JPH01113362A - ビス‐オキシエチルスルホニルメチル‐アニリン及びその製法 - Google Patents
ビス‐オキシエチルスルホニルメチル‐アニリン及びその製法Info
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Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C317/00—Sulfones; Sulfoxides
- C07C317/26—Sulfones; Sulfoxides having sulfone or sulfoxide groups and nitrogen atoms, not being part of nitro or nitroso groups, bound to the same carbon skeleton
- C07C317/28—Sulfones; Sulfoxides having sulfone or sulfoxide groups and nitrogen atoms, not being part of nitro or nitroso groups, bound to the same carbon skeleton with sulfone or sulfoxide groups bound to acyclic carbon atoms of the carbon skeleton
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C321/00—Thiols, sulfides, hydropolysulfides or polysulfides
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C317/00—Sulfones; Sulfoxides
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
- Low-Molecular Organic Synthesis Reactions Using Catalysts (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
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Description
【発明の詳細な説明】
本発明の対象は、新規なビス−オキシエチルスルホニル
メチル−アニリン及びその製法である。新規な化合物は
、mIt反応性染料を製造するための価値の高い前生成
物である。
メチル−アニリン及びその製法である。新規な化合物は
、mIt反応性染料を製造するための価値の高い前生成
物である。
下記−形式(1)の新規化合物及び−形式(■)(下記
参照)の前駆体は文献中に従来記載されていない、英国
特許第931595号明細書からただ(1)の誘導体(
4−アミノ−2,6−ビス−オキシエチルスルホニルメ
チルトルオール)だけ公知であり、これは繊維反応性染
料用の前生成物として使用されるとされている。その製
造は、生態学的に不都合な方法で4−二トロトルオール
を4−ニトロ−2,6−ビス−クロルメチルトルオール
にクロルメチル化して行われ、これは次にそれ自体公知
の方法でメルカプトエタノールによる塩素−交換、過酸
化水素による酸化及び鉄による還元により最終生成物に
変えられる。
参照)の前駆体は文献中に従来記載されていない、英国
特許第931595号明細書からただ(1)の誘導体(
4−アミノ−2,6−ビス−オキシエチルスルホニルメ
チルトルオール)だけ公知であり、これは繊維反応性染
料用の前生成物として使用されるとされている。その製
造は、生態学的に不都合な方法で4−二トロトルオール
を4−ニトロ−2,6−ビス−クロルメチルトルオール
にクロルメチル化して行われ、これは次にそれ自体公知
の方法でメルカプトエタノールによる塩素−交換、過酸
化水素による酸化及び鉄による還元により最終生成物に
変えられる。
この合成順序は、重要手段としてホルムアルデヒド/塩
酸によるニトロ芳香族体の工業的に問題のあるクロルメ
チル化(工業的に高経費の廃棄物処理が不可欠であるジ
クロルジメチルエーテルの生成下)を適用し、ただニト
ロ基(及びアミノ基)に対するメター位に於ける反応性
置換基の導入だけを可能にし、塩素交換段階に於いて溶
剤を必要とする(上記の英国特許明縦書の例4参照)。
酸によるニトロ芳香族体の工業的に問題のあるクロルメ
チル化(工業的に高経費の廃棄物処理が不可欠であるジ
クロルジメチルエーテルの生成下)を適用し、ただニト
ロ基(及びアミノ基)に対するメター位に於ける反応性
置換基の導入だけを可能にし、塩素交換段階に於いて溶
剤を必要とする(上記の英国特許明縦書の例4参照)。
それに対して、式中R及びXが水素原子を意味し、構造
上公知の化合物とは少なくとも1個の反応性基がニトロ
−(又はアミノ−)置換基に対するm−位にはない点で
異なる一般式(1)の本発明による化合物を、異体体の
キジロールの側鎖塩素化及び引き続いての蒸留による精
製により工業的に容易に得られるビス−クロルメチルペ
ンゾールから製造することができる。
上公知の化合物とは少なくとも1個の反応性基がニトロ
−(又はアミノ−)置換基に対するm−位にはない点で
異なる一般式(1)の本発明による化合物を、異体体の
キジロールの側鎖塩素化及び引き続いての蒸留による精
製により工業的に容易に得られるビス−クロルメチルペ
ンゾールから製造することができる。
本発明の合成順序にとって特有なのは、窒素−官能分が
反応性の分解後はじめて分子中に導へされ、このことか
ら技術水準のそれとは異ムる置換パター−−ンが得られ
ることである。その上、全段階が溶剤の不存在下実施可
能である処理手段の順序変更を可能にする。それ故新規
化合物及びその製法は置換基相互の幅広い変化及び慣用
の装置を用いて生態学的に申し分なく合成可能な前生成
物から溶剤を使用せずに工業的に実施可能な合成を可能
にする。
反応性の分解後はじめて分子中に導へされ、このことか
ら技術水準のそれとは異ムる置換パター−−ンが得られ
ることである。その上、全段階が溶剤の不存在下実施可
能である処理手段の順序変更を可能にする。それ故新規
化合物及びその製法は置換基相互の幅広い変化及び慣用
の装置を用いて生態学的に申し分なく合成可能な前生成
物から溶剤を使用せずに工業的に実施可能な合成を可能
にする。
それ故本発明は、−形式(1)
(式中R及びXは水素原子を意味し、両側鎖CHz−S
