JP7237166B2 - 組成物、膜、近赤外線カットフィルタ、パターン形成方法、積層体、固体撮像素子、赤外線センサ、画像表示装置、カメラモジュール、及び、化合物 - Google Patents

組成物、膜、近赤外線カットフィルタ、パターン形成方法、積層体、固体撮像素子、赤外線センサ、画像表示装置、カメラモジュール、及び、化合物 Download PDF

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Description

本開示は、組成物、膜、近赤外線カットフィルタ、パターン形成方法、積層体、固体撮像素子、赤外線センサ、画像表示装置、カメラモジュール、及び、化合物に関する。
カラーフィルタ等の部材は、有機顔料や無機顔料を分散させた硬化性組成物等の顔料分散組成物に、多官能モノマー及び光重合開始剤、アルカリ可溶性樹脂及びその他成分を含有して着色感光性組成物とし、これを用いてフォトリソ法などにより製造されている。
上記顔料として、ジヒドロペリミジン骨格を有するスクアリリウム化合物を用いることが知られている。
また、従来の顔料及び染料の例としては、国際公開第２０１８／０４３１８５号及び国際公開第２０１６／１９４５２７号に記載のものが挙げられる。
国際公開第２０１８／０４３１８５号には、６５０～１０００ｎｍの範囲に極大吸収波長を有する近赤外線吸収化合物と、有機溶剤と、樹脂とを含み、上記近赤外線吸収化合物は、ピロロピロール化合物、リレン化合物、オキソノール化合物、スクアリリウム化合物、クロコニウム化合物、亜鉛フタロシアニン化合物、コバルトフタロシアニン化合物、バナジウムフタロシアニン化合物、銅フタロシアニン化合物、マグネシウムフタロシアニン化合物、ナフタロシアニン化合物、ピリリウム化合物、アズレニウム化合物、インジゴ化合物及びピロメテン化合物から選ばれる少なくとも１種であり、かつ、２５℃のプロピレングリコールメチルエーテルアセテートに対する溶解度が０．０１～３０ｍｇ／Ｌである、組成物が記載されている。
国際公開第２０１６／１９４５２７号には、７００～１２００ｎｍの範囲に極大吸収波長を有する、近赤外線吸収性色素多量体が記載されている。
本開示の一実施形態が解決しようとする課題は、得られる硬化膜の分光特性に優れる組成物を提供することである。
また、本開示の他の実施形態が解決しようとする課題は、上記組成物を用いた膜、近赤外線カットフィルタ、パターン形成方法、積層体、固体撮像素子、赤外線センサ、画像表示装置、及び、カメラモジュールを提供することである。
本開示の更に他の一実施形態が解決しようとする課題は、新規な化合物を提供することである。
本開示には、以下の態様が含まれる。
＜１＞ 下記式（１）で表される構造を有する色素と、
有機溶剤と、
硬化性化合物と、を含み、
上記（１）で表される構造を有する色素は、２５℃のプロピレングリコールメチルエーテルアセテートに対する溶解度が１００ｍｇ／Ｌ以下である、組成物。
（Ｄｙｅ）ｎ－Ｌ１ （１）
式（１）中、Ｌ１はｎ価の連結基を表し、ｎは２～１０の整数を表し、ただしｎが２の場合、Ｌ１は単結合であってもよく、Ｄｙｅはそれぞれ独立に、波長６５０ｎｍ～２，０００ｎｍの範囲に極大吸収波長を有する色素構造を表す。
＜２＞ 上記式（１）で表される構造を有する色素は、ピロロピロール化合物、リレン化合物、オキソノール化合物、スクアリリウム化合物、クロコニウム化合物、バナジウムフタロシアニン化合物、ナフタロシアニン化合物、インジゴ化合物、及び、ピロメテン化合物よりなる群から選ばれる少なくとも１種の化合物である＜１＞に記載の組成物。
＜３＞ 上記式（１）で表される構造を有する色素は、ピロロピロール化合物、スクアリリウム化合物、クロコニウム化合物、及び、ピロメテン化合物よりなる群から選ばれる少なくとも１種の化合物である、＜１＞又は＜２＞に記載の組成物。
＜４＞ 上記式（１）におけるＬ１が、脂肪族環、芳香族環、及び、複素環からなる群より選ばれる少なくとも二つ以上の環構造を有する２価～１０価の連結基である＜１＞～＜３＞のいずれか１つに記載の組成物。
＜５＞ 上記式（１）で表される構造を有する色素の分子量が、４，０００未満である、＜１＞～＜４＞のいずれか１つに記載の組成物。
＜６＞ 上記式（１）におけるＬ１に含まれる炭素数の合計が、１～１８である＜１＞～＜５＞のいずれか１つに記載の組成物。
＜７＞ 上記式（１）で表される構造を有する色素の体積平均粒子径が、１ｎｍ～５００ｎｍである、＜１＞～＜６＞のいずれか１つに記載の組成物。
＜８＞ 上記式（１）におけるｎが、２である＜１＞～＜７＞のいずれか１つに記載の組成物。
＜９＞ 上記式（１）において、ｎが２であり、かつ、Ｌ１が下記式（２）、又は、下記式（３）で表される基である、＜１＞～＜８＞のいずれか１つに記載の組成物。

＊－Ｘ１－Ａ１－Ｘ２－＊ 式（２）
上記式（２）中、Ｘ１及びＸ２はそれぞれ独立に、単結合、－Ｏ－、－Ｓ－，－ＮＲ１Ａ－、－ＣＯ－、－ＣＯＯ－、－ＯＣＯＯ－、－ＳＯ２ＮＲ１Ａ－、－ＣＯＮＲ１Ａ－、－ＯＣＯＮＲ１Ａ－、又は、－ＮＲ１ＡＣＯＮＲ１Ａ－を表し、Ｒ１Ａは水素原子、アルキル基又は、アリール基を表し、Ａ１は、単結合、脂肪族環構造、芳香族環構造、又は、複素環構造を表し、＊は、Ｄｙｅとの連結位置を表し、ただし、Ａ１が単結合のとき、Ｘ１及びＸ２の両方が単結合となることはない。

