JPH0444047A - 電子写真感光体 - Google Patents
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- 229920005989 resin Polymers 0.000 claims abstract description 182
- 239000011347 resin Substances 0.000 claims abstract description 182
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 claims abstract description 58
- 239000011230 binding agent Substances 0.000 claims abstract description 38
- 239000000463 material Substances 0.000 claims abstract description 35
- 125000004435 hydrogen atom Chemical group [H]* 0.000 claims abstract description 24
- 229920001577 copolymer Polymers 0.000 claims abstract description 21
- 239000003431 cross linking reagent Substances 0.000 claims abstract description 21
- 125000005843 halogen group Chemical group 0.000 claims abstract description 9
- 125000001183 hydrocarbyl group Chemical group 0.000 claims abstract 8
- 125000003178 carboxy group Chemical group [H]OC(*)=O 0.000 claims abstract 2
- -1 cyclic acid anhydride Chemical class 0.000 claims description 61
- 108091008695 photoreceptors Proteins 0.000 claims description 43
- 230000002378 acidificating effect Effects 0.000 claims description 38
- 125000000524 functional group Chemical group 0.000 claims description 34
- 239000000178 monomer Substances 0.000 claims description 29
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 claims description 19
- 150000002430 hydrocarbons Chemical group 0.000 claims description 17
- 239000000126 substance Substances 0.000 claims description 15
- 238000007334 copolymerization reaction Methods 0.000 claims description 14
- 239000004215 Carbon black (E152) Substances 0.000 claims description 8
- 229910052801 chlorine Inorganic materials 0.000 claims description 8
- 125000001309 chloro group Chemical group Cl* 0.000 claims description 8
- 229930195733 hydrocarbon Natural products 0.000 claims description 8
- WKBOTKDWSSQWDR-UHFFFAOYSA-N Bromine atom Chemical group [Br] WKBOTKDWSSQWDR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 7
- 125000005647 linker group Chemical group 0.000 claims description 6
- 125000004093 cyano group Chemical group *C#N 0.000 claims description 5
- 125000004429 atom Chemical group 0.000 claims description 4
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 claims description 4
- ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N phenol group Chemical group C1(=CC=CC=C1)O ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 claims description 2
- 229920001400 block copolymer Polymers 0.000 abstract description 5
- 229910018828 PO3H2 Inorganic materials 0.000 abstract 1
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 56
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 42
- 239000000975 dye Substances 0.000 description 37
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 27
- 238000000034 method Methods 0.000 description 25
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 24
- 238000007639 printing Methods 0.000 description 21
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 20
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 19
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 18
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 17
- XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N Zinc monoxide Chemical compound [Zn]=O XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 16
- 238000003786 synthesis reaction Methods 0.000 description 15
- 125000001495 ethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 14
- 229920002554 vinyl polymer Polymers 0.000 description 14
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 description 13
- 239000000123 paper Substances 0.000 description 13
- 238000003384 imaging method Methods 0.000 description 12
- 239000011259 mixed solution Substances 0.000 description 12
- 125000000484 butyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 11
- 230000014759 maintenance of location Effects 0.000 description 11
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 11
- 125000000391 vinyl group Chemical group [H]C([*])=C([H])[H] 0.000 description 11
- OFOBLEOULBTSOW-UHFFFAOYSA-N Malonic acid Chemical compound OC(=O)CC(O)=O OFOBLEOULBTSOW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- 125000001436 propyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 10
- RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N Diethyl ether Chemical compound CCOCC RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 9
- 238000006116 polymerization reaction Methods 0.000 description 9
- 238000012552 review Methods 0.000 description 9
- ANRHNWWPFJCPAZ-UHFFFAOYSA-M thionine Chemical compound [Cl-].C1=CC(N)=CC2=[S+]C3=CC(N)=CC=C3N=C21 ANRHNWWPFJCPAZ-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 9
- PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N Styrene Chemical compound C=CC1=CC=CC=C1 PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 238000004132 cross linking Methods 0.000 description 8
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 8
- 125000001424 substituent group Chemical group 0.000 description 8
- 239000011787 zinc oxide Substances 0.000 description 8
- 239000004925 Acrylic resin Substances 0.000 description 7
- 229920000178 Acrylic resin Polymers 0.000 description 7
- CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-M Methacrylate Chemical compound CC(=C)C([O-])=O CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 7
- 206010034972 Photosensitivity reaction Diseases 0.000 description 7
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 7
- 125000004051 hexyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 7
- 125000001570 methylene group Chemical group [H]C([H])([*:1])[*:2] 0.000 description 7
- 230000036211 photosensitivity Effects 0.000 description 7
- 229920001187 thermosetting polymer Polymers 0.000 description 7
- JAHNSTQSQJOJLO-UHFFFAOYSA-N 2-(3-fluorophenyl)-1h-imidazole Chemical compound FC1=CC=CC(C=2NC=CN=2)=C1 JAHNSTQSQJOJLO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N Dichloromethane Chemical compound ClCCl YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 6
- 150000001408 amides Chemical class 0.000 description 6
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 description 6
- 230000007613 environmental effect Effects 0.000 description 6
- 150000002148 esters Chemical class 0.000 description 6
- VZCYOOQTPOCHFL-UPHRSURJSA-N maleic acid Chemical compound OC(=O)\C=C/C(O)=O VZCYOOQTPOCHFL-UPHRSURJSA-N 0.000 description 6
- 239000011976 maleic acid Substances 0.000 description 6
- LVHBHZANLOWSRM-UHFFFAOYSA-N methylenebutanedioic acid Natural products OC(=O)CC(=C)C(O)=O LVHBHZANLOWSRM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 239000011541 reaction mixture Substances 0.000 description 6
- 230000001235 sensitizing effect Effects 0.000 description 6
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 6
- 230000003595 spectral effect Effects 0.000 description 6
- VZCYOOQTPOCHFL-UHFFFAOYSA-N trans-butenedioic acid Natural products OC(=O)C=CC(O)=O VZCYOOQTPOCHFL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 2-Propenoic acid Natural products OC(=O)C=C NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 125000003903 2-propenyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])=C([H])[H] 0.000 description 5
- 125000001931 aliphatic group Chemical group 0.000 description 5
- 238000011161 development Methods 0.000 description 5
- 229920000578 graft copolymer Polymers 0.000 description 5
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 5
- VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N n-Hexane Chemical compound CCCCCC VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 239000002244 precipitate Substances 0.000 description 5
- 230000002829 reductive effect Effects 0.000 description 5
- 238000001308 synthesis method Methods 0.000 description 5
- 125000006201 3-phenylpropyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(C([H])=C1[H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 4
- LRFVTYWOQMYALW-UHFFFAOYSA-N 9H-xanthine Chemical compound O=C1NC(=O)NC2=C1NC=N2 LRFVTYWOQMYALW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 125000003710 aryl alkyl group Chemical group 0.000 description 4
- 239000006185 dispersion Substances 0.000 description 4
- 239000003822 epoxy resin Substances 0.000 description 4
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 4
- 125000002347 octyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 4
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 4
- 239000000049 pigment Substances 0.000 description 4
- 229920000647 polyepoxide Polymers 0.000 description 4
- 230000008569 process Effects 0.000 description 4
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 4
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 4
- 238000001179 sorption measurement Methods 0.000 description 4
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 4
- 125000003944 tolyl group Chemical group 0.000 description 4
- SMZOUWXMTYCWNB-UHFFFAOYSA-N 2-(2-methoxy-5-methylphenyl)ethanamine Chemical compound COC1=CC=C(C)C=C1CCN SMZOUWXMTYCWNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 125000001340 2-chloroethyl group Chemical group [H]C([H])(Cl)C([H])([H])* 0.000 description 3
- 125000000094 2-phenylethyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(C([H])=C1[H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 3
- QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N Acetic acid Chemical compound CC(O)=O QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- NLHHRLWOUZZQLW-UHFFFAOYSA-N Acrylonitrile Chemical compound C=CC#N NLHHRLWOUZZQLW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N Ethylene glycol Chemical class OCCO LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229920000877 Melamine resin Polymers 0.000 description 3
- 239000004640 Melamine resin Substances 0.000 description 3
- GYCMBHHDWRMZGG-UHFFFAOYSA-N Methylacrylonitrile Chemical compound CC(=C)C#N GYCMBHHDWRMZGG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 206010034960 Photophobia Diseases 0.000 description 3
- 241000220317 Rosa Species 0.000 description 3
- 235000010724 Wisteria floribunda Nutrition 0.000 description 3
- 150000007513 acids Chemical class 0.000 description 3
- 150000008064 anhydrides Chemical class 0.000 description 3
- 125000001246 bromo group Chemical group Br* 0.000 description 3
- 125000004799 bromophenyl group Chemical group 0.000 description 3
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 3
- 150000001735 carboxylic acids Chemical class 0.000 description 3
- 125000000068 chlorophenyl group Chemical group 0.000 description 3
- 125000000113 cyclohexyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])C1([H])[H] 0.000 description 3
- 125000002704 decyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 3
- 238000007872 degassing Methods 0.000 description 3
- 125000004188 dichlorophenyl group Chemical group 0.000 description 3
- 125000005442 diisocyanate group Chemical group 0.000 description 3
- GNBHRKFJIUUOQI-UHFFFAOYSA-N fluorescein Chemical compound O1C(=O)C2=CC=CC=C2C21C1=CC=C(O)C=C1OC1=CC(O)=CC=C21 GNBHRKFJIUUOQI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 208000013469 light sensitivity Diseases 0.000 description 3
- 125000001624 naphthyl group Chemical group 0.000 description 3
- 125000004433 nitrogen atom Chemical group N* 0.000 description 3
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 3
- 239000003208 petroleum Substances 0.000 description 3
- 229920001225 polyester resin Polymers 0.000 description 3
- 239000004645 polyester resin Substances 0.000 description 3
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 3
- 229920005604 random copolymer Polymers 0.000 description 3
- 150000003440 styrenes Chemical class 0.000 description 3
- AAAQKTZKLRYKHR-UHFFFAOYSA-N triphenylmethane Chemical compound C1=CC=CC=C1C(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1 AAAQKTZKLRYKHR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- CWMPPVPFLSZGCY-VOTSOKGWSA-N (2E)-oct-2-enoic acid Chemical compound CCCCC\C=C\C(O)=O CWMPPVPFLSZGCY-VOTSOKGWSA-N 0.000 description 2
- HMYXKHZCEYROAL-UHFFFAOYSA-N (4-chloro-2,3,5,6-tetrafluorophenyl)methanol Chemical compound OCC1=C(F)C(F)=C(Cl)C(F)=C1F HMYXKHZCEYROAL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QDYRHGGXBLRFHS-SNAWJCMRSA-N (e)-4-methylhex-2-enoic acid Chemical compound CCC(C)\C=C\C(O)=O QDYRHGGXBLRFHS-SNAWJCMRSA-N 0.000 description 2
- MYRTYDVEIRVNKP-UHFFFAOYSA-N 1,2-Divinylbenzene Chemical compound C=CC1=CC=CC=C1C=C MYRTYDVEIRVNKP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CISIJYCKDJSTMX-UHFFFAOYSA-N 2,2-dichloroethenylbenzene Chemical compound ClC(Cl)=CC1=CC=CC=C1 CISIJYCKDJSTMX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CWMPPVPFLSZGCY-UHFFFAOYSA-N 2-Octenoic Acid Natural products CCCCCC=CC(O)=O CWMPPVPFLSZGCY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WTOFYLAWDLQMBZ-UHFFFAOYSA-N 2-azaniumyl-3-thiophen-2-ylpropanoate Chemical compound OC(=O)C(N)CC1=CC=CS1 WTOFYLAWDLQMBZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000001731 2-cyanoethyl group Chemical group [H]C([H])(*)C([H])([H])C#N 0.000 description 2
- WJCCNRRUTSLHLJ-UHFFFAOYSA-N 2-ethenyl-1,4-dioxane Chemical compound C=CC1COCCO1 WJCCNRRUTSLHLJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000004200 2-methoxyethyl group Chemical group [H]C([H])([H])OC([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 2
- KUDUQBURMYMBIJ-UHFFFAOYSA-N 2-prop-2-enoyloxyethyl prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OCCOC(=O)C=C KUDUQBURMYMBIJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ORNUPNRNNSVZTC-UHFFFAOYSA-N 2-vinylthiophene Chemical compound C=CC1=CC=CS1 ORNUPNRNNSVZTC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QDYRHGGXBLRFHS-UHFFFAOYSA-N 4-Methyl-2-hexenoic acid Natural products CCC(C)C=CC(O)=O QDYRHGGXBLRFHS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- SOGAXMICEFXMKE-UHFFFAOYSA-N Butylmethacrylate Chemical compound CCCCOC(=O)C(C)=C SOGAXMICEFXMKE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 101150099461 CTL2 gene Proteins 0.000 description 2
- CURLTUGMZLYLDI-UHFFFAOYSA-N Carbon dioxide Chemical compound O=C=O CURLTUGMZLYLDI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- PIICEJLVQHRZGT-UHFFFAOYSA-N Ethylenediamine Chemical compound NCCN PIICEJLVQHRZGT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-N Methacrylic acid Chemical compound CC(=C)C(O)=O CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000002202 Polyethylene glycol Substances 0.000 description 2
- 101150116431 Slc44a2 gene Proteins 0.000 description 2
- QPMIVFWZGPTDPN-UHFFFAOYSA-N Tetrabromophenol blue Chemical compound C1=C(Br)C(O)=C(Br)C=C1C1(C=2C=C(Br)C(O)=C(Br)C=2)C(C(Br)=C(Br)C(Br)=C2Br)=C2S(=O)(=O)O1 QPMIVFWZGPTDPN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- BZHJMEDXRYGGRV-UHFFFAOYSA-N Vinyl chloride Chemical compound ClC=C BZHJMEDXRYGGRV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000009471 action Effects 0.000 description 2
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 2
- 125000002723 alicyclic group Chemical group 0.000 description 2
- 125000003545 alkoxy group Chemical group 0.000 description 2
- YIYBQIKDCADOSF-UHFFFAOYSA-N alpha-Butylen-alpha-carbonsaeure Natural products CCC=CC(O)=O YIYBQIKDCADOSF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229950005228 bromoform Drugs 0.000 description 2
- 125000005626 carbonium group Chemical group 0.000 description 2
- HEDRZPFGACZZDS-UHFFFAOYSA-N chloroform Substances ClC(Cl)Cl HEDRZPFGACZZDS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229960001701 chloroform Drugs 0.000 description 2
- 229920006026 co-polymeric resin Polymers 0.000 description 2
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 2
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 2
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 2
- LDHQCZJRKDOVOX-NSCUHMNNSA-N crotonic acid Chemical compound C\C=C\C(O)=O LDHQCZJRKDOVOX-NSCUHMNNSA-N 0.000 description 2
- 125000004802 cyanophenyl group Chemical group 0.000 description 2
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 2
- 238000000586 desensitisation Methods 0.000 description 2
- 238000013461 design Methods 0.000 description 2
- 125000004386 diacrylate group Chemical group 0.000 description 2
- 150000001991 dicarboxylic acids Chemical class 0.000 description 2
- JXCHMDATRWUOAP-UHFFFAOYSA-N diisocyanatomethylbenzene Chemical compound O=C=NC(N=C=O)C1=CC=CC=C1 JXCHMDATRWUOAP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CZZYITDELCSZES-UHFFFAOYSA-N diphenylmethane Chemical compound C=1C=CC=CC=1CC1=CC=CC=C1 CZZYITDELCSZES-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000012153 distilled water Substances 0.000 description 2
- 125000003438 dodecyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 2
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 2
- DZGCGKFAPXFTNM-UHFFFAOYSA-N ethanol;hydron;chloride Chemical compound Cl.CCO DZGCGKFAPXFTNM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- SUPCQIBBMFXVTL-UHFFFAOYSA-N ethyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CCOC(=O)C(C)=C SUPCQIBBMFXVTL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000011156 evaluation Methods 0.000 description 2
- 238000001914 filtration Methods 0.000 description 2
