発明はそれを解決する製造方法を提
供するものである。
では、十分に低い鉄損をもつ一方向性電磁鋼板を得るこ
とは困難であり、本発明はそれを解決する製造方法を提
供するものである。
【０００６】
【課題を解決するための手段】本発明では、上記課題を
解決すべく検討を重ねた結果、重量でＣ：０．１０％以
下、Ｓｉ：２．５〜７．０％ならびに通常のインヒビタ
ー成分を含み、残余はＦｅおよび不可避的不純物よりな
る一方向性電磁鋼熱延板に熱延板焼鈍を施し、１回ある
いは中間焼鈍をはさむ２回以上の冷間圧延を実施し、脱
炭焼鈍した後、最終仕上焼鈍を施して一方向性電磁鋼板
を製造する方法において、最終板厚まで圧延されたスト
リップを脱炭焼鈍する直前に、Ｐ H2 O ／Ｐ H2 が０．
２以下の非酸化性雰囲気中で１００℃／秒以上の加熱速
度で７００℃以上の温度へ加熱処理することにより、極
めて低い鉄損をもつ一方向性電磁鋼板の製造方法が得ら
れることを見い出した。
解決すべく検討を重ねた結果、重量でＣ：０．１０％以
下、Ｓｉ：２．５〜７．０％ならびに通常のインヒビタ
ー成分を含み、残余はＦｅおよび不可避的不純物よりな
る一方向性電磁鋼熱延板に熱延板焼鈍を施し、１回ある
いは中間焼鈍をはさむ２回以上の冷間圧延を実施し、脱
炭焼鈍した後、最終仕上焼鈍を施して一方向性電磁鋼板
を製造する方法において、最終板厚まで圧延されたスト
リップを脱炭焼鈍する直前に、Ｐ H2 O ／Ｐ H2 が０．
２以下の非酸化性雰囲気中で１００℃／秒以上の加熱速
度で７００℃以上の温度へ加熱処理することにより、極
めて低い鉄損をもつ一方向性電磁鋼板の製造方法が得ら
れることを見い出した。
【０００７】以下に本発明を詳細に説明する。一方向性
電磁鋼板は、その製造工程の最終焼鈍中に二次再結晶を
十分に起こさせ、所謂ゴス集合組織を得ることにより製
造できる。このゴス集合組織を得るためには、一次再結
晶粒の成長粗大化を抑制し、圧延方向に揃った（１１
０）〈００１〉方位の再結晶粒のみをある温度範囲で選
択的に成長させる。つまり、二次再結晶させるような素
地を作ってやることが必要である。そのためには、素材
にＭｎＳ，ＡｌＮ，Ｃｕ2 Ｓなどの微細な介在物が一次
再結晶粒の成長の抑制材（インヒビター）として、均一
に分散していなければならない。さらに、上記二次再結
晶は、ＭｇＯとの反応によるフォルステライト形成と旨
くタイミングをはからなければならない。
電磁鋼板は、その製造工程の最終焼鈍中に二次再結晶を
十分に起こさせ、所謂ゴス集合組織を得ることにより製
造できる。このゴス集合組織を得るためには、一次再結
晶粒の成長粗大化を抑制し、圧延方向に揃った（１１
０）〈００１〉方位の再結晶粒のみをある温度範囲で選
択的に成長させる。つまり、二次再結晶させるような素
地を作ってやることが必要である。そのためには、素材
にＭｎＳ，ＡｌＮ，Ｃｕ2 Ｓなどの微細な介在物が一次
再結晶粒の成長の抑制材（インヒビター）として、均一
に分散していなければならない。さらに、上記二次再結
晶は、ＭｇＯとの反応によるフォルステライト形成と旨
くタイミングをはからなければならない。
【０００８】しかし、従来での製造方法は、特開平１−
２９０７１６号公報のような平均二次再結晶粒径を低減
することにより、磁区幅を小さくして目標の低鉄損を得
る方策をとる場合、どうしても後の最終焼鈍においてＭ