＊－Ｘ３－Ａ２－Ｌ２－Ａ３－Ｘ４－＊ 式（３）
上記式（３）中、Ｘ３及びＸ４はそれぞれ独立に、単結合、－Ｏ－、－Ｓ－、－ＮＲ２Ａ－、－ＣＯ－、－ＣＯＯ－、－ＯＣＯＯ－、－ＳＯ２ＮＲ２Ａ－、－ＣＯＮＲ２Ａ－、－ＯＣＯＮＲ２Ａ－、又は、－ＮＲ２ＡＣＯＮＲ２Ａ－を表し、Ｒ２Ａは水素原子又はアルキル基を表し、
Ｌ２は、単結合、－Ｏ－、－Ｓ－、－ＮＲ２Ｂ－、－ＣＯ－、－ＣＯＯ－、－ＯＣＯＯ－、－ＳＯ２ＮＲ２Ｂ－、－ＣＯＮＲ２Ｂ－、－ＯＣＯＮＲ２Ｂ－、－ＮＲ２ＢＣＯＮＲ２Ｂ－、炭素数１～６のアルキレン基、アルケニル基、アルキニル基、芳香族環構造、又は、これらを組み合わせた基を表し、Ｒ２Ｂは水素原子又はアルキル基を表し、Ａ２及びＡ３はそれぞれ独立に、脂肪族環構造、芳香族環構造、又は、複素環構造を表す。
＜１０＞ 顔料誘導体を更に含む、＜１＞～＜９＞のいずれか１つに記載の組成物。
＜１１＞ 上記硬化性化合物が重合性化合物を含み、かつ、光重合開始剤を更に含む、＜１＞～＜１０＞のいずれか１つに記載の組成物。
＜１２＞ アルカリ可溶性樹脂を含む、＜１＞～＜１１＞のいずれか１つに記載の組成物。
＜１３＞ ＜１＞～＜１２＞のいずれか１つに記載の組成物からなる又は上記組成物を硬化してなる膜。
＜１４＞ ＜１３＞に記載の膜を有する近赤外線カットフィルタ。
＜１５＞ ガラス基板を更に有する、＜１４＞に記載の近赤外線カットフィルタ。
＜１６＞ ＜１＞～＜１２＞のいずれか１つに記載の組成物を用いて支持体上に組成物層を形成する工程と、
フォトリソグラフィ法又はドライエッチング法により上記組成物層に対してパターンを形成する工程と、
を含むパターン形成方法。
＜１７＞ ＜１３＞に記載の膜と、有彩色着色剤を含むカラーフィルタと、を有する積層体。
＜１８＞ ＜１３＞に記載の膜を有する固体撮像素子。
＜１９＞ ＜１３＞に記載の膜を有する画像表示装置。
＜２０＞ ＜１３＞に記載の膜を有するカメラモジュール。
＜２１＞ ＜１３＞に記載の膜を有する赤外線センサ。
＜２２＞ 下記式（４－１）で表されるピロロピロール化合物。
Figure 0007237166000001
式（４－１）中、Ｒ１ａ及びＲ１ｂはそれぞれ独立に、アリール基又はヘテロアリール基を表し、Ｒ２及びＲ３はそれぞれ独立に、水素原子又は置換基を表し、Ｒ２及びＲ３は、互いに結合して環を形成してもよく、Ｒ４はそれぞれ独立に、水素原子、アルキル基、アリール基、ヘテロアリール基、－ＢＲ４ＡＲ４Ｂ、又は、金属原子を表し、Ｒ４は、Ｒ１ａ、Ｒ１ｂ及びＲ３からなる群より選ばれる少なくとも１つと、共有結合若しくは配位結合していてもよく、Ｒ４Ａ及びＲ４Ｂはそれぞれ独立に、水素原子又は置換基を表し、Ｌ３は、下記式（２）又は下記式（３）で表される基である。
＊－Ｘ１－Ａ１－Ｘ２－＊ 式（２）
上記式（２）中、Ｘ１及びＸ２はそれぞれ独立に、単結合、－Ｏ－、－Ｓ－，－ＮＲ１Ａ－、－ＣＯ－、－ＣＯＯ－、－ＯＣＯＯ－、－ＳＯ２ＮＲ１Ａ－、－ＣＯＮＲ１Ａ－、－ＯＣＯＮＲ１Ａ－、又は、－ＮＲ１ＡＣＯＮＲ１Ａ－を表し、Ｒ１Ａは水素原子、アルキル基又は、アリール基を表し、Ａ１は、単結合、脂肪族環構造、芳香族環構造、又は、複素環構造を表し、＊は、Ｄｙｅとの連結位置を表し、ただし、Ａ１が単結合のとき、Ｘ１及びＸ２の両方が単結合となることはない。
＊Ｘ３－Ａ２－Ｌ２－Ａ３－Ｘ４＊ 式（３）
上記式（３）中、Ｘ３及びＸ４はそれぞれ独立に、単結合、－Ｏ－、－Ｓ－、－ＮＲ２Ａ－、－ＣＯ－、－ＣＯＯ－、－ＯＣＯＯ－、－ＳＯ２ＮＲ２Ａ－、－ＣＯＮＲ２Ａ－、－ＯＣＯＮＲ２Ａ－、又は、－ＮＲ２ＡＣＯＮＲ２Ａ－を表し、Ｒ２Ａは水素原子又はアルキル基を表し、
Ｌ２は、単結合、－Ｏ－、－Ｓ－、－ＮＲ２Ｂ－、－ＣＯ－、－ＣＯＯ－、－ＯＣＯＯ－、－ＳＯ２ＮＲ２Ｂ－、－ＣＯＮＲ２Ｂ－、－ＯＣＯＮＲ２Ｂ－、－ＮＲ２ＢＣＯＮＲ２Ｂ－、炭素数１～６のアルキレン基、アルケニル基、アルキニル基、芳香族環構造、又は、これらを組み合わせた基を表し、Ｒ２Ｂは水素原子又はアルキル基を表し、Ａ２及びＡ３はそれぞれ独立に、脂肪族環構造、芳香族環構造、又は、複素環構造を表す。
本開示の一実施形態によれば、得られる硬化膜の分光特性に優れる組成物が提供される。
また、本開示の他の実施形態によれば、上記組成物を用いた膜、近赤外線カットフィルタ、パターン形成方法、積層体、固体撮像素子、赤外線センサ、画像表示装置、及び、カメラモジュールが提供される。
本開示の更に他の一実施形態によれば、新規な化合物が提供される。
本開示に係る赤外線センサの一実施形態を示す概略図である。
以下において、本開示の内容について詳細に説明する。
本開示において「全固形分」とは、組成物の全組成から溶剤を除いた成分の総質量をいう。また、「固形分」とは、上述のように、溶剤を除いた成分であり、例えば、２５℃において固体であっても、液体であってもよい。
本開示における基（原子団）の表記において、置換及び無置換を記していない表記は、置換基を有さないものとともに置換基を有するものをも包含するものである。例えば、「アルキル基」とは、置換基を有さないアルキル基（無置換アルキル基）のみならず、置換基を有するアルキル基（置換アルキル基）をも包含するものである。
本開示において「露光」とは、特に断らない限り、光を用いた露光のみならず、電子線、イオンビーム等の粒子線を用いた描画も含む。また、露光に用いられる光としては、一般的に、水銀灯の輝線スペクトル、エキシマレーザに代表される遠紫外線、極紫外線（ＥＵＶ光）、Ｘ線、電子線等の活性光線又は放射線が挙げられる。
本開示において「～」を用いて示された数値範囲は、「～」の前後に記載される数値をそれぞれ最小値及び最大値として含む範囲を意味する。
本開示に段階的に記載されている数値範囲において、ある数値範囲で記載された上限値又は下限値は、他の段階的な記載の数値範囲の上限値又は下限値に置き換えてもよい。また、本開示に記載されている数値範囲において、ある数値範囲で記載された上限値又は下限値は、実施例に示されている値に置き換えてもよい。
本開示において、「（メタ）アクリレート」は、アクリレート及びメタクリレートの双方、又は、いずれかを表し、「（メタ）アクリル」は、アクリル及びメタクリルの双方、又は、いずれかを表し、「（メタ）アクリロイル」は、アクリロイル及びメタクリロイルの双方、又は、いずれかを表す。
本開示において、化学式中のＭｅはメチル基を、Ｅｔはエチル基を、Ｐｒはプロピル基を、Ｂｕはブチル基を、Ａｃはアセチル基を、Ｂｎはベンジル基を、Ｐｈはフェニル基をそれぞれ示す。
本開示において「工程」との語は、独立した工程だけではなく、他の工程と明確に区別できない場合であってもその工程の所期の作用が達成されれば、本用語に含まれる。
本開示において、「質量％」と「重量％」とは同義であり、「質量部」と「重量部」とは同義である。
更に、本開示において、２以上の好ましい態様の組み合わせは、より好ましい態様である。
本開示における透過率は、特に断りのない限り、２５℃における透過率である。
本開示において、重量平均分子量及び数平均分子量は、ゲルパーミエーションクロマトグラフィ（ＧＰＣ）により測定したポリスチレン換算値として定義される。
（組成物）
本開示に係る組成物は、下記式（１）で表される構造を有する色素と、有機溶剤と、硬化性化合物と、を含み、上記式（１）で表される色素は、２５℃のプロピレングリコールメチルエーテルアセテートに対する溶解度が１００ｍｇ／Ｌ以下である。
（Ｄｙｅ）ｎ－Ｌ１ （１）
式（１）中、Ｌ１はｎ価の連結基を表し、ｎは２～１０の整数を表し、ただしｎが２の場合、Ｌ１は単結合であってもよく、Ｄｙｅはそれぞれ独立に、波長６５０ｎｍ～２，０００ｎｍの範囲に極大吸収波長を有する色素構造を表す。
本開示に係る組成物を用いることにより、分光特性に優れる硬化膜が得られる。
従来の色素である、例えば、国際公開第２０１８／０４３１８５号に記載の顔料又は国際公開第２０１６／１９４５２７号に記載の色素多量体を含む硬化膜において、分光特性が十分でない場合があった。
本発明者らが鋭意検討した結果、上記式（１）で表される色素と、有機溶剤と、硬化性化合物と、を含み、上記色素の２５℃のプロピレングリコールメチルエーテルアセテートに対する溶解性が１００ｍｇ／Ｌ以下である組成物に用いることにより、分光特性に優れる硬化膜が得られることを見出した。
上記効果が得られる理由は不明であるが、本開示に係る組成物に含まれる上記式（１）で表される構造を有する色素は、国際公開第２０１８／０４３１８５号に記載の顔料又は国際公開第２０１６／１９４５２７号に記載の色素多量体よりも、色素が会合しやすくなり、又は、会合状態が整うことにより、アモルファルス成分（非晶成分）が減ることで、極大吸収波長の幅が狭くなり、得られる膜の分光特性に優れると推定している。
また、本開示に係る組成物に含まれる上記式（１）で表される構造を有する色素は、特定の連結構造を有することで、分子の剛直性が向上し、更に、プロピレングリコールメチルエーテルアセテートに対する溶解性が１００ｍｇ／Ｌ以下であることにより、分子自体の光及び熱に対する安定性が向上し、耐熱性、及び、耐光性にも優れやすいと推定している。
以下、本開示に係る組成物に含まれる各成分の詳細を説明する。
＜式（１）で表される構造を有する色素＞
本開示に係る組成物は、上記式（１）で表される構造を有する色素を含む。
上記式（１）で表される構造を有する色素（以下、「特定色素」ともいう。）は、２５℃のプロピレングリコールメチルエーテルアセテート（以下、「ＰＧＭＥＡ」ともいう。）に対する溶解度が１００ｍｇ／Ｌ以下である。
上記式（１）で表される構造を有する色素は、赤外線吸収色素として好適に用いることができる。
また、上記式（１）で表される構造を有する色素は、顔料であることが好ましい。なお、本開示において、顔料とは、溶剤に不溶性の色素を意味する。また、染料とは、溶剤に溶解する色素を意味する。
なお、本開示において、式（１）で表される構造を有する色素（すなわち、特定色素）の溶解度は、以下の方法で測定し求められる。
大気圧下において、式（１）で表される構造を有する色素約１００ｍｇ（精秤した値をＸｍｇとする）を、２５℃のプロピレングリコールメチルエーテルアセテートの１Ｌに添加し、３０分間撹拌し、次いで、５分間静置した後にろ過し、ろ過物を８０℃２時間で減圧乾燥した後、精秤し（精秤した値をＹｍｇとする）、下記式からプロピレングリコールメチルエーテルアセテートに溶解した特定色素の溶解度を算出する。
特定色素のＰＧＭＥＡ溶解度（ｍｇ／Ｌ）＝Ｘ－Ｙ
式（１）で表される構造を有する色素の２５℃のＰＧＭＥＡに対する溶解度としては、分光特性、耐熱性、及び、耐光性の観点から、０．０１ｍｇ／Ｌ以上１００ｍｇ／Ｌ以下であることが好ましく、０．０１ｍｇ／Ｌ以上５０ｍｇ／Ｌ以下であることがより好ましく、０．０１ｍｇ／Ｌ以上１０ｍｇ／Ｌ以下であることが更に好ましく、０．０１ｍｇ／Ｌ以上１０ｍｇ／Ｌ未満であることが特に好ましい。
式（１）で表される構造を有する色素のＰＧＭＥＡに対する溶解度を低くする方法としては、以下が挙げられる。
（１）；式（１）で表される構造の平面性を高める。具体的には、Ｌ１に脂肪族環、芳香族環、及び、複素環からなる群より選ばれる少なくとも１つの環構造を導入することが挙げられる。
（２）；式（１）で表される構造に、ウレア構造、トリアジン構造、ヒドロキシル基等の水素結合性基を有する構造を導入する。
式（１）で表される構造を有する色素のＰＧＭＥＡに対する溶解度を低くする観点から、Ｌ１は、脂肪族環、芳香族環、及び、複素環からなる群より選ばれる少なくとも１つの環構造を有する連結基であることが好ましく、脂肪族環、芳香族環、又は、複素環を少なくとも１つ有する連結基であるであることがより好ましく、脂肪族環、芳香族環、又は、複素環を少なくとも２つ有する連結基であることが更に好ましい。
脂肪族環、芳香族環、及び、複素環は、置換基を有していてもよい。置換基としては、アルキル基、ハロゲン原子、アルケニル基、アリール基、一価のヘテロ環基、ニトロ基、シアノ基等が挙げられる。これらの中でも、アルキル基又はハロゲン原子であることが好ましく、アルキル基であることが好ましく、炭素数１～４のアルキル基であることが更に好ましい。
分光特性、耐熱性、及び、耐光性の観点から、脂肪族環、芳香族環、及び、複素環は、無置換、又は、置換基としてアルキル基又はハロゲン原子を有することが好ましく、無置換、又は、置換基としてアルキル基を有することがより好ましく、無置換、又は、置換基として炭素数１～４のアルキル基を有することが更に好ましく、無置換であることが特に好ましい。
上記式（１）で表される構造を有する色素において、Ｌ１は、ｎ価の連結基を表す。分光特性、耐熱性、及び、耐光性の観点から、Ｌ１は、２価～８価の連結基であることが好ましく、２価～６価の連結基であることがより好ましく、２価～４価の連結基であることが更に好ましく、２価又は３価の連結基であることが特に好ましい。
なお、Ｌ１の価数ｎと後述する式（１）におけるｎとは同義である。
上記式（１）で表される構造を有する色素において、ｎは２～１０の整数を表す。分光特性、耐熱性、及び、耐光性の観点から、ｎは、２～８の整数であることが好ましく、２～６の整数であることがより好ましく、２～４の整数であることが更に好ましく、２又は３であることが特に好ましく、２であることが最も好ましい。
上記式（１）で表される構造を有する色素において、ｎが２の場合、Ｌ１は単結合であってもよい。
分光特性、耐熱性、及び、耐光性の観点から、式（１）におけるＬ１は、脂肪族環、芳香族環、及び、複素環からなる群より選ばれる少なくとも１つの環構造を２つ以上有する２価～１０価の連結基（好ましくは２価～８価の連結基であり、より好ましくは２価～６価の連結基であり、更に好ましくは２価～４価の連結基であり、特に好ましくは２価又は３価の連結基である）であることが好ましく、脂肪族環、及び、芳香族環、からなる群より選ばれる少なくとも１つの環構造を２つ以上有する２価～１０価の連結基（好ましくは２価～８価の連結基であり、より好ましくは２価～６価の連結基であり、更に好ましくは２価～４価の連結基であり、特に好ましくは２価又は３価の連結基である）であることがより好ましく、芳香族環を２つ以上有する２価～１０価の連結基（好ましくは２価～８価の連結基であり、より好ましくは２価～６価の連結基であり、更に好ましくは２価～４価の連結基であり、特に好ましくは２価又は３価の連結基である）であることが更に好ましい。
分光特性、耐熱性、及び、耐光性の観点から、式（１）中のＬ１に含まれる炭素数（「炭素原子数」ともいう。）の合計は２４以下であることが好ましく、１～１８であることがより好ましく、９～１８であることが更に好ましい。
分光特性、耐熱性、及び、耐光性の観点から、式（１）において、ｎが２であり、かつ、Ｌ１が下記式（２）、又は、下記式（３）で表される基であることが好ましい。
＊－Ｘ１－Ａ１－Ｘ２－＊ 式（２）
上記式（２）中、Ｘ１及びＸ２はそれぞれ独立に、単結合、－Ｏ－、－Ｓ－，－ＮＲ１Ａ－、－ＣＯ－、－ＣＯＯ－、－ＯＣＯＯ－、－ＳＯ２ＮＲ１Ａ－、－ＣＯＮＲ１Ａ－、－ＯＣＯＮＲ１Ａ－、又は、－ＮＲ１ＡＣＯＮＲ１Ａ－を表し、Ｒ１Ａは水素原子、アルキル基又は、アリール基を表し、Ａ１は、単結合、脂肪族環構造、芳香族環構造、又は、複素環構造を表し、＊は、Ｄｙｅとの連結位置を表し、ただし、Ａ１が単結合のとき、Ｘ１及びＸ２の両方が単結合となることはない。
式（２）中、Ｘ１及びＸ２がそれぞれ独立に－ＮＲ１Ａ－、－ＳＯ２ＮＲ１Ａ－、－ＣＯＮＲ１Ａ－、－ＯＣＯＮＲ１Ａ－、又は、－ＮＲ１ＡＣＯＮＲ１Ａ－を表す場合、Ｒ１Ａは水素原子、炭素数１～４のアルキル基、又は、炭素数６～３０の芳香族炭化水素基であることが好ましく、水素原子、メチル基、フェニル基、又はナフチル基であることがより好ましく、水素原子又はフェニル基であることが更に好ましい。
分光特性、耐熱性、及び、耐光性の観点から、上記式（２）中、Ｘ１及びＸ２はそれぞれ独立に、単結合、－Ｏ－、－ＮＲ１Ａ－、－ＣＯＯ－、－ＯＣＯＯ－、－ＣＯＮＲ１Ａ－、－ＯＣＯＮＲ１Ａ－、又は、－ＮＲ１ＡＣＯＮＲ１Ａ－であることが好ましく、単結合、－ＮＲ１Ａ－、－ＣＯＯ－、又は、－ＯＣＯＯ－であることがより好ましく、単結合、又は、－ＣＯＯ－であることが更に好ましい。
式（２）中、Ａ１は、単結合、脂肪族環構造、芳香族環構造、又は、複素環構造を表す。
脂肪族環構造における脂肪族環は、単環であっても、２環以上の脂肪族環が縮合した縮合脂肪族環であってもよいが、単環であることが好ましい。
脂肪族環の環員数は、特に制限はないが、５員環～８員環であることが好ましく、５員環又は６員環であることがより好ましく、６員環であることが特に好ましい。
脂肪族環としては、例えば、シクロペンタン環、シクロヘキサン環等が挙げられる。
複素環構造における複素環は、単環であっても、２環以上の複素環又は複素環と芳香族環とが縮合した縮合複素環であってもよいが、単環であることが好ましい。
複素環の環員数は、特に制限はないが、５員環～８員環であることが好ましく、５員環又は６員環であることがより好ましい。
複素環は、窒素原子、酸素原子、及び硫黄原子からなる群より選ばれる少なくとも１種の複素原子を、少なくとも１つ有する複素環が好ましく、窒素原子及び硫黄原子からなるより選ばれる少なくとも１種の複素原子を有することがより好ましく、窒素原子又は硫黄原子を含むことが更に好ましく、窒素原子を含むことが特に好ましい。
複素環としては、例えば、ピリジン環、ピリミジン環、チオフェン環、フラン環、ピロール環等が挙げられる。
芳香族環構造における芳香族環は、単環であっても、２環以上の芳香族環が縮合した縮合芳香族環であってもよいが、単環であることが好ましい。
芳香族環としては、芳香族炭化水素環であることが好ましく、単環の芳香族炭化水素環であることがより好ましく、ベンゼン環であることが更に好ましい。
分光特性、耐熱性、及び、耐光性の観点から、上記式（２）中、Ａ１は、単結合、又は、芳香族環構造であることが好ましく、ベンゼン環構造であることがより好ましい。
分光特性、耐熱性、及び、耐光性の観点から、上記式（２）中、Ｘ１及びＸ２はそれぞれ独立に、単結合、－Ｏ－、－ＮＲ１Ａ－、－ＣＯＯ－、－ＯＣＯＯ－、－ＣＯＮＲ１Ａ－、－ＯＣＯＮＲ１Ａ－、又は、－ＮＲ１ＡＣＯＮＲ１Ａ－であり、Ａ１は、単結合、又は、芳香族環構造であることが好ましく、Ｘ１及びＸ２はそれぞれ独立に、単結合、－ＮＲ１Ａ－、－ＣＯＯ－、又は、－ＯＣＯＯ－であり、Ａ１は、単結合、又は、単環の芳香族環構造であることがより好ましく、Ｘ１及びＸ２はそれぞれ独立に、単結合、又は、－ＣＯＯ－であり、Ａ１は、単結合、又は、ベンゼン環構造であることが更に好ましい。
＊－Ｘ３－Ａ２－Ｌ２－Ａ３－Ｘ４－＊ 式（３）
上記式（３）中、Ｘ３及びＸ４はそれぞれ独立に、単結合、－Ｏ－、－Ｓ－、－ＮＲ２Ａ－、－ＣＯ－、－ＣＯＯ－、－ＯＣＯＯ－、－ＳＯ２ＮＲ２Ａ－、－ＣＯＮＲ２Ａ－、－ＯＣＯＮＲ２Ａ－、又は、－ＮＲ２ＡＣＯＮＲ２Ａ－を表し、Ｒ２Ａは水素原子又はアルキル基を表し、
Ｌ２は、単結合、－Ｏ－、－Ｓ－、－ＮＲ２Ｂ－、－ＣＯ－、－ＣＯＯ－、－ＯＣＯＯ－、－ＳＯ２ＮＲ２Ｂ－、－ＣＯＮＲ２Ｂ－、－ＯＣＯＮＲ２Ｂ－、－ＮＲ２ＢＣＯＮＲ２Ｂ－、炭素数１～６のアルキレン基、アルケニル基、アルキニル基、芳香族環構造、又は、これらを組み合わせた基を表し、Ｒ２Ｂは水素原子又はアルキル基を表し、Ａ２及びＡ３はそれぞれ独立に、脂肪族環構造、芳香族環構造、又は、複素環構造を表す。
式（３）中、Ａ２及びＡ３における脂肪族環構造、芳香族環構造、及び、複素環構造は、式（２）中のＡ１における脂肪族環構造、芳香族環構造、及び、複素環構造と同義である。
式（３）中、Ｘ３及びＸ４がそれぞれ独立に、－ＮＲ２Ａ－、－ＳＯ２Ｒ２Ａ－、－ＣＯＮＲ２Ａ－、－ＯＣＯＮＲ２Ａ－、又は、－ＮＲ２ＡＣＯＮＲ２Ａ－を表す場合、Ｒ２Ａは水素原子又は炭素数１～４のアルキル基であることが好ましく、水素原子又はメチル基であることがより好ましく、水素原子であることがより好ましい。
式（３）中、Ｌ２がそれぞれ独立に、－ＮＲ２Ｂ－、－ＳＯ２Ｒ２Ｂ－、－ＣＯＮＲ２Ｂ－、－ＯＣＯＮＲ２Ｂ－、又は、－ＮＲ２ＢＣＯＮＲ２Ｂ－を表す場合、Ｒ２Ｂは水素原子又は炭素数１～４のアルキル基であることが好ましく、水素原子又はメチル基であることがより好ましく、水素原子であることがより好ましい。
分光特性、耐熱性、及び、耐光性の観点から、上記式（３）中、Ｘ３及びＸ４はそれぞれ独立に、単結合、－Ｏ－、－ＮＲ１Ａ－、－ＣＯＯ－、又は、－ＣＯＮＲ１Ａ－、であることが好ましく、単結合、－Ｏ－、－ＮＲ１Ａ－、又は、－ＣＯＯ－であることがより好ましく、単結合、又は、－ＣＯＯ－であることが更に好ましい。
分光特性、耐熱性、及び、耐光性の観点から、上記式（３）中、Ｌ２は、単結合、－Ｏ－、－Ｓ－、又は、－ＣＯ－、であることが好ましく、単結合、－Ｏ－、又は、－Ｓ－であることがより好ましく、単結合であることが更に好ましい。
分光特性、耐熱性、及び、耐光性の観点から、上記式（３）中、Ａ２及びＡ３はそれぞれ独立に、単結合、又は、芳香族環構造であることが好ましく、単環の芳香族環構造であることがより好ましく、ベンゼン環構造であることが更に好ましい。
分光特性、耐熱性、及び、耐光性の観点から、上記式（３）中、Ｘ３及びＸ４はそれぞれ独立に、単結合、－Ｏ－、－ＮＲ１Ａ－、－ＣＯＯ－、又は、－ＣＯＮＲ１Ａ－であり、Ｌ２は、単結合、－Ｏ－、－Ｓ－、又は、－ＣＯ－であり、Ａ２及びＡ３はそれぞれ独立には、単結合、又は、芳香族環構造であることが好ましく、Ｘ３及びＸ４はそれぞれ独立に、単結合、－Ｏ－、－ＮＲ１Ａ－、又は、－ＣＯＯ－であり、Ｌ２は、単結合、－Ｏ－、又は、－Ｓ－であり、Ａ２及びＡ３はそれぞれ独立に、単環の芳香族環構造であることがより好ましく、Ｘ３及びＸ４はそれぞれ独立に、単結合、又は、－ＣＯＯ－であり、Ｌ２は単結合であり、Ａ２及びＡ３はそれぞれ独立に、ベンゼン環構造であることが更に好ましい。
上記式（１）で表される構造を有する色素においてＤｙｅは、波長６５０ｎｍ～２，０００ｎｍの範囲に極大吸収波長を有する色素構造（以下、「色素構造Ｄｙｅ」ともいう。）を表す。
本開示においてＤｙｅが「波長６５０ｎｍ～２，０００ｎｍの範囲に極大吸収波長を有する色素構造」であるとは、Ｄｙｅで表される色素構造を有する化合物の溶液での吸収スペクトルにおいて、波長６５０ｎｍ～２，０００ｎｍの範囲に最大の吸光度を示す波長を有することを意味する。
Ｄｙｅで表される色素構造を有する化合物の溶液での吸収スペクトルの測定に用いる測定溶媒は、Ｄｙｅで表される色素構造を有する化合物が溶解するものであればよいが、溶解性の観点からクロロホルム、ジメチルホルムアミド、テトラヒドロフラン、塩化メチレン等が好ましく挙げられる。例えば、クロロホルムで溶解する化合物である場合は、クロロホルムを測定溶媒として用いる。クロロホルムで溶解しない化合物である場合は、塩化メチレンを用いる。また、クロロホルム及び塩化メチレンのいずれにも溶解しない化合物である場合はジメチルホルムアミドを用いる。また、クロロホルム、塩化メチレン及びジメチルホルムアミドのいずれにも溶解しない化合物である場合はテトラヒドロフランを用いる。
色素構造Ｄｙｅが有する極大吸収波長は、波長７００ｎｍ～１，２００ｎｍの範囲に有することが好ましく、波長７５０ｎｍ～１，２００ｎｍの範囲に有することがより好ましく、波長７５０ｎｍ～１，０００ｎｍの範囲に有することが更に好ましい。
上記波長の範囲に極大吸収波長を有する色素構造Ｄｙｅとしては、ピロロピロール色素、ポリメチン色素、ジインモニウム色素、フタロシアニン色素、ナフタロシアニン色素、リレン色素、ジチオール錯体色素、トリアリールメタン色素、ピロメテン色素、アゾメチン色素、アントラキノン色素及びジベンゾフラノン色素からなる群より選ばれる少なくとも１種の色素に由来する色素構造を有することが好ましい。
ポリメチン色素は、結合している原子団の種類により、シアニン色素、メロシアニン色素、スクアリリウム色素、クロコニウム色素、オキソノール色素などを含んでいてもよい。これらの中でもポリメチン色素においては、シアニン色素、スクアリリウム色素及びオキソノール色素が好ましく、シアニン色素及びスクアリリウム色素がより好ましい。
色素構造Ｄｙｅとしては、ピロロピロール色素、シアニン色素、スクアリリウム色素、ジインモニウム色素、フタロシアニン色素、ナフタロシアニン色素及びオキソノール色素よりなる群から選ばれる少なくとも１種の色素に由来する色素構造を有することが好ましく、スクアリリウム色素又はピロロピロール色素に由来する構造を有することがより好ましい。
－ピロロピロール色素構造－
ピロロピロール色素に由来する構造（ピロロピロール色素構造）としては、下記式（ＰＰ）で表される構造であることが好ましい。
Figure 0007237166000002
式（ＰＰ）中、Ｒ１ａ及びＲ１ｂは、各々独立にアルキル基、アリール基又はヘテロアリール基を表し、Ｒ２及びＲ３は、各々独立に水素原子又は置換基を表し、Ｒ２及びＲ３は、互いに結合して環を形成してもよく、Ｒ４は、各々独立に、水素原子、アルキル基、アリール基、ヘテロアリール基、－ＢＲ４ＡＲ４Ｂ、又は金属原子を表し、Ｒ４は、Ｒ１ａ、Ｒ１ｂ及びＲ３から選ばれる少なくとも一つと共有結合若しくは配位結合していてもよく、Ｒ４Ａ及びＲ４Ｂは、各々独立に置換基を表し、波線は、式（１）におけるＬ１との連結部分を表す。
式（ＰＰ）の詳細については、特開２００９－２６３６１４号公報の段落番号００１７～００４７、特開２０１１－６８７３１号公報の段落番号００１１～００３６、国際公開第２０１５／１６６８７３号の段落番号００１０～００２４の記載を参酌でき、これらの内容は本明細書に組み込まれる。
式（ＰＰ）において、Ｒ１ａ及びＲ１ｂは、各々独立に、アリール基又はヘテロアリール基が好ましく、アリール基がより好ましい。また、Ｒ１ａ及びＲ１ｂが表すアルキル基、アリール基及びヘテロアリール基は、置換基を有していてもよく、無置換であってもよい。置換基としては、後述する置換基Ｔが挙げられる。
式（ＰＰ）において、Ｒ２及びＲ３は、各々独立に水素原子又は置換基を表す。置換基としては後述する置換基Ｔが挙げられる。Ｒ２及びＲ３の少なくとも一方は電子求引性基であることが好ましく、シアノ基、カルボキシ基、アシル基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、カルバモイル基、アルキルカルボニル基、アリールカルボニル基、アルキルスルホニル基、又は、アリールスルホニル基であることがより好ましく、シアノ基であることが更に好ましい。
式（ＰＰ）において、Ｒ２は電子求引性基（好ましくはシアノ基）を表し、Ｒ３はヘテロアリール基を表すことが好ましい。ヘテロアリール基は、５員環又は６員環が好ましい。また、ヘテロアリール基は、単環又は縮合環が好ましく、単環又は縮合数が２～８の縮合環が好ましく、単環又は縮合数が２～４の縮合環がより好ましい。ヘテロアリール基を構成するヘテロ原子の数は、１～３が好ましく、１～２がより好ましい。ヘテロ原子としては、例えば、窒素原子、酸素原子、硫黄原子が例示される。ヘテロアリール基は、窒素原子を１個以上有することが好ましい。式（ＰＰ）における２個のＲ２同士は同一であってもよく、異なっていてもよい。また、式（ＰＰ）における２個のＲ３同士は同一であってもよく、異なっていてもよい。
式（ＰＰ）において、Ｒ４は、水素原子、アルキル基、アリール基、ヘテロアリール基又は－ＢＲ４ＡＲ４Ｂで表される基であることが好ましく、水素原子、アルキル基、アリール基又は－ＢＲ４ＡＲ４Ｂで表される基であることがより好ましく、－ＢＲ４ＡＲ４Ｂで表される基であることが更に好ましい。Ｒ４Ａ及びＲ４Ｂが表す置換基としては、ハロゲン原子、アルキル基、アルコキシ基、アリール基、又は、ヘテロアリール基が好ましく、アルキル基、アリール基、又は、ヘテロアリール基がより好ましく、アリール基が特に好ましい。これらの基は更に置換基を有していてもよい。式（ＰＰ）における２個のＲ４同士は同一であってもよく、異なっていてもよい。Ｒ４Ａ及びＲ４Ｂは互いに結合して環を形成していてもよい。
式（１）における色素構造Ｄｙｅがピロロピロール色素構造であり、かつ、ｎが２である場合、式（１）で表される色素は、下記式（４－１）で表される構造であることが好ましい。
下記式（４－１）で表される構造を有する化合物、即ち、本開示に係る化合物は、新規化合物である。
本開示に係る化合物は、色素又は赤外線吸収色素として好適に用いることができ、赤外線吸収色素としてより好適に用いることができる。
Figure 0007237166000003
式（４－１）中、Ｒ１ａ及びＲ１ｂはそれぞれ独立に、アリール基又はヘテロアリール基を表し、Ｒ２及びＲ３はそれぞれ独立に、水素原子又は置換基を表し、Ｒ２及びＲ３は、互いに結合して環を形成してもよく、Ｒ４はそれぞれ独立に、水素原子、アルキル基、アリール基、ヘテロアリール基、－ＢＲ４ＡＲ４Ｂ、又は、金属原子を表し、Ｒ４は、Ｒ１ａ、Ｒ１ｂ及びＲ３からなる群より選ばれる少なくとも１つと、共有結合若しくは配位結合していてもよく、Ｒ４Ａ及びＲ４Ｂはそれぞれ独立に、水素原子又は置換基を表し、Ｌ２は、下記式（２）又は下記式（３）で表される基である。
式（４－１）中のＲ１ａ、Ｒ１ｂ、Ｒ２、Ｒ３及びＲ４は、それぞれ、式（ＰＰ）中のＲ１ａ、Ｒ１ｂ、Ｒ２、Ｒ３及びＲ４と同義であり、好ましい態様も同様である。
＊－Ｘ１－Ａ１－Ｘ２－＊ 式（２）
上記式（２）中、Ｘ１及びＸ２はそれぞれ独立に、単結合、－Ｏ－、－Ｓ－，－ＮＲ１Ａ－、－ＣＯ－、－ＣＯＯ－、－ＯＣＯＯ－、－ＳＯ２ＮＲ１Ａ－、－ＣＯＮＲ１Ａ－、－ＯＣＯＮＲ１Ａ－、又は、－ＮＲ１ＡＣＯＮＲ１Ａ－を表し、Ｒ１Ａは水素原子、アルキル基又は、アリール基を表し、Ａ１は、単結合、脂肪族環構造、芳香族環構造、又は、複素環構造を表し、＊は、Ｄｙｅとの連結位置を表し、ただし、Ａ１が単結合のとき、Ｘ１及びＸ２の両方が単結合となることはない。
式（４－１）における式（２）中、Ｘ１、Ｘ２、Ｒ１Ａ、及び、Ａ１は、それぞれ、上述の式（２）中のＸ１、Ｘ２、Ｒ１Ａ、及び、Ａ１と同義であり、好ましい態様も同様である。
＊－Ｘ３－Ａ２－Ｌ２－Ａ３－Ｘ４－＊ 式（３）
上記式（３）中、Ｘ３及びＸ４はそれぞれ独立に、単結合、－Ｏ－、－Ｓ－、－ＮＲ２Ａ－、－ＣＯ－、－ＣＯＯ－、－ＯＣＯＯ－、－ＳＯ２ＮＲ２Ａ－、－ＣＯＮＲ２Ａ－、－ＯＣＯＮＲ２Ａ－、又は、－ＮＲ２ＡＣＯＮＲ２Ａ－を表し、Ｒ２Ａは水素原子又はアルキル基を表し、
Ｌ２は、単結合、－Ｏ－、－Ｓ－、－ＮＲ２Ｂ－、－ＣＯ－、－ＣＯＯ－、－ＯＣＯＯ－、－ＳＯ２ＮＲ２Ｂ－、－ＣＯＮＲ２Ｂ－、－ＯＣＯＮＲ２Ｂ－、－ＮＲ２ＢＣＯＮＲ２Ｂ－、炭素数１～６のアルキレン基、アルケニル基、アルキニル基、芳香族環構造、又は、これらを組み合わせた基を表し、Ｒ２Ｂは水素原子又はアルキル基を表し、Ａ２及びＡ３はそれぞれ独立に、脂肪族環構造、芳香族環構造、又は、複素環構造を表す。
式（４－１）における式（３）中、Ｘ３、Ｘ４、Ｒ２Ａ、Ｒ２Ｂ、Ｌ２、Ａ２及びＡ３は、それぞれ、上述の式（２）中のＸ３、Ｘ４、Ｒ２Ａ、Ｒ２Ｂ、Ｌ２、Ａ２及びＡ３と同義であり、好ましい態様も同様である
式（１）で表される色素は、下記式（４－２）で表される構造であることが好ましい。
Figure 0007237166000004
式（４－２）中、Ｒ１ａは、アリール基又はヘテロアリール基を表し、Ｒ２及びＲ３はそれぞれ独立に、水素原子又は置換基を表し、Ｒ２及びＲ３は、互いに結合して環を形成してもよく、Ｒ４はそれぞれ独立に、水素原子、アルキル基、アリール基、ヘテロアリール基、－ＢＲ４ＡＲ４Ｂ、又は、金属原子を表し、Ｒ４は、Ｒ１ａ、Ｒ１ｂ及びＲ３からなる群より選ばれる少なくとも１つと、共有結合若しくは配位結合していてもよく、Ｒ４Ａ及びＲ４Ｂはそれぞれ独立に、水素原子又は置換基を表し、Ｌ２は、下記式（２）又は下記式（３）で表される基である。
式（４－２）中のＲ１ａ、Ｒ２、Ｒ３及びＲ４は、それぞれ、式（ＰＰ）中のＲ１ａ、Ｒ２、Ｒ３及びＲ４と同義であり、好ましい態様も同様である。
式（４－２）中のＬ２は、式（４－１）中のＬ２と同義であり、好ましい態様も同様である。
ピロロピロール化合物としては、特開２００９－２６３６１４号公報の段落番号００１６～００５８に記載の化合物、特開２０１１－６８７３１号公報の段落番号００３７～００５２に記載の化合物などが挙げられ、これらの内容は本明細書に組み込まれる。
－スクアリリウム色素構造－
スクアリリウム色素構造としては、下記式（ＳＱ）で表される化合物に由来する構造が好ましい。
Figure 0007237166000005
式（ＳＱ）中、Ａ１及びＡ２は、それぞれ独立に、アリール基、ヘテロ環基又は下記式（Ａｘ）で表される基を表す、ただし、Ａ１及びＡ２の少なとも一つは、式（１）におけるＬ１との連結する基を表す。
Figure 0007237166000006
式（Ａｘ）中、Ｚ１は、含窒素複素環を形成する非金属原子団を表し、Ｒ２は、アルキル基、アルケニル基又はアラルキル基を表し、ｄは、０又は１を表し、波線は連結手を表す。式（ＳＱ）の詳細については、特開２０１１－２０８１０１号公報の段落番号００２０～００４９、特許第６０６５１６９号公報の段落番号００４３～００６２、国際公開第２０１６／１８１９８７号の段落番号００２４～００４０の記載を参酌でき、これらの内容は本明細書に組み込まれる。
なお、式（ＳＱ）においてカチオンは、以下のように非局在化して存在している。
Figure 0007237166000007
スクアリリウム色素は、下記式（５）で表される化合物が好ましい。
Figure 0007237166000008
式（５）中、環Ａ及び環Ｂは、それぞれ独立に、芳香環又は複素芳香環を表し、ＸＡ及びＸＢはそれぞれ独立に置換基を表し、ＧＡ及びＧＢはそれぞれ独立に置換基を表し、ｋＡは０～ｎＡの整数、ｋＢは０～ｎＢの整数を表し、ｎＡ及びｎＢはそれぞれ環Ａ又は環Ｂに置換可能な最大の整数を表し、ＸＡとＧＡ、ＸＢとＧＢは互いに結合して環を形成してもよく、ＧＡ及びＧＢがそれぞれ複数存在する場合は、互いに結合して環構造を形成していてもよい。ただし、ＸＡ、ＸＢ、ＧＡ及びＧＢの少なとも一つは、式（１）におけるＬ１の連結する基を表す。
ＧＡ及びＧＢは、それぞれ独立に置換基を表す。置換基としては、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基、ヘテロアリール基、アラルキル基、－ＯＲ１０、－ＣＯＲ１１、－ＣＯＯＲ１２、－ＯＣＯＲ１３、－ＮＲ１４Ｒ１５、－ＮＨＣＯＲ１６、－ＣＯＮＲ１７Ｒ１８、－ＮＨＣＯＮＲ１９Ｒ２０、－ＮＨＣＯＯＲ２１、－ＳＲ２２、－ＳＯ２Ｒ２３、－ＳＯ２ＯＲ２４、－ＮＨＳＯ２Ｒ２５又は－ＳＯ２ＮＲ２６Ｒ２７が挙げられる。Ｒ１０～Ｒ２７は、それぞれ独立に、水素原子、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基、ヘテロアリール基、又はアラルキル基を表す。なお、－ＣＯＯＲ１２のＲ１２が水素原子の場合（すなわち、カルボキシル基）は、水素原子が解離してもよく（すなわち、カルボネート基）、塩の状態であってもよい。また、－ＳＯ２ＯＲ２４のＲ２４が水素原子の場合（すなわち、スルホ基）は、水素原子が解離してもよく（すなわち、スルホネート基）、塩の状態であってもよい。
ハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、及びヨウ素原子が挙げられる。
アルキル基の炭素数は、１～２０が好ましく、１～１５がより好ましく、１～８が更に好ましい。アルキル基は、直鎖、分岐、環状のいずれでもよく、直鎖又は分岐のアルキル基が好ましい。アルケニル基の炭素数は、２～２０が好ましく、２～１２がより好ましく、２～８が更に好ましい。アルケニル基は直鎖、分岐、環状のいずれでもよく、直鎖又は分岐のアルケニル基が好ましい。アルキニル基の炭素数は、２～４０が好ましく、２～３０がより好ましく、２～２５が更に好ましい。アルキニル基は直鎖、分岐、環状のいずれでもよく、直鎖又は分岐のアルキニル基が好ましい。アリール基の炭素数は、６～３０が好ましく、６～２０がより好ましく、６～１２が更に好ましい。アラルキル基のアルキル部分は、上記アルキル基と同様である。アラルキル基のアリール部分は、上記アリール基と同様である。アラルキル基の炭素数は、７～４０が好ましく、７～３０がより好ましく、７～２５が更に好ましい。
ヘテロアリール基は、単環又は縮合環が好ましく、単環又は縮合数が２～８の縮合環がより好ましく、単環又は縮合数が２～４の縮合環が更に好ましい。ヘテロアリール基の環を構成するヘテロ原子の数は１～３が好ましい。ヘテロアリール基の環を構成するヘテロ原子は、窒素原子、酸素原子又は硫黄原子が好ましい。ヘテロアリール基は、５員環又は６員環が好ましい。ヘテロアリール基の環を構成する炭素原子の数は３～３０が好ましく、３～１８がより好ましく、３～１２が更に好ましい。ヘテロアリール基の例には、ピリジン環、ピペリジン環、フラン環、フルフラン環、チオフェン環、ピロール環、キノリン環、モルホリン環、インドール環、イミダゾール環、ピラゾール環、カルバゾール環、フェノチアジン環、フェノキサジン環、インドリン環、チアゾール環、ピラジン環、チアジアジン環、ベンゾキノリン環及びチアジアゾール環が挙げられる。
アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アラルキル基、アリール基及びヘテロアリール基は、置換基を有していてもよく、無置換であってもよい。置換基としては、上述した置換基Ｔ群で説明した基が挙げられる。
ＸＡ及びＸＢはそれぞれ独立に置換基を表す。置換基は、活性水素を有する基が好ましく、－ＯＨ、－ＳＨ、－ＣＯＯＨ、－ＳＯ３Ｈ、－ＮＲＸ１ＲＸ２、－ＮＨＣＯＲＸ１、－ＣＯＮＲＸ１ＲＸ２、－ＮＨＣＯＮＲＸ１ＲＸ２、－ＮＨＣＯＯＲＸ１、－ＮＨＳＯ２ＲＸ１、－Ｂ（ＯＨ）２及び－ＰＯ（ＯＨ）２がより好ましく、－ＯＨ、－ＳＨ及び－ＮＲＸ１ＲＸ２が更に好ましい。ＲＸ１及びＲＸ２は、それぞれ独立に水素原子又は置換基を表す。置換基としてはアルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基、又は、ヘテロアリール基が挙げられる。アルキル基が好ましい。アルキル基は、直鎖又は分岐のアルキル基が好ましい。アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基、及び、ヘテロアリール基の詳細については、ＧＡ及びＧＢで説明した範囲と同義である。
環Ａ及び環Ｂは、それぞれ独立に、芳香環又は複素芳香環を表す。芳香環及び複素芳香環は、単環であってもよく、縮合環であってもよい。芳香環及び複素芳香環の具体例としては、ベンゼン環、ナフタレン環、ペンタレン環、インデン環、アズレン環、ヘプタレン環、インデセン環、ペリレン環、ペンタセン環、アセナフテン環、フェナントレン環、アントラセン環、ナフタセン環、クリセン環、トリフェニレン環、フルオレン環、ビフェニル環、ピロール環、フラン環、チオフェン環、イミダゾール環、オキサゾール環、チアゾール環、ピリジン環、ピラジン環、ピリジン環、ピリダジン環、インドリジン環、インドール環、ベンゾフラン環、ベンゾチオフェン環、イソベンゾフラン環、キノリジン環、キノリン環、フタラジン環、ナフチリジン環、キノキサリン環、キノキサゾリン環、イソキノリン環、カルバゾール環、フェナントリジン環、アクリジン環、フェナントロリン環、チアントレン環、クロメン環、キサンテン環、フェノキサチイン環、フェノチアジン環、及び、フェナジン環が挙げられ、ベンゼン環又はナフタレン環が好ましい。
芳香環及び複素芳香環は、無置換であってもよく、置換基を有していてもよい。置換基としては、ＧＡ及びＧＢで説明した置換基が挙げられる。
ＸＡとＧＡ、ＸＢとＧＢは互いに結合して環を形成してもよく、ＧＡ及びＧＢがそれぞれ複数存在する場合は、ＧＡ同士、又は、ＧＢ同士は、互いに結合して環を形成していてもよい。環としては、５員環又は６員環が好ましい。環は単環であってもよく、複環であってもよい。ＸＡとＧＡ、ＸＢとＧＢ、ＧＡ同士又はＧＢ同士が結合して環を形成する場合、これらが直接結合して環を形成してもよく、アルキレン基、－ＣＯ－、－Ｏ－、－ＮＨ－、－ＢＲ－及びそれらの組み合わせからなる群より選ばれる２価の連結基を介して結合して環を形成してもよい。ＸＡとＧＡ、ＸＢとＧＢ、ＧＡ同士又はＧＢ同士が、－ＢＲ－を介して結合して環を形成することが好ましい。Ｒは、水素原子又は置換基を表す。置換基としては、ＧＡ及びＧＢで説明した置換基が挙げられる。アルキル基又はアリール基が好ましい。
ｋＡは０～ｎＡの整数を表し、ｋＢは０～ｎＢの整数を表し、ｎＡは、環Ａに置換可能な最大の整数を表し、ｎＢは、環Ｂに置換可能な最大の整数を表す。ｋＡ及びｋＢは、それぞれ独立に０～４が好ましく、０～２がより好ましく、０～１が特に好ましい。
スクアリリウム色素の一実施形態として下記式（６）で表される化合物が挙げられる。この化合物は、耐熱性に優れている。
Figure 0007237166000009
式（６）中、Ｒ１及びＲ２は、それぞれ独立に、置換基を表し、Ｒ３及びＲ４は、それぞれ独立に、水素原子、又は、アルキル基を表し、Ｘ１及びＸ２は、それぞれ独立に、酸素原子、又は、－Ｎ（Ｒ５）－を表し、Ｒ５は、水素原子、アルキル基、アリール基又はヘテロアリール基を表し、Ｙ１～Ｙ４は、それぞれ独立に、置換基を表し、Ｙ１とＹ２、及び、Ｙ３とＹ４は、互いに結合して環を形成していてもよく、Ｙ１～Ｙ４は、それぞれ複数有する場合は、互いに結合して環を形成していてもよく、ｐ及びｓは、それぞれ独立に０～３の整数を表し、ｑ及びｒは、それぞれ独立に０～２の整数を表す。
ただし、Ｙ１～Ｙ４の少なとも一つは、式（１）におけるＬ１の連結する基を表す。
Ｒ１、Ｒ２、Ｙ１～Ｙ４が表す置換基は、ＧＡ及びＧＢで説明した置換基が挙げられる。Ｒ３及びＲ４は、それぞれ独立に、水素原子、メチル基又はエチル基であることが好ましく、水素原子又はメチル基がより好ましく、水素原子が特に好ましい。
Ｘ１及びＸ２は、それぞれ独立に、酸素原子（－Ｏ－）、又は、－Ｎ（Ｒ５）－を表す。Ｘ１とＸ２は同一であってもよく、異なっていてもよいが、同一であることが好ましい。Ｒ５は、水素原子、アルキル基、アリール基又はヘテロアリール基を表す。Ｒ５は、水素原子、アルキル基又はアリール基が好ましい。Ｒ５が表すアルキル基、アリール基及びヘテロアリール基は、無置換の基であってもよく、置換基を有していてもよい。置換基としては、上述したＧＡ及びＧＢで説明した置換基が挙げられる。アルキル基の炭素数は、１～２０が好ましく、１～１０がより好ましく、１～４が更に好ましく、１～２が特に好ましい。アルキル基は、直鎖、分岐のいずれでもよい。アリール基の炭素数は、６～２０が好ましく、６～１２がより好ましい。ヘテロアリール基は、単環であっても多環であってもよい。ヘテロアリール基の環を構成するヘテロ原子の数は１～３が好ましい。ヘテロアリール基の環を構成するヘテロ原子は、窒素原子、酸素原子又は硫黄原子が好ましい。ヘテロアリール基の環を構成する炭素原子の数は３～３０が好ましく、３～１８がより好ましく、３～１２が更に好ましい。
－クロコニウム色素構造－
クロコニウム色素構造としては、下記式（ＣＲ）で表される化合物に由来する構造が好ましい。
Figure 0007237166000010
式（ＣＲ）中、Ａ３及びＡ４は、それぞれ独立に、アリール基、ヘテロ環基又は下記式（Ａｘ）で表される基を表し、ただし、Ａ３及びＡ４の少なとも一つは、式（１）におけるＬ１との連結する基を表す。
Figure 0007237166000011
式（Ａｘ）中、Ｚ１は、含窒素複素環を形成する非金属原子団を表し、Ｒ２は、アルキル基、アルケニル基又はアラルキル基を表し、ｄは、０又は１を表し、波線は連結手を表す。式（ＣＲ）の詳細については、Ｅｕｒ．Ｊ．Ｏｒｇ．Ｃｈｅｍ．２０１７，３８９７－３９１１の化合物を参酌でき、これらの内容は本明細書に組み込まれる。
なお、式（ＣＲ）においてカチオンは、以下のように非局在化して存在している。
Figure 0007237166000012
－ピロメテン色素構造－
ピロメテン色素構造としては、下記式（ＢＤＰ）で表される化合物に由来する構造が好ましい。
Figure 0007237166000013
式（ＢＤＰ）中、ＹはＣＲ７又はＮを表し、Ｒ７は水素原子または置換基を表し、Ｒ１～Ｒ６はそれぞれ独立に、水素原子又は置換基を表し、Ｒ１とＲ３、Ｒ３とＲ５、Ｒ２とＲ４、Ｒ４とＲ６は互いに連結して環状構造を形成していてもよく、Ｘ１及びＸ２はそれぞれ独立に、ハロゲン原子、酸素原子、ヒドロキシ基、アルコキシ基又はアリールオキシ基を表し、Ｘ１及びＸ２は互いに結合して環状構造を形成していてもよく、Ｘ１はＲ５と結合して環状構造を形成していてもよく、Ｘ２はＲ６と結合して環状構造を形成していてもよい。
Ｒ５及びＲ６はそれぞれ独立に、アリール基又はヘテロアリール基であることが好ましい。
Ｒ１とＲ３、Ｒ２とＲ４は互い連結してベンゼン環又はナフタレン環を形成することが好ましい。
式（ＢＤＰ）の詳細については、Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．Ｒｅｖ．，２０１４，４３，４７７８－４８２３、特開２０１６－１６６２８４号公報、特開２０１８－１２３０９３号公報、特開２０１９－７７６７３号公報に記載の化合物を参酌でき、これらの内容は本明細書に組み込まれる。
式（１）で表される構造を有する色素の具体例としては、下記Ａ－ｐｐｂ－１～Ａ－ｐｐｂ－３６、及び、Ａ－ｓｑ－１～Ａ－ｓｑ－５、Ａ－ｃｒ－１～Ａ－ｃｒ－５、Ａ－ｂｄｐ－１～Ａ－ｂｄｐ－８、Ａ－ｒｙｌ－１、Ａ－ｒｙｌ－２、Ａ－ｉｄ－１、Ａ－ｉｄ－２が挙げられるが、本開示はこれら色素に限定されないことは言うまでもない。
Figure 0007237166000014
Figure 0007237166000015
Figure 0007237166000016
Figure 0007237166000017
Figure 0007237166000018
Figure 0007237166000019
Figure 0007237166000020
Figure 0007237166000021
Figure 0007237166000022
Figure 0007237166000023
Figure 0007237166000024
Figure 0007237166000025
Figure 0007237166000026
Figure 0007237166000027
Figure 0007237166000028
分光特性、耐熱性、及び、耐光性の観点から、式（１）で表される構造を有する色素は、ピロロピロール化合物、リレン化合物、オキソノール化合物、スクアリリウム化合物、クロコニウム化合物、バナジウムフタロシアニン化合物、ナフタロシアニン化合物、インジゴ化合物、及び、ピロメテン化合物よりなる群から選ばれる少なくとも１種の化合物であることが好ましく、ピロロピロール化合物、スクアリリウム化合物、クロコニウム化合物、及び、ピロメテン化合物よりなる群から選ばれる少なくとも１種の化合物であることが更に好ましく、ピロロピロール化合物、又は、スクアリリウム化合物、であることが更に好ましい。
〔分子量〕
式（１）の構造で表される構造を有する色素の分子量は、４，０００未満であることが好ましく、３，０００未満であることがより好ましく、２，５００未満であることが更に好ましい。
〔体積平均粒子径〕
式（１）の構造で表される構造を有する色素の体積平均粒子径が、１ｎｍ～５００ｎｍであることが好ましく、１ｎｍ～３００ｎｍであることがより好ましく、１ｎｍ～２００ｎｍであることが更に好ましい。
本開示に係る組成物において、体積平均粒子径が１ｎｍ～５００ｎｍである特定構造の色素を含むこと、すなわち、特定色素を微粒子分散状態で用いることで、色素の耐久性が向上するメリットがある。体積平均粒子径が１ｎｍ以上であると、色素粒子の表面エネルギーが小さくなるため凝集しにくくなり、色素粒子の分散が容易になると共に、分散状態を安定に保つのが容易になるため好ましい。また、色素粒子の体積平均粒径が２００ｎｍ以下であると、色素粒子の散乱の影響が少なくなり、吸収スペクトルがシャープになるため好ましい。
