JPH06176350A - 磁気記録媒体，磁気ヘッドスライダおよびこれらを備えた磁気記録装置 - Google Patents
磁気記録媒体，磁気ヘッドスライダおよびこれらを備えた磁気記録装置Info
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- JPH06176350A JPH06176350A JP32397892A JP32397892A JPH06176350A JP H06176350 A JPH06176350 A JP H06176350A JP 32397892 A JP32397892 A JP 32397892A JP 32397892 A JP32397892 A JP 32397892A JP H06176350 A JPH06176350 A JP H06176350A
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Abstract
(57)【要約】
【構成】従来フッ素系化合物単一で構成されていた潤滑
膜にリン系極圧剤を添加する。磁気記録媒体と磁気ヘッ
ドスライダ並びに磁気記録媒体と磁気ヘッドスライダの
摺動面にフッ素系化合物とリン系極圧剤からなる潤滑膜
を構成しており、これらの磁気記録媒体と磁気ヘッドス
ライダを備えた磁気記録装置である。 【効果】従来のフッ素系化合物に加え、リン系極圧剤を
添加したことにより厳しい摺動条件でも低摩擦，低摩耗
性を実現できる。
膜にリン系極圧剤を添加する。磁気記録媒体と磁気ヘッ
ドスライダ並びに磁気記録媒体と磁気ヘッドスライダの
摺動面にフッ素系化合物とリン系極圧剤からなる潤滑膜
を構成しており、これらの磁気記録媒体と磁気ヘッドス
ライダを備えた磁気記録装置である。 【効果】従来のフッ素系化合物に加え、リン系極圧剤を
添加したことにより厳しい摺動条件でも低摩擦，低摩耗
性を実現できる。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、磁気記録媒体の摺動耐
久性向上のみならず、一般的な産業機械での摺動部の潤
滑技術に関する。
久性向上のみならず、一般的な産業機械での摺動部の潤
滑技術に関する。
【０００２】
【従来の技術】磁気記録媒体は、情報記憶再生装置とし
てもっとも汎用性が高く、大型コンピュータのみならず
小型のパーソナルコンピュータ，ワープロ等にも広く普
及している。このため、磁気記録媒体の記録容量は年々
増大しており、これに伴う技術革新がめざましい分野で
ある。磁気記録装置の中で特に高記録密度と高速データ
取り込みを必要とするハードタイプの磁気ディスク装置
では、近年、高記録密度化が可能な薄膜磁性媒体型が適
用されている。この磁気ディスクでは記憶容量を増大さ
せるために、ヘッドとディスクとの間隔を狭くする試み
がなされており、現在ではヘッド浮上量が０.１μｍ 程
度まで低下している。このため、ヘッドとディスクは、
停止時に加え、ディスクの起動中にも接触摺動する確率
が高くなる等、薄膜磁性媒体型では必然的に摺動条件を
苛酷にする方向にあり、磁気ディスク装置の信頼性の面
でディスクの摺動耐久性向上は不可欠な要素となってい
る。今後もヘッド浮上量は、さらに低下する傾向にあ
り、近い将来ヘッド浮上量はナノメータオーダの領域あ
るいは完全な接触状態になると考えられる。このような
極低浮上，接触摺動の領域では、従来から用いている潤
滑方式では十分な耐摺動信頼性を実現できないのが現状
である。このため、磁気記録媒体の最外表面に設けられ
る潤滑層は過酷な摺動条件に耐えられる性能が要求され
ている。また、磁気テープ等の接触摺動する磁気記録媒
体でも摺動耐久性の向上が必要である。
てもっとも汎用性が高く、大型コンピュータのみならず
小型のパーソナルコンピュータ，ワープロ等にも広く普
及している。このため、磁気記録媒体の記録容量は年々
増大しており、これに伴う技術革新がめざましい分野で
ある。磁気記録装置の中で特に高記録密度と高速データ
取り込みを必要とするハードタイプの磁気ディスク装置
では、近年、高記録密度化が可能な薄膜磁性媒体型が適
用されている。この磁気ディスクでは記憶容量を増大さ
せるために、ヘッドとディスクとの間隔を狭くする試み
がなされており、現在ではヘッド浮上量が０.１μｍ 程
度まで低下している。このため、ヘッドとディスクは、