ｇＯ塗布によるフォルステライト（２ＭｇＯ・Ｓｉ
Ｏ2 ）などの形成が必ずしも良好でなく、十分な皮膜張
力により磁気特性が得られないという問題点があった。
２９０７１６号公報のような平均二次再結晶粒径を低減
することにより、磁区幅を小さくして目標の低鉄損を得
る方策をとる場合、どうしても後の最終焼鈍においてＭ
ｇＯ塗布によるフォルステライト（２ＭｇＯ・Ｓｉ
Ｏ2 ）などの形成が必ずしも良好でなく、十分な皮膜張
力により磁気特性が得られないという問題点があった。
【０００９】この原因について詳細に調査した結果、脱
炭焼鈍の昇温段階において酸化皮膜が形成されていしま
い、フォルステライトの形成に大きな支障がきたされる
ことがわかった。これは、鋼板が急速加熱により７秒以
内に急激に高温に曝されるため、従来の酸化皮膜の形成
とは大きく異なり、ファイアライト（２ＦｅＯ・ＳｉＯ
2 ）が優先的に形成されるためであることが判明した。
従来の通常加熱（２０℃／秒）の場合には、脱炭が開始
したのちにＳｉＯ2 やファイアライトが鋼板表面に形成
されていた。
炭焼鈍の昇温段階において酸化皮膜が形成されていしま
い、フォルステライトの形成に大きな支障がきたされる
ことがわかった。これは、鋼板が急速加熱により７秒以
内に急激に高温に曝されるため、従来の酸化皮膜の形成
とは大きく異なり、ファイアライト（２ＦｅＯ・ＳｉＯ
2 ）が優先的に形成されるためであることが判明した。
従来の通常加熱（２０℃／秒）の場合には、脱炭が開始
したのちにＳｉＯ2 やファイアライトが鋼板表面に形成
されていた。
【００１０】本発明者らは上記問題を解決するため、フ
ァイアライトの形成を昇温段階でできるだけ抑えること
を考え、急速加熱処理をＰ H2 O ／Ｐ H2 が０．２以下
の非酸化性雰囲気中とすることにより、ファイアライト
の形成が抑えられ、後の最終焼鈍におけるＭｇＯ塗布に
よるフォルステライトの形成が非常に良好なものとな
り、極めて低い鉄損をもつ一方向性電磁鋼板の製造方法
が得られることを見い出した。これにより、二次再結晶
した鋼板表面のフォルステライトや、絶縁皮膜などによ
り皮膜張力を付与することにより、大きな鉄損の向上率
があり、極めて低い鉄損値を得ることができる。
ァイアライトの形成を昇温段階でできるだけ抑えること
を考え、急速加熱処理をＰ H2 O ／Ｐ H2 が０．２以下
の非酸化性雰囲気中とすることにより、ファイアライト
の形成が抑えられ、後の最終焼鈍におけるＭｇＯ塗布に
よるフォルステライトの形成が非常に良好なものとな
り、極めて低い鉄損をもつ一方向性電磁鋼板の製造方法
が得られることを見い出した。これにより、二次再結晶
した鋼板表面のフォルステライトや、絶縁皮膜などによ
り皮膜張力を付与することにより、大きな鉄損の向上率
があり、極めて低い鉄損値を得ることができる。
【００１１】
【作用】次に本発明において、鋼組成および製造条件を
前記のように限定した理由を、詳細に説明する。この鋼
成分の限定理由は下記のとおりである。Ｃについての上
限０．１０％は、これ以上多くなると脱炭所要時間が長
くなり、経済的に不利となるので限定した。Ｓｉは鉄損
をよくするために下限を２．５％とするが、多すぎると
冷間圧延の際に割れ易く加工が困難となるので上限を
７．０％とする。
前記のように限定した理由を、詳細に説明する。この鋼
