JPH01274137A - Heater unit structure for film processing device - Google Patents
Heater unit structure for film processing deviceInfo
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Landscapes
- Photographic Processing Devices Using Wet Methods (AREA)
Abstract
Description
【発明の詳細な説明】
〈産業上の利用分骨〉
本ＮＩＭＩ；ｔ、マイクロフィルム等のフィルムの現像
処理を自動的に行うフィルムの処理装置において処理液
槽内に貯溜された処理液の加温等を行うヒータユニット
の構造の関し、特に処理槽の出し入れ時の操作性を向上
したものである。Detailed Description of the Invention <Industrial Application> This NIMI; t is a method for adding processing liquid stored in a processing liquid tank in a film processing device that automatically develops films such as microfilm. Regarding the structure of the heater unit that performs heating, etc., the operability especially when loading and unloading the processing tank is improved.
〈従来の技術〉
大量の文書を記録保管する場合、一般にはマイクロフィ
ルム等で文書のマイクロ化を行い、必要に応じてマイク
ロフィルムに記録された文書の拡大投影をしたり、或い
はこれを拡大複写している。<Prior art> When storing a large amount of documents, it is generally necessary to micronize the documents using microfilm, etc., and, if necessary, enlarge and project the documents recorded on the microfilm, or enlarge and copy the documents. are doing.
このような一連のマイクロフィルムシステムにおいては
、カメラにて撮影されたマイクロフィルムの現像処理、
定着処理、水洗処理。In such a series of microfilm systems, processing of microfilm taken with a camera,
Fixing treatment, washing treatment.
乾燥処理を自動的に行うフィルム処理装置が開発されて
いる。この種のフィルム処理装置には、現像液、定着液
、洗浄液等の処理液を貯溜する処理液槽が具えられてい
るが、この処理液は一般に２０℃程度に保つ必要がある
ので、通常、温度調整のためのヒータを有するヒータユ
ニットが設けられている。この踵のヒータユニットは、
処理液中に挿入されて該処理液を加温するヒータの他、
液量や液温を測定するためのセンサ等を具えるものであ
る。Film processing equipment that automatically performs drying processing has been developed. This type of film processing apparatus is equipped with a processing liquid tank that stores processing liquids such as developer, fixer, and cleaning liquid. A heater unit having a heater for temperature regulation is provided. This heel heater unit is
In addition to a heater inserted into the processing liquid to heat the processing liquid,
It is equipped with sensors, etc. for measuring the liquid amount and liquid temperature.
〈発明が解決しようとする課題〉
前述したようなフィルム処理装置においては、当然、処
ＦＪ液槽内の処理液の補充・交換等を行う必要があるが
、この際に、処理液槽内に挿入されているヒータ等を例
えば取り外す等の煩雑な作業が必要となる。<Problems to be Solved by the Invention> In the film processing apparatus as described above, it is naturally necessary to replenish and replace the processing liquid in the FJ liquid tank, but at this time, it is necessary to replenish and replace the processing liquid in the processing liquid tank. This requires complicated work such as removing the inserted heater or the like.
一方、従来のこの種のフィルム処理装置は、大型なもの
であるので、例えば出張先に携帯して現地にて現像処理
ができろような小型のフィルム処理装置の開発が望まれ
ているが、このような小型のフィルム処理装置の場合に
は、当然処理液槽も小型化される。したがって、貯溜さ
れろ処理液量が少な（なるので補充・交換等を頻繁に行
う必要があり、ヒータユニットの取扱いの問題がさらに
重大になる。On the other hand, since conventional film processing equipment of this type is large, there is a desire to develop a small film processing equipment that can be carried on business trips and processed on-site. In the case of such a small-sized film processing apparatus, the processing liquid tank is naturally also reduced in size. As a result, the amount of stored treatment liquid is small, requiring frequent replenishment, replacement, etc., and the problem of handling the heater unit becomes even more serious.
又、このように処理液槽が小型化されると相対的処理速
度が大となるので、処理液の温度を従来より高く、例え
ば３０〜３５℃程度に保つ必要があると考えられるので
、ヒータユニットの設備は必須となる。Also, as the processing liquid tank becomes smaller in this way, the relative processing speed increases, so it is considered necessary to maintain the temperature of the processing liquid higher than before, for example at about 30 to 35°C, so the heater Unit equipment is required.
本発明は、このような事情に鑑み、処理液槽の出し入れ
の際のヒータユニットの取扱いを容易にしたフィルム処
理装置のヒータユニット構造を提供することを目的とす
る。SUMMARY OF THE INVENTION In view of these circumstances, it is an object of the present invention to provide a heater unit structure for a film processing apparatus that facilitates handling of the heater unit when loading and unloading a processing liquid tank.
く課題を解決するための手段〉
前記目的を達成する本発明にかかるフィルム処理装置の
ヒータユニット構造は、本体に出し入れ自在に保持され
る処理液槽内に貯溜されてフィルムの現像処理等を行う
処理液を加温するヒータを該処理液内に挿入するよう保
持してなるフィルム処理装置のヒータユニット構造にお
いて、上記本体に回動自在に設けられたホルダに上記ヒ
ータが保持されてなるとともに、該ヒータの退避及び挿
入方向への当該ホルダの回動が、上記処理液槽の取出し
及び挿入、又は上記処理液槽内の処理液中に挿入されて
該処理液中に挿通されろフィルムを案内するローラの取
出し及び挿入、又は上記処理液槽を出し入れする開口部
の蓋の開閉に連動することを特徴とする。Means for Solving the Problems> A heater unit structure of a film processing apparatus according to the present invention that achieves the above object is a processing liquid stored in a processing liquid tank that is held in a main body so as to be freely put in and taken out, and performs film development processing, etc. In a heater unit structure of a film processing apparatus that holds a heater for heating a processing liquid so as to be inserted into the processing liquid, the heater is held in a holder rotatably provided on the main body, and The retraction of the heater and the rotation of the holder in the insertion direction guide the removal and insertion of the processing liquid tank, or the film that is inserted into the processing liquid in the processing liquid tank and inserted into the processing liquid. It is characterized in that it is interlocked with the removal and insertion of the roller, or with the opening and closing of the lid of the opening through which the processing liquid tank is taken in and taken out.
