JPH0644355B2 - 光デイスク - Google Patents
光デイスクInfo
- Publication number
- JPH0644355B2 JPH0644355B2 JP60109300A JP10930085A JPH0644355B2 JP H0644355 B2 JPH0644355 B2 JP H0644355B2 JP 60109300 A JP60109300 A JP 60109300A JP 10930085 A JP10930085 A JP 10930085A JP H0644355 B2 JPH0644355 B2 JP H0644355B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- adhesive
- substrate
- silicone rubber
- metal reflective
- optical disk
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Lifetime
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- Optical Record Carriers And Manufacture Thereof (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】 〔発明の技術分野〕 本発明はレーザ光で情報を再生する再生専用のビデオデ
ィスクやコンパクトディスク記録・再生（消去）のでき
るディスクメモリー等の光ディスクの構造に関する。
ィスクやコンパクトディスク記録・再生（消去）のでき
るディスクメモリー等の光ディスクの構造に関する。
〔発明の技術的背景とその問題点〕 一般にビデオディスクやコンパクトディスク、ディスク
メモリー等の光ディスク基板は熱可塑性樹脂のなかでも
アクリル樹脂ないしはポリカーボネートを射出成形する
ことにより造られている。
メモリー等の光ディスク基板は熱可塑性樹脂のなかでも
アクリル樹脂ないしはポリカーボネートを射出成形する
ことにより造られている。
このようにして造られた基板は、情報パターンの転写
性、基板の透明性や耐熱性に優れ、一方吸水性や複屈折
性が低く、光ディスク用基板として優れている。
性、基板の透明性や耐熱性に優れ、一方吸水性や複屈折
性が低く、光ディスク用基板として優れている。
現在、再生専用の光ディスク（ビデオディスク）は両面
再生可能となっている。片面にのみ記録面をもつ光ディ
スク基板の記録面上に金属反射膜（一般にＡｌ）を蒸着
ないしはスパッタリング法で設け、これを一対金属反射
膜を相対向させて接着剤で貼り合わせた構造にしてい
る。このような構造にすることにより、光ディスクの記
録容量は倍増し、かつ環境の温湿度変化による経時的変
形が軽減する。
再生可能となっている。片面にのみ記録面をもつ光ディ
スク基板の記録面上に金属反射膜（一般にＡｌ）を蒸着
ないしはスパッタリング法で設け、これを一対金属反射
膜を相対向させて接着剤で貼り合わせた構造にしてい
る。このような構造にすることにより、光ディスクの記
録容量は倍増し、かつ環境の温湿度変化による経時的変
形が軽減する。
ところで、従来、光ディスクの貼り合せ用接着剤として
は、ゴムを溶剤に溶解した接着剤エポキシ系接着剤
ホットメル系接着剤が公知である。しかし、これらの
接着剤は以下の問題点があった。のゴムを溶剤に溶解
した接着剤は、合成樹脂基板及び金属反射膜を侵すこと
多い。また、のエポキシ系接着剤は室温硬化するが、
完全硬化迄、一日以上と非常に長時間を要し、硬化後柔
軟性がない。のホットメルト系接着剤は硬化は早い
が、接着剤が溶融状態であるため熱によってディスクが
加熱し、熱歪を受け変形・ソリの発生を生じ、回転時の
ブレが発生しやすい。又、高粘度のため接着剤層が厚く
なり易く、均一に塗布するには、高価な塗布装置が必要
であるなどの欠点を有していた。
は、ゴムを溶剤に溶解した接着剤エポキシ系接着剤
ホットメル系接着剤が公知である。しかし、これらの
接着剤は以下の問題点があった。のゴムを溶剤に溶解
した接着剤は、合成樹脂基板及び金属反射膜を侵すこと
多い。また、のエポキシ系接着剤は室温硬化するが、
完全硬化迄、一日以上と非常に長時間を要し、硬化後柔
軟性がない。のホットメルト系接着剤は硬化は早い
が、接着剤が溶融状態であるため熱によってディスクが
加熱し、熱歪を受け変形・ソリの発生を生じ、回転時の
ブレが発生しやすい。又、高粘度のため接着剤層が厚く
なり易く、均一に塗布するには、高価な塗布装置が必要
であるなどの欠点を有していた。
本発明は、前記のような欠点を解消したもので、従来と
異なる接着貼り合せ材料としてシリコーンゴムを用いる
ことにより、常温作業が可能となるため金属反射膜やデ
ィスク基板へのストレスが極めて減り、入力信号を高精
度で保持できる、高信頼性の両面再生可能な貼り合せ光
ディスクを提供することを目的としたものである。
異なる接着貼り合せ材料としてシリコーンゴムを用いる
ことにより、常温作業が可能となるため金属反射膜やデ
ィスク基板へのストレスが極めて減り、入力信号を高精
度で保持できる、高信頼性の両面再生可能な貼り合せ光
ディスクを提供することを目的としたものである。