停止時に加え、ディスクの起動中にも接触摺動する確率
が高くなる等、薄膜磁性媒体型では必然的に摺動条件を
苛酷にする方向にあり、磁気ディスク装置の信頼性の面
でディスクの摺動耐久性向上は不可欠な要素となってい
る。今後もヘッド浮上量は、さらに低下する傾向にあ
り、近い将来ヘッド浮上量はナノメータオーダの領域あ
るいは完全な接触状態になると考えられる。このような
極低浮上，接触摺動の領域では、従来から用いている潤
滑方式では十分な耐摺動信頼性を実現できないのが現状
である。このため、磁気記録媒体の最外表面に設けられ
る潤滑層は過酷な摺動条件に耐えられる性能が要求され
ている。また、磁気テープ等の接触摺動する磁気記録媒
体でも摺動耐久性の向上が必要である。
【０００３】現在、磁気記録媒体の潤滑層はフッ素系化
合物により構成され、その摺動耐久性向上のための試み
が数多くなされている。例えば、吸着性の高いフッ素系
潤滑剤の塗布や化学的に固定する方法が米国特許第4120
995号明細書、特開昭54− 36171号，同59−203239号，
同60−38730号，同59−172159号，同61−39919 号，特
開昭60−109028号，同60−101717号，同60−101715号，
同60−242518号，同60−202533号，同60−246020号，同
61−104318号，同62−42316号，同63−225918号，同63
−220420号等の各公報で提案されている。これらはシラ
ン，リン酸系であり、薄膜磁性媒体における磁性層上の
無機薄膜保護層表面に反応して固着するタイプの潤滑剤
である。しかし、これらの技術は空気膜でのヘッド浮上
の領域では対応できるものの、ナノメータオーダの領域
あるいは完全な接触状態での潤滑技術としては不十分で
ある。このような状況に対応し、ナノメータオーダの領
域あるいは完全な接触状態での潤滑技術として、薄い液
体膜によってヘッド浮上させる方法が特願平3−119580
号，特開昭63−308775号，特開平2−249177号，特開平2
−130789 号公報等の各公報で提案されている。また、
複数の成分からなる潤滑膜をディスク表面に形成するこ
とにより摺動耐久性を向上させる方法が特開平4−48435
号，特開昭62−257622号，特開昭62−257623号，特開平
2−175791 号，特開平2−240828号，特開平2−249130
号，特開平3−34121号等の公報で提案されている。さら
に、磁気ヘッドスライダのディスク表面との接触部に潤
滑膜を形成する方法が特開平3−88189号，特開昭63−27
6769号，特開昭62−188012号，特開昭62−231411号，特
開昭63−117379号，特開昭62−34392号，特開昭63−486
74号，特開平1−137484 号，特開昭63−269384号公報等
の公報で提案されている。しかし、これらの技術でも安
定した耐摺動信頼性を維持するためには磁気ディスク表
面に設けられる潤滑層の摺動耐久性を数段向上させる必
要があり、フッ素系化合物を中心とした現行の潤滑膜で
は限界が生じる恐れがある。このため、苛酷な摺動に対
応するために、現行の潤滑膜にフッ素系化合物には無い
より高い耐摩耗，低摩擦性の機能を付与する必要があ
る。現在のところ、これに類する有効な手段は提案され
ていない。
合物により構成され、その摺動耐久性向上のための試み
が数多くなされている。例えば、吸着性の高いフッ素系
潤滑剤の塗布や化学的に固定する方法が米国特許第4120
995号明細書、特開昭54− 36171号，同59−203239号，
同60−38730号，同59−172159号，同61−39919 号，特
開昭60−109028号，同60−101717号，同60−101715号，
同60−242518号，同60−202533号，同60−246020号，同
61−104318号，同62−42316号，同63−225918号，同63
−220420号等の各公報で提案されている。これらはシラ
ン，リン酸系であり、薄膜磁性媒体における磁性層上の
無機薄膜保護層表面に反応して固着するタイプの潤滑剤
である。しかし、これらの技術は空気膜でのヘッド浮上
の領域では対応できるものの、ナノメータオーダの領域
あるいは完全な接触状態での潤滑技術としては不十分で
ある。このような状況に対応し、ナノメータオーダの領