く作 用〉
ヒータが保持されているホルダは処理液槽の取出し及び
挿入、あるいはフィルム案内ローラの取出し及び挿入、
あるいは蓋の開閉に連動して、ヒータの退避及び挿入方
向に回動され、処理液槽の取出し及び挿入の際にヒータ
を予め動かす必要はない。Function: The holder holding the heater can be used to take out and insert the processing liquid tank, take out and insert the film guide roller,
Alternatively, the heater is rotated in the retracting and inserting directions in conjunction with opening and closing of the lid, and there is no need to move the heater in advance when taking out and inserting the processing liquid tank.
く実 施 例〉
本発明によるフィルム処理装置の一実施例の外観を表す
第１図及びその内部構造を表す第２図及びそのＩ−１矢
視断面形状を表す第３図に示すように、携行用のキャリ
ングハンドル１１が回動自在に枢着されたケーシング１
２の前面部には、前蓋１３が蝶番１４を介して前後に開
閉自在に枢支されており、更にとのケーシング１２には
、とのケーシング１２内を三つに仕切る二つの仕切りフ
レーム１５゜１６が固設されている。第一の仕切りフレ
ーム１５には供給リール１７を収納する遮光ケース１８
が固定され、この遮光ケース１８内には供給リール１７
を転勤自在に保持する一対のリール受は四−ラ１９が回
転自在に取付けられている。なお、この供給リール１７
は露光済みのフィルム２０が巻回収納されたものである
。又、仕切りフレーム１５の上端部には固定ガイドロー
ラ２１が回転自在に取付けられ、この固定ガイドローラ
２１と供給リール１７との間には、露光済みのフィルム
２゜の有無を検知する一対の光電式のフィルムセンサ２
２が配設されている。Embodiment As shown in FIG. 1 showing the appearance of an embodiment of the film processing apparatus according to the present invention, FIG. 2 showing its internal structure, and FIG. 3 showing its cross-sectional shape as viewed from the I-1 arrow, A casing 1 to which a carrying handle 11 for carrying is pivotally attached.
A front lid 13 is pivotally supported on the front part of the casing 12 via a hinge 14 so as to be freely openable and closable back and forth, and the casing 12 of the casing 12 has two partition frames 15 that partition the inside of the casing 12 into three parts.゜16 is fixedly installed. The first partition frame 15 has a light-shielding case 18 that houses the supply reel 17.
is fixed, and a supply reel 17 is installed inside this light-shielding case 18.
A pair of reel holders that hold the reel reel so as to be removable are rotatably attached to a four-ra 19. Note that this supply reel 17
The exposed film 20 is wound and stored. Further, a fixed guide roller 21 is rotatably attached to the upper end of the partition frame 15, and between this fixed guide roller 21 and the supply reel 17, there is a pair of photoelectric sensors that detect the presence or absence of exposed film 2°. type film sensor 2
2 are arranged.
仕切りフレーム１５．１６の相互に対向する側には、左
右一対の受は皿案内ローラ２３が前後二組それぞれ回転
自在に取付けられており、これら受は皿案内ローラ２３
上には処理液槽２４を着脱自在に載置するための受は皿
２５が前後に出し入れ自在に搭載されている。処理液槽
２４内は三つの仕切り壁２６によって四分割され、現像
液２７と定着ｗ！ＩＣ２８と第一の洗浄液２９と第二の
洗浄液３０とがそれぞれ貯溜されている。本実施例では
処理液槽２４の現像液２７及び洗浄液２９．３０が貯溜
された箇所に、後述するマグネチックスターラ３１ ａ
、 ３ ｌ ｂ、 ３１ ｃの作動に伴って連れ回りす
る攪拌羽根３２がそれぞれ回転自在に組付けられ、これ
ら現像液２７及び洗浄液２９．３０の攪拌を行うように
している。又、この処理液槽２４の上端部には、四つの
方向変換用ローラ３３を回転自在に支持する各支持軸３
４の前後両端部がそれぞれ保持されている。On the mutually opposing sides of the partition frame 15, 16, two pairs of right and left tray guide rollers 23 are rotatably attached to the front and rear, respectively.
A tray 25 is mounted on the top for removably placing the processing liquid tank 24, and can be moved forward and backward. The inside of the processing liquid tank 24 is divided into four parts by three partition walls 26, and contains a developer 27 and a fixing liquid w! The IC 28, a first cleaning liquid 29, and a second cleaning liquid 30 are each stored. In this embodiment, a magnetic stirrer 31a, which will be described later, is installed at a location in the processing liquid tank 24 where the developing solution 27 and cleaning solution 29.30 are stored.
, 3lb, 31c, and 31c are rotatably assembled, respectively, to agitate the developer 27 and the cleaning liquid 29,30. Further, at the upper end of this processing liquid tank 24, each support shaft 3 rotatably supports four direction changing rollers 33.
Both the front and rear ends of 4 are held.
処理液槽２４に近接して撹拌羽根３２とそれぞれ対向す
るように配置される三つの前記マグネチックスターラ３
１ａ〜３１ｃは、仕切りフレーム１５．１６間に配設さ
れたスターラ支持ビーム４３に支持軸４４を介してそれ
ぞれ回転自在に支持されている。そして、現像液２７用
のマグネチックスターラ３１ａの支持軸４４と第二の洗
浄ｗｌａｏ用のマグネチックスターラ３１ｃの支持軸４
４との間には、無端のチェノ４５が巻回され、更に現像
液２７用のマグネチックスターラ３１ｍの支持軸４４と
供給リール１７の遮光ケース１８の後ろ側に設けられた
攪拌用モータ４６の図示しないスピンドルとの間には、
無端の駆動チェノ４７が巻回されている。なお、マグネ
チックスターク３１ａ、３１ｂ間には、チｘ ン４５を
第一の洗浄液２９用のマグネチックスターラ３１ｂの支
持軸３４に噛み合わせるためのテンシアンスプロケット
４８が配設きれている。従って、攪拌用モータ４６を駆
動すると全てのマグネチックスターラ３１ａ〜３１ｃが
同方向に回転し、これに伴って処理液槽２４中に組込ま
れた攪拌羽根３２が磁力にょ抄連れ回りし、現像液２７
及び洗浄液２９．３０を攪拌する。The three magnetic stirrers 3 are arranged close to the treatment liquid tank 24 and facing the stirring blades 32, respectively.
