JPH0378906A - 導電性ペースト - Google Patents

導電性ペースト

Info

Publication number
JPH0378906A
JPH0378906A JP1216657A JP21665789A JPH0378906A JP H0378906 A JPH0378906 A JP H0378906A JP 1216657 A JP1216657 A JP 1216657A JP 21665789 A JP21665789 A JP 21665789A JP H0378906 A JPH0378906 A JP H0378906A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
powder
metal
alloy
conductive paste
plating
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP1216657A
Other languages
English (en)
Inventor
Tatsu Maeda
龍 前田
Shingoro Fukuoka
新五郎 福岡
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Furukawa Electric Co Ltd
Original Assignee
Furukawa Electric Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Furukawa Electric Co Ltd filed Critical Furukawa Electric Co Ltd
Priority to JP1216657A priority Critical patent/JPH0378906A/ja
Publication of JPH0378906A publication Critical patent/JPH0378906A/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05KPRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
    • H05K1/00Printed circuits
    • H05K1/02Details
    • H05K1/09Use of materials for the conductive, e.g. metallic pattern
    • H05K1/092Dispersed materials, e.g. conductive pastes or inks

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 [産業上の利用分野] 本発明は、チップコンデンサー、チップ抵抗等の導体電
極の形成あるいはハイブリッドIC基板における配線パ
ターンの形成に好適に用いられる導電性ペーストに間す
る。
[従来の技術及び解決すべき課題] 近年、セラミック積層チップコンデンサーやセラミック
チップ抵抗の導体電極用あるいはハイブリッドIC基板
における配線パターンの形成用導電性ペーストにはAg
、 Ag−Pd、 P t、 Au等の貴金属粉末が導
電フィラーとして用いられている。しかし、これらの貴
金属粉末は高価であるため、CuやNi等の卑金属粉末
を用いた導電性ペーストの開発が行われているが、これ
ら卑金属粉末を用いた導電性ペーストは、大気中600
〜1000℃の高温で焼成すると金属粉末が酸化して所
望の導電性を得ることができない。そのため、焼成雰囲
気を窒素ガスにすることが試みられているが、焼成雰囲
気を窒素ガスのみにすると焼成導体にバーンアウトしき
れなかった炭素分が残存して導体抵抗や半田付性に悪影
響を残すこととなり、この問題を回避するためには10
ppm程度の酸素を含有するように焼成雰囲気を厳密に
調整することが不可欠で、そのためには高度の技術力を
必要としコストアップとなる欠点があった。
また、卑金属を合金化した合金粉末を用いた導電性ペー
ストも知られているが、合金化しても酸化の問題は完全
には解決されていなかった。
本発明は、上記課題を解決するため、合金化した金属粉
末の表面に貴金属のメツキを施すことにより金属粉末の
耐酸化性を向上させ、酸素濃度が11000pp程度の
雰囲気中における焼成によっても十分な導電性とハンダ
付性を確保できる導電性ペーストを提供するものである
[課題解決のための手段] 本発明者らは、純金属例えば銅の粉末上に貴金属をメツ
キしたものは、銅粉の酸化が優先的に生じ、貴金属の酸
化の効果が小さいが、合金粉末としたものは、母材金属
の導電性は純金属に比べて劣るが耐酸化性が向上し貴金
属メツキによりさらに表面での耐酸化性が向上すること
に着目し本発明に到ったものである。
すなわち、本発明は、金属粉末、ガラスフリット、有機
質ビヒクルを主成分とする導電性ペーストにおいて、前
記金属粉末としてCu−Ni合金粉末またはCu−Zn
合金粉末の表面にAu、Pt、Pd、Ru、Agの群か
ら選はれたいずれか1種の金属をコーティングしてなる
金属粉末を使用したことを特徴とするものである。
本発明において、合金化した金属としてCu−Ni、C
u−Znを用いる理由は、合金そのものがCuに比較し
て耐酸化性であり、かつ導電性も許容範囲のものであり
、耐マイグレーション性、メツキ性に優れているからで
ある。
本発明のCu−Ni合金におけるNiの含有量は5〜5
0重量%の範囲であり、Niの含有量が多くなるにした
がって耐酸化性は向上するが導電性が低下するため、好
ましくはNi1O〜20重量%のものがよい。
また、Cu−Zn合金におけるZnの含有量は5〜60
重量%の範囲であり、Znの含有量が多くなるにしたが
フて耐酸化性は向上するが導電性が低下するため、好ま
しくはZn20〜40重量%のものがよい。