域あるいは完全な接触状態での潤滑技術として、薄い液
体膜によってヘッド浮上させる方法が特願平3−119580
号，特開昭63−308775号，特開平2−249177号，特開平2
−130789 号公報等の各公報で提案されている。また、
複数の成分からなる潤滑膜をディスク表面に形成するこ
とにより摺動耐久性を向上させる方法が特開平4−48435
号，特開昭62−257622号，特開昭62−257623号，特開平
2−175791 号，特開平2−240828号，特開平2−249130
号，特開平3−34121号等の公報で提案されている。さら
に、磁気ヘッドスライダのディスク表面との接触部に潤
滑膜を形成する方法が特開平3−88189号，特開昭63−27
6769号，特開昭62−188012号，特開昭62−231411号，特
開昭63−117379号，特開昭62−34392号，特開昭63−486
74号，特開平1−137484 号，特開昭63−269384号公報等
の公報で提案されている。しかし、これらの技術でも安
定した耐摺動信頼性を維持するためには磁気ディスク表
面に設けられる潤滑層の摺動耐久性を数段向上させる必
要があり、フッ素系化合物を中心とした現行の潤滑膜で
は限界が生じる恐れがある。このため、苛酷な摺動に対
応するために、現行の潤滑膜にフッ素系化合物には無い
より高い耐摩耗，低摩擦性の機能を付与する必要があ
る。現在のところ、これに類する有効な手段は提案され
ていない。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】ナノメータオーダのヘ
ッド浮上領域あるいは完全な接触状態での苛酷な摺動に
対応した潤滑膜では、従来のヘッド浮上での摺動に較べ
接触摺動時間の増加に伴い、潤滑膜の剥離に伴う摩耗の
増大が懸念される。このため、潤滑膜を構成する物質
は、ディスクの保護膜表面に強固に固定され容易に脱離
しにくく、仮りに摺動によって潤滑膜の一部が剥離して
も磁気ヘッドスライダの摺動面と保護膜、磁性膜表面が
直接固体接触するのを防止する効果を有する必要があ
る。しかし、現行のフッ素系化合物により構成される潤
滑膜の膜厚は数ナノメータと非常に薄く、保護膜表面と
化学結合などによって強固に固定しても摺動による剥離
は避けられないと考えられる。また、薄い液体膜による
浮上においても接触摺動による摩耗が発生すると考えら
れ、現在提案されているいずれの手法を用いても潤滑膜
を構成する物質に高い耐摩耗性，低摩擦特性を付与し、
摺動耐久性を格段に向上させる必要がある。
ッド浮上領域あるいは完全な接触状態での苛酷な摺動に
対応した潤滑膜では、従来のヘッド浮上での摺動に較べ
接触摺動時間の増加に伴い、潤滑膜の剥離に伴う摩耗の
増大が懸念される。このため、潤滑膜を構成する物質
は、ディスクの保護膜表面に強固に固定され容易に脱離
しにくく、仮りに摺動によって潤滑膜の一部が剥離して
も磁気ヘッドスライダの摺動面と保護膜、磁性膜表面が
直接固体接触するのを防止する効果を有する必要があ
る。しかし、現行のフッ素系化合物により構成される潤
滑膜の膜厚は数ナノメータと非常に薄く、保護膜表面と
化学結合などによって強固に固定しても摺動による剥離
は避けられないと考えられる。また、薄い液体膜による
浮上においても接触摺動による摩耗が発生すると考えら
れ、現在提案されているいずれの手法を用いても潤滑膜
を構成する物質に高い耐摩耗性，低摩擦特性を付与し、
摺動耐久性を格段に向上させる必要がある。
【０００５】この問題を解決するには、潤滑膜を構成す
る物質として従来のフッ素系化合物に加え、高い耐摩耗
性，低摩擦特性を有する物質を添加する手法が考えられ
る。本発明の目的は、これら従来技術の問題点を解決し
た磁気記録媒体用の潤滑膜を提供することにある。
る物質として従来のフッ素系化合物に加え、高い耐摩耗
性，低摩擦特性を有する物質を添加する手法が考えられ
る。本発明の目的は、これら従来技術の問題点を解決し
た磁気記録媒体用の潤滑膜を提供することにある。
【０００６】
【課題を解決するための手段】過酷な摺動条件下での潤
滑技術として油性剤や極圧剤による境界潤滑膜を摺動面
に形成する方法がある。一般に、油を使った潤滑系では
摺動条件が厳しくなるにつれ、油膜の形成が困難にな
り、摺動する物体が分子レベルの潤滑膜で摺動する境界
潤滑の領域に移行する。この際、境界潤滑膜とよばれる