1a to 31c are each rotatably supported by a stirrer support beam 43 disposed between the partition frames 15 and 16 via a support shaft 44. A support shaft 44 of the magnetic stirrer 31a for the developer 27 and a support shaft 4 of the magnetic stirrer 31c for the second cleaning wlao are provided.
An endless chino 45 is wound between the support shaft 44 of the magnetic stirrer 31m for the developer 27 and the stirring motor 46 provided on the back side of the light-shielding case 18 of the supply reel 17. Between the spindle (not shown),
An endless drive chino 47 is wound. A tensian sprocket 48 is disposed between the magnetic stirrers 31a and 31b for engaging the shaft 45 with the support shaft 34 of the magnetic stirrer 31b for the first cleaning liquid 29. Therefore, when the stirring motor 46 is driven, all the magnetic stirrers 31a to 31c rotate in the same direction, and as a result, the stirring blades 32 incorporated in the processing liquid tank 24 are rotated by the magnetic force, and the developer 27
and the washing liquid 29.30.
前記ケーシング１２の上端面には、上下に開閉自在の上
Ｍ４９が設けられている。この上蓋４９には仕切りフレ
ーム１５．１６を隔てて対向するようにケーシング１２
の上端部に固定された一対の案内ｒＲ５０に対し、摩擦
力を伴ってそれぞれ上下に摺動自在に貫通する一対の案
内棒５１が下向きに突成され、上蓋４９はこれら案内棒
５１によって上下に昇降自在となっている。上Ｍ４９の
前端側には、現像液２７及び定Ｍ液２８及び洗浄液２９
゜３０中にそれぞれ浸漬する処理用ローラ５２を下端部
に回転自在に取付けたローララック５３がラックブラケ
ット５４を介して下向きに突設されている。なお、ロー
ララック５３には処理ｗ！ＲＷＩ２４の仕切り壁２６と
の干渉を防止するため、上下方向の切欠５５を三箇所形
成している。又、前記ラックブラケット５４の左右両側
には、上蓋４９を下降させた際にこの上蓋４９をケーシ
ング１２に密着固定するためのロック爪５６をそれぞれ
有する一対のロック操作っまみ５７が回動自在に上蓋４
９に取付けられており、上蓋４９をケーシング１２に密
着固定しであるか否かは、ケーシング１２の上端部に組
付けられたタッチセンサ５８によって検出されるように
なっている。An upper M49 that can be opened and closed vertically is provided on the upper end surface of the casing 12. The upper lid 49 has a casing 12 facing it with the partition frame 15.16 in between.
A pair of guide rods 51 are projected downward and extend through the pair of guides rR50 fixed to the upper end portion so as to be slidable up and down with frictional force, and the upper lid 49 is moved up and down by these guide rods 51. It can be raised and lowered freely. A developing solution 27, a constant M solution 28, and a cleaning solution 29 are placed on the front end side of the upper M49.
A roller rack 53 having processing rollers 52 rotatably attached to its lower end, which are each immersed in the temperature 30° C., is provided to protrude downward through a rack bracket 54. In addition, the roller rack 53 is treated lol! In order to prevent the RWI 24 from interfering with the partition wall 26, three vertical notches 55 are formed. Further, on both left and right sides of the rack bracket 54, a pair of locking knobs 57 are rotatably provided, each having a locking claw 56 for tightly fixing the upper lid 49 to the casing 12 when the upper lid 49 is lowered. Top lid 4
A touch sensor 58 attached to the upper end of the casing 12 detects whether the upper cover 49 is tightly fixed to the casing 12 or not.
仕切りフレーム１６によって仕切られた処理液槽２４と
反対側のケーシング１２には、この部分のケーシング１
２内を前後に仕切る隔壁５９が固定されている。この隔
壁５９の後ろ側には、処理済みのフィルム２ｏを鞄燥さ
せろための送風ファン６０を具えたファンモータ６１が
配設され、このファンモータ６１の作動による送風ファ
ン６０がらの送風は、隔壁５９に形成された温風吹田口
６２からフィルム２０の表面と平行に吹き出される。こ
の温風吹田口６２と送風ファン６０との間には、フィル
ム２０の乾燥時間を短縮させるため、乾燥用ヒータ６３
が配設されている。The casing 1 of this part is located on the opposite side of the casing 12 from the processing liquid tank 24 partitioned by the partition frame 16.
A partition wall 59 that partitions the interior of the housing 2 into front and rear parts is fixed. A fan motor 61 equipped with a blower fan 60 for drying the processed film 2o is disposed behind the partition wall 59, and the operation of the fan motor 61 blows air from the partition wall. The hot air is blown out parallel to the surface of the film 20 from a hot air outlet 62 formed in the hole 59 . A drying heater 63 is installed between the warm air outlet 62 and the blower fan 60 in order to shorten the drying time of the film 20.
is installed.