- 238000010528 free radical solution polymerization reaction Methods 0.000 description 2
- 230000006870 function Effects 0.000 description 2
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 2
- 230000009477 glass transition Effects 0.000 description 2
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 2
- 125000005842 heteroatom Chemical group 0.000 description 2
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 description 2
- WGCNASOHLSPBMP-UHFFFAOYSA-N hydroxyacetaldehyde Natural products OCC=O WGCNASOHLSPBMP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000003993 interaction Effects 0.000 description 2
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 2
- QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N mercury Chemical compound [Hg] QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052753 mercury Inorganic materials 0.000 description 2
- DZVCFNFOPIZQKX-LTHRDKTGSA-M merocyanine Chemical compound [Na+].O=C1N(CCCC)C(=O)N(CCCC)C(=O)C1=C\C=C\C=C/1N(CCCS([O-])(=O)=O)C2=CC=CC=C2O\1 DZVCFNFOPIZQKX-LTHRDKTGSA-M 0.000 description 2
- VNWKTOKETHGBQD-UHFFFAOYSA-N methane Chemical compound C VNWKTOKETHGBQD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000010355 oscillation Effects 0.000 description 2
- 125000004430 oxygen atom Chemical group O* 0.000 description 2
- 229920000768 polyamine Chemical class 0.000 description 2
- 229920002857 polybutadiene Polymers 0.000 description 2
- 229920001223 polyethylene glycol Polymers 0.000 description 2
- 229920001228 polyisocyanate Polymers 0.000 description 2
- 239000005056 polyisocyanate Substances 0.000 description 2
- 238000010094 polymer processing Methods 0.000 description 2
- 239000003505 polymerization initiator Substances 0.000 description 2
- 239000000047 product Substances 0.000 description 2
- 125000006239 protecting group Chemical group 0.000 description 2
- 239000007870 radical polymerization initiator Substances 0.000 description 2
- YGSDEFSMJLZEOE-UHFFFAOYSA-N salicylic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=CC=C1O YGSDEFSMJLZEOE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000002689 soil Substances 0.000 description 2
- 125000004079 stearyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 2
- 125000000547 substituted alkyl group Chemical group 0.000 description 2
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 2
- 150000003460 sulfonic acids Chemical class 0.000 description 2
- 125000004434 sulfur atom Chemical group 0.000 description 2
- 239000002344 surface layer Substances 0.000 description 2
- 238000010557 suspension polymerization reaction Methods 0.000 description 2
- 230000002194 synthesizing effect Effects 0.000 description 2
- 239000004634 thermosetting polymer Substances 0.000 description 2
- JOXIMZWYDAKGHI-UHFFFAOYSA-N toluene-4-sulfonic acid Chemical compound CC1=CC=C(S(O)(=O)=O)C=C1 JOXIMZWYDAKGHI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LDHQCZJRKDOVOX-UHFFFAOYSA-N trans-crotonic acid Natural products CC=CC(O)=O LDHQCZJRKDOVOX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- YIYBQIKDCADOSF-ONEGZZNKSA-N trans-pent-2-enoic acid Chemical compound CC\C=C\C(O)=O YIYBQIKDCADOSF-ONEGZZNKSA-N 0.000 description 2
- 238000012546 transfer Methods 0.000 description 2
- SGCFZHOZKKQIBU-UHFFFAOYSA-N tributoxy(ethenyl)silane Chemical compound CCCCO[Si](OCCCC)(OCCCC)C=C SGCFZHOZKKQIBU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- PTVDYMGQGCNETM-UHFFFAOYSA-N trityl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(C=1C=CC=CC=1)(OC(=O)C(=C)C)C1=CC=CC=C1 PTVDYMGQGCNETM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NLVXSWCKKBEXTG-UHFFFAOYSA-N vinylsulfonic acid Chemical class OS(=O)(=O)C=C NLVXSWCKKBEXTG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229940075420 xanthine Drugs 0.000 description 2
- 125000005023 xylyl group Chemical group 0.000 description 2
- YUDJQIVGLDQNOB-UHFFFAOYSA-N (2-chloro-6-methylphenyl) 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OC1=C(C)C=CC=C1Cl YUDJQIVGLDQNOB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PFNQVRZLDWYSCW-UHFFFAOYSA-N (fluoren-9-ylideneamino) n-naphthalen-1-ylcarbamate Chemical compound C12=CC=CC=C2C2=CC=CC=C2C1=NOC(=O)NC1=CC=CC2=CC=CC=C12 PFNQVRZLDWYSCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GEYOCULIXLDCMW-UHFFFAOYSA-N 1,2-phenylenediamine Chemical compound NC1=CC=CC=C1N GEYOCULIXLDCMW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FWWWRCRHNMOYQY-UHFFFAOYSA-N 1,5-diisocyanato-2,4-dimethylbenzene Chemical compound CC1=CC(C)=C(N=C=O)C=C1N=C=O FWWWRCRHNMOYQY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OSSNTDFYBPYIEC-UHFFFAOYSA-N 1-ethenylimidazole Chemical compound C=CN1C=CN=C1 OSSNTDFYBPYIEC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000006039 1-hexenyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000006023 1-pentenyl group Chemical group 0.000 description 1
- OZAIFHULBGXAKX-UHFFFAOYSA-N 2-(2-cyanopropan-2-yldiazenyl)-2-methylpropanenitrile Chemical compound N#CC(C)(C)N=NC(C)(C)C#N OZAIFHULBGXAKX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MTLWTRLYHAQCAM-UHFFFAOYSA-N 2-[(1-cyano-2-methylpropyl)diazenyl]-3-methylbutanenitrile Chemical compound CC(C)C(C#N)N=NC(C#N)C(C)C MTLWTRLYHAQCAM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000005999 2-bromoethyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000004974 2-butenyl group Chemical group C(C=CC)* 0.000 description 1
- SBYMUDUGTIKLCR-UHFFFAOYSA-N 2-chloroethenylbenzene Chemical compound ClC=CC1=CC=CC=C1 SBYMUDUGTIKLCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VMSBGXAJJLPWKV-UHFFFAOYSA-N 2-ethenylbenzenesulfonic acid Chemical compound OS(=O)(=O)C1=CC=CC=C1C=C VMSBGXAJJLPWKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QQBUHYQVKJQAOB-UHFFFAOYSA-N 2-ethenylfuran Chemical compound C=CC1=CC=CO1 QQBUHYQVKJQAOB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000006040 2-hexenyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000006020 2-methyl-1-propenyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000004924 2-naphthylethyl group Chemical group C1=C(C=CC2=CC=CC=C12)CC* 0.000 description 1
- 125000006024 2-pentenyl group Chemical group 0.000 description 1
- KGIGUEBEKRSTEW-UHFFFAOYSA-N 2-vinylpyridine Chemical compound C=CC1=CC=CC=N1 KGIGUEBEKRSTEW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SYIUWAVTBADRJG-UHFFFAOYSA-N 2H-pyran-2,6(3H)-dione Chemical group O=C1CC=CC(=O)O1 SYIUWAVTBADRJG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WUPHOULIZUERAE-UHFFFAOYSA-N 3-(oxolan-2-yl)propanoic acid Chemical compound OC(=O)CCC1CCCO1 WUPHOULIZUERAE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RUROFEVDCUGKHD-UHFFFAOYSA-N 3-bromoprop-1-enylbenzene Chemical compound BrCC=CC1=CC=CC=C1 RUROFEVDCUGKHD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KXFHZSFZCQPLPW-UHFFFAOYSA-N 3-ethenyl-2h-oxazine Chemical compound C=CC1=CC=CON1 KXFHZSFZCQPLPW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000006050 3-methyl-2-pentenyl group Chemical group 0.000 description 1
- YPIINMAYDTYYSQ-UHFFFAOYSA-N 5-ethenyl-1h-pyrazole Chemical compound C=CC=1C=CNN=1 YPIINMAYDTYYSQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OCIFJWVZZUDMRL-UHFFFAOYSA-N 6-hydroxyhexyl prop-2-enoate Chemical compound OCCCCCCOC(=O)C=C OCIFJWVZZUDMRL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 101100264195 Caenorhabditis elegans app-1 gene Proteins 0.000 description 1
- ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N Chlorine atom Chemical compound [Cl] ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VGGSQFUCUMXWEO-UHFFFAOYSA-N Ethene Chemical compound C=C VGGSQFUCUMXWEO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000005977 Ethylene Substances 0.000 description 1
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WHXSMMKQMYFTQS-UHFFFAOYSA-N Lithium Chemical compound [Li] WHXSMMKQMYFTQS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 241001553014 Myrsine salicina Species 0.000 description 1
- WHNWPMSKXPGLAX-UHFFFAOYSA-N N-Vinyl-2-pyrrolidone Chemical compound C=CN1CCCC1=O WHNWPMSKXPGLAX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZCQWOFVYLHDMMC-UHFFFAOYSA-N Oxazole Chemical compound C1=COC=N1 ZCQWOFVYLHDMMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N Palladium on carbon Substances [Pd] KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004952 Polyamide Substances 0.000 description 1
- 239000004721 Polyphenylene oxide Substances 0.000 description 1
- 239000004372 Polyvinyl alcohol Substances 0.000 description 1
- BUGBHKTXTAQXES-UHFFFAOYSA-N Selenium Chemical compound [Se] BUGBHKTXTAQXES-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 206010070834 Sensitisation Diseases 0.000 description 1
- BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N Silane Chemical compound [SiH4] BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical group [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002174 Styrene-butadiene Substances 0.000 description 1
- FEWJPZIEWOKRBE-UHFFFAOYSA-N Tartaric Acid Chemical compound [H+].[H+].[O-]C(=O)C(O)C(O)C([O-])=O FEWJPZIEWOKRBE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N Titan oxide Chemical compound O=[Ti]=O GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DAKWPKUUDNSNPN-UHFFFAOYSA-N Trimethylolpropane triacrylate Chemical compound C=CC(=O)OCC(CC)(COC(=O)C=C)COC(=O)C=C DAKWPKUUDNSNPN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 241000736772 Uria Species 0.000 description 1
- XTXRWKRVRITETP-UHFFFAOYSA-N Vinyl acetate Chemical compound CC(=O)OC=C XTXRWKRVRITETP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QYKIQEUNHZKYBP-UHFFFAOYSA-N Vinyl ether Chemical class C=COC=C QYKIQEUNHZKYBP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000005083 Zinc sulfide Substances 0.000 description 1
- YMOONIIMQBGTDU-VOTSOKGWSA-N [(e)-2-bromoethenyl]benzene Chemical compound Br\C=C\C1=CC=CC=C1 YMOONIIMQBGTDU-VOTSOKGWSA-N 0.000 description 1
- 238000005299 abrasion Methods 0.000 description 1
- 150000008065 acid anhydrides Chemical class 0.000 description 1
- 150000003926 acrylamides Chemical class 0.000 description 1
- 150000001252 acrylic acid derivatives Chemical class 0.000 description 1
- 229920006243 acrylic copolymer Polymers 0.000 description 1
- 238000007259 addition reaction Methods 0.000 description 1
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 description 1
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 description 1
- 239000012790 adhesive layer Substances 0.000 description 1
- 238000005273 aeration Methods 0.000 description 1
- 238000005054 agglomeration Methods 0.000 description 1
- 230000002776 aggregation Effects 0.000 description 1
- 125000003342 alkenyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000004453 alkoxycarbonyl group Chemical group 0.000 description 1
- 229920000180 alkyd Polymers 0.000 description 1
- 150000004791 alkyl magnesium halides Chemical class 0.000 description 1
- AFVLVVWMAFSXCK-VMPITWQZSA-N alpha-cyano-4-hydroxycinnamic acid Chemical group OC(=O)C(\C#N)=C\C1=CC=C(O)C=C1 AFVLVVWMAFSXCK-VMPITWQZSA-N 0.000 description 1
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 1
- IMUDHTPIFIBORV-UHFFFAOYSA-N aminoethylpiperazine Chemical compound NCCN1CCNCC1 IMUDHTPIFIBORV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SRSXLGNVWSONIS-UHFFFAOYSA-N benzenesulfonic acid Chemical compound OS(=O)(=O)C1=CC=CC=C1 SRSXLGNVWSONIS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940092714 benzenesulfonic acid Drugs 0.000 description 1
- IDVDAZFXGGNIDQ-UHFFFAOYSA-N benzo[e][2]benzofuran-1,3-dione Chemical group C1=CC2=CC=CC=C2C2=C1C(=O)OC2=O IDVDAZFXGGNIDQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AJCHRUXIDGEWDK-UHFFFAOYSA-N bis(ethenyl) butanedioate Chemical compound C=COC(=O)CCC(=O)OC=C AJCHRUXIDGEWDK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JZQAAQZDDMEFGZ-UHFFFAOYSA-N bis(ethenyl) hexanedioate Chemical compound C=COC(=O)CCCCC(=O)OC=C JZQAAQZDDMEFGZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HABAXTXIECRCKH-UHFFFAOYSA-N bis(prop-2-enyl) butanedioate Chemical compound C=CCOC(=O)CCC(=O)OCC=C HABAXTXIECRCKH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000012661 block copolymerization Methods 0.000 description 1
- 125000006278 bromobenzyl group Chemical group 0.000 description 1
- UDSAIICHUKSCKT-UHFFFAOYSA-N bromophenol blue Chemical compound C1=C(Br)C(O)=C(Br)C=C1C1(C=2C=C(Br)C(O)=C(Br)C=2)C2=CC=CC=C2S(=O)(=O)O1 UDSAIICHUKSCKT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 244000309464 bull Species 0.000 description 1
- YFRNYWVKHCQRPE-UHFFFAOYSA-N buta-1,3-diene;prop-2-enoic acid Chemical compound C=CC=C.OC(=O)C=C YFRNYWVKHCQRPE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MTAZNLWOLGHBHU-UHFFFAOYSA-N butadiene-styrene rubber Chemical compound C=CC=C.C=CC1=CC=CC=C1 MTAZNLWOLGHBHU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WERYXYBDKMZEQL-UHFFFAOYSA-N butane-1,4-diol Chemical compound OCCCCO WERYXYBDKMZEQL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004369 butenyl group Chemical group C(=CCC)* 0.000 description 1
- 125000004106 butoxy group Chemical group [*]OC([H])([H])C([H])([H])C(C([H])([H])[H])([H])[H] 0.000 description 1
- 229910000011 cadmium carbonate Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052980 cadmium sulfide Inorganic materials 0.000 description 1
- GKDXQAKPHKQZSC-UHFFFAOYSA-L cadmium(2+);carbonate Chemical compound [Cd+2].[O-]C([O-])=O GKDXQAKPHKQZSC-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 239000001569 carbon dioxide Substances 0.000 description 1
- 229910002092 carbon dioxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011203 carbon fibre reinforced carbon Substances 0.000 description 1
- 150000001732 carboxylic acid derivatives Chemical class 0.000 description 1
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 description 1
- 238000010531 catalytic reduction reaction Methods 0.000 description 1
- 239000012461 cellulose resin Substances 0.000 description 1
- 230000008859 change Effects 0.000 description 1
- 239000007795 chemical reaction product Substances 0.000 description 1
- 239000003153 chemical reaction reagent Substances 0.000 description 1
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 1
- 239000000460 chlorine Substances 0.000 description 1
- 125000004803 chlorobenzyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000002603 chloroethyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])Cl 0.000 description 1
- WBLIXGSTEMXDSM-UHFFFAOYSA-N chloromethane Chemical compound Cl[CH2] WBLIXGSTEMXDSM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004218 chloromethyl group Chemical group [H]C([H])(Cl)* 0.000 description 1
- 239000000084 colloidal system Substances 0.000 description 1
- 238000004891 communication Methods 0.000 description 1
- 238000006482 condensation reaction Methods 0.000 description 1
- 239000004020 conductor Substances 0.000 description 1
- 239000000470 constituent Substances 0.000 description 1
- 230000008878 coupling Effects 0.000 description 1
- 238000010168 coupling process Methods 0.000 description 1
- 238000005859 coupling reaction Methods 0.000 description 1
- 125000004122 cyclic group Chemical group 0.000 description 1
- 125000000596 cyclohexenyl group Chemical group C1(=CCCCC1)* 0.000 description 1
- OIWOHHBRDFKZNC-UHFFFAOYSA-N cyclohexyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OC1CCCCC1 OIWOHHBRDFKZNC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000003247 decreasing effect Effects 0.000 description 1
- 238000010511 deprotection reaction Methods 0.000 description 1
- 238000007865 diluting Methods 0.000 description 1
- RSWRQUWWPPFQEG-UHFFFAOYSA-N dimethyl-phenoxy-prop-2-enylsilane Chemical compound C=CC[Si](C)(C)OC1=CC=CC=C1 RSWRQUWWPPFQEG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000003292 diminished effect Effects 0.000 description 1
- 239000002270 dispersing agent Substances 0.000 description 1
- WNAHIZMDSQCWRP-UHFFFAOYSA-N dodecane-1-thiol Chemical compound CCCCCCCCCCCCS WNAHIZMDSQCWRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910001651 emery Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000007720 emulsion polymerization reaction Methods 0.000 description 1
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 1
- FFYWKOUKJFCBAM-UHFFFAOYSA-N ethenyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OC=C FFYWKOUKJFCBAM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BNKAXGCRDYRABM-UHFFFAOYSA-N ethenyl dihydrogen phosphate Chemical class OP(O)(=O)OC=C BNKAXGCRDYRABM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001301 ethoxy group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])O* 0.000 description 1
- 125000000816 ethylene group Chemical group [H]C([H])([*:1])C([H])([H])[*:2] 0.000 description 1
- 238000005562 fading Methods 0.000 description 1
- 244000144992 flock Species 0.000 description 1
- 125000001207 fluorophenyl group Chemical group 0.000 description 1
- MCQOWYALZVKMAR-UHFFFAOYSA-N furo[3,4-b]pyridine-5,7-dione Chemical group C1=CC=C2C(=O)OC(=O)C2=N1 MCQOWYALZVKMAR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 108700039708 galantide Proteins 0.000 description 1
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 1