Ot−CHz−CHz−0−Xは互いにオルト−、メタ
−又はバラ−位に在り、基−NR,は、別の両置換が1
,2−又はl、 3−位に在る場合、4−位に在る) で示される、新規なビス−オキシュチルスルホニルメチ
ル−アニリン及び該化合物を次の方法により製造する方
法に関する。即ちキシリレンジクロリド(1,2−21
,3−又はl、4−ビス−クロルメチルペンゾール)1
モルをメルカプトエタノール少なくとも2モルと約40
℃乃至約150℃好ましくは約70乃至約120”Cの
温度に於いて水性媒体中(有機溶剤の不存在下)で酸結
合剤の存在下反応させて一殿式([) (式中Xは水素原子を、nは0の数を意味し、両側鎖は
互いにオルト−、メタ−又はパラ−位に在る) で示される、対応するビス−オキシエチルメルカプトメ
チル−ベンゾールを得、これを中間単離後又は好ましく
は中間単離せずに過酸化水素少なくとも4モル好ましく
は4.4乃至5.6モルにより約50乃至約120℃好
ましくは約80乃至約100℃の温度に於いてpH−値
〈7好ましくはく4に於いて触媒としてのタングステン
(Vl)−化合物の存在下酸化して上記−形式(ロ)□
式中Xは水素原子を、nは2の数を意味する□の、対応
するビス−オキシエチルスルホニルメチル−ペンゾール
を得、これを無水硫酸少なくとも4モル好ましくは5乃
至7モルにより約30乃至約45℃の温度に於いて上記
−形式(II)□式中Xは基−5O311を、nは2の
数を意味する□の、対応するビスー硫酸エステルに変え
、これを高百分率の硝酸□場合により無水硫酸と混合し
た□少なくとも化学論量的量により約O乃至約60℃好
ましくは約25乃至約45℃の温度に於いてニトロ化し
て式(I[り (式中両側鎖−CHz−5ow−CHt−CHz−O3
OJは互いにオルト−、メタ−又はパラ−位に在り、ニ
トロ基は、上記の両側鎖が1.2−又は1,3−位に在
る場合、4−位に在る)で示されるビス−スルファトエ
チルスルホニルメチル−ニトロペンゾールを得、これを
水の添加後加熱により有利には約100乃至約120℃
の温度に於いてけん化して対応するビス−オキシエチル
スルホニルメチル−ニトロペンゾールを得、これを中間
単離後鉄により水性媒体中で又は好ましくは触媒作用に
より活性化した水素により還元して一般式(1)□式中
R及びXは水素原子を、nは2の数を意味する□のビス
−オキシエチルスルホニルメチル−アニリンを得るので
ある。
Ot−CHz−CHz−0−Xは互いにオルト−、メタ
−又はバラ−位に在り、基−NR,は、別の両置換が1
,2−又はl、 3−位に在る場合、4−位に在る) で示される、新規なビス−オキシュチルスルホニルメチ
ル−アニリン及び該化合物を次の方法により製造する方
法に関する。即ちキシリレンジクロリド(1,2−21
,3−又はl、4−ビス−クロルメチルペンゾール)1
モルをメルカプトエタノール少なくとも2モルと約40
℃乃至約150℃好ましくは約70乃至約120”Cの
温度に於いて水性媒体中(有機溶剤の不存在下)で酸結
合剤の存在下反応させて一殿式([) (式中Xは水素原子を、nは0の数を意味し、両側鎖は
互いにオルト−、メタ−又はパラ−位に在る) で示される、対応するビス−オキシエチルメルカプトメ
チル−ベンゾールを得、これを中間単離後又は好ましく
は中間単離せずに過酸化水素少なくとも4モル好ましく
は4.4乃至5.6モルにより約50乃至約120℃好
ましくは約80乃至約100℃の温度に於いてpH−値
〈7好ましくはく4に於いて触媒としてのタングステン
(Vl)−化合物の存在下酸化して上記−形式(ロ)□
式中Xは水素原子を、nは2の数を意味する□の、対応
するビス−オキシエチルスルホニルメチル−ペンゾール
を得、これを無水硫酸少なくとも4モル好ましくは5乃
至7モルにより約30乃至約45℃の温度に於いて上記
−形式(II)□式中Xは基−5O311を、nは2の
数を意味する□の、対応するビスー硫酸エステルに変え
、これを高百分率の硝酸□場合により無水硫酸と混合し
た□少なくとも化学論量的量により約O乃至約60℃好
ましくは約25乃至約45℃の温度に於いてニトロ化し
て式(I[り (式中両側鎖−CHz−5ow−CHt−CHz−O3
OJは互いにオルト−、メタ−又はパラ−位に在り、ニ
トロ基は、上記の両側鎖が1.2−又は1,3−位に在
る場合、4−位に在る)で示されるビス−スルファトエ
チルスルホニルメチル−ニトロペンゾールを得、これを
水の添加後加熱により有利には約100乃至約120℃
の温度に於いてけん化して対応するビス−オキシエチル
スルホニルメチル−ニトロペンゾールを得、これを中間
単離後鉄により水性媒体中で又は好ましくは触媒作用に
より活性化した水素により還元して一般式(1)□式中
R及びXは水素原子を、nは2の数を意味する□のビス
−オキシエチルスルホニルメチル−アニリンを得るので
ある。
本発明による方法の個別的段階の実施に関して次の通り
詳述する。
詳述する。
1.2−11.3−又はl、4−ビス−クロルメチルペ
ンゾール(A)を有機溶剤を使用せずに水性媒体中でメ
ルカプトエタノールと酸結合剤の存在下反応させて対応
するビス−オキシエチルメルカプト)チルペンゾール(
B)を得る。
ンゾール(A)を有機溶剤を使用せずに水性媒体中でメ
ルカプトエタノールと酸結合剤の存在下反応させて対応
するビス−オキシエチルメルカプト)チルペンゾール(
B)を得る。
ビス−クロルメチルペンゾール1モルを定1的に反応さ
せるために少なくとも2モルのメルカプトエタノールが
必要である。工業的に是認できる時間で高収率を達成さ
せるためにはメルカプトエタノール10乃至100%好
ましくは20乃至50%のモル過剰が有利であると判明
した。
せるために少なくとも2モルのメルカプトエタノールが
必要である。工業的に是認できる時間で高収率を達成さ
せるためにはメルカプトエタノール10乃至100%好
ましくは20乃至50%のモル過剰が有利であると判明
した。
酸結合剤としては、アルカリ−及びアルカリ土類金属の
酸化物、水酸化物及び炭酸塩好ましくはアルカリ金属の
水酸化物及び炭酸塩及びアルカリ土類金属の酸化物殊に
水酸化カリウム又は炭酸カリウム及び酸化マグネシウム
が適する。
酸化物、水酸化物及び炭酸塩好ましくはアルカリ金属の
水酸化物及び炭酸塩及びアルカリ土類金属の酸化物殊に
水酸化カリウム又は炭酸カリウム及び酸化マグネシウム
が適する。
これらは通例メルカプトエタノールに対する当量比1:
1で使用される。酸結合剤の小過剰(約30%まで)は
反応を負には影響を与えず、それ故許容される。