上記観点から、式（１）の構造で表される構造を有する色素は、体積平均粒径１０ｎｍ～２００ｎｍのものがより好ましく、１０ｎｍ～１００ｎｍのものが更に好ましい。
本開示において、粒子の体積平均粒子径とは、微粒子自体の粒子径、又は、微粒子に分散剤等の添加物が付着している場合には、添加物が付着した粒子径を指す。
粒子の体積平均粒子径は、測定装置としてナノトラックＵＰＡ粒度分析計（ＵＰＡ－ＥＸ１５０、商品名、日機装（株）製）を用いて測定することができる。測定は、粒子分散体３ｍＬを測定セルに入れ、所定の測定方法に従って行うことができる。
なお、測定時に入力するパラメーターとしては、粘度には色素を含有する組成物の粘度を、分散粒子の密度には、赤外線吸収色素又は特定有色色素としての顔料の密度を用いる。
〔極大吸収波長〕
式（１）で表される構造を有する色素の極大吸収波長は、６５０ｎｍ以上の波長範囲にあることが好ましく、７００ｎｍ～１，１００ｎｍの波長範囲にあることがより好ましく、７６０ｎｍ～９５０ｎｍの波長範囲にあることが更に好ましい。
上記極大吸収波長は、Ｃａｒｙ５０００ ＵＶ－Ｖｉｓ－ＮＩＲ分光光度計（アジレント・テクノロジー（株）製）を用いて測定される。
〔半値幅〕
上記極大吸収波長の測定において得られた波長－吸光度曲線において、極大吸収波長における波長ピークの半値幅は、２，０００ｃｍ－１以下が好ましく、１，４００ｃｍ－１以下がより好ましく、１，３５０ｃｍ－１以下が更に好ましい。
上記半値幅の下限は、特に限定されないが、５００ｃｍ－１以上であることが好ましい。
上記半値幅は、Ｃａｒｙ５０００ ＵＶ－Ｖｉｓ－ＮＩＲ分光光度計（アジレント・テクノロジー（株）製）を用いてにより測定され、波長を波数に変換して半値幅を計算する。
〔モル吸光係数〕
式（１）で表される構造を有する色素の極大吸収波長におけるモル吸光係数は、１．０×１０５Ｌ／（ｍｏｌ・ｃｍ）以上であることが好ましく、１．５×１０５Ｌ／（ｍｏｌ・ｃｍ）以上であることがより好ましい。
上記モル吸光係数は、Ｃａｒｙ５０００ ＵＶ－Ｖｉｓ－ＮＩＲ分光光度計（アジレント・テクノロジー（株）製）を用いてにより測定される。
〔含有量〕
本開示に係る組成物における、式（１）で表される構造を有する色素の含有量は、組成物の全固形分に対し、１０質量％～７０質量％が好ましく、１５質量％～６０質量％がより好ましく、２０質量％～５０質量％が更に好ましい。本開示に係る組成物は、式（１）で表される構造を有する色素を、２種以上を組み合わせて含んでもよい。式（１）で表される構造を有する色素を２種以上含む場合、合計量が上記範囲であることが好ましい。
式（１）で表される構造を有する色素の製造方法としては、特に制限はなく、公知の製造方法を参照し適宜製造することができる。
例えば、式（１）で表される構造を有する色素においてｎが２である場合（すなわち、２量体の色素である場合）、式（１）で表される構造を有する色素の合成方法としては、下記方法（１）又は方法（２）の合成方法が挙げられるが、合成のし易さの点から、方法（１）の合成方法であることが好ましい。
方法（１）：式（１）で表される色素構造に求核部位を一つ導入し、多官能の求電子剤と反応させる。
上記求核部位としては、例えば、ＯＨ、ＮＨＲ（Ｒは、水素原子又はアルキル基を表す）、ＳＨ等が挙げられる。
多官能の求電子剤としては、例えば、多官能カルボン酸、多官能カルボン酸クロリド、多官能カルボン酸無水物、多官能スルホン酸クロリド、多官能イソシアネート、多官能ハロゲン化アルキル（特にｐ－キシリレハライドなど）等が挙げられる。
二量化反応時の色素の分解を抑えるため点から、反応性が高い多官能の求電子反応剤であることが好ましく、多官能カルボン酸クロリド、多官能スルホン酸クロリド、又は、多官能イソシアネートであることがより好ましい。
方法（１）の具体例としては、下記スキームのように、ピロロピロール色素構造に求核部位としてＯＨを一つ導入し、二官能カルボン酸クロリドと反応させる方法が挙げられる。なお、下記スキーム中、Ｅｔはエチル基を表し、Ｐｈはフェニル基を表す。
Figure 0007237166000029
また、例えば、下記スキームのように、スクアリリウム色素構造にＯＨを一つ導入し、二官能カルボン酸と縮合反応させる方法が挙げられる。
スキーム中、ＥＤＣ ＨＣｌは１－エチル－３－（３－ジメチルアミノプロピル）カルボジイミド塩酸塩、ＤＭＡＰはＮ，Ｎ－ジメチル－４－アミノピリジン、ＤＭＡｃはジメチルアセトアミドを意味する。
Figure 0007237166000030
方法（２）：式（１）で表される色素構造に求電子部位を一つ導入し、多官能の求核剤と反応させる。
求電子部位としては、例えば、カルボン酸、カルボン酸クロリド、カルボン酸無水物、スルホン酸クロリド、イソシアネート、ハロゲン化アルキル等が挙げられる。
多官能の求核部位としては、例えば、多官能アルコール、多官能二級又は一級アミン、多官能チオール等が挙げられる。
方法（２）の具体例としては、下記スキームのように、ピロロピロール色素構造にカルボン酸（ＣＯＯＨ）を一つ導入しｐ－ヒドロキノン（ＨＯＣ６Ｈ４ＯＨ、Ｃ６Ｈ４は１，４－フェニレン基を表す。）と反応させる。
Figure 0007237166000031
また、その他の合成方法としては、下記スキームのように、カルボン酸（ＣＯＯＨ）を２つ有するクロコニウム色素と、ｐ－ヒドロキノン（ＨＯＣ６Ｈ４ＯＨ、Ｃ６Ｈ４は１，４－フェニレン基を表す。）とをＣｈｅｍ．Ｓｃｉ．２０１７，８．２７１０－２７１６に記載の反応条件で反応させて、シリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製する方法が挙げられる。
Figure 0007237166000032
また、式（１）で表される構造を有する色素の結晶形を調整する方法について説明する。結晶形の調整方法としては、Ｎ，Ｎ－ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド、ジメチルアセトアミド、Ｎ－メチルピロリドン、テトラヒドロフラン、１，４－ジオキサン等の有機溶剤に式（１）で表される構造を有する色素を接触させる方法が挙げられる。その際、式（１）で表される構造を有する色素の粒子径の調整のために加熱又は冷却を行ってもよいし、濾別する前に別の溶媒を加えてもよい。
＜他の成分＞
本開示に係る組成物は、膜が得られる組成物であることが好ましく、最終的に硬化することにより硬化膜が得られる硬化性組成物であることが好ましい。
また、本開示に係る組成物は、例えば、パターン露光により硬化膜のパターンを形成することができる組成物であることが好ましい。すなわち、本開示に係る組成物はネガ型の組成物であることが好ましい。
本開示に係る組成物がネガ型の組成物である場合、例えば、重合開始剤と、重合性化合物と、アルカリ可溶性樹脂と、を含む態様が好ましい。
また、本開示に係る組成物がポジ型の組成物である場合、例えば、光酸発生剤と、酸基が酸分解性基で保護された基を有する構成単位を有する重合体、及び、架橋性基を有する構成単位を有する重合体、を含む態様が挙げられる。
以下、本開示に係る組成物がネガ型の組成物である態様において含まれる各成分物について記載する。
本開示に係る組成物がポジ型の組成物である態様において含まれる各成分については、国際公開第２０１４／００３１１１号に記載の各成分が挙げられ、好ましい態様も同様である。
＜樹脂＞
本開示に係る組成物は膜形成性の観点から、樹脂を含むことが好ましい。
また、樹脂としては、バインダーポリマー、分散剤等が挙げられる。
膜形成性、及び、分散性の観点から、樹脂として、バインダーポリマーを含むことが好ましい。
バインダーポリマーの具体例としては、アクリル樹脂、エン・チオール樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリエーテル樹脂、ポリアリレート樹脂、ポリスルホン樹脂、ポリエーテルスルホン樹脂、ポリフェニレン樹脂、ポリアリーレンエーテルホスフィンオキシド樹脂、ポリイミド樹脂、ポリアミドイミド樹脂、ポリオレフィン樹脂、環状オレフィン樹脂、ポリエステル樹脂、スチレン樹脂、シロキサン樹脂、ウレタン樹脂などが挙げられる。中でも、アクリル樹脂を含むことが好ましい。
これらの樹脂から１種を単独で使用してもよく、２種以上を混合して使用してもよい。
環状オレフィン樹脂としては、耐熱性向上の観点から、ノルボルネン樹脂が好ましく用いることができる。
ノルボルネン樹脂の市販品としては、例えば、ＪＳＲ（株）製のＡＲＴＯＮシリーズ（例えば、ＡＲＴＯＮ Ｆ４５２０）などが挙げられる。ポリイミド樹脂の市販品としては、三菱ガス化学（株）製のネオプリム（登録商標）シリーズ（例えば、Ｃ３４５０）などが挙げられる。
また、バインダーポリマーとしては、国際公開第２０１６／０８８６４５号の実施例に記載された樹脂、特開２０１７－５７２６５号公報に記載された樹脂、特開２０１７－３２６８５号公報に記載された樹脂、特開２０１７－０７５２４８号公報に記載された樹脂、特開２０１７－６６２４０号公報に記載された樹脂を用いることもでき、これらの内容は本明細書に組み込まれる。
また、バインダーポリマーとして、フルオレン骨格を有する樹脂を好ましく用いることもできる。フルオレン骨格を有する樹脂については、米国特許出願公開第２０１７／０１０２６１０号明細書の記載を参酌でき、この内容は本明細書に組み込まれる。
バインダーポリマーの重量平均分子量（Ｍｗ）は、２，０００～２，０００，０００が好ましい。上限は、１，０００，０００以下がより好ましく、５００，０００以下が更に好ましい。下限は、３，０００以上がより好ましく、５，０００以上が更に好ましい。
バインダーポリマーの含有量は、組成物の全固形分に対し、１０質量％～８０質量％であることが好ましく、１５質量％～６０質量％であることがより好ましい。上記組成物は、樹脂を、１種類のみ含んでいてもよいし、２種類以上含んでいてもよい。２種類以上含む場合は、その合計量が上記範囲となることが好ましい。
－分散剤－
分散剤としては、高分子分散剤〔例えば、アミン基を有する樹脂（ポリアミドアミンとその塩など）、オリゴイミン系樹脂、ポリカルボン酸とその塩、高分子量不飽和酸エステル、変性ポリウレタン、変性ポリエステル、変性ポリ（メタ）アクリレート、（メタ）アクリル系共重合体、ナフタレンスルホン酸ホルマリン縮合物〕等を挙げることができる。
高分子分散剤は、その構造から更に直鎖状高分子、末端変性型高分子、グラフト型高分子、及びブロック型高分子に分類することができる。
また、高分子分散剤としては、酸価が６０ｍｇＫＯＨ／ｇ以上（より好ましくは、酸価６０ｍｇＫＯＨ／ｇ以上、３００ｍｇＫＯＨ／ｇ以下）の樹脂も好適に挙げることができる。
末端変性型高分子としては、例えば、特開平３－１１２９９２号公報、特表２００３－５３３４５５号公報等に記載の末端にリン酸基を有する高分子、特開２００２－２７３１９１号公報等に記載の末端にスルホン酸基を有する高分子、特開平９－７７９９４号公報等に記載の有機色素の部分骨格や複素環を有する高分子などが挙げられる。また、特開２００７－２７７５１４号公報に記載の高分子末端に２個以上の顔料表面へのアンカー部位（酸基、塩基性基、有機色素の部分骨格やヘテロ環等）を導入した高分子も分散安定性に優れ好ましい。
グラフト型高分子としては、例えば、特開昭５４－３７０８２号公報、特表平８－５０７９６０号公報、特開２００９－２５８６６８号公報等に記載のポリ（低級アルキレンイミン）とポリエステルの反応生成物、特開平９－１６９８２１号公報等に記載のポリアリルアミンとポリエステルの反応生成物、特開平１０－３３９９４９号公報、特開２００４－３７９８６号公報等に記載のマクロモノマーと、窒素原子モノマーとの共重合体、特開２００３－２３８８３７号公報、特開２００８－９４２６号公報、特開２００８－８１７３２号公報等に記載の有機色素の部分骨格や複素環を有するグラフト型高分子、特開２０１０－１０６２６８号公報等に記載のマクロモノマーと酸基含有モノマーの共重合体などが挙げられる。
グラフト型高分子をラジカル重合で製造する際に用いるマクロモノマーとしては、公知のマクロモノマーを用いることができ、東亞合成（株）製のマクロモノマーＡＡ－６（末端基がメタクリロイル基であるポリメタクリル酸メチル）、ＡＳ－６（末端基がメタクリロイル基であるポリスチレン）、ＡＮ－６Ｓ（末端基がメタクリロイル基であるスチレンとアクリロニトリルの共重合体）、ＡＢ－６（末端基がメタクリロイル基であるポリアクリル酸ブチル）、（株）ダイセル製のプラクセルＦＭ５（メタクリル酸２－ヒドロキシエチルのε－カプロラクトン５モル当量付加品）、ＦＡ１０Ｌ（アクリル酸２－ヒドロキシエチルのε－カプロラクトン１０モル当量付加品）、及び特開平２－２７２００９号公報に記載のポリエステル系マクロモノマー等が挙げられる。これらの中でも、柔軟性且つ親溶剤性に優れるポリエステル系マクロモノマーが、顔料分散物の分散性、分散安定性、及び顔料分散物を用いた組成物が示す現像性の観点から特に好ましく、特開平２－２７２００９号公報に記載のポリエステル系マクロモノマーで表されるポリエステル系マクロモノマーが最も好ましい。
ブロック型高分子としては、特開２００３－４９１１０号公報、特開２００９－５２０１０号公報等に記載のブロック型高分子が好ましい。
樹脂（分散剤）は、市販品としても入手可能であり、そのような具体例としては、ＢＹＫＣｈｅｍｉｅ社製「Ｄｉｓｐｅｒｂｙｋ－１０１（ポリアミドアミン燐酸塩）、１０７（カルボン酸エステル）、１１０、１１１（酸基を含む共重合物）、１３０（ポリアミド）、１６１、１６２、１６３、１６４、１６５、１６６、１７０（高分子共重合物）」、「ＢＹＫ－Ｐ１０４、Ｐ１０５（高分子量不飽和ポリカルボン酸）」、ＥＦＫＡ社製「ＥＦＫＡ４０４７、４０５０～４１６５（ポリウレタン系）、ＥＦＫＡ４３３０～４３４０（ブロック共重合体）、４４００～４４０２（変性ポリアクリレート）、５０１０（ポリエステルアミド）、５７６５（高分子量ポリカルボン酸塩）、６２２０（脂肪酸ポリエステル）、６７４５（フタロシアニン誘導体）、６７５０（アゾ顔料誘導体）」、味の素ファインテクノ（株）製「アジスパーＰＢ８２１、ＰＢ８２２、ＰＢ８８０、ＰＢ８８１」、共栄社化学（株）製「フローレンＴＧ－７１０（ウレタンオリゴマー）」、「ポリフローＮｏ．５０Ｅ、Ｎｏ．３００（アクリル系共重合体）」、楠本化成（株）製「ディスパロンＫＳ－８６０、８７３ＳＮ、８７４、＃２１５０（脂肪族多価カルボン酸）、＃７００４（ポリエーテルエステル）、ＤＡ－７０３－５０、ＤＡ－７０５、ＤＡ－７２５」、花王（株）製「デモール（登録商標）ＲＮ、Ｎ（ナフタレンスルホン酸ホルマリン重縮合物）、ＭＳ、Ｃ、ＳＮ－Ｂ（芳香族スルホン酸ホルマリン重縮合物）」、「ホモゲノールＬ－１８（高分子ポリカルボン酸）」、「エマルゲン９２０、９３０、９３５、９８５（ポリオキシエチレンノニルフェニルエーテル）」、「アセタミン８６（ステアリルアミンアセテート）」、日本ルーブリゾール（株）製「ソルスパース５０００（フタロシアニン誘導体）、２２０００（アゾ顔料誘導体）、１３２４０（ポリエステルアミン）、３０００、１７０００、２７０００（末端部に機能部を有する高分子）、２４０００、２８０００、３２０００、３８５００（グラフト型高分子）」、日光ケミカルズ（株）製「ニッコールＴ１０６（ポリオキシエチレンソルビタンモノオレート）、ＭＹＳ－ＩＥＸ（ポリオキシエチレンモノステアレート）」、川研ファインケミカル（株）製「ヒノアクトＴ－８０００Ｅ」、信越化学工業（株）製「オルガノシロキサンポリマーＫＰ３４１」、森下産業（株）製「ＥＦＫＡ－４６、ＥＦＫＡ－４７、ＥＦＫＡ－４７ＥＡ、ＥＦＫＡポリマー１００、ＥＦＫＡポリマー４００、ＥＦＫＡポリマー４０１、ＥＦＫＡポリマー４５０」、サンノプコ（株）製「ディスパースエイド６、ディスパースエイド８、ディスパースエイド１５、ディスパースエイド９１００」、（株）ＡＤＥＫＡ製「アデカプルロニックＬ３１、Ｆ３８、Ｌ４２、Ｌ４４、Ｌ６１、Ｌ６４、Ｆ６８、Ｌ７２、Ｐ９５、Ｆ７７、Ｐ８４、Ｆ８７、Ｐ９４、Ｌ１０１、Ｐ１０３、Ｆ１０８、Ｌ１２１、Ｐ－１２３」、及び、三洋化成工業（株）製「イオネットＳ－２０」等が挙げられる。
これらの樹脂は、単独で使用してもよく、２種以上を組み合わせて使用してもよい。また、後述のアルカリ可溶性樹脂を分散剤として使用することもできる。アルカリ可溶性樹脂としては、（メタ）アクリル酸共重合体、イタコン酸共重合体、クロトン酸共重合体、マレイン酸共重合体、部分エステル化マレイン酸共重合体等、並びに側鎖にカルボン酸を有する酸性セルロース誘導体、水酸基を有するポリマーに酸無水物を変性した樹脂が挙げられるが、特に（メタ）アクリル酸共重合体が好ましい。また、特開平１０－３００９２２号公報に記載のＮ位置換マレイミドモノマー共重合体、特開２００４－３００２０４号公報に記載のエーテルダイマー共重合体、特開平７－３１９１６１号公報に記載の重合性基を含有するアルカリ可溶性樹脂も好ましい。
これらの中でも、上記樹脂としては、分散性の観点から、ポリエステル鎖を有する樹脂を含むことが好ましく、ポリカプロラクトン鎖を有する樹脂を含むことがより好ましい。 また、上記樹脂（好ましくはアクリル樹脂）は、分散性、透明性及び異物による膜欠陥抑制の観点から、エチレン性不飽和基を有する構成単位を有することが好ましい。
上記エチレン性不飽和基としては、特に制限はないが、（メタ）アクリロイル基であることが好ましい。
また、上記樹脂が側鎖にエチレン性不飽和基、特に（メタ）アクリロイル基を有する場合、上記樹脂は、主鎖とエチレン性不飽和基との間に、脂環構造を有する２価の連結基を有していることが好ましい。
分散剤の含有量は、式（１）で表される部分構造を有する化合物と式（１）で表される部分構造を有する化合物以外の顔料、染料又は顔料誘導体とを含む場合は、式（１）で表される部分構造を有する化合物、並びに、式（１）で表される部分構造を有する化合物以外の顔料、染料及び顔料誘導体も含めた総含有量１００質量部に対して、１質量部～１００質量部であることが好ましく、５質量部～９０質量部がより好ましく、１０質量部～８０質量部であることが更に好ましい。
－アルカリ可溶性樹脂－
本開示に係る組成物は、アルカリ可溶性樹脂を含むことが好ましい。
本開示に係る組成物は、現像性の観点から、バインダーポリマーとして、アルカリ可溶性樹脂を含むことが好ましい。
アルカリ可溶性樹脂としては、線状有機高分子重合体であって、分子（好ましくは、アクリル系共重合体、スチレン系共重合体を主鎖とする分子）中に少なくとも１つのアルカリ可溶性を促進する基を有するアルカリ可溶性樹脂の中から適宜選択することができる。耐熱性の観点からは、ポリヒドロキシスチレン系樹脂、ポリシロキサン系樹脂、アクリル系樹脂、アクリルアミド系樹脂、アクリル／アクリルアミド共重合体樹脂が好ましく、現像性制御の観点からは、アクリル系樹脂、アクリルアミド系樹脂、アクリル／アクリルアミド共重合体樹脂が好ましい。
アルカリ可溶性を促進する基（以下、酸基ともいう）としては、例えば、カルボキシ基、リン酸基、スルホン酸基、フェノール性水酸基などが挙げられるが、有機溶剤に可溶で弱アルカリ水溶液により現像可能なものが好ましく、（メタ）アクリル酸が特に好ましいものとして挙げられる。これら酸基は、１種のみであってもよいし、２種以上であってもよい。アルカリ可溶性樹脂としては、特開２０１２－２０８４９４号公報の段落０５５８～０５７１（対応する米国特許出願公開第２０１２／０２３５０９９号明細書の段落０６８５～０７００）の記載を参酌でき、これらの内容は本明細書に組み込まれる。
アルカリ可溶性樹脂は、下記式（ＥＤ）で表される構成単位を有する樹脂も好ましい。
Figure 0007237166000033
式（ＥＤ）中、ＲＥ１及びＲＥ２はそれぞれ独立に、水素原子又は置換基を有してもよい炭素数１～２５の炭化水素基を表し、ｚは０又は１を表す。
ＲＥ１及びＲＥ２で表される炭素数１～２５の炭化水素基としては、特に制限はないが、例えば、メチル基、エチル基、ｎ－プロピル基、イソプロピル基、ｎ－ブチル基、イソブチル基、ｔ－ブチル基、ｔ－アミル基、ステアリル基、ラウリル基、２－エチルヘキシル生等の直鎖状又は分岐状のアルキル基；フェニル基等のアリール基；シクロヘキシル基、ｔ－ブチルシクロヘキシル基、ジシクロペンタジエニル基、トリシクロデカニル基、イソボルニル基、アダマンチル基、２－メチル－２－アダマンチル基等の脂環式基；１－メトキシエチル基、１－エトキシエチル基等のアルコキシ基で置換されたアルキル基；ベンジル基等のアリール基で置換されたアルキル基；等が挙げられる。これらの中でも、特に、メチル基、エチル基、シクロヘキシル基、ベンジル基等のような酸や熱で脱離しにくい第１級又は第２級の炭化水素基が耐熱性の点で好ましい。
なお、ＲＥ１及びＲＥ２は、同種の置換基であってもよいし、異なる置換基であってもよい。
式（ＥＤ）で表される構成単位を形成する化合物の例としては、ジメチル－２，２’－［オキシビス（メチレン）］ビス－２－プロペノエート、ジエチル－２，２’－［オキシビス（メチレン）］ビス－２－プロペノエート、ジ（ｎ－プロピル）－２，２’－［オキシビス（メチレン）］ビス－２－プロペノエート、ジ（ｎ－ブチル）－２，２’－［オキシビス（メチレン）］ビス－２－プロペノエート、ジ（ｔ－ブチル）－２，２’－［オキシビス（メチレン）］ビス－２－プロペノエート、ジ（イソブチル）－２，２’－［オキシビス（メチレン）］ビス－２－プロペノエート、等が挙げられる。これらの中でも、特にジメチル－２，２’－［オキシビス（メチレン）］ビス－２－プロペノエートが好ましい。
上記アルカリ可溶性樹脂は、式（ＥＤ）で表される構成単位以外の構成単位を有していてもよい。
上記構成単位を形成するモノマーとしては、例えば、溶媒への溶解性などの扱いやすさの観点から、油溶性を付与するアリール（メタ）アクリレート、アルキル（メタ）アクリレート、ポリエチレンオキシ（メタ）アクリレートを共重合成分として含むことも好ましく、アリール（メタ）アクリレート又はアルキル（メタ）アクリレートがより好ましい。
また、アルカリ現像性の観点から、酸性基を含有する（メタ）アクリル酸やイタコン酸等のカルボキシ基を有するモノマー、Ｎ－ヒドロキシフェニルマレイミド等のフェノール性水酸基を有するモノマー、無水マレイン酸や無水イタコン酸等のカルボン酸無水物基を有するモノマーを共重合成分として含むことが好ましく、（メタ）アクリル酸がより好ましい。
上記アルカリ可溶性樹脂としては、例えば、式（ＥＤ）で表される構成単位と、ベンジルメタクリレートから形成される構成単位と、メタクリル酸メチル及びメタクリル酸よりなる群から選ばれる少なくとも１種のモノマーから形成される構成単位とを有する樹脂が好ましく挙げられる。
式（ＥＤ）で表される構成単位を有する樹脂については、特開２０１２－１９８４０８号公報の段落００７９～００９９の記載を参酌でき、この内容は明細書に組み込まれることとする。
アルカリ可溶性樹脂の重量平均分子量（Ｍｗ）は、２，０００～５０，０００が好ましい。下限は、５，０００以上がより好ましく、７，０００以上が更に好ましい。上限は、４５，０００以下がより好ましく、４３，０００以下が更に好ましい。
アルカリ可溶性樹脂の酸価は、３０ｍｇＫＯＨ／ｇ～２００ｍｇＫＯＨ／ｇが好ましい。下限は、５０ｍｇＫＯＨ／ｇ以上がより好ましく、７０ｍｇＫＯＨ／ｇ以上が更に好ましい。上限は、１５０ｍｇＫＯＨ／ｇ以下がより好ましく、１２０ｍｇＫＯＨ／ｇ以下が更に好ましい。
なお、本開示における酸価は、以下の方法により測定するものとする。
酸価は、固形分１ｇあたりの酸性成分を中和するのに要する水酸化カリウムの質量を表したものである。測定サンプルをテトラヒドロフラン／水＝９／１（質量比）混合溶媒に溶解し、電位差滴定装置（商品名：ＡＴ－５１０、京都電子工業（株）製）を用いて、得られた溶液を、２５℃にて、０．１ｍｏｌ／Ｌ水酸化ナトリウム水溶液で中和滴定する。滴定ｐＨ曲線の変曲点を滴定終点として、次式により酸価を算出する。
Ａ＝５６．１１×Ｖｓ×０．１×ｆ／ｗ
Ａ：酸価（ｍｇＫＯＨ／ｇ）
Ｖｓ：滴定に要した０．１ｍｏｌ／Ｌ水酸化ナトリウム水溶液の使用量（ｍＬ）
ｆ：０．１ｍｏｌ／Ｌ水酸化ナトリウム水溶液の力価
ｗ：測定サンプル質量（ｇ）（固形分換算）
＜硬化性化合物＞
本開示に係る組成物は、耐熱性及び耐光性の観点から、硬化性化合物を含む。
本開示に用いることができる硬化性化合物としては、重合性化合物であることが好ましく、エチレン性不飽和化合物であることがより好ましく、末端エチレン性不飽和基を有する化合物であることが特に好ましい。
このような化合物群としては、公知のものを特に限定なく用いることができる。
これらは、例えばモノマー、プレポリマー、すなわち２量体、３量体及びオリゴマー、又はそれらの混合物ならびにそれらの共重合体などの化学的形態をもつ。モノマー及びその共重合体の例としては、不飽和カルボン酸（例えば、アクリル酸、メタクリル酸、イタコン酸、クロトン酸、イソクロトン酸、マレイン酸など）や、そのエステル類、アミド類が挙げられ、好ましくは、不飽和カルボン酸と脂肪族多価アルコール化合物とのエステル、不飽和カルボン酸と脂肪族多価アミン化合物とのアミド類が用いられる。また、ヒドロキシル基やアミノ基、メルカプト基等の求核性置換基を有する不飽和カルボン酸エステル或いはアミド類と単官能若しくは多官能イソシアネート類或いはエポキシ類との付加反応物、及び単官能若しくは、多官能のカルボン酸との脱水縮合反応物等も好適に使用される。また、イソシアネート基や、エポキシ基等の親電子性置換基を有する不飽和カルボン酸エステル或いはアミド類と単官能若しくは多官能のアルコール類、アミン類、チオール類との付加反応物、更にハロゲン基や、トシルオキシ基等の脱離性置換基を有する不飽和カルボン酸エステル或いはアミド類と単官能若しくは多官能のアルコール類、アミン類、チオール類との置換反応物も好適である。また、別の例として、上記の不飽和カルボン酸の代わりに、不飽和ホスホン酸、スチレン、ビニルエーテル等に置き換えた化合物群を使用することも可能である。
脂肪族多価アルコール化合物と不飽和カルボン酸とのエステルのモノマーの具体例としては、アクリル酸エステルとして、エチレングリコールジアクリレート、トリエチレングリコールジアクリレート、１，３－ブタンジオールジアクリレート、テトラメチレングリコールジアクリレート、プロピレングリコールジアクリレート、ネオペンチルグリコールジアクリレート、トリメチロールプロパントリアクリレート、トリメチロールプロパントリ（アクリロイルオキシプロピル）エーテル、トリメチロールエタントリアクリレート、ヘキサンジオールジアクリレート、１，４－シクロヘキサンジオールジアクリレート、テトラエチレングリコールジアクリレート、ペンタエリスリトールジアクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、ジペンタエリスリトールジアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、ソルビトールトリアクリレート、ソルビトールテトラアクリレート、ソルビトールペンタアクリレート、ソルビトールヘキサアクリレート、トリ（アクリロイルオキシエチル）イソシアヌレート、ポリエステルアクリレートオリゴマー、イソシアヌル酸ＥＯ変性トリアクリレート等がある。
メタクリル酸エステルとしては、テトラメチレングリコールジメタクリレート、トリエチレングリコールジメタクリレート、ネオペンチルグリコールジメタクリレート、トリメチロールプロパントリメタクリレート、トリメチロールエタントリメタクリレート、エチレングリコールジメタクリレート、１，３－ブタンジオールジメタクリレート、ヘキサンジオールジメタクリレート、ペンタエリスリトールジメタクリレート、ペンタエリスリトールトリメタクリレート、ペンタエリスリトールテトラメタクリレート、ジペンタエリスリトールジメタクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサメタクリレート、ソルビトールトリメタクリレート、ソルビトールテトラメタクリレート、ビス〔ｐ－（３－メタクリルオキシ－２－ヒドロキシプロポキシ）フェニル〕ジメチルメタン、ビス－〔ｐ－（メタクリルオキシエトキシ）フェニル〕ジメチルメタン等がある。
また、イソシアネート基とヒドロキシ基の付加反応を用いて製造されるウレタン系付加重合性化合物も好適であり、そのような具体例としては、例えば、特公昭４８－４１７０８号公報中に記載されている１分子に２個以上のイソシアネート基を有するポリイソシアネート化合物に、下記一般式（Ｉ）で示されるヒドロキシ基を含有するビニルモノマーを付加させた１分子中に２個以上の重合性ビニル基を含有するビニルウレタン化合物等が挙げられる。
ＣＨ２＝Ｃ（Ｒ）ＣＯＯＣＨ２ＣＨ（Ｒ’）ＯＨ （Ｉ）
（ただし、Ｒ及びＲ’は、Ｈ又はＣＨ３を示す。）
また、特開昭５１－３７１９３号、特公平２－３２２９３号、特公平２－１６７６５号に記載されているようなウレタンアクリレート類や、特公昭５８－４９８６０号、特公昭５６－１７６５４号、特公昭６２－３９４１７号、特公昭６２－３９４１８号記載のエチレンオキサイド系骨格を有するウレタン化合物類も好適である。更に、特開昭６３－２７７６５３号、特開昭６３－２６０９０９号、特開平１－１０５２３８号に記載される、分子内にアミノ構造やスルフィド構造を有する付加重合性化合物類を用いることによっては、非常に感光スピードに優れた組成物を得ることができる。
その他、硬化性化合物としては、例えば、特開２００７－２７７５１４号公報の段落０１７８～０１９０に記載の化合物が挙げられる。
また、硬化性化合物としては、特開２０１５－１８７２１１号公報に記載のエポキシ化合物を用いてもよい
硬化性化合物の組成物中における含有量としては、組成物の全固形分に対して、１質量％～９０質量％であることが好ましく、５質量％～８０質量％であることがより好ましく、１０質量％～７０質量％であることが更に好ましい。硬化性化合物の含有量が上記範囲内であると、組成物の硬化性に優れる。
特に、本開示に係る組成物をカラーフィルタの着色パターン形成に使用する場合には上記含有量の範囲において、５質量％～５０質量％であることが好ましく、７質量％～４０質量％であることがより好ましく、１０質量％～３５質量％であることが更に好ましい。
＜重合開始剤＞
本開示に係る組成物は、重合開始剤を更に含むことが好ましく、光重合開始剤を更に含むことがより好ましい。
また、本開示に係る組成物は、上記硬化性化合物が重合性化合物を含み、かつ光重合開始剤を更に含むことが特に好ましい。
光重合開始剤としては、重合性化合物の重合を開始する能力を有する限り、特に制限はなく、公知の光重合開始剤の中から適宜選択することができる。例えば、紫外線領域から可視領域の光線に対して感光性を有する化合物が好ましい。また、光励起された増感剤と何らかの作用を生じ、活性ラジカルを生成する化合物であってもよい。光重合開始剤は光ラジカル重合開始剤であることが好ましい。
光重合開始剤としては、例えば、ハロゲン化炭化水素誘導体（例えば、トリアジン骨格を有する化合物、オキサジアゾール骨格を有する化合物など）、アシルホスフィン化合物、ヘキサアリールビイミダゾール、オキシム化合物、有機過酸化物、チオ化合物、ケトン化合物、芳香族オニウム塩、α－ヒドロキシケトン化合物、α－アミノケトン化合物などが挙げられる。光重合開始剤は、露光感度の観点から、トリハロメチルトリアジン化合物、ベンジルジメチルケタール化合物、α－ヒドロキシケトン化合物、α－アミノケトン化合物、アシルホスフィン化合物、ホスフィンオキサイド化合物、メタロセン化合物、オキシム化合物、トリアリールイミダゾールダイマー、オニウム化合物、ベンゾチアゾール化合物、ベンゾフェノン化合物、アセトフェノン化合物、シクロペンタジエン－ベンゼン－鉄錯体、ハロメチルオキサジアゾール化合物及び３－アリール置換クマリン化合物が好ましく、オキシム化合物、α－ヒドロキシケトン化合物、α－アミノケトン化合物、及び、アシルホスフィン化合物から選ばれる化合物がより好ましく、オキシム化合物が更に好ましい。光重合開始剤については、特開２０１４－１３０１７３号公報の段落００６５～０１１１、特開２０１３－２９７６０号公報の段落０２７４～０３０６の記載を参酌でき、これらの内容は本開示に組み込まれる。
α－ヒドロキシケトン化合物の市販品としては、ＩＲＧＡＣＵＲＥ－１８４、ＤＡＲＯＣＵＲ－１１７３、ＩＲＧＡＣＵＲＥ－５００、ＩＲＧＡＣＵＲＥ－２９５９、ＩＲＧＡＣＵＲＥ－１２７（以上、ＢＡＳＦ社製）などが挙げられる。α－アミノケトン化合物の市販品としては、ＩＲＧＡＣＵＲＥ－９０７、ＩＲＧＡＣＵＲＥ－３６９、ＩＲＧＡＣＵＲＥ－３７９、及び、ＩＲＧＡＣＵＲＥ－３７９ＥＧ（以上、ＢＡＳＦ社製）などが挙げられる。アシルホスフィン化合物の市販品としては、ＩＲＧＡＣＵＲＥ－８１９、ＤＡＲＯＣＵＲ－ＴＰＯ（以上、ＢＡＳＦ社製）などが挙げられる。
オキシム化合物としては、例えば、特開２００１－２３３８４２号公報に記載の化合物、特開２０００－８００６８号公報に記載の化合物、特開２００６－３４２１６６号公報に記載の化合物、Ｊ．Ｃ．Ｓ．Ｐｅｒｋｉｎ ＩＩ（１９７９年、ｐｐ．１６５３－１６６０）に記載の化合物、Ｊ．Ｃ．Ｓ．Ｐｅｒｋｉｎ ＩＩ（１９７９年、ｐｐ．１５６－１６２）に記載の化合物、Ｊｏｕｒｎａｌ ｏｆ Ｐｈｏｔｏｐｏｌｙｍｅｒ Ｓｃｉｅｎｃｅ ａｎｄ Ｔｅｃｈｎｏｌｏｇｙ（１９９５年、ｐｐ．２０２－２３２）に記載の化合物、特開２０００－６６３８５号公報に記載の化合物、特開２０００－８００６８号公報に記載の化合物、特表２００４－５３４７９７号公報に記載の化合物、特開２００６－３４２１６６号公報に記載の化合物、特開２０１７－１９７６６号公報に記載の化合物、特許第６０６５５９６号公報に記載の化合物、国際公開第２０１５／１５２１５３号に記載の化合物、国際公開第２０１７／０５１６８０号に記載の化合物などがあげられる。オキシム化合物の具体例としては、例えば、３－ベンゾイルオキシイミノブタン－２－オン、３－アセトキシイミノブタン－２－オン、３－プロピオニルオキシイミノブタン－２－オン、２－アセトキシイミノペンタン－３－オン、２－アセトキシイミノ－１－フェニルプロパン－１－オン、２－ベンゾイルオキシイミノ－１－フェニルプロパン－１－オン、３－（４－トルエンスルホニルオキシ）イミノブタン－２－オン、及び２－エトキシカルボニルオキシイミノ－１－フェニルプロパン－１－オンなどが挙げられる。オキシム化合物の市販品としては、ＩＲＧＡＣＵＲＥ－ＯＸＥ０１、ＩＲＧＡＣＵＲＥ－ＯＸＥ０２、ＩＲＧＡＣＵＲＥ－ＯＸＥ０３、ＩＲＧＡＣＵＲＥ－ＯＸＥ０４（以上、ＢＡＳＦ社製）も好適に用いられる。また、ＴＲＯＮＬＹ ＴＲ－ＰＢＧ－３０４、ＴＲＯＮＬＹ ＴＲ－ＰＢＧ－３０９、ＴＲＯＮＬＹ ＴＲ－ＰＢＧ－３０５（常州強力電子新材料有限公司（ＣＨＡＮＧＺＨＯＵ ＴＲＯＮＬＹ ＮＥＷ ＥＬＥＣＴＲＯＮＩＣ ＭＡＴＥＲＩＡＬＳ ＣＯ．，ＬＴＤ）製）、アデカアークルズＮＣＩ－９３０、アデカオプトマーＮ－１９１９（特開２０１２－１４０５２号公報の光重合開始剤２）（以上、（株）ＡＤＥＫＡ製）が挙げられる。
また上記以外のオキシム化合物として、カルバゾール環のＮ位にオキシムが連結した特表２００９－５１９９０４号公報に記載の化合物、ベンゾフェノン部位にヘテロ置換基が導入された米国特許第７６２６９５７号明細書に記載の化合物、色素部位にニトロ基が導入された特開２０１０－１５０２５号公報及び米国特許公開第２００９－２９２０３９号明細書に記載の化合物、国際公開第２００９／１３１１８９号明細書に記載のケトオキシム化合物、トリアジン骨格とオキシム骨格を同一分子内に含有する米国特許第７５５６９１０号明細書に記載の化合物、４０５ｎｍに吸収極大を有し、ｇ線光源に対して良好な感度を有する特開２００９－２２１１１４号公報に記載の化合物などを用いてもよい。
本開示は、光重合開始剤として、フルオレン環を有するオキシム化合物を用いることもできる。フルオレン環を有するオキシム化合物の具体例としては、特開２０１４－１３７４６６号公報に記載の化合物が挙げられる。この内容は本開示に組み込まれる。
本開示は、光重合開始剤として、ベンゾフラン骨格を有するオキシム化合物を用いることもできる。具体例としては、国際公開第２０１５／０３６９１０号に記載の化合物ＯＥ－０１～ＯＥ－７５が挙げられる。
本開示は、光重合開始剤として、カルバゾール環の少なくとも１つのベンゼン環がナフタレン環となった骨格を有するオキシム化合物を用いることもできる。そのようなオキシム化合物の具体例としては、国際公開第２０１３／０８３５０５号に記載の化合物が挙げられる。
本開示は、光重合開始剤として、フッ素原子を有するオキシム化合物を用いることもできる。フッ素原子を有するオキシム化合物の具体例としては、特開２０１０－２６２０２８号公報に記載の化合物、特表２０１４－５００８５２号公報に記載の化合物２４、３６～４０、特開２０１３－１６４４７１号公報に記載の化合物（Ｃ－３）などが挙げられる。この内容は本開示に組み込まれる。
本開示は、光重合開始剤として、ニトロ基を有するオキシム化合物を用いることができる。ニトロ基を有するオキシム化合物は、二量体とすることも好ましい。ニトロ基を有するオキシム化合物の具体例としては、特開２０１３－１１４２４９号公報の段落００３１～００４７、特開２０１４－１３７４６６号公報の段落０００８～００１２、００７０～００７９に記載の化合物、特許第４２２３０７１号公報の段落０００７～００２５に記載の化合物、アデカアークルズＮＣＩ－８３１（（株）ＡＤＥＫＡ製）などが挙げられる。
本開示において好ましく使用されるオキシム化合物の具体例を以下に示すが、本開示はこれらに限定されるものではない。
Figure 0007237166000034
Figure 0007237166000035
オキシム化合物は、３５０ｎｍ～５００ｎｍの波長領域に極大吸収波長を有する化合物が好ましく、３６０ｎｍ～４８０ｎｍの波長領域に極大吸収波長を有する化合物がより好ましい。また、オキシム化合物は、波長３６５ｎｍ及び４０５ｎｍの吸光度が大きい化合物が好ましい。
オキシム化合物の波長３６５ｎｍ又は４０５ｎｍにおけるモル吸光係数は、感度の観点から、１，０００～３００，０００であることが好ましく、２，０００～３００，０００であることがより好ましく、５，０００～２００，０００であることが特に好ましい。化合物のモル吸光係数は、公知の方法を用いて測定することができる。例えば、紫外可視分光光度計（Ｖａｒｉａｎ社製Ｃａｒｙ－５ ｓｐｅｃｔｒｏｐｈｏｔｏｍｅｔｅｒ）にて、酢酸エチル溶媒を用い、０．０１ｇ／Ｌの濃度で測定することが好ましい。
本開示は、光重合開始剤として、２官能あるいは３官能以上の光重合開始剤を用いてもよい。そのような光重合開始剤の具体例としては、特表２０１０－５２７３３９号公報、特表２０１１－５２４４３６号公報、国際公開第２０１５／００４５６５号、特表２０１６－５３２６７５号公報の段落０４１７～０４１２、国際公開第２０１７／０３３６８０号の段落００３９～００５５に記載されているオキシム化合物の２量体や、特表２０１３－５２２４４５号公報に記載されている化合物（Ｅ）及び化合物（Ｇ）、国際公開第２０１６／０３４９６３号に記載されているＣｍｐｄ１～７などが挙げられる。
重合開始剤は、１種単独で用いてもよいし、２種以上を併用して用いてもよい。
重合開始剤の組成物中における含有量としては、上記組成物の全固形分に対して、０．１質量％～５０質量％であることが好ましく、より好ましくは０．５質量％～３０質量％、特に好ましくは１質量％～２０質量％である。この範囲で、良好な感度とパターン形成性が得られる。
＜有彩色着色剤＞
本開示に係る組成物は、有彩色着色剤を含有することができる。本開示において、有彩色着色剤とは、白色着色剤及び黒色着色剤以外の着色剤を意味する。有彩色着色剤は、波長４００ｎｍ以上６５０ｎｍ未満の範囲に吸収を有する着色剤が好ましい。
本開示において、有彩色着色剤と黒色着色剤とを併せて、可視着色剤ともいう
有彩色着色剤としては、赤色着色剤、緑色着色剤、青色着色剤、黄色着色剤、紫色着色剤及びオレンジ色着色剤が挙げられる。有彩色着色剤は、顔料であってもよく、染料であってもよい。顔料と染料とを併用してもよい。また、顔料は、無機顔料、有機顔料のいずれでもよい。また、顔料には、無機顔料又は有機－無機顔料の一部を有機発色団で置換した材料を用いることもできる。無機顔料や有機－無機顔料を有機発色団で置換することで、色相設計をしやすくできる。
顔料の平均一次粒子径は、１ｎｍ～２００ｎｍが好ましい。下限は５ｎｍ以上がより好ましく、１０ｎｍ以上が更に好ましい。上限は、１８０ｎｍ以下がより好ましく、１５０ｎｍ以下が更に好ましく、１００ｎｍ以下が特に好ましい。顔料の平均一次粒子径が上記範囲であれば、組成物中における顔料の分散安定性が良好である。なお、本開示において、顔料の一次粒子径は、顔料の一次粒子を透過型電子顕微鏡により観察し、得られた画像写真から求めることができる。具体的には、顔料の一次粒子の投影面積を求め、それに対応する円相当径を顔料の一次粒子径として算出する。また、本開示における平均一次粒子径は、４００個の顔料の一次粒子についての一次粒子径の算術平均値とする。また、顔料の一次粒子とは、凝集のない独立した粒子をいう。
有彩色着色剤は、顔料を含むものであることが好ましい。有彩色着色剤中における顔料の含有量は、５０質量％以上であることが好ましく、７０質量％以上であることがより好ましく、８０質量％以上であることが更に好ましく、９０質量％以上であることが特に好ましい。顔料としては以下に示すものが挙げられる。
カラーインデックス（Ｃ．Ｉ．）Ｐｉｇｍｅｎｔ Ｙｅｌｌｏｗ １，２，３，４，５，６，１０，１１，１２，１３，１４，１５，１６，１７，１８，２０，２４，３１，３２，３４，３５，３５：１，３６，３６：１，３７，３７：１，４０，４２，４３，５３，５５，６０，６１，６２，６３，６５，７３，７４，７７，８１，８３，８６，９３，９４，９５，９７，９８，１００，１０１，１０４，１０６，１０８，１０９，１１０，１１３，１１４，１１５，１１６，１１７，１１８，１１９，１２０，１２３，１２５，１２６，１２７，１２８，１２９，１３７，１３８，１３９，１４７，１４８，１５０，１５１，１５２，１５３，１５４，１５５，１５６，１６１，１６２，１６４，１６６，１６７，１６８，１６９，１７０，１７１，１７２，１７３，１７４，１７５，１７６，１７７，１７９，１８０，１８１，１８２，１８５，１８７，１８８，１９３，１９４，１９９，２１３，２１４，２１５，２２８（国際公開第２０１３／０９８８３６号に記載された直結型キノフタロン二量体），２３１，２３２（メチン系），２３３（キノリン系）等（以上、黄色顔料）、
Ｃ．Ｉ．Ｐｉｇｍｅｎｔ Ｏｒａｎｇｅ ２，５，１３，１６，１７：１，３１，３４，３６，３８，４３，４６，４８，４９，５１，５２，５５，５９，６０，６１，６２，６４，７１，７３等（以上、オレンジ色顔料）、
Ｃ．Ｉ．Ｐｉｇｍｅｎｔ Ｒｅｄ １，２，３，４，５，６，７，９，１０，１４，１７，２２，２３，３１，３８，４１，４８：１，４８：２，４８：３，４８：４，４９，４９：１，４９：２，５２：１，５２：２，５３：１，５７：１，６０：１，６３：１，６６，６７，８１：１，８１：２，８１：３，８３，８８，９０，１０５，１１２，１１９，１２２，１２３，１４４，１４６，１４９，１５０，１５５，１６６，１６８，１６９，１７０，１７１，１７２，１７５，１７６，１７７，１７８，１７９，１８４，１８５，１８７，１８８，１９０，２００，２０２，２０６，２０７，２０８，２０９，２１０，２１６，２２０，２２４，２２６，２４２，２４６，２５４，２５５，２６４，２７０，２７２，２７９，２９４（キサンテン系、Ｏｒｇａｎｏ Ｕｌｔｒａｍａｒｉｎｅ、Ｂｌｕｉｓｈ Ｒｅｄ），２９５（モノアゾ系），２９６（ジアゾ系）等（以上、赤色顔料）、
Ｃ．Ｉ．Ｐｉｇｍｅｎｔ Ｇｒｅｅｎ ７，１０，３６，３７，５８，５９，６２，６３等（以上、緑色顔料）、
Ｃ．Ｉ．Ｐｉｇｍｅｎｔ Ｖｉｏｌｅｔ １，１９，２３，２７，３２，３７，４２，６０（トリアリールメタン系），６１（キサンテン系）等（以上、紫色顔料）、
Ｃ．Ｉ．Ｐｉｇｍｅｎｔ Ｂｌｕｅ １，２，１５，１５：１，１５：２，１５：３，１５：４，１５：６，１６，２２，２９，６０，６４，６６，７９，８０，８７（モノアゾ系），８８（メチン系）等（以上、青色顔料）。
また、緑色顔料として、１分子中のハロゲン原子数が平均１０個～１４個であり、臭素原子数が平均８個～１２個であり、塩素原子数が平均２個～５個であるハロゲン化亜鉛フタロシアニン顔料を用いることもできる。具体例としては、国際公開第２０１５／１１８７２０号に記載の化合物が挙げられる。また、緑色顔料として中国特許出願第１０６９０９０２７号明細書に記載の化合物、国際公開第２０１２／１０２３９５号に記載のリン酸エステルを配位子として有するフタロシアニン化合物などを用いることもできる。
また、緑色着色剤としては、特開２０１９－８０１４号公報、又は、特開２０１８－１８００２３号公報に記載の緑色着色剤を使用してもよい。
また、青色顔料として、リン原子を有するアルミニウムフタロシアニン化合物を用いることもできる。具体例としては、特開２０１２－２４７５９１号公報の段落００２２～００３０、特開２０１１－１５７４７８号公報の段落００４７に記載の化合物が挙げられる。
また、黄色顔料として、特開２０１８－２０３７９８号公報、特開２０１８－６２５７８号公報、特許第６４３２０７７号公報、特許第６４３２０７６号公報、特開２０１８－１５５８８１号公報、特開２０１８－１１１７５７号公報、特開２０１８－４０８３５号公報、特開２０１７－１９７６４０号公報、特開２０１６－１４５２８２号公報、特開２０１４－８５５６５号公報、特開２０１４－２１１３９号公報、特開２０１３－２０９６１４号公報、特開２０１３－２０９４３５号公報、特開２０１３－１８１０１５号公報、特開２０１３－６１６２２号公報、特開２０１３－５４３３９号公報、特開２０１３－３２４８６号公報、特開２０１２－２２６１１０号公報、特開２００８－７４９８７号公報、特開２００８－８１５６５号公報、特開２００８－７４９８６号公報、特開２００８－７４９８５号公報、特開２００８－５０４２０号公報、特開２００８－３１２８１号公報、又は、特公昭４８－３２７６５号公報に記載のキノフタロン顔料も好適に使用できる。また、特許第６４４３７１１号公報に記載されている顔料、を用いることもできる。
また、黄色顔料として、特開２０１３－５４３３９号公報の段落００１１～００３４に記載のキノフタロン化合物、特開２０１４－２６２２８号公報の段落００１３～００５８に記載のキノフタロン化合物、特開２０１９－８０１４号公報に記載の黄色顔料などを用いることもできる。
また、黄色顔料として、特開２０１８－０６２６４４号公報に記載の化合物を用いることもできる。この化合物は顔料誘導体としても使用可能である。
更に、特開２０１８－１５５８８１号公報に記載されているように、Ｃ．Ｉ．Ｐｉｇｍｅｎｔ Ｙｅｌｌｏｗ １２９を、耐候性改良の目的で添加してもよい。
赤色顔料として、特開２０１７－２０１３８４号公報に記載の構造中に少なくとも１つ臭素原子が置換したジケトピロロピロール化合物、特許第６２４８８３８号の段落００１６～００２２に記載のジケトピロロピロール化合物、国際公開第２０１２／１０２３９９号に記載のジケトピロロピロール化合物、国際公開第２０１２／１１７９６５号に記載のジケトピロロピロール化合物、特開２０１２－２２９３４４号公報に記載のナフトールアゾ化合物などを用いることもできる。また、赤色顔料として、芳香族環に対して、酸素原子、硫黄原子又は窒素原子が結合した基が導入された芳香族環基がジケトピロロピロール骨格に結合した構造を有する化合物を用いることもできる。