成分の限定理由は下記のとおりである。Ｃについての上
限０．１０％は、これ以上多くなると脱炭所要時間が長
くなり、経済的に不利となるので限定した。Ｓｉは鉄損
をよくするために下限を２．５％とするが、多すぎると
冷間圧延の際に割れ易く加工が困難となるので上限を
７．０％とする。
【００１２】さらに、一方向性電磁鋼板を製造するため
に、通常のインヒビター成分として以下の成分元素を添
加することが好ましい。インヒビターとしてＭｎＳを利
用する場合は、ＭｎとＳを添加する。Ｍｎは、ＭｎＳの
適当な分散状態を得るため、０．０２〜０．１５％が望
ましい。ＳはＭｎＳ，（Ｍｎ・Ｆｅ）Ｓを形成するため
に必要な元素で、適当な分散状態を得るため、０．００
１〜０．０５％が望ましい。さらに、インヒビターとし
てＡｌＮを利用する場合は、酸可溶性ＡｌとＮを添加す
る。酸可溶性Ａｌ，ＡｌＮの適正な分散状態を得るため
０．０１〜０．０４％が望ましい。Ｎも、ＡｌＮを得る
ため０．００３〜０．０２％が望ましい。その他、Ｃ
ｕ，Ｓｎ，Ｓｂ，Ｃｒ，Ｂｉはインヒビターを強くする
目的で１．０％以下において少なくとも１種添加しても
よい。
に、通常のインヒビター成分として以下の成分元素を添
加することが好ましい。インヒビターとしてＭｎＳを利
用する場合は、ＭｎとＳを添加する。Ｍｎは、ＭｎＳの
適当な分散状態を得るため、０．０２〜０．１５％が望
ましい。ＳはＭｎＳ，（Ｍｎ・Ｆｅ）Ｓを形成するため
に必要な元素で、適当な分散状態を得るため、０．００
１〜０．０５％が望ましい。さらに、インヒビターとし
てＡｌＮを利用する場合は、酸可溶性ＡｌとＮを添加す
る。酸可溶性Ａｌ，ＡｌＮの適正な分散状態を得るため
０．０１〜０．０４％が望ましい。Ｎも、ＡｌＮを得る
ため０．００３〜０．０２％が望ましい。その他、Ｃ
ｕ，Ｓｎ，Ｓｂ，Ｃｒ，Ｂｉはインヒビターを強くする
目的で１．０％以下において少なくとも１種添加しても
よい。
【００１３】次に、上記の溶鋼を通常の鋳塊鋳造法また
は連続鋳造法、熱間圧延により中間厚のストリップを得
る。この時ストリップ鋳造法も本発明に適用することも
可能である。さらに、インヒビターとして窒化物を必要
とする場合は、ＡｌＮなどの析出のために９５０〜１２
００℃で３０秒〜３０分の中間焼鈍を行うことが望まし
い。次に、１回ないし中間焼鈍を含む２回以上の圧延に
より最終製品厚のストリップを得る。中間焼鈍を含む２
回以上の圧延をする際の、１回目の圧延は圧下率５〜５
０％、中間焼鈍は９５０〜１２００℃で３０秒〜３０分
の中間焼鈍を行うことが望ましい。
は連続鋳造法、熱間圧延により中間厚のストリップを得
る。この時ストリップ鋳造法も本発明に適用することも
可能である。さらに、インヒビターとして窒化物を必要
とする場合は、ＡｌＮなどの析出のために９５０〜１２
００℃で３０秒〜３０分の中間焼鈍を行うことが望まし
い。次に、１回ないし中間焼鈍を含む２回以上の圧延に
より最終製品厚のストリップを得る。中間焼鈍を含む２
回以上の圧延をする際の、１回目の圧延は圧下率５〜５
０％、中間焼鈍は９５０〜１２００℃で３０秒〜３０分
の中間焼鈍を行うことが望ましい。
【００１４】次の最終圧下率は圧下率８５％以上が望ま
しい。下限８５％は、これ以下では（１１０）〈００
１〉方位が圧延方向に高い集積度をもつゴス核が得られ
ないからである。なお、この時の冷間圧延方法として、