1で使用される。酸結合剤の小過剰(約30%まで)は
反応を負には影響を与えず、それ故許容される。
縮合は約40乃至約150℃好ましくは約70℃乃至約
120″C殊に約90乃至100℃に於いて実施させ、
数時間で完結する。100℃以上の温度に於いては密閉
系中で加圧上実施されねばならぬ。
120″C殊に約90乃至100℃に於いて実施させ、
数時間で完結する。100℃以上の温度に於いては密閉
系中で加圧上実施されねばならぬ。
反応後固体又は油として析出するビス−オキシエチルメ
ルカプトメチル−ペンゾール(B)は場合によりろ過又
は相分離により単離するが、併し又殊に有利には縮合混
合物の形で更に反応させることができる。
ルカプトメチル−ペンゾール(B)は場合によりろ過又
は相分離により単離するが、併し又殊に有利には縮合混
合物の形で更に反応させることができる。
化合物(B)のビス−オキシエチルスルホニルメチルペ
ンゾール(C)の酸化は過酸化水素を用いてタングステ
ン(Vl)−触媒(タングステン酸ナトリウム、三酸化
ナトリウム)の存在下行われる。
ンゾール(C)の酸化は過酸化水素を用いてタングステ
ン(Vl)−触媒(タングステン酸ナトリウム、三酸化
ナトリウム)の存在下行われる。
B
(このためには単離した化合物(B)を水
中に仕込むか又は殊に有利には得られる前記の水性縮合
混合物をpH−値〈7好ましくは〈4に於いて触媒の添
加(化合物(B)1モル当たり0.1乃至10部好まし
くはI乃至3部)直後少なくとも4−倍モル量好ましく
は4.4−乃至5.6−倍モル量の過酸化水素と約50
乃至約120℃好ましくは約80乃至約100℃の温度
に於いて反応させ、2乃至20時間好ましくは4乃至1
0時間攪拌する。室温に冷却後沈澱したビス−オキシエ
チルスルホニルメチルペンゾール(C)を吸引ろ過し、
洗浄し、乾燥する。
(このためには単離した化合物(B)を水
中に仕込むか又は殊に有利には得られる前記の水性縮合
混合物をpH−値〈7好ましくは〈4に於いて触媒の添
加(化合物(B)1モル当たり0.1乃至10部好まし
くはI乃至3部)直後少なくとも4−倍モル量好ましく
は4.4−乃至5.6−倍モル量の過酸化水素と約50
乃至約120℃好ましくは約80乃至約100℃の温度
に於いて反応させ、2乃至20時間好ましくは4乃至1
0時間攪拌する。室温に冷却後沈澱したビス−オキシエ
チルスルホニルメチルペンゾール(C)を吸引ろ過し、
洗浄し、乾燥する。
化合物(C)をニトロ化するために置換基のヒドロキシ
基は保護されねばならぬ、これは硫酸により一般式(D
)の半エステルにエステル化して行われる。
基は保護されねばならぬ、これは硫酸により一般式(D
)の半エステルにエステル化して行われる。
D
エステル化を完結させるために反応水の除去が必要であ
り、このことは本発明により無水硫酸を少なくとも4−
モル有利には5−乃至7−モル過剰で使用して達成され
る。これら条件下適当の温度(約30乃至約45℃)に
於いてわずかの時間で定量的反応が可能である。
り、このことは本発明により無水硫酸を少なくとも4−
モル有利には5−乃至7−モル過剰で使用して達成され
る。これら条件下適当の温度(約30乃至約45℃)に
於いてわずかの時間で定量的反応が可能である。
得られる、−形式(D)の化合物の硫酸溶液は、本発明
により直接ニトロ化媒体として使用される。ビス−スル
ファトエチルスルホニルメチル−ペンゾール(D)の単
離は利益を与えない。ニトロ化は、少なくとも化学量論
的量の高百分率硝酸□場合により無水硝酸と混合した□
(一般的に混酸又はニトロ化用混合酸として知られた)
の添加により2乃至IO好ましくは3乃至6時間の間で
約O乃至60℃好ましくは約45℃の温度に於いて行わ
れる。ニトロ化を完結するために硝酸−又はニトロ化用
混合酸を小過剰(5乃至20モル%)で使用することが
有利であり得る。
により直接ニトロ化媒体として使用される。ビス−スル
ファトエチルスルホニルメチル−ペンゾール(D)の単
離は利益を与えない。ニトロ化は、少なくとも化学量論
的量の高百分率硝酸□場合により無水硝酸と混合した□
(一般的に混酸又はニトロ化用混合酸として知られた)
の添加により2乃至IO好ましくは3乃至6時間の間で
約O乃至60℃好ましくは約45℃の温度に於いて行わ
れる。ニトロ化を完結するために硝酸−又はニトロ化用
混合酸を小過剰(5乃至20モル%)で使用することが
有利であり得る。
ニトロ化完結後硫酸溶液中に存在する、−形式E又はI
(R,=0、X=−SO311)のビス−β−スルファ
トエチルスルホニルメチル−ニトロベンゾールは、通例
同様に単離されずに(所望な場合、例えば硫酸ナトリウ
ムによる塩析により沈澱し、ろ過により硫酸の大部分と
分離することができる)、水(硫酸全使用量に対しl−
乃至6倍重量好ましくは3−乃至4倍重量)の添加後長
時間での還流下の加熱(3乃至10時間好ましくは4乃
至6時間約100乃至約120℃に於いて)によりけん
化して一般式(F)の遊離オキシエチルスルホニルメチ
ル化合物を得る。
(R,=0、X=−SO311)のビス−β−スルファ
トエチルスルホニルメチル−ニトロベンゾールは、通例
同様に単離されずに(所望な場合、例えば硫酸ナトリウ
ムによる塩析により沈澱し、ろ過により硫酸の大部分と
分離することができる)、水(硫酸全使用量に対しl−
乃至6倍重量好ましくは3−乃至4倍重量)の添加後長
時間での還流下の加熱(3乃至10時間好ましくは4乃
至6時間約100乃至約120℃に於いて)によりけん
化して一般式(F)の遊離オキシエチルスルホニルメチ
ル化合物を得る。
−5℃乃至+10℃の温度に冷却する際ビス−オキシス
ルホニルメチル−ニトロベンゾール(F)が沈澱する。
ルホニルメチル−ニトロベンゾール(F)が沈澱する。
これを吸引ろ過し、洗浄し、場合により乾燥する。
ニトロ基を最終的に還元するために鉄による水性還元(
ベシャンー還元)又は、殊に有利には、接触活性化した
水素による水性還元を適用することができる。触媒とし
ては、市販のニッケルー触媒及び市販の貴金属−触媒例
えば不活性担体好ましくは高い比表面積の活性炭上に担
持した白金又はパラジウムが適する。
ベシャンー還元)又は、殊に有利には、接触活性化した
水素による水性還元を適用することができる。触媒とし
ては、市販のニッケルー触媒及び市販の貴金属−触媒例
えば不活性担体好ましくは高い比表面積の活性炭上に担
持した白金又はパラジウムが適する。
還元は、高温(約70乃至約120℃好ましくは約80
乃至100℃)に於いて水性溶液又は懸濁液中でわずか
な時間(1乃至5時間好ましくは高温範囲に於いて1.