本開示において、着色剤には染料を用いることもできる。染料としては特に制限はなく、公知の染料が使用できる。例えば、ピラゾールアゾ系、アニリノアゾ系、トリアリールメタン系、アントラキノン系、アントラピリドン系、ベンジリデン系、オキソノール系、ピラゾロトリアゾールアゾ系、ピリドンアゾ系、シアニン系、フェノチアジン系、ピロロピラゾールアゾメチン系、キサンテン系、フタロシアニン系、ベンゾピラン系、インジゴ系、ピロメテン系等の染料が挙げられる。また、特開２０１２－１５８６４９号公報に記載のチアゾール化合物、特開２０１１－１８４４９３号公報に記載のアゾ化合物、特開２０１１－１４５５４０号公報に記載のアゾ化合物も好ましく用いることができる。また、黄色染料として、特開２０１３－０５４３３９号公報の段落００１１～００３４に記載のキノフタロン化合物、特開２０１４－０２６２２８号公報の段落００１３～００５８に記載のキノフタロン化合物などを用いることもできる。
本開示に係る組成物が、有彩色着色剤を含有する場合、有彩色着色剤の含有量は、組成物の全固形分に対し、１質量％～５０質量％が好ましい。本開示に係る組成物が、有彩色着色剤を２種以上含む場合、それらの合計量が上記範囲内であることが好ましい。
＜近赤外線を透過させて可視光を遮光する着色剤＞
本開示に係る組成物は、近赤外線（近赤外領域の波長の光）を透過させて可視光（可視領域の波長の光）を遮光する着色剤（以下、可視光を遮光する着色剤ともいう）を含有することもできる。可視光を遮光する着色剤を含む組成物は、近赤外線透過フィルタ形成用の組成物として好ましく用いられる。
本開示において、可視光を遮光する着色剤は、紫色から赤色の波長領域の光を吸収する着色剤であることが好ましい。また、本開示において、可視光を遮光する着色剤は、波長４５０ｎｍ～６５０ｎｍの波長領域の光を遮光する着色剤であることが好ましい。また、可視光を遮光する着色剤は、波長９００ｎｍ～１，３００ｎｍの光を透過する着色剤であることが好ましい。本開示において、可視光を遮光する着色剤は、以下の（Ａ）及び（Ｂ）の少なくとも一方の要件を満たすことが好ましい。
（Ａ）：２種類以上の有彩色着色剤を含み、２種以上の有彩色着色剤の組み合わせで黒色を形成している。
（Ｂ）：有機系黒色着色剤を含む。
有彩色着色剤としては、上述したものが挙げられる。有機系黒色着色剤としては、例えば、ビスベンゾフラノン化合物、アゾメチン化合物、ペリレン化合物、アゾ化合物などが挙げられ、ビスベンゾフラノン化合物、ペリレン化合物が好ましい。ビスベンゾフラノン化合物としては、特表２０１０－５３４７２６号公報、特表２０１２－５１５２３３号公報、特表２０１２－５１５２３４号公報などに記載の化合物が挙げられ、例えば、ＢＡＳＦ社製の「Ｉｒｇａｐｈｏｒ Ｂｌａｃｋ」として入手可能である。ペリレン化合物としては、特開２０１７－２２６８２１号公報の段落００１６～００２０に記載の化合物、Ｃ．Ｉ．Ｐｉｇｍｅｎｔ Ｂｌａｃｋ ３１、３２などが挙げられる。アゾメチン化合物としては、特開平０１－１７０６０１号公報、特開平０２－０３４６６４号公報などに記載の化合物が挙げられ、例えば、大日精化工業（株）製の「クロモファインブラックＡ１１０３」として入手できる。
２種以上の有彩色着色剤の組み合わせで黒色を形成する場合の、有彩色着色剤の組み合わせとしては、例えば以下の態様が挙げられる。
（１）黄色着色剤、青色着色剤、紫色着色剤及び赤色着色剤を含有する態様。
（２）黄色着色剤、青色着色剤及び赤色着色剤を含有する態様。
（３）黄色着色剤、紫色着色剤及び赤色着色剤を含有する態様。
（４）黄色着色剤及び紫色着色剤を含有する態様。
（５）緑色着色剤、青色着色剤、紫色着色剤及び赤色着色剤を含有する態様。
（６）紫色着色剤及びオレンジ色着色剤を含有する態様。
（７）緑色着色剤、紫色着色剤及び赤色着色剤を含有する態様。
（８）緑色着色剤及び赤色着色剤を含有する態様。
各着色剤の比率(質量比)としては例えば以下の比率であることが好ましい。
Figure 0007237166000036
上記Ｎｏ．１において、黄色着色剤は０．１～０．３がより好ましく、青色着色剤は０．１～０．５がより好ましく、紫色着色剤は０．０１～０．２であることがより好ましく、赤色着色剤は０．１～０．５であることがより好ましい。上記Ｎｏ．２において、黄色着色剤は０．１～０．３がより好ましく、青色着色剤は０．１～０．５がより好ましく、赤色着色剤は０．１～０．５であることがより好ましい。
組成物は、可視着色剤を１種のみ含んでいてもよく、２種以上含んでいてもよい。
可視着色剤の含有量は、組成物の全質量に対し、０．１質量％～７０質量％であることが好ましく、０．５質量％～６０質量％であることがより好ましく、１質量％～５０質量％であることが更に好ましい。
＜顔料誘導体＞
組成物は、顔料誘導体を含有することができる。顔料誘導体としては、色素骨格に、酸基、塩基性基及び水素結合性基よりなる群から選ばれる少なくとも１種の基が結合した化合物が挙げられる。
酸基としては、スルホ基、カルボキシ基、リン酸基、ボロン酸基、スルホンイミド基、スルホンアミド基及びこれらの塩、並びにこれらの塩の脱塩構造が挙げられる。塩を構成する原子又は原子団としては、アルカリ金属イオン（Ｌｉ＋、Ｎａ＋、Ｋ＋など）、アルカリ土類金属イオン（Ｃａ２＋、Ｍｇ２＋など）、アンモニウムイオン、イミダゾリウムイオン、ピリジニウムイオン、ホスホニウムイオンなどが挙げられる。また、上記塩の脱塩構造としては上記の塩から塩を形成する原子又は原子団が脱離した基が挙げられる。例えば、カルボキシ基の塩の脱塩構造は、カルボキシラート基（－ＣＯＯ－）である。
塩基性基としては、アミノ基、ピリジニル基及びこれらの塩、並びにこれらの塩の脱塩構造が挙げられる。塩を構成する原子又は原子団としては、水酸化物イオン、ハロゲンイオン、カルボン酸イオン、スルホン酸イオン、フェノキシドイオンなどが挙げられる。また、上記塩の脱塩構造としては上記の塩から塩を形成する原子又は原子団が脱離した基が挙げられる。
水素結合性基とは、水素原子を介して相互作用する基のことである。水素結合性基の具体例としては、アミド基、ヒドロキシ基、－ＮＨＣＯＮＨＲ、－ＮＨＣＯＯＲ、－ＯＣＯＮＨＲなどが挙げられる。Ｒはアルキル基及びアリール基であることが好ましい。
顔料誘導体としては、式（Ｂ１）で表される化合物が挙げられる。
Figure 0007237166000037
式（Ｂ１）中、Ｐは色素骨格を表し、Ｌは単結合又は連結基を表し、Ｘは酸基、塩基性基又は水素結合性基を表し、ｍは１以上の整数を表し、ｎは１以上の整数を表し、ｍが２以上の場合は複数のＬ及びＸは互いに異なっていてもよく、ｎが２以上の場合は複数のＸは互いに異なっていてもよい。
上記Ｐが表す色素骨格としては、スクアリリウム色素構造、クロコニウム色素骨格、ピロロピロール色素骨格、ジケトピロロピロール色素骨格、キナクリドン色素骨格、アントラキノン色素骨格、ジアントラキノン色素骨格、ベンゾイソインドール色素骨格、チアジンインジゴ色素骨格、アゾ色素骨格、キノフタロン色素骨格、フタロシアニン色素骨格、ナフタロシアニン色素骨格、ジオキサジン色素骨格、ペリレン色素骨格、ペリノン色素骨格、ベンゾイミダゾロン色素骨格、ベンゾチアゾール色素骨格、ベンゾイミダゾール色素骨格及びベンゾオキサゾール色素骨格から選ばれる少なくとも１種が好ましく、スクアリリウム色素骨格、ピロロピロール色素骨格、ジケトピロロピロール色素骨格、キナクリドン色素骨格、及び、ベンゾイミダゾロン色素骨格から選ばれる少なくとも１種が更に好ましく、スクアリリウム色素骨格又はピロロピロール色素骨格が特に好ましい。
Ｌが表す連結基としては、１～１００個の炭素原子、０～１０個の窒素原子、０～５０個の酸素原子、１～２００個の水素原子、及び０～２０個の硫黄原子から成り立つ基が好ましく、無置換であってもよく、置換基を更に有していてもよい。置換基としては、後述の置換基Ｔが挙げられる。
Ｘが表す酸基、塩基性基、及び、水素結合性基としては、上述した基が挙げられる。
近赤外線吸収色素として顔料タイプの化合物を用いる場合は、顔料誘導体は波長７００ｎｍ～１，２００ｎｍの範囲に極大吸収波長を化合物であることも好ましく、波長７００ｎｍ～１，１００ｎｍの範囲に極大吸収波長を有する化合物であることも好ましく、波長７００ｎｍ～１，０００ｎｍの範囲に極大吸収波長を有する化合物であることも好ましい。上記波長の範囲に極大吸収波長を有する顔料誘導体は、π平面の広がりが近赤外線吸収色素と近づけやすくでき、近赤外線吸収色素の吸着性が向上し、より優れた分散安定性が得られやすい。また、顔料誘導体は、芳香族環を含む化合物であることも好ましく、２以上の芳香族環が縮合した構造を含む化合物であることもより好ましい。また、顔料誘導体はπ共役平面を有する化合物であることも好ましく、近赤外線吸収色素に含まれるπ共役平面と同一の構造のπ共役平面を有する化合物であることもより好ましい。また、顔料誘導体のπ共役平面に含まれるπ電子の数は８個～１００個であることが好ましい。上限は、９０個以下であることが好ましく、８０個以下であることがより好ましい。下限は１０個以上であることが好ましく、１２個以上であることがより好ましい。また、顔料誘導体は、下記式（ＳＱ－ａ）で表される部分構造を含むπ共役平面を有する化合物であることも好ましい。
Figure 0007237166000038
上記式（ＳＱ－ａ）中、波線部分は、他の構造との結合位置を表す。
顔料誘導体は、下記式（Ｓｙｎ１）で表される化合物であることも好ましい。
Figure 0007237166000039
式（Ｓｙｎ１）中、Ｒｓｙ１及びＲｓｙ２はそれぞれ独立に有機基を表し、Ｌ１は単結合又はｐ１＋１価の基を表し、Ａ１はスルホ基、カルボキシ基、リン酸基、ボロン酸基、スルホンイミド基、スルホンアミド基、アミノ基、ピリジニル基、これらの塩又はこれらの脱塩構造から選ばれる基を表し、ｐ１及びｑ１はそれぞれ独立に１以上の整数を表す。ｐ１が２以上の場合、複数のＡ１は同一であってもよく、異なっていてもよい。ｑ１が２以上の場合、複数のＬ１及びＡ１は同一であってもよく、異なっていてもよい。
式（Ｓｙｎ１）のＲｓｙ１及びＲｓｙ２が表す有機基としては、アリール基、ヘテロアリール基、下記式（Ｒ１）で表される基が挙げられる。
Figure 0007237166000040
式（Ｒ１）中、Ｘ１１は環構造を表し、Ａ１１はＯ又はＮＲ５１を表し、Ｒ４６～Ｒ５１は互いに独立して、水素原子または置換基を表し、Ｒ４７とＲ４８は、互いに結合して環を形成してもよく、＊は結合手を表す。
式（Ｓｙｎ１）のＬ１が表すｐ１＋１価の基としては、炭化水素基、複素環基、－Ｏ－、－Ｓ－、－ＣＯ－、－ＣＯＯ－、－ＯＣＯ－、－ＳＯ２－、－ＮＲＬ－、－ＮＲＬＣＯ－、－ＣＯＮＲＬ－、－ＮＲＬＳＯ２－、－ＳＯ２ＮＲＬ－及びこれらの組み合わせからなる基が挙げられる。ＲＬは水素原子、アルキル基又はアリール基を表す。炭化水素基は脂肪族炭化水素基であってもよく、芳香族炭化水素基であってもよい。炭化水素基としては、アルキレン基、アリーレン基、又はこれらの基から水素原子を１個以上除いた基が挙げられる。アルキレン基の炭素数は、１～３０が好ましく、１～１５がより好ましく、１～１０がさらに好ましい。アルキレン基は、直鎖、分岐、環状のいずれであってもよい。また、環状のアルキレン基は、単環、多環のいずれであってもよい。アリーレン基の炭素数は、６～１８が好ましく、６～１４がより好ましく、６～１０がさらに好ましい。複素環基は、単環又は縮合数が２～４の縮合環が好ましい。複素環基の環を構成するヘテロ原子の数は１～３が好ましい。複素環基の環を構成するヘテロ原子は、窒素原子、酸素原子又は硫黄原子が好ましい。複素環基の環を構成する炭素原子の数は３～３０が好ましく、３～１８がより好ましく、３～１２がより好ましい。炭化水素基及び複素環基は置換基を有していてもよい。置換基としては、後述の置換基Ｔで挙げた基が挙げられる。また、ＲＬが表すアルキル基の炭素数は１～２０が好ましく、１～１５がより好ましく、１～８が更に好ましい。アルキル基は、直鎖、分岐、環状のいずれでもよく、直鎖又は分岐が好ましく、直鎖がより好ましい。ＲＬが表すアルキル基はさらに置換基を有していてもよい。置換基としては上述した置換基Ｔが挙げられる。ＲＬが表すアリール基の炭素数は、６～３０が好ましく、６～２０がより好ましく、６～１２が更に好ましい。ＲＬが表すアリール基はさらに置換基を有していてもよい。置換基としては後述の置換基Ｔが挙げられる。
－置換基Ｔ－
置換基Ｔとしては、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基、ヘテロアリール基、－ＯＲｔ１、－ＣＯＲｔ１、－ＣＯＯＲｔ１、－ＯＣＯＲｔ１、－ＮＲｔ１Ｒｔ２、－ＮＨＣＯＲｔ１、－ＣＯＮＲｔ１Ｒｔ２、－ＮＨＣＯＮＲｔ１Ｒｔ２、－ＮＨＣＯＯＲｔ１、－ＳＲｔ１、－ＳＯ２Ｒｔ１、－ＳＯ２ＯＲｔ１、－ＮＨＳＯ２Ｒｔ１又は－ＳＯ２ＮＲｔ１Ｒｔ２が挙げられる。Ｒｔ１及びＲｔ２は、それぞれ独立に、水素原子、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基又はヘテロアリール基を表す。Ｒｔ１とＲｔ２が結合して環を形成してもよい。
顔料誘導体の具体例としては、下記構造の化合物が挙げられる。また、特開昭５６－１１８４６２号公報、特開昭６３－２６４６７４号公報、特開平１－２１７０７７号公報、特開平３－９９６１号公報、特開平３－２６７６７号公報、特開平３－１５３７８０号公報、特開平３－４５６６２号公報、特開平４－２８５６６９号公報、特開平６－１４５５４６号公報、特開平６－２１２０８８号公報、特開平６－２４０１５８号公報、特開平１０－３００６３号公報、特開平１０－１９５３２６号公報、国際公開第２０１１／０２４８９６号の段落００８６～００９８、国際公開第２０１２／１０２３９９号の段落００６３～００９４等に記載の化合物が挙げられる。
更に、顔料誘導体としては、特開２０１５－１７２７３２号公報（スルホ基を有するキノフタロン化合物の金属塩）、特開２０１４－１９９３０８号公報、特開２０１４－８５５６２号公報、特開２０１４－３５３５１号公報、又は、特開２００８－８１５６５号公報に記載の化合物を用いることもでき、これらの内容は本明細書に組み込まれる。
なお、Ｐｈはフェニル基を表す。
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Figure 0007237166000042
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Figure 0007237166000049
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組成物が顔料誘導体を含有する場合、顔料誘導体の含有量は、式（１）で表される構造を有する化合物及び上記着色剤のうちの顔料１００質量部に対し、１質量部～３０質量部が好ましく、３質量部～２０質量部が更に好ましい。顔料誘導体は、１種のみを用いてもよいし、２種以上を併用してもよい。
＜重合禁止剤＞
本開示に係る組成物は、保存安定性の観点から、重合禁止剤を含むことが好ましい。
重合禁止剤としては、特に限定されず、公知の重合禁止剤を用いることができる。
重合禁止剤としては、ハイドロキノン、ｐ－メトキシフェノール、ジ－ｔ－ブチル－ｐ－クレゾール、ピロガロール、ｔ－ブチルカテコール、ベンゾキノン、４，４’－チオビス（３－メチル－６－ｔ－ブチルフェノール）、２，２’－メチレンビス（４－メチル－６－ｔ－ブチルフェノール）、Ｎ－ニトロソフェニルヒドロキシアミン塩（アンモニウム塩、第一セリウム塩等）、２，２，６，６－テトラメチルピペリジン－１－オキシル等が挙げられる。なお、重合禁止剤は、酸化防止剤として機能することもある。
重合禁止剤は、１種単独で用いてもよいし、２種以上を併用して用いてもよい。
重合禁止剤の含有量は、保存安定性の観点から、組成物の全固形分に対して、０．１ｐｐｍ～１，０００ｐｐｍであることが好ましく、１ｐｐｍ～５００ｐｐｍであることがより好ましく、１ｐｐｍ～１００ｐｐｍであることが特に好ましい。
＜溶剤＞
本開示に係る組成物は、溶剤を含有してもよい。
溶剤としては、エステル類、例えば酢酸エチル、酢酸－ｎ－ブチル、酢酸イソブチル、ギ酸アミル、酢酸イソアミル、酢酸イソブチル、プロピオン酸ブチル、酪酸イソプロピル、酪酸エチル、酪酸ブチル、アルキルエステル類、乳酸メチル、乳酸エチル、オキシ酢酸メチル、オキシ酢酸エチル、オキシ酢酸ブチル、メトキシ酢酸メチル、メトキシ酢酸エチル、メトキシ酢酸ブチル、エトキシ酢酸メチル、エトキシ酢酸エチル、並びに、３－オキシプロピオン酸メチル及び３－オキシプロピオン酸エチルなどの３－オキシプロピオン酸アルキルエステル類（例えば、３－メトキシプロピオン酸メチル、３－メトキシプロピオン酸エチル、３－エトキシプロピオン酸メチル、３－エトキシプロピオン酸エチル）、並びに、２－オキシプロピオン酸メチル、２－オキシプロピオン酸エチル、及び２－オキシプロピオン酸プロピルなどの２－オキシプロピオン酸アルキルエステル類（例えば、２－メトキシプロピオン酸メチル、２－メトキシプロピオン酸エチル、２－メトキシプロピオン酸プロピル、２－エトキシプロピオン酸メチル、２－エトキシプロピオン酸エチル、２－オキシ－２－メチルプロピオン酸メチル、２－オキシ－２－メチルプロピオン酸エチル、２－メトキシ－２－メチルプロピオン酸メチル、２－エトキシ－２－メチルプロピオン酸エチル）、並びに、ピルビン酸メチル、ピルビン酸エチル、ピルビン酸プロピル、アセト酢酸メチル、アセト酢酸エチル、２－オキソブタン酸メチル、２－オキソブタン酸エチル等；
エーテル類、例えばジエチレングリコールジメチルエーテル、テトラヒドロフラン、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、メチルセロソルブアセテート、エチルセロソルブアセテート、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールモノブチルエーテル、プロピレングリコールメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールエチルエーテルアセテート、プロピレングリコールプロピルエーテルアセテート等；ケトン類、例えばメチルエチルケトン、シクロヘキサノン、２－ヘプタノン、３－ヘプタノン等；芳香族炭化水素類、例えばトルエン、キシレン、等が挙げられる。ただし、有機溶剤としての芳香族炭化水素類（ベンゼン、トルエン、キシレン、エチルベンゼン等）は、環境面等の理由により低減したほうがよい場合がある（例えば、有機溶剤の全質量に対して、５０質量ｐｐｍ（parts per million）以下とすることもでき、１０質量ｐｐｍ以下とすることもでき、１質量ｐｐｍ以下とすることもできる。）。
これらのうち、３－エトキシプロピオン酸メチル、３－エトキシプロピオン酸エチル、エチルセロソルブアセテート、乳酸エチル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、酢酸ブチル、３－メトキシプロピオン酸メチル、２－ヘプタノン、シクロヘキサノン、エチルカルビトールアセテート、ブチルカルビトールアセテート、プロピレングリコールメチルエーテルアセテート等が好適である。
溶剤は、単独で用いる以外に２種以上を組み合わせて用いてもよい。
本開示においては、金属含有量の少ない有機溶剤を用いることが好ましく、有機溶剤の金属含有量は、例えば１０質量ｐｐｂ（parts per billion）以下であることが好ましい。必要に応じて質量ｐｐｔ（parts per trillion）レベルの有機溶剤を用いてもよく、そのような有機溶剤は、例えば、東洋合成工業（株）が提供している（化学工業日報、２０１５年１１月１３日）。
有機溶剤から金属等の不純物を除去する方法としては、例えば、蒸留（分子蒸留や薄膜蒸留等）やフィルタを用いたろ過を挙げることができる。ろ過に用いるフィルタのフィルタ孔径としては、１０μｍ以下が好ましく、５μｍ以下がより好ましく、３μｍ以下が更に好ましい。フィルタの材質は、ポリテトラフロロエチレン、ポリエチレン又はナイロンが好ましい。
有機溶剤は、異性体（原子数が同じであるが構造が異なる化合物）が含まれていてもよい。また、異性体は、１種のみが含まれていてもよいし、複数種含まれていてもよい。
有機溶剤中の過酸化物の含有率が０．８ｍｍｏｌ／Ｌ以下であることが好ましく、過酸化物を実質的に含まないことがより好ましい。
本開示に係る組成物の全固形分は、塗布方法及び溶剤の有無により変更されるが、例えば、１質量％～１００質量％であることが好ましい。下限は１０質量％以上がより好ましい。
＜増感剤＞
本開示に係る組成物は、重合開始剤のラジカル、カチオン等の重合開始種の発生効率の向上、感光波長の長波長化の目的で、増感剤を含有していてもよい。本開示に用いることができる増感剤としては、上記した光重合開始剤に対し、電子移動機構又はエネルギー移動機構で増感させるものが好ましい。
増感剤としては、以下に列挙する化合物類に属しており、且つ波長３００ｎｍ～波長４５０ｎｍの波長領域に吸収波長を有するものが挙げられる。
好ましい増感剤の例としては、以下の化合物類に属しており、かつ波長３３０ｎｍ～波長４５０ｎｍ域に吸収波長を有するものを挙げることができる。
例えば、多核芳香族類（例えば、フェナントレン、アントラセン、ピレン、ペリレン、トリフェニレン、９，１０－ジアルコキシアントラセン）、キサンテン類（例えば、フルオレッセイン、エオシン、エリスロシン、ローダミンＢ、ローズベンガル）、チオキサントン類（イソプロピルチオキサントン、ジエチルチオキサントン、クロロチオキサントン）、シアニン類（例えばチアカルボシアニン、オキサカルボシアニン）、メロシアニン類（例えば、メロシアニン、カルボメロシアニン）、フタロシアニン類、チアジン類（例えば、チオニン、メチレンブルー、トルイジンブルー）、アクリジン類（例えば、アクリジンオレンジ、クロロフラビン、アクリフラビン）、アントラキノン類（例えば、アントラキノン）、スクアリウム類（例えば、スクアリウム）、アクリジンオレンジ、クマリン類（例えば、７－ジエチルアミノ－４－メチルクマリン）、ケトクマリン、フェノチアジン類、フェナジン類、スチリルベンゼン類、アゾ化合物、ジフェニルメタン、トリフェニルメタン、ジスチリルベンゼン類、カルバゾール類、ポルフィリン、スピロ化合物、キナクリドン、インジゴ、スチリル、ピリリウム化合物、ピロメテン化合物、ピラゾロトリアゾール化合物、ベンゾチアゾール化合物、バルビツール酸誘導体、チオバルビツール酸誘導体、アセトフェノン、ベンゾフェノン、ミヒラーズケトンなどの芳香族ケトン化合物、Ｎ－アリールオキサゾリジノンなどのヘテロ環化合物などが挙げられる。等が挙げられ、更に欧州特許第５６８，９９３号明細書、米国特許第４，５０８，８１１号明細書、同５，２２７，２２７号明細書、特開２００１－１２５２５５号公報、特開平１１－２７１９６９号公報等に記載の化合物等などが挙げられる。
増感剤は、１種単独で用いてもよいし、２種以上を併用してもよい。
本開示に係る組成物中における増感剤の含有量は、深部への光吸収効率と開始分解効率の観点から、組成物の全固形分に対し、０．１質量％～２０質量％であることが好ましく、０．５質量％～１５質量％がより好ましい。
＜共増感剤＞
本開示に係る組成物は、共増感剤を含有してもよい。共増感剤は、増感色素や開始剤の活性放射線に対する感度を一層向上させる、あるいは酸素による重合性化合物の重合阻害を抑制する等の作用を有する。
その他、共増感剤としては、例えば、特開２００７－２７７５１４号公報の段落０２３３～０２４１に記載の化合物が挙げられる。
これら共増感剤の含有量は、重合成長速度と連鎖移動のバランスによる硬化速度の向上の観点から、組成物の全固形分の質量に対し、０．１質量％～３０質量％の範囲が好ましく、０．５質量％～２５質量％の範囲がより好ましく、１質量％～２０質量％の範囲が更に好ましい。
＜その他の成分＞
本開示に係る組成物には、必要に応じて、フッ素系有機化合物、熱重合防止剤、光重合開始剤、その他充填剤、アルカリ可溶性樹脂及び分散剤以外の高分子化合物、界面活性剤、密着促進剤、酸化防止剤、紫外線吸収剤、凝集防止剤などの各種添加物を含有することができる。
その他成分としては、例えば、特開２００７－２７７５１４号公報の段落０２３８～０２４９に記載の化合物が挙げられる。
＜組成物の調製＞
本開示に係る組成物は、上述した各成分を混合することによって調製することができる。また、異物の除去や欠陥の低減などの目的で、フィルタでろ過することが好ましい。
フィルタとしては、従来からろ過用途等に用いられているものであれば特に限定されることなく用いることができる。例えば、ポリテトラフルオロエチレン（ＰＴＦＥ）等のフッ素樹脂、ナイロン（例えばナイロン－６、ナイロン－６，６）等のポリアミド系樹脂、ポリエチレン、ポリプロピレン（ＰＰ）等のポリオレフィン樹脂（高密度、超高分子量を含む）等を用いたフィルタが挙げられる。これら素材の中でもポリプロピレン（高密度ポリプロピレンを含む）又はナイロンが好ましい。
フィルタの孔径は、０．０１μｍ～７．０μｍが好ましく、０．０１μｍ～３．０μｍがより好ましく、０．０５μｍ～０．５μｍが更に好ましい。この範囲とすることにより、後工程において均一及び平滑な組成物の調製を阻害する、微細な異物を確実に除去することが可能となる。また、ファイバ状のろ材を用いることも好ましく、ろ材としては例えばポリプロピレンファイバ、ナイロンファイバ、グラスファイバ等が挙げられ、具体的にはロキテクノ社製のＳＢＰタイプシリーズ（ＳＢＰ００８など）、ＴＰＲタイプシリーズ（ＴＰＲ００２、ＴＰＲ００５など）、ＳＨＰＸタイプシリーズ（ＳＨＰＸ００３など）のフィルタカートリッジを用いることができる。
フィルタを使用する際、異なるフィルタを組み合わせてもよい。その際、第１のフィルタでのろ過は、１回のみでもよいし、２回以上行ってもよい。
また、上述した範囲内で異なる孔径の第１のフィルタを組み合わせてもよい。ここでの孔径は、フィルタメーカーの公称値を参照することができる。市販のフィルタとしては、例えば、日本ポール（株）（ＤＦＡ４２０１ＮＸＥＹなど）、アドバンテック東洋（株）、日本インテグリス（株）又は（株）キッツマイクロフィルタ等が提供する各種フィルタの中から選択することができる。
＜組成物の用途＞
本開示に係る組成物は、液状とすることができるため、例えば、本開示に係る組成物を基材などに付与し、乾燥させることにより膜を容易に製造できる。
本開示に係る組成物の２５℃における粘度は、塗布により膜を形成する場合は、塗布性の観点から、１ｍＰａ・ｓ～１００ｍＰａ・ｓであることが好ましい。下限は、２ｍＰａ・ｓ以上がより好ましく、３ｍＰａ・ｓ以上が更に好ましい。上限は、５０ｍＰａ・ｓ以下がより好ましく、３０ｍＰａ・ｓ以下が更に好ましく、１５ｍＰａ・ｓ以下が特に好ましい。
本開示における粘度は、東機産業（株）製の粘度計（商品名：ＶＩＳＣＯＭＥＴＥＲ ＴＶ－２２）を使用し、２５℃において測定するものとする。
本開示に係る組成物の用途は、特に限定されない。例えば、赤外線カットフィルタなどの形成に好ましく用いることができる。例えば、固体撮像素子の受光側における赤外線カットフィルタ（例えば、ウエハーレベルレンズに対する赤外線カットフィルタ用など）、固体撮像素子の裏面側（受光側とは反対側）における赤外線カットフィルタなどに好ましく用いることができる。特に、固体撮像素子の受光側における赤外線カットフィルタとして好ましく用いることができる。また、本開示に係る組成物に対し、更に、可視光を遮光する着色剤を含有させることで、特定の波長以上の赤外線を透過可能な赤外線透過フィルタを形成することもできる。例えば、波長４００ｎｍ～８５０ｎｍまでを遮光し、波長８５０ｎｍ以上の赤外線を透過可能な赤外線透過フィルタを形成することもできる。
また、本開示に係る組成物は、収納容器に保管されることが好ましい。
収納容器として、原材料や組成物中への不純物の混入防止を目的に、容器内壁を６種６層の樹脂で構成する多層ボトルや６種の樹脂を７層構造にしたボトルを使用することも好ましい。これらの容器としては、例えば、特開２０１５－１２３３５１号公報に記載の容器が挙げられる。
＜膜＞
本開示に係る膜は、本開示に係る組成物からなる又は上記組成物を硬化してなる膜である。また、組成物が溶剤を含む場合には、乾燥を行ってもよい。本開示に係る膜は、赤外線カットフィルタとして好ましく用いることができる。また、熱線遮蔽フィルタや赤外線透過フィルタとして用いることもできる。本開示に係る膜は、支持体上に積層して用いてもよく、支持体から剥離して用いてもよい。本開示に係る膜は、パターンを有していてもよく、パターンを有さない膜（平坦膜）であってもよい。
本開示における「乾燥」は、溶剤を少なくとも一部除去すればよく、溶剤を完全に除去する必要はなく、所望に応じて、溶剤の除去量を設定することができる。
また、上記硬化は、膜の硬さが向上していればよいが、重合による硬化が好ましい。
本開示に係る膜の厚さは、目的に応じて適宜調整できる。膜の厚さは２０μｍ以下が好ましく、１０μｍ以下がより好ましく、５μｍ以下が更に好ましい。膜の厚さの下限は０．１μｍ以上が好ましく、０．２μｍ以上がより好ましく、０．３μｍ以上が更に好ましい。
本開示に係る膜は、波長６５０ｎｍ～１，５００ｎｍの範囲に極大吸収波長を有することが好ましく、波長６８０ｎｍ～１，３００ｎｍの範囲に極大吸収波長を有することがより好ましく、波長７００ｎｍ～８５０ｎｍの範囲に極大吸収波長を有することが更に好ましい。
本開示に係る膜を赤外線カットフィルタとして用いる場合は、本開示に係る膜は以下の（１）～（４）のうちの少なくとも１つの条件を満たすことが好ましく、（１）～（４）の全ての条件を満たすことが更に好ましい。
（１）波長４００ｎｍでの透過率は７０％以上が好ましく、８０％以上がより好ましく、８５％以上が更に好ましく、９０％以上が特に好ましい。
（２）波長５００ｎｍでの透過率は７０％以上が好ましく、８０％以上がより好ましく、９０％以上が更に好ましく、９５％以上が特に好ましい。
（３）波長６００ｎｍでの透過率は７０％以上が好ましく、８０％以上がより好ましく、９０％以上が更に好ましく、９５％以上が特に好ましい。
（４）波長６５０ｎｍでの透過率は７０％以上が好ましく、８０％以上がより好ましく、９０％以上が更に好ましく、９５％以上が特に好ましい。
本開示に係る膜は、有彩色着色剤を含むカラーフィルタと組み合わせて用いることもできる。カラーフィルタは、有彩色着色剤を含む着色組成物を用いて製造できる。有彩色着色剤としては、本開示に係る組成物の欄で説明した有彩色着色剤が挙げられる。着色組成物は、樹脂、重合性化合物、重合開始剤、界面活性剤、溶剤、重合禁止剤、紫外線吸収剤などを更に含有することができる。これらの詳細については、上述した材料が挙げられ、これらを用いることができる。
本開示に係る膜とカラーフィルタとを組み合わせて用いる場合、本開示に係る膜の光路上にカラーフィルタが配置されていることが好ましい。例えば、本開示に係る膜とカラーフィルタとを積層して積層体として用いることができる。積層体においては、本開示に係る膜とカラーフィルタとは、両者が厚み方向で隣接していてもよく、隣接していなくてもよい。本開示に係る膜とカラーフィルタとが厚み方向で隣接していない場合は、カラーフィルタが形成された支持体とは別の支持体に、本開示に係る膜が形成されていてもよく、本開示に係る膜とカラーフィルタとの間に、固体撮像素子を構成する他の部材（例えば、マイクロレンズ、平坦化層など）が介在していてもよい。
なお、本開示において、赤外線カットフィルタとは、可視領域の波長の光（可視光）を透過させ、近赤外領域の波長の光（赤外線）の少なくとも一部を遮光するフィルタを意味する。赤外線カットフィルタは、可視領域の波長の光をすべて透過するものであってもよく、可視領域の波長の光のうち、特定の波長領域の光を通過させ、特定の波長領域の光を遮光するものであってもよい。また、本開示において、カラーフィルタとは、可視領域の波長の光のうち、特定の波長領域の光を通過させ、特定の波長領域の光を遮光するフィルタを意味する。また、本開示において、赤外線透過フィルタとは、可視光を遮光し、赤外線の少なくとも一部を透過させるフィルタを意味する。
本開示に係る膜は、ＣＣＤ（電荷結合素子）やＣＭＯＳ（相補型金属酸化膜半導体）などの固体撮像素子や、赤外線センサ、画像表示装置などの各種装置に用いることができる。
＜膜の製造方法＞
次に、本開示に係る膜の製造方法について説明する。本開示に係る膜は、本開示に係る組成物を塗布する工程を経て製造できる。
本開示に係る膜の製造方法において、組成物は支持体上に塗布することが好ましい。支持体としては、例えば、シリコン、無アルカリガラス、ソーダガラス、パイレックス（登録商標）ガラス、石英ガラスなどの材質で構成された基板が挙げられる。これらの基板には、有機膜や無機膜など形成されていてもよい。有機膜の材料としては、例えば上述した樹脂が挙げられる。また、支持体としては、上述した樹脂で構成された基板を用いることもできる。また、支持体には、電荷結合素子（ＣＣＤ）、相補型金属酸化膜半導体（ＣＭＯＳ）、透明導電膜などが形成されていてもよい。また、支持体には、各画素を隔離するブラックマトリクスが形成されている場合もある。また、支持体には、必要により、上部の層との密着性改良、物質の拡散防止或いは基板等の支持体表面の平坦化のために下塗り層を設けてもよい。また、支持体としてガラス基板を用いる場合においては、ガラス基板上に無機膜を形成したり、ガラス基板を脱アルカリ処理して用いることが好ましい。この態様によれば、より異物の発生が抑制された膜を製造し易い。
組成物の塗布方法としては、公知の方法を用いることができる。例えば、滴下法（ドロップキャスト）；スリットコート法；スプレー法；ロールコート法；回転塗布法（スピンコーティング）；流延塗布法；スリットアンドスピン法；プリウェット法（たとえば、特開２００９－１４５３９５号公報に記載されている方法）；インクジェット（例えばオンデマンド方式、ピエゾ方式、サーマル方式）、ノズルジェット等の吐出系印刷、フレキソ印刷、スクリーン印刷、グラビア印刷、反転オフセット印刷、メタルマスク印刷法などの各種印刷法；金型等を用いた転写法；ナノインプリント法などが挙げられる。インクジェットでの適用方法としては、特に限定されず、例えば「広がる・使えるインクジェット－特許に見る無限の可能性－、２００５年２月発行、住ベテクノリサーチ」に示された方法（特に１１５ページ～１３３ページ）、特開２００３－２６２７１６号公報、特開２００３－１８５８３１号公報、特開２００３－２６１８２７号公報、特開２０１２－１２６８３０号公報、特開２００６－１６９３２５号公報などに記載の方法が挙げられる。
組成物を塗布して形成した組成物層は、乾燥（プリベーク）してもよい。低温プロセスによりパターンを形成する場合は、プリベークを行わなくてもよい。プリベークを行う場合、プリベーク温度は、１５０℃以下が好ましく、１２０℃以下がより好ましく、１１０℃以下が更に好ましい。下限は、例えば、５０℃以上とすることが好ましく、８０℃以上とすることがより好ましい。プリベーク温度を１５０℃以下で行うことにより、例えば、イメージセンサの光電変換膜を有機素材で構成した場合において、これらの特性をより効果的に維持することができる。
プリベーク時間は、１０秒～３，０００秒が好ましく、４０秒～２，５００秒がより好ましく、８０秒～２２０秒が更に好ましい。乾燥は、ホットプレート、オーブン等で行うことができる。
本開示に係る膜の製造方法においては、更にパターンを形成する工程を含んでいてもよい。パターン形成方法としては、フォトリソグラフィ法を用いたパターン形成方法又はドライエッチング法を用いたパターン形成方法が挙げられる。
すなわち、本開示は、本開示に係る組成物を用いて支持体上に組成物層を形成する工程と、フォトリソグラフィ法又はドライエッチング法により前記組成物層に対してパターンを形成する工程と、を含むパターン形成方法を包含する。
なお、本開示に係る膜を平坦膜として用いる場合には、パターンを形成する工程を行わなくてもよい。以下、パターンを形成する工程について詳細に説明する。
－フォトリソグラフィ法でパターン形成する場合－
フォトリソグラフィ法でのパターン形成方法は、本開示に係る組成物を塗布して形成した組成物層に対しパターン状に露光する工程（露光工程）と、未露光部の組成物層を現像除去してパターンを形成する工程（現像工程）と、を含むことが好ましい。必要に応じて、現像されたパターンをベークする工程（ポストベーク工程）を設けてもよい。以下、各工程について説明する。
＜＜露光工程＞＞
露光工程では組成物層をパターン状に露光する。例えば、組成物層に対し、ステッパー等の露光装置を用いて、所定のマスクパターンを有するマスクを介して露光することで、組成物層をパターン露光することができる。これにより、露光部分を硬化することができる。露光に際して用いることができる放射線（光）としては、ｇ線、ｉ線等の紫外線が好ましく、ｉ線がより好ましい。照射量（露光量）は、例えば、０．０３Ｊ／ｃｍ２～２．５Ｊ／ｃｍ２が好ましく、０．０５Ｊ／ｃｍ２～１．０Ｊ／ｃｍ２がより好ましく、０．０８Ｊ／ｃｍ２～０．５Ｊ／ｃｍ２が特に好ましい。露光時における酸素濃度については適宜選択することができ、大気下で行う他に、例えば酸素濃度が１９体積％以下の低酸素雰囲気下（例えば、１５体積％、５体積％、実質的に無酸素）で露光してもよく、酸素濃度が２１体積％を超える高酸素雰囲気下（例えば、２２体積％、３０体積％、５０体積％）で露光してもよい。また、露光照度は適宜設定することが可能であり、好ましくは１，０００Ｗ／ｍ２～１００，０００Ｗ／ｍ２（例えば、５，０００Ｗ／ｍ２、１５，０００Ｗ／ｍ２、３５，０００Ｗ／ｍ２）の範囲から選択することができる。酸素濃度と露光照度は適宜条件を組み合わせてよく、例えば、酸素濃度１０体積％で照度１０，０００Ｗ／ｍ２、酸素濃度３５体積％で照度２０，０００Ｗ／ｍ２などとすることができる。
＜＜現像工程＞＞
次に、露光後の組成物層における未露光部の組成物層を現像除去してパターンを形成する。未露光部の組成物層の現像除去は、現像液を用いて行うことができる。これにより、露光工程における未露光部の組成物層が現像液に溶出し、光硬化した部分だけが支持体上に残る。現像液としては、下地の固体撮像素子や回路などにダメージを与えない、アルカリ現像液が望ましい。現像液の温度は、例えば、２０℃～３０℃が好ましい。現像時間は、２０秒～１８０秒が好ましい。また、残渣除去性を向上するため、現像液を６０秒ごとに振り切り、更に新たに現像液を供給する工程を数回繰り返してもよい。
現像液に用いるアルカリ剤としては、例えば、アンモニア水、エチルアミン、ジエチルアミン、ジメチルエタノールアミン、ジグリコールアミン、ジエタノールアミン、ヒドロキシアミン、エチレンジアミン、テトラメチルアンモニウムヒドロキシド、テトラエチルアンモニウムヒドロキシド、テトラプロピルアンモニウムヒドロキシド、テトラブチルアンモニウムヒドロキシド、ベンジルトリメチルアンモニウムヒドロキシド、ジメチルビス（２－ヒドロキシエチル）アンモニウムヒドロキシド、コリン、ピロール、ピペリジン、１，８－ジアザビシクロ［５．４．０］－７－ウンデセンなどの有機アルカリ性化合物や、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸ナトリウム、炭酸水素ナトリウム、ケイ酸ナトリウム、メタケイ酸ナトリウムなどの無機アルカリ性化合物が挙げられる。現像液は、これらのアルカリ剤を純水で希釈したアルカリ性水溶液が好ましく使用される。アルカリ性水溶液のアルカリ剤の濃度は、０．００１質量％～１０質量％が好ましく、０．０１質量％～１質量％がより好ましい。また、現像液には、界面活性剤を用いてもよい。界面活性剤の例としては、上述した組成物で説明した界面活性剤が挙げられ、ノニオン系界面活性剤が好ましい。現像液は、移送や保管の便宜などの観点より、一旦濃縮液として製造し、使用時に必要な濃度に希釈してもよい。希釈倍率は特に限定されないが、例えば１．５バイ～１００倍の範囲に設定することができる。なお、このようなアルカリ性水溶液からなる現像液を使用した場合には、現像後純水で洗浄（リンス）することが好ましい。
現像後、乾燥を施した後に加熱処理（ポストベーク）を行うこともできる。ポストベークは、膜の硬化を完全なものとするための現像後の加熱処理である。ポストベークを行う場合、ポストベーク温度は、例えば、１００℃～２４０℃が好ましい。膜硬化の観点から、２００℃～２３０℃がより好ましい。また、発光光源として有機エレクトロルミネッセンス（有機ＥＬ）素子を用いた場合や、イメージセンサの光電変換膜を有機素材で構成した場合は、ポストベーク温度は、１５０℃以下が好ましく、１２０℃以下がより好ましく、１００℃以下が更に好ましく、９０℃以下が特に好ましい。下限は、例えば、５０℃以上とすることができる。ポストベークは、現像後の膜に対して、上記条件になるようにホットプレートやコンベクションオーブン（熱風循環式乾燥機）、高周波加熱機等の加熱手段を用いて、連続式あるいはバッチ式で行うことができる。また、低温プロセスによりパターンを形成する場合は、ポストベークは行わなくてもよく、再度露光する工程（後露光工程）を追加してもよい。
－ドライエッチング法でパターン形成する場合－
ドライエッチング法でのパターン形成は、組成物を支持体上などに塗布して形成した組成物層を硬化して硬化物層を形成し、次いで、この硬化物層上にパターニングされたフォトレジスト層を形成し、次いで、パターニングされたフォトレジスト層をマスクとして硬化物層に対してエッチングガスを用いてドライエッチングするなどの方法で行うことができる。フォトレジスト層の形成においては、更にプリベーク処理を施すことが好ましい。特に、フォトレジストの形成プロセスとしては、露光後の加熱処理、現像後の加熱処理（ポストベーク処理）を実施する形態が望ましい。ドライエッチング法でのパターン形成については、特開２０１３－６４９９３号公報の段落００１０～００６７の記載を参酌でき、この内容は本明細書に組み込まれる。
＜光学フィルタ、及び、積層体＞
本開示に係る光学フィルタは、本開示に係る膜を有する。
本開示に係る光学フィルタは、赤外線カットフィルタ又は赤外線透過フィルタとして好ましく用いることができ、赤外線カットフィルタとしてより好ましく用いることができる。
また、本開示に係る膜と、赤、緑、青、マゼンタ、黄、シアン、黒及び無色よりなる群から選ばれる画素とを有する態様も本開示に係る光学フィルタの好ましい態様である。
また、本開示に係る積層体は、本開示に係る膜と、有彩色着色剤を含むカラーフィルタとを有する積層体である。
本開示に係る赤外線カットフィルタは、本開示に係る膜を有する。
なお、本開示に係る赤外線カットフィルタは、赤外線領域の一部の波長の赤外線のみをカットするフィルタであっても、赤外線領域の全体をカットするフィルタであってもよい。赤外線領域の一部の波長の赤外線のみをカットするフィルタとしては、例えば、近赤外線カットフィルタが挙げられる。なお、近赤外線としては、波長７５０ｎｍ～２，５００ｎｍの赤外線が挙げられる。
また、本開示に係る赤外線カットフィルタは、波長７５０ｎｍ～１，０００ｎｍの範囲の赤外線をカットするフィルタであることが好ましく、波長７５０ｎｍ～１，２００ｎｍの範囲の赤外線をカットするフィルタであることがより好ましく、波長７５０ｎｍ～１，５００ｎｍの赤外線をカットするフィルタであることが更に好ましい。
本開示に係る赤外線カットフィルタは、上記膜の他に、更に、銅を含有する層、誘電体多層膜、紫外線吸収層、基板（例えばガラス基板）などを有していてもよい。
本開示に係る赤外線カットフィルタが、更に、銅を含有する層、又は、誘電体多層膜を少なくとも有することで、視野角が広く、赤外線遮蔽性に優れた赤外線カットフィルタが得られ易い。また、本開示に係る赤外線カットフィルタが、更に、紫外線吸収層を有することで、紫外線遮蔽性に優れた赤外線カットフィルタとすることができる。紫外線吸収層としては、例えば、国際公開第２０１５／０９９０６０号の段落００４０～００７０及び０１１９～０１４５に記載の吸収層を参酌でき、この内容は本明細書に組み込まれる。誘電体多層膜としては、特開２０１４－４１３１８号公報の段落０２５５～０２５９の記載を参酌でき、この内容は本明細書に組み込まれる。
銅を含有する層としては、銅を含有するガラスで構成されたガラス基材（銅含有ガラス基材）、銅錯体を含む層（銅錯体含有層）を用いることもできる。銅含有ガラス基材としては、銅を含有する燐酸塩ガラス、銅を含有する弗燐酸塩ガラスなどが挙げられる。銅含有ガラスの市販品としては、ＮＦ－５０（ＡＧＣテクノグラス（株）製）、ＢＧ－６０、ＢＧ－６１（以上、ショット社製）、ＣＤ５０００（ＨＯＹＡ（株）製）等が挙げられる。
本開示に係る赤外線カットフィルタは、ＣＣＤ（電荷結合素子）やＣＭＯＳ（相補型金属酸化膜半導体）などの固体撮像素子や、赤外線センサ、画像表示装置などの各種装置に用いることができる。
本開示に係る赤外線カットフィルタは、本開示に係る組成物を用いて得られる膜の画素（パターン）と、赤、緑、青、マゼンタ、黄、シアン、黒及び無色よりなる群から選ばれる少なくとも１種の画素（パターン）とを有する態様も好ましい態様である。
本開示に係る光学フィルタの製造方法としては、特に制限はないが、本開示に係る組成物を支持体上に適用して組成物層を形成する工程と、上記組成物層をパターン状に露光する工程と、未露光部を現像除去してパターンを形成する工程と、を含む方法であることが好ましい。
また、本開示に係る光学フィルタの製造方法としては、本開示に係る組成物を支持体上に適用して組成物層を形成し、硬化して層を形成する工程、上記層上にフォトレジスト層を形成する工程、露光及び現像することにより上記フォトレジスト層をパターニングしてレジストパターンを得る工程、並びに、上記レジストパターンをエッチングマスクとして上記層をドライエッチングする工程を含む方法であることも好ましい。
本開示に係る光学フィルタの製造方法における各工程としては、本開示に係る膜の製造方法における各工程を参照することができる。
＜固体撮像素子＞
本開示に係る固体撮像素子は、本開示に係る膜を有する。固体撮像素子の構成としては、本開示に係る膜を有する構成であり、固体撮像素子として機能する構成であれば特に限定はない。例えば、以下のような構成が挙げられる。
支持体上に、固体撮像素子の受光エリアを構成する複数のフォトダイオード及びポリシリコン等からなる転送電極を有し、フォトダイオード及び転送電極上にフォトダイオードの受光部のみ開口したタングステン等からなる遮光膜を有し、遮光膜上に遮光膜全面及びフォトダイオード受光部を覆うように形成された窒化シリコン等からなるデバイス保護膜を有し、デバイス保護膜上に、本開示に係る膜を有する構成である。更に、デバイス保護膜上であって、本開示に係る膜の下（支持体に近い側）に集光手段（例えば、マイクロレンズ等。以下同じ）を有する構成や、本開示に係る膜上に集光手段を有する構成等であってもよい。また、固体撮像素子に用いられるカラーフィルタは、隔壁により例えば格子状に仕切られた空間に、各画素を形成する膜が埋め込まれた構造を有していてもよい。この場合の隔壁は各画素よりも低屈折率であることが好ましい。このような構造を有する撮像装置の例としては、特開２０１２－２２７４７８号公報、特開２０１４－１７９５７７号公報に記載の装置が挙げられる。
＜画像表示装置＞