- VANNPISTIUFMLH-UHFFFAOYSA-N glutaric anhydride Chemical compound O=C1CCCC(=O)O1 VANNPISTIUFMLH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052736 halogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000002367 halogens Chemical class 0.000 description 1
- LNEPOXFFQSENCJ-UHFFFAOYSA-N haloperidol Chemical compound C1CC(O)(C=2C=CC(Cl)=CC=2)CCN1CCCC(=O)C1=CC=C(F)C=C1 LNEPOXFFQSENCJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000003187 heptyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 125000000623 heterocyclic group Chemical group 0.000 description 1
- KETWBQOXTBGBBN-UHFFFAOYSA-N hex-1-enylbenzene Chemical compound CCCCC=CC1=CC=CC=C1 KETWBQOXTBGBBN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IXCSERBJSXMMFS-UHFFFAOYSA-N hydrogen chloride Substances Cl.Cl IXCSERBJSXMMFS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910000041 hydrogen chloride Inorganic materials 0.000 description 1
- XMBWDFGMSWQBCA-UHFFFAOYSA-N hydrogen iodide Chemical compound I XMBWDFGMSWQBCA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910000043 hydrogen iodide Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000007327 hydrogenolysis reaction Methods 0.000 description 1
- 238000006460 hydrolysis reaction Methods 0.000 description 1
- 230000001771 impaired effect Effects 0.000 description 1
- 230000006872 improvement Effects 0.000 description 1
- 230000002401 inhibitory effect Effects 0.000 description 1
- 239000003999 initiator Substances 0.000 description 1
- PNDPGZBMCMUPRI-UHFFFAOYSA-N iodine Chemical compound II PNDPGZBMCMUPRI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052740 iodine Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000012690 ionic polymerization Methods 0.000 description 1
- LRDFRRGEGBBSRN-UHFFFAOYSA-N isobutyronitrile Chemical compound CC(C)C#N LRDFRRGEGBBSRN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052981 lead sulfide Inorganic materials 0.000 description 1
- 229940056932 lead sulfide Drugs 0.000 description 1
- 229910052744 lithium Inorganic materials 0.000 description 1
- URMHJZVLKKDTOJ-UHFFFAOYSA-N lithium;(3-methyl-1-phenylpentyl)benzene Chemical compound [Li+].C=1C=CC=CC=1[C-](CC(C)CC)C1=CC=CC=C1 URMHJZVLKKDTOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000010550 living polymerization reaction Methods 0.000 description 1
- FPYJFEHAWHCUMM-UHFFFAOYSA-N maleic anhydride Chemical group O=C1OC(=O)C=C1 FPYJFEHAWHCUMM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 1
- 239000008204 material by function Substances 0.000 description 1
- FQPSGWSUVKBHSU-UHFFFAOYSA-N methacrylamide Chemical class CC(=C)C(N)=O FQPSGWSUVKBHSU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VHRYZQNGTZXDNX-UHFFFAOYSA-N methacryloyl chloride Chemical compound CC(=C)C(Cl)=O VHRYZQNGTZXDNX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RBQRWNWVPQDTJJ-UHFFFAOYSA-N methacryloyloxyethyl isocyanate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCCN=C=O RBQRWNWVPQDTJJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MYWUZJCMWCOHBA-VIFPVBQESA-N methamphetamine Chemical compound CN[C@@H](C)CC1=CC=CC=C1 MYWUZJCMWCOHBA-VIFPVBQESA-N 0.000 description 1
- 125000000956 methoxy group Chemical group [H]C([H])([H])O* 0.000 description 1
- 125000004184 methoxymethyl group Chemical group [H]C([H])([H])OC([H])([H])* 0.000 description 1
- SNVLJLYUUXKWOJ-UHFFFAOYSA-N methylidenecarbene Chemical compound C=[C] SNVLJLYUUXKWOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OKDQKPLMQBXTNH-UHFFFAOYSA-N n,n-dimethyl-2h-pyridin-1-amine Chemical compound CN(C)N1CC=CC=C1 OKDQKPLMQBXTNH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MZRVEZGGRBJDDB-UHFFFAOYSA-N n-Butyllithium Substances [Li]CCCC MZRVEZGGRBJDDB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004923 naphthylmethyl group Chemical group C1(=CC=CC2=CC=CC=C12)C* 0.000 description 1
- TVMXDCGIABBOFY-UHFFFAOYSA-N octane Chemical compound CCCCCCCC TVMXDCGIABBOFY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000007645 offset printing Methods 0.000 description 1
- 239000003921 oil Substances 0.000 description 1
- 229920002601 oligoester Polymers 0.000 description 1
- 150000007524 organic acids Chemical class 0.000 description 1
- 235000005985 organic acids Nutrition 0.000 description 1
- 150000002902 organometallic compounds Chemical class 0.000 description 1
- 238000006864 oxidative decomposition reaction Methods 0.000 description 1
- 125000001820 oxy group Chemical group [*:1]O[*:2] 0.000 description 1
- 150000004989 p-phenylenediamines Chemical class 0.000 description 1
- 125000000913 palmityl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- FJKROLUGYXJWQN-UHFFFAOYSA-N papa-hydroxy-benzoic acid Natural products OC(=O)C1=CC=C(O)C=C1 FJKROLUGYXJWQN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WXZMFSXDPGVJKK-UHFFFAOYSA-N pentaerythritol Chemical compound OCC(CO)(CO)CO WXZMFSXDPGVJKK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000002978 peroxides Chemical class 0.000 description 1
- 239000005011 phenolic resin Substances 0.000 description 1
- 150000002989 phenols Chemical class 0.000 description 1
- 238000006303 photolysis reaction Methods 0.000 description 1
- LGRFSURHDFAFJT-UHFFFAOYSA-N phthalic anhydride Chemical group C1=CC=C2C(=O)OC(=O)C2=C1 LGRFSURHDFAFJT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IEQIEDJGQAUEQZ-UHFFFAOYSA-N phthalocyanine Chemical compound N1C(N=C2C3=CC=CC=C3C(N=C3C4=CC=CC=C4C(=N4)N3)=N2)=C(C=CC=C2)C2=C1N=C1C2=CC=CC=C2C4=N1 IEQIEDJGQAUEQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000001007 phthalocyanine dye Substances 0.000 description 1
- 229920003023 plastic Polymers 0.000 description 1
- 239000004033 plastic Substances 0.000 description 1
- 239000002985 plastic film Substances 0.000 description 1
- 229920001200 poly(ethylene-vinyl acetate) Polymers 0.000 description 1
- 229920000058 polyacrylate Polymers 0.000 description 1
- 229920002647 polyamide Polymers 0.000 description 1
- 229920005668 polycarbonate resin Polymers 0.000 description 1
- 239000004431 polycarbonate resin Substances 0.000 description 1
- 229920000570 polyether Polymers 0.000 description 1
- 229920000193 polymethacrylate Polymers 0.000 description 1
- 229920005862 polyol Polymers 0.000 description 1
- 229920000098 polyolefin Polymers 0.000 description 1
- 229920005672 polyolefin resin Polymers 0.000 description 1
- 229920001451 polypropylene glycol Polymers 0.000 description 1
- 229920005990 polystyrene resin Polymers 0.000 description 1
- 229920002451 polyvinyl alcohol Polymers 0.000 description 1
- 239000004800 polyvinyl chloride Substances 0.000 description 1
- 229920000915 polyvinyl chloride Polymers 0.000 description 1
- 229920000036 polyvinylpyrrolidone Polymers 0.000 description 1
- 239000001267 polyvinylpyrrolidone Substances 0.000 description 1
- 235000013855 polyvinylpyrrolidone Nutrition 0.000 description 1
- 150000004032 porphyrins Chemical class 0.000 description 1
- 238000012673 precipitation polymerization Methods 0.000 description 1
- UHDJLJWVPNZJJO-UHFFFAOYSA-N prop-1-enyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC=COC(=O)C(C)=C UHDJLJWVPNZJJO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FBCQUCJYYPMKRO-UHFFFAOYSA-N prop-2-enyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCC=C FBCQUCJYYPMKRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HJWLCRVIBGQPNF-UHFFFAOYSA-N prop-2-enylbenzene Chemical compound C=CCC1=CC=CC=C1 HJWLCRVIBGQPNF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004805 propylene group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([*:1])C([H])([H])[*:2] 0.000 description 1
- 230000001681 protective effect Effects 0.000 description 1
- 229920013730 reactive polymer Polymers 0.000 description 1
- 238000011160 research Methods 0.000 description 1
- 229960004889 salicylic acid Drugs 0.000 description 1
- 229910052711 selenium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011669 selenium Substances 0.000 description 1
- 230000008313 sensitization Effects 0.000 description 1
- 229910000077 silane Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000004756 silanes Chemical class 0.000 description 1
- 229920002050 silicone resin Polymers 0.000 description 1
- 125000003808 silyl group Chemical group [H][Si]([H])([H])[*] 0.000 description 1
- 239000011115 styrene butadiene Substances 0.000 description 1
- 229920003048 styrene butadiene rubber Polymers 0.000 description 1
- 125000005504 styryl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000005017 substituted alkenyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000003107 substituted aryl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000005346 substituted cycloalkyl group Chemical group 0.000 description 1
- RINCXYDBBGOEEQ-UHFFFAOYSA-N succinic anhydride Chemical group O=C1CCC(=O)O1 RINCXYDBBGOEEQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000003457 sulfones Chemical class 0.000 description 1
- 229910052714 tellurium Inorganic materials 0.000 description 1
- UGNWTBMOAKPKBL-UHFFFAOYSA-N tetrachloro-1,4-benzoquinone Chemical compound ClC1=C(Cl)C(=O)C(Cl)=C(Cl)C1=O UGNWTBMOAKPKBL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920002803 thermoplastic polyurethane Polymers 0.000 description 1
- 229920005992 thermoplastic resin Polymers 0.000 description 1
- FIDKFEIEZJGDBE-UHFFFAOYSA-N thieno[2,3-c]furan-4,6-dione Chemical group S1C=CC2=C1C(=O)OC2=O FIDKFEIEZJGDBE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N titanium oxide Inorganic materials [Ti]=O OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000004580 weight loss Effects 0.000 description 1
- 229910052724 xenon Inorganic materials 0.000 description 1
- FHNFHKCVQCLJFQ-UHFFFAOYSA-N xenon atom Chemical compound [Xe] FHNFHKCVQCLJFQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052984 zinc sulfide Inorganic materials 0.000 description 1
- DRDVZXDWVBGGMH-UHFFFAOYSA-N zinc;sulfide Chemical compound [S-2].[Zn+2] DRDVZXDWVBGGMH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004711 α-olefin Substances 0.000 description 1
Landscapes
- Photoreceptors In Electrophotography (AREA)
- Macromonomer-Based Addition Polymer (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
(産業上の利用分野)
本発明は電子写真感光体に関し、詳しくは静電特性、耐
湿性及び耐久性の優れた電子写真感光体に関する。
湿性及び耐久性の優れた電子写真感光体に関する。
〔従来の技術)
電子写真感光体には所定の特性を得るため、あるいは適
用される電子写真プロセスの種類に応して種々の構成を
とる。
用される電子写真プロセスの種類に応して種々の構成を
とる。
電子写真感光体の代表的なものとして、支持体上に光導
電層が形成されている感光体及び表面に絶縁層を備えた
感光体があり、広く用いられている。支持体と少なくと
も1層の光導電層から構成される感光体は、最も−Il
lu的な電子写真プロセスによる、即し、帯電、画像露
光及び現像、更に必要に応じて転写による画像形成に用
いられる。
電層が形成されている感光体及び表面に絶縁層を備えた
感光体があり、広く用いられている。支持体と少なくと
も1層の光導電層から構成される感光体は、最も−Il
lu的な電子写真プロセスによる、即し、帯電、画像露
光及び現像、更に必要に応じて転写による画像形成に用
いられる。
更には、ダイレクト製版用のオフセット原版として電子
写真感光体を用いる方法が広く実用されている。
写真感光体を用いる方法が広く実用されている。
電子写真感光体の光導電層を形成するために使用する結
着樹脂は、それ自体の成膜性および光導電性粉末の結着
樹脂中への分散能力が優れるとともに、形成された記録
体層の基材に対する接着性が良好であり、しかも記録体
層の光導電層は帯電能力に優れ、暗減衰が小さく、光減
衰が大きく、前露光疲労が少く、且つ、撮像時の湿度の
変化によってこれら特性を安定に保持していることが必
要である等の各種の静電特性および優れた撮像性を具備
する必要がある。
着樹脂は、それ自体の成膜性および光導電性粉末の結着
樹脂中への分散能力が優れるとともに、形成された記録
体層の基材に対する接着性が良好であり、しかも記録体
層の光導電層は帯電能力に優れ、暗減衰が小さく、光減
衰が大きく、前露光疲労が少く、且つ、撮像時の湿度の
変化によってこれら特性を安定に保持していることが必
要である等の各種の静電特性および優れた撮像性を具備
する必要がある。
更に、電子写真感光体を用いた平版印刷用原版の研究が
鋭意行なわれており、電子写真感光体としての静電特性
と印刷原版としての印刷特性を両立させた光導電層用の
結着樹脂が必要である。
鋭意行なわれており、電子写真感光体としての静電特性
と印刷原版としての印刷特性を両立させた光導電層用の
結着樹脂が必要である。
しかしながら、従来公知の樹脂においては、特に帯電性
、暗電荷保持性、光感度の静電特性、光導電層の平滑性
等に多くの問題があり、実用]二満足できるものではな
かった。
、暗電荷保持性、光感度の静電特性、光導電層の平滑性
等に多くの問題があり、実用]二満足できるものではな
かった。
又、電子写真式平版印刷用原版として開発されたとする
結着樹脂においても、現実に評価してみると前記の静電
特性、印刷物の地汚れ等に問題があった。
結着樹脂においても、現実に評価してみると前記の静電
特性、印刷物の地汚れ等に問題があった。
更に、これらの問題点を解決するために、結着樹脂とし
て酸性基を重合体の側鎖に含有する共重合成分を0.0
5〜10重量%含有する低分子量の樹脂(隔10″〜1
04)を用いる又は酸性基を重合体主鎖の片末端にのみ
結合して成る低分子量の樹脂(隔103〜104)を用
いることにより、光導電層の平滑性及び静電特性を良好
にし、しかも地lηれのない画質を得ることが特開昭6
3−217354号、特開昭6470761号及び特開
平2−67563号にそれぞれ記載されている。
て酸性基を重合体の側鎖に含有する共重合成分を0.0
5〜10重量%含有する低分子量の樹脂(隔10″〜1
04)を用いる又は酸性基を重合体主鎖の片末端にのみ
結合して成る低分子量の樹脂(隔103〜104)を用
いることにより、光導電層の平滑性及び静電特性を良好
にし、しかも地lηれのない画質を得ることが特開昭6
3−217354号、特開昭6470761号及び特開
平2−67563号にそれぞれ記載されている。
また結着樹脂として、酸性基を共重合体の側鎖に含有し
、又は、重合体主鎖の末端に結合し、且つ熱及び/又は
光硬化性官能基を含有する重合成分を含有する樹脂を用
いる技術が特開平1−100554号、特願昭63−3
9690号に、酸性基を共重合体の側鎖に含有し、又は
重合体主鎖の末端に結合する樹脂を架橋剤と併用する技
fIiが特開平1.−102573号、同2−874号
にそれぞれ開示され、更に前記低分子量の樹脂(重量平
均分子量103〜104)を高分子量(重量平均分子量
104以上)の樹脂と組合せて用いる技術が特開昭64
−564号、同63−220149号、同63−220
148号、特開平1−280761号、同1−1166
43号及び同1−169455号に、かかる低分子量体
を熱及び/又は光硬化性樹脂と組合せて用いる技術が特
開平1−211766号及び同2−34859号に、か
かる低分子量体をクシ型ポリマーと組合せ°ζ用いる技
術が特開平2−53064号、同2−56558号及び
特願昭63−254786号にそれぞれ開示されている
。これらの技術により、側鎖又は末端に酸性基を含有す
る樹脂を用いたことによる上記特性を阻害せずにさらに
光導電層の膜強度を充分ならしめ、機械的強度が増大さ
れることが記載されている。
、又は、重合体主鎖の末端に結合し、且つ熱及び/又は
光硬化性官能基を含有する重合成分を含有する樹脂を用
いる技術が特開平1−100554号、特願昭63−3
9690号に、酸性基を共重合体の側鎖に含有し、又は
重合体主鎖の末端に結合する樹脂を架橋剤と併用する技
fIiが特開平1.−102573号、同2−874号
にそれぞれ開示され、更に前記低分子量の樹脂(重量平
均分子量103〜104)を高分子量(重量平均分子量
104以上)の樹脂と組合せて用いる技術が特開昭64
−564号、同63−220149号、同63−220
148号、特開平1−280761号、同1−1166
43号及び同1−169455号に、かかる低分子量体
を熱及び/又は光硬化性樹脂と組合せて用いる技術が特
開平1−211766号及び同2−34859号に、か
かる低分子量体をクシ型ポリマーと組合せ°ζ用いる技
術が特開平2−53064号、同2−56558号及び
特願昭63−254786号にそれぞれ開示されている
。これらの技術により、側鎖又は末端に酸性基を含有す
る樹脂を用いたことによる上記特性を阻害せずにさらに
光導電層の膜強度を充分ならしめ、機械的強度が増大さ
れることが記載されている。
(発明が解決しようとする課題)
しかしながら、これらの樹脂を用いても、環境が高温・
高温から低温・低湿まで著しく変動した場合における安
定した性能の維持においてはいまだ不充分であることが
判った。特に半導体レーザー光を用いたスキャニング露
光方式では、従来の可視光による全面同時露光方式に比
べ、露光時間が長くなり、また露光強度にも制約がある
ことから、静電特性、特に暗電荷保持特性、光感度に対
して、より高い性能が要求される。
高温から低温・低湿まで著しく変動した場合における安
定した性能の維持においてはいまだ不充分であることが
判った。特に半導体レーザー光を用いたスキャニング露
光方式では、従来の可視光による全面同時露光方式に比
べ、露光時間が長くなり、また露光強度にも制約がある
ことから、静電特性、特に暗電荷保持特性、光感度に対
して、より高い性能が要求される。
本発明は、以」二の様な従来の電子写真感光体の有する
課題を改良するものである。
課題を改良するものである。
本発明の目的は、複写画像形成時の環境が低温低湿ある
いは高温高湿の如く変動した場合でも、安定して良好な
静電特性を維持し、鮮明で良質な画像を有する電子写真
感光体を提供することである。
いは高温高湿の如く変動した場合でも、安定して良好な
静電特性を維持し、鮮明で良質な画像を有する電子写真
感光体を提供することである。
本発明の他の目的は、静電特性に優れ且つ環境依存性の
小さいcpc電子写真感光体を提供することである。
小さいcpc電子写真感光体を提供することである。
本発明の他の目的は、半導体レーザー光を用いたスキャ
ニング露光方式に有効な電子写真感光体を提供するごと
である。
ニング露光方式に有効な電子写真感光体を提供するごと
である。
本発明の他の目的は、電子写真式平版印刷原版として、
静電特性(特に暗電荷保持性及び光感度)に優れ、原画
に対して忠実な複写画像を再現し、且つ、印刷物の全面
一様な地汚れはもちろん点状の地汚れをも発生させず、
また耐剛性の優れた平版印刷原版を提供することである
。
静電特性(特に暗電荷保持性及び光感度)に優れ、原画
に対して忠実な複写画像を再現し、且つ、印刷物の全面
一様な地汚れはもちろん点状の地汚れをも発生させず、
また耐剛性の優れた平版印刷原版を提供することである
。
(課題を解決するだめの手段)
上記目的は無機光導電体及び結着樹脂を少なくとも含有
する光導電層を有する電子写真感光体において、該結着
樹脂が、下記樹脂〔A〕の少なくとも1種と熱及び/又
は光硬化性樹脂〔B]及び架橋剤のうちの少なくともい
ずれか1つとを含有して成ることを特徴とする電子写真
感光体により達成されることが見出された。
する光導電層を有する電子写真感光体において、該結着
樹脂が、下記樹脂〔A〕の少なくとも1種と熱及び/又
は光硬化性樹脂〔B]及び架橋剤のうちの少なくともい
ずれか1つとを含有して成ることを特徴とする電子写真
感光体により達成されることが見出された。
樹脂(A〕 ;
lXIO3〜2X1.O’の重量平均分子量を有し、P
O,lh基、−COOI+基、−3O3I+基、フェノ
ール性基(R’は炭化水素基)を示す)及び環状酸無水
物含有基から選択される少なくとも1つの酸性基を含有
する重合体成分を少なくとも1種含有するΔブロンクと
、下記−儀式(1)で示される重合体成分を少なくとも
含有するBブロンクとから構成されるA−Bブロック共
重合体のBブロックの重合体主鎖の末端に重合性二重結
合基を結合して成る一官能性マクロモノマー(M)を少
なくとも1種共重合成分として含有するグラフト型共重
合体。
O,lh基、−COOI+基、−3O3I+基、フェノ
ール性基(R’は炭化水素基)を示す)及び環状酸無水
物含有基から選択される少なくとも1つの酸性基を含有
する重合体成分を少なくとも1種含有するΔブロンクと
、下記−儀式(1)で示される重合体成分を少なくとも
含有するBブロンクとから構成されるA−Bブロック共
重合体のBブロックの重合体主鎖の末端に重合性二重結
合基を結合して成る一官能性マクロモノマー(M)を少
なくとも1種共重合成分として含有するグラフト型共重
合体。
−儀式(I)
〜←C11−C→−−
ν −R
〔弐(1)中、al及びa2ばそれぞれ水素原子、ハロ
ゲン原子、シアノ基又は炭化水素基を表わず。
ゲン原子、シアノ基又は炭化水素基を表わず。
v、は−C00−1−oco−1→−C112f、OC
O表わす)、−〇−−8O□−−−−C(1−−CON
を表わす場合、R1は水素原子又は炭化水素基を表わす
。〕 即ち、本発明に用いられる結着樹脂は、グラフト部分に
」二記の如き特定の酸性基(以下特にことわらない限り
酸性基の中に環状酸無水物含有基を含むこととする)を
含有する成分とメタクリレート分を含有する成分とをそ
れぞれブロック成分として構成するグラフト共重合体樹
脂(A)と、熱及び/又は光硬化性樹脂〔B〕及び架橋
剤のうちの少なくともいずれか1種とを含有して成る場
合に、得られる感光体の電子写真特性や機械的強度(印
刷版として用いたときには耐刷性)が向上することが判
った。ここで熱及び/又は光硬化性樹脂CB)と架橋剤
は、両方を同時に用いてもよいし、どちらか一方のみで
もよい。
O表わす)、−〇−−8O□−−−−C(1−−CON
を表わす場合、R1は水素原子又は炭化水素基を表わす
。〕 即ち、本発明に用いられる結着樹脂は、グラフト部分に
」二記の如き特定の酸性基(以下特にことわらない限り
酸性基の中に環状酸無水物含有基を含むこととする)を
含有する成分とメタクリレート分を含有する成分とをそ
れぞれブロック成分として構成するグラフト共重合体樹
脂(A)と、熱及び/又は光硬化性樹脂〔B〕及び架橋
剤のうちの少なくともいずれか1種とを含有して成る場
合に、得られる感光体の電子写真特性や機械的強度(印
刷版として用いたときには耐刷性)が向上することが判
った。ここで熱及び/又は光硬化性樹脂CB)と架橋剤
は、両方を同時に用いてもよいし、どちらか一方のみで
もよい。
本発明に用いられる樹脂〔Alは、グラフト共重合体で
あり、グラフト部のAブロックは、グラフト部の末端に
前記した特定の酸性基から選ばれる少なくとも1種を含
有する少なくとも1つの重合成分から構成され、Bブロ
ックは、式(1)で示されるメタクリレート成分を少な
くとも1種含有する重合体成分を含有することから成る
。
あり、グラフト部のAブロックは、グラフト部の末端に
前記した特定の酸性基から選ばれる少なくとも1種を含
有する少なくとも1つの重合成分から構成され、Bブロ
ックは、式(1)で示されるメタクリレート成分を少な
くとも1種含有する重合体成分を含有することから成る
。
前述の光導電層の平滑性及び静電特性を良化させるとし
て公知の酸性基含有結着樹脂の中で低分子量体を用いる
ものは、酸性基含有重合成分が重合体主鎖にランダムに
存在する樹脂あるいは、重合体主鎖の片末端にのみ酸性
基を結合して成る樹脂であった。
て公知の酸性基含有結着樹脂の中で低分子量体を用いる
ものは、酸性基含有重合成分が重合体主鎖にランダムに
存在する樹脂あるいは、重合体主鎖の片末端にのみ酸性
基を結合して成る樹脂であった。
これに対し、本発明の結着樹脂で用いられる樹脂(A)
は、樹脂中に含有される酸性基が重合体主鎖中にランダ
ムに存在するものでも重合体主鎖の末端にのみ結合して
いるものでもなく、グラフト部分に存在し、且つ重合体
主鎖から離れた所にブロック(即ちAブロック)で存在
する様にした、著しくポリマー分子鎖の化学構造を特定
化したものである。
は、樹脂中に含有される酸性基が重合体主鎖中にランダ
ムに存在するものでも重合体主鎖の末端にのみ結合して
いるものでもなく、グラフト部分に存在し、且つ重合体
主鎖から離れた所にブロック(即ちAブロック)で存在
する様にした、著しくポリマー分子鎖の化学構造を特定
化したものである。
本発明の樹脂(Alは重合体中のグラフト部の末端領域
に偏在する酸性基群が無機光導電体の化学量論的な欠陥
に充分に吸着し、重合体主鎖を構成する他のブロック部
分は、無機光導電体の表面をゆるやかに且つ充分に被覆
していると推定される。この無機光導電体表面への充分
な吸着と表面近傍の被覆の効果が、公知の樹脂に比べよ
り一層効果的に行なわれることにより、無機光導電体の
化学量論的な欠陥部が多少変動しても充分な吸着領域を
もつ事から、常に安定した無機光導電体と樹脂(A)と
の相互作用が保たれると推論され、本発明に従えば従来
公知の酸性基含有樹脂に比べて一段と良好に光導電体の
トランプを充分に補償すると共に湿度特性を向上させる
一方、光導電体の分散が充分に行なわれ、凝集を抑制す
る七ともに、高温・高温から低温・低湿まで環境変化が
著しく変動しても安定した高性能の電子写真特性を維持
することが判った。そして熱及び/又は光硬化性樹脂〔
B〕及び/又は架橋剤は、樹脂[Alを用いたことによ
る上記電子写真特性の高性能を全く阻害せずに、樹脂(
A)のめでは不充分な光導電層の機械的強度を充分なら
しめるものである。特ムこ半導体レーザーを用いたスキ
ャニング露光方式を用いる場合に有効である。また、光
導電層表面の平滑性が更に向上する。電子写真式平版印
刷原版として光導電層表面の平滑性の粗らい感光体を用
いると、光導電体である酸化亜鉛粒子と結着樹脂の分散
状態が適切でなく、凝集物が存在する状態で光導電層が
形成されるため、不感脂化処理液による不惑脂化処理を
しても非画像部の親水化が均一に充分に行なわれず、印
刷時に印刷インキの付着を引き起こし、結果として印刷
物の非画像部の地汚れが生じてしまう。
に偏在する酸性基群が無機光導電体の化学量論的な欠陥
に充分に吸着し、重合体主鎖を構成する他のブロック部