5乃至3時間)定量的に行われ、還元温度に於いて一船
弐G又は1(R及びX−水素)の所望のビス−オキシエ
チルスルホニルメチル−アニリンの水性溶液ヲ与え、こ
のものから懸濁した水酸化第一鉄(ベシャンー還元の場
合)又は水素化触媒を清澄化ろ過により分離することが
できる。
乃至100℃)に於いて水性溶液又は懸濁液中でわずか
な時間(1乃至5時間好ましくは高温範囲に於いて1.
5乃至3時間)定量的に行われ、還元温度に於いて一船
弐G又は1(R及びX−水素)の所望のビス−オキシエ
チルスルホニルメチル−アニリンの水性溶液ヲ与え、こ
のものから懸濁した水酸化第一鉄(ベシャンー還元の場
合)又は水素化触媒を清澄化ろ過により分離することが
できる。
清澄化ろ液からビス−オキシエチルスルホニルメチル−
アニリン−化合物を場合により真空中での水の留出によ
る濃縮後−5乃至+20″Cの温度への冷却により及び
/又は例えば塩化ナトリウム又は硫酸ナトリウムにょる
塩析により沈澱し、ろ過又は遠心分離により単離するこ
とができる。
アニリン−化合物を場合により真空中での水の留出によ
る濃縮後−5乃至+20″Cの温度への冷却により及び
/又は例えば塩化ナトリウム又は硫酸ナトリウムにょる
塩析により沈澱し、ろ過又は遠心分離により単離するこ
とができる。
収率及び選択性は全段階に於いて驚くほど高く、大多数
の場合殆ど理論的値を達成する。
の場合殆ど理論的値を達成する。
−形式+ (R及びχ−H)の新規なビス−オキシエ
チルスルホチルメチル−アニリンは、殊高い固着度を有
する繊維反応性アゾ染料用ジアゾ成分として著しく適し
、これによってこれらの重要な染料部類に於ける著しい
工業的進歩を可能にする。
チルスルホチルメチル−アニリンは、殊高い固着度を有
する繊維反応性アゾ染料用ジアゾ成分として著しく適し
、これによってこれらの重要な染料部類に於ける著しい
工業的進歩を可能にする。
次の例により本発明の詳細な説明するが、これにより本
発明を限定するものではない、記載された部は、特記し
ない限り、重量部である。
発明を限定するものではない、記載された部は、特記し
ない限り、重量部である。
例1
水1000部、1.4−ビス−クロルメチルペンゾール
(p−キシリレンジクロリド)350部、メルカプトエ
タノール437部及び炭酸カリウム392部からなる攪
拌混合物を3時間90乃至95℃に加熱する。この時間
後単−のHPLC−クロマトグラムが得られ、出発生成
物はもはや検出されない。10℃に冷却し、沈澱した沈
澱体を吸引ろ過し、氷水で洗浄して中性とし、60℃に
於いて真空乾燥する。
(p−キシリレンジクロリド)350部、メルカプトエ
タノール437部及び炭酸カリウム392部からなる攪
拌混合物を3時間90乃至95℃に加熱する。この時間
後単−のHPLC−クロマトグラムが得られ、出発生成
物はもはや検出されない。10℃に冷却し、沈澱した沈
澱体を吸引ろ過し、氷水で洗浄して中性とし、60℃に
於いて真空乾燥する。
式
で示される、融点90乃至92℃を有する1、4ニビス
一オキシエチルメルカブトメチル−ベンゾール512部
が得られる。
一オキシエチルメルカブトメチル−ベンゾール512部
が得られる。
分析: 3: 24.9/24.8%(計算値 2
4.8%) C]:<0.03% (計算値 0.0%) 例2 1.2−ビス−クロルメチルペンゾール(〇−キシリレ
ンジクロリド)700部、水2000部及びメルカプト
エタノール756部からなる混合物に攪拌上酸化マグネ
シウム200部を加え、その際軽度の冷却が温度の保持
に必要である。引き続いて3時間5乃至100℃に加熱
する。この後HP I、 C−クロマトグラムが完全な
反応を示す。15℃に冷却し、析出した油を分離し、こ
れをイオン不含水と攪拌して洗浄し、再び相を分離し、
有機相を20閣Hgの真空中で留出して、藤発される液
体がも早や留出しなくなるまで乾燥する。
4.8%) C]:<0.03% (計算値 0.0%) 例2 1.2−ビス−クロルメチルペンゾール(〇−キシリレ
ンジクロリド)700部、水2000部及びメルカプト
エタノール756部からなる混合物に攪拌上酸化マグネ
シウム200部を加え、その際軽度の冷却が温度の保持
に必要である。引き続いて3時間5乃至100℃に加熱
する。この後HP I、 C−クロマトグラムが完全な
反応を示す。15℃に冷却し、析出した油を分離し、こ
れをイオン不含水と攪拌して洗浄し、再び相を分離し、
有機相を20閣Hgの真空中で留出して、藤発される液
体がも早や留出しなくなるまで乾燥する。
式
で示される1、2−ビス−オキシエチルメルカプトメチ
ル−ベンゾール1030部が分解せずには蒸留可能でな
い無色液体として得られる。
ル−ベンゾール1030部が分解せずには蒸留可能でな
い無色液体として得られる。
分析: 3: 24.95/24.85%(計算値
24.8%) C1:<0.03% (計算値 0.0%) 例3 前記の例2に於いて1.2−ビス−クロルメチルペンゾ
ールを1,3−ビス−クロルメチルベンゾー−ル(m−
キシリレンジクロリド)に替え、その他は゛何様にして
実施すれば、比較可能な収率に於いて式 で示される1、3−ビス−オキシエチルメルカプトメチ
ル−ペンゾールが蒸留可能でない無色油として得られる
。
24.8%) C1:<0.03% (計算値 0.0%) 例3 前記の例2に於いて1.2−ビス−クロルメチルペンゾ
ールを1,3−ビス−クロルメチルベンゾー−ル(m−
キシリレンジクロリド)に替え、その他は゛何様にして
実施すれば、比較可能な収率に於いて式 で示される1、3−ビス−オキシエチルメルカプトメチ