本開示に係る画像表示装置は、本開示に係る膜を有する。画像表示装置としては、液晶表示装置や有機エレクトロルミネッセンス（有機ＥＬ）表示装置などが挙げられる。画像表示装置の定義や詳細については、例えば「電子ディスプレイデバイス（佐々木 昭夫著、（株）工業調査会 １９９０年発行）」、「ディスプレイデバイス（伊吹 順章著、産業図書（株）平成元年発行）」などに記載されている。また、液晶表示装置については、例えば「次世代液晶ディスプレイ技術（内田 龍男編集、（株）工業調査会 １９９４年発行）」に記載されている。本開示に適用できる液晶表示装置に特に制限はなく、例えば、上記の「次世代液晶ディスプレイ技術」に記載されている色々な方式の液晶表示装置に適用できる。画像表示装置は、白色有機ＥＬ素子を有するものであってもよい。白色有機ＥＬ素子としては、タンデム構造であることが好ましい。有機ＥＬ素子のタンデム構造については、特開２００３－４５６７６号公報、三上明義監修、「有機ＥＬ技術開発の最前線－高輝度・高精度・長寿命化・ノウハウ集－」、技術情報協会、３２６～３２８ページ、２００８年などに記載されている。有機ＥＬ素子が発光する白色光のスペクトルは、青色領域（４３０ｎｍ～４８５ｎｍ）、緑色領域（５３０ｎｍ～５８０ｎｍ）及び黄色領域（５８０ｎｍ～６２０ｎｍ）に強い極大発光ピークを有するものが好ましい。これらの発光ピークに加え更に赤色領域（６５０ｎｍ～７００ｎｍ）に極大発光ピークを有するものがより好ましい。
＜赤外線センサ＞
本開示に係る赤外線センサは、本開示に係る膜を有する。赤外線センサの構成としては、赤外線センサとして機能する構成であれば特に限定はない。以下、本開示に係る赤外線センサの一実施形態について、図面を用いて説明する。
図１において、符号１１０は、固体撮像素子である。固体撮像素子１１０上に設けられている撮像領域は、赤外線カットフィルタ１１１と、赤外線透過フィルタ１１４とを有する。また、赤外線カットフィルタ１１１上には、カラーフィルタ１１２が積層している。カラーフィルタ１１２及び赤外線透過フィルタ１１４の入射光ｈν側には、マイクロレンズ１１５が配置されている。マイクロレンズ１１５を覆うように平坦化層１１６が形成されている。
赤外線カットフィルタ１１１は、本開示に係る組成物を用いて形成することができる。赤外線カットフィルタ１１１の分光特性は、使用する赤外発光ダイオード（赤外ＬＥＤ）の発光波長に応じて選択される。
カラーフィルタ１１２は、可視領域における特定波長の光を透過及び吸収する画素が形成されたカラーフィルタであって、特に限定はなく、従来公知の画素形成用のカラーフィルタを用いることができる。例えば、赤色（Ｒ）、緑色（Ｇ）、青色（Ｂ）の画素が形成されたカラーフィルタなどが用いられる。例えば、特開２０１４－４３５５６号公報の段落０２１４～０２６３の記載を参酌することができ、この内容は本明細書に組み込まれる
赤外線透過フィルタ１１４は、使用する赤外ＬＥＤの発光波長に応じてその特性が選択される。例えば、赤外ＬＥＤの発光波長が８５０ｎｍである場合、赤外線透過フィルタ１１４は、膜の厚み方向における光透過率の、波長４００ｎｍ～６５０ｎｍの範囲における最大値が３０％以下であることが好ましく、２０％以下であることがより好ましく、１０％以下であることが更に好ましく、０．１％以下であることが特に好ましい。この透過率は、波長４００ｎｍ～６５０ｎｍの範囲の全域で上記の条件を満たすことが好ましい。
赤外線透過フィルタ１１４は、膜の厚み方向における光透過率の、波長８００ｎｍ以上（好ましくは８００ｎｍ～１，３００ｎｍ）の範囲における最小値が７０％以上であることが好ましく、８０％以上であることがより好ましく、９０％以上であることが更に好ましい。上記の透過率は、波長８００ｎｍ以上の範囲の一部で上記の条件を満たすことが好ましく、赤外ＬＥＤの発光波長に対応する波長で上記の条件を満たすことがより好ましい。
赤外線透過フィルタ１１４の膜厚は、１００μｍ以下が好ましく、１５μｍ以下がより好ましく、５μｍ以下が更に好ましく、１μｍ以下が特に好ましい。下限値は、０．１μｍが好ましい。膜厚が上記範囲であれば、上述した分光特性を満たす膜とすることができる。
赤外線透過フィルタ１１４の分光特性、膜厚等の測定方法を以下に示す。
膜厚は、膜を有する乾燥後の基板を、触針式表面形状測定器（ＵＬＶＡＣ社製ＤＥＫＴＡＫ１５０）を用いて測定する。
膜の分光特性は、紫外可視近赤外分光光度計（（株）日立ハイテクノロジーズ製Ｕ－４１００）を用いて、波長３００ｎｍ～１，３００ｎｍの範囲において透過率を測定した値である。
また、例えば、赤外ＬＥＤの発光波長が９４０ｎｍである場合、赤外線透過フィルタ１１４は、膜の厚み方向における光の透過率の、波長４５０ｎｍ～６５０ｎｍの範囲における最大値が２０％以下であり、膜の厚み方向における、波長８３５ｎｍの光の透過率が２０％以下であり、膜の厚み方向における光の透過率の、波長１，０００ｎｍ～１，３００ｎｍの範囲における最小値が７０％以上であることが好ましい。
図１に示す赤外線センサにおいて、平坦化層１１６上には、赤外線カットフィルタ１１１とは別の赤外線カットフィルタ（他の赤外線カットフィルタ）が更に配置されていてもよい。他の赤外線カットフィルタとしては、銅を含有する層、又は、誘電体多層膜を少なくとも有するものなどが挙げられる。これらの詳細については、上述したものが挙げられる。また、他の赤外線カットフィルタとしては、デュアルバンドパスフィルタを用いてもよい。
また、本開示に用いられる赤外線透過フィルタ及び赤外線カットフィルタの吸収波長は、使用光源等に合わせて適宜組み合わせて用いられる。
（カメラモジュール）
本開示に係るカメラモジュールは、固体撮像素子と、本開示に係る赤外線カットフィルタとを有する。
また、本開示に係るカメラモジュールは、レンズ、及び、上記固体撮像素子から得られる撮像を処理する回路を更に有することが好ましい。
本開示に係るカメラモジュールに用いられる固体撮像素子としては、上記本開示に係る固体撮像素子であってもよいし、公知の固体撮像素子であってもよい。
また、本開示に係るカメラモジュールに用いられるレンズ、及び、上記固体撮像素子から得られる撮像を処理する回路としては、公知のものを用いることができる。
カメラモジュールの例としては、特開２０１６－６４７６号公報、又は、特開２０１４－１９７１９０号公報に記載のカメラモジュールを参酌でき、これらの内容は本明細書に組み込まれる。
本開示に係る膜は遮熱材料又は蓄熱材料として用いることができる。また、本開示に係る組成物は、塗料、インクジェットインク、セキュリティインク等にも用いることができる。
以下、実施例により本開示を詳細に説明するが、本開示はこれらに限定されるものではない。
本実施例において、「％」、「部」とは、特に断りのない限り、それぞれ「質量％」、「質量部」を意味する。なお、高分子化合物において、特別に規定したもの以外は、分子量は重量平均分子量（Ｍｗ）であり、構成単位の比率はモル百分率である。
重量平均分子量（Ｍｗ）は、ゲル浸透クロマトグラフィー（ＧＰＣ）法によるポリスチレン換算値として測定した値である。
＜ＣｕＫα線によるＸ線回折パターン方法＞
ＣｕＫα線によるＸ線回折パターン測定は、日本工業規格ＪＩＳ Ｋ０１３１（Ｘ線回折分析通則）に準じて、回折角（２θ）が、３°から３５°の範囲で測定した。
測定条件は下記の通りとした。
Ｘ線回折装置：（株）リガク社製ＲＩＮＴ２１００
サンプリング幅：０．０２°
スキャンスピード：２．０°／ｍｉｎ
発散スリット：１°
発散縦制限スリット：１０ｍｍ
散乱スリット：２°
受光スリット：０．３ｍｍ
管球：Ｃｕ
管電圧：４０ｋＶ
管電流：４０ｍＡ
下記スキームに従い（Ａ－ｐｐｂ－１）を合成した。以下の構造式中、Ｅｔはエチル基を表し、Ｐｈはフェニル基を表す。
Figure 0007237166000051
＜＜化合物ａの合成＞＞
Ｔｅｔｒａｈｅｄｒｏｎ ６２ （２００６） ６０１８－６０２８に記載された方法に従って、化合物ａを合成した。
＜＜化合物ｂの合成＞＞
７－エチル－２－メチル－４－ウンデカノール（東京化成（株）製）を原料にして、特許第６３５３０６０号公報の段落００７２に記載された方法に従って、化合物ｂを合成した。
＜＜化合物ｃの合成＞＞
化合物ｂ：１４．９質量部、ｔ－アミルアルコール５０質量部、ナトリウムｔ－ペントキシド（東京化成（株）製）１４．３質量部をフラスコに入れ、外設温度１２０℃で、化合物ａ１０質量部を１時間かけて滴下し、４時間撹拌した。反応後、内温６０℃になるまで放冷しメタノール１００質量部、水１００質量部、酢酸８質量部を加え、析出した結晶をろ別し、メタノール１４０質量部で洗浄した。得られた結晶に１００質量部のメタノールを加えて３０分間加熱還流し、３０℃になるまで放冷し、結晶をろ別した。得られた結晶を５０℃で送風乾燥することで、化合物ｃを１０質量部得た。
＜＜化合物ｄの合成＞＞
特許第６３５３０６０号公報の段落００７２に記載された方法に従って、化合物ｄを合成した。
＜＜化合物ｅの合成＞＞
化合物ｃ：７質量部、化合物ｄ：７．５質量部をトルエン１４０質量部中で撹拌し、オキシ塩化リン１２質量部を滴下し３．５時間加熱還流した。反応終了後、内温２５℃まで冷却し、内温３０℃以下を維持しつつメタノール２１０質量部を６０分間かけて滴下した。滴下終了後、室温で３０分間撹拌した。析出した結晶をろ別し、メタノール１４０質量部で洗浄した。得られた結晶にメタノール１００質量部を加えて、３０分間加熱還流し、３０℃になるまで放冷し、結晶をろ別した。得られた結晶を５０℃で送風乾燥することで、化合物ｅを６質量部得た。
＜＜化合物ｆの合成＞＞
ジフェニルボリン酸２－アミノエチルエステル１７質量部を１，２－ジクロロベンゼン１２０質量部中で撹拌し、外設温度４０℃で、四塩化チタン１８質量部を１０分間かけて滴下し、３０分間撹拌した。化合物ｅを６質量添加し、外設温度１２５℃まで昇温し６０分加熱した。内温３０℃になるまで放冷し、内温３０℃以下を維持しつつメタノール１２０質量部を滴下した。滴下後３０分間撹拌し、結晶をろ別し、メタノール６０質量部で洗浄した。得られた結晶に１００質量部のメタノールを加えて３０分間加熱還流し、３０℃になるまで放冷し、結晶をろ別した。得られた結晶を５０℃で送風乾燥することで、化合物ｆを６質量部得た。
＜Ａ－ｐｐｂ－１の合成＞
化合物ｆ：５質量部をテトラヒドロフラン２００質量部中で撹拌し、トリエチルアミン１．４質量部、を滴下した。室温でテレフタロイルクロリド０．４７質量部を３０分間かけて滴下し、３０分間撹拌した。外設温度７５℃まで昇温し２時間加熱還流した。内温３０℃になるまで放冷し、結晶をろ別し、テトラヒドロフラン１００質量部で洗浄した。得られた結晶に２００質量部のメタノールを加えて一時間加熱還流し、３０℃になるまで放冷し、結晶をろ別した。得られた結晶を５０℃で送風乾燥することで、Ａ－ｐｐｂ－１を４質量部得た。ＭＡＬＤＩ ＴＯＦ－ＭＡＳＳ（飛行時間型質量分析法）による質量分析及び１Ｈ－ＮＭＲ測定の結果、色素［Ａ－ｐｐｂ－１］であることを同定した。
・ＭＡＬＤＩ ＴＯＦ－ＭＡＳＳ：Ｃａｌｃ．ｆｏｒ ［Ｍ＋Ｈ］＋：２２７１．４ ｆｏｕｎｄ：２２７１．５
・１Ｈ－ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）：δ６．３３（ｄ，４Ｈ），６．４０（ｄ，４Ｈ），７．００（ｄ，４Ｈ），７．１０（ｔ，４Ｈ），７．１６－７．４４（ｍ，４２Ｈ），７．８０（ｓ，２Ｈ），７．８２（ｓ，２Ｈ），８．２２（ｓ，２Ｈ），８．３０（ｓ，２Ｈ），８．４９（ｓ，４Ｈ），９．００（ｓ，２Ｈ），９．０５（ｓ，２Ｈ）
・λｍａｘ：８８２ｎｍ（ＣＨＣｌ３）
＜Ａ－ｐｐｂ－２の合成＞
化合物Ａ－ｐｐｂ－１の合成において、テレフタロイルクロリドを、４，４’－ジフェニルジカルボニルクロリドに変更した以外は、化合物Ａ－ｐｐｂ－１と同様の方法で、化合物Ａ－ｐｐｂ－２を合成した。以下、同定データ詳細を示す。
・ＭＡＬＤＩ ＴＯＦ－ＭＡＳＳ：Ｃａｌｃ．ｆｏｒ ［Ｍ＋Ｈ］＋ ：２３４７．４ ｆｏｕｎｄ：２３４７．４
・１Ｈ－ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）：δ６．３３（ｄ，４Ｈ），６．４０（ｄ，４Ｈ），７．００（ｄ，４Ｈ），７．１０（ｔ，４Ｈ），７．１６－７．４４（ｍ，４２Ｈ），７．８０（ｓ，２Ｈ），７．８２（ｓ，２Ｈ），７．９０（ｄ，４Ｈ），８．２２（ｓ，２Ｈ），８．３０（ｓ，２Ｈ），８．４４（ｄ，４Ｈ），９．００（ｓ，２Ｈ），９．０５（ｓ，２Ｈ）
・λｍａｘ：８８２ｎｍ（ＣＨＣｌ３）
・ＣｕＫα線によるＸ線回折パターンを測定したところ、ブラッグ角２θ＝５．７°、６．４°にピークを有していた。
＜Ａ－ｐｐｂ－３の合成＞
化合物Ａ－ｐｐｂ－１の合成において、テレフタロイルクロリドを、４，４’－オキシビス（ベンゾイルクロリド）に変更した以外は、化合物Ａ－ｐｐｂ－１と同様の方法で、化合物Ａ－ｐｐｂ－３を合成した。以下、同定データ詳細を示す。
・ＭＡＬＤＩ ＴＯＦ－ＭＡＳＳ：Ｃａｌｃ．ｆｏｒ ［Ｍ＋Ｈ］＋ ：２３６３．４ ｆｏｕｎｄ：２３６３．４
・１Ｈ－ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）：δ６．３３（ｄ，４Ｈ），６．３７（ｄ，４Ｈ），６．９７（ｄ，４Ｈ），７．０９（ｔ，４Ｈ），７．１６－７．４４（ｍ，４６Ｈ），７．８０（ｓ，２Ｈ），７．８１（ｓ，２Ｈ），８．２２（ｓ，２Ｈ），８．２９（ｓ，２Ｈ），８．３６（ｄ，４Ｈ），８．９９（ｓ，２Ｈ），９．０４（ｓ，２Ｈ），
・λｍａｘ：８８２ｎｍ（ＣＨＣｌ３）
・ＣｕＫα線によるＸ線回折パターンを測定したところ、ブラッグ角２θ＝７．７°、９．６°にピークを有していた。
＜Ａ－ｐｐｂ－４の合成＞
化合物Ａ－ｐｐｂ－１の合成において、テレフタロイルクロリドを、下記二官能酸クロリド１に変更した以外は、化合物Ａ－ｐｐｂ－１と同様の方法で、化合物Ａ－ｐｐｂ－４を合成した。
Figure 0007237166000052
以下、同定データ詳細を示す。
・ＭＡＬＤＩ ＴＯＦ－ＭＡＳＳ：Ｃａｌｃ．ｆｏｒ ［Ｍ＋Ｈ］＋：２３７１．４ ｆｏｕｎｄ：２３７１．５
・１Ｈ－ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）：δ６．３３（ｄ，４Ｈ），６．３７（ｄ，４Ｈ），６．９７（ｄ，４Ｈ），７．０９（ｔ，４Ｈ），７．１６－７．４４（ｍ，４２Ｈ），７．７７（ｄ，４Ｈ），７．８０（ｓ，２Ｈ），７．８１（ｓ，２Ｈ），８．２２（ｓ，２Ｈ），８．２９（ｓ，２Ｈ），８．３３（ｄ，４Ｈ），８．９９（ｓ，２Ｈ），９．０４（ｓ，２Ｈ），
・λｍａｘ：８８２ｎｍ（ＣＨＣｌ３）
・ＣｕＫα線によるＸ線回折パターンを測定したところ、ブラッグ角２θ＝６．３°にピークを有していた。
＜Ａ－ｐｐｂ－５の合成＞
化合物Ａ－ｐｐｂ－１の合成において、テレフタロイルクロリドを、下記二官能酸クロリド２に変更した以外は、化合物Ａ－ｐｐｂ－１と同様の方法で、化合物Ａ－ｐｐｂ－５を合成した。
Figure 0007237166000053
以下、同定データ詳細を示す。
・ＭＡＬＤＩ ＴＯＦ－ＭＡＳＳ：Ｃａｌｃ．ｆｏｒ ［Ｍ＋Ｈ］＋：２４１５．４ｆｏｕｎｄ：２４１５．５
・１Ｈ－ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）：δ６．３３（ｄ，４Ｈ），６．３８（ｄ，４Ｈ），７．００（ｄ，４Ｈ），７．０９（ｔ，４Ｈ），７．１６－７．４２（ｍ，４２Ｈ），７．７８－７．８２（ｍ，８Ｈ），７．８８（ｄ，４Ｈ），８．２２（ｓ，２Ｈ），８．３０（ｓ，２Ｈ），８．４２（ｄ，４Ｈ），９．００（ｓ，２Ｈ），９．０５（ｓ，２Ｈ），
＜Ａ－ｐｐｂ－６の合成＞
化合物Ａ－ｐｐｂ－１の合成において、テレフタロイルクロリドを、フマリルクロリドに変更した以外は、化合物Ａ－ｐｐｂ－１と同様の方法で、化合物Ａ－ｐｐｂ－６を合成した。
以下、同定データ詳細を示す。
・ＭＡＬＤＩ ＴＯＦ－ＭＡＳＳ：Ｃａｌｃ．ｆｏｒ ［Ｍ＋Ｈ］＋：２２２１．４ｆｏｕｎｄ：２２２１．５
・１Ｈ－ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）：δ６．３３（ｄ，４Ｈ），６．３８（ｄ，４Ｈ），６．９４（ｄ，４Ｈ），７．０９（ｔ，４Ｈ），７．１６－７．４４（ｍ，４４Ｈ），７．８０（ｓ，２Ｈ），７．８２（ｓ，２Ｈ），８．２２（ｓ，２Ｈ），８．２７（ｓ，２Ｈ），９．００（ｓ，２Ｈ），９．０４（ｓ，２Ｈ）
・λｍａｘ：８８２ｎｍ（ＣＨＣｌ３）
・ＣｕＫα線によるＸ線回折パターンを測定したところ、ブラッグ角２θ＝１０．０°、１１．５°、１３．３°にピークを有していた。
＜Ａ－ｐｐｂ－７の合成＞
化合物Ａ－ｐｐｂ－１の合成において、化合物ａを、下記化合物ａ２に変更した以外は、化合物Ａ－ｐｐｂ－１と同様の方法で、化合物Ａ－ｐｐｂ－７を合成した。
Figure 0007237166000054
以下、同定データ詳細を示す。
・ＭＡＬＤＩ ＴＯＦ－ＭＡＳＳ：Ｃａｌｃ．ｆｏｒ ［Ｍ＋Ｈ］＋：２４１５．４
ｆｏｕｎｄ：２４１５．３
・１Ｈ－ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）：δ６．２５（ｄ，４Ｈ），６．３８（ｄ，４Ｈ），７．００（ｄ，４Ｈ），７．０５（ｄ，４Ｈ），７．１８－７．４２（ｍ，４０Ｈ），７．８２（ｓ，２Ｈ），７．８３（ｓ，２Ｈ），７．９０（ｄ，４Ｈ），８．２６（ｓ，２Ｈ），８．３０（ｓ，２Ｈ），８．４４（ｄ，４Ｈ），９．０３（ｓ，２Ｈ），９．０４（ｓ，２Ｈ）
・λｍａｘ：８８２ｎｍ（ＣＨＣｌ３）
＜Ａ－ｐｐｂ－１１の合成＞
化合物Ａ－ｐｐｂ－１の合成において、テレフタロイルクロリドを、２，５－フランジカルボニルジクロリドに変更した以外は、化合物Ａ－ｐｐｂ－１と同様の方法で、化合物Ａ－ｐｐｂ－１１を合成した。
以下、同定データ詳細を示す。
・ＭＡＬＤＩ ＴＯＦ－ＭＡＳＳ：Ｃａｌｃ．ｆｏｒ ［Ｍ＋Ｈ］＋：２２６１．４ ｆｏｕｎｄ：２２６１．４
・１Ｈ－ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）：δ６．３３（ｄ，４Ｈ），６．３８（ｄ，４Ｈ），７．００（ｄ，４Ｈ），７．０９（ｔ，４Ｈ），７．１６－７．４４（ｍ，４２Ｈ），７．５９（ｓ，２Ｈ），７．８０（ｓ，２Ｈ）７．８１（ｓ，２Ｈ），８．２２（ｓ，２Ｈ），８．２９（ｓ，２Ｈ），８．９９（ｓ，２Ｈ），９．０４（ｓ，２Ｈ）
・λｍａｘ：８８２ｎｍ（ＣＨＣｌ３）
＜Ａ－ｐｐｂ－１３の合成＞
化合物Ａ－ｐｐｂ－１の合成において、テレフタロイルクロリドを、１，３，５－ベンゼントリカルボニルトリクロリドに変更した以外は、化合物Ａ－ｐｐｂ－１と同様の方法で、化合物Ａ－ｐｐｂ－１３を合成した。
以下、同定データ詳細を示す。
・ＭＡＬＤＩ ＴＯＦ－ＭＡＳＳ：Ｃａｌｃ．ｆｏｒ ［Ｍ＋Ｈ］＋：３３６７．５ ｆｏｕｎｄ：３３６７．４
・１Ｈ－ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）：δ６．３４（ｄ，６Ｈ），６．４４（ｄ，６Ｈ），７．０９（ｍ，１２Ｈ），７．１６－７．４６（ｍ，６３Ｈ），７．８０（ｓ，６Ｈ），８．２２（ｓ，３Ｈ），８．３３（ｓ，３Ｈ），９．００（ｓ，３Ｈ），９．０９（ｓ，３Ｈ），９．４９（ｓ，３Ｈ）
・λｍａｘ：８８２ｎｍ（ＣＨＣｌ３）
＜Ａ－ｐｐｂ－１６～２２の合成＞
＜Ａ－ｐｐｂ－１６の合成＞
化合物Ａ－ｐｐｂ－２の合成において、化合物ｄを、下記化合物ｄ２に変更した以外は、化合物Ａ－ｐｐｂ－２と同様の方法で、化合物Ａ－ｐｐｂ－１６を合成した。
Figure 0007237166000055
以下、同定データ詳細を示す。
・ＭＡＬＤＩ ＴＯＦ－ＭＡＳＳ：Ｃａｌｃ．ｆｏｒ ［Ｍ＋Ｈ］＋：２２１０．６
ｆｏｕｎｄ：２２１０．６
・λｍａｘ：８７４ｎｍ（ＣＨＣｌ３）
＜Ａ－ｐｐｂ－１７の合成＞
化合物Ａ－ｐｐｂ－２の合成において、化合物ｄを、下記化合物ｄ３に変更した以外は、化合物Ａ－ｐｐｂ－２と同様の方法で、化合物Ａ－ｐｐｂ－１７を合成した。
Figure 0007237166000056
以下、同定データ詳細を示す。
・ＭＡＬＤＩ ＴＯＦ－ＭＡＳＳ：Ｃａｌｃ．ｆｏｒ ［Ｍ＋Ｈ］＋：２３８７．４
ｆｏｕｎｄ：２３８７．３
・λｍａｘ：８７６ｎｍ（ＣＨＣｌ３）
＜Ａ－ｐｐｂ－１８の合成＞
化合物Ａ－ｐｐｂ－２の合成において、化合物ｄを、下記化合物ｄ４に変更した以外は、化合物Ａ－ｐｐｂ－２と同様の方法で、化合物Ａ－ｐｐｂ－１８を合成した。
Figure 0007237166000057
以下、同定データ詳細を示す。
・ＭＡＬＤＩ ＴＯＦ－ＭＡＳＳ：Ｃａｌｃ．ｆｏｒ ［Ｍ＋Ｈ］＋：２６９９．０
ｆｏｕｎｄ：２６９９．０
・λｍａｘ：８８７ｎｍ（ＣＨＣｌ３）
＜Ａ－ｐｐｂ－１９の合成＞
化合物Ａ－ｐｐｂ－１の合成において、化合物ｄを、下記化合物ｄ５に変更した以外は、化合物Ａ－ｐｐｂ－１と同様の方法で、化合物Ａ－ｐｐｂ－１９を合成した。
Figure 0007237166000058
以下、同定データ詳細を示す。
・ＭＡＬＤＩ ＴＯＦ－ＭＡＳＳ：Ｃａｌｃ．ｆｏｒ ［Ｍ＋Ｈ］＋：１９９５．７
ｆｏｕｎｄ：１９９５．６
・λｍａｘ：８１４ｎｍ（ＣＨＣｌ３）
＜Ａ－ｐｐｂ－２１の合成＞
化合物Ａ－ｐｐｂ－1の合成において、化合物dを、化合物d6に変更した以外は、化合物Ａ－ｐｐｂ－２と同様の方法で、化合物Ａ－ｐｐｂ－21を合成した。
Figure 0007237166000059
以下、同定データ詳細を示す。
・ＭＡＬＤＩ ＴＯＦ－ＭＡＳＳ：Ｃａｌｃ．ｆｏｒ ［Ｍ＋Ｈ］＋：２０１９．６
ｆｏｕｎｄ：２０１９．５
・λｍａｘ：７８０ｎｍ（ＣＨＣｌ３）
＜Ａ－ｐｐｂ－２２の合成＞
化合物Ａ－ｐｐｂ－１の合成において、化合物ｄを、化合物ｄ７に変更した以外は、化合物Ａ－ｐｐｂ－２と同様の方法で、化合物Ａ－ｐｐｂ－２２を合成した。
Figure 0007237166000060
以下、同定データ詳細を示す。
・ＭＡＬＤＩ ＴＯＦ－ＭＡＳＳ：Ｃａｌｃ．ｆｏｒ ［Ｍ＋Ｈ］＋：１９５５．６
ｆｏｕｎｄ：１９５５．５
・λｍａｘ：７４０ｎｍ（ＣＨＣｌ３）
＜硬化性組成物の調製＞
下記表１～表４に記載の原料を混合して、孔径０．４５μｍのナイロン製フィルタ（日本ポール（株）製）を用いてろ過して、硬化性組成物を調製した。
なお、分散液は、以下のように調製した分散液を用いた。
下記表１～表４の分散液の欄に記載の種類の色素、誘導体、分散剤及び溶剤Ａを、それぞれ下記の表１～表４の分散液の欄に記載の質量部で混合し、更に、直径０．３ｍｍのジルコニアビーズ２３０質量部を加えて、ペイントシェーカーを用いて５時間分散処理を行い、ビーズをろ過で分離して分散液を調製した。
Figure 0007237166000061
Figure 0007237166000062
Figure 0007237166000063
Figure 0007237166000064
各硬化性組成物に用いた原料は、以下の通りである。
誘導体Ｂ－１～Ｂ－３１は上述のＢ－１～Ｂ－３１と同様の化合物である。
樹脂１：サイクロマーＰ（ＡＣＡ）２３０ＡＡ（アクリロイル基とカルボキシ基とを有するアクリルポリマー、（株）ダイセル製）
樹脂２：アリルメタクリレート（ＡＭＡ）とメタクリル酸（ＭＡＡ）との共重合体（組成比（質量比）：ＡＭＡ／ＭＡＡ＝８０／２０、Ｍｗ＝１５，０００）
樹脂３：下記構造の樹脂。（主鎖に付記した数値はモル比である。Ｍｗ＝１０，０００、酸価＝６９．２ｍｇＫＯＨ／ｇ）
Figure 0007237166000065
樹脂４：下記構造の樹脂（酸価＝１１０ｍｇＫＯＨ／ｇ、重量平均分子量＝１０，０００）。主鎖に付記した数値は繰り返し単位のモル比を表す。
Figure 0007237166000066
樹脂５：下記構造の樹脂（酸価＝１８４ｍｇＫＯＨ／ｇ、重量平均分子量＝９，７００）。主鎖に付記した数値は繰り返し単位のモル比を表す。
Figure 0007237166000067
硬化性化合物１：アロニックスＭ－３５０（東亞合成（株）製）
硬化性化合物２：下記構造（Ｍ１）の化合物
硬化性化合物３：下記構造（Ｍ２）の化合物の混合物（左側化合物を５５モル％～６３モル％含有）
硬化性化合物４：下記構造（Ｍ３）の化合物
硬化性化合物５：下記構造の化合物（Ｍ４）の混合物（左側化合物と右側化合物とのモル比が７：３）
硬化性化合物６：デナコールＥＸ－６１１（ナガセケムテックス（株）製）
Figure 0007237166000068
光重合開始剤１：下記構造（Ｆ１）の化合物
光重合開始剤２：下記構造（Ｆ２）の化合物
光重合開始剤３：下記構造（Ｆ３）の化合物
光重合開始剤４：下記構造（Ｆ４）の化合物
光重合開始剤５：ＣＰＩ－１００Ｐ（サンアプロ（株）製）
Figure 0007237166000069
紫外線吸収剤１：ＵＶ－５０３（大東化学（株）製）
紫外線吸収剤２：下記構造（ＵＶ２）の化合物
Figure 0007237166000070
界面活性剤１：下記構造の化合物（Ｍｗ＝１４，０００、構成繰り返し単位の割合を示す％はモル％である。）
Figure 0007237166000071
界面活性剤２：フタージェント ＦＴＸ－２１８（ネオス（株）社製、フッ素系界面活性剤）
界面活性剤３：ＫＦ－６００１（信越化学工業（株）製、シリコン系界面活性剤）
－溶剤－
溶剤１：プロピレングリコールメチルエーテルアセテート（ＰＧＭＥＡ）
溶剤２：シクロヘキサノン
溶剤３：酢酸ブチル
溶剤４：プロピレングリコールモノメチルエーテル
－重合禁止剤－
重合禁止剤１：ｐ－メトキシフェノール
重合禁止剤２：アデカスタブ ＡＯ－８０（(株)ＡＤＥＫＡ製）
－分散剤－
Ｃ１：下記構造の樹脂。（主鎖に付記した数値はモル比であり、側鎖に付記した数値は繰り返し単位の数である。Ｍｗ＝３８，０００、酸価＝９９．１ｍｇＫＯＨ／ｇ）
Ｃ２：下記構造の樹脂。（主鎖に付記した数値はモル比であり、側鎖に付記した数値は繰り返し単位の数である。Ｍｗ＝２１，０００、酸価＝３６．０ｍｇＫＯＨ／ｇ、アミン価４７．０ｍｇＫＯＨ／ｇ）
Ｃ３：下記構造のブロック型樹脂（アミン価＝９０ｍｇＫＯＨ／ｇ、４級アンモニウム塩価＝３０ｍｇＫＯＨ／ｇ、重量平均分子量＝９８００）。主鎖に付記した数値は繰り返し単位のモル比を表す。
Ｃ４：下記構造の樹脂。（主鎖に付記した数値はモル比であり、側鎖に付記した数値は繰り返し単位の数である。Ｍｗ＝２２，９００、酸価＝３２．３ｍｇＫＯＨ／ｇ、アミン価４５．０ｍｇＫＯＨ／ｇ）
Ｃ５：下記構造の樹脂（酸価＝８７．０ｍｇＫＯＨ／ｇ、重量平均分子量＝１８０００）。主鎖に付記した数値は繰り返し単位のモル比を表し、側鎖に付記した数値は、繰り返し単位の数を表す。
Ｃ６：下記構造の樹脂（酸価＝８５．０ｍｇＫＯＨ／ｇ、重量平均分子量＝２２０００）。主鎖に付記した数値は繰り返し単位のモル比を表し、側鎖に付記した数値は、繰り返し単位の数を表す
Ｃ７：下記構造の樹脂（酸価＝４３ｍｇＫＯＨ／ｇ、重量平均分子量＝９０００）。側鎖に付記した数値は繰り返し単位のモル比を表す。
Figure 0007237166000072
Figure 0007237166000073
Figure 0007237166000074
比較化合物Ａ～比較化合物Ｃ：下記構造の色素。
Figure 0007237166000075
＜表１～表４に記載の色素の分散液のＰＧＭＥＡ溶解度の測定＞
大気圧下にて、２５℃のプロピレングリコールメチルエーテルアセテート（ＰＧＭＥＡ）の１Ｌに対し表１～表４に記載の色素の分散液約１００ｍｇ（精秤した表１～表４に記載の色素の値をＸｍｇとする）を添加し、３０分間撹拌した。次いで、５分間静置した後にろ過し、ろ過物を８０℃２時間で減圧乾燥し、精秤した（精秤したろ過物の値をＹｍｇとする）。プロピレングリコールメチルエーテルアセテートに溶解した表１～表４に記載の色素の溶解度を下記式から算出した。
ＰＧＭＥＡ溶解度（ｍｇ／Ｌ）＝Ｘ－Ｙ
Ａ：ＰＧＭＥＡ溶解度が１０ｍｇ／Ｌ未満である。
Ｂ：ＰＧＭＥＡ溶解度１０ｍｇ／Ｌ以上、５０ｍｇ／Ｌ未満である。
Ｃ：ＰＧＭＥＡ溶解度５０ｍｇ／Ｌ以上、１００ｍｇ／Ｌ以下である。
Ｄ：ＰＧＭＥＡ溶解度１００ｍｇ／Ｌを超える。
結果を下記表５に示す。
Figure 0007237166000076
＜硬化膜の作製＞
（作製例１）
＜＜組成１の硬化性組成物を用いた硬化膜の作製方法＞＞
表１～表４に記載の各組成物を、ガラス基板（コーニング社製、「１７３７」）上に、乾燥後の膜厚が１．０μｍになるようにスピンコーターを用いて塗布し、１００℃のホットプレートを用いて１２０秒間加熱処理（プリベーク）を行った。次いで、ｉ線ステッパー露光装置ＦＰＡ－３０００ｉ５＋（Ｃａｎｏｎ（株）製）を使用して、５００ｍＪ／ｃｍ２で全面露光した。次いで現像機（ＣＤ－２０６０、富士フイルムエレクトロニクスマテリアルズ（株）製）を用いて２３℃で６０秒間パドル現像を行い、次いで、純水でリンス処理し、次いで、スピン乾燥した。さらに、２００℃のホットプレートを用いて３００秒間加熱処理（ポストベーク）を行い、硬化膜を得た。
＜分光特性の評価＞
上記で得られた硬化膜の分光を、分光光度計（Ｕ－４１００ （株）日立ハイテクノロジーズ製）を用いて波長４００ｎｍ～２，０００ｎｍの波長範囲の吸収スペクトルを測定した。
波長６５０ｎｍ～２，０００ｎｍにおける最大吸光度（Ａｂｓλｍａｘ）を測定し、最大の吸光度を１とした時の、「波長４００ｎｍ～５５０ｎｍの平均吸光度」について、下記基準で評価した。
この吸光度を１としたときにおける波長４００ｎｍ～５５０ｎｍの吸光度が小さいほど、急峻な分光形状を有しており、可視光領域の高い透明性と近赤外領域の高い着色性とを両立しているため、得られた硬化膜は、優れた分光特性を有するといえる。
－評価基準－
Ａ：波長４００ｎｍ～５５０ｎｍの平均吸光度が０．０５未満である。
Ｂ：波長４００ｎｍ～５５０ｎｍの平均吸光度が０．０５以上０．１未満である。
Ｃ：波長４００ｎｍ～５５０ｎｍの平均吸光度が０．１以上０．２未満である。
Ｄ：波長４００ｎｍ～５５０ｎｍの平均吸光度が０．２以上である。
＜耐熱性の評価＞
上記で得られた硬化膜を、ホットプレートを用いて、２６５℃で３００秒加熱した。加熱前後の膜の波長４００～２，０００ｎｍの光に対する透過率を分光光度計Ｕ－４１００（（株）日立ハイテクノロジーズ製）を用いて測定した。波長４００ｎｍ～２，０００ｎｍの範囲において、加熱前後の透過率の変化が最も大きい波長における透過率変化を下記式から算出し、下記基準で透過率変化を評価した。透過率変化が小さいほど、耐熱性に優れるといえる。
透過率変化＝｜（光照射後の透過率－光照射前の透過率）｜
－評価基準－
Ａ：透過率変化が３％未満である。
Ｂ：透過率変化が３％以上５％未満である。
Ｃ：透過率変化が５％以上１０％未満である。
Ｄ：透過率変化が１０％以上である。
＜耐光性の評価＞
得られた硬化膜をスーパーキセノンランプ（２０万ルクス）搭載の退色試験機にセットし、紫外線カットフィルタを使用しない条件下にて、２０万ルクスの光を７５時間照射した。次に、光照射後の膜の透過スペクトルを、分光光度計Ｕ－４１００（（株）日立ハイテクノロジーズ製）を用いて測定した。波長４００ｎｍ～２，０００ｎｍの範囲において、光照射前後の透過率の変化が最も大きい波長における透過率変化を下記式から算出し、下記基準で耐熱性を評価した。
透過率変化＝｜（光照射後の透過率－光照射前の透過率）｜
－評価基準－
Ａ：透過率変化が３％未満である。
Ｂ：透過率変化が３％以上５％未満である。
Ｃ：透過率変化が５％以上１０％未満である。
Ｄ：透過率変化が１０％以上である。
＜分散性の評価＞
以下の方法で、表１～表４に記載の組成物中における色素の平均粒子径を測定し、分散性を評価した。なお、比較例２については、比較化合物２が溶剤中に溶解していたため、分散性の評価は行わなかった。
組成物中における色素の体積平均粒子径は、ナノトラックＵＰＡ粒度分析計（ＵＰＡ－ＥＸ１５０、商品名、日機装（株）製）を用いて測定し、下記基準で分散性を評価した。組成物中における色素の体積平均粒子径が小さいほど、分散性に優れるといえる。
－評価基準－
Ａ：体積平均粒子径が１０ｎｍ以上１００ｎｍ以下である。
Ｂ：体積平均粒子径が１００ｎｍを超え２００ｎｍ以下である。
Ｃ：体積平均粒子径が２００ｎｍを超え５００ｎｍ以下である。
Ｄ：体積平均粒子径が５００ｎｍを超える。
評価結果を表６～表９にまとめて示す。
Figure 0007237166000077
Figure 0007237166000078
Figure 0007237166000079
Figure 0007237166000080
表６～表９に記載の結果から、本開示に係る実施例１～実施例６８の硬化性組成物は、比較例１～比較例３の硬化性組成物に比べて、得られる膜の分光特性に優れる。
また、本開示に係る実施例１～実施例６８の硬化性組成物は、耐熱性及び耐光性にも優れることがわかる。
（実施例１０１～実施例１６８）
実施例１～実施例６８の組成物をそれぞれ用い、下記手法にて２μｍ四方のパターン（赤外線カットフィルタ）をそれぞれ形成した。得られた赤外線カットフィルタを含む固撮像素子を以下のとおり作製した。
実施例１～実施例６８の硬化性組成物をそれぞれ用い、下記方法でパターンを作製した。
上記硬化性組成物を製膜後の膜厚が１．０μｍになるようにスピンコート法で塗布した。次いで、ホットプレートを用いて、１００℃で２分間加熱した。次いで、ｉ線ステッパー露光装置ＦＰＡ－３０００ｉ５＋（キヤノン（株）製）を用い、１，０００ｍＪ／ｃｍ２で２μｍ四方のドットパターンのマスクを介して露光した。次いで、水酸化テトラメチルアンモニウム（ＴＭＡＨ）０．３質量％水溶液を用い、２３℃で６０秒間パドル現像を行った。その後、スピンシャワーにてリンスを行い、更に純水にて水洗した。次いで、ホットプレートを用いて、２００℃で５分間加熱することで、２μｍ四方のパターン（赤外線カットフィルタ）を形成した。
次に、赤外線カットフィルタのパターン上に、Ｒｅｄ組成物を製膜後の膜厚が１．０μｍになるようにスピンコート法で塗布した。次いで、ホットプレートを用いて、１００℃で２分間加熱した。次いで、ｉ線ステッパー露光装置ＦＰＡ－３０００ｉ５＋（キヤノン（株）製）を用い、１，０００ｍＪ／ｃｍ２で２μｍ四方のドットパターンのマスクを介して露光した。次いで、水酸化テトラメチルアンモニウム（ＴＭＡＨ）０．３質量％水溶液を用い、２３℃で６０秒間パドル現像を行った。その後、スピンシャワーにてリンスを行い、更に純水にて水洗した。次いで、ホットプレートを用いて、２００℃で５分間加熱することで、赤外線カットフィルタのパターン上に、Ｒｅｄ組成物をパターニングした。同様にＧｒｅｅｎ組成物、Ｂｌｕｅ組成物を順次パターニングし、赤、緑及び青の着色パターン（Ｂａｙｅｒパターン）を形成した。
なお、Ｂａｙｅｒパターンとは、米国特許第３，９７１，０６５号明細書に開示されているような、一個の赤色（Ｒｅｄ）素子と、二個の緑色（Ｇｒｅｅｎ）素子と、一個の青色（Ｂｌｕｅ）素子とを有する色フィルタ素子の２×２アレイを繰り返したパターンであるが、本実施例においては、一個の赤色（Ｒｅｄ）素子と、一個の緑色（Ｇｒｅｅｎ）素子と、一個の青色（Ｂｌｕｅ）素子と、一個の赤外線透過フィルタ素子を有するフィルタ素子の２×２アレイを繰り返したＢａｙｅｒパターンを形成した。
次に、上記パターン形成した膜上に、赤外線透過フィルタ形成用組成物（下記組成１００又は組成１０１）を、製膜後の膜厚が２．０μｍになるようにスピンコート法で塗布した。次いで、ホットプレートを用いて、１００℃で２分間加熱した。次いで、ｉ線ステッパー露光装置ＦＰＡ－３０００ｉ５＋（キヤノン（株）製）を用い、１，０００ｍＪ／ｃｍ２で２μｍ四方のＢａｙｅｒパターンのマスクを介して露光した。次いで、水酸化テトラメチルアンモニウム（ＴＭＡＨ）０．３質量％水溶液を用い、２３℃で６０秒間パドル現像を行った。その後、スピンシャワーにてリンスを行い、更に純水にて水洗した。次いで、ホットプレートを用いて、２００℃で５分間加熱することで、赤外線カットフィルタのＢａｙｅｒパターンのうち、上記着色パターンが形成されていない抜け部分に、赤外線透過フィルタのパターニングを行った。これを公知の方法に従い固体撮像素子に組み込んだ。
得られた固体撮像素子について、低照度の環境下（０．００１ルクス（Ｌｕｘ））で赤外発光ダイオード（赤外ＬＥＤ）により赤外線を照射し、画像の取り込みを行い、画像性能を評価した。実施例１～実施例６８で得られたいずれの硬化性組成物を使用した場合についても、低照度の環境下であっても画像をはっきりと認識できた。
上記パターニングに使用したＲｅｄ組成物、Ｇｒｅｅｎ組成物、Ｂｌｕｅ組成物、及び、赤外線透過フィルタ形成用組成物は、以下の通りである。
－Ｒｅｄ組成物－
下記成分を混合し、撹拌した後、孔径０．４５μｍのナイロン製フィルタ（日本ポール（株）製）でろ過して、Ｒｅｄ組成物を調製した。
Ｒｅｄ顔料分散液：５１．７質量部
樹脂４（４０質量％ＰＧＭＥＡ溶液）：０．６質量部
重合性化合物４：０．６質量部
光重合開始剤１：０．３質量部
界面活性剤１：４．２質量部
ＰＧＭＥＡ：４２．６質量部
－Ｇｒｅｅｎ組成物－
下記成分を混合し、撹拌した後、孔径０．４５μｍのナイロン製フィルタ（日本ポール（株）製）でろ過して、Ｇｒｅｅｎ組成物を調製した。
Ｇｒｅｅｎ顔料分散液：７３．７質量部
樹脂４（４０質量％ＰＧＭＥＡ溶液）：０．３質量部
重合性化合物１：１．２質量部
光重合開始剤１：０．６質量部
界面活性剤１：４．２質量部
紫外線吸収剤（ＵＶ－５０３、大東化学（株）製）：０．５質量部
ＰＧＭＥＡ：１９．５質量部
－Ｂｌｕｅ組成物－
下記成分を混合し、撹拌した後、孔径０．４５μｍのナイロン製フィルタ（日本ポール（株）製）でろ過して、Ｂｌｕｅ組成物を調製した。
Ｂｌｕｅ顔料分散液：４４．９質量部
樹脂４（４０質量％ＰＧＭＥＡ溶液）：２．１質量部
重合性化合物１：１．５質量部
重合性化合物４：０．７質量部
光重合開始剤１：０．８質量部
界面活性剤１：４．２質量部
ＰＧＭＥＡ：４５．８質量部
－赤外線透過フィルタ形成用組成物－
下記組成における成分を混合し、撹拌した後、孔径０．４５μｍのナイロン製フィルタ（日本ポール（株）製）でろ過して、赤外線透過フィルタ形成用組成物を調製した。
＜組成１００＞
顔料分散液１－１：４６．５質量部
顔料分散液１－２：３７．１質量部
重合性化合物５：１．８質量部
樹脂４：１．１質量部
光重合開始剤２：０．９質量部
界面活性剤１：４．２質量部
重合禁止剤（ｐ－メトキシフェノール）：０．００１質量部
シランカップリング剤：０．６質量部
ＰＧＭＥＡ：７．８質量部
＜組成１０１＞
顔料分散液２－１：１，０００質量部
重合性化合物（ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート）：５０質量部
樹脂４：１７質量部
光重合開始剤（１－［４－（フェニルチオ）］－１，２－オクタンジオン－２－（Ｏ－ベンゾイルオキシム））：１０質量部
ＰＧＭＥＡ：１７９質量部
アルカリ可溶性重合体Ｆ－１：１７質量部（固形分濃度３５質量部）
＜アルカリ可溶性重合体Ｆ－１の合成例＞
反応容器に、ベンジルメタクリレート１４部、Ｎ－フェニルマレイミド１２部、２－ヒドロキシエチルメタクリレート１５部、スチレン１０部及びメタクリル酸２０部をプロピレングリコールメチルエーテルアセテート２００部に溶解し、更に２，２’－アゾイソブチロニトリル３部及びα－メチルスチレンダイマー５部を投入した。反応容器内を窒素パージ後、撹拌及び窒素バブリングしながら８０℃で５時間加熱し、アルカリ可溶性重合体Ｆ－１を含む溶液（固形分濃度３５質量％）を得た。この重合体は、ポリスチレン換算の重量平均分子量が９，７００、数平均分子量が５，７００であり、Ｍｗ／Ｍｎが１．７０であった。
＜顔料分散液２－１＞
Ｃ．Ｉ．ピグメントブラック３２を６０部、Ｃ．Ｉ．ピグメントブルー１５：６を２０部、Ｃ．Ｉ．ピグメントイエロー１３９を２０部、日本ルーブリゾール（株）製のソルスパース７６５００を８０部（固形分濃度５０質量％）、アルカリ可溶性重合体Ｆ－１を含む溶液を１２０部（固形分濃度３５質量％）、プロピレングリコールメチルエーテルアセテートを７００部混合し、ペイントシェーカーを用いて８時間分散し、顔料分散液２－１を得た。
Ｒｅｄ組成物、Ｇｒｅｅｎ組成物、Ｂｌｕｅ組成物、及び、赤外線透過フィルタ形成用組成物に使用した原料は、以下の通りである。
・Ｒｅｄ顔料分散液
Ｃ．Ｉ．Ｐｉｇｍｅｎｔ Ｒｅｄ ２５４を９．６質量部、Ｃ．Ｉ．Ｐｉｇｍｅｎｔ Ｙｅｌｌｏｗ １３９を４．３質量部、分散剤（Ｄｉｓｐｅｒｂｙｋ－１６１、ＢＹＫＣｈｅｍｉｅ社製）を６．８質量部、ＰＧＭＥＡを７９．３質量部とからなる混合液を、ビーズミル（ジルコニアビーズ０．３ｍｍ径）により３時間混合及び分散して、顔料分散液を調製した。その後更に、減圧機構付き高圧分散機ＮＡＮＯ－３０００－１０（日本ビーイーイー（株）製）を用いて、２，０００ｋｇ／ｃｍ３の圧力下で流量５００ｇ／ｍｉｎとして分散処理を行った。この分散処理を１０回繰り返し、Ｒｅｄ顔料分散液を得た。
・Ｇｒｅｅｎ顔料分散液
Ｃ．Ｉ．Ｐｉｇｍｅｎｔ Ｇｒｅｅｎ ３６を６．４質量部、Ｃ．Ｉ．Ｐｉｇｍｅｎｔ Ｙｅｌｌｏｗ １５０を５．３質量部、分散剤（Ｄｉｓｐｅｒｂｙｋ－１６１、ＢＹＫＣｈｅｍｉｅ社製）を５．２質量部、ＰＧＭＥＡを８３．１質量部からなる混合液を、ビーズミル（ジルコニアビーズ０．３ｍｍ径）により３時間混合及び分散して、顔料分散液を調製した。その後更に、減圧機構付き高圧分散機ＮＡＮＯ－３０００－１０（日本ビーイーイー（株）製）を用いて、２，０００ｋｇ／ｃｍ３の圧力下で流量５００ｇ／ｍｉｎとして分散処理を行った。この分散処理を１０回繰り返し、Ｇｒｅｅｎ顔料分散液を得た。
・Ｂｌｕｅ顔料分散液
Ｃ．Ｉ．Ｐｉｇｍｅｎｔ Ｂｌｕｅ １５：６を９．７質量部、Ｃ．Ｉ．Ｐｉｇｍｅｎｔ Ｖｉｏｌｅｔ ２３を２．４質量部、分散剤（Ｄｉｓｐｅｒｂｙｋ－１６１、ＢＹＫＣｈｅｍｉｅ社製）を５．５部、ＰＧＭＥＡを８２．４部からなる混合液を、ビーズミル（ジルコニアビーズ０．３ｍｍ径）により３時間混合及び分散して、顔料分散液を調製した。その後更に、減圧機構付き高圧分散機ＮＡＮＯ－３０００－１０（日本ビーイーイー（株）製）を用いて、２，０００ｋｇ／ｃｍ３の圧力下で流量５００ｇ／ｍｉｎとして分散処理を行った。この分散処理を１０回繰り返し、Ｂｌｕｅ顔料分散液を得た。
・顔料分散液１－１
下記組成の混合液を、０．３ｍｍ径のジルコニアビーズを使用して、ビーズミル（減圧機構付き高圧分散機ＮＡＮＯ－３０００－１０（日本ビーイーイー（株）製））で、３時間、混合、分散して、顔料分散液１－１を調製した。
・赤色顔料（Ｃ．Ｉ．Ｐｉｇｍｅｎｔ Ｒｅｄ ２５４）及び黄色顔料（Ｃ．Ｉ．Ｐｉｇｍｅｎｔ Ｙｅｌｌｏｗ １３９）からなる混合顔料：１１．８質量部
・樹脂（Ｄｉｓｐｅｒｂｙｋ－１１１、ＢＹＫＣｈｅｍｉｅ社製）：９．１質量部
・ＰＧＭＥＡ：７９．１質量部
・顔料分散液１－２
下記組成の混合液を、０．３ｍｍ径のジルコニアビーズを使用して、ビーズミル（減圧機構付き高圧分散機ＮＡＮＯ－３０００－１０（日本ビーイーイー（株）製））で、３時間、混合、分散して、顔料分散液１－２を調製した。
・青色顔料（Ｃ．Ｉ．Ｐｉｇｍｅｎｔ Ｂｌｕｅ １５：６）及び紫色顔料（Ｃ．Ｉ．Ｐｉｇｍｅｎｔ Ｖｉｏｌｅｔ ２３）からなる混合顔料：１２．６質量部
・樹脂（Ｄｉｓｐｅｒｂｙｋ－１１１、ＢＹＫＣｈｅｍｉｅ社製）：２．０質量部
・樹脂Ａ：３．３質量部
・シクロヘキサノン：３１．２質量部
・ＰＧＭＥＡ：５０．９質量部
上記で使用した成分における略号の詳細を以下に示す。
・樹脂Ａ：下記構造（Ｍｗ＝１４，０００、各構成単位における比はモル比である。）
Figure 0007237166000081
・重合性化合物１：ＫＡＹＡＲＡＤ ＤＰＨＡ（ジペンタエリスリトールヘキサアクリレートとジペンタエリスリトールペンタアクリレートとの混合物、日本化薬（株）製）
・重合性化合物４：下記構造
Figure 0007237166000082
・重合性化合物５：下記構造（左側化合物と右側化合物とのモル比が７：３の混合物）
Figure 0007237166000083
・樹脂４：下記構造（酸価：７０ｍｇＫＯＨ／ｇ、Ｍｗ＝１１，０００、各構成単位における比はモル比である。）
Figure 0007237166000084
・光重合開始剤１：ＩＲＧＡＣＵＲＥ－ＯＸＥ０１（１－［４－（フェニルチオ）］－１，２－オクタンジオン－２－（Ｏ－ベンゾイルオキシム）、ＢＡＳＦ社製）
・光重合開始剤２：下記構造
Figure 0007237166000085
・界面活性剤１：下記混合物（Ｍｗ＝１４，０００）の１質量％ＰＧＭＥＡ溶液。下記の式中、構成単位の割合を示す％（６２％及び３８％）はモル比である。
Figure 0007237166000086
・シランカップリング剤：下記構造の化合物。以下の構造式中、Ｅｔはエチル基を表す。
Figure 0007237166000087
（実施例２０１）
下記組成を混合し、撹拌した後、孔径０．４５μｍのナイロン製フィルタ（日本ポール（株）製）でろ過して、実施例２０１のパターン形成用組成物を調製した。
実施例１の硬化性組成物：２２．６７質量部
顔料分散液２－１：５１．２３質量部
実施例２０１のパターン形成用組成物を用いて、実施例１と同様に、耐光性、耐熱性の評価を行ったところ、実施例１と同様の効果が得られた。また、実施例２０１のパターン形成用組成物を用いて得られた硬化膜は、可視領域の波長の光を遮光し、近赤外領域の波長の光（近赤外線）の少なくとも一部を透過させることができた。
（実施例２０２）
下記組成を混合し、撹拌した後、孔径０．４５μｍのナイロン製フィルタ（日本ポール（株）製）でろ過して、実施例２０２のパターン形成用組成物を調製した。
実施例１の硬化性組成物：３６．９９質量部
顔料分散液１－１：４６．５質量部
顔料分散液１－２：３７．１質量部
実施例２０２のパターン形成用組成物を用いて、実施例１と同様に、耐光性、耐熱性の評価を行ったところ、実施例１と同様の効果が得られた。また、実施例２０２のパターン形成用組成物を用いて得られた硬化膜は、可視領域の波長の光を遮光し、近赤外領域の波長の光（近赤外線）の少なくとも一部を透過させることができた。
（実施例３０１）
上記実施例１～実施例６８の硬化性組成物をそれぞれ用い、他の基板に変更（ガラス基板の場合はシリコンウェハへ変更し、シリコンウェハの場合はガラス基板へ変更）した以外は実施例１０１と同様に評価した場合も、実施例１０１～実施例１６８と同様の効果が得られる。
（実施例３０２）
上記実施例２０１又は実施例２０２で得られたパターン形成用組成物を用い、他の基板に変更（ガラス基板の場合はシリコンウェハへ変更し、シリコンウェハの場合はガラス基板へ変更）した以外は実施例１０１と同様に評価した場合も、実施例１０１と同様の効果が得られる。
（実施例４０１）
上記実施例２０１で使用した実施例１の硬化性組成物を実施例２～６８の硬化性組成物に置き換えた以外は、実施例２０１と同様にパターン形成用組成物を調製し、実施例１と同様に耐光性、耐熱性の評価を行ったところ、実施例２～６８と同様の効果が得られた。また、実施例４０１のパターン形成用組成物を用いて得られた硬化膜は、可視領域の波長の光を遮光し、近赤外領域の波長の光（近赤外線）の少なくとも一部を透過させることができた。
（実施例４０２）
上記実施例２０２で使用した実施例１の硬化性組成物を実施例２～６８の硬化性組成物に置き換えた以外は実施例２０２と同様にパターン形成用組成物を調製し、実施例１と同様に耐光性、耐熱性の評価を行ったところ、実施例２～６８と同様の効果が得られた。また、実施例４０２のパターン形成用組成物を用いて得られた硬化膜は、可視領域の波長の光を遮光し、近赤外領域の波長の光（近赤外線）の少なくとも一部を透過させることができた。
（符号の説明）
１１０：固体撮像素子、１１１：赤外線カットフィルタ、１１２：カラーフィルタ、１１４：赤外線透過フィルタ、１１５：マイクロレンズ、１１６：平坦化層
２０１９年８月２９日に出願された日本国特許出願２０１９－１５７４１２、及び、２０２０年３月１７日に出願された日本国特許出願２０２０－０４７０１７の開示は、その全体が参照により本明細書に取り込まれる。
本明細書に記載された全ての文献、特許出願、及び技術規格は、個々の文献、特許出願、及び技術規格が参照により取り込まれることが具体的かつ個々に記された場合と同程度に、本明細書中に参照により取り込まれる。