分は、無機光導電体の表面をゆるやかに且つ充分に被覆
していると推定される。この無機光導電体表面への充分
な吸着と表面近傍の被覆の効果が、公知の樹脂に比べよ
り一層効果的に行なわれることにより、無機光導電体の
化学量論的な欠陥部が多少変動しても充分な吸着領域を
もつ事から、常に安定した無機光導電体と樹脂(A)と
の相互作用が保たれると推論され、本発明に従えば従来
公知の酸性基含有樹脂に比べて一段と良好に光導電体の
トランプを充分に補償すると共に湿度特性を向上させる
一方、光導電体の分散が充分に行なわれ、凝集を抑制す
る七ともに、高温・高温から低温・低湿まで環境変化が
著しく変動しても安定した高性能の電子写真特性を維持
することが判った。そして熱及び/又は光硬化性樹脂〔
B〕及び/又は架橋剤は、樹脂[Alを用いたことによ
る上記電子写真特性の高性能を全く阻害せずに、樹脂(
A)のめでは不充分な光導電層の機械的強度を充分なら
しめるものである。特ムこ半導体レーザーを用いたスキ
ャニング露光方式を用いる場合に有効である。また、光
導電層表面の平滑性が更に向上する。電子写真式平版印
刷原版として光導電層表面の平滑性の粗らい感光体を用
いると、光導電体である酸化亜鉛粒子と結着樹脂の分散
状態が適切でなく、凝集物が存在する状態で光導電層が
形成されるため、不感脂化処理液による不惑脂化処理を
しても非画像部の親水化が均一に充分に行なわれず、印
刷時に印刷インキの付着を引き起こし、結果として印刷
物の非画像部の地汚れが生じてしまう。
本発明の樹脂を用いた場合無機光導電体と結着樹脂の吸
着・被覆の相互作用が適切に行われ、且つ光導電層の膜
強度が保持されるものである。
着・被覆の相互作用が適切に行われ、且つ光導電層の膜
強度が保持されるものである。
更に酸性基を重合体主鎖に連結する側鎖に含有するラン
ダム共重合体樹脂に比べて光感度が良好であることが判
った。
ダム共重合体樹脂に比べて光感度が良好であることが判
った。
通常可視光〜赤外光域に光感度を保有させるために用い
る分光増感色素は、光導電体に吸着することでその分光
増感作用が充分機能するものであることから、本発明の
共重合体を含有する結着樹脂は、分光増感色素の吸着を
阻害しないで光導電体と適切に相互作用するものと推定
される。この作用は、近赤外〜赤外光の分光増感用色素
として特に有効なシアニン色素あるいはフタロシアニン
系顔料で特に顕著な効果を示した。
る分光増感色素は、光導電体に吸着することでその分光
増感作用が充分機能するものであることから、本発明の
共重合体を含有する結着樹脂は、分光増感色素の吸着を
阻害しないで光導電体と適切に相互作用するものと推定
される。この作用は、近赤外〜赤外光の分光増感用色素
として特に有効なシアニン色素あるいはフタロシアニン
系顔料で特に顕著な効果を示した。
本発明における低分子量体の樹脂(A)のみを結着樹脂
として用いる場合にも、光導電体と結着樹脂が充分に吸
着し、粒子表面を被覆し得るため、光導電層の平滑性及
び静電特性においても良好で、しかも地lチれのない画
質が得られ、更に、CPC感光体あるいは数十枚の印刷
枚数のオフセット原版としては充分な膜強度が保有され
る。しかし、ここで本発明の如く樹脂(B)及び/又は
架橋剤を共存させることで、樹脂〔A]の機能を何ら疎
外することなく樹脂(A)のみではいまだ不充分な光導
電層の機械的強度をより向上させることができた。従っ
て、本発明の感光体は、環境条件が変動しても優れた静
電特性を有し且つ、膜強度も充分であり、過酷な印刷条
件下(例えば大型印刷機で印圧が強くなる場合など)で
も最低6000枚の印刷枚数が可能となった。
として用いる場合にも、光導電体と結着樹脂が充分に吸
着し、粒子表面を被覆し得るため、光導電層の平滑性及
び静電特性においても良好で、しかも地lチれのない画
質が得られ、更に、CPC感光体あるいは数十枚の印刷
枚数のオフセット原版としては充分な膜強度が保有され
る。しかし、ここで本発明の如く樹脂(B)及び/又は
架橋剤を共存させることで、樹脂〔A]の機能を何ら疎
外することなく樹脂(A)のみではいまだ不充分な光導
電層の機械的強度をより向上させることができた。従っ
て、本発明の感光体は、環境条件が変動しても優れた静
電特性を有し且つ、膜強度も充分であり、過酷な印刷条
件下(例えば大型印刷機で印圧が強くなる場合など)で
も最低6000枚の印刷枚数が可能となった。
本発明の樹脂〔A〕における該マクロモノマー(M)中
の重合体成分は、上記の如く、A−ブロックとB−ブロ
ックとから構成されるが、このAブロック/B−ブロッ
クの存在割合は、好ましくは1〜70/99〜30(重
量比)であり、より好ましくは3〜50/97〜50(
重量比)である。
の重合体成分は、上記の如く、A−ブロックとB−ブロ
ックとから構成されるが、このAブロック/B−ブロッ
クの存在割合は、好ましくは1〜70/99〜30(重
量比)であり、より好ましくは3〜50/97〜50(
重量比)である。
本発明のグラフト共重合体〔A〕において、マクロモノ
マー(M)と他の単量体(例えば式(TI)の単量体)
の存在割合は、1〜60/99〜40(重量比)であり
、好ましくは5〜40/95〜60 (重量比)である
。
マー(M)と他の単量体(例えば式(TI)の単量体)
の存在割合は、1〜60/99〜40(重量比)であり
、好ましくは5〜40/95〜60 (重量比)である
。
本発明の樹脂〔A〕における、マクロモノマー(M)中
に含有される酸性基含有成分の存在量は、樹脂(A)1
00重量部中に1〜30重量部であり、好ましくは3〜
20重量部である。即ち、上記樹脂〔A〕中での酸性基
の存在割合は、マクロモノマ(M)中でのA−ブロック
の組成比及び樹脂(A)でのマクロモノマー(M)の共
重合比によって、好ましい比率に調整することができる
ものである。
に含有される酸性基含有成分の存在量は、樹脂(A)1
00重量部中に1〜30重量部であり、好ましくは3〜
20重量部である。即ち、上記樹脂〔A〕中での酸性基
の存在割合は、マクロモノマ(M)中でのA−ブロック
の組成比及び樹脂(A)でのマクロモノマー(M)の共
重合比によって、好ましい比率に調整することができる
ものである。
更にこの樹脂(A)において、マクロモノマ(M)と共
重合する成分として、下記−儀式(II)で示される単
量体が好ましく、特に下記−儀式(lla)及び/又は
(Tub)から選ばれる単量体が好ましい。
重合する成分として、下記−儀式(II)で示される単
量体が好ましく、特に下記−儀式(lla)及び/又は
(Tub)から選ばれる単量体が好ましい。
式(■) CI+3
CI□=C
oo−RZ
〔式(n)中、R2は炭化水素基を表わす。〕(式中、
X、及び×2は互いに独立に、それぞれ水素原子、炭素
数1〜10の炭化水素基、塩素原子、臭素原子、−CO
Zi又は−COOZ3 (Z3は各々炭素数1〜10の
炭化水素基を示す)を表わす。但し、X + h X
2がともに水素原子を表わすことはない。
X、及び×2は互いに独立に、それぞれ水素原子、炭素
数1〜10の炭化水素基、塩素原子、臭素原子、−CO
Zi又は−COOZ3 (Z3は各々炭素数1〜10の
炭化水素基を示す)を表わす。但し、X + h X
2がともに水素原子を表わすことはない。
Ll及びI7゜はそれぞれ−C00−とヘンゼン環を結
合する、単結合又は連結原子数1〜4個の連結基を表わ
す。〕 樹脂(A)においてマクロモノマー(M)と共重合する
単量体として上記一般式(IIa)及び/又は一般式(
IIb)で示される置換ヘンゼン環又はナフタレン環を
含有する置換基含有のメタクリレート単量体との共重合
体とを少なくとも含有する樹脂(以降この樹脂〔A〕を
樹脂(A′〕と称する)の場合には、より一層の電子写
真特性(特にV+o 、 Il、R,R,El/、O)
の向」二が達成される。
合する、単結合又は連結原子数1〜4個の連結基を表わ
す。〕 樹脂(A)においてマクロモノマー(M)と共重合する
単量体として上記一般式(IIa)及び/又は一般式(
IIb)で示される置換ヘンゼン環又はナフタレン環を
含有する置換基含有のメタクリレート単量体との共重合
体とを少なくとも含有する樹脂(以降この樹脂〔A〕を
樹脂(A′〕と称する)の場合には、より一層の電子写
真特性(特にV+o 、 Il、R,R,El/、O)
の向」二が達成される。
この事の理由は不明であるが、1つの理由として、メク
クリレートのエステル成分である、オルト位に置換語を
有する平面性のヘンセン環、又はナフタレン環の効果に
より、膜中の酸化亜鉛界面でのこれらポリマー分子鎖の
配列が適切に行なわれることによるものと考えられる。
クリレートのエステル成分である、オルト位に置換語を
有する平面性のヘンセン環、又はナフタレン環の効果に
より、膜中の酸化亜鉛界面でのこれらポリマー分子鎖の
配列が適切に行なわれることによるものと考えられる。
結着樹脂(A)の分子量がlXl0’より小さくなると
、皮膜形成能が低下し充分な膜強度が保てず、一方分子
量が2×104より大きくなると本発明の樹脂であって
も高温・高温・低温・低湿の過酷な条件下での電子写真
特性(特に初期電位、暗減衰保持率)の変動が大きくな
り、安定した複写画像が得られるという本発明の効果が
薄れてしまう。
、皮膜形成能が低下し充分な膜強度が保てず、一方分子
量が2×104より大きくなると本発明の樹脂であって
も高温・高温・低温・低湿の過酷な条件下での電子写真
特性(特に初期電位、暗減衰保持率)の変動が大きくな
り、安定した複写画像が得られるという本発明の効果が
薄れてしまう。
樹脂(A)のガラス転移点は好ましくは一40°C〜1
10°Cである。
10°Cである。
結着樹脂(A、 )におけるマクロモノマー含有量が1
.0重量%より少ないと電子写真特性(特に暗減衰率、
光感度)が低下し、又環境条件での電子写真特性の変動
が特に近赤外〜赤外光分光増感色素との組み合わせにお
いて、大きくなる。これt:JグラフI・部となるマク
ロモノマーが微かとなることで結果として従来のポモポ
リマーあるいはランダム共重合体と殆んど同し組成にな
ってしまうことによると考えられる。
.0重量%より少ないと電子写真特性(特に暗減衰率、
光感度)が低下し、又環境条件での電子写真特性の変動
が特に近赤外〜赤外光分光増感色素との組み合わせにお
いて、大きくなる。これt:JグラフI・部となるマク
ロモノマーが微かとなることで結果として従来のポモポ
リマーあるいはランダム共重合体と殆んど同し組成にな
ってしまうことによると考えられる。
一方マクロ千ツマーの含有量が60%を越えると、他の
共重合成分に相当する単量体と本発明に従うマク「1モ
ノマーとの共重合性が充分でなくなり、結着樹脂として
用いても充分な電子写真特性が得られなくなってしまう
。
共重合成分に相当する単量体と本発明に従うマク「1モ
ノマーとの共重合性が充分でなくなり、結着樹脂として
用いても充分な電子写真特性が得られなくなってしまう
。
本発明に供される結着樹脂(A)の詳細について説明す
る。
る。
まず、本発明のグラフト型共重合体に供される一官能性
マクロモノマー(M)について更に具体的に説明する。
マクロモノマー(M)について更に具体的に説明する。
マクロモノマ−(M)のA−ブロックを構成する成分中
に含有される酸性基としては、−PO311□基、−C
ool基、−3O311基、フェノール性叶基、炭化水
素基)を示す)及び/又は環状酸無水物含有基が挙げら
れ、好ましくは、−COOIl基、−5O3++(R’
は炭化水素基を表わす)を表わし、R及びR′は好まし
くは炭素数1〜22の脂肪族基(例えば、メチル基、エ
チル基、プロピル基、ブチル基、ヘキシル基、オクチル
基、デシル基、ドデシル基、オクタデシル基、2−クロ
ロエチル基、2−メト二1−シエヂル基、3−エトキシ
プロピル基、クロトニル基、ブテニル基、シクロヘキシ
ル基、ヘンシル基、フェネチル基、3−フェニルプロピ
ル基、メチルヘンシル暴、クロロヘンシル基、フロロヘ
ンシル基、メトキシヘンシル基等)、又は置換されても
よいアリール基(例えば、フェニル基、トリル基、エチ
ルフェニルも(、プ【]ピルフェニル基、クロロフェニ
ル基、フロロフェニル基、ブロモフェニル基、クロロ−
メチル−フェニル基、ジクロロフェニル基、メトキシフ
ェニル基、シアノフェニル基、アセトアミドフェニル基
、アセチルフェニル基、ブトキンフェニル基等)等を表
わす。
に含有される酸性基としては、−PO311□基、−C
ool基、−3O311基、フェノール性叶基、炭化水
素基)を示す)及び/又は環状酸無水物含有基が挙げら
れ、好ましくは、−COOIl基、−5O3++(R’
は炭化水素基を表わす)を表わし、R及びR′は好まし
くは炭素数1〜22の脂肪族基(例えば、メチル基、エ
チル基、プロピル基、ブチル基、ヘキシル基、オクチル
基、デシル基、ドデシル基、オクタデシル基、2−クロ
ロエチル基、2−メト二1−シエヂル基、3−エトキシ
プロピル基、クロトニル基、ブテニル基、シクロヘキシ
ル基、ヘンシル基、フェネチル基、3−フェニルプロピ
ル基、メチルヘンシル暴、クロロヘンシル基、フロロヘ
ンシル基、メトキシヘンシル基等)、又は置換されても
よいアリール基(例えば、フェニル基、トリル基、エチ
ルフェニルも(、プ【]ピルフェニル基、クロロフェニ
ル基、フロロフェニル基、ブロモフェニル基、クロロ−
メチル−フェニル基、ジクロロフェニル基、メトキシフ
ェニル基、シアノフェニル基、アセトアミドフェニル基
、アセチルフェニル基、ブトキンフェニル基等)等を表
わす。
また、環状酸無水物含有基とは、少なくとも1つの環状
酸無水物を含有する基であり、含有される環状酸無水物
としては、脂肪族ジカルボン酸無水物、芳香族ジカルボ
ン酸無水物が挙げられる。
酸無水物を含有する基であり、含有される環状酸無水物
としては、脂肪族ジカルボン酸無水物、芳香族ジカルボ
ン酸無水物が挙げられる。
脂肪族ジカルボン酸無水物の例としては、コハり酸無水
物環、グルタコン酸無水物環、マレイン酸無水物環、シ
クロベンクン用、2−ジカルボン酸無水物環、シクロへ
4−→ノンー1,2−ジカルボン酸無水物環、シクロヘ
キセン用、2−ジカルボン酸無水物環、2,3−ビシク
ロ[2,2,2)オクタンジカルボン酸無水物環等が挙
げられ、これらの環は、例えは塩素原子、臭素原子等の
ハロゲン原子、メチル基、エチル基、ブチル基、ヘキシ
ル基等のアルキル基等が置換されていてもよい。
物環、グルタコン酸無水物環、マレイン酸無水物環、シ
クロベンクン用、2−ジカルボン酸無水物環、シクロへ
4−→ノンー1,2−ジカルボン酸無水物環、シクロヘ
キセン用、2−ジカルボン酸無水物環、2,3−ビシク
ロ[2,2,2)オクタンジカルボン酸無水物環等が挙
げられ、これらの環は、例えは塩素原子、臭素原子等の
ハロゲン原子、メチル基、エチル基、ブチル基、ヘキシ
ル基等のアルキル基等が置換されていてもよい。
又、芳香族ジカルボン酸無水物の例としては、フタル酸
無水物環、ナフタレン−ジカルボン酸無水物環、ピリジ
ン−ジカルボン酸無水物環、チオフェン−ジカルボン酸
無水物環等が挙げられ、これらの環は、例えば、塩素原
子、臭素原子等のハロゲン原子、メチル基、エチル基、
プロピル基、ブチル基等のアルキル基、ヒトtコキシル
基、シアノ基、二1・四基、アルコキシカルボニル基(
アルコキシ基としては、例えば、ノドキシ基、工l・キ
シ基等)等が置換されていてもよい。
無水物環、ナフタレン−ジカルボン酸無水物環、ピリジ
ン−ジカルボン酸無水物環、チオフェン−ジカルボン酸
無水物環等が挙げられ、これらの環は、例えば、塩素原
子、臭素原子等のハロゲン原子、メチル基、エチル基、
プロピル基、ブチル基等のアルキル基、ヒトtコキシル
基、シアノ基、二1・四基、アルコキシカルボニル基(
アルコキシ基としては、例えば、ノドキシ基、工l・キ
シ基等)等が置換されていてもよい。
以」−の如き「特定の酸性基を含有する重合体成分」は
、例えば、本発明のBブロック成分を構成する重合体成
分、即ち−C式N)で示されるメタクリレート成分等の
相当するビニル系化合物と共重合する、該酸性基を含有
するビニル系化合物であれはいずれでも用いるごとがで
きる。
、例えば、本発明のBブロック成分を構成する重合体成
分、即ち−C式N)で示されるメタクリレート成分等の
相当するビニル系化合物と共重合する、該酸性基を含有
するビニル系化合物であれはいずれでも用いるごとがで
きる。
例えば、高分子学会側「高分子データ・ハンドブック〔
基礎編]」培風館(1986刊)等に記載されている。
基礎編]」培風館(1986刊)等に記載されている。
具体的には、アクリル酸、α及び/又はβ置換アクリル
M(例えばα−アセトキシ体、α−アセトキシメチル体
、α−(2−アミノ〕メチル体、α−クロロ体、α−ブ
ロモ体、α−フロロ体、α−トリブチルシリル体、α−
ンアノ体、β−クロロ体、β−ブロモ体、α−クロロ−
βメトキシ体、α、β−ジクロロ体等)、メタクリル酸
、イタコン酸、イタコン酸半エステル類、イタコン酸半
アミド類、クロトン酸、2−アルケニルカルボン酸類(
例えば2−ペンテン酸、2−メチル−2−ヘキセン酸、
2−オクテン酸、4−メチル−2−ヘキセン酸、4−エ
チル−2−オクテン酸等)、マレイン酸、マレイン酸半
エステル類、マレイン酸半アミド類、ビニルヘンゼンカ
ルボン酸、ビニルヘンゼンスルボン酸、ビニルスルボン
酸、ビニルホスホ酸、ジカルボン酸類のビニル基又はア
リル基の半エステル誘導体、及びこれらのカルボン酸又
はスルポン酸のエステル誘導体、アミド誘導体の置換基
中に該酸性基を含有する化合物が挙げられる。
M(例えばα−アセトキシ体、α−アセトキシメチル体
、α−(2−アミノ〕メチル体、α−クロロ体、α−ブ
ロモ体、α−フロロ体、α−トリブチルシリル体、α−
ンアノ体、β−クロロ体、β−ブロモ体、α−クロロ−
βメトキシ体、α、β−ジクロロ体等)、メタクリル酸
、イタコン酸、イタコン酸半エステル類、イタコン酸半
アミド類、クロトン酸、2−アルケニルカルボン酸類(
例えば2−ペンテン酸、2−メチル−2−ヘキセン酸、
2−オクテン酸、4−メチル−2−ヘキセン酸、4−エ
チル−2−オクテン酸等)、マレイン酸、マレイン酸半
エステル類、マレイン酸半アミド類、ビニルヘンゼンカ
ルボン酸、ビニルヘンゼンスルボン酸、ビニルスルボン
酸、ビニルホスホ酸、ジカルボン酸類のビニル基又はア
リル基の半エステル誘導体、及びこれらのカルボン酸又
はスルポン酸のエステル誘導体、アミド誘導体の置換基
中に該酸性基を含有する化合物が挙げられる。
これらの化合物の具体例として以下のものを挙げること
ができる。但し、以下の各側において、aは暑)、−C
tL+、 −CI、−Br 、−CN−1−(JI
zCOOCII3又は−C112C0011を示し、b
は−11又は−0113を示し、nば2〜18の整数を
示し、mは1〜12の整数を示し、lは]〜4の整数を
示す。
ができる。但し、以下の各側において、aは暑)、−C
tL+、 −CI、−Br 、−CN−1−(JI
zCOOCII3又は−C112C0011を示し、b
は−11又は−0113を示し、nば2〜18の整数を
示し、mは1〜12の整数を示し、lは]〜4の整数を
示す。
(以下余白)
(a−1)
□
C00I+
C00I+
(a−3)
(a−4)
C00(CI(z)ncOOI+
(a−5)
〒
(a−6)
b
CHz
C00(CC00(CHz)noco(C1lz)+(
a−7) C00(Ctlz)ncOo(CHz)mcOOII(
a−8) (a−9) (a−10) (a−1,5) Ctl2 C)l CHzOCO(C1lz)mcOOII(a C1l□ Ctl +CIIz〒COO11 (a (a 〒 (a (a C)13 CON II CII CIl□COO11 (a 〒 (a Ctl。−C C00(C112)m118co(Ctl2)mcOO
II(mは同しでも異なってもよい) (a−20) 〒 (a−21) 〒 H (a−22) (a−23) 〒 (a−24) (a−25) (a−26) (a−27) (a−36) (a−28) (a−29) (a−30) 〒 (a−31) (a−37) C1+□ テ C00(CI+2)、 C0N(CII□C112CO
OIl) z(a−38) (a−39) (a−40) (a−41) (a−42) (a−43) (a−44) (a−45) 」−記の如き酸性基含有成分ばAブロック中に2種以上
含有されていてもよく、これら2種以上の酸性基含有成
分ばΔブロック中においてランダム共重合又はブロック
共重合のいずれで含有されてい”ζもよい。 更に、酸
性基含有成分とともに、酸性基を含有しない成分(例え
ば後述式(1)で示される成分)をAブロック中に含有
していてもよいが、酸性基含有成分はAブロック中にお
いて30〜100重量%存在することが好ましい。
a−7) C00(Ctlz)ncOo(CHz)mcOOII(
a−8) (a−9) (a−10) (a−1,5) Ctl2 C)l CHzOCO(C1lz)mcOOII(a C1l□ Ctl +CIIz〒COO11 (a (a 〒 (a (a C)13 CON II CII CIl□COO11 (a 〒 (a Ctl。−C C00(C112)m118co(Ctl2)mcOO
II(mは同しでも異なってもよい) (a−20) 〒 (a−21) 〒 H (a−22) (a−23) 〒 (a−24) (a−25) (a−26) (a−27) (a−36) (a−28) (a−29) (a−30) 〒 (a−31) (a−37) C1+□ テ C00(CI+2)、 C0N(CII□C112CO
OIl) z(a−38) (a−39) (a−40) (a−41) (a−42) (a−43) (a−44) (a−45) 」−記の如き酸性基含有成分ばAブロック中に2種以上
含有されていてもよく、これら2種以上の酸性基含有成
分ばΔブロック中においてランダム共重合又はブロック
共重合のいずれで含有されてい”ζもよい。 更に、酸
性基含有成分とともに、酸性基を含有しない成分(例え
ば後述式(1)で示される成分)をAブロック中に含有
していてもよいが、酸性基含有成分はAブロック中にお
いて30〜100重量%存在することが好ましい。
次に上記マクロモノマーにおいて、B−フロックを構成
する成分即ち−C式(+)で表わされる繰り返し単位に
ついて説明する。
する成分即ち−C式(+)で表わされる繰り返し単位に
ついて説明する。
一般式(1)においてV、は−COO−2−OCO−(
−CI+・)−OCO−+CI+・)7;C0O−(f
fiは1〜3の整数を表わす)、−0−−−SO□Z CO−−−CON −−5O2N−−−CONIIC
OO素基としては、炭素数1〜18の置換されてもよい
アルキル基(例えば、メチル基、エチル基、プロピル基
、ブチル基、ヘプチル基、ヘキシル基、オクチル基、デ
シル基、ドデシル基、ヘキサデシル基、オクタデシル基
、2−クロロエチル基、2ブロモエチル基、2−シアノ
エチル基、2−メトキシカルボニルエチル基、2−メト
キシエチル基、3−ブロモプロピル基等)、炭素数4〜
18の置換されてもよいアルケニル基(例えば、2−メ
チル1−プロペニル基、2−ブテニル基、2−ペンテニ
ル基、3−メチル−2−ペンテニル基、1ペンテニル基
、1−へキセニル基、2−ヘキセニル基、4−メチル−
2−ヘキセニル基等)、炭素数7〜12の置換されても
よいアラルキル基(例えば、ヘンシル基、フェネチル基
、3−フェニルプロピル基、ナフチルメチル基、2−ナ
フチルエチル基、クロロヘンシル基、ブロモベンジル基
、メチルヘンシル基、エチルヘンシル基、メI・キシヘ
ンシル基、ジメチルペンシル基、ジメトキシヘンシル基
等)、炭素数5〜8の置換されてもよい脂環式基(例え
ば、シクロヘキシル基、2−シクロヘキシルエチル基、
2−シクロペンチルエチル基等)、又は炭素数6〜12
の置換されてもよい芳香族基(例えば、)lニル基、ナ
フチル基、トリル基、キシリル基、プロピルフェニル基
、ブチルフェニル基、オクチルフェニル基、ドデシルフ
ェニル基、メトキシフェニル基、エトキシフェニル基、
ブチルフェニル基、デシルオキシフェニル基、クロロフ
ェニル基、ジクロロフェニル基、フロモフェニル基、シ
アノフェニル基、アセチルフェニル基、メトキシカルボ
ニルフェニル基、エトキシカルボニルフェニル基、ブト
キシカルボニルフェニル基、アセトアミドフェニル基、
プロピオアミドフェニル基、l・デシロイルアミドフェ
ニル基等)があげられる。
−CI+・)−OCO−+CI+・)7;C0O−(f
fiは1〜3の整数を表わす)、−0−−−SO□Z CO−−−CON −−5O2N−−−CONIIC
OO素基としては、炭素数1〜18の置換されてもよい
アルキル基(例えば、メチル基、エチル基、プロピル基
、ブチル基、ヘプチル基、ヘキシル基、オクチル基、デ
シル基、ドデシル基、ヘキサデシル基、オクタデシル基
、2−クロロエチル基、2ブロモエチル基、2−シアノ
エチル基、2−メトキシカルボニルエチル基、2−メト
キシエチル基、3−ブロモプロピル基等)、炭素数4〜
18の置換されてもよいアルケニル基(例えば、2−メ
チル1−プロペニル基、2−ブテニル基、2−ペンテニ
ル基、3−メチル−2−ペンテニル基、1ペンテニル基
、1−へキセニル基、2−ヘキセニル基、4−メチル−
2−ヘキセニル基等)、炭素数7〜12の置換されても
よいアラルキル基(例えば、ヘンシル基、フェネチル基
、3−フェニルプロピル基、ナフチルメチル基、2−ナ
フチルエチル基、クロロヘンシル基、ブロモベンジル基
、メチルヘンシル基、エチルヘンシル基、メI・キシヘ
ンシル基、ジメチルペンシル基、ジメトキシヘンシル基
等)、炭素数5〜8の置換されてもよい脂環式基(例え
ば、シクロヘキシル基、2−シクロヘキシルエチル基、
2−シクロペンチルエチル基等)、又は炭素数6〜12
の置換されてもよい芳香族基(例えば、)lニル基、ナ
フチル基、トリル基、キシリル基、プロピルフェニル基
、ブチルフェニル基、オクチルフェニル基、ドデシルフ
ェニル基、メトキシフェニル基、エトキシフェニル基、
ブチルフェニル基、デシルオキシフェニル基、クロロフ
ェニル基、ジクロロフェニル基、フロモフェニル基、シ
アノフェニル基、アセチルフェニル基、メトキシカルボ
ニルフェニル基、エトキシカルボニルフェニル基、ブト
キシカルボニルフェニル基、アセトアミドフェニル基、
プロピオアミドフェニル基、l・デシロイルアミドフェ
ニル基等)があげられる。
R1は炭化水素基を表わし、好ましくは上記Z1で好ま
しい炭化水素基として挙げたものと同様のものである。
しい炭化水素基として挙げたものと同様のものである。
の池水素原子を表わし、更にヘンゼン環は置換基を有し
てもよい。置換基としては、ハロゲン原子(例えば塩素
原子、臭素原子等)、アルキル基(例えばメチル基、エ
チル基、プロピル基、ブチル基、クロロメチル基、メト
キシメチル基等)、アルコキシ基(例えばメトキシ基、
エトキシ基、プロピオキシ基、ブトキシ基等)等が挙げ
られる。
てもよい。置換基としては、ハロゲン原子(例えば塩素
原子、臭素原子等)、アルキル基(例えばメチル基、エ
チル基、プロピル基、ブチル基、クロロメチル基、メト
キシメチル基等)、アルコキシ基(例えばメトキシ基、
エトキシ基、プロピオキシ基、ブトキシ基等)等が挙げ
られる。
a、及びa2は、互いに同しでも異なっていてもよく、
好ましくは水素原子、ハロゲン原子(例えば、塩素原子
、臭素原子等)、シアノ基、炭素数1〜4のアルキル基
(例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基
等)、−COOZ2又は炭化水素を介したC00Z2
(Z2は、水素原子又は炭素数1〜18のアルキル基
、アルケニル基、アラルキル基、脂環式基またはアリー
ル基を表わし、これらは置換されていてもよく、具体的
には、」−記Z1について説明したものと同様の内容を
表わす)を表わす。
好ましくは水素原子、ハロゲン原子(例えば、塩素原子
、臭素原子等)、シアノ基、炭素数1〜4のアルキル基
(例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基
等)、−COOZ2又は炭化水素を介したC00Z2
(Z2は、水素原子又は炭素数1〜18のアルキル基
、アルケニル基、アラルキル基、脂環式基またはアリー
ル基を表わし、これらは置換されていてもよく、具体的
には、」−記Z1について説明したものと同様の内容を
表わす)を表わす。
−ト記炭化水素を介した一COO−Zz基における炭化
水素としては、メチレン基、エチレン基、プロピレン基
等が挙げられる。
水素としては、メチレン基、エチレン基、プロピレン基
等が挙げられる。
更に好ましくは、−儀式(1)において、vlはOCO
−−−CIIzOCO−1−C112COO0−−CO
NH−−3o□til+−又はってもよく、水素原子、
メチル基、 C00Z2又はCIl□C00Z2 (Z
2はより好ましくは水素原子又は炭素数1〜6のアルキ
ル基(例えばメチル基、エチル基、プロピル基、ブチル
基、ヘキシル基等)を表わす)を表わす。更により好ま
しくは、al+ 82においていずれか一方が水素原子
を表わす。
−−−CIIzOCO−1−C112COO0−−CO
NH−−3o□til+−又はってもよく、水素原子、
メチル基、 C00Z2又はCIl□C00Z2 (Z
2はより好ましくは水素原子又は炭素数1〜6のアルキ
ル基(例えばメチル基、エチル基、プロピル基、ブチル
基、ヘキシル基等)を表わす)を表わす。更により好ま
しくは、al+ 82においていずれか一方が水素原子
を表わす。
更には該B−ブロック中に式(1)の単量体以外の重合
体成分が含有されていてもよく、式(T)に示される重
合体成分とともに共重合しうる他の繰り返し単位に相当
する単量体として、アクリロニトリル、メタクリロニト
リル、複素環ビニル類(例えばビニルピリジン、ビニル
イミダゾール、ビニルピロリドン、ビニルチオフェン、
ビニルピラゾール、ビニルジオキサン、ビニルオキサジ
ン等)等が挙げられる。これら他の単量体はB−フロッ
クの全重合体成分100重量部中20重量部を越えない
範囲で用いられる。又、該Bブロック中には、該A−ブ
ロックの構成成分である酸性基を含有する重合体成分を
含有しない事が好ましい。Bブロックにおいて2種以上
の共重合成分が存在する場合には、これら2種以上の共
重合成分はBブロックにおいてランダム共重合又はフロ
ック共重合のいずれで含有されていてもよいが、合成の
簡便さよりランダムに含有されることが好ましい。
体成分が含有されていてもよく、式(T)に示される重
合体成分とともに共重合しうる他の繰り返し単位に相当
する単量体として、アクリロニトリル、メタクリロニト
リル、複素環ビニル類(例えばビニルピリジン、ビニル
イミダゾール、ビニルピロリドン、ビニルチオフェン、
ビニルピラゾール、ビニルジオキサン、ビニルオキサジ
ン等)等が挙げられる。これら他の単量体はB−フロッ
クの全重合体成分100重量部中20重量部を越えない
範囲で用いられる。又、該Bブロック中には、該A−ブ
ロックの構成成分である酸性基を含有する重合体成分を
含有しない事が好ましい。Bブロックにおいて2種以上
の共重合成分が存在する場合には、これら2種以上の共
重合成分はBブロックにおいてランダム共重合又はフロ
ック共重合のいずれで含有されていてもよいが、合成の
簡便さよりランダムに含有されることが好ましい。
次に本発明のマクロモノマー(M)において−に記した
酸性基を含有する成分から成るAブロックと一般式(1
)で示される重合体成分を含有することから成るBブロ
ックをA−B型で連結し且つ八−フロックと連結するB
ブロックの他の末端に連結される重合性二重合基につい
て説明する。
酸性基を含有する成分から成るAブロックと一般式(1
)で示される重合体成分を含有することから成るBブロ
ックをA−B型で連結し且つ八−フロックと連結するB
ブロックの他の末端に連結される重合性二重合基につい
て説明する。
具体的には下記−儀式(1)で示される重合性二重結合
基が例として挙げられる。
基が例として挙げられる。
−儀式(I[I)
b、 b2
CH=C
〔式(III)中、v2は式(I)中のV+と同一の内
容を表わす。l)z b2は互いに同一でも異なっても
よく、式(1)中のal+ 82と同一の内容を表わす
。〕即ち、−儀式(III)で示される重合性二重結合
基として、より具体的には、CIl□−CH−C−0O
=C−O O=C−O CIl□−C11−0 COO1+ 0 C1l□−C−C112−C−0 Ctl。−Ctl (Cllz) 2−Co。
容を表わす。l)z b2は互いに同一でも異なっても
よく、式(1)中のal+ 82と同一の内容を表わす
。〕即ち、−儀式(III)で示される重合性二重結合
基として、より具体的には、CIl□−CH−C−0O
=C−O O=C−O CIl□−C11−0 COO1+ 0 C1l□−C−C112−C−0 Ctl。−Ctl (Cllz) 2−Co。
CIl□−CH−CO
CH2=CJIICH2)2 0 C−等が挙げられ
る。
る。
本発明に供されるマクロモノマー(M)は上述の如きB
−ブロンクの片末端に、−儀式(III)で示される如
き重合性二重結合基が、直接結合するか、あるいは、任
意の連結基で結合された化学構造を有するものである。
−ブロンクの片末端に、−儀式(III)で示される如
き重合性二重結合基が、直接結合するか、あるいは、任
意の連結基で結合された化学構造を有するものである。
連結する基としては、炭素−炭素結合(−重結合あるい
は二重結合)、炭素−へテロ原子結合(ヘテロ原子とし
ては例えば、酸素原子、イオウ原子、窒素原子、ケイ素
原子等)、ヘテロ原子−へテロ原子結合の原子団の任意
の組合せで構成されるものである。即ち、具体的には、
れ水素原子、ハロゲン原子(例えば、)・ン素原子、塩
素原子、臭素原子等)、シアノ基、ヒドロキシル基、ア
ルキル基(例えばメチル基、エチル基、子、前記式(1
)におけるR1と同様の内容を表わす炭化水素基等を示
す〕等の原子団から選ばれた単独の連結基もしくは任意
の組合−Uで構成された連結基を表わす。
は二重結合)、炭素−へテロ原子結合(ヘテロ原子とし
ては例えば、酸素原子、イオウ原子、窒素原子、ケイ素
原子等)、ヘテロ原子−へテロ原子結合の原子団の任意
の組合せで構成されるものである。即ち、具体的には、
れ水素原子、ハロゲン原子(例えば、)・ン素原子、塩
素原子、臭素原子等)、シアノ基、ヒドロキシル基、ア
ルキル基(例えばメチル基、エチル基、子、前記式(1
)におけるR1と同様の内容を表わす炭化水素基等を示
す〕等の原子団から選ばれた単独の連結基もしくは任意
の組合−Uで構成された連結基を表わす。
マクロモノマー(M)の重量平均分子量が2×104を
超えると、他のモノマー(例えば式(It)との共重合
性が低下するため好ましくない。他方、重量平均分子量
が小さすぎると、感光層の電子写真特性の向上効果が小
さくなるため、■×103以上であることが好ましい。
超えると、他のモノマー(例えば式(It)との共重合
性が低下するため好ましくない。他方、重量平均分子量
が小さすぎると、感光層の電子写真特性の向上効果が小
さくなるため、■×103以上であることが好ましい。
本発明のマクロモノマ−(M)は、従来公知の合成方法
よって製造することができる。例えば、該特定の酸性基
を含有する重合体成分に相当する単量体において、酸性
基を予め保護した官能基としておき、有機金属化合物(
例えばアルキルリチウム類、リチウムジイソプルアミド
、アルキルマグネシウムハライド類等)あるいはヨウ化
水素、ヨウ素系等によるイオン重合反応で、ポルフィリ
ン金属錯体を触媒とする光重合反応、あるいはグループ
移動重合反応等の公知のいわゆるリビング重合反応でA
−Bブロック共重合体を合成した後、このリビングポリ
マーの末端に種々の試薬を反応させて重合性二重結合基
を導入する。この後、酸性基を保護した官能基を加水分
解反応、加水素分解反応、酸化分解反応あるいは、光分
解反応等によって、脱保護反応を行ない、酸性基を形成
させる方法が挙げられる。その1つの例を下記の反応ス
キーム(1)に示した。
よって製造することができる。例えば、該特定の酸性基
を含有する重合体成分に相当する単量体において、酸性
基を予め保護した官能基としておき、有機金属化合物(
例えばアルキルリチウム類、リチウムジイソプルアミド
、アルキルマグネシウムハライド類等)あるいはヨウ化
水素、ヨウ素系等によるイオン重合反応で、ポルフィリ
ン金属錯体を触媒とする光重合反応、あるいはグループ
移動重合反応等の公知のいわゆるリビング重合反応でA
−Bブロック共重合体を合成した後、このリビングポリ
マーの末端に種々の試薬を反応させて重合性二重結合基
を導入する。この後、酸性基を保護した官能基を加水分
解反応、加水素分解反応、酸化分解反応あるいは、光分
解反応等によって、脱保護反応を行ない、酸性基を形成
させる方法が挙げられる。その1つの例を下記の反応ス
キーム(1)に示した。
例えば、P、Lutz、 P、Masson etal
、 Polym、Bull、。
、 Polym、Bull、。
12、 79(1984) B、C,八nders
on、 G、D、八ndreiys etalMa
cromolecules、 14. 1601(1
981) K、tlatada+ K。
on、 G、D、八ndreiys etalMa
cromolecules、 14. 1601(1
981) K、tlatada+ K。
Ute、etal、 Polym、J、17.977(
1985)、18.1037(1986)。
1985)、18.1037(1986)。
右手浩−1畑田耕−1高分子加工、共、 366(19
87)東村敏延、沢本光男、高分子論文集、46.18
9(1989) M、Kuroki、 T、Aida
、 T、Am、Chem、Soc、 1094737
(1987)、相田卓三、井上祥平、有機合成化学、4
3、300(1985) D、Y、Sogah、 W
、R,l1ertler etalMacromole
cules、 20.1473(1987)等に記載の
合成方法に従って容易にリビングポリマーを合成するこ
とができる。又、該リビングポリマーの末端に重合性二
重結合基を導入する方法としては、従来公知のマクロモ
ノマー法の合成法に従って容易に本発明のマクロモノマ
ーとすることができる。
87)東村敏延、沢本光男、高分子論文集、46.18
9(1989) M、Kuroki、 T、Aida
、 T、Am、Chem、Soc、 1094737
(1987)、相田卓三、井上祥平、有機合成化学、4
3、300(1985) D、Y、Sogah、 W
、R,l1ertler etalMacromole
cules、 20.1473(1987)等に記載の
合成方法に従って容易にリビングポリマーを合成するこ
とができる。又、該リビングポリマーの末端に重合性二
重結合基を導入する方法としては、従来公知のマクロモ
ノマー法の合成法に従って容易に本発明のマクロモノマ
ーとすることができる。
具体的には、P、Dreyfuss & R,P、Qu
irk、 lEncycPolym、Sci、Eng、
、 1.551(1987)、 P、F、RemppE
、Franta+ ^du、、 Polym、Sci、
58.1(1984)、V、Percec+App1.