第２図中、隔壁５９の右端上部には、フィルム搬送用モ
ータ６４に連結されたフィルム駆動用ローラ６５が回転
自在に取付けられている。同様に、隔壁５９の左端下部
には巻取軸６６が回転自在に設けられ、この巻取軸６６
には乾燥済みのフィルム２０を巻取る巻取リール６７が
着脱自在に装着されるようになっている。又、この巻取
軸６６の上方にはブラケット６８を介して回転自在に隔
壁５９に取付けられた左右二つの固定スクイズローラ６
９が位置している。そして、これら固定スクイズローラ
６９とフィルム駆動用ローラ６５と巻取軸６６とには、
無端の同期チェノ７０が巻き掛けられているが、本実施
例では固定スクイズローラ６９とフィルム駆動用ローラ
６５との間に配置される一対の退避用スプロケット７１
と巻取軸６６の左右に配置される巻付は用スプロケット
７２とを隔壁５９に回転自在に取付け、同期チェノ７０
に噛み合わせている。従って、フィルム搬送用モータ６
４の作動により固定スクイズローラ６９．フィルム駆動
用ローラ６５２巻取軸６６は同期回転するが、これらの
駆動機構は全て隔壁５９の後ろ側に配設されている。In FIG. 2, a film drive roller 65 connected to a film transport motor 64 is rotatably attached to the upper right end of the partition wall 59. Similarly, a winding shaft 66 is rotatably provided at the lower left end of the partition wall 59.
A take-up reel 67 for winding up the dried film 20 is detachably attached to the holder. Further, above the winding shaft 66, two fixed squeeze rollers 6 on the left and right are rotatably attached to the partition wall 59 via a bracket 68.
9 is located. These fixed squeeze roller 69, film drive roller 65, and take-up shaft 66 are
An endless synchronous chain 70 is wound around it, but in this embodiment, a pair of retracting sprockets 71 are arranged between a fixed squeeze roller 69 and a film driving roller 65.
and a winding sprocket 72 disposed on the left and right sides of the winding shaft 66 are rotatably attached to the partition wall 59, and the synchronous chino 70
It meshes with the Therefore, the film transport motor 6
4, the fixed squeeze roller 69. The film driving roller 652 and the winding shaft 66 rotate synchronously, and all of these driving mechanisms are arranged behind the partition wall 59.
前記固定スクイズローラ６９と共働して処理済みのフィ
ルム２０に付着した水滴を拭う左右二つの押えスクイズ
ローラ７３は、前記上蓋４９にローラブラケット７４を
介して吊り下げられたローラホルダ７５に回転自在に支
持されている。そして、ローラブラケット７４とローラ
ホルダ７５との間には、固定スクイズローラ６９の回転
軸心と押えスクイズローラ７３の回転軸心とを平行に保
持するための回り止めピン７６と、押えスクイズローラ
７３を固定スクイズローラ６９側に押圧するための圧縮
ばね７７とが介装されている。Two left and right presser squeeze rollers 73 that work together with the fixed squeeze roller 69 to wipe water droplets from the processed film 20 are rotatable on a roller holder 75 suspended from the upper lid 49 via a roller bracket 74. is supported by Between the roller bracket 74 and the roller holder 75, a detent pin 76 for holding the rotational axis of the fixed squeeze roller 69 and the rotational axis of the presser squeeze roller 73 parallel to each other, and a detent pin 76 for holding the rotational axis of the fixed squeeze roller 69 and the presser squeeze roller 73 in parallel are provided. A compression spring 77 is interposed for pressing the fixed squeeze roller 69 side.
次に、以上説明したフィルム処理装置に具えられたヒー
タユニットについて説明する。Next, a heater unit provided in the film processing apparatus described above will be explained.
現像液２４を加温するための棒状の現像用ヒータ１０１
は、揺動ホルダ１０２の両端部下面に、下方に向けて突
設されている。揺動ホルダ１０２は、左右両端が仕切り
フレーム１５．１６に連結されて受は皿２２上に載置さ
れる処理液槽２１の後方に位置するビーム１０３に蝶番
１０４を介して前後方向に回動自在に設けられており、
該揺動ホルダ１０２の前端部にはヒータ１０１とともに
液温センサ１０５及び液面センサ１０６がそれぞれ下方
に向けて突設されている。ここで、液温センサ１０５は
現像液２４の温度を検知するものであり、液面センサ１
０６は現像Ｗｃ２４の液面が一定レベル以上にあるかど
うかを電気的に検出するためのものである。A rod-shaped developing heater 101 for heating the developing solution 24
are provided on the lower surface of both ends of the swing holder 102 to protrude downward. The swinging holder 102 has both left and right ends connected to partition frames 15 and 16, and the receiver pivots in the front-rear direction via a hinge 104 on a beam 103 located behind the processing liquid tank 21 placed on a tray 22. It is freely set up,
At the front end of the swing holder 102, a heater 101, a liquid temperature sensor 105, and a liquid level sensor 106 are respectively provided to protrude downward. Here, the liquid temperature sensor 105 detects the temperature of the developer 24, and the liquid level sensor 1
06 is for electrically detecting whether the liquid level of the developer Wc24 is above a certain level.
現像用ヒータ１０１．液温センサ１０５及び液面センサ
１０６は、揺動ホルダ１０２の蝶番１０４を中心としだ
回動により、第３図に示すように現像液２４中へ挿入さ
れた状態と、第４図に示すように現像液２４から外へ跳
ね上げられて処理液槽２１の出し入れの邪魔にならない
ように退避移動した状態とに保持されろようになってお
り、このような揺動ホルダ１０２の蝶番１０４を中心と
した回動は引張りばね１０７及びコンタクトプレート１
０８を介して処理液槽２１の出し入れに連動するように
なっている。Developing heater 101. The liquid temperature sensor 105 and the liquid level sensor 106 are rotated about the hinge 104 of the swing holder 102, so that they can be inserted into the developer 24 as shown in FIG. The hinge 104 of the swinging holder 102 is designed to be kept in a retracted state so as not to be thrown up from the developing solution 24 and obstruct the loading and unloading of the processing solution tank 21. The rotation is caused by the tension spring 107 and the contact plate 1.
08, it is linked to the loading and unloading of the processing liquid tank 21.