Claims (18)

  1. 下記式（４－１）で表される構造を有する色素と、
    有機溶剤と、
    硬化性化合物と、を含み、
    前記式（４－１）で表される構造を有する色素は、２５℃のプロピレングリコールメチルエーテルアセテートに対する溶解度が１００ｍｇ／Ｌ以下である、組成物。
    Figure 0007237166000088
    式（４－１）中、Ｒ １ａ 及びＲ １ｂ はそれぞれ独立に、アリール基又はヘテロアリール基を表し、Ｒ ２ 及びＲ ３ はそれぞれ独立に、水素原子又は置換基を表し、Ｒ ２ 及びＲ ３ は、互いに結合して環を形成してもよく、Ｒ ４ はそれぞれ独立に、水素原子、アルキル基、アリール基、ヘテロアリール基、－ＢＲ ４Ａ Ｒ ４Ｂ 、又は、金属原子を表し、Ｒ ４ は、Ｒ １ａ 、Ｒ １ｂ 及びＲ ３ からなる群より選ばれる少なくとも１つと、共有結合若しくは配位結合していてもよく、Ｒ ４Ａ 及びＲ ４Ｂ はそれぞれ独立に、水素原子又は置換基を表し、Ｌ ３ は、下記式（２）又は下記式（３）で表される基である。