、 Polym、Sci、+銘L−95(1984)、
R,Asami。
irk、 lEncycPolym、Sci、Eng、
、 1.551(1987)、 P、F、RemppE
、Franta+ ^du、、 Polym、Sci、
58.1(1984)、V、Percec+App1.
、 Polym、Sci、+銘L−95(1984)、
R,Asami。
M、TakaRi、 Makvamol、Chem、5
upp1.12.163(1985)P、Rempp、
etal、 Makvamol、Chem、5upp
1.8. 3(1984)用上雄資、化学工業、共、
56(1,987)、山下雄也、高分子、鉦、 988
(1982) 、小林四部、高分子、別。
upp1.12.163(1985)P、Rempp、
etal、 Makvamol、Chem、5upp
1.8. 3(1984)用上雄資、化学工業、共、
56(1,987)、山下雄也、高分子、鉦、 988
(1982) 、小林四部、高分子、別。
625(1981) 、東村敏延、日本接着協会誌 測
、536(1982)、伊藤浩−1高分子加工、剥、2
62(1986)、乗置四部、津田隆、機能材料、19
87 No、10.5等の総説及びそれに引例の文献
・特許等に記載の方法に従って合成することができる。
、536(1982)、伊藤浩−1高分子加工、剥、2
62(1986)、乗置四部、津田隆、機能材料、19
87 No、10.5等の総説及びそれに引例の文献
・特許等に記載の方法に従って合成することができる。
又、本発明の特定の酸性基を保護する保護基及びその保
護基の脱離(脱保護反応)については、従来公知の知見
を利用して容易に行なうことができる。例えば前記した
引用文献にも種々記載されており、更には、岩倉善男、
栗田恵輔、「反応性高分子」■講談社刊(1977年)
、T、W、Greene’Protective G
roups in Organic 5ynthesi
s」、John Wiley & 5ous(1981
年) 、J、F、W、McOmierProtecti
ve Groups in Organic Chem
istry」Plenum Press、 (1973
年)等の総説に詳細に記載されている方法を適宜選択し
て行なうことができる。
護基の脱離(脱保護反応)については、従来公知の知見
を利用して容易に行なうことができる。例えば前記した
引用文献にも種々記載されており、更には、岩倉善男、
栗田恵輔、「反応性高分子」■講談社刊(1977年)
、T、W、Greene’Protective G
roups in Organic 5ynthesi
s」、John Wiley & 5ous(1981
年) 、J、F、W、McOmierProtecti
ve Groups in Organic Chem
istry」Plenum Press、 (1973
年)等の総説に詳細に記載されている方法を適宜選択し
て行なうことができる。
他のA−B型ブロック共重合体の合成法とじては、ジシ
オカーハメント化合物を開始剤とした光イニファークー
重合法によって合成することもできる。例えば、大津除
行、高分子、鉦、 248(]、988)、検査役−1
大津隆−1Polym、Rep、Jap、37.350
8(1988)、特開昭64−111号、特開昭64−
26619号等に記載の合成方法に従って合成される。
オカーハメント化合物を開始剤とした光イニファークー
重合法によって合成することもできる。例えば、大津除
行、高分子、鉦、 248(]、988)、検査役−1
大津隆−1Polym、Rep、Jap、37.350
8(1988)、特開昭64−111号、特開昭64−
26619号等に記載の合成方法に従って合成される。
これを上記したマクロモノマー合成法を利用して本発明
のマクロモノマーを得ることができる。
のマクロモノマーを得ることができる。
本発明のマクロモノマー(M)は、具体的には、下記の
化合物を例として挙げることができる。但し、本発明の
範囲は、これらに限定されるものではない。但し、下記
化合物例において、c、d及びeはそれぞれ、=■、−
C1,又は−CII□COOCH3を示し、fは−II
又は−CH3を示し、R1+はへC,lh、。1(pは
1〜18の整数) 、−(CO□)QC6H5(qは1
〜を示ず、R12は−Csllzs++(Sは1〜8の
整数)又は−(C;fiz) 9C6+15を示し、Y
2はC00I+。
化合物を例として挙げることができる。但し、本発明の
範囲は、これらに限定されるものではない。但し、下記
化合物例において、c、d及びeはそれぞれ、=■、−
C1,又は−CII□COOCH3を示し、fは−II
又は−CH3を示し、R1+はへC,lh、。1(pは
1〜18の整数) 、−(CO□)QC6H5(qは1
〜を示ず、R12は−Csllzs++(Sは1〜8の
整数)又は−(C;fiz) 9C6+15を示し、Y
2はC00I+。
を示し、t=2〜12の整数を示し、
Uは2〜6の
整数を示す。
(ト1)
(ト2)
C1h 、−0CH3又は−COCI+3を示ず)又は
(ト3) (トロ) (ト4) (ドア) (ト5) (ト8) Z (ト9) f □ (M−10) (M−11) (M−16) 前記したマクロモノマー(M)と共重合する単量体は例
えば前記−儀式(II)で示される。式(II)におい
てR2は式(1)中のR1と同一の内容を表わす。
(ト3) (トロ) (ト4) (ドア) (ト5) (ト8) Z (ト9) f □ (M−10) (M−11) (M−16) 前記したマクロモノマー(M)と共重合する単量体は例
えば前記−儀式(II)で示される。式(II)におい
てR2は式(1)中のR1と同一の内容を表わす。
又、重合体主鎖中には、−PO,l+□基、−3O31
1基、C0011基、−C11基、−811基及び−P
O,RI+基の酸性基を含有する共重合成分を含有しな
いものが好ましい。
1基、C0011基、−C11基、−811基及び−P
O,RI+基の酸性基を含有する共重合成分を含有しな
いものが好ましい。
更に、本発明の低分子量の樹脂(A)は、−儀式(na
)及び/又は−儀式(Ilb)で示される2位又は2,
6−位に特定の置換基を有するヘンゼン環又はナフタレ
ン環を含有する特定の置換基をもつメタクリレートを共
重合成分として含有するグラフト共重合体(以下樹脂〔
A′〕と称することもある)である事が好ましい。
)及び/又は−儀式(Ilb)で示される2位又は2,
6−位に特定の置換基を有するヘンゼン環又はナフタレ
ン環を含有する特定の置換基をもつメタクリレートを共
重合成分として含有するグラフト共重合体(以下樹脂〔
A′〕と称することもある)である事が好ましい。
(?l−12)
H3
(M−14)
(M−15)
−S式(IIa)において、好ましいX、及びx2とし
てそれぞれ、水素原子、塩素原子及び臭素原子のほかに
、好ましい炭化水素基として、炭素数1〜4のアルキル
基(例えばメチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基
等)、炭素数7〜9のアラルキル基(例えばヘンシル基
、フェネチル基、3フエニルプロピル基、クロロベンジ
ル基、ジクロロヘンシル基、ブロモヘンシル基、メチル
ヘンシル基、メトキシヘンシル基、クロロ−メチルヘン
シル基等)及びアリール基(例えばフェニル基、トリル
基、シリル基、ブロモフェニル基、メトキシフェニル基
、クロロフェニル基、ジクロロフェニル基等)、並びに
−COZ3及び−COOZ3 (好ましいZ3として
は上記好ましい炭化水素基として記載したものを挙げる
ことができる)を挙げることができる。但し、×、とx
2がともに水素原子を表わすことはない。
てそれぞれ、水素原子、塩素原子及び臭素原子のほかに
、好ましい炭化水素基として、炭素数1〜4のアルキル
基(例えばメチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基
等)、炭素数7〜9のアラルキル基(例えばヘンシル基
、フェネチル基、3フエニルプロピル基、クロロベンジ
ル基、ジクロロヘンシル基、ブロモヘンシル基、メチル
ヘンシル基、メトキシヘンシル基、クロロ−メチルヘン
シル基等)及びアリール基(例えばフェニル基、トリル
基、シリル基、ブロモフェニル基、メトキシフェニル基
、クロロフェニル基、ジクロロフェニル基等)、並びに
−COZ3及び−COOZ3 (好ましいZ3として
は上記好ましい炭化水素基として記載したものを挙げる
ことができる)を挙げることができる。但し、×、とx
2がともに水素原子を表わすことはない。
式(Ila)において、L、は−COO−とヘンゼン環
を結合する、単結合又は +Ctlz +[(ILは1
〜3の整数を表わず) 、cLcllzOco −1n
ctlz0)蒼2−(mzは1又は2の整数を表わす)
、 CH2Cl+20 等の如き連結原子数1〜4個の連結基を表わす。
を結合する、単結合又は +Ctlz +[(ILは1
〜3の整数を表わず) 、cLcllzOco −1n
ctlz0)蒼2−(mzは1又は2の整数を表わす)
、 CH2Cl+20 等の如き連結原子数1〜4個の連結基を表わす。
式(Ilb)におけるL2はL
と同一の内容を表わす。
本発明の樹脂(A’
〕で用いられる、
式(IIa)
又は(Ilb)で示される単量体の具体例を以下に挙げ
ろ。
ろ。
しかし、
本発明の範囲は、
これらに限定さ
されるものではない。
CH。
l1i
し!
C1l:+
CH3
■4)
CH3
CH。
CI+3
C1(3
CH3
r
CI+3
C)13
し■3
C113
CtL+
Ctl+
C11゜
1li
C1(。
CI+3
CH3
C1l□
CH。
CI(2
CH3
C112=C
3G)
Ca+3
i −34)
CI+3
CH3
CH2=C
CH:+
CI+2=(1:
更には、本発明のグラフト型共重合体において」1記マ
クロモノマー(M)と共重合する成分としては、−儀式
(IT)、(IIa)又は(Ilb)以外の単量体であ
ってもよく、例えば、α−オレフィン類、アルカン酸ビ
ニル又はアリルエステル類、アクリロニトリル、メタク
リロニトリル、ビニルエーテル類、アクリルアミド類、
メタクリルアミド類、スチレン類、複素環ビニル類〔例
えば窒素原子以外の非金属原子(酸素原子、イオウ原子
等)を1〜3個含有する5員〜7員環の複素環であり、
具体的な化合物として、ビニルチオフェン、ビニルジオ
キサン、ビニルフラン等〕等が挙げられる。
クロモノマー(M)と共重合する成分としては、−儀式
(IT)、(IIa)又は(Ilb)以外の単量体であ
ってもよく、例えば、α−オレフィン類、アルカン酸ビ
ニル又はアリルエステル類、アクリロニトリル、メタク
リロニトリル、ビニルエーテル類、アクリルアミド類、
メタクリルアミド類、スチレン類、複素環ビニル類〔例
えば窒素原子以外の非金属原子(酸素原子、イオウ原子
等)を1〜3個含有する5員〜7員環の複素環であり、
具体的な化合物として、ビニルチオフェン、ビニルジオ
キサン、ビニルフラン等〕等が挙げられる。
好ましい例としては、例えば、炭素数1〜3のアルカン
酸ビニル又はアリルエステル類、アクリロニトリル、メ
タクリlコニI・リル、スチレン及びスチl/ ン誘i
体(例えばビニルトルエン、ブチルスチレン、メト;ト
シスチレン、クロロスチレン、ジクロロスチI/ン、ブ
ロモスチレン、工l−キシスチレン笠)等が挙げられる
。
酸ビニル又はアリルエステル類、アクリロニトリル、メ
タクリlコニI・リル、スチレン及びスチl/ ン誘i
体(例えばビニルトルエン、ブチルスチレン、メト;ト
シスチレン、クロロスチレン、ジクロロスチI/ン、ブ
ロモスチレン、工l−キシスチレン笠)等が挙げられる
。
更に、本発明の樹脂(A)は、更に、熱及び光のうちの
少なくともいずれかにより樹脂の硬化反応を行なう官能
基、即ら「熱及び/又は光硬化性官能基」を含有するこ
とが好ましい。即ら、樹脂(A)は前記マクロモノマー
(M)及び他の単量体(例えば弐(II)、好ましくは
(Ila)、(Ilb)の単量体)にそれぞれ相当する
共重合成分に加えて、更に熱及び/又は光硬化性官能基
を含有する共重合体成分を含有することが好ましく、そ
れにより膜強度が向」ニし、電子写真感光体の機械的強
度が増大する。
少なくともいずれかにより樹脂の硬化反応を行なう官能
基、即ら「熱及び/又は光硬化性官能基」を含有するこ
とが好ましい。即ら、樹脂(A)は前記マクロモノマー
(M)及び他の単量体(例えば弐(II)、好ましくは
(Ila)、(Ilb)の単量体)にそれぞれ相当する
共重合成分に加えて、更に熱及び/又は光硬化性官能基
を含有する共重合体成分を含有することが好ましく、そ
れにより膜強度が向」ニし、電子写真感光体の機械的強
度が増大する。
本発明の樹脂〔A〕における上記[熱及び/又は光硬化
性官能基を含有する共重合体成分」の割合は、該樹脂〔
A〕中好ましくは1〜30重量%である。より好ましく
は、5〜30重量%である。
性官能基を含有する共重合体成分」の割合は、該樹脂〔
A〕中好ましくは1〜30重量%である。より好ましく
は、5〜30重量%である。
結着樹脂における熱及び/又は光硬化性の官能基が存在
する場合に、その含有量が1重量%より少ないと硬化反
応不足で硬化性官能基による光導電層の膜強度向上の効
果が見られない。−刃金有量が30重世%を超えると、
本発明の結着樹脂(A)においても、優れた電子写真特
性の保持が難しくなり、従来公知の結着樹脂と同様の特
性に低下してしまう。更にオフセットマスターとして用
いた時に、印刷物の非画像部の地汚れが発生してしまつ
。
する場合に、その含有量が1重量%より少ないと硬化反
応不足で硬化性官能基による光導電層の膜強度向上の効
果が見られない。−刃金有量が30重世%を超えると、
本発明の結着樹脂(A)においても、優れた電子写真特
性の保持が難しくなり、従来公知の結着樹脂と同様の特
性に低下してしまう。更にオフセットマスターとして用
いた時に、印刷物の非画像部の地汚れが発生してしまつ
。
光硬化性官能基として具体的には、乾英夫、永松元太部
、「感光性高分子」 (講談社、1977年刊)、角田
隆弘、「新感光性樹脂」 (印刷学会出版部、1981
年刊)加藤清視、[紫外線硬化システム 第5章〜第7
章、総合技術センター(1989年刊)、G、E、Gr
een and B、I’、5trark、J、Mac
ro、Sci、Reas。
、「感光性高分子」 (講談社、1977年刊)、角田
隆弘、「新感光性樹脂」 (印刷学会出版部、1981
年刊)加藤清視、[紫外線硬化システム 第5章〜第7
章、総合技術センター(1989年刊)、G、E、Gr
een and B、I’、5trark、J、Mac
ro、Sci、Reas。
Macro Chem、 C2](2)、187〜27
3(1981〜B2) 、C,GRattey、 ’
Photopolymirization of 5u
rface Co。
3(1981〜B2) 、C,GRattey、 ’
Photopolymirization of 5u
rface Co。
tings 」(八、Wiley InterScie
nce Pub、 1982年刊)、等の総説に引例さ
れた光硬化性樹脂として従来公知の感光性樹脂等に用い
られる官能基が用いられる。
nce Pub、 1982年刊)、等の総説に引例さ
れた光硬化性樹脂として従来公知の感光性樹脂等に用い
られる官能基が用いられる。
また本発明における「熱硬化性官能基」は、前記の酸性
基以外の官能基であって、例えば、遠藤剛、「熱硬化性
高分子の精密化J (C,M、C,■、1986年刊)
、原崎勇次「最新バインダー技術便覧」第H−1章(総
合技術センター、1985年刊)、大津除行「アクリル
樹脂の合成・設計と新用途開発」(中部経営開発センタ
ー出版部、1985年刊)、大森英三[機能性アクリル
系樹脂」 (テクノシステJ1.1985年刊)等の総
説に引例の官能基を用いることができる。
基以外の官能基であって、例えば、遠藤剛、「熱硬化性
高分子の精密化J (C,M、C,■、1986年刊)
、原崎勇次「最新バインダー技術便覧」第H−1章(総
合技術センター、1985年刊)、大津除行「アクリル
樹脂の合成・設計と新用途開発」(中部経営開発センタ
ー出版部、1985年刊)、大森英三[機能性アクリル
系樹脂」 (テクノシステJ1.1985年刊)等の総
説に引例の官能基を用いることができる。
例えば−〇i+基、−5l+基、−Ni1□基、−NI
IR7基[R7は炭化水素基を表わし、例えば炭素数1
〜10の置換されてもよいアルキル基(例えばメチル基
、エチル基、プロピル基、ブチル基、ヘキシル基、オク
チル基、デシル基、2−クロロエチル基、2メトキシエ
チル基、2−シアノエチル基等)、炭素数4〜8の置換
されてもよいシクロアルキル基(例えばソクロヘプチル
基、シクロヘキシルw等)、炭素数7〜12の置換され
てもよいアラルキル基(例えばヘンシル基、)lネチル
基、3−フェニルプロピル基、クロロヘンシル基、メチ
ルl\ンジル基、メトキシヘンシル基等)、置換されて
もよいアリール基(例えばフェニル基、トリル基、キシ
リル基、クロロエチル基、ブロモフェニル基、メI・キ
シフェニル基、ナフチル基等)等が挙げられる〕、 C0NIICI+20R8CRoは水素原子又は炭素数
1〜8のアルキル基(例えば、メチル基、エチル基、プ
ロピル基、ブチル基、ヘキシル基、オクチル基等)d、
d2 を表わす) 、−Jl−C=O基及び−C= C11基
(dI及びd2は、各々水素原子、ハロゲン原子(例え
ば塩素原子、臭素原子等)又は炭素数1〜4のアルキル
基(例えばメチル基、エチル基等)を表わす)等を挙げ
ることができる。又該重合性二重結合基として、例えば
、 Cl13CH30 C1+2=C−CONI+−1CIl=CI+、、C0
NH−8CH2・C1l−0−CC1h OO I II lI C1l□:C−0−C−1C1l□=CH−C11□−
0−CC1+2・Cl1−CIL、−NHCO−1C1
12・Cll−802C112=C)1−(1−1C1
12=CIl−C11□0、C1l、=Cll−C0−
1 [熱/光硬化性官能基]含有の繰返し単位について例示
する。但し、以下の各側において、b及びCは前記と同
様の意味を表わし、R21は−CII=CH2又は−C
112CIl=CI+2を表わし、R2゜はCH3 1i −3) は CII = CII。、 C1l□又は CIl 1li −←CH2 C→− CH。
IR7基[R7は炭化水素基を表わし、例えば炭素数1
〜10の置換されてもよいアルキル基(例えばメチル基
、エチル基、プロピル基、ブチル基、ヘキシル基、オク
チル基、デシル基、2−クロロエチル基、2メトキシエ
チル基、2−シアノエチル基等)、炭素数4〜8の置換
されてもよいシクロアルキル基(例えばソクロヘプチル
基、シクロヘキシルw等)、炭素数7〜12の置換され
てもよいアラルキル基(例えばヘンシル基、)lネチル
基、3−フェニルプロピル基、クロロヘンシル基、メチ
ルl\ンジル基、メトキシヘンシル基等)、置換されて
もよいアリール基(例えばフェニル基、トリル基、キシ
リル基、クロロエチル基、ブロモフェニル基、メI・キ
シフェニル基、ナフチル基等)等が挙げられる〕、 C0NIICI+20R8CRoは水素原子又は炭素数
1〜8のアルキル基(例えば、メチル基、エチル基、プ
ロピル基、ブチル基、ヘキシル基、オクチル基等)d、
d2 を表わす) 、−Jl−C=O基及び−C= C11基
(dI及びd2は、各々水素原子、ハロゲン原子(例え
ば塩素原子、臭素原子等)又は炭素数1〜4のアルキル
基(例えばメチル基、エチル基等)を表わす)等を挙げ
ることができる。又該重合性二重結合基として、例えば
、 Cl13CH30 C1+2=C−CONI+−1CIl=CI+、、C0
NH−8CH2・C1l−0−CC1h OO I II lI C1l□:C−0−C−1C1l□=CH−C11□−
0−CC1+2・Cl1−CIL、−NHCO−1C1
12・Cll−802C112=C)1−(1−1C1
12=CIl−C11□0、C1l、=Cll−C0−
1 [熱/光硬化性官能基]含有の繰返し単位について例示
する。但し、以下の各側において、b及びCは前記と同
様の意味を表わし、R21は−CII=CH2又は−C
112CIl=CI+2を表わし、R2゜はCH3 1i −3) は CII = CII。、 C1l□又は CIl 1li −←CH2 C→− CH。
Coo(C1h)v−Coo−R2゜
を表わし、I?zs
は
C)I=CI+、、
CIl2又は
1〜11の整数
ii −4)
千CH2
C→−
のアルキル基を表わし、OIは
又は
を表
Coo(C112) vOCO(CH2) v−COO
−R2わし、0□は 011又は Nl+□ を表わし、■ は1〜11 (Vは同一でも異なってもよい) の整数を表わし、 Xは1〜10の整数を表わし、 は1〜4の整数を表わし、 Zは2〜11の整数を表 わす。
−R2わし、0□は 011又は Nl+□ を表わし、■ は1〜11 (Vは同一でも異なってもよい) の整数を表わし、 Xは1〜10の整数を表わし、 は1〜4の整数を表わし、 Zは2〜11の整数を表 わす。
ii −1)
−(−c l(2
C→□
Coo−R2
COOC)I=C11□
ii −2)
C00(C1vOCO−1?22
一←CH2
C→−
COOCII□Cl1=CI+2
ii −8)
ii −12)
−(−CI「C→−−
CONII(CIl2) X−0CO−R24ii −
9) ii −13) −6H2 C→−□ −tel+ C→□□ C00(CH2)、−CIl−CI+□−0−GO−R
zsCONllCI+2011 0〜Co−Rzs (R2゜ は同じでも異なってもよい) ii −14) ii −10) −(−CI C→□□ 1℃I■2 C→−− C0NHCH20R26 CONII (C112)vC00C112−CIIC
11200C−R24ii −15) ii −11) 一+ClI C→− ii −21) b −(−CIl□−C→− COO(Cth) 2−NGO ii −18) c mfc)I −C? COO(CI+2) 2−Q□ ii −19) □(−CH−CH−ナー ii −20) 本発明の結着樹脂は、前記マクロモノマー(M)及び他
の単量体(例えば−儀式(n)で示される単量体、更に
は任意の光及び/又は熱硬化性官能基含有単量体)のう
ちから各々少なくとも1種選ばれた化合物を所望の割合
で共重合させることによって製造することができる。重
合方法としては溶液重合、懸濁重合、沈殿重合、乳化重
合等の公知の方法を用いることにより製造することがで
きる。例えば溶液重合ではヘンゼン、トルエン等の溶媒
中、単量体を所定の割合で添加し、アゾビス系化合物、
過酸化化合物、ラジカル重合開始剤によって重合せしめ
共重合体溶液を得ることができる。これを乾燥または負
溶剤に添加することにより所望の共重合体を得ることが
できる。また、懸濁重合ではポリビニルアルコール、ポ
リビニルピロリドン等の分散剤の存在下、単量体を懸濁
させ、ラジカル重合開始剤の存在下で共重合せしめ共重
合体を得ることができる。
9) ii −13) −6H2 C→−□ −tel+ C→□□ C00(CH2)、−CIl−CI+□−0−GO−R
zsCONllCI+2011 0〜Co−Rzs (R2゜ は同じでも異なってもよい) ii −14) ii −10) −(−CI C→□□ 1℃I■2 C→−− C0NHCH20R26 CONII (C112)vC00C112−CIIC
11200C−R24ii −15) ii −11) 一+ClI C→− ii −21) b −(−CIl□−C→− COO(Cth) 2−NGO ii −18) c mfc)I −C? COO(CI+2) 2−Q□ ii −19) □(−CH−CH−ナー ii −20) 本発明の結着樹脂は、前記マクロモノマー(M)及び他
の単量体(例えば−儀式(n)で示される単量体、更に
は任意の光及び/又は熱硬化性官能基含有単量体)のう
ちから各々少なくとも1種選ばれた化合物を所望の割合
で共重合させることによって製造することができる。重
合方法としては溶液重合、懸濁重合、沈殿重合、乳化重
合等の公知の方法を用いることにより製造することがで
きる。例えば溶液重合ではヘンゼン、トルエン等の溶媒
中、単量体を所定の割合で添加し、アゾビス系化合物、
過酸化化合物、ラジカル重合開始剤によって重合せしめ
共重合体溶液を得ることができる。これを乾燥または負
溶剤に添加することにより所望の共重合体を得ることが
できる。また、懸濁重合ではポリビニルアルコール、ポ
リビニルピロリドン等の分散剤の存在下、単量体を懸濁
させ、ラジカル重合開始剤の存在下で共重合せしめ共重
合体を得ることができる。
樹脂(A)において、A−B型ブロック共重合体中にお
ける該特定の酸性基を含有する重合体成分の存在量は、
樹脂(A)100重量部中、好ましくは1〜30重景%
で、より好ましくは3〜20重世%である。
ける該特定の酸性基を含有する重合体成分の存在量は、
樹脂(A)100重量部中、好ましくは1〜30重景%
で、より好ましくは3〜20重世%である。