ル−ペンゾールが蒸留可能でない無色油として得られる
。
例4
1.4−ビス−オキシエチルメルカプトメチルペンゾー
ル(例1により製造)103.2部、氷酢酸20部及び
タングステン酸ナトリウム1.6部からなる攪拌初源混
合物に90℃に於いて1時間以内に35%水性過酸化水
素168部を滴下し、3時間90乃至95℃に於いて攪
拌しく HP L C−クロマトグラムが完全な、酸化
を示す)、20℃に冷却し、沈澱した沈澱体を吸引ろ過
により単則し、氷水で洗浄して中性とし、80℃に於い
て真空乾燥する。
ル(例1により製造)103.2部、氷酢酸20部及び
タングステン酸ナトリウム1.6部からなる攪拌初源混
合物に90℃に於いて1時間以内に35%水性過酸化水
素168部を滴下し、3時間90乃至95℃に於いて攪
拌しく HP L C−クロマトグラムが完全な、酸化
を示す)、20℃に冷却し、沈澱した沈澱体を吸引ろ過
により単則し、氷水で洗浄して中性とし、80℃に於い
て真空乾燥する。
式
で示される。1,4−ビス−オキシエチルスルホニルメ
チル−ペンゾール125.0部が融点213乃至215
℃を有する無色結晶の形で得られる。
チル−ペンゾール125.0部が融点213乃至215
℃を有する無色結晶の形で得られる。
純度(HPLC)は98.7%である。
例5
前記の例4に於いて1,4−ビス−オキシエチルメルカ
プトメチルペンゾールを同一量の1.3−異性体に替え
、その他は上記の様にして実施すれば、式 で示される1、3−ビス−オキシエチルスルホニルメチ
ル−ペンゾールが、純度(HPLC)99.1%を存す
る、111乃至112℃に於いて溶融する無色結晶とし
て得られる。
プトメチルペンゾールを同一量の1.3−異性体に替え
、その他は上記の様にして実施すれば、式 で示される1、3−ビス−オキシエチルスルホニルメチ
ル−ペンゾールが、純度(HPLC)99.1%を存す
る、111乃至112℃に於いて溶融する無色結晶とし
て得られる。
例6
1.2−ビス−オキシエチルメルカプトメチル−ペンゾ
ール258部、10%硫酸250部及びタングステン酸
ナトリウム4部からなる混合物に、60℃に於いて出発
させて、内温が95℃を超えない様に急速に(約70分
)35%水性通酸化水素420部を加える。引き続いて
5時間95℃に於いて攪拌しく完全な反応に関するHP
LC−検査)、10℃に冷却し、沈澱した沈澱体をろ過
により単離する。氷水による洗浄及び80℃に於ける真
空乾燥後式 で示される1、2−ビス−オキシエチルスルホニルメチ
ル−ペンゾール304部が、l16乃至118℃に於い
て溶融する無色結晶の形で得られる。
ール258部、10%硫酸250部及びタングステン酸
ナトリウム4部からなる混合物に、60℃に於いて出発
させて、内温が95℃を超えない様に急速に(約70分
)35%水性通酸化水素420部を加える。引き続いて
5時間95℃に於いて攪拌しく完全な反応に関するHP
LC−検査)、10℃に冷却し、沈澱した沈澱体をろ過
により単離する。氷水による洗浄及び80℃に於ける真
空乾燥後式 で示される1、2−ビス−オキシエチルスルホニルメチ
ル−ペンゾール304部が、l16乃至118℃に於い
て溶融する無色結晶の形で得られる。
例 7(ワンポット法)
1.4−ビス−クロルメチルペンゾール(p−キシリレ
ンジクロリド)700部、メルカプトエタノール750
部及び水1500部を攪拌下混合し、50乃至55℃に
加温する。次に30分間酸化マグネシウム200部を、
内温か60℃を上昇しない様に、導入し、引き続いて3
時間90乃至95℃に加熱しくHPLC−クロマトグラ
ムにより出発化合物が安全に反応している)、硫酸2n
を用いてpH7,0とし、60℃に冷却する0次に順次
氷酢酸150部及び三酸化タングステン8部を添加し、
次に60分間過酸化水素(35%)1250部を均等に
滴加する。約5時間90乃至95℃に於いて、試料が)
IPLC−クロマトグラムに於いて単一の目的生成物を
示すまで、攪拌し、20℃に冷却し、沈澱した沈澱体を
ろ過により単離する。氷水による洗浄及び100℃に於
ける真空乾燥後で示される1、4−ビス−オキシエチル
スルホニルメチル−ペンゾールが、融点210乃至21
2℃及び純度(HPLC)96.9%を有する薄帯黄色
結晶の形で得られる。
ンジクロリド)700部、メルカプトエタノール750
部及び水1500部を攪拌下混合し、50乃至55℃に
加温する。次に30分間酸化マグネシウム200部を、
内温か60℃を上昇しない様に、導入し、引き続いて3
時間90乃至95℃に加熱しくHPLC−クロマトグラ
ムにより出発化合物が安全に反応している)、硫酸2n
を用いてpH7,0とし、60℃に冷却する0次に順次
氷酢酸150部及び三酸化タングステン8部を添加し、
次に60分間過酸化水素(35%)1250部を均等に
滴加する。約5時間90乃至95℃に於いて、試料が)
IPLC−クロマトグラムに於いて単一の目的生成物を
示すまで、攪拌し、20℃に冷却し、沈澱した沈澱体を
ろ過により単離する。氷水による洗浄及び100℃に於
ける真空乾燥後で示される1、4−ビス−オキシエチル
スルホニルメチル−ペンゾールが、融点210乃至21
2℃及び純度(HPLC)96.9%を有する薄帯黄色
結晶の形で得られる。
1.4−ビス−クロルベンゾールを1,2−又は1,3
−ビス−クロルメチルペンゾールに替え、その他はE記
の様に実施すれば、1.2=又は1.3−ビス−オキシ
エチルスルホニル−ペンゾールが比較可能な収率及び品
質に於いて得られる。
−ビス−クロルメチルペンゾールに替え、その他はE記