冷間圧延中に複数回のパスにより各板厚段階を経て最終
板厚となるが、磁気特性を向上させるため、その少なく
とも１回以上の途中板厚段階において鋼板に１００℃以
上の温度範囲で１分以上の時間保持する熱効果を与えて
も構わない。以上、最終製品厚まで圧延されたストリッ
プに加熱処理を施す。まず、ストリップを１００℃／秒
以上の加熱速度で７００℃以上の温度へ急速加熱する。
この時の加熱速度の下限１００℃／秒は、これ以下では
二次再結晶の核となる一次再結晶後での（１１０）〈０
０１〉方位粒が減少し、微細な二次再結晶粒が得られな
いので限定した。また、下限７００℃は、これ以下では
再結晶が開始されないので限定した。なお、この急速加
熱処理は皮膜形成などの問題から、Ｐ H2 O ／Ｐ H2 が
０．２以下の非酸化性雰囲気中とする必要がある。この
雰囲気以外では、ファイアライトの形成が抑制されず、
後の最終焼鈍においてＭｇＯ塗布によるフォルステライ
トの形成が非常に良好なものとならないので限定した。
しい。下限８５％は、これ以下では（１１０）〈００
１〉方位が圧延方向に高い集積度をもつゴス核が得られ
ないからである。なお、この時の冷間圧延方法として、
冷間圧延中に複数回のパスにより各板厚段階を経て最終
板厚となるが、磁気特性を向上させるため、その少なく
とも１回以上の途中板厚段階において鋼板に１００℃以
上の温度範囲で１分以上の時間保持する熱効果を与えて
も構わない。以上、最終製品厚まで圧延されたストリッ
プに加熱処理を施す。まず、ストリップを１００℃／秒
以上の加熱速度で７００℃以上の温度へ急速加熱する。
この時の加熱速度の下限１００℃／秒は、これ以下では
二次再結晶の核となる一次再結晶後での（１１０）〈０
０１〉方位粒が減少し、微細な二次再結晶粒が得られな
いので限定した。また、下限７００℃は、これ以下では
再結晶が開始されないので限定した。なお、この急速加
熱処理は皮膜形成などの問題から、Ｐ H2 O ／Ｐ H2 が
０．２以下の非酸化性雰囲気中とする必要がある。この
雰囲気以外では、ファイアライトの形成が抑制されず、
後の最終焼鈍においてＭｇＯ塗布によるフォルステライ
トの形成が非常に良好なものとならないので限定した。
【００１５】なお非酸化性雰囲気とは、Ｎ2 ，Ａｒなど
の不活性ガス中、あるいは若干Ｈ2を含んだ還元雰囲気
のことをここでは言う。また、上記の急速加熱処理は、
次に施される脱炭焼鈍前に行われても、脱炭焼鈍の加熱
段階として脱炭焼鈍工程に組み込むことも可能である
が、後者の方が工程数が少ないので望ましい。この後
は、湿水素雰囲気中で脱炭焼鈍を行う、この時製品での
磁気特性を劣化させないため炭素は０．００５％以下に
低減されなければならない。ここで、熱延のスラブ加熱
温度が低く、ＡｌＮのみをインヒビターとして利用する
場合は、アンモニア雰囲気中で窒化処理を付加すること
もある。
の不活性ガス中、あるいは若干Ｈ2を含んだ還元雰囲気
のことをここでは言う。また、上記の急速加熱処理は、
次に施される脱炭焼鈍前に行われても、脱炭焼鈍の加熱
段階として脱炭焼鈍工程に組み込むことも可能である
が、後者の方が工程数が少ないので望ましい。この後
は、湿水素雰囲気中で脱炭焼鈍を行う、この時製品での
磁気特性を劣化させないため炭素は０．００５％以下に
低減されなければならない。ここで、熱延のスラブ加熱