引張りばね１０７は、その一端が揺動ホルダ１０２の後
端部下面に、他端がビーム１０３にそれぞれ連結されて
おり、揺動ホルダ１０２の動きが規制されていない状態
で、現像用ヒータ１０１等を退避移動させるように該揺
動ホルダ１０２の前端部を跳ね上げうるようなばね力を
有している。、一方、コンタクトプレー）１０８は、揺
動ホルダ１０２の蝶番１０４の位置より後方の下面に固
着されており、はぼ垂直に延びろ直線部１０８ａと前側
上方に向って屈曲する屈曲部１０８ｂとからなる板ばね
で形成されている。そして、このコンタクトプレート１
０８のばね力は、第３図に示すように屈曲部１０８ｂが
処Ｉ９！ｍ槽２４に当接している状態において引張りば
ね１０７のばね力よりも強めとなるように設定されてお
り、屈曲部１０８ｂが処理液槽２１に当接することによ
り、引張りばね１０７のばね力に抗しつつ揺動ホルダ１
０２の前端部は下方に押し下げられてヒータ１０１ 、
ｗｌ温センサ１０５及び液面センサ１０６が処理液槽
２１内に挿入された状態に保持される。また、コンタク
トプレー１．１０８のばね力は、処理液槽２４の前方へ
の移動により解放される過程において、ヒータ１０１．
液温センサ１０５及び液面センサ１０６が前方へ移動す
る処理液槽２１と干渉しないで待避移動されろように設
定されている。なお、ビーム１０３には、かかるコンタ
クトプレート１０８の動きと干渉しないように切欠１０
３ａを形成している。The tension spring 107 has one end connected to the lower surface of the rear end of the swinging holder 102 and the other end connected to the beam 103, so that when the movement of the swinging holder 102 is not restricted, the developing heater 101, etc. It has a spring force that can flip up the front end of the swing holder 102 so as to retract the swing holder 102. , on the other hand, the contact play) 108 is fixed to the lower surface of the swing holder 102 behind the hinge 104, and extends approximately vertically from a straight portion 108a and a bent portion 108b bent upward on the front side. It is made of a leaf spring. And this contact plate 1
As shown in FIG. 3, the spring force of 08 is applied to the bent portion 108b at the position I9! The spring force of the tension spring 107 is set to be stronger when the bent portion 108b is in contact with the processing liquid tank 24. Swinging holder 1
The front end of the heater 101 is pushed down and the heater 101,
The wl temperature sensor 105 and the liquid level sensor 106 are maintained inserted into the processing liquid tank 21. Further, the spring force of the contact play 1.108 is released by the forward movement of the processing liquid tank 24, and the heater 101.
The liquid temperature sensor 105 and the liquid level sensor 106 are set so that they can be retracted without interfering with the processing liquid tank 21 moving forward. Note that the beam 103 has a notch 10 so as not to interfere with the movement of the contact plate 108.
3a is formed.
このようなヒータユニットにおいて、第３図に示すよう
にケーシング１２に収納されている処理液槽２４を第４
図に示すように前蓋１３を開けた投受は皿２５と共に前
方へ移動する場合には、コンタクトプレート１０８の屈
曲部１０８ｂが徐々に解放されて引張りばね１０７のば
ね力により揺動ホルダ１０２が蝶番１０４を中心に回動
されるので、その前端部に設けられている現像用ヒータ
１０１゜液温センサ１０５及び液面センサ１０６は自動
的に跳ね上げられることになり、処理液槽２４の前方へ
移動しヒータ１０１等とが干渉することはない。一方、
第３図に示す状態から処理液槽２４を受は皿２５と共に
後方へ移動させて収納しようとする場合には、処理液槽
２４の後端面がコンタクトプレート１０８の屈曲部１０
８ｂに当接して該コンタクトプレート１０８を後方へ押
し込むので、揺動プレート１０２は引張りばね１０７の
ばね力に抗しつつ蝶番１０４を中心に回動され、現像用
ヒータ１０１．液温センサ１０５及び液面センサ１０６
は定位置に収納された処理液槽２４の現像液２７内に挿
入されて保持される。In such a heater unit, as shown in FIG. 3, the processing liquid tank 24 housed in the casing 12 is
As shown in the figure, when the receiver with the front cover 13 opened moves forward together with the tray 25, the bent portion 108b of the contact plate 108 is gradually released and the swinging holder 102 is moved by the spring force of the tension spring 107. Since it is rotated around the hinge 104, the developing heater 101, the liquid temperature sensor 105, and the liquid level sensor 106 provided at the front end of the hinge 104 are automatically flipped up, so that the developing heater 101, the liquid temperature sensor 105, and the liquid level sensor 106 are automatically flipped up, so that they are placed in front of the processing liquid tank 24. There is no interference between the heater 101 and the like. on the other hand,
When the processing liquid tank 24 is moved rearward together with the tray 25 from the state shown in FIG.
8b and pushes the contact plate 108 backward, the swing plate 102 is rotated about the hinge 104 while resisting the spring force of the tension spring 107, and the developing heater 101. Liquid temperature sensor 105 and liquid level sensor 106
is inserted into and held in the developing solution 27 of the processing solution tank 24 housed in a fixed position.
なお、受は皿２５の一方の側面上端にはフランジ部２５
ａが形成されるとともに該フランジ部２５ａの上面に近
接して平行に停止板１０９がケーシング１２に固着され
ており、移動の際の受は皿２５の浮き上がりが防止され
ている。Note that the receiver has a flange portion 25 at the upper end of one side of the plate 25.
a is formed, and a stop plate 109 is fixed to the casing 12 close to and parallel to the upper surface of the flange portion 25a, and the catch prevents the plate 25 from lifting up during movement.