分子レベルの潤滑膜は、油中に添加された油性剤や極圧
剤が摺動面と反応して形成するものであり、例えば、エ
ンジンのピストンとシリンダ間の潤滑はエンジンオイル
内に添加された極圧剤によって焼き付きを防止してい
る。そこで、本発明ではナノメータオーダのヘッド浮上
領域あるいは完全な接触状態での苛酷な摺動に対応した
潤滑膜として従来のフッ素系化合物に加え、極圧剤を添
加することにより低摩擦，耐摩耗性を実現する技術を考
案した。このような構成で作成した磁気記録媒体表面の
潤滑膜は、極圧剤が摺動面と反応し境界潤滑膜を形成し
摩耗を防止し、フッ素系化合物は、低表面エネルギの特
性により低摩擦，耐腐食性を実現すると考えられる。
滑技術として油性剤や極圧剤による境界潤滑膜を摺動面
に形成する方法がある。一般に、油を使った潤滑系では
摺動条件が厳しくなるにつれ、油膜の形成が困難にな
り、摺動する物体が分子レベルの潤滑膜で摺動する境界
潤滑の領域に移行する。この際、境界潤滑膜とよばれる
分子レベルの潤滑膜は、油中に添加された油性剤や極圧
剤が摺動面と反応して形成するものであり、例えば、エ
ンジンのピストンとシリンダ間の潤滑はエンジンオイル
内に添加された極圧剤によって焼き付きを防止してい
る。そこで、本発明ではナノメータオーダのヘッド浮上
領域あるいは完全な接触状態での苛酷な摺動に対応した
潤滑膜として従来のフッ素系化合物に加え、極圧剤を添
加することにより低摩擦，耐摩耗性を実現する技術を考
案した。このような構成で作成した磁気記録媒体表面の
潤滑膜は、極圧剤が摺動面と反応し境界潤滑膜を形成し
摩耗を防止し、フッ素系化合物は、低表面エネルギの特
性により低摩擦，耐腐食性を実現すると考えられる。
【０００７】また、スライダの摺動面にも同様な潤滑膜
を形成することにより、さらに磁気記録装置としての耐
摺動信頼性は向上すると考えられる。
を形成することにより、さらに磁気記録装置としての耐
摺動信頼性は向上すると考えられる。
【０００８】本発明でのフッ素系化合物とはパーフロロ
ポリオキシアルキル基又はパーフロロポリオキシアルキ
レン基を有するもので Ｆ(ＣＦ(ＣＦ3)ＣＦ2−Ｏ−)x−Ｃ2Ｆ4− Ｆ(Ｃ3Ｆ6−Ｏ−)x−(ＣＦ2Ｏ)y−(ＣＦ2)z− −(ＣＦ2Ｏ)x−(Ｃ2Ｆ4Ｏ)y−(Ｃ3Ｆ6Ｏ)3−ＣＦ2− 等であるが、本発明はこれに限定されるものではない。
ポリオキシアルキル基又はパーフロロポリオキシアルキ
レン基を有するもので Ｆ(ＣＦ(ＣＦ3)ＣＦ2−Ｏ−)x−Ｃ2Ｆ4− Ｆ(Ｃ3Ｆ6−Ｏ−)x−(ＣＦ2Ｏ)y−(ＣＦ2)z− −(ＣＦ2Ｏ)x−(Ｃ2Ｆ4Ｏ)y−(Ｃ3Ｆ6Ｏ)3−ＣＦ2− 等であるが、本発明はこれに限定されるものではない。
【０００９】この時のパーフロロポリオキシアルキレン
グループと炭化水素グループを結合した潤滑剤の具体的
な構造例は、 Ｒｆ−ＣＯＯＨ Ｒｆ−ＣＯＮＨ−Ｃ3Ｈ6−Ｓｉ（ＯＣ2Ｈ5）３
グループと炭化水素グループを結合した潤滑剤の具体的
な構造例は、 Ｒｆ−ＣＯＯＨ Ｒｆ−ＣＯＮＨ−Ｃ3Ｈ6−Ｓｉ（ＯＣ2Ｈ5）３
【００１０】
【化５】
【００１１】
【化６】
【００１２】Ｒｆ−ＣＯＯＣ２Ｈ4−Ｓｉ（ＯＣＨ3）3 （C2H5O)3Si−C3H6−HNOC−Rf−CONH−C3H6−Si(OC2H5)
3 （Ｃ2Ｈ5Ｏ)3Ｓｉ−Ｏ−ＣＨ2−Ｒｆ−ＣＨ2−Ｏ−Ｓｉ
（ＯＣ2Ｈ5）3 （ＣＨ3Ｏ)3Ｓｉ−ＯＯＣ−Ｒｆ−ＣＯＯ−Ｓｉ（ＯＣ
Ｈ3）3 （CH3O)3−Si−C3H6−NHCO−Rf−CONH−C3H6−Si−(OCH
3)3 （C2H5O)3−Si−C3H6−NHCO−Rf−CONH−C3H6−Si−(OC
2H5)2
3 （Ｃ2Ｈ5Ｏ)3Ｓｉ−Ｏ−ＣＨ2−Ｒｆ−ＣＨ2−Ｏ−Ｓｉ
（ＯＣ2Ｈ5）3 （ＣＨ3Ｏ)3Ｓｉ−ＯＯＣ−Ｒｆ−ＣＯＯ−Ｓｉ（ＯＣ
Ｈ3）3 （CH3O)3−Si−C3H6−NHCO−Rf−CONH−C3H6−Si−(OCH
3)3 （C2H5O)3−Si−C3H6−NHCO−Rf−CONH−C3H6−Si−(OC
2H5)2
【００１３】
【化７】
【００１４】
【化８】
【００１５】
【化９】
【００１６】等がある。
【００１７】さらに、本発明で言う極圧剤は、磁気記録
媒体への腐食やフッ素系化合物を塗布する際の溶剤との
相溶性の点で燐系の極圧剤が望ましい。具体的な構造例