さらに、本発明におけるCu−Ni合金、Cu−Zn合
金には、必要に応じてその他の元素を少量、例えば、A
1、B、Be、Snを0.1〜5重量%の範囲で添加し
ても差し支えない。
本発明の合金粉末は、特にその製法を限定するものでは
ないが、たとえば、Cu−NiあるいはCu−Znの溶
湯を水アトマイズあるいはガスアトマイズすることによ
り微粉化し、ついで、得られた粉末を水素還元により表
面酸化のない粉体とし、さらに分級して0.1〜5μm
程度の粉末とすることによって得ることができる。
合金粉末表面への貴金属のコーティングは、無電解メツ
キが好ましく、メツキしようとする貴金属を含有するメ
ツキ液に合金粉末を入れ、加熱攪はんすることにより容
易に実施できる。
貴金属のメッキ厚は、0.O1〜1μm程度が好ましい
。なお、実際には、金属粉末上のメッキ厚は、被破壊で
は測定できず測定には手間がかかるので、便宜上、被メ
ツキ粉末(合金粉末)に対するメツキ金属の重量比で管
理することができ 本発明の金属粉末における合金粉末
に対する貴金属メツキの重量比は、0.1〜50重量%
程度が好ましい。
上記の重量比が0.1重量%以下になると、ミクロンレ
ベルの粉末の場合、メッキ厚が0.0003μmと小さ
くなり、高温に加熱すると容易に貴金属が合金中に拡散
していき、耐酸化性の効果が得られなくなる。また、重
量比が50重量%を越えるとコストアップとなる。
上記のようにして得られた貴金属メツキ合金粉末は、P
bo−B203−9 i02等のガラスフリット、エチ
ルセルローズ、ターピネオール、ブチルカルピトール等
からなる有機質ビヒクルとともに三本ロールで混練され
て導電性ペーストとなる。
本発明の導電性ペーストは、誘電体と重ねて焼成すれば
チップコンデンサー用の電極に、また抵抗体と接続して
焼成すればチップ抵抗用の電極に、そして、セラミック
板上に印刷して焼成すればハイブリッドIC回路板の配
線材として使用できる。
なお、本発明の導電性ペーストは、酸素濃度が100 
ppm以上の雰囲気中500〜1000℃での焼成が可
能で、雰囲気中の酸素濃度は11000pp程度まで許
容される。
[実施例コ 実施例1〜1O Ni20重量%のCu−Ni合金(Cu−20%Niと
表す)及びZn40重量%のCu−Zn合金(Cu−4
0%Znと表す)をそれぞれ約1400℃の溶湯とし、
水アトマイズにより合金粉を得た。
得られた合金粉を500℃で水素気流中で還元した後、
分級して平均粒径2.5μmのCu−Ni合金粉末およ
びCu−Zn合金粉末を得た。
得られた合金粉末を高純度化学研究新製のAu、Pt、
Pd、Ru、Agのそれぞれのメツキ液(商品名: K
−24N、Pt−10,Pd−10、Ru−10、S−
700)(50〜70℃に調整)に攪はんしながら浸漬
して、合金粉末表面にそれぞれの金属をメツキした。メ
ツキ金属の合金粉末に対する割合は、約30重量%とな
るようコントロールした。
得られた金属粉末100重量部に対して、ガラスフリッ
ト(日本電気硝子■製、商品名: GA−4)10重量
部、エチルセルローズ4重量部、ターピネオール20重
量部の割合で配合して三本ロールで混練して10種類の
導電性ペーストを得た。
得られた導電性ペーストのそれぞれをセラミック板上に
印刷した後、500 ppmの酸素を含有する窒素雰囲
気中で700℃で20分間焼成して導体回路を形成した
。それぞれの導体の電気抵抗を測定し体積抵抗率を算出
した結果を第1表にまとめた。
また、得られた上記導電性ペーストをそれぞれセラミッ
ク板上に50X50mmのサイズに印刷・焼成したのち
、導体表面をフラックス処理して260℃のハンダ浴に
浸漬してハンダ付性を評価した。結果を第1表に併記し
た。
比較例1〜3 比較例1.2として、上記実施例において製造したCu
−20%Ni合金粉末およびCu−40%Zn合金粉末
をメツキ処理せずにそのまま金属粉末として用いて実施
例と同様にしてペーストとした。
また、比較例3として、上記実施例と同様の製法で得た
平均粒径2.5μmのCu粉末の表面に、Auメツキを
30重量%の割合で施した金属粉末を用いて上記実施例
と同様にペーストとした。
これらペーストを上記実施例と同様にしてセラミック板
上に印刷し焼成した後、導体の電気抵抗を測定して体積
抵抗率を算出した。また、ハンダ付性についても上記実
施例と同様にして評価した。
それらの結果を第1表に併記した。
実施例11〜14 実施例1〜5で得たと同じ平均粒径2.5μmのCu−
20%Ni合金粉末の表面にAgメツキ(メツキ液: 
S−700)を施して金属粉末を得た。
この際、メツキ時間を変えることによりAgメツキ付着
量を母材合金粉末に対して5%、10%、20%、40
%となるよう調整した。なお、この場合のメツキ厚さは
、粒子をすべて粒径2.5μmの滑らかな球体とした場
合、それぞれ0.06μm、0.13 μm、0.25
 μm、0.5 μmである。
得られた金属粉末を実施例1〜10と同様な方法でペー
ストとし、同様に印刷したのち、800ppmの酸素を
含む窒素雰囲気中で700℃で20分間焼成して導体を
形成した。得られた導体について体積抵抗率およびハン
ダ付性を評価し、それらの結果も第1表に示した。
第1表から明らかなように、卑金属合金粉末表面に貴金
属メツキを施した金属粉末を使用した本発明の導電性ペ
ーストにおいては、メ・フキをしない金属粉末あるいは
銅粉末表面に貴金属メツキをした金属粉末を使用したも
のに比較して初期の体積抵抗率が著しく小さく、経時変
化も極めて小さい。また、ハンダ付性についても良好な
結果が得られている。
(以下余白) [発明の効果] 以上説明したように、本発明の導電性ペーストによれば
、母材に卑金属の合金を使用しているため安価であり、
導電フィラーが耐酸化性であるために体積抵抗率が低く
かつ安定性に優れ、ハンダ付性にも優れた導体を提供す
ることができる。したがって、本発明は工業的に極めて
有用である。