上記実施例では、現像用ヒータ１０１．液温センサ１０
５及び液面センサ１０６を保持する揺動ホルダをケージ
ジグ１２に回動自在に設けて退避移動するようにしたの
で、現像用ヒータ１０１等の配線等の処理が容易となっ
ている。又、上記実施例では、コンタクトプレート１０
８を板ばねで形成し、当該コンタクトプレート１０８の
例えば、取付は位置に多少のずれがあっても処理液槽２
４が常に定位置に収納できるようにするとともに、現像
用ヒータ１０１．液温センサ１０５及び液面センサ１０
６の退避及び挿入の動作が弾力的になるようにしている
が、これに限定されず、コンタクトプレート１０８を弾
力性のない部材で形成してもよい。又、上記実施例では
、ヒータユニットを現像液２７の貯溜槽のみに設けたが
、勿論、同様な構成で、定着液２８及び洗浄液２９，３
０の貯溜槽にも設けるようにしてもよい。In the above embodiment, the developing heater 101. Liquid temperature sensor 10
5 and the liquid level sensor 106 are rotatably provided on the cage jig 12 so as to be retracted, making it easy to process the wiring of the developing heater 101 and the like. Further, in the above embodiment, the contact plate 10
8 is formed of a leaf spring, and the contact plate 108 can be attached to the processing liquid tank 2 even if there is a slight deviation in position.
4 is always housed in a fixed position, and the developing heater 101. Liquid temperature sensor 105 and liquid level sensor 10
Although the retracting and inserting operations of the contact plate 6 are made elastic, the contact plate 108 is not limited to this, and the contact plate 108 may be formed of a non-elastic member. Further, in the above embodiment, the heater unit was provided only in the storage tank for the developer 27, but of course, with the same configuration, the heater unit was provided in the fixer 28 and the cleaning fluids 29, 3.
It may also be provided in the storage tank 0.
次に、以上説明したフィルム処理装置の実際の作業手順
を説明する。Next, the actual working procedure of the film processing apparatus described above will be explained.
まず装置全体を机上等に載置し、ケーシング１２の裏側
に設けられたｉ４Ｒコード７８先端の差込プラグ７９を
室内の電源コンセント等に差し込む。First, the entire device is placed on a desk or the like, and the plug 79 at the tip of the i4R cord 78 provided on the back side of the casing 12 is inserted into an indoor power outlet or the like.
そして、前蓋１３を開くと共にロック操作っまみ５７を
回し、ケーシング１２に対するロック爪５６の保合を解
除したのち、上蓋４９に設けられた把手８０を掴んで上
蓋４９と共に処理用ローラ５２を処理液槽２４の上方へ
引き上げろ（第２図及び第３図参照）。一方空の処理液
槽２４を受は皿２５と共に前方に引き出すが、この時、
受は皿２５の引き出し操作の途中でコンタクトプレート
１０８の屈曲部１０８ｂが自由な状態となるため、引張
りばね１０７のばね力によって揺動ホルダ１０２が蝶番
１０４を中心に回動し、現像用ヒータ１０１、液温セン
サ１０５．液面センサ１０６が処理液槽２４の上方に退
避する（第４図参照）。ケーシング１２の前方に引き出
した処理液槽２４の所定箇所に現１１１液２７、定着液
２８、洗浄液２９，３０をそれぞれ一定量ずつ注入し、
この処理液槽２４を受は皿２５と共にケーシング１２内
の元の位置へ戻す。この時、コンタクトプレート１０８
の屈曲部１０８ｂが処理液槽２４に押し当るため、引張
りばね１０７のばね力に抗して揺動ホルダ１０２が回動
し、現像用ヒータ１０１や液温センサ１０５及び液面セ
ンサ１０６は現像液２７中に浸る（第２図及び第３図参
照）。Then, the user opens the front cover 13 and turns the locking knob 57 to release the lock claw 56 from the casing 12. Then, the user grasps the handle 80 provided on the upper cover 49 and processes the processing roller 52 together with the upper cover 49. Pull it up above the liquid tank 24 (see Figures 2 and 3). On the other hand, the empty processing liquid tank 24 is pulled forward along with the tray 25, but at this time,
Since the bent portion 108b of the contact plate 108 becomes free during the operation of pulling out the plate 25, the swinging holder 102 rotates around the hinge 104 due to the spring force of the tension spring 107, and the developing heater 101 , liquid temperature sensor 105. The liquid level sensor 106 is retracted above the processing liquid tank 24 (see FIG. 4). A fixed amount of the current 111 liquid 27, the fixing liquid 28, and the cleaning liquids 29 and 30 are injected into predetermined locations of the processing liquid tank 24 pulled out to the front of the casing 12.
The processing liquid tank 24 is returned to its original position inside the casing 12 together with the tray 25. At this time, the contact plate 108
Since the bent portion 108b of the holder presses against the processing liquid tank 24, the swinging holder 102 rotates against the spring force of the tension spring 107, and the developing heater 101, liquid temperature sensor 105, and liquid level sensor 106 27 (see Figures 2 and 3).
次に、遮光ケース１８の図示しない蓋を開き、現像済み
のフィルム２０が巻かれた供給リール１７を遮光ケース
１８内のリール受け、ローラ１９上に載せ、フィルム２
０のリーダ部分の先端部を引き出した状態で遮光ケース
１８の責を閉めろ。そして、このフィルム２０のリーグ
の先端部を固定ガイドローラ２１から処理液槽２４及び
固定スクイズ四−ラ６９の上方を通し、更に温風吹田口
６２の前方を通してフィルム駆動用ローラ６５に巻きｔ
卦け、巻取軸６６に装着された巻取り−ル６７に固定す
る（第２図参照）。Next, the lid (not shown) of the light-shielding case 18 is opened, and the supply reel 17 on which the developed film 20 is wound is received in the light-shielding case 18, placed on the roller 19, and the film 20 is placed on the roller 19.
Close the light-shielding case 18 while pulling out the tip of the leader section of 0. Then, the tip of the league of this film 20 is passed from the fixed guide roller 21 over the processing liquid tank 24 and the fixed squeeze roller 69, and then passed in front of the hot air outlet 62 and wound around the film driving roller 65.
Then, it is fixed to a winding wheel 67 attached to a winding shaft 66 (see FIG. 2).