は （Ｃ6Ｈ5Ｏ)3Ｐ （ＣＨ3Ｃ6Ｈ4Ｏ)3Ｐ （ｎ−Ｃ9Ｈ19Ｃ6Ｈ4Ｏ)3Ｐ （Ｃ6Ｈ5Ｏ)2(Ｃ9Ｈ19Ｃ6Ｈ4Ｏ)Ｐ （ｎ−Ｃ4Ｈ9Ｏ)3Ｐ （ｎ−Ｃ12Ｈ25Ｏ)3Ｐ （Ｃ6Ｈ5Ｏ)2Ｐ(Ｏ）Ｈ （Ｃ6Ｈ5Ｏ)3Ｐ（Ｏ） （ＣＨ3Ｃ6Ｈ4Ｏ)3Ｐ(Ｏ) （ｎ−Ｃ8Ｈ17Ｏ)3Ｐ(Ｏ) 等がある。
媒体への腐食やフッ素系化合物を塗布する際の溶剤との
相溶性の点で燐系の極圧剤が望ましい。具体的な構造例
は （Ｃ6Ｈ5Ｏ)3Ｐ （ＣＨ3Ｃ6Ｈ4Ｏ)3Ｐ （ｎ−Ｃ9Ｈ19Ｃ6Ｈ4Ｏ)3Ｐ （Ｃ6Ｈ5Ｏ)2(Ｃ9Ｈ19Ｃ6Ｈ4Ｏ)Ｐ （ｎ−Ｃ4Ｈ9Ｏ)3Ｐ （ｎ−Ｃ12Ｈ25Ｏ)3Ｐ （Ｃ6Ｈ5Ｏ)2Ｐ(Ｏ）Ｈ （Ｃ6Ｈ5Ｏ)3Ｐ（Ｏ） （ＣＨ3Ｃ6Ｈ4Ｏ)3Ｐ(Ｏ) （ｎ−Ｃ8Ｈ17Ｏ)3Ｐ(Ｏ) 等がある。
【００１８】
【作用】フッ素系化合物とリン系極圧剤を混合させた本
発明の潤滑膜は、図１に示すようにヘッドと媒体の摺動
面に極圧剤による境界潤滑膜が形成され、フッ素系化合
物との相乗効果により優れた耐摩耗性，低摩擦特性を実
現できる。
発明の潤滑膜は、図１に示すようにヘッドと媒体の摺動
面に極圧剤による境界潤滑膜が形成され、フッ素系化合
物との相乗効果により優れた耐摩耗性，低摩擦特性を実
現できる。
【００１９】以下、実施例で本研究の効果を詳しく述べ
るが、本発明はこれら実施例に限定されない。
るが、本発明はこれら実施例に限定されない。
【００２０】
【実施例】本発明の効果を検討するために用いた各フッ
素系化合物とリン系極圧剤の構造並びに配合比を表１に
示す。
素系化合物とリン系極圧剤の構造並びに配合比を表１に
示す。
【００２１】〈実施例１〉下記構造式のフッ素系化合物
である化１０を重量濃度０.１ｗｔ％ 、リン系極圧剤で
ある化１１を重量濃度０.００１〜０.１ｗｔ％でトリク
ロロトリフロロエタン（商品名フロンソルベントＳ−
３）に溶解させた溶液[Ｉ]を作成した。
である化１０を重量濃度０.１ｗｔ％ 、リン系極圧剤で
ある化１１を重量濃度０.００１〜０.１ｗｔ％でトリク
ロロトリフロロエタン（商品名フロンソルベントＳ−
３）に溶解させた溶液[Ｉ]を作成した。
【００２２】フッ素系化合物：
【００２３】
【化１０】
【００２４】リン系極圧剤：
【００２５】
【化１１】
【００２６】次に、５.２５ インチのＡｌ合金ディスク
表面にＮｉ−Ｐ層とその上にＣｒ層を設け、更に、この
上にＮｉ−Ｃｏの磁性層を５０ｎｍ厚さに蒸着した磁性
層，カーボンスパッタ層を順に設けた磁気ディスク表面
に溶液[Ｉ]を浸漬塗布し、磁気ディスク基板１を得た。
表面にＮｉ−Ｐ層とその上にＣｒ層を設け、更に、この
上にＮｉ−Ｃｏの磁性層を５０ｎｍ厚さに蒸着した磁性
層，カーボンスパッタ層を順に設けた磁気ディスク表面
に溶液[Ｉ]を浸漬塗布し、磁気ディスク基板１を得た。
【００２７】また、ＴｉＣ−Ａｌ2Ｏ3セラミックスから
なるスライダの浮上力発生用のレール部に溶液[Ｉ]を塗
布し、磁気ヘッドスライダ１を得た。
なるスライダの浮上力発生用のレール部に溶液[Ｉ]を塗
布し、磁気ヘッドスライダ１を得た。
【００２８】こうして得られた基板１と磁気ヘッドスラ
イダ１を垂直荷重２０ｇ、滑り速度５ｍ／ｓで１時間摺
動させた時の、摩擦係数を測定した。結果を図１に示
す。この結果より後に記載したリン系極圧剤を添加しな
い場合と比較してリン系極圧剤を添加した本実施例の方
が摩擦係数，摩耗量とも低い値になっている。また、リ
ン系極圧剤の添加濃度が０.００１ｗｔ％から０.００７
ｗｔ％までは添加濃度の増加に伴い摩擦係数，摩耗量は
減少しており、０.００７ｗｔ％ 以上ではあまり変化し
ていない。
イダ１を垂直荷重２０ｇ、滑り速度５ｍ／ｓで１時間摺
動させた時の、摩擦係数を測定した。結果を図１に示
す。この結果より後に記載したリン系極圧剤を添加しな
い場合と比較してリン系極圧剤を添加した本実施例の方
が摩擦係数，摩耗量とも低い値になっている。また、リ
ン系極圧剤の添加濃度が０.００１ｗｔ％から０.００７
ｗｔ％までは添加濃度の増加に伴い摩擦係数，摩耗量は
減少しており、０.００７ｗｔ％ 以上ではあまり変化し
ていない。
【００２９】〈実施例２〉下記構造式のフッ素系化合物
である化１２を重量濃度０.１ｗｔ％ 、リン系極圧剤で
ある化１３を重量濃度０.００１〜０.１ｗｔ％でトリク
ロロトリフロロエタン（商品名フロンソルベントＳ−
３）に溶解させた溶液[Ｉ]を作成した。