    ＊－Ｘ １ －Ａ １ －Ｘ ２ －＊ 式（２）
    前記式（２）中、Ｘ １ 及びＸ ２ はそれぞれ独立に、単結合、－Ｏ－、－Ｓ－，－ＮＲ １Ａ －、－ＣＯ－、－ＣＯＯ－、－ＯＣＯＯ－、－ＳＯ ２ ＮＲ １Ａ －、－ＣＯＮＲ １Ａ －、－ＯＣＯＮＲ １Ａ －、又は、－ＮＲ １Ａ ＣＯＮＲ １Ａ －を表し、Ｒ １Ａ は水素原子、アルキル基又は、アリール基を表し、Ａ １ は、単結合、脂肪族環構造、芳香族環構造、又は、複素環構造を表し、＊は、Ｄｙｅとの連結位置を表し、ただし、Ａ １ が単結合のとき、Ｘ １ 及びＸ ２ の両方が単結合となることはない。

    ＊－Ｘ ３ －Ａ ２ －Ｌ ２ －Ａ ３ －Ｘ ４ －＊ 式（３）
    前記式（３）中、Ｘ ３ 及びＸ ４ はそれぞれ独立に、単結合、－Ｏ－、－Ｓ－、－ＮＲ ２Ａ －、－ＣＯ－、－ＣＯＯ－、－ＯＣＯＯ－、－ＳＯ ２ ＮＲ ２Ａ －、－ＣＯＮＲ ２Ａ －、－ＯＣＯＮＲ ２Ａ －、又は、－ＮＲ ２Ａ ＣＯＮＲ ２Ａ －を表し、Ｒ ２Ａ は水素原子又はアルキル基を表し、Ｌ ２ は、単結合、－Ｏ－、－Ｓ－、－ＮＲ ２Ｂ －、－ＣＯ－、－ＣＯＯ－、－ＯＣＯＯ－、－ＳＯ ２ ＮＲ ２Ｂ －、－ＣＯＮＲ ２Ｂ －、－ＯＣＯＮＲ ２Ｂ －、－ＮＲ ２Ｂ ＣＯＮＲ ２Ｂ －、炭素数１～６のアルキレン基、アルケニル基、アルキニル基、芳香族環構造、又は、これらを組み合わせた基を表し、Ｒ ２Ｂ は水素原子又はアルキル基を表し、Ａ ２ 及びＡ ３ はそれぞれ独立に、脂肪族環構造、芳香族環構造、又は、複素環構造を表す。
  2. 下記式（１）で表される構造を有する色素、下記Ａ－ＢＤＰ－１～Ａ－ＢＤＰ－８で表す色素、下記Ａ－ｒｙｌ－１～Ａｒｙｌ－２で表す色素、及び、下記Ａ－ｉｄ－１～Ａ－ｉｄ－２で表す色素からなる群から選択される少なくとも１種の色素と、
    有機溶剤と、
    硬化性化合物と、を含み、
    前記色素は、２５℃のプロピレングリコールメチルエーテルアセテートに対する溶解度が１００ｍｇ／Ｌ以下である、組成物。
    （Ｄｙｅ） ｎ －Ｌ １ 式（１）
    式（１）中、ｎは２であり、Ｌ １ は下記式（２）又は下記式（３）で表される基を表し、Ｄｙｅはそれぞれ独立に、波長６５０ｎｍ～２，０００ｎｍの範囲に極大吸収波長を有する色素構造を表し、前記色素構造は下記式（ＰＰ）で表される構造、下記式（５）で表される化合物に由来する構造、又は、下記式（ＣＲ）で表される化合物に由来する構造を表す。