温度が低く、ＡｌＮのみをインヒビターとして利用する
場合は、アンモニア雰囲気中で窒化処理を付加すること
もある。
【００１６】さらに、ＭｇＯなどの焼鈍分離剤を塗布し
て、二次再結晶と純化のため１１００℃以上の仕上焼鈍
を行うことで、フォルステライトなどの良好な皮膜を鋼
板表面に形成した微細な二次再結晶粒を得る。以上、フ
ォルステライトなどの皮膜の上に、さらに絶縁皮膜を塗
布することにより極めて低い鉄損特性を有する一方向性
電磁鋼板が製造される。以上の磁気特性は、後の歪み取
り焼鈍を施しても、変化しない低鉄損を保持している。
なお、得られた製品で、さらに鉄損を良好にするため、
上記一方向性電磁鋼板に、磁区を細分化するための処理
を施すことも可能である。
て、二次再結晶と純化のため１１００℃以上の仕上焼鈍
を行うことで、フォルステライトなどの良好な皮膜を鋼
板表面に形成した微細な二次再結晶粒を得る。以上、フ
ォルステライトなどの皮膜の上に、さらに絶縁皮膜を塗
布することにより極めて低い鉄損特性を有する一方向性
電磁鋼板が製造される。以上の磁気特性は、後の歪み取
り焼鈍を施しても、変化しない低鉄損を保持している。
なお、得られた製品で、さらに鉄損を良好にするため、
上記一方向性電磁鋼板に、磁区を細分化するための処理
を施すことも可能である。
【００１７】
（実施例１）表１に示す化学成分を含み、２．３mm厚に
まで熱間圧延させた熱延板に１１００℃で１分間焼鈍を
施した。この後、冷間圧延により最終板厚０．２７mmに
まで圧延した。さらに、得られたストリップを脱炭焼鈍
する際、加熱段階で１０℃／秒、１１５℃／秒、３００
℃／秒の３条件で８４０℃まで加熱した。この時の雰囲
気は表２に示す条件でそれぞれ実施した。この後、８４
０℃の均一温度、湿潤水素中で脱炭焼鈍し、ＭｇＯ粉を
塗布した後、１２００℃に１０時間、水素ガス雰囲気中
で高温焼鈍を行った。得られた鋼板の余剰ＭｇＯを除去
し、形成されたフォルステライト皮膜上に、絶縁皮膜を
塗布した。表２に、得られた製品の磁気特性を示す。本
発明により、鉄損特性に優れた一方向性電磁鋼板が得ら
れている。
まで熱間圧延させた熱延板に１１００℃で１分間焼鈍を
施した。この後、冷間圧延により最終板厚０．２７mmに
まで圧延した。さらに、得られたストリップを脱炭焼鈍
する際、加熱段階で１０℃／秒、１１５℃／秒、３００
℃／秒の３条件で８４０℃まで加熱した。この時の雰囲
気は表２に示す条件でそれぞれ実施した。この後、８４
０℃の均一温度、湿潤水素中で脱炭焼鈍し、ＭｇＯ粉を
塗布した後、１２００℃に１０時間、水素ガス雰囲気中
で高温焼鈍を行った。得られた鋼板の余剰ＭｇＯを除去
し、形成されたフォルステライト皮膜上に、絶縁皮膜を
塗布した。表２に、得られた製品の磁気特性を示す。本
発明により、鉄損特性に優れた一方向性電磁鋼板が得ら
れている。
【００１８】
【表１】
【００１９】
【表２】
【００２０】（実施例２）表３に示す成分組成を含む溶
鋼を鋳造し、スラブ加熱後熱間圧延を行い２．３mmの熱
延鋼板を得た。これを１１００℃で４分間焼鈍を行い
１．５５mmに圧延した。これを１１２０℃で５分間焼鈍
を行い、さらに酸洗した後、冷間圧延を行い０．２２mm
厚にした。圧延された鋼板を二対の直接通電加熱ロール
により３００℃／秒の加熱速度で８４０℃まで加熱し