本発明は片面に記録面をもつ光ディスク基板の記録面上
に金属反射膜を設け、これを一対金属反射膜側を相対向
させてシリコーンゴム系接着剤で貼り合わせた構造とす
る貼り合わせ光ディスクを提案するものである。
に金属反射膜を設け、これを一対金属反射膜側を相対向
させてシリコーンゴム系接着剤で貼り合わせた構造とす
る貼り合わせ光ディスクを提案するものである。
第１図は本発明に係わる貼り合わせ後の光ディスク断面
図であり、１はディスク基板、２は記録画、３は金属反
射膜、４はシリコンゴム系接着剤層である。また金属反
射膜上にさらに保護膜を設ける場合があるが金属反射膜
に直接、歪や傷をつけない様にするもので、この保護膜
自体も柔軟性に富むものを選ぶ必要があった。これに適
応し、基板への塗布、貼り合せ作業を行なう際、基板温
度の上昇がなくてすむ前記した接着剤に用いた同一すな
わち、シリコーンゴム系に好ましい物を見い出した。基
板への保護膜の形成方法は、バーコーター法、スクリー
ン印刷法ないしは、スピナー法等で常法により反射膜上
に塗布形成させることができる。
図であり、１はディスク基板、２は記録画、３は金属反
射膜、４はシリコンゴム系接着剤層である。また金属反
射膜上にさらに保護膜を設ける場合があるが金属反射膜
に直接、歪や傷をつけない様にするもので、この保護膜
自体も柔軟性に富むものを選ぶ必要があった。これに適
応し、基板への塗布、貼り合せ作業を行なう際、基板温
度の上昇がなくてすむ前記した接着剤に用いた同一すな
わち、シリコーンゴム系に好ましい物を見い出した。基
板への保護膜の形成方法は、バーコーター法、スクリー
ン印刷法ないしは、スピナー法等で常法により反射膜上
に塗布形成させることができる。
そして、第２図に示したように保護膜５上にシリコーン
ゴム系の接着剤４を同様にして塗布してから一対の光デ
ィスク基板を貼り合わせてもよいわけである。シリコー
ンゴム系接着剤としては、金属反射膜に歪がかからない
ように、硬化時の自己収縮が小さく、弾力性に優れた２
液反応形で常温硬化型のもを、例えば東芝シリコーン
(株)製のＸＥ１２−３０２，ＴＧＳ−７０１が等が挙げ
られる。この２成分縮合型室温硬化シリコーンゴムは、
本体と硬化剤の２成分に分けて供給されるものであって
使用直前に両者を混合すると大気中の水分によって硬化
が進み、ゴム状弾性体を与えるものである。
ゴム系の接着剤４を同様にして塗布してから一対の光デ
ィスク基板を貼り合わせてもよいわけである。シリコー
ンゴム系接着剤としては、金属反射膜に歪がかからない
ように、硬化時の自己収縮が小さく、弾力性に優れた２
液反応形で常温硬化型のもを、例えば東芝シリコーン
(株)製のＸＥ１２−３０２，ＴＧＳ−７０１が等が挙げ
られる。この２成分縮合型室温硬化シリコーンゴムは、
本体と硬化剤の２成分に分けて供給されるものであって
使用直前に両者を混合すると大気中の水分によって硬化
が進み、ゴム状弾性体を与えるものである。
また、一般に接着性はないものが多いので接着性を付与
したものでなければならない。硬化機構は、シラノール
と加水分解性基含有ケイ素化合物の加水分解縮合反応で
あるが、その架橋剤としては、アルコキシシランが主に
用いられ、この時水と触媒（スズ化合物、アミン類等）
の存在が必要不可欠である。アルコキシシランとして
は、正ケイ酸エチルおよびその部分加水分解が用いられ
るので硬化時の副生物はタノールである。したがって、
ディスク基板及びＡｌ反射膜への悪影響も少ない。また
２成分型縮合型は深部硬化型が良く、未硬化部分が出ず
好ましい、更に硬化剤の種類や量により硬化速度も調整
できるので都合が良い。
したものでなければならない。硬化機構は、シラノール
と加水分解性基含有ケイ素化合物の加水分解縮合反応で
あるが、その架橋剤としては、アルコキシシランが主に
用いられ、この時水と触媒（スズ化合物、アミン類等）
の存在が必要不可欠である。アルコキシシランとして
は、正ケイ酸エチルおよびその部分加水分解が用いられ
るので硬化時の副生物はタノールである。したがって、
ディスク基板及びＡｌ反射膜への悪影響も少ない。また
２成分型縮合型は深部硬化型が良く、未硬化部分が出ず
好ましい、更に硬化剤の種類や量により硬化速度も調整
できるので都合が良い。
本発明の光ディスクに用いられる接着剤あるいは保護膜
は、シリコーンゴム系であるため、接着効果後、極めて
弾力性に富んだ柔軟性のある接着層に形成できるので光
ディスク基板の金属反射膜に縮緬ジワ等が入る可能性が
なく、そりの少ない平滑な光ディスクを手軽に提供でき
る。
は、シリコーンゴム系であるため、接着効果後、極めて
弾力性に富んだ柔軟性のある接着層に形成できるので光
ディスク基板の金属反射膜に縮緬ジワ等が入る可能性が
なく、そりの少ない平滑な光ディスクを手軽に提供でき
る。
以上のことから本発明によれば、ドロップアウトノイズ
の少ない品質の優れた、かつ高信頼性の光ディスグが歩
留り良く出来るようになる。
の少ない品質の優れた、かつ高信頼性の光ディスグが歩
留り良く出来るようになる。
アクリル樹脂をインジェクション成形してできた光ディ
スク基板の記録面上に反射膜としてＡｌを真空蒸着で厚
み約1000Å設け、その上にシリコーンゴム系接着剤ＸＥ
１２−３０２（東芝シリコーン社製）をスピナーで厚み