    ＊－Ｘ １ －Ａ １ －Ｘ ２ －＊ 式（２）
    式（２）中、Ｘ １ 及びＸ ２ はそれぞれ独立に、単結合、－Ｏ－、－Ｓ－，－ＮＲ １Ａ －、－ＣＯ－、－ＣＯＯ－、－ＯＣＯＯ－、－ＳＯ ２ ＮＲ １Ａ －、－ＣＯＮＲ １Ａ －、－ＯＣＯＮＲ １Ａ －、又は、－ＮＲ １Ａ ＣＯＮＲ １Ａ －を表し、Ｒ １Ａ は水素原子、アルキル基、又は、アリール基を表し、Ａ １ は、単結合、脂肪族環構造、芳香族環構造、又は、複素環構造を表し、＊は、Ｄｙｅとの連結位置を表し、ただし、Ａ １ が単結合のとき、Ｘ １ 及びＸ ２ の両方が単結合となることはない。

    ＊－Ｘ ３ －Ａ ２ －Ｌ ２ －Ａ ３ －Ｘ ４ －＊ 式（３）
    式（３）中、Ｘ ３ 及びＸ ４ はそれぞれ独立に、単結合、－Ｏ－、－Ｓ－、－ＮＲ ２Ａ －、－ＣＯ－、－ＣＯＯ－、－ＯＣＯＯ－、－ＳＯ ２ ＮＲ ２Ａ －、－ＣＯＮＲ ２Ａ －、－ＯＣＯＮＲ ２Ａ －、又は－ＮＲ ２Ａ ＣＯＮＲ ２Ａ －を表し、Ｒ ２Ａ は水素原子又はアルキル基を表し、Ｌ ２ は、単結合、－Ｏ－、－Ｓ－、－ＮＲ ２Ｂ －、－ＣＯ－、－ＣＯＯ－、－ＯＣＯＯ－、－ＳＯ ２ ＮＲ ２Ｂ －、－ＣＯＮＲ ２Ｂ －、－ＯＣＯＮＲ ２Ｂ －、－ＮＲ ２Ｂ ＣＯＮＲ ２Ｂ －、炭素数１～６のアルキレン基、アルケニル基、アルキニル基、芳香族環構造、又は、これらを組み合わせた基を表し、Ｒ ２Ｂ は水素原子又はアルキル基を表し、Ａ ２ 及びＡ ３ はそれぞれ独立に、脂肪族環構造、芳香族環構造、又は、複素環構造を表す。
    Figure 0007237166000089
    式（ＰＰ）中、Ｒ １ａ 及びＲ １ｂ は、各々独立にアルキル基、アリール基又はヘテロアリール基を表し、Ｒ ２ 及びＲ ３ は、各々独立に水素原子又は置換基を表し、Ｒ ２ 及びＲ ３ は、互いに結合して環を形成してもよく、Ｒ ４ は、各々独立に、水素原子、アルキル基、アリール基、ヘテロアリール基、－ＢＲ ４Ａ Ｒ ４Ｂ 、又は金属原子を表し、Ｒ ４ は、Ｒ １ａ 、Ｒ １ｂ 及びＲ ３ から選ばれる少なくとも一つと共有結合若しくは配位結合していてもよく、Ｒ ４Ａ 及びＲ ４Ｂ は、各々独立に置換基を表し、波線は、前記式（１）におけるＬ １ との連結部分を表す。
    Figure 0007237166000090
    式（５）中、環Ａ及び環Ｂは、それぞれ独立に、芳香環又は複素芳香環を表し、Ｘ Ａ 及びＸ Ｂ は、それぞれ独立に、－ＯＨ、－ＳＨ、－ＣＯＯＨ、－ＳＯ ３ Ｈ、－ＮＲ Ｘ１ Ｒ Ｘ２ 、－ＮＨＣＯＲ Ｘ１ 、－ＣＯＮＲ Ｘ１ Ｒ Ｘ２ 、－ＮＨＣＯＮＲ Ｘ１ Ｒ Ｘ２ 、－ＮＨＣＯＯＲ Ｘ１ 、－ＮＨＳＯ ２ Ｒ Ｘ１ 、－Ｂ（ＯＨ） ２ 又は－ＰＯ（ＯＨ） ２ を表し、Ｒ Ｘ１ 及びＲ Ｘ２ は、それぞれ独立に、水素原子又は置換基を表す。Ｇ Ａ 及びＧ Ｂ は、それぞれ独立に、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基、ヘテロアリール基、アラルキル基、－ＯＲ １０ 、－ＣＯＲ １１ 、－ＣＯＯＲ １２ 、－ＯＣＯＲ １３ 、－ＮＲ １４ Ｒ １５ 、－ＮＨＣＯＲ １６ 、－ＣＯＮＲ １７ Ｒ １８ 、－ＮＨＣＯＮＲ １９ Ｒ ２０ 、－ＮＨＣＯＯＲ ２１ 、－ＳＲ ２２ 、－ＳＯ ２ Ｒ ２３ 、－ＳＯ ２ ＯＲ ２４ 、－ＮＨＳＯ ２ Ｒ ２５ 又は－ＳＯ ２ ＮＲ ２６ Ｒ ２７ を表し、Ｒ １０ ～Ｒ ２７ は、それぞれ独立に、水素原子、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基、ヘテロアリール基又はアラルキル基を表す。－ＣＯＯＲ １２ のＲ １２ が水素原子の場合は、水素原子が解離してもよく、塩の状態であってもよい。－ＳＯ ２ ＯＲ ２４ のＲ ２４ が水素原子の場合は、水素原子が解離してもよく、塩の状態であってもよい。ｋＡは０～ｎＡの整数を表し、ｋＢは０～ｎＢの整数を表し、ｎＡ及びｎＢはそれぞれ環Ａ又は環Ｂに置換可能な最大の整数を表す。Ｘ Ａ とＧ Ａ 、Ｘ Ｂ とＧ Ｂ は互いに結合して環を形成してもよく、Ｇ Ａ 及びＧ Ｂ がそれぞれ複数存在する場合は、互いに結合して環構造成していてもよい。ただし、Ｘ Ａ 、Ｘ Ｂ 、Ｇ Ａ 及びＧ Ｂ の少なとも一つは、前記式（１）におけるＬ １ の連結する基を表す。
    Figure 0007237166000091
    式（ＣＲ）中、Ａ ３ 及びＡ ４ は、それぞれ独立に、アリール基、ヘテロ環基又は下記式（Ａｘ）で表される基を表し、ただし、Ａ ３ 及びＡ ４ の少なとも一つは、前記式（１）におけるＬ １ の連結する基を表す。
    Figure 0007237166000092
    式（Ａｘ）中、Ｚ １ は、含窒素複素環を形成する非金属原子団を表し、Ｒ ２ は、アルキル基、アルケニル基又はアラルキル基を表し、ｄは、０又は１を表し、波線は連結手を表す。
    Figure 0007237166000093

    Figure 0007237166000094
    Figure 0007237166000095
  3. 前記式（１）で表される構造を有する色素の分子量が、４，０００未満である、請求項２に記載の組成物。
  4. 前記式（１）におけるＬ１に含まれる炭素数の合計が、１～１８である請求項２又は請求項３に記載の組成物。
  5. 前記色素の体積平均粒子径が、１ｎｍ～５００ｎｍである、請求項１～請求項４のいずれか１項に記載の組成物。
  6. 顔料誘導体を更に含む、請求項１～請求項５のいずれか１項に記載の組成物。
  7. 前記硬化性化合物が重合性化合物を含み、かつ、光重合開始剤を更に含む、請求項１～請求項６のいずれか１項に記載の組成物。
  8. アルカリ可溶性樹脂を含む、請求項１～請求項７のいずれか１項に記載の組成物。
  9. 請求項１～請求項８のいずれか１項に記載の組成物からなる又は前記組成物を硬化してなる膜。
  10. 請求項９に記載の膜を有する近赤外線カットフィルタ。
  11. ガラス基板を更に有する、請求項１０に記載の近赤外線カットフィルタ。
  12. 請求項１～請求項８のいずれか１項に記載の組成物を用いて支持体上に組成物層を形成する工程と、
    フォトリソグラフィ法又はドライエッチング法により前記組成物層に対してパターンを形成する工程と、
    を含むパターン形成方法。
  13. 請求項９に記載の膜と、有彩色着色剤を含むカラーフィルタと、を有する積層体。
  14. 請求項９に記載の膜を有する固体撮像素子。
  15. 請求項９に記載の膜を有する画像表示装置。
  16. 請求項９に記載の膜を有するカメラモジュール。
  17. 請求項９に記載の膜を有する赤外線センサ。
  18. 下記式（４－１）で表されるピロロピロール化合物。
    Figure 0007237166000096

    式（４－１）中、Ｒ１ａ及びＲ１ｂはそれぞれ独立に、アリール基又はヘテロアリール基を表し、Ｒ２及びＲ３はそれぞれ独立に、水素原子又は置換基を表し、Ｒ２及びＲ３は、互いに結合して環を形成してもよく、Ｒ４はそれぞれ独立に、水素原子、アルキル基、アリール基、ヘテロアリール基、－ＢＲ４ＡＲ４Ｂ、又は、金属原子を表し、Ｒ４は、Ｒ１ａ、Ｒ１ｂ及びＲ３からなる群より選ばれる少なくとも１つと、共有結合若しくは配位結合していてもよく、Ｒ４Ａ及びＲ４Ｂはそれぞれ独立に、水素原子又は置換基を表し、Ｌ３は、下記式（２）又は下記式（３）で表される基である。

    ＊－Ｘ１－Ａ１－Ｘ２－＊ 式（２）
    前記式（２）中、Ｘ１及びＸ２はそれぞれ独立に、単結合、－Ｏ－、－Ｓ－，－ＮＲ１Ａ－、－ＣＯ－、－ＣＯＯ－、－ＯＣＯＯ－、－ＳＯ２ＮＲ１Ａ－、－ＣＯＮＲ１Ａ－、－ＯＣＯＮＲ１Ａ－、又は、－ＮＲ１ＡＣＯＮＲ１Ａ－を表し、Ｒ１Ａは水素原子、アルキル基又は、アリール基を表し、Ａ１は、単結合、脂肪族環構造、芳香族環構造、又は、複素環構造を表し、＊は、Ｄｙｅとの連結位置を表し、ただし、Ａ１が単結合のとき、Ｘ１及びＸ２の両方が単結合となることはない。

    ＊－Ｘ３－Ａ２－Ｌ２－Ａ３－Ｘ４－＊ 式（３）
    前記式（３）中、Ｘ３及びＸ４はそれぞれ独立に、単結合、－Ｏ－、－Ｓ－、－ＮＲ２Ａ－、－ＣＯ－、－ＣＯＯ－、－ＯＣＯＯ－、－ＳＯ２ＮＲ２Ａ－、－ＣＯＮＲ２Ａ－、－ＯＣＯＮＲ２Ａ－、又は、－ＮＲ２ＡＣＯＮＲ２Ａ－を表し、Ｒ２Ａは水素原子又はアルキル基を表し、
    Ｌ２は、単結合、－Ｏ－、－Ｓ－、－ＮＲ２Ｂ－、－ＣＯ－、－ＣＯＯ－、－ＯＣＯＯ－、－ＳＯ２ＮＲ２Ｂ－、－