の様に実施すれば、1.2=又は1.3−ビス−オキシ
エチルスルホニル−ペンゾールが比較可能な収率及び品
質に於いて得られる。
例 8
攪拌下1.4−ビスーオキシエチルスルホニルメチル−
ペンゾール80.5部を100%fL酸612.5部に
導入し、試料がHPLC−クロマトグラムに於いて定量
的なエステル化を示すまで(約4乃至5時間)、35乃
至40℃に加熱する。引き続いて4時間以内に30乃至
40℃に於いて100%硝酸30重量部及び100%硫
酸70重量部からなる混合物(いわゆる rM3−酸」)57部を滴加し、2時間45℃に於いて
ニトロ化が完結するまで攪拌しくHPLC−クロマトグ
ラムによる検査)、次に反応混合物を氷水2500部へ
の注入により分解する。得られる水性−酸性溶液を硫酸
エステル−基のけん化のために5時間還流しながら加熱
しく約110℃)、次に活性炭5部を加え、清澄化ろ液
を攪拌下O乃至5℃に冷却する。この場合沈澱する沈澱
体を吸引ろ過し、洗浄して中性とし、80℃に於いて真
空乾燥する。式で示される2、5−ビス−オキシエチル
スルホニルメチル−ニトロペンゾール810 部カ、M
占125乃至126.5℃を有し純度(HPLC)が9
8.8%である無色結晶の形が得られる。
ペンゾール80.5部を100%fL酸612.5部に
導入し、試料がHPLC−クロマトグラムに於いて定量
的なエステル化を示すまで(約4乃至5時間)、35乃
至40℃に加熱する。引き続いて4時間以内に30乃至
40℃に於いて100%硝酸30重量部及び100%硫
酸70重量部からなる混合物(いわゆる rM3−酸」)57部を滴加し、2時間45℃に於いて
ニトロ化が完結するまで攪拌しくHPLC−クロマトグ
ラムによる検査)、次に反応混合物を氷水2500部へ
の注入により分解する。得られる水性−酸性溶液を硫酸
エステル−基のけん化のために5時間還流しながら加熱
しく約110℃)、次に活性炭5部を加え、清澄化ろ液
を攪拌下O乃至5℃に冷却する。この場合沈澱する沈澱
体を吸引ろ過し、洗浄して中性とし、80℃に於いて真
空乾燥する。式で示される2、5−ビス−オキシエチル
スルホニルメチル−ニトロペンゾール810 部カ、M
占125乃至126.5℃を有し純度(HPLC)が9
8.8%である無色結晶の形が得られる。
rM3−酸」を98%硝酸17.5部に替え、その他は
上記の様に実施すれば、比較可能な結果が得られる。
上記の様に実施すれば、比較可能な結果が得られる。
例 9
例8に類似して実施するが、但し1.4−ビス−オキシ
エチルスルホニルメチル−ペンゾールを1.3−異性体
に替えれば、式 で示される2、4−ビス−オキシエチルスルホニルメチ
ル−ニトロペンゾール82.4部が、融点211乃至2
12℃及び純度(HPLC)97.9%を有する薄黄色
着色結晶として得られる。
エチルスルホニルメチル−ペンゾールを1.3−異性体
に替えれば、式 で示される2、4−ビス−オキシエチルスルホニルメチ
ル−ニトロペンゾール82.4部が、融点211乃至2
12℃及び純度(HPLC)97.9%を有する薄黄色
着色結晶として得られる。
例10
例8に類似して実施するが、但しl、4−ビス−オキシ
エチルスルホニルメチル−ベンソールを1,2−異性体
に替えれば、式 で示される3、4−ビス−オキシエチルスルホニルメチ
ル−ニトロペンゾール85.4 部1J<、融点126
乃至128℃及び純度(HPLC)98.2%を有する
無色結晶として得られる。
エチルスルホニルメチル−ベンソールを1,2−異性体
に替えれば、式 で示される3、4−ビス−オキシエチルスルホニルメチ
ル−ニトロペンゾール85.4 部1J<、融点126
乃至128℃及び純度(HPLC)98.2%を有する
無色結晶として得られる。
例11
鉄粉末40部及び水200部からなり、80乃至85℃
に加温した混合物に30分以内に攪拌下2.4−ビス−
オキシエチルスルホニルメチル−ニトロベンゾール10
0部を均等に加え、導入中反応温度を80乃至85℃に
保つ。
に加温した混合物に30分以内に攪拌下2.4−ビス−
オキシエチルスルホニルメチル−ニトロベンゾール10
0部を均等に加え、導入中反応温度を80乃至85℃に
保つ。
添加終了後30分間攪拌し、水性ソーダ溶液を用いて8
.5のρ■1−値にし、加熱しながら沈澱水酸化鉄の除
去により清澄化する。ろ過残留物を2回少量の熱湯を用
いて洗浄する。引き続いて、−緒にしたろ液を真空中で
150容量部に蒸発濃縮し、次に攪拌下O乃至5℃に冷
却する。
.5のρ■1−値にし、加熱しながら沈澱水酸化鉄の除
去により清澄化する。ろ過残留物を2回少量の熱湯を用
いて洗浄する。引き続いて、−緒にしたろ液を真空中で
150容量部に蒸発濃縮し、次に攪拌下O乃至5℃に冷
却する。
沈澱した薄帯褐色着色沈澱をメツチエ上で単離し、少量
の氷水でおおい、60℃に於いて真空乾燥する0式 で示される、融点183乃至185℃及び純度(ジアゾ
化による)99.5%を有するる2,4−ビス−オキシ
エチルスルホニルメチル−アニリン84.7部が得られ
る。
の氷水でおおい、60℃に於いて真空乾燥する0式 で示される、融点183乃至185℃及び純度(ジアゾ
化による)99.5%を有するる2,4−ビス−オキシ
エチルスルホニルメチル−アニリン84.7部が得られ
る。
分析: C: 42.6%(計算値42.72%)
、H: 5.85%(計算値5.68%)、N:
4.05%(計算値4.15%)、S: 18.
95%(計算@19.00%)。
、H: 5.85%(計算値5.68%)、N:
4.05%(計算値4.15%)、S: 18.