樹脂(A)の重量平均分子量は好ましくは3×103〜
lXl0’である。
lXl0’である。
本発明では、本発明に従う樹脂(A)とともに、熱及び
/光硬化性樹脂CB)の少なくとも1種あるいは架橋剤
の少なくともいずれか一方を共存させる。これにより樹
脂(A)の特性を何ら阻害せずに電子写真感光体の膜強
度を向上させることができる。
/光硬化性樹脂CB)の少なくとも1種あるいは架橋剤
の少なくともいずれか一方を共存させる。これにより樹
脂(A)の特性を何ら阻害せずに電子写真感光体の膜強
度を向上させることができる。
樹脂(B)は、架橋性官能基、即ち熱及び光のうちの少
なくともいずれか一方により感光層を形成後、膜中で架
橋反応を生成し、ポリマー間の橋かけを形成する官能基
を含有する熱及び/又は光硬化性樹脂であり、好ましく
は、樹脂〔A〕中に含有され得る前記熱及び/又は光硬
化性官能基と反応して架橋構造を形成するものである。
なくともいずれか一方により感光層を形成後、膜中で架
橋反応を生成し、ポリマー間の橋かけを形成する官能基
を含有する熱及び/又は光硬化性樹脂であり、好ましく
は、樹脂〔A〕中に含有され得る前記熱及び/又は光硬
化性官能基と反応して架橋構造を形成するものである。
即ち、縮合反応、付加反応等による分子間の結合、ある
いは重合反応による架橋等を熱及び/又は光によって生
じさせる反応様式を利用するものである。
いは重合反応による架橋等を熱及び/又は光によって生
じさせる反応様式を利用するものである。
熱硬化性官能基としては具体的には解離性の水素原子を
有する官能基(例えば−011基、−sng、N1(1
?3.基(R3,は、水素原子、炭素数1〜12の置換
されてもよい脂肪族基又は置換されてもよいアリル基を
表わす))と NC5、環状ジカルボン酸無水物との群から各々選ばれ
た官能基の組合せを少なくとも1組含有する場合あるい
は−CON1((:1(201?3□(R3゜は水素原
子又はメチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、へ
キシル基等の炭素数1〜6のアルキル基を表わす)又は
重合性二重結合基等が挙げられる。
有する官能基(例えば−011基、−sng、N1(1
?3.基(R3,は、水素原子、炭素数1〜12の置換
されてもよい脂肪族基又は置換されてもよいアリル基を
表わす))と NC5、環状ジカルボン酸無水物との群から各々選ばれ
た官能基の組合せを少なくとも1組含有する場合あるい
は−CON1((:1(201?3□(R3゜は水素原
子又はメチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、へ
キシル基等の炭素数1〜6のアルキル基を表わす)又は
重合性二重結合基等が挙げられる。
解離性の水素原子を有する官能基として好ましくは一0
11基、−511基、−NIIR3□基が4Sげられる
。
11基、−511基、−NIIR3□基が4Sげられる
。
該重合性二重結合基及び光硬化性官能基としては、具体
的には前記樹脂(A]中に含有される「熱及び/光硬化
性官能基」に記載した内容と同様のものがあげられる。
的には前記樹脂(A]中に含有される「熱及び/光硬化
性官能基」に記載した内容と同様のものがあげられる。
かかる官能基を含有する重合体又は共重合体が本発明の
樹脂CB)の例として挙げられる。具体的には、遠藤剛
「熱硬化性高分子の精密化」(C1M、C(株) 、1
.986年刊)、原崎勇次「最新バインダー技術便覧」
第11−1章(総合技術センター1985年刊)、大津
除行[アクリル樹脂の合成・設計と新用途開発」(中部
経営開発センター出版部1985年刊ン、大森英三「機
能性アクリル系樹脂J(テクノシステム1985年刊)
等の総説に引例された従来公知の樹脂が用いられる。例
えば、ポリエステル樹脂、変圧されていないエポキシ樹
脂、ポリカーボネ−1・樹脂、アルカン酸ビニル樹脂、
変性ポリアミ]・樹脂、フェノール樹脂、変性アルキ7
ト樹脂、メラミン樹脂、アクリル樹脂、スチレン樹脂等
が挙げられ、これら樹脂中に前記した架橋反応形成の官
能基が含有されていればよい。好ましくは、これらの樹
脂中に樹脂(A)で示される酸性基は含有しないか又は
変性されているものを本発明の樹脂として用いることが
できる。
樹脂CB)の例として挙げられる。具体的には、遠藤剛
「熱硬化性高分子の精密化」(C1M、C(株) 、1
.986年刊)、原崎勇次「最新バインダー技術便覧」
第11−1章(総合技術センター1985年刊)、大津
除行[アクリル樹脂の合成・設計と新用途開発」(中部
経営開発センター出版部1985年刊ン、大森英三「機
能性アクリル系樹脂J(テクノシステム1985年刊)
等の総説に引例された従来公知の樹脂が用いられる。例
えば、ポリエステル樹脂、変圧されていないエポキシ樹
脂、ポリカーボネ−1・樹脂、アルカン酸ビニル樹脂、
変性ポリアミ]・樹脂、フェノール樹脂、変性アルキ7
ト樹脂、メラミン樹脂、アクリル樹脂、スチレン樹脂等
が挙げられ、これら樹脂中に前記した架橋反応形成の官
能基が含有されていればよい。好ましくは、これらの樹
脂中に樹脂(A)で示される酸性基は含有しないか又は
変性されているものを本発明の樹脂として用いることが
できる。
これらの官能基を含有する共重合体成分に相当する単量
体の具体的なものとして、例えば該官能基を含有するビ
ニル系化合物を挙げることができる。
体の具体的なものとして、例えば該官能基を含有するビ
ニル系化合物を挙げることができる。
例えば、高分子学会′tFAr高分子データ・ハンドブ
ンク(基礎編〕」培風館(1986刊)等に記載されて
いる。具体的には、アクリル酸、α及び/又はβ置換ア
クリル酸(例えばα−アセトキン体、α−アセ1へキシ
メチル体、α−(2−アミノ)メチル体、α−り四日体
、α−ブロモ体、α−フロロ体、α−トリブヂルシリル
体、α−シアノ体、β−りlコロ体、α−ブロモ体、α
−クロロ−βメトキシ体、α、β−ジクロロ体等)、メ
タクリル酸、イタコン酸、イタコン酸半エステル類、イ
タコン酸半アミF類、クロトン酸、2−アルケニルカル
ボン酸類(例えば2−ペンテン酸、2−メチル−2−ヘ
キセン酸、2−オクテン酸、4−メチル−2−ヘキセン
酸、4−エチル−2−オクテン酸等)、マレイン酸、マ
レイン酸半エステル類、マレイン酸半アミド頻、ビニル
ベンゼンスルボン酸、ビニルベンゼンスルボン酸、ビニ
ルスルボン酸、ビニルポスボン酸、ジカルボン酸類のビ
ニル基又はアリル基の半エステル誘導体、及びこれらの
カルボン酸又はスルボン酸のニスデル誘導体、アミド誘
導体の置換基中に、又はスチレン誘導体の置換基中に、
前記官能基が含有されたビニル化合物類が挙げられる。
ンク(基礎編〕」培風館(1986刊)等に記載されて
いる。具体的には、アクリル酸、α及び/又はβ置換ア
クリル酸(例えばα−アセトキン体、α−アセ1へキシ
メチル体、α−(2−アミノ)メチル体、α−り四日体
、α−ブロモ体、α−フロロ体、α−トリブヂルシリル
体、α−シアノ体、β−りlコロ体、α−ブロモ体、α
−クロロ−βメトキシ体、α、β−ジクロロ体等)、メ
タクリル酸、イタコン酸、イタコン酸半エステル類、イ
タコン酸半アミF類、クロトン酸、2−アルケニルカル
ボン酸類(例えば2−ペンテン酸、2−メチル−2−ヘ
キセン酸、2−オクテン酸、4−メチル−2−ヘキセン
酸、4−エチル−2−オクテン酸等)、マレイン酸、マ
レイン酸半エステル類、マレイン酸半アミド頻、ビニル
ベンゼンスルボン酸、ビニルベンゼンスルボン酸、ビニ
ルスルボン酸、ビニルポスボン酸、ジカルボン酸類のビ
ニル基又はアリル基の半エステル誘導体、及びこれらの
カルボン酸又はスルボン酸のニスデル誘導体、アミド誘
導体の置換基中に、又はスチレン誘導体の置換基中に、
前記官能基が含有されたビニル化合物類が挙げられる。
更に具体的には、前記した一般式(I)で示される単量
体を共重合成分として、その総量で30重量%以上含有
する(メタ)アクリル系共重合体を樹脂(B)の例とし
て挙げることができる。
体を共重合成分として、その総量で30重量%以上含有
する(メタ)アクリル系共重合体を樹脂(B)の例とし
て挙げることができる。
樹脂CB)における「架橋し得る(架橋性)官能基を含
有する共重合成分jの含有量は0.5〜40モル%が好
ましい。
有する共重合成分jの含有量は0.5〜40モル%が好
ましい。
樹脂(13)の重量平均分子量は好ましくは1×103
〜1×105であり、より好ましくは5X10’〜5X
10’である。
〜1×105であり、より好ましくは5X10’〜5X
10’である。
また、樹脂CB)のガラス転移点は好ましくは20°C
〜120°C1より好ましくは0°C〜100°Cであ
る。
〜120°C1より好ましくは0°C〜100°Cであ
る。
本発明に用いる樹脂〔A〕と樹脂CB)の使用量の割合
は、使用する無機光導電材料の種類、粒径、表面状態に
よって異なるが一般に樹脂(A)と樹脂CB)の用いる
割合は5〜60対95〜40(重量比)であり、好まし
くは10〜40対90〜60(重量比)である。
は、使用する無機光導電材料の種類、粒径、表面状態に
よって異なるが一般に樹脂(A)と樹脂CB)の用いる
割合は5〜60対95〜40(重量比)であり、好まし
くは10〜40対90〜60(重量比)である。
一方、本発明においては樹脂〔A〕とともに架橋剤を併
用することができる。とくに樹脂(A)及び/又は樹脂
〔B〕が光及び/又は熱硬化性官能基を含有する場合に
は、架橋剤を併用して膜中での架橋を促進させることが
できる。用いられる架橋剤としては、通常架橋剤として
用いられる化合物を使用することができる。具体的には
、山下昔三、金子東助編「架橋剤ハンFブック」大成社
刊(1981年)高分子学会編「高分子データハフ1−
ブック基礎編」培風館(1986年)等に記載されてい
る化合物を用いることができる。
用することができる。とくに樹脂(A)及び/又は樹脂
〔B〕が光及び/又は熱硬化性官能基を含有する場合に
は、架橋剤を併用して膜中での架橋を促進させることが
できる。用いられる架橋剤としては、通常架橋剤として
用いられる化合物を使用することができる。具体的には
、山下昔三、金子東助編「架橋剤ハンFブック」大成社
刊(1981年)高分子学会編「高分子データハフ1−
ブック基礎編」培風館(1986年)等に記載されてい
る化合物を用いることができる。
例えば、有機シラン系化合物(例えば、ビニルトリブト
キシシラン、ビニルトリブトキシシラン、T−グリシド
キシプロピルトリフ1−キンシラン、γ メルカプトプ
ロピルI−リエトキシシラン、Tアミノプロピルトリエ
トキシシラン等のシランカップリング剤等)、ポリイソ
シアナート系化合物(例えば、トルイレンジイソシアナ
ート、0トルイレンジイソシアナート、ジフェニルメタ
ンシイソシアナ−1〜、1〜リフェニルメタントリイソ
シアナート、ポリメチレンボリフェニルイソシアナ−1
・、ヘキシメチレンジイソシアナート、イソポロンジイ
ソシアナート、高分子ポリイソシアナート等)、ポリオ
ール系化合物(例えば、1.4ブタンジオール、ポリオ
キシプロピレングリコール、ポリオキシアルギレングリ
コール、■、11−トリメヂロールプロパン等)、ポリ
アミン系化合物(例えば、エチレンジアミン、T−ヒド
ロキソプロピル化エチレンジアミン、フェニレンジアミ
ン、ヘキシメチレンジアミン、N−アミノエチルピペラ
ジン、変性脂肪族ポリアミン類等)、ポリエポキシ基含
有化合物及びエポキシ樹脂(例えば、垣内弘編著「エポ
キシ樹脂」昭晃堂(1985年刊)、橋本邦之編著「エ
ポキシ樹脂」日刊工業新聞社(1969年刊)等に記載
された化合物類)、メラミン樹脂(例えば、三輪一部、
松永英夫編著[ユリア・メラミン樹脂]日刊工業新聞社
(1969年刊)、等に記載された化合物類)、ポリ(
メタ)アクリレート系化合物(例えば、大河原信、三枝
武夫、東イ4敏延編「オリゴマー」講談社(1976年
)、大森英三「機能性アクリル系樹脂」テクノシステム
(1985年刊)等に記載された化合物類が挙げられ、
具体的には、ポリエチレングリコールジアクリレート、
ネノペンナルグリコールジアクリラト、1.6−ヘキザ
ンジオールアクリラート、トリメチロールプロパントリ
アクリラート、ペンタエリスリト−ルポリアクリラーI
〜、ビスフェノールA−ジグリシジルエーテルジアクリ
ラート、オリゴエステルアクリラーI・=これらのメタ
クリラド体等がある。)等を挙げることができる本発明
に用いられる架橋剤の使用量は全結着樹脂量に対し0.
5〜30重量%、特に1〜10重量%であることが好ま
しい。
キシシラン、ビニルトリブトキシシラン、T−グリシド
キシプロピルトリフ1−キンシラン、γ メルカプトプ
ロピルI−リエトキシシラン、Tアミノプロピルトリエ
トキシシラン等のシランカップリング剤等)、ポリイソ
シアナート系化合物(例えば、トルイレンジイソシアナ
ート、0トルイレンジイソシアナート、ジフェニルメタ
ンシイソシアナ−1〜、1〜リフェニルメタントリイソ
シアナート、ポリメチレンボリフェニルイソシアナ−1
・、ヘキシメチレンジイソシアナート、イソポロンジイ
ソシアナート、高分子ポリイソシアナート等)、ポリオ
ール系化合物(例えば、1.4ブタンジオール、ポリオ
キシプロピレングリコール、ポリオキシアルギレングリ
コール、■、11−トリメヂロールプロパン等)、ポリ
アミン系化合物(例えば、エチレンジアミン、T−ヒド
ロキソプロピル化エチレンジアミン、フェニレンジアミ
ン、ヘキシメチレンジアミン、N−アミノエチルピペラ
ジン、変性脂肪族ポリアミン類等)、ポリエポキシ基含
有化合物及びエポキシ樹脂(例えば、垣内弘編著「エポ
キシ樹脂」昭晃堂(1985年刊)、橋本邦之編著「エ
ポキシ樹脂」日刊工業新聞社(1969年刊)等に記載
された化合物類)、メラミン樹脂(例えば、三輪一部、
松永英夫編著[ユリア・メラミン樹脂]日刊工業新聞社
(1969年刊)、等に記載された化合物類)、ポリ(
メタ)アクリレート系化合物(例えば、大河原信、三枝
武夫、東イ4敏延編「オリゴマー」講談社(1976年
)、大森英三「機能性アクリル系樹脂」テクノシステム
(1985年刊)等に記載された化合物類が挙げられ、
具体的には、ポリエチレングリコールジアクリレート、
ネノペンナルグリコールジアクリラト、1.6−ヘキザ
ンジオールアクリラート、トリメチロールプロパントリ
アクリラート、ペンタエリスリト−ルポリアクリラーI
〜、ビスフェノールA−ジグリシジルエーテルジアクリ
ラート、オリゴエステルアクリラーI・=これらのメタ
クリラド体等がある。)等を挙げることができる本発明
に用いられる架橋剤の使用量は全結着樹脂量に対し0.
5〜30重量%、特に1〜10重量%であることが好ま
しい。
本発明では、感光層膜中での架橋反応を促進さゼるため
に、結着樹脂に必要に応して反応促進剤を添加してもよ
い。
に、結着樹脂に必要に応して反応促進剤を添加してもよ
い。
架橋反応が官能基間の化学結合を形成する反応様式の場
合には、例えば有機酸(酢酸、プロピオンL 1酸、ヘ
ンゼンスルホン酸、p−トルエンスルホン酸等)等が挙
げられる。
合には、例えば有機酸(酢酸、プロピオンL 1酸、ヘ
ンゼンスルホン酸、p−トルエンスルホン酸等)等が挙
げられる。
架橋反応が重合性反応様式の場合には、重合開始剤(過
酸化物、アゾビス系化合物等が挙げられ、好ましくは、
アゾビス系重合開始剤である)、多官能重合性含有の単
量体(例えばビニルメタクリレート、アリルメタクリレ
ート、エチレングリコールジアクリレート、ポリエチレ
ングリコールジアクリレート、ジビニルコハク酸エステ
ル、ジビニルアジピン酸エステル、ジアリルコハク酸エ
ステル、2−メチルビニルメタクリレート、ジビニルベ
ンゼン等)等が挙げられる。
酸化物、アゾビス系化合物等が挙げられ、好ましくは、
アゾビス系重合開始剤である)、多官能重合性含有の単
量体(例えばビニルメタクリレート、アリルメタクリレ
ート、エチレングリコールジアクリレート、ポリエチレ
ングリコールジアクリレート、ジビニルコハク酸エステ
ル、ジビニルアジピン酸エステル、ジアリルコハク酸エ
ステル、2−メチルビニルメタクリレート、ジビニルベ
ンゼン等)等が挙げられる。
更に、本発明では、本発明の樹脂以外の他の樹脂を併用
させるごともできる。それらの樹脂としては、例えば、
アルキッド樹脂、ポリブチラール樹脂、ポリオレフィン
類、エチレン−酢ビ共重合体、スチレン樹脂、スチレン
−ブタジェン樹脂、アクリレートブタジェン樹脂、アル
カン酸ビニル樹脂等が挙げられる。
させるごともできる。それらの樹脂としては、例えば、
アルキッド樹脂、ポリブチラール樹脂、ポリオレフィン
類、エチレン−酢ビ共重合体、スチレン樹脂、スチレン
−ブタジェン樹脂、アクリレートブタジェン樹脂、アル
カン酸ビニル樹脂等が挙げられる。
アクリレ−1−ブタジェン樹脂、アルカン酸ビニル樹脂
等が挙げられる。
等が挙げられる。
上記他の樹脂は、本発明の樹脂を用いた全結着樹脂量の
30%(重量比)を越えると本発明の効果(特に静電特
性の向」二)が失われる。
30%(重量比)を越えると本発明の効果(特に静電特
性の向」二)が失われる。
本発明の結着樹脂は、感光層形成物を塗布した後、架橋
又は熱硬化される。架橋又は熱硬化を行なうためには、
例えば、乾燥条件を従来の感光体作製時の乾燥条件より
厳しくする。例えば、乾燥条件を高温度及び/又は長時
間とする。あるいは塗布溶剤の乾燥後、更に加熱処理す
ることが好ましい。例えば60’C〜120°Cで5〜
120分間処理する。上述の反応促進剤を併用すると、
より穏やかな条件で処理することができる。
又は熱硬化される。架橋又は熱硬化を行なうためには、
例えば、乾燥条件を従来の感光体作製時の乾燥条件より
厳しくする。例えば、乾燥条件を高温度及び/又は長時
間とする。あるいは塗布溶剤の乾燥後、更に加熱処理す
ることが好ましい。例えば60’C〜120°Cで5〜
120分間処理する。上述の反応促進剤を併用すると、
より穏やかな条件で処理することができる。
本発明に使用する無機光導電材料としては、酸化亜鉛、
酸化チタン、硫化亜鉛、硫化カドミウム、炭酸カドミウ
ム、セレン化亜鉛、セレン他力1′ミウム、セレン化テ
ルル、硫化鉛等が挙げられる。
酸化チタン、硫化亜鉛、硫化カドミウム、炭酸カドミウ
ム、セレン化亜鉛、セレン他力1′ミウム、セレン化テ
ルル、硫化鉛等が挙げられる。
無機光導電材料に対して用いる結着樹脂の総量は、光導
電対100重量部に対して、結着樹脂を10〜100重
量部なる割合、好ましくは15〜50重量部なる割合で
使用する。
電対100重量部に対して、結着樹脂を10〜100重
量部なる割合、好ましくは15〜50重量部なる割合で
使用する。
本発明では、必要に応して各種の色素を分光増感剤とし
て併用することができる。例えば、宮本晴視、武井秀彦
、イメージング1973 (No、 8 )第12頁、
C,J、 Young等、RCA Review 15
469(1954)、清田航平等、電気通信学会論文
誌ユ63−C(No、2)97(1980)、原崎勇次
等、工業科学雑誌朋78及び188(1963) 、谷
忠昭、日本写真学会誌器、208(1972)等の総説
引例のカーボニウム系色素、ジフェニルメタン色素、ト
リフェニルメタン色素、キサンチン系色素、フタレイン
系色素、ポリメチン色素(例えば、オキソノール色素、
メロシアニン色素、シアニン色素、ログシアニン色素、
スチリル色素等)、フタロシアニン色素(金属含有して
もよい)等が挙げられる。
て併用することができる。例えば、宮本晴視、武井秀彦
、イメージング1973 (No、 8 )第12頁、
C,J、 Young等、RCA Review 15
469(1954)、清田航平等、電気通信学会論文
誌ユ63−C(No、2)97(1980)、原崎勇次
等、工業科学雑誌朋78及び188(1963) 、谷
忠昭、日本写真学会誌器、208(1972)等の総説
引例のカーボニウム系色素、ジフェニルメタン色素、ト
リフェニルメタン色素、キサンチン系色素、フタレイン
系色素、ポリメチン色素(例えば、オキソノール色素、
メロシアニン色素、シアニン色素、ログシアニン色素、
スチリル色素等)、フタロシアニン色素(金属含有して
もよい)等が挙げられる。
更に具体的には、カーボニウム系色素、トリフェニルメ
タン色素、キサンチン系色素、フタレイン系色素を中心
に用いたものとしては、特公昭51452号、特開昭5
0−90334号、特開昭50−114227号、特開
昭53−39130号、特開昭53−82353号、米
国特許筒3,052,540号、米国特許筒4 、05
4 、450号、特開昭57−16456号等に記載の
ものが挙げられる。
タン色素、キサンチン系色素、フタレイン系色素を中心
に用いたものとしては、特公昭51452号、特開昭5
0−90334号、特開昭50−114227号、特開
昭53−39130号、特開昭53−82353号、米
国特許筒3,052,540号、米国特許筒4 、05
4 、450号、特開昭57−16456号等に記載の
ものが挙げられる。
オキソノール色素、メロシアニン色素、シアニン色素、
ロダシアニン色素等のポリメチン色素としては、F、
M、 Harmmer 「The Cyanine
Dyes andRelated Compounds
J等に記載の色素類が使用可能であり、更に具体的に
は、米国特許筒3,047,384号、米国特許筒3,
110,591号、米国特許筒3,121,008号、
米国特許筒3,125.447号、米国特許筒3. ]
28.179号、米国特許筒3,132.942号、米
国特許筒3.622.317号、英国特許第1,226
,892号、英国特許第1,309,274号、英国特
許第1.405,898号、特公昭4B−7814号、
特公昭55−18892号等に記載の色素が挙げられる
。
ロダシアニン色素等のポリメチン色素としては、F、
M、 Harmmer 「The Cyanine
Dyes andRelated Compounds
J等に記載の色素類が使用可能であり、更に具体的に
は、米国特許筒3,047,384号、米国特許筒3,
110,591号、米国特許筒3,121,008号、
米国特許筒3,125.447号、米国特許筒3. ]
28.179号、米国特許筒3,132.942号、米
国特許筒3.622.317号、英国特許第1,226
,892号、英国特許第1,309,274号、英国特
許第1.405,898号、特公昭4B−7814号、
特公昭55−18892号等に記載の色素が挙げられる
。
更に700nm以上の長波長の近赤外〜赤外光域を分光
増感するポリメチン色素として、特開昭47840号、
特開昭47−44180号、特公昭51−41061号
、特開昭49−5034号、特開昭49−45122号
、特開昭5746245号、特開昭56−35141号
、特開昭57−157254号、特開昭61−2604
4号、特開昭61−27551号、米国特許筒3,61
9,154号、米国特許筒4.175,956号、rR
esearch Disclosure J 1982
年、216、第117〜118頁等に記載のものが挙げ
られる。本発明の感光体は種々の増感色素を併用させて
も、その性能が増悪色素により変動しにくい点において
優れている。更には、必要に応して、化学増感剤等の従
来知られている電子写真感光層用各種添加剤を併用する
こともできる。例えば、前記した総説・イメージング1
9フ3 (No、8)第12頁等の総説引例の電子受容
性化合物(例えば、ハロゲン、ヘンヅキノン、クロラニ
ル、酸無水物、有機カルボン酸等)、小門宏等、「最近
の光導電材料と感光体の開発。
増感するポリメチン色素として、特開昭47840号、
特開昭47−44180号、特公昭51−41061号
、特開昭49−5034号、特開昭49−45122号
、特開昭5746245号、特開昭56−35141号
、特開昭57−157254号、特開昭61−2604
4号、特開昭61−27551号、米国特許筒3,61
9,154号、米国特許筒4.175,956号、rR
esearch Disclosure J 1982
年、216、第117〜118頁等に記載のものが挙げ
られる。本発明の感光体は種々の増感色素を併用させて
も、その性能が増悪色素により変動しにくい点において
優れている。更には、必要に応して、化学増感剤等の従
来知られている電子写真感光層用各種添加剤を併用する
こともできる。例えば、前記した総説・イメージング1
9フ3 (No、8)第12頁等の総説引例の電子受容
性化合物(例えば、ハロゲン、ヘンヅキノン、クロラニ
ル、酸無水物、有機カルボン酸等)、小門宏等、「最近
の光導電材料と感光体の開発。
実用化」第4章〜第6章:日本科学情報(株)出版部(
1986年)の総説引例のポリアリールアルカン化合物
、ヒンダードフェノール化合物、P−フェニレンジアミ
ン化合物等が挙げられる。
1986年)の総説引例のポリアリールアルカン化合物
、ヒンダードフェノール化合物、P−フェニレンジアミ
ン化合物等が挙げられる。
これら各種添加剤の添加量は、特に限定的ではないが、
通常光導電体100重量部に対してo、ooot〜2.