である化１２を重量濃度０.１ｗｔ％ 、リン系極圧剤で
ある化１３を重量濃度０.００１〜０.１ｗｔ％でトリク
ロロトリフロロエタン（商品名フロンソルベントＳ−
３）に溶解させた溶液[Ｉ]を作成した。
【００３０】フッ素系化合物：
【００３１】
【化１２】
【００３２】リン系極圧剤：
【００３３】
【化１３】
【００３４】次に、５.２５ インチのＡｌ合金ディスク
表面にＮｉ−Ｐ層とその上にＣｒ層を設け、更にこの上
にＮｉ−Ｃｏの磁性層を５０ｎｍ厚さに蒸着した磁性
層，カーボンスパッタ層を順に設けた磁気ディスク表面
に溶液[II]を浸漬塗布し、磁気ディスク基板２を得た。
表面にＮｉ−Ｐ層とその上にＣｒ層を設け、更にこの上
にＮｉ−Ｃｏの磁性層を５０ｎｍ厚さに蒸着した磁性
層，カーボンスパッタ層を順に設けた磁気ディスク表面
に溶液[II]を浸漬塗布し、磁気ディスク基板２を得た。
【００３５】また、ＴｉＣ−Ａｌ2Ｏ3セラミックスから
なるスライダの浮上力発生用のレール部に溶液[II]を塗
布し、磁気ヘッドスライダ２を得た。
なるスライダの浮上力発生用のレール部に溶液[II]を塗
布し、磁気ヘッドスライダ２を得た。
【００３６】こうして得られた基板２と磁気ヘッドスラ
イダ２を実施例１と同様の摺動条件で摩擦係数を測定し
た。結果を図２に示す。その結果、実施例と同様の結果
が得られた。
イダ２を実施例１と同様の摺動条件で摩擦係数を測定し
た。結果を図２に示す。その結果、実施例と同様の結果
が得られた。
【００３７】〈実施例３〉下記構造式のフッ素系化合物
である化１４を重量濃度０.１ｗｔ％ 、リン系極圧剤で
ある化１５を重量濃度０.００１〜０.１ｗｔ％でトリク
ロロトリフロロエタン（商品名フロンソルベントＳ−
３）に溶解させた溶液[III] を作成した。
である化１４を重量濃度０.１ｗｔ％ 、リン系極圧剤で
ある化１５を重量濃度０.００１〜０.１ｗｔ％でトリク
ロロトリフロロエタン（商品名フロンソルベントＳ−
３）に溶解させた溶液[III] を作成した。
【００３８】フッ素系化合物：
【００３９】
【化１４】
【００４０】リン系極圧剤：
【００４１】
【化１５】
【００４２】次に、５.２５ インチのＡｌ合金ディスク
表面にＮｉ−Ｐ層とその上にＣｒ層を設け、更にこの上
にＮｉ−Ｃｏの磁性層を５０ｎｍ厚さに蒸着した磁性
層，カーボンスパッタ層を順に設けた磁気ディスク表面
に溶液[III] を浸漬塗布し、１２０℃１０分間熱処理
し、磁気ディスク基板３を得た。
表面にＮｉ−Ｐ層とその上にＣｒ層を設け、更にこの上
にＮｉ−Ｃｏの磁性層を５０ｎｍ厚さに蒸着した磁性
層，カーボンスパッタ層を順に設けた磁気ディスク表面
に溶液[III] を浸漬塗布し、１２０℃１０分間熱処理
し、磁気ディスク基板３を得た。
【００４３】また、ＴｉＣ−Ａｌ2Ｏ3セラミックスから
なるスライダの浮上力発生用のレール部に溶液[III] を
塗布し、１２０℃１０分間熱処理し、磁気ヘッドスライ
ダ３を得た。
なるスライダの浮上力発生用のレール部に溶液[III] を
塗布し、１２０℃１０分間熱処理し、磁気ヘッドスライ
ダ３を得た。
【００４４】こうして得られた基板３と磁気ヘッドスラ
イダ３を実施例１と同様の摺動条件で摩擦係数を測定し
た。結果を図３に示す。その結果、実施例１，２と同様
の結果が得られた。
イダ３を実施例１と同様の摺動条件で摩擦係数を測定し
た。結果を図３に示す。その結果、実施例１，２と同様
の結果が得られた。
【００４５】〈比較例１〜３〉実施例１，２，３で使用
したフッ素系化合物のみを同重量濃度でトリクロロトリ
フロロエタン（商品名フロンソルベントＳ−３）に溶解
させた溶液作成し、同様の手法で磁気ディスク並びに磁
気ヘッドスライダに塗布，処理し、基板４，５，６と磁
気ヘッドスライダ４，５，６を得た。
したフッ素系化合物のみを同重量濃度でトリクロロトリ
フロロエタン（商品名フロンソルベントＳ−３）に溶解
させた溶液作成し、同様の手法で磁気ディスク並びに磁
気ヘッドスライダに塗布，処理し、基板４，５，６と磁
気ヘッドスライダ４，５，６を得た。
【００４６】こうして得られた基板４，５，６と磁気ヘ
ッドスライダ４，５，６を実施例１と同様の方法で評価
した。その結果を同じフッ素系化合物を使用した各実施
例の各図（図１，図２，図３）に示す。
ッドスライダ４，５，６を実施例１と同様の方法で評価