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1.  金属粉末、ガラスフリット、有機質ビヒクルを主成分
    とする導電性ペーストにおいて、前記金属粉末としてC
    u−Ni合金粉末またはCu−Zn合金粉末の表面にA
    u、Pt、Pd、Ru、Agの群から選ばれたいずれか
    1種の金属をコーティングしてなる金属粉末を用いるこ
    とを特徴とする導電性ペースト。
JP1216657A 1989-08-23 1989-08-23 導電性ペースト Pending JPH0378906A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP1216657A JPH0378906A (ja) 1989-08-23 1989-08-23 導電性ペースト

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP1216657A JPH0378906A (ja) 1989-08-23 1989-08-23 導電性ペースト

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPH0378906A true JPH0378906A (ja) 1991-04-04

Family

ID=16691891

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP1216657A Pending JPH0378906A (ja) 1989-08-23 1989-08-23 導電性ペースト

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPH0378906A (ja)

Cited By (16)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2003033752A1 (en) * 2001-10-18 2003-04-24 Canadian Electronic Powders Corporation (Cepc) Powder for laminated ceramic capacitor internal electrode
JP2010526414A (ja) * 2007-04-25 2010-07-29 フエロ コーポレーション 銀及びニッケル、もしくは、銀及びニッケル合金からなる厚膜導電体形成、及びそれから作られる太陽電池
JP2012033291A (ja) * 2010-07-28 2012-02-16 Tdk Corp 電極形成用のペースト、端子電極及びセラミック電子部品
JP2014005531A (ja) * 2012-01-17 2014-01-16 Dowa Electronics Materials Co Ltd 銀被覆銅合金粉末およびその製造方法
JP2014091842A (ja) * 2012-11-01 2014-05-19 Dowa Electronics Materials Co Ltd 銀被覆銅合金粉末の製造方法
JP2015018814A (ja) * 2010-01-25 2015-01-29 日立化成株式会社 電極用ペースト組成物及び太陽電池
JP2015021143A (ja) * 2013-07-16 2015-02-02 Dowaエレクトロニクス株式会社 銀被覆銅合金粉末およびその製造方法
JP2015021145A (ja) * 2013-07-16 2015-02-02 Dowaエレクトロニクス株式会社 銀被覆銅合金粉末およびその製造方法
WO2016029397A1 (en) * 2014-08-28 2016-03-03 E.I. Du Pont De Nemours And Company Copper-containing conductive pastes and electrodes made therefrom
US9390829B2 (en) 2010-01-25 2016-07-12 Hitachi Chemical Company, Ltd. Paste composition for electrode and photovoltaic cell
JP2017201062A (ja) * 2017-06-23 2017-11-09 Dowaエレクトロニクス株式会社 銀被覆銅合金粉末の製造方法
JP2017210686A (ja) * 2017-07-31 2017-11-30 Dowaエレクトロニクス株式会社 銀被覆銅合金粉末およびその製造方法
US10325693B2 (en) 2014-08-28 2019-06-18 E I Du Pont De Nemours And Company Copper-containing conductive pastes and electrodes made therefrom
WO2020013293A1 (ja) * 2018-07-12 2020-01-16 住友金属鉱山株式会社 合金粉及びその製造方法
US10672922B2 (en) 2014-08-28 2020-06-02 Dupont Electronics, Inc. Solar cells with copper electrodes
US11817266B2 (en) 2021-03-12 2023-11-14 Murata Manufacturing Co., Ltd. Conductive paste and ceramic electronic component

Cited By (35)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN1324154C (zh) * 2001-10-18 2007-07-04 加拿大电子粉末公司 用于分层式陶瓷电容器内电极的粉末
US7277268B2 (en) 2001-10-18 2007-10-02 Candian Electronic Powers Corporation Laminated ceramic capacitor
US7857886B2 (en) 2001-10-18 2010-12-28 Canadian Electronic Powders Corporation Powder for laminated ceramic capacitor internal electrode
WO2003033752A1 (en) * 2001-10-18 2003-04-24 Canadian Electronic Powders Corporation (Cepc) Powder for laminated ceramic capacitor internal electrode