た。この時の雰囲気は、（ａ）Ｐ H2 O／Ｐ H2 ０．
３、（ｂ）Ｐ H2 O ／Ｐ H2 ０．１の２条件の非酸化
雰囲気で実施した。この後、同じ８４０℃の均一温度、
湿潤水素中で脱炭焼鈍した。
鋼を鋳造し、スラブ加熱後熱間圧延を行い２．３mmの熱
延鋼板を得た。これを１１００℃で４分間焼鈍を行い
１．５５mmに圧延した。これを１１２０℃で５分間焼鈍
を行い、さらに酸洗した後、冷間圧延を行い０．２２mm
厚にした。圧延された鋼板を二対の直接通電加熱ロール
により３００℃／秒の加熱速度で８４０℃まで加熱し
た。この時の雰囲気は、（ａ）Ｐ H2 O／Ｐ H2 ０．
３、（ｂ）Ｐ H2 O ／Ｐ H2 ０．１の２条件の非酸化
雰囲気で実施した。この後、同じ８４０℃の均一温度、
湿潤水素中で脱炭焼鈍した。
【００２１】次にＭｇＯ粉を塗布した後、１２００℃に
１０時間、水素ガス雰囲気中で高温焼鈍を行った。得ら
れた鋼板の余剰ＭｇＯを除去し、形成されたフォルステ
ライト皮膜上に、絶縁皮膜を塗布した。これにより得ら
れた製品の磁気特性は（ａ）ではＢ8 ＝１．８９Ｔ、Ｗ
17/50＝０．８４w/kg、（ｂ）ではＢ8 ＝１．９３Ｔ、
Ｗ17/50 ＝０．７６w/kgであった。本発明により低い鉄
損をもつ一方向性電磁鋼板が得られた。
１０時間、水素ガス雰囲気中で高温焼鈍を行った。得ら
れた鋼板の余剰ＭｇＯを除去し、形成されたフォルステ
ライト皮膜上に、絶縁皮膜を塗布した。これにより得ら
れた製品の磁気特性は（ａ）ではＢ8 ＝１．８９Ｔ、Ｗ
17/50＝０．８４w/kg、（ｂ）ではＢ8 ＝１．９３Ｔ、
Ｗ17/50 ＝０．７６w/kgであった。本発明により低い鉄
損をもつ一方向性電磁鋼板が得られた。
【００２２】
【表３】
【００２３】
【発明の効果】本発明によれば、良好な鉄損特性を有す
る一方向性電磁鋼板を製造することができるので、産業
上の貢献するところが極めて大である。
る一方向性電磁鋼板を製造することができるので、産業
上の貢献するところが極めて大である。
【手続補正書】
【提出日】平成５年９月７日
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１９
【補正方法】変更
【補正内容】
【００１９】
【表２】
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 深沢 晴雄 姫路市広畑区富士町１番地 新日本製鐵株 式会社広畑製鐵所内
Claims (2)
- 【請求項１】 重量でＣ：０．１０％以下、Ｓｉ：２．
５〜７．０％ならびに通常のインヒビター成分を含み、
残余はＦｅおよび不可避的不純物よりなる一方向性電磁
鋼熱延板に熱延板焼鈍を施し、１回あるいは中間焼鈍を
はさむ２回以上の冷間圧延を実施し、脱炭焼鈍した後、
最終仕上焼鈍を施して一方向性電磁鋼板を製造する方法
において、最終板厚まで圧延されたストリップを脱炭焼
鈍する直前に、Ｐ H2 O ／Ｐ H2 が０．２以下の非酸化
性雰囲気中で１００℃／秒以上の加熱速度で７００℃以
上の温度へ加熱処理することを特徴とする極めて低い鉄
損をもつ一方向性電磁鋼板の製造方法。 - 【請求項２】 急速加熱処理が脱炭焼鈍の加熱段階とし
て行われる請求項１記載の方法。
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