した。その結果を同じフッ素系化合物を使用した各実施
例の各図（図１，図２，図３）に示す。
【００４７】比較例１〜３の結果からフッ素系化合物単
独で構成された潤滑膜では、極圧剤を添加した潤滑膜と
比較して摩擦係数が高く、摩耗量も多いことがわかっ
た。
独で構成された潤滑膜では、極圧剤を添加した潤滑膜と
比較して摩擦係数が高く、摩耗量も多いことがわかっ
た。
【００４８】この結果から本発明は、ナノメータオーダ
のヘッド浮上領域あるいは完全な接触状態での苛酷な摺
動状態の磁気記録媒体用の潤滑層として極めて有効なこ
とが判った。
のヘッド浮上領域あるいは完全な接触状態での苛酷な摺
動状態の磁気記録媒体用の潤滑層として極めて有効なこ
とが判った。
【００４９】
【発明の効果】本発明によればフッ素系化合物にリン系
極圧剤を混合することによりナノメータオーダのヘッド
浮上領域あるいは完全な接触状態での苛酷な摺動状態で
も低摩擦，耐摩耗性を実現でき、磁気記録装置の耐摺動
技術として有効な方法である。
極圧剤を混合することによりナノメータオーダのヘッド
浮上領域あるいは完全な接触状態での苛酷な摺動状態で
も低摩擦，耐摩耗性を実現でき、磁気記録装置の耐摺動
技術として有効な方法である。
【図１】本発明の潤滑膜を介して摺動した場合の、磁気
ヘッドスライダと磁気ディスクの摺動状態を示す説明
図。
ヘッドスライダと磁気ディスクの摺動状態を示す説明
図。
【図２】潤滑膜を有する磁気ヘッドスライダと磁気ディ
スクの摩擦係数と比較例としてリン系極圧剤を添加しな
いフッ素系化合物単独での潤滑膜の摩擦係数を測定した
結果の特性図。
スクの摩擦係数と比較例としてリン系極圧剤を添加しな
いフッ素系化合物単独での潤滑膜の摩擦係数を測定した
結果の特性図。
【図３】潤滑膜を有する磁気ヘッドスライダと磁気ディ
スクの摩擦係数と比較例としてリン系極圧剤を添加しな
いフッ素系化合物単独での潤滑膜の摩擦係数を測定した
結果の特性図。
スクの摩擦係数と比較例としてリン系極圧剤を添加しな
いフッ素系化合物単独での潤滑膜の摩擦係数を測定した
結果の特性図。
【図４】潤滑膜を有する磁気ヘッドスライダと磁気ディ
スクの摩擦係数と比較例としてリン系極圧剤を添加しな
いフッ素系化合物単独での潤滑膜の摩擦係数を測定した
結果の特性図。
スクの摩擦係数と比較例としてリン系極圧剤を添加しな
いフッ素系化合物単独での潤滑膜の摩擦係数を測定した
結果の特性図。
１…磁気ヘッドスライダ、２…潤滑膜、３…保護膜、４
…磁性膜、５…下地層、６…基板、７…磁気ヘッド、８
…摺動面拡大図、９…リン系極圧剤、１０…フッ素系化
合物、１１…境界潤滑膜。
…磁性膜、５…下地層、６…基板、７…磁気ヘッド、８
…摺動面拡大図、９…リン系極圧剤、１０…フッ素系化
合物、１１…境界潤滑膜。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 師岡 寿至 茨城県日立市大みか町七丁目１番１号 株 式会社日立製作所日立研究所内 (72)発明者 新井 寿一 茨城県日立市大みか町七丁目１番１号 株 式会社日立製作所日立研究所内 (72)発明者 村上 祐子 茨城県日立市大みか町七丁目１番１号 株 式会社日立製作所日立研究所内 (72)発明者 今関 周治 茨城県日立市大みか町七丁目１番１号 株 式会社日立製作所日立研究所内 (72)発明者 伊藤 豊 茨城県日立市大みか町七丁目１番１号 株 式会社日立製作所日立研究所内
Claims (9)
- 【請求項１】非磁性基材上に磁性層，保護層，潤滑層か
らなる磁気記録媒体において、前記潤滑層がフッ素系化
合物と非フッ素系化合物によって構成されたことを特徴
とする磁気記録媒体。 - 【請求項２】非磁性基材上に磁性層，保護層，潤滑層か
らなる磁気記録媒体において、前記潤滑層が表面エネル
ギ化，低摩擦，低摩耗性をもつフッ素系化合物と低摩
擦，耐摩耗性を有する極圧剤から構成されたことを特徴
とする磁気記録媒体。 - 【請求項３】非磁性基材上に磁性層，保護層，潤滑層か
らなる磁気記録媒体において、前記潤滑層が保護層表面
に吸着する官能基を有するフッ素系化合物とリン系極圧
剤によって構成され、低摩擦，耐摩耗性を両立したこと
を特徴とする磁気記録媒体。 - 【請求項４】非磁性基材上に磁性層，保護層、並びにフ
ッ素系化合物とリン系極圧剤によって構成された潤滑層