JP2010526414A (ja) * 2007-04-25 2010-07-29 フエロ コーポレーション 銀及びニッケル、もしくは、銀及びニッケル合金からなる厚膜導電体形成、及びそれから作られる太陽電池
EP2137739A4 (en) * 2007-04-25 2013-04-24 Ferro Corp THICKNESSER FORMULATIONS WITH SILVER AND NICKEL OR SILVER AND NICKEL ALLOYS AND SOLAR CELLS MANUFACTURED THEREFROM
JP2017195195A (ja) * 2010-01-25 2017-10-26 日立化成株式会社 電極用ペースト組成物及び太陽電池
US9390829B2 (en) 2010-01-25 2016-07-12 Hitachi Chemical Company, Ltd. Paste composition for electrode and photovoltaic cell
JP2015018814A (ja) * 2010-01-25 2015-01-29 日立化成株式会社 電極用ペースト組成物及び太陽電池
JP2012033291A (ja) * 2010-07-28 2012-02-16 Tdk Corp 電極形成用のペースト、端子電極及びセラミック電子部品
KR20140123526A (ko) * 2012-01-17 2014-10-22 도와 일렉트로닉스 가부시키가이샤 은 피복 구리 합금 분말 및 그의 제조 방법
CN104066535A (zh) * 2012-01-17 2014-09-24 同和电子科技有限公司 涂银的铜合金粉末及其生产方法
EP2796228A4 (en) * 2012-01-17 2015-10-14 Dowa Electronics Materials Co SILVER-COATED COPPER ALLOY POWDER AND METHOD OF MANUFACTURING THEREOF
JP2016020544A (ja) * 2012-01-17 2016-02-04 Dowaエレクトロニクス株式会社 銀被覆銅合金粉末およびその製造方法
JP2014005531A (ja) * 2012-01-17 2014-01-16 Dowa Electronics Materials Co Ltd 銀被覆銅合金粉末およびその製造方法
JP2016145422A (ja) * 2012-01-17 2016-08-12 Dowaエレクトロニクス株式会社 銀被覆銅合金粉末およびその製造方法
US10062473B2 (en) 2012-01-17 2018-08-28 Dowa Electronics Materials Co., Ltd. Silver-coated copper alloy powder and method for producing same
JP2017150086A (ja) * 2012-01-17 2017-08-31 Dowaエレクトロニクス株式会社 銀被覆銅合金粉末およびその製造方法
JP2014091842A (ja) * 2012-11-01 2014-05-19 Dowa Electronics Materials Co Ltd 銀被覆銅合金粉末の製造方法
JP2015021143A (ja) * 2013-07-16 2015-02-02 Dowaエレクトロニクス株式会社 銀被覆銅合金粉末およびその製造方法
JP2015021145A (ja) * 2013-07-16 2015-02-02 Dowaエレクトロニクス株式会社 銀被覆銅合金粉末およびその製造方法
WO2016029397A1 (en) * 2014-08-28 2016-03-03 E.I. Du Pont De Nemours And Company Copper-containing conductive pastes and electrodes made therefrom
US10672922B2 (en) 2014-08-28 2020-06-02 Dupont Electronics, Inc. Solar cells with copper electrodes
US9951231B2 (en) 2014-08-28 2018-04-24 E I Du Pont De Nemours And Company Copper-containing conductive pastes and electrodes made therefrom
CN106605270A (zh) * 2014-08-28 2017-04-26 E.I.内穆尔杜邦公司 含铜导电浆料和由此制成的电极
CN106605270B (zh) * 2014-08-28 2019-03-08 E.I.内穆尔杜邦公司 含铜导电浆料和由此制成的电极
US10325693B2 (en) 2014-08-28 2019-06-18 E I Du Pont De Nemours And Company Copper-containing conductive pastes and electrodes made therefrom
JP2017201062A (ja) * 2017-06-23 2017-11-09 Dowaエレクトロニクス株式会社 銀被覆銅合金粉末の製造方法
JP2017210686A (ja) * 2017-07-31 2017-11-30 Dowaエレクトロニクス株式会社 銀被覆銅合金粉末およびその製造方法
WO2020013293A1 (ja) * 2018-07-12 2020-01-16 住友金属鉱山株式会社 合金粉及びその製造方法
KR20210024051A (ko) * 2018-07-12 2021-03-04 스미토모 긴조쿠 고잔 가부시키가이샤 합금분 및 그의 제조 방법
JPWO2020013293A1 (ja) * 2018-07-12 2021-04-30 住友金属鉱山株式会社 合金粉及びその製造方法
EP3822000A4 (en) * 2018-07-12 2022-04-20 Sumitomo Metal Mining Co., Ltd. ALLOY POWDER AND PROCESS FOR PRODUCTION THEREOF
US11859264B2 (en) 2018-07-12 2024-01-02 Sumitomo Metal Mining Co., Ltd. Alloy powder and method for producing same
US11817266B2 (en) 2021-03-12 2023-11-14 Murata Manufacturing Co., Ltd. Conductive paste and ceramic electronic component