しかるのち、前Ｍ１３を閉じると共に上蓋４９を押し下
げ、ロック操作つまみ５７を操作してロック爪５６をケ
ーシング１２１こ係止させ、上蓋４９をケーシング１２
に固定する。Thereafter, close the front M13, push down the top cover 49, operate the lock operation knob 57 to lock the lock claw 56 to the casing 121, and close the top cover 49 to the casing 12.
Fixed to.
この時の状態を表す第５図に示すように、上蓋４９の下
降途中でフィルム２０のリーダ部分に処理用ローラ５２
が押し付けられ、そのまま処理液槽２４中に入って行く
結果、フィルム２０は処理用ローラ５２と方向変換用ロ
ーラ３３とに交互に巻き棗けられ、上下に蛇行した状態
で現像液２７、定着液２８、洗浄液２９．３０に浸漬す
る。又、固定スクイズ四−ラ６９と対向する押えスクイ
ズローラ７３も上Ｍ４９の下降動作に伴って圧縮ばね７
７のばね力によりフィルム２０を挟圧した状態で固定ス
クイズローラ６９に押付けられる。As shown in FIG. 5, which shows the state at this time, the processing roller 52 is attached to the leader portion of the film 20 while the upper lid 49 is lowering.
As a result, the film 20 is alternately wound around the processing roller 52 and the direction changing roller 33, and the film 20 is meandered up and down until it enters the processing liquid tank 24. 28. Soak in cleaning solution 29.30. Further, the presser squeeze roller 73 facing the fixed squeeze roller 69 is also compressed by the compression spring 7 as the upper M49 moves downward.
The film 20 is pressed against the fixed squeeze roller 69 in a pinched state by the spring force of 7.
そして、スタートスイッチ８１をＯＮにすると、現像用
ヒータ１０１及び乾燥用ヒータ６３に通電されると共に
攪拌用モータ４６及びファンモータ６１が作動し、現像
液２７及び洗浄［２９，３０を攪拌すると共に一定温度
の温風が温風吹田口６２から吹き出される。Then, when the start switch 81 is turned on, the developing heater 101 and the drying heater 63 are energized, the stirring motor 46 and the fan motor 61 are activated, and the developing solution 27 and cleaning [29, 30] are stirred and kept constant. The warm air is blown out from the hot air outlet 62.
現像液２７の液温が所定の温度に達したことを液温セン
サ１０５が検出すると、フィルム搬送用モータ６４が作
動を開始する。これにより、フィルム２０は現像処理、
定着処理、水洗処理されて上下二組のスクイズローラ６
９゜７３により表面に付着した水滴が除去され、温風吹
田口６２の前方を通過する間に乾燥して巻取リール６７
に巻取られて行く。フィルムセンサ２２がフィルム２０
の無くなったことを検出すると、一定時間後に通電が全
てＯＦＦとなり、前Ｍ１３を開いて巻取軸６６から処理
済みのフィルム２０が巻かれた巻取リール６７を取り外
す。なお、現像液２７や定ＩＩ液２８及び洗浄液２９．
３０は必要に応じてこの時に交換するか若しくは廃棄す
れば良し）。When the liquid temperature sensor 105 detects that the temperature of the developer 27 has reached a predetermined temperature, the film transport motor 64 starts operating. As a result, the film 20 undergoes development processing and
Two sets of squeeze rollers 6, upper and lower, have been fixed and washed with water.
Water droplets adhering to the surface are removed by 9°73, and dried while passing in front of the hot air outlet 62, and then rolled onto the take-up reel 67.
It gets wound up. The film sensor 22 is the film 20
When it is detected that the film 20 is gone, the current is completely turned off after a certain period of time, the front M13 is opened, and the take-up reel 67 on which the processed film 20 is wound is removed from the take-up shaft 66. Note that the developing solution 27, the constant II solution 28, and the cleaning solution 29.
30 may be replaced or discarded at this time if necessary).
以上説明した実施例は、現像用ヒータ１０１゜液温セン
サ１０５及び液面センサ１０６を保持する揺動ホルダ１
０２の回動は処理液槽２４の移動に連動するようになっ
ているが、処理用ローラ５２を取付けなローララック５
３がラックブラケット５４を介して突設されてし）る上
蓋４９の上下動に連動するようにしてもよいし、処理液
槽２４の出し入れの際に開閉されるｉｌＦｌｇの開閉に
連動するように構成してもよい。揺動ホルダ１０２の回
動が、前蓋１３の開閉と連動するようにする場合には、
当該前１１１３の開閉により処理液槽２４の出し入れが
自動的に行われるようにすることもできる。この例を第
６図及び第７図に示す。In the embodiment described above, the swing holder 1 holds the developing heater 101, the liquid temperature sensor 105, and the liquid level sensor 106.
The rotation of 02 is linked to the movement of the processing liquid tank 24, but the processing roller 52 must not be attached to the roller rack 5.
3 may be linked to the vertical movement of the upper cover 49 (which is protruded through the rack bracket 54), or may be linked to the opening and closing of ilFlg, which is opened and closed when loading and unloading the processing liquid tank 24. may be configured. When the rotation of the swing holder 102 is linked to the opening and closing of the front cover 13,
It is also possible to automatically take in and out the processing liquid tank 24 by opening and closing the front 1113. An example of this is shown in FIGS. 6 and 7.
両図に示すように、この実施例のフィルム処理装置は、
処理液槽２４を載置する受は皿１１１の前端部と前［１
３とを連結するリンク１１２を設けた息外は上記実施例
とほぼ同様であり、受は皿１１２は、上記実施例の受は
皿２５の前端の引き学部２５ｂを除いたものである。リ
ンク１１２の一端はピン１１３を介して受は皿１１２の
前端側面に回動自在に連結されており、他端はピン１１
４を介して前Ｍ１３の裏面に固着された支持部材１１５
のｆｌ １１５ ａにスライド自在に係止されている。As shown in both figures, the film processing apparatus of this example is
The receiver on which the processing liquid tank 24 is placed is located between the front end of the dish 111 and the front [1].