95%(計算@19.00%)。
例 12
例11に於いて2,4−ビス−オキシエチルスルホニル
メチル−ニトロベンゾールを2,5−異性体に替え、そ
の他は上記の様にして実施すれば、式 で示される2、5−ビス−オキシエチルスルホニルメチ
ル−アニリンが、比較可能な収率及び品質に於いて融点
196乃至198℃を有するベージュ色着色結晶として
得られる。元素分析により前記式が証明される。
メチル−ニトロベンゾールを2,5−異性体に替え、そ
の他は上記の様にして実施すれば、式 で示される2、5−ビス−オキシエチルスルホニルメチ
ル−アニリンが、比較可能な収率及び品質に於いて融点
196乃至198℃を有するベージュ色着色結晶として
得られる。元素分析により前記式が証明される。
例 13
水素化オートクレーブ中で水3000部及び2.5−ビ
ス−オキシエチルスルホニルメチル−ニトロベンゾール
150部を仕込み、貴金属触媒(5%パラジウム−カー
ボン担持触媒)を添加する。オートクレーブを密封し、
気体空間を先ず窒素により、次に水素により3回パージ
して酸素及び窒素を除去する。
ス−オキシエチルスルホニルメチル−ニトロベンゾール
150部を仕込み、貴金属触媒(5%パラジウム−カー
ボン担持触媒)を添加する。オートクレーブを密封し、
気体空間を先ず窒素により、次に水素により3回パージ
して酸素及び窒素を除去する。
引き続いて40バールの水素を圧入し、90℃に加熱す
る。水素圧は水素の定常的圧入により40乃至45バー
ルに保つ。90℃に於いて2時間後水素吸収を中断する
。オートクレーブ−内容物を加熱しながら加圧フィルタ
ーを経て触媒から清澄化し、ろ液を攪拌下0乃至5℃に
冷却する。沈澱した無色結晶を吸引ろ過し、少量の氷水
で洗浄し、60℃に於いて真空乾燥する。式 で示される、融点198乃至199℃及び純度99.9
%(ジアゾ化により測定)を有する2゜5−ビス−オキ
シエチルスルホニルメチル−アニリン110部が得られ
る。
る。水素圧は水素の定常的圧入により40乃至45バー
ルに保つ。90℃に於いて2時間後水素吸収を中断する
。オートクレーブ−内容物を加熱しながら加圧フィルタ
ーを経て触媒から清澄化し、ろ液を攪拌下0乃至5℃に
冷却する。沈澱した無色結晶を吸引ろ過し、少量の氷水
で洗浄し、60℃に於いて真空乾燥する。式 で示される、融点198乃至199℃及び純度99.9
%(ジアゾ化により測定)を有する2゜5−ビス−オキ
シエチルスルホニルメチル−アニリン110部が得られ
る。
例 14
例13を正確に繰り返すが、ただ水3000部の代わり
に例13により得られる水性液(約3050部)を、新
鮮な触媒の代わりに水素化から清澄化ろ過により分離し
たパラジウム−触媒を使用する点が異なる。
に例13により得られる水性液(約3050部)を、新
鮮な触媒の代わりに水素化から清澄化ろ過により分離し
たパラジウム−触媒を使用する点が異なる。
融点198乃至199℃及び純度(ジアゾ化)99.8
%を有する2、5−ビス−オキシエチルスルホニルメチ
ル−アニリン122部が得られる。
%を有する2、5−ビス−オキシエチルスルホニルメチ
ル−アニリン122部が得られる。
例 15乃至23
例13及びI4に記載の如〈実施するが、2.5−ビス
−オキシエチルスルホニルメチル−ニトロベンゾール夫
々150部、夫々水性母−液及び先行バッチのパラジウ
ム−触媒を使用すれば、融点197乃至199℃及び純
度(ジアゾ化)〉99%を有する2、5−ビス−オキシ
エチルスルホニルメチル−アニリン夫々約128部が得
られ、即ち母液及び触媒は生成物悪化又は収率低下なし
に夫々少な(とも10回再循還可能である。
−オキシエチルスルホニルメチル−ニトロベンゾール夫
々150部、夫々水性母−液及び先行バッチのパラジウ
ム−触媒を使用すれば、融点197乃至199℃及び純
度(ジアゾ化)〉99%を有する2、5−ビス−オキシ
エチルスルホニルメチル−アニリン夫々約128部が得
られ、即ち母液及び触媒は生成物悪化又は収率低下なし
に夫々少な(とも10回再循還可能である。
例24
例13に於いてパラジウム−触媒を市販の白金−又はニ
ッケルー担持触媒に替え、その他はそこに記載した様に
して実施すれば、比較可能な収率及び品質に於いて2,
5−ビス−オキシエチルスルホニルメチル−アニリンが
得られる。
ッケルー担持触媒に替え、その他はそこに記載した様に
して実施すれば、比較可能な収率及び品質に於いて2,
5−ビス−オキシエチルスルホニルメチル−アニリンが
得られる。
例25
例13に於いて2,5−ビス−オキシエチルスルホニル
−ニトロペンゾールを3.4−I性体に替え(例10参
照)、その他は例13の記載により実施すれば、式 で示される3、4−ビス−オキシエチルスルホニルメチ
ル−アニリンが、融点168乃至171″C及び純度(
ジアゾ化)99.2%を有する無色結晶の形で得られる
。
−ニトロペンゾールを3.4−I性体に替え(例10参
照)、その他は例13の記載により実施すれば、式 で示される3、4−ビス−オキシエチルスルホニルメチ
ル−アニリンが、融点168乃至171″C及び純度(
ジアゾ化)99.2%を有する無色結晶の形で得られる
。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1、式 ▲数式、化学式、表等があります▼ (式中両側鎖−CH_2−SO_2−CH_2−CH_
2−OHは互いにオルト−、メタ−又はパラ−位に 在り、アミノ基は、上記の両側鎖が1,2 −又は1,3−位に在る場合、4−位に在 る) で示されるビス−オキシエチルスルホニルメチル−アニ
リン。 2、式 ▲数式、化学式、表等があります▼ (式中両側鎖−CH_2SO_2−CH_2−CH_2
−OHは互いにオルト−、メタ−又はパラ−位に 在り、ニトロ基は、上記の両側鎖が1,2 −又は1,3−位に在る場合、4−位に在 る) で示されるビス−オキシエチルスルホニルメチル−ニト
ロベンゾール。 3、式 ▲数式、化学式、表等があります▼ (式中両側鎖は互いにオルト−、メタ−又はパラ−位に
在る) で示されるビス−オキシエチルスルホニルメチル−ベン
ゾール。 4、式 ▲数式、化学式、表等があります▼ (式中両側鎖は互いにオルト−、メタ−又はパラ−位に
在る) で示されるビス−オキシエチルメルカプトメチル−ベン
ゾール。 5、式 ▲数式、化学式、表等があります▼ (式中両側鎖−CH_2SO_2CH_2−CH_2−
OHは互いにオルト−、メタ−又はパラ−位に 在り、アミノ基は、上記の両側鎖が1,2 −又は1,3−位に在る場合、4−位に在 る) で示されるビス−オキシエチルスルホニルメチル−アニ
リンを製造するために、キシリレンジクロリド(1,2
−、1,3−又は 1,4−ビス−クロルメチルベンゾール)1モルをメル
カプトエタノール少なくとも2モルと約40℃乃至約1
50℃の温度に於いて水性媒体中で酸結合剤の存在下反
応させて式▲数式、化学式、表等があります▼ (式中両側鎖は互いにオルト−、メタ−又はパラ−位に
在る) で示される、対応するビス−オキシエチルメルカプトメ
チル−ベンゾールを得、これを過酸化水素少なくとも4
モルにより約50乃至約120℃の温度に於いてpH−
値<7に於いて触媒としてのタングステン(VI)−化合
物の存在下酸化して式 ▲数式、化学式、表等があります▼ (式中両側鎖は互いにオルト−、メタ−又はパラ−位に
在る) で示される、対応するビス−オキシエチルスルホニルメ
チル−ベンゾールを得、これを無水硫酸少なくとも4モ
ルにより約30乃至約45℃の温度に於いて対応するビ
ス−硫酸エステルに変え、これを高百分率の硝酸少なく
とも化学論量的量により約0乃至約60℃の温度に於い
てニトロ化して式 ▲数式、化学式、表等があります▼ (式中両側鎖−CH_2SO_2−CH_2CH_2−
OSO_3Hは互いにオルト−、メタ−又はパラ−位に 在り、ニトロ基は、上記の両側鎖が1,2 −又は1,3−位に在る場合、4−位に在 る) で示されるビス−スルファトエチルスルホニルメチル−
ニトロベンゾールを得、これを水の添加後加熱によりけ
ん化して対応するビス−オキシエチルスルホニルメチル
−ニトロベンゾールを得、これを中間単離後還元して対
応するビス−オキシエチルスルホニルメチル−アニリン
を得ることを特徴とする上記製法。 6、酸結合剤としてアルカリ−又はアルカリ土類金属の