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JPH0378906A (ja) 導電性ペースト
US4122232A (en) Air firable base metal conductors
CN110692109B (zh) 导电性组合物、导体的制造方法以及电子部件的布线的形成方法
JP6885188B2 (ja) 導電性組成物及び端子電極の製造方法
US4485153A (en) Conductive pigment-coated surfaces
JP6623919B2 (ja) 導電性組成物、導体の製造方法及び電子部品の配線の形成方法
EP0047071B1 (en) Thick film conductor employing nickel oxide
JP2009146890A (ja) 低温焼付け可能な銅導電性ペースト。
WO2016029400A1 (en) Copper-containing conductive pastes and electrodes made therefrom
JPH0616461B2 (ja) チップ型積層磁器コンデンサ
US3502489A (en) Metalizing compositions fireable in an inert atmosphere
JPH0266101A (ja) 導電性粒子およびその製造方法
JP3861648B2 (ja) 銅導体ペースト組成物、その製造方法及びそれを用いてなる電子部品
JP7132591B2 (ja) 導電性ペースト及び焼成体
JP2017199544A (ja) 導電性組成物及び端子電極の製造方法
JPH0440803B2 (ja)
JP3318299B2 (ja) Pbフリー低温焼成型導電塗料
JPS6341166B2 (ja)
JPH05114305A (ja) 焼成用ペースト
JPH0465010A (ja) 銅導体ペースト
JPH07130573A (ja) 導電性金属被覆セラミックス粉末
JP2992958B2 (ja) 低温焼成多層配線基板用導体ペースト
JP2614147B2 (ja) 有機金属導体組成物
KR830001482B1 (ko) 전기도체 형성용 니켈합금 페이스트
JPS60149670A (ja) 導舗性ペ−スト