Except for the provision of a link 112 for connecting 3 and 3, the rest is almost the same as that of the above embodiment, and the tray 112 of the above embodiment is the same as the tray 25 except for the pull portion 25b at the front end of the tray 25. One end of the link 112 is rotatably connected to the front end side surface of the plate 112 via a pin 113, and the other end is connected to the front side of the plate 112 via a pin 113.
Support member 115 fixed to the back surface of the front M13 via 4
It is slidably locked to the fl 115a of.
したがって、前Ｍ１３の開閉に連動して受は皿（ま処理
液槽２４とともに前後方向に移動され、同時に現像用ヒ
ータ１０１．ｉ温センサ１０５及び液面センサ１０６を
保持している揺動ホルダ２４は前後方向に移動されろ。Therefore, in conjunction with the opening and closing of the front M13, the receiver is moved in the front and back direction together with the processing liquid tank 24, and at the same time the swing holder 24 holding the developing heater 101.i temperature sensor 105 and liquid level sensor 106 is moved. be moved forward and backward.
このように構成することにより、前Ｍ１３を開閉するだ
けで処理液槽２４が出し入れ可能となるので、操作性が
さらに向上されろ。With this configuration, the processing liquid tank 24 can be taken in and taken out simply by opening and closing the front M13, so the operability is further improved.
〈発明の効果〉
以上説明したように、本発明にかかるフィルム処理装置
のヒータユニット構造によれば、処理液槽の出し入れに
際し、該処理液槽内の処理液内に挿入されているヒータ
等が自動的に出し入れされるので、従来のようにヒータ
等を取り外したりする作業がなくなり、作業性が著しく
向上されろ。<Effects of the Invention> As explained above, according to the heater unit structure of the film processing apparatus according to the present invention, when the processing liquid tank is taken in and out, the heater etc. inserted into the processing liquid in the processing liquid tank is Since it is automatically put in and taken out, there is no need to remove the heater etc. as in the past, and work efficiency is significantly improved.
第１図は本発明の好適な一実施例にかかるヒータユニッ
ト構造を採用したフィルム処理装置の外観を表す斜視図
、第２図はその内部構造を表す断面図、第３図艦よその
Ｉ［−Ｉ矢視断面図、第４図はその前蓋を開いた状態を
表す断面図、第５図はその処理液槽内にフィルムが浸漬
されている状態を表す断面図、第６図及び第７図の他の
実施例を表す断面図である。
図 面 中、
１２はケーシング、
１３は前蓋、
２４は処理液槽、
２５は受は皿、
２７は現像液、
２８は定着液、
２９．３０は洗ｆｐ１夜、
４９（よ上蓋、
５２は処理用ローラ、
１０１は現像用ヒータ、
１０２は揺動ホルダ、
１０４は蝶番、
１０５は液温センサ、
１０６は液面センサ、
１０７は引張りばね、
１０８はコンタクトプレートである。
特 許 出 願 人
富士写真フィルム株式会社
代 理 人FIG. 1 is a perspective view showing the external appearance of a film processing apparatus employing a heater unit structure according to a preferred embodiment of the present invention, FIG. 2 is a sectional view showing its internal structure, and FIG. 3 is a view from the outside of the ship. -I arrow sectional view, Figure 4 is a sectional view showing the state where the front lid is open, Figure 5 is a sectional view showing the state where the film is immersed in the processing liquid tank, Figures 6 and FIG. 8 is a sectional view showing another embodiment of FIG. 7; In the drawing, 12 is the casing, 13 is the front lid, 24 is the processing liquid tank, 25 is the tray, 27 is the developer, 28 is the fixer, 29.30 is the washing fp1 night, 49 is the upper lid, and 52 is the A processing roller, 101 is a developing heater, 102 is a swing holder, 104 is a hinge, 105 is a liquid temperature sensor, 106 is a liquid level sensor, 107 is a tension spring, and 108 is a contact plate.Patent applicant Fuji Representative of Photographic Film Co., Ltd.
Claims (1)
てフィルムの現像処理等を行う処理液を加温するヒータ
を該処理液内に挿入するよう保持してなるフィルム処理
装置のヒータユニット構造において、上記本体に回動自
在に設けられたホルダに上記ヒータが保持されてなると
ともに、該ヒータの退避及び挿入方向への当該ホルダの
回動が、上記処理液槽の取出し及び挿入、又は上記処理
液槽内の処理液中に挿入されて該処理液中に挿通される
フィルムを案内するローラの取出し及び挿入、又は上記
処理液槽を出し入れする開口部の蓋の開閉に連動するこ
とを特徴とするフィルム処理装置のヒータユニット構造
。A heater unit structure of a film processing apparatus, in which a heater is inserted into the processing liquid to heat the processing liquid stored in a processing liquid tank which is held in a main body so as to be freely put in and taken out of the main body. In this case, the heater is held in a holder rotatably provided on the main body, and rotation of the holder in the direction of retraction and insertion of the heater takes out and inserts the processing liquid tank, or It is characterized by being interlocked with the removal and insertion of a roller that is inserted into the processing liquid in the processing liquid tank and guides the film inserted into the processing liquid, or with the opening and closing of the lid of the opening for taking in and out the processing liquid tank. Heater unit structure of film processing equipment.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10264288A JPH01274137A (en) | 1988-04-27 | 1988-04-27 | Heater unit structure for film processing device |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10264288A JPH01274137A (en) | 1988-04-27 | 1988-04-27 | Heater unit structure for film processing device |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH01274137A true JPH01274137A (en) | 1989-11-01 |
Family
ID=14332893
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP10264288A Pending JPH01274137A (en) | 1988-04-27 | 1988-04-27 | Heater unit structure for film processing device |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH01274137A (en) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2006314865A (en) * | 2005-05-10 | 2006-11-24 | Kyokuto Sanki Co Ltd | Pasting apparatus for sheet-like article |
-
1988
- 1988-04-27 JP JP10264288A patent/JPH01274137A/en active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2006314865A (en) * | 2005-05-10 | 2006-11-24 | Kyokuto Sanki Co Ltd | Pasting apparatus for sheet-like article |
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