酸化物、水酸化物又は炭酸塩を使用する請求項5記載の
方法。 7、酸化をタングステン酸ナトリウム又は三酸化タング
ステンの存在下実施する請求項5又は6記載の方法。 8、還元を鉄により水性媒体中で実施する請求項5乃至
7のいずれかに記載の方法。 9、還元を水性媒体中で接触活性化した水素により実施
する請求項5乃至7のいずれかに記載の方法。 10、けん化を還流下約100乃至約120℃の温度に
加熱させて実施する請求項5乃至9のいずれかに記載の
方法。 11、一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ (式中Yは水素−又は酸素原子を意味し、両側鎖−CH
_2−SO_2−CH_2−CH_2−OHは互いにオ
ルト−、メタ−又はパラ−位に在り、 基N(Y)_2は、上記の両側鎖が1,2−又は1,3
−位に在る場合、4−位に在る) で示される化合物。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE3733504.9 | 1987-10-03 | ||
DE19873733504 DE3733504A1 (de) | 1987-10-03 | 1987-10-03 | Bis-oxethylsulfonylmethyl-aniline und verfahren zu ihrer herstellung |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH01113362A true JPH01113362A (ja) | 1989-05-02 |
Family
ID=6337576
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP63242650A Pending JPH01113362A (ja) | 1987-10-03 | 1988-09-29 | ビス‐オキシエチルスルホニルメチル‐アニリン及びその製法 |
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Country | Link |
---|---|
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EP (1) | EP0310944B1 (ja) |
JP (1) | JPH01113362A (ja) |
KR (1) | KR890006580A (ja) |
DE (2) | DE3733504A1 (ja) |
IN (1) | IN171542B (ja) |
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP0414637A1 (de) * | 1989-08-23 | 1991-02-27 | Ciba-Geigy Ag | Verfahren zur Herstellung von aromatischen Aminen |
US5166441A (en) * | 1990-12-12 | 1992-11-24 | Neurosearch A/S | Astaxanthin intermediates |
Family Cites Families (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
GB931595A (en) * | 1959-12-08 | 1963-07-17 | Gen Aniline & Film Corp | Aminobenzyl sulfonylethanol compounds |
US3201434A (en) * | 1960-11-25 | 1965-08-17 | Stevens & Co Inc J P | Di(beta ethylsulfonyl) salts |
US3330855A (en) * | 1962-09-11 | 1967-07-11 | Nat Distillers Chem Corp | alpha, alpha'-bis(lauryl beta-thiopropionate)-p-xylene |
DE1225167B (de) * | 1965-04-07 | 1966-09-22 | Huels Chemische Werke Ag | Verfahren zur Herstellung aliphatischer, aromatischer oder gemischt aliphatisch-aromatischer Sulfone |
US4612394A (en) * | 1982-04-06 | 1986-09-16 | Sumitomo Chemical Company, Limited | Process for producing aminophenyl-β-hydroxyethylsulfone |
DE3314565A1 (de) * | 1983-04-22 | 1984-10-25 | Wella Ag, 6100 Darmstadt | 1-methylsulfonymethoxy-2,4-diaminobenzol, verfahren zu dessen herstellung und diese verbindung enthaltende haarfaerbemittel |
DE3423933A1 (de) * | 1984-06-29 | 1986-01-09 | Wella Ag, 6100 Darmstadt | 2-alkylsufonyl-1,4-diaminobenzole, verfahren zu ihrer herstellung sowie oxidationshaarfaerbemittel mit einem gehalt an diesen verbindungen |
DE3441274A1 (de) * | 1984-11-12 | 1986-05-15 | Hoechst Ag, 6230 Frankfurt | Monocyclische bis-oxethylsulfonyl-benzole und verfahren zu ihrer herstellung |
-
1987
- 1987-10-03 DE DE19873733504 patent/DE3733504A1/de not_active Withdrawn
-
1988
- 1988-09-22 IN IN791/CAL/88A patent/IN171542B/en unknown
- 1988-09-29 EP EP88116094A patent/EP0310944B1/de not_active Expired - Lifetime
- 1988-09-29 JP JP63242650A patent/JPH01113362A/ja active Pending
- 1988-09-29 DE DE8888116094T patent/DE3877487D1/de not_active Expired - Fee Related
- 1988-09-29 US US07/251,469 patent/US4960940A/en not_active Expired - Fee Related
- 1988-09-30 KR KR1019880012731A patent/KR890006580A/ko not_active Application Discontinuation
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
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EP0310944A3 (en) | 1990-01-10 |
DE3877487D1 (de) | 1993-02-25 |
EP0310944B1 (de) | 1993-01-13 |
DE3733504A1 (de) | 1989-04-13 |
KR890006580A (ko) | 1989-06-14 |
US4960940A (en) | 1990-10-02 |
IN171542B (ja) | 1992-11-14 |
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