約１０μｍ塗布し、保護膜兼接着剤とした。この一対を
溶着剤層を相対向させて重ね合わせプレス機により十分
加圧し接着させた。完全硬化には常温中で約８時間を要
した。このようにして出来上がった貼り合せ光ディスク
は、そりも少なく平滑なものでドロップアウトノイズも
少ないものが得られた。
スク基板の記録面上に反射膜としてＡｌを真空蒸着で厚
み約1000Å設け、その上にシリコーンゴム系接着剤ＸＥ
１２−３０２（東芝シリコーン社製）をスピナーで厚み
約１０μｍ塗布し、保護膜兼接着剤とした。この一対を
溶着剤層を相対向させて重ね合わせプレス機により十分
加圧し接着させた。完全硬化には常温中で約８時間を要
した。このようにして出来上がった貼り合せ光ディスク
は、そりも少なく平滑なものでドロップアウトノイズも
少ないものが得られた。
第１図および第２図は本発明の貼り合わせ光ディスクの
断面図である。 １……透明基板、２……記録面、３……金属反射膜、 ４……シリコンゴム系接着剤層、５……保護膜。
断面図である。 １……透明基板、２……記録面、３……金属反射膜、 ４……シリコンゴム系接着剤層、５……保護膜。
Claims (2)
- 【請求項１】片面に記録面をもつディスク基板の記録画
上に金属反射膜を設け、これを一対金属反射膜側を対向
させてシリコーンゴム系接着剤にて貼り合わせた構造を
有することを特徴とする光ディスク。 - 【請求項２】特許請求の範囲第１項において、前記シリ
コーンゴム系接着剤は２成分縮合型の常温硬化型で自己
接着性を有するものであることを特徴とする光ディス
ク。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP60109300A JPH0644355B2 (ja) | 1985-05-23 | 1985-05-23 | 光デイスク |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP60109300A JPH0644355B2 (ja) | 1985-05-23 | 1985-05-23 | 光デイスク |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS61267947A JPS61267947A (ja) | 1986-11-27 |
| JPH0644355B2 true JPH0644355B2 (ja) | 1994-06-08 |
Family
ID=14506689
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP60109300A Expired - Lifetime JPH0644355B2 (ja) | 1985-05-23 | 1985-05-23 | 光デイスク |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0644355B2 (ja) |
Families Citing this family (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP0181110A3 (en) * | 1984-10-22 | 1988-05-11 | Kissei Pharmaceutical Co. Ltd. | Histidine derivatives as renin inhibitors |
| EP0206807A3 (en) * | 1985-06-28 | 1988-01-20 | Kissei Pharmaceutical Co. Ltd. | Novel amino acid derivatives |
| US4853463A (en) * | 1985-09-04 | 1989-08-01 | Kissei Pharmaceutical Co., Ltd. | Amino acid derivatives |
| JPS6322081A (ja) * | 1986-07-11 | 1988-01-29 | Kissei Pharmaceut Co Ltd | 新規なアミノ酸誘導体 |
| JP2656985B2 (ja) * | 1989-09-22 | 1997-09-24 | シャープ株式会社 | 光メモリ素子 |
| JP2518954B2 (ja) * | 1990-05-28 | 1996-07-31 | パイオニア株式会社 | 情報記録媒体 |
| JPH108022A (ja) * | 1996-06-25 | 1998-01-13 | Toray Dow Corning Silicone Co Ltd | 光メモリ素子用シリコーン系接着剤、光メモリ素子、および光メモリ素子の製造方法 |
-
1985
- 1985-05-23 JP JP60109300A patent/JPH0644355B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS61267947A (ja) | 1986-11-27 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| EXPY | Cancellation because of completion of term |