0重量部である。
通常光導電体100重量部に対してo、ooot〜2.
0重量部である。
光導電層の厚さは1〜100μ、特に10〜50μが好
適である。
適である。
また、電荷発生層と電荷輸送層の積層型感光体の電荷発
生層として光導電層を使用する場合は電荷発生層の厚さ
は0.01〜1μ、特に0.05〜0.5μが好適であ
る。
生層として光導電層を使用する場合は電荷発生層の厚さ
は0.01〜1μ、特に0.05〜0.5μが好適であ
る。
感光体の保護および耐久性、暗減衰特性の改善等を主目
的として絶縁層を付設させる場合もある。
的として絶縁層を付設させる場合もある。
この時は絶縁層は比較的薄く設定され、感光体を特定の
電子写真プロセスに用いる場合に設けられる絶縁層は比
較的厚く設定される。
電子写真プロセスに用いる場合に設けられる絶縁層は比
較的厚く設定される。
後者の場合、絶縁層の厚さは、5〜70μ、特には、1
0〜50μに設定される。
0〜50μに設定される。
積層型感光体の電荷輸送材料としてはポリビニルカルハ
ソール、オキザゾール系色素、ビラプリン系色素、トリ
フェニルメタン系色素などがある。
ソール、オキザゾール系色素、ビラプリン系色素、トリ
フェニルメタン系色素などがある。
電荷輸送層の厚さとしては5〜40μ、特には10〜3
0μが好適である。
0μが好適である。
絶縁層あるいは電荷輸送層の形成に用いる樹脂としては
、代表的なものば、ポリスチレン樹脂、ポリエステル樹
脂、セルロース樹脂、ポリエーテル樹脂、塩化ビニル樹
脂、酢酸ビニル樹脂、塩ビ酸ビ共重合体樹脂、ポリアク
リル樹脂、ポリオレフィン樹脂、ウレタン樹脂、ポリエ
ステル樹脂、エポキシ樹脂、メラミン樹脂、シリコン樹
脂の熱可塑性樹脂及び効果性樹脂が適宜用いられる。
、代表的なものば、ポリスチレン樹脂、ポリエステル樹
脂、セルロース樹脂、ポリエーテル樹脂、塩化ビニル樹
脂、酢酸ビニル樹脂、塩ビ酸ビ共重合体樹脂、ポリアク
リル樹脂、ポリオレフィン樹脂、ウレタン樹脂、ポリエ
ステル樹脂、エポキシ樹脂、メラミン樹脂、シリコン樹
脂の熱可塑性樹脂及び効果性樹脂が適宜用いられる。
本発明による光導電層は、従来公知の支持体上に設ける
ことができる。一般に云って電子写真感光層の支持体は
、導電性であることが好ましく、導電性支持体としては
、従来と全く同様、例えば、金属、紙、プラスチックシ
ート等の基本に低抵抗性物質を含浸させるなどして導電
処理したもの、基本の裏面(感光層を設ける面と反対面
)に導電性を付与し、更にはカール防止を図る等の目的
で少なく々も1層以上をコートしたもの、前記支持体の
表面に耐水性接着層を設けたもの、前記支持体の表面層
に必要に応じて少なくとも1層以上のプレコート層が設
けられたもの、八を等を蒸着した基体導電化プラスチッ
クを紙にラミネートしたもの等が使用できる。
ことができる。一般に云って電子写真感光層の支持体は
、導電性であることが好ましく、導電性支持体としては
、従来と全く同様、例えば、金属、紙、プラスチックシ
ート等の基本に低抵抗性物質を含浸させるなどして導電
処理したもの、基本の裏面(感光層を設ける面と反対面
)に導電性を付与し、更にはカール防止を図る等の目的
で少なく々も1層以上をコートしたもの、前記支持体の
表面に耐水性接着層を設けたもの、前記支持体の表面層
に必要に応じて少なくとも1層以上のプレコート層が設
けられたもの、八を等を蒸着した基体導電化プラスチッ
クを紙にラミネートしたもの等が使用できる。
具体的に、導電性基体あるいは導電化材料の例として、
坂本幸男、電子写真、14(No、1)、P2〜11(
1975)、森賀弘之、「入門特殊紙の化学」高分子刊
行会(1975)、M、 F、 Hoover、 J、
Macromol、 Sci。
坂本幸男、電子写真、14(No、1)、P2〜11(
1975)、森賀弘之、「入門特殊紙の化学」高分子刊
行会(1975)、M、 F、 Hoover、 J、
Macromol、 Sci。
Chem、 A 4 (6)、第1327〜第141
7頁(1970)等に記載されているもの等を用いる。
7頁(1970)等に記載されているもの等を用いる。
(実施例)
以下に本発明の実施例を例示するが、本発明の内容がこ
れらに限定されるものではない。
れらに限定されるものではない。
マクロモノマー(M)の合成例]:(M−1)トリフェ
ニルメチルメタクリレ−1・30g及びトルエン100
gの混合溶液を窒素気流下に充分に脱気し一20°Cに
冷却した。1,1−ジフェニルブチルリチウム1.0g
を加え10時間反応した。
ニルメチルメタクリレ−1・30g及びトルエン100
gの混合溶液を窒素気流下に充分に脱気し一20°Cに
冷却した。1,1−ジフェニルブチルリチウム1.0g
を加え10時間反応した。
更にこの混合溶液に、エチルメタクリレート70g及び
トルエン100gの混合溶液を窒素気流下に充分に脱気
した後、添加し、更に10時間反応した。
トルエン100gの混合溶液を窒素気流下に充分に脱気
した後、添加し、更に10時間反応した。
この混合物を0°Cにした後炭酸ガスを60#lIl/
minの流量で30分間通気し、重合反応を停止させた
。
minの流量で30分間通気し、重合反応を停止させた
。
得られた反応液を攪拌下に、温度25°Cとし、2ヒド
ロキシ工チルメタクリレート6gを加え、更に、シシク
ロヘキシル力ルボジイミFL2g、4N、N−ジメチル
アミノピリジン1.0g及び塩化メチレン20gの混合
溶液を30分間で滴下し、そのまま3時間攪拌した。
ロキシ工チルメタクリレート6gを加え、更に、シシク
ロヘキシル力ルボジイミFL2g、4N、N−ジメチル
アミノピリジン1.0g及び塩化メチレン20gの混合
溶液を30分間で滴下し、そのまま3時間攪拌した。
析出した不溶物を濾別後、この混合溶液に、30%塩化
水素エタノール溶液10 mlを加え1時間攪拌した。
水素エタノール溶液10 mlを加え1時間攪拌した。
次に、減圧下に反応混合物を全体量が半分になるまで溶
媒を留去した後、石油エーテル11中に再沈した。沈殿
物を補集し、減圧乾燥して得られた重合体は、Few
6.5XIO’で収量56gであっ(M−1) lh マクロモノマ−(M)の合成例2; (M−2)ヘンシ
ルメタクリレート5g1 (テトラフェニルボルフイナ
ート)アルミニウムメチルO,Ig及び塩化メチレン6
0gの混合溶液を窒素気流下に温度30°Cとした。こ
れに300に一キセノンランプ光をガラスフィルターを
通して25印の距離から光照射し、12時間反応した。
媒を留去した後、石油エーテル11中に再沈した。沈殿
物を補集し、減圧乾燥して得られた重合体は、Few
6.5XIO’で収量56gであっ(M−1) lh マクロモノマ−(M)の合成例2; (M−2)ヘンシ
ルメタクリレート5g1 (テトラフェニルボルフイナ
ート)アルミニウムメチルO,Ig及び塩化メチレン6
0gの混合溶液を窒素気流下に温度30°Cとした。こ
れに300に一キセノンランプ光をガラスフィルターを
通して25印の距離から光照射し、12時間反応した。
この混合物に更にブチルメタクリレ−)45gを加え、
同様に8時間光照射した後、この反Tj5混合物に4−
ブロモメチルスチレン10gを加え、30分間攪拌し反
応を停止させた。
同様に8時間光照射した後、この反Tj5混合物に4−
ブロモメチルスチレン10gを加え、30分間攪拌し反
応を停止させた。
次にこの反応混合物にPd−Cを加え、温度25°Cで
1時間接触還元反応を行なった。
1時間接触還元反応を行なった。
不溶物を濾別した後石油エーテル500mR中に再沈し
、沈殿物を補集し乾燥した。得られた重合体は収量33
gで日w7×101であった。
、沈殿物を補集し乾燥した。得られた重合体は収量33
gで日w7×101であった。
(M−2)
マクロモノマ−(M)の合成例3 : (M−3)4
−ビニルフェニルオキシトリメチルシラン20g及びト
ルエン100gの混合溶液を窒素気流下に、充分に脱気
し、0°Cに冷却した。1,1−ジフェニル3−メチル
ペンチルリチウム2gを加え、6時間攪拌した。更にこ
の混合物に2−クロロ−6メチルフ工ニルメタクリレー
ト80g及び1、ルエン100gの混合溶液を窒素気流
下に充分脱気した後、添加して8時間反応した。この反
応混合物に充分に攪(牛しながらエチレンオニトザイド
を30mR/minの流量で30分間通気した後、温度
15°Cに冷却しメタクリル酸クロライド12gを30
分間で滴下し、更にそのまま3時間攪拌した。
−ビニルフェニルオキシトリメチルシラン20g及びト
ルエン100gの混合溶液を窒素気流下に、充分に脱気
し、0°Cに冷却した。1,1−ジフェニル3−メチル
ペンチルリチウム2gを加え、6時間攪拌した。更にこ
の混合物に2−クロロ−6メチルフ工ニルメタクリレー
ト80g及び1、ルエン100gの混合溶液を窒素気流
下に充分脱気した後、添加して8時間反応した。この反
応混合物に充分に攪(牛しながらエチレンオニトザイド
を30mR/minの流量で30分間通気した後、温度
15°Cに冷却しメタクリル酸クロライド12gを30
分間で滴下し、更にそのまま3時間攪拌した。
次にこの反応混合物に30%塩化水素エタノール溶液]
Ogを加え、25°Cで1時間攪拌した後、石油エーテ
ル1p中に再沈し、補集した沈殿物をジエヂルエーテル
300m1で2回洗浄し乾燥した。得られた重合体は、
収量55gでFtw7,8XIQ″であった。
Ogを加え、25°Cで1時間攪拌した後、石油エーテ
ル1p中に再沈し、補集した沈殿物をジエヂルエーテル
300m1で2回洗浄し乾燥した。得られた重合体は、
収量55gでFtw7,8XIQ″であった。
(M〜3)
CIL+
マクロモノマー(M)の合成例4 : (M−/l)
トリフェニルメチルメタクリレート40g及びトルエン
100gの混合溶液を窒素気流下に充分に脱気し、−2
0°Cに冷却した。
トリフェニルメチルメタクリレート40g及びトルエン
100gの混合溶液を窒素気流下に充分に脱気し、−2
0°Cに冷却した。
5ec−ブチルリチウム2gを加え10時間反応した。
次に、この混合?8液に、スチレン60g及びトルエン
100gの混合溶液を充分に窒素気流下で脱気した後、
添加し12時間反応した。この混合物をO′Cにした後
、ベンジルプロマイl”]、1.gを加え1時間反応し
、温度25°Cで更に2時間反応させた。
100gの混合溶液を充分に窒素気流下で脱気した後、
添加し12時間反応した。この混合物をO′Cにした後
、ベンジルプロマイl”]、1.gを加え1時間反応し
、温度25°Cで更に2時間反応させた。
この反応混合物に30%塩水素含有エタノール溶液溶液
gを加え、2時間攪拌した。不)容器を濾別後、n−ヘ
キサンiff中に再沈し、沈殿物を補集して減圧乾燥し
た。得られた重合体の収量は58gTFiW4.5X1
03であった。
gを加え、2時間攪拌した。不)容器を濾別後、n−ヘ
キサンiff中に再沈し、沈殿物を補集して減圧乾燥し
た。得られた重合体の収量は58gTFiW4.5X1
03であった。
(M−4)
し再び10時間光照射した。
得られた反応混合物に、2−イソシアナートエチルメタ
クリレ−1・12gを、温度30°Cで1時間で滴下し
、更に2時間攪拌した。
クリレ−1・12gを、温度30°Cで1時間で滴下し
、更に2時間攪拌した。
得られた反応物をヘキサン1.5ρに再沈、補集し乾燥
した。得られた重合体ば、68 g T:〜6.O×1
03であった。
した。得られた重合体ば、68 g T:〜6.O×1
03であった。
(M−5)
CI+3
マクロモノマー(M)の合成例5:(M−5)フェニル
メタクリレ−1−70g、ヘンシル−Nヒドロキシルエ
チル−N−エチルジチオカーハノ−l・4.hの混合物
を、窒素気流下に容器に密閉し、温度60゛Cに加温し
た。これに400弱の高圧水銀灯で10cmの距離から
ガラスフィルターを通して、10時間光照射し光重合し
た。これにアクリル酸30g及びメヂルエチルケ1−ン
180gを加えた後、窒素置換樹脂[Alの合成例]、
:[A−1] エチルメタクリレ−1・80g1マクロモノマー(M−
1)120g、)・ルエン150gの混合溶液を窒素気
流下に温度95゛Cに加温した。2.2’−アヅビス(
イソブチロニトリル)(AI[N) 6 gを加え3時
間反応し、更に2時間毎にA、1.−B、N 2 gを
加え反応した。
メタクリレ−1−70g、ヘンシル−Nヒドロキシルエ
チル−N−エチルジチオカーハノ−l・4.hの混合物
を、窒素気流下に容器に密閉し、温度60゛Cに加温し
た。これに400弱の高圧水銀灯で10cmの距離から
ガラスフィルターを通して、10時間光照射し光重合し
た。これにアクリル酸30g及びメヂルエチルケ1−ン
180gを加えた後、窒素置換樹脂[Alの合成例]、
:[A−1] エチルメタクリレ−1・80g1マクロモノマー(M−
1)120g、)・ルエン150gの混合溶液を窒素気
流下に温度95゛Cに加温した。2.2’−アヅビス(
イソブチロニトリル)(AI[N) 6 gを加え3時
間反応し、更に2時間毎にA、1.−B、N 2 gを
加え反応した。
得られた共重合体の隔は9XI03であった。
〔A
1〕
樹脂(A)の合成例2:l:A−2]
2−りr1r7フエニルメククリレー1−70g、マク
lvモ)マー (M−2)30g、n−ドデシルメルカ
プタン2g及びトルエン100gの混合溶液を窒素気流
下に温度80°Cに加温した。2,2′−アゾビス(イ
ソバレロニトリル) (AIVN) 3gを加え3
時間反応し、更にA、1.V、11.1 gを加え2時
間反応した。
lvモ)マー (M−2)30g、n−ドデシルメルカ
プタン2g及びトルエン100gの混合溶液を窒素気流
下に温度80°Cに加温した。2,2′−アゾビス(イ
ソバレロニトリル) (AIVN) 3gを加え3
時間反応し、更にA、1.V、11.1 gを加え2時
間反応した。
次に ^、1.B、N、 1 gを加え温度90°Cに
加温して3時間反応した。得られた共重合体の隔は7.
6XIO’であった。
加温して3時間反応した。得られた共重合体の隔は7.
6XIO’であった。
(以下余白)
樹脂〔A〕の合成例3〜18 : fA−31〜[A4
8]樹脂〔A)の合成例Jと同様の重合条件で、エチル
メタクリレートを他の単量体に代えて下記表1の共重合
体を合成した。得られた各重合体のhは5×103〜9
XIO’であった。
8]樹脂〔A)の合成例Jと同様の重合条件で、エチル
メタクリレートを他の単量体に代えて下記表1の共重合
体を合成した。得られた各重合体のhは5×103〜9
XIO’であった。
表−1
CII3CI+、+
x +y +20=100(重量比)
樹脂(A)の合成例19〜35 : [A−19]〜[
A−351樹〔A〕の合成例2において、マクロモノマ
ー(M−2)の代わりに他のマクロモノマー(M)を用
いた他は、合成例2と同様の重合条件で下記表−2の共
重合体を合成した。得られた各重合体の隔は2X10’
〜lXl0’であった。
A−351樹〔A〕の合成例2において、マクロモノマ
ー(M−2)の代わりに他のマクロモノマー(M)を用
いた他は、合成例2と同様の重合条件で下記表−2の共
重合体を合成した。得られた各重合体の隔は2X10’
〜lXl0’であった。
1〜2 び ”A−B
樹脂(A−1)6g(固形分量として)、下記構造の樹
脂CB−]、 ) 30g (固形分量として)、下記
構造のシアニン色素(1:] 0.018g、サリチル
酸0.1.5g及びトルエン300gの混合物をボール
ミル中で4時間分散し、更にグルタル酸無水物3gわ加
えボールミル中5分間分散して、感光層形成物を調製し
、ごれを導電処理した紙に、1>2燥イ」着量が25g
/ %となる様に、ワイヤーバーで塗布し、] 10
’Cで30秒間乾燥した後、更に120°Cで2時間加
熱した。ついで暗所で20°C65%R1+の条件下で
24時間放置することにより、電子写真感光材料を作製
した。
脂CB−]、 ) 30g (固形分量として)、下記
構造のシアニン色素(1:] 0.018g、サリチル
酸0.1.5g及びトルエン300gの混合物をボール
ミル中で4時間分散し、更にグルタル酸無水物3gわ加
えボールミル中5分間分散して、感光層形成物を調製し
、ごれを導電処理した紙に、1>2燥イ」着量が25g
/ %となる様に、ワイヤーバーで塗布し、] 10
’Cで30秒間乾燥した後、更に120°Cで2時間加
熱した。ついで暗所で20°C65%R1+の条件下で
24時間放置することにより、電子写真感光材料を作製
した。
樹脂CB−1)
シアニン色素(1)
(CH2)4SO。
(CI+2) 4SO3に
実施例2
実施例1において、樹脂[A−1) 6 g(7)代わ
りに、樹脂[A−2〕6g(固形分量として)を用いた
他は、実施例1と同様に操作して、電子写真感光写真材
料を作製した。
りに、樹脂[A−2〕6g(固形分量として)を用いた
他は、実施例1と同様に操作して、電子写真感光写真材
料を作製した。
北較尉A:
実施例1において、樹脂[A−1)6gの代わりに下記
に示す樹脂[R−1)6gを用いる以外は、実施例1と
同様の操作で、電子写真感光材料を作製した。
に示す樹脂[R−1)6gを用いる以外は、実施例1と
同様の操作で、電子写真感光材料を作製した。
[R−1)
CI(3C1(:1
十011□−C−)■「□+C++Z−C±「 (重
量比)COOC211s COCooH6X
IO3(ランダム共重合体) 此t]澹W; 実施例1において、樹脂(A−1)6gの代わりに下記
に示す樹脂〔R−2〕6gを用いる以外は、実施例]と
同様の操作で、電子写真感光材料を作製した。
量比)COOC211s COCooH6X
IO3(ランダム共重合体) 此t]澹W; 実施例1において、樹脂(A−1)6gの代わりに下記
に示す樹脂〔R−2〕6gを用いる以外は、実施例]と
同様の操作で、電子写真感光材料を作製した。
(R−2)
C1l。
1100cmCI+。−5−(CI+ 2−C)−−C
OOC2115 Mw 8.0X103 これらの感光材料について、静電特性、撮像性及び環境
条件(20°C165%R11)及び(30°C180
%RH)とした時の撮像性を調べた。
OOC2115 Mw 8.0X103 これらの感光材料について、静電特性、撮像性及び環境
条件(20°C165%R11)及び(30°C180
%RH)とした時の撮像性を調べた。
以上の結果をまとめて表−3に示す。
(以下余白)
■
■
表−3に示した評価項目の実施の態様は以下の通りであ
る。
る。
注1)静電特性:
温度20°C165%R11の暗室中で、各感光材料に
ペーパーアナライザー(川口電機Q菊製ペーパーアナラ
イザー5P−428型)を用いて一6kvで20秒間コ
ロナ放電させた後、10秒間放置し、この時の表面電位
V、。を測定した。次いでそのまま暗中で90秒間静置
させた後の電位V100を測定し、90秒間暗減衰させ
た後の電位の保持性、即ち、暗減衰保持率CDIIR(
り )を(V+oo/Lo) X100(%)で求めた
。
ペーパーアナライザー(川口電機Q菊製ペーパーアナラ
イザー5P−428型)を用いて一6kvで20秒間コ
ロナ放電させた後、10秒間放置し、この時の表面電位
V、。を測定した。次いでそのまま暗中で90秒間静置
させた後の電位V100を測定し、90秒間暗減衰させ
た後の電位の保持性、即ち、暗減衰保持率CDIIR(
り )を(V+oo/Lo) X100(%)で求めた
。
又コロナ放電により光導電層表面を一400■に帯電さ
せた後、該光導電層表面をガリウム−アルミニウムーヒ
素半導体レーザー(発振波長780nm)光で照射し、
表面電位(V+O)が1/10に減衰するまでの時間を
求め、これから露光tE+z+o(erg/CA)を算
出する。又、同様に表面電位(V+。)が1 /100
に減衰するまでの時間を求め、これから露光量E1z+
oo(erg/cJ)を算出する。測定時の環境条件は
、20°C65%R11(1)と30°C980%R1
1(II)で行なった。
せた後、該光導電層表面をガリウム−アルミニウムーヒ
素半導体レーザー(発振波長780nm)光で照射し、
表面電位(V+O)が1/10に減衰するまでの時間を
求め、これから露光tE+z+o(erg/CA)を算
出する。又、同様に表面電位(V+。)が1 /100
に減衰するまでの時間を求め、これから露光量E1z+
oo(erg/cJ)を算出する。測定時の環境条件は
、20°C65%R11(1)と30°C980%R1
1(II)で行なった。
注2)撮像性:
各感光材料を以下の環境条件で1昼夜放置した後、各感
光材料を一6kVで帯電し、光源として2.8m−出力
のガリウム−アルミニウム−ヒ素、半導体レーザー(発
振波長780nm )を用いて、感光材料表面」−で5
0erg/cJの照射量下、ピッチ25μl及びスキャ
ニング速度300m/seeのスピード露光後液体現像
剤として、ELP−T (富士写真フィルム■製)を用
いて現像し、定着することで得られた複写画像(カブリ
、画像の画質)を目視評価した。
光材料を一6kVで帯電し、光源として2.8m−出力
のガリウム−アルミニウム−ヒ素、半導体レーザー(発
振波長780nm )を用いて、感光材料表面」−で5
0erg/cJの照射量下、ピッチ25μl及びスキャ
ニング速度300m/seeのスピード露光後液体現像
剤として、ELP−T (富士写真フィルム■製)を用
いて現像し、定着することで得られた複写画像(カブリ
、画像の画質)を目視評価した。
撮像時の環境条件は20°C65%1711 (1)と
30°C80%R11(II)で実施した。
30°C80%R11(II)で実施した。
表−3に示す様に、本発明の感光材料は、静電特性が良
好で、実際の複写画像も地力ブリがなく複写画質も鮮明
であった。一方比較例A、Bは、帯電電位(V+O)の
低下あるいは、光感度(IEI/+o及びE+/+Oo
)の低下が生し、実際の複写画像でも画像の濃度(DH
)の低下、それによる細線・文字等のカスレ、地力ブリ
の発生が生してしまった。
好で、実際の複写画像も地力ブリがなく複写画質も鮮明
であった。一方比較例A、Bは、帯電電位(V+O)の
低下あるいは、光感度(IEI/+o及びE+/+Oo
)の低下が生し、実際の複写画像でも画像の濃度(DH
)の低下、それによる細線・文字等のカスレ、地力ブリ
の発生が生してしまった。
特に、本発明の感光体と比較例の感光体とてはE+z+
oo値が大きく異なる。E、7.。。値は、実際の撮像
性において、露光後、非画像部(既に露光された部位)
にどれだけの電位が残っているかを示すものであり、こ
の値が小さい程現像後の非画像部の地汚れが生じなくな
る事を示す。
oo値が大きく異なる。E、7.。。値は、実際の撮像
性において、露光後、非画像部(既に露光された部位)
にどれだけの電位が残っているかを示すものであり、こ
の値が小さい程現像後の非画像部の地汚れが生じなくな
る事を示す。
具体的には一10V以下の残留電位にすることが必要と
なり、即ち実際には■、l−10V以下とするために、
どれだけ露光量が必要となるかということで、半導体レ
ーザー光によるスギャンニング露光方式では、小さい露
光量で■8を一10V以下にするごとは、複写機の光学
系の設計」二(装置のコスト、光学系光路の精度等)非
常に重要なことである。
なり、即ち実際には■、l−10V以下とするために、
どれだけ露光量が必要となるかということで、半導体レ
ーザー光によるスギャンニング露光方式では、小さい露
光量で■8を一10V以下にするごとは、複写機の光学
系の設計」二(装置のコスト、光学系光路の精度等)非
常に重要なことである。
以」二のことより、本発明の樹脂を用いた場合にのみ静
電特性を満足する電子写真感光体が得られる。
電特性を満足する電子写真感光体が得られる。
更に、本発明の樹脂を用いた場合においても、特定の置
換基を有するメタクリレート成分を含有する樹脂〔A〕
から成る実施例2の方が実施例1に比べてより静電特性
が向上し、特に半導体レザー光スキヤニング露光方式の
感光体システムにイ憂位になることが明らかとなった。
換基を有するメタクリレート成分を含有する樹脂〔A〕
から成る実施例2の方が実施例1に比べてより静電特性
が向上し、特に半導体レザー光スキヤニング露光方式の
感光体システムにイ憂位になることが明らかとなった。
実施例3
樹脂(A −19] 5.4g (固形分量として)、
下記構造の樹脂CB −2) 30.6g 、酸化亜鉛
200g、下記構造のシアニン色素(II ’J O,
018g及びトルエン300gの混合物をボールミル中
で4時間分散した。
下記構造の樹脂CB −2) 30.6g 、酸化亜鉛
200g、下記構造のシアニン色素(II ’J O,
018g及びトルエン300gの混合物をボールミル中
で4時間分散した。
更に、これに1,3−ギシリレンジイソシアナート2.