からなる磁気記録媒体を備えた磁気記録装置。 - 【請求項５】磁気記録媒体表面に対し対向面の気流流通
方向に浮上力を発生するスライダレール２本を備えたセ
ラミックス材からなるスライダの構成において、前記ス
ライダレール面に表面エネルギ化，低摩擦，低摩耗性を
有するフッ素系化合物と低摩擦，耐摩耗性を有する極圧
剤から構成された潤滑層を有することを特徴とする磁気
ヘッドスライダ。 - 【請求項６】磁気記録媒体表面に対し対向面の気流流通
方向に浮上力を発生するスライダレール２本を備えたセ
ラミックス材からなるスライダの構成において、スライ
ダレール面にフッ素系化合物とリン系極圧剤によって構
成された潤滑層を有することを特徴とする磁気ヘッドス
ライダ。 - 【請求項７】磁気記録媒体表面に対し対向面の気流流通
方向に浮上力を発生するスライダレール２本を備えたセ
ラミックス材からなるスライダの構成において、スライ
ダレール面にフッ素系化合物とリン系極圧剤によって構
成された潤滑層を有する磁気ヘッドスライダを備えた磁
気記録装置。 - 【請求項８】請求項１，２，３，４，５，６または７に
おいて、フッ素化合物がＲｆ−Ｒで表され、Ｒｆはパー
フロロポリオキシアルキル基又はパーフロロポリオキシ
アルキレン基である磁気記録媒体と磁気ヘッドスライ
ダ。 - 【請求項９】請求項１，２，３，４，５，６または７に
記載の潤滑層において、リン系化合物が下記一般式 【化１】 【化２】 【化３】 【化４】 (式中Ｒは炭化水素基)である磁気記録媒体と磁気ヘッド
スライダ。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP32397892A JPH06176350A (ja) | 1992-12-03 | 1992-12-03 | 磁気記録媒体，磁気ヘッドスライダおよびこれらを備えた磁気記録装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP32397892A JPH06176350A (ja) | 1992-12-03 | 1992-12-03 | 磁気記録媒体，磁気ヘッドスライダおよびこれらを備えた磁気記録装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH06176350A true JPH06176350A (ja) | 1994-06-24 |
Family
ID=18160755
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP32397892A Pending JPH06176350A (ja) | 1992-12-03 | 1992-12-03 | 磁気記録媒体，磁気ヘッドスライダおよびこれらを備えた磁気記録装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH06176350A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2001158895A (ja) * | 1999-12-02 | 2001-06-12 | Nec Corp | 潤滑剤、これを塗布した磁気記録媒体及び磁気ヘッドスライダ、並びにこれらを用いた磁気記録装置 |
| JP2008059683A (ja) * | 2006-08-31 | 2008-03-13 | Fujitsu Ltd | ヘッドスライダ、ヘッドスライダと磁気記録媒体との組み合わせおよび磁気記録装置 |
-
1992
- 1992-12-03 JP JP32397892A patent/JPH06176350A/ja active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2001158895A (ja) * | 1999-12-02 | 2001-06-12 | Nec Corp | 潤滑剤、これを塗布した磁気記録媒体及び磁気ヘッドスライダ、並びにこれらを用いた磁気記録装置 |
| JP2008059683A (ja) * | 2006-08-31 | 2008-03-13 | Fujitsu Ltd | ヘッドスライダ、ヘッドスライダと磁気記録媒体との組み合わせおよび磁気記録装置 |
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