5gを加えてボールミル中5分間分散した。これを導電
処理した紙に、乾燥付着量が22g/ nTとなる様に
、ワイヤーバーで塗布し、]00°Cで30秒間乾燥し
た。ついで120°Cで1.5時間加熱した。
5gを加えてボールミル中5分間分散した。これを導電
処理した紙に、乾燥付着量が22g/ nTとなる様に
、ワイヤーバーで塗布し、]00°Cで30秒間乾燥し
た。ついで120°Cで1.5時間加熱した。
ついで暗所で20°C165%R11の条件下で24時
間放置することにより、電子写真感光材料を作製した。
間放置することにより、電子写真感光材料を作製した。
樹脂(B−2)
Mw 3.8 XIO’
(重量比)
シアニン色素〔■]
表
C4119CdL
この感光材料の皮膜性(表面の平滑度)、静電特性、撮
像性、印刷性及び環境条件を30’C,80%R1+と
した時の静電特性、撮像性及び印刷性を調べた。
像性、印刷性及び環境条件を30’C,80%R1+と
した時の静電特性、撮像性及び印刷性を調べた。
結果を表−4に示す。
(以下余白)
表−4に示した評価項目の実施の態様は以下の通りであ
る。
る。
注3)表面層の平滑性:
得られた感光材料は、ヘンク平滑度試験機(熊谷理工■
製)を用い、空気容量1ccの条件にて、その平滑度(
sec/cc)を測定した。
製)を用い、空気容量1ccの条件にて、その平滑度(
sec/cc)を測定した。
注4)光導電層の機械的強度:
得られた感光材料をヘイトン−14型表面製試験祠(新
来化学■製)を用いて児荷重70g/cm2/のちので
エメリー紙(11000)で500回繰り返し探り摩耗
粉を取り除き感光層の重量減少から残膜率(χ)を求め
機械的強度とした。
来化学■製)を用いて児荷重70g/cm2/のちので
エメリー紙(11000)で500回繰り返し探り摩耗
粉を取り除き感光層の重量減少から残膜率(χ)を求め
機械的強度とした。
注5)水との接触角:
各感光材料を不感脂化処理液EPL−EX (富士写真
フィルム■製)を蒸留水で2倍に希釈した溶液を用いて
、エツチングプロセッサーに1回通して光導電層面を不
感脂化処理した後、これに蒸留水2Alの水滴を乗せ、
形成された水との接触角をゴニオメータ−で測定する。
フィルム■製)を蒸留水で2倍に希釈した溶液を用いて
、エツチングプロセッサーに1回通して光導電層面を不
感脂化処理した後、これに蒸留水2Alの水滴を乗せ、
形成された水との接触角をゴニオメータ−で測定する。
注6)耐刷性:
各感光材料を、前記性2)の撮像性と同条件にして、製
版して、トナー画像を形成し、上記性5)と同条件で不
感脂化処理し、これをオフセットマスターとして、オフ
セット印刷機(桜井製作所■オリバー52型)にかけ、
印刷物の非画像部の地汚れ及び画像部の画質に問題が生
しないで印刷できる枚数を示す(印刷枚数が多い程、耐
剛性が良好なことを表わす)。
版して、トナー画像を形成し、上記性5)と同条件で不
感脂化処理し、これをオフセットマスターとして、オフ
セット印刷機(桜井製作所■オリバー52型)にかけ、
印刷物の非画像部の地汚れ及び画像部の画質に問題が生
しないで印刷できる枚数を示す(印刷枚数が多い程、耐
剛性が良好なことを表わす)。
表−4に示す様に、本発明の感光材料は、光導電層の平
滑性膜の機械的強度及び静電特性が良好で、実際の複写
画像も地力ブリがなく複写画質も鮮明であった。このこ
とは光導電体と結着樹脂が充分に吸着し、且つ、粒子表
面を被覆していることによるものと推定される。同様の
理由で、オフセントマスター原版として用いた場合でも
不感脂化処理液による不感脂化処理が充分に進行し、非
画像部の水との接触角が10度以下と小さく、充分に親
水化されていることが判る。実際に印刷して印刷物の地
汚れを観察しても地汚れは全く認められず、鮮明な画質
の印刷物が一万枚得られた。
滑性膜の機械的強度及び静電特性が良好で、実際の複写
画像も地力ブリがなく複写画質も鮮明であった。このこ
とは光導電体と結着樹脂が充分に吸着し、且つ、粒子表
面を被覆していることによるものと推定される。同様の
理由で、オフセントマスター原版として用いた場合でも
不感脂化処理液による不感脂化処理が充分に進行し、非
画像部の水との接触角が10度以下と小さく、充分に親
水化されていることが判る。実際に印刷して印刷物の地
汚れを観察しても地汚れは全く認められず、鮮明な画質
の印刷物が一万枚得られた。
以上の事は、樹脂(A)の作用を疎外することなく、樹
脂〔B〕あるいは樹脂CB)と架橋剤の働きによって、
膜の強度を著しく向上させていることを示すものである
。
脂〔B〕あるいは樹脂CB)と架橋剤の働きによって、
膜の強度を著しく向上させていることを示すものである
。
実施例4〜11
実施例3において、樹脂[A−In2.4g、樹脂CB
−2’J 30.6g及び架橋剤としての1,3−キ
シリレンジイソシアナ−1・2.5gの代わりに下記表
5の各樹脂及び架橋剤を各々用い、又、シアン色素CB
)の代わりに下記構造のシアニン色素〔D〕を0.02
0g用いた他は、実施例3と同様にし゛CC悪感光材料
作製した。
−2’J 30.6g及び架橋剤としての1,3−キ
シリレンジイソシアナ−1・2.5gの代わりに下記表
5の各樹脂及び架橋剤を各々用い、又、シアン色素CB
)の代わりに下記構造のシアニン色素〔D〕を0.02
0g用いた他は、実施例3と同様にし゛CC悪感光材料
作製した。
シアニン色素CD)
C2Hs C2II 5実施例
3と同様にして、各特性を測定した。表5には(30°
C580%RH)条件下の静電特性を示した。
3と同様にして、各特性を測定した。表5には(30°
C580%RH)条件下の静電特性を示した。
本発明の各感光材料は帯電性、暗電荷保持率、光感度に
優れ、実際の複写画像を高温高湿(30”C180%R
11)の過酷な条件においても地力ブリの発生や細線飛
びの発生等のない鮮明な画像を与えた。
優れ、実際の複写画像を高温高湿(30”C180%R
11)の過酷な条件においても地力ブリの発生や細線飛
びの発生等のない鮮明な画像を与えた。
オフセットマスター原版として印刷した所、いずれも、
地汚れのない、鮮明な画像の印刷物を一万枚以上印刷で
きた。
地汚れのない、鮮明な画像の印刷物を一万枚以上印刷で
きた。
実施例12〜I5
下記の表−6樹脂(A)6g、下記表−6の樹脂(B)
X群18g、酸化亜鉛200g、前記ンアニン色素(A
)0.018g、及びトルエン300gの混合物をボー
ルミル中で3時間分散した。
X群18g、酸化亜鉛200g、前記ンアニン色素(A
)0.018g、及びトルエン300gの混合物をボー
ルミル中で3時間分散した。
これに下記表−6の樹脂(B)Y群を12g加え、ボー
ルミル中10分間更に分散した。これを導電処理した紙
に、乾燥付着量が20g/m2となる様にワイヤーパー
で塗布し、100°Cで15秒間加熱した後、120°
Cで2時間更に加熱した。次いで、20°C165%R
Hの条件下で24時間放置することにより電子写真感光
材料を作製した。
ルミル中10分間更に分散した。これを導電処理した紙
に、乾燥付着量が20g/m2となる様にワイヤーパー
で塗布し、100°Cで15秒間加熱した後、120°
Cで2時間更に加熱した。次いで、20°C165%R
Hの条件下で24時間放置することにより電子写真感光
材料を作製した。
本発明の各感光材料はいずれも帯電性、暗電荷保持率、
光感度に優れ、実際の複写画像も高温高湿(30°C8
80%RH)の過酷な条件においても、地力ブリの発生
のない鮮明な画像を得た。
光感度に優れ、実際の複写画像も高温高湿(30°C8
80%RH)の過酷な条件においても、地力ブリの発生
のない鮮明な画像を得た。
更に、これをオフセントマスター原版として用いて印刷
した所、一方杖でも鮮明な画質の印刷物を得た。
した所、一方杖でも鮮明な画質の印刷物を得た。
実施例J6
樹脂[A−15] 6 g、下記樹脂CB −15)
18g、酸化亜鉛200g、ローズヘンガルを0.50
g、テトラブロムフェノールブルーを0.25 g 、
ウラニンをo、3og及びトルエンを240g混合し、
ボールミル中で4時間分散した。これに下記の樹脂(B
−15)12gを加え、5分間分散した。これを導電処
理した紙に、乾燥付着量が20 g 7m2となる様に
ワイヤーバーで塗布し、110°Cで30秒間加熱した
後、120゛Cで2時間加熱した。次いで、20℃、6
5%R11の条件下で24時間放置することにより電子
写真感光材料を作製した。
18g、酸化亜鉛200g、ローズヘンガルを0.50
g、テトラブロムフェノールブルーを0.25 g 、
ウラニンをo、3og及びトルエンを240g混合し、
ボールミル中で4時間分散した。これに下記の樹脂(B
−15)12gを加え、5分間分散した。これを導電処
理した紙に、乾燥付着量が20 g 7m2となる様に
ワイヤーバーで塗布し、110°Cで30秒間加熱した
後、120゛Cで2時間加熱した。次いで、20℃、6
5%R11の条件下で24時間放置することにより電子
写真感光材料を作製した。
樹月旨 (B−15)
C1h CIL。
+CHz−C−hT−fC1lz C−h−COOC
H2C6H5C00(C112)20CO(CI+2)
2COOIIMw 3.OXIO’ (重量組成比)
実施例1と同様にして、各特性を測定したところ以下の
結果が得られた。
H2C6H5C00(C112)20CO(CI+2)
2COOIIMw 3.OXIO’ (重量組成比)
実施例1と同様にして、各特性を測定したところ以下の
結果が得られた。
光導電層の平滑性: 430(cc/5ec)光導電
層の強度 :97% 撮像性;(20°C165χR11)及び(30’C,
80χR1+) イずれの条件でも、良好な複写画像を
得た。
層の強度 :97% 撮像性;(20°C165χR11)及び(30’C,
80χR1+) イずれの条件でも、良好な複写画像を
得た。
耐刷性:1万枚まで良好な印刷画像を得た。
以上の様に、本発明の感光材料は優れた電子写真特性と
高耐刷性を得ることができた。
高耐刷性を得ることができた。
但し、静電特性及び撮像性は以下の通りに行なった。
静電特性:
温度20゛C165%R11の暗室中で、各感光材料に
ペバーアナライサー(川口電機(株)製ペーパーアナラ
イザー5P−428型)を用いて6kVで20秒間コロ
ナ放電をさせた後、10秒間放置し、この時の表面電位
VIGを測定した。次いでそのまま暗中で60秒間静置
した後の電位V70を測定し、60秒間暗減衰させた後
の電位の保持性、即ち、暗減衰保持率(DRR(χ)]
を、(V7o/V+o) X100(χ)で求めた。
ペバーアナライサー(川口電機(株)製ペーパーアナラ
イザー5P−428型)を用いて6kVで20秒間コロ
ナ放電をさせた後、10秒間放置し、この時の表面電位
VIGを測定した。次いでそのまま暗中で60秒間静置
した後の電位V70を測定し、60秒間暗減衰させた後
の電位の保持性、即ち、暗減衰保持率(DRR(χ)]
を、(V7o/V+o) X100(χ)で求めた。
又、コロナ放電により光導電層表面を一400Vに帯電
させた後、該光導電層表面を照射2,0ルツクスの可視
光で照射し、表面電位(V+O)が1710に減衰する
までの時間を求め、これから露光量El/In(ルンク
ス秒)を算出する。
させた後、該光導電層表面を照射2,0ルツクスの可視
光で照射し、表面電位(V+O)が1710に減衰する
までの時間を求め、これから露光量El/In(ルンク
ス秒)を算出する。
撮像性:
感光材料の製版は、全自動製版機ELP404V(富士
写真フィルム(株)製)でE L P−Tをトナーとし
て用いて、トナー画像を形成した。
写真フィルム(株)製)でE L P−Tをトナーとし
て用いて、トナー画像を形成した。
実施例17及び18
樹脂(A−3)及び[A−21)各7g、下記表7の樹
脂[I3]各29g、酸化亜鉛200g、ウラニンo、
o2g、ローズヘンガル0.04g、ブロムフェノール
ブルー0.03 g及びトルエン300gの混合物を、
ボールミル中で4時間分散して感光層形成物を調整し、
これを導電処理した紙に、乾燥付着量が25g /m2
となる様にワイヤーバーで塗布し、] 10 ’Cで1
分間乾燥した。次に、高圧水銀灯で3分間露光した後、
次いで暗所で20°C165%R1+の条件下で24時
間放置することにより各電子写真感光体を作製した。得
られた感光体の特性を表−8に示した。
脂[I3]各29g、酸化亜鉛200g、ウラニンo、
o2g、ローズヘンガル0.04g、ブロムフェノール
ブルー0.03 g及びトルエン300gの混合物を、
ボールミル中で4時間分散して感光層形成物を調整し、
これを導電処理した紙に、乾燥付着量が25g /m2
となる様にワイヤーバーで塗布し、] 10 ’Cで1
分間乾燥した。次に、高圧水銀灯で3分間露光した後、
次いで暗所で20°C165%R1+の条件下で24時
間放置することにより各電子写真感光体を作製した。得
られた感光体の特性を表−8に示した。
(以下余白)
本発明の感光材料は、いずれも帯電性、暗電荷保持率、
光感度に優れ、実際の複写画像も高温・高湿の(30°
C−80%RH)の過酷な条件においても、地力ブリの
発生のない、鮮明な画像を与えた。
光感度に優れ、実際の複写画像も高温・高湿の(30°
C−80%RH)の過酷な条件においても、地力ブリの
発生のない、鮮明な画像を与えた。
更に、これをオフセントマスターの原版として用いて、
印刷した所、8500〜9000枚でも鮮明な画質の印
刷物を得た。
印刷した所、8500〜9000枚でも鮮明な画質の印
刷物を得た。
実施例19〜27
結着樹脂として、下記表−9に記した樹脂〔A〕5.4
g及び樹脂(B ) 30.6g 、酸化亜鉛200g
、ローズヘンガル0.05g 、テトラブロムフェノー
ルブルー0.03g、ウラニン0.02g及びトルエン
240gの?捏合物をボールミル中で4時間分散した。
g及び樹脂(B ) 30.6g 、酸化亜鉛200g
、ローズヘンガル0.05g 、テトラブロムフェノー
ルブルー0.03g、ウラニン0.02g及びトルエン
240gの?捏合物をボールミル中で4時間分散した。
この分散物に下記表−9の架橋剤を所定量添加し、更に
、ボールミル中で5分間分散した。これを導電処理した
紙に、乾燥付着量20 g /mi!となる様にワイヤ
バーで塗布し110’cで30秒間加熱し、後、120
°Cで2時間加熱した。次いで20°C165%RHの
条件下で24時間放置することにより電子写真感光材料
を作製した。
、ボールミル中で5分間分散した。これを導電処理した
紙に、乾燥付着量20 g /mi!となる様にワイヤ
バーで塗布し110’cで30秒間加熱し、後、120
°Cで2時間加熱した。次いで20°C165%RHの
条件下で24時間放置することにより電子写真感光材料
を作製した。
本発明の感光材料は、いずれも帯電性、暗電荷保持率、
光感度に優れ、実際の複写画像も高温・高湿の(30°
C−80%R1+)の過酷な条件においても、地力ブリ
の発生のない、鮮明な画像を与えた。
光感度に優れ、実際の複写画像も高温・高湿の(30°
C−80%R1+)の過酷な条件においても、地力ブリ
の発生のない、鮮明な画像を与えた。
更に、これをオフセットマスターの原版として用いて印
刷した所、8000枚の所でも鮮明な画質の印刷物を得
た。
刷した所、8000枚の所でも鮮明な画質の印刷物を得
た。
(発明の効果)
本発明によれば、静電特性(とくに厳しい条件下での静
電特性)に優れた、鮮明で良質な画像を有する電子写真
感光体を得ることができる。特に半導体レーザー光を用
いたスキャニング露光方式に有効である。
電特性)に優れた、鮮明で良質な画像を有する電子写真
感光体を得ることができる。特に半導体レーザー光を用
いたスキャニング露光方式に有効である。
また、とくに樹脂[A]において、式(Ha)及び/又
は(nb)で示される単量体から成る重合成分をマクロ
モノマー(M)とともに用いることにより更に電子写真
特性が向上する。
は(nb)で示される単量体から成る重合成分をマクロ
モノマー(M)とともに用いることにより更に電子写真
特性が向上する。
更に、熱及び/又は光硬化性官能基を本発明の樹脂に含
有させることにより得られる電子写真感光体の機械的強
度が増大する。
有させることにより得られる電子写真感光体の機械的強
度が増大する。
更に、本発明の樹脂を熱及び/又は光硬化性樹脂、及び
/又は架橋剤と併用することによっても、電子写真感光
体の機械的強度が増大する。
/又は架橋剤と併用することによっても、電子写真感光
体の機械的強度が増大する。
Claims (3)
- (1)無機光導電材料及び結着樹脂を少なくとも含有す
る光導電層を有する電子写真感光体において、該結着樹
脂が下記樹脂〔A〕の少なくとも1種と熱及び/又は光
硬化性樹脂〔B〕及び架橋剤のうちの少なくともいずれ
か1つとを含有して成ることを特徴とする電子写真感光
体。 樹脂〔A〕; −PO_3H_2基、−COOH基、−SO_3H基、
フェノール性OH基、▲数式、化学式、表等があります
▼基{Rは炭化水素基又は−OR′基(R′は炭化水素
基を示す)を示す}及び環状酸無水物含有基から選択さ
れる少なくとも1つの酸性基を含有する重合体成分を少
なくとも1種含有するAブロックと、下記一般式( I
)で示される重合体成分を少なくとも含有するBブロッ
クとから構成されるA・Bブロック共重合体のBブロッ
クの重合体主鎖の末端に重合性二重結合基を結合して成
る一官能性マクロモノマー(M)を少なくとも1種共重
合成分として含有する重量平均分子量1×10^3〜2
×10^4のグラフト型共重合体。 一般式( I ) ▲数式、化学式、表等があります▼ 〔式( I )中、a_1及びa_2はそれぞれ水素原子
、ハロゲン原子、シアノ基又は炭化水素基を表わす。 V_1は−COO−、−OCO−、▲数式、化学式、表
等があります▼、▲数式、化学式、表等があります▼(
l_1、l_2は1〜3の整数を 表わす)、−O−、−SO_2−、−CO−、▲数式、
化学式、表等があります▼、▲数式、化学式、表等があ
ります▼、−CONHCOO−、−CONHCONH−
又は▲数式、化学式、表等があります▼を表わす(ここ
でZ_1は水素原子又は炭化水素基を表わす)。 R_1は、炭化水素基を表わす。但しV_1が▲数式、
化学式、表等があります▼を表わす場合、R_1は水素
原子又は炭化水素基を表わす。〕 - (2)該樹脂〔A〕が、更に熱及び/又は光硬化性官能
基を含有する繰り返し単位を重合体成分として1〜30
重量%含有する事を特徴とする請求項(1)に記載の電
子写真感光体。 - (3)該樹脂〔A〕において、該マクロモノマー(M)
とともに、下記一般式(IIa)及び一般式(IIb)で示
される単量体のうちの少なくとも1種を共重合成分とし
て30重量%以上含有する事を特徴とする請求項(1)
又は(2)記載の電子写真感光体。 一般式(IIa) ▲数式、化学式、表等があります▼ 一般式(IIb) ▲数式、化学式、表等があります▼ 〔式中、X_1及びX_2は互いに独立に、それぞれ水
素原子、炭素数1〜10の炭化水素基、塩素原子、臭素
原子、−COZ_3又は−COOZ_3(Z_3は各々
炭素数1〜10の炭化水素基を示す)を表わす。但し、
X_1とX_2がともに水素原子を表わすことはない。 L_1及びL_2はそれぞれ−COO−とベンゼン環を
結合する、単結合又は連結原子数1〜4個の連結基を表
わす。〕
Priority Applications (4)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP15172590A JPH0444047A (ja) | 1990-06-12 | 1990-06-12 | 電子写真感光体 |
US07/642,955 US5089368A (en) | 1990-01-19 | 1991-01-18 | Electrophotographic light-sensitive material |
EP91100595A EP0439072B1 (en) | 1990-01-19 | 1991-01-18 | Electrophotographic light-sensitive material |
DE69118417T DE69118417T2 (de) | 1990-01-19 | 1991-01-18 | Lichtempfindliches elektrofotografisches Material |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP15172590A JPH0444047A (ja) | 1990-06-12 | 1990-06-12 | 電子写真感光体 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH0444047A true JPH0444047A (ja) | 1992-02-13 |
Family
ID=15524925
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP15172590A Pending JPH0444047A (ja) | 1990-01-19 | 1990-06-12 | 電子写真感光体 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH0444047A (ja) |
-
1990
- 1990-06-12 JP JP15172590A patent/JPH0444047A/ja active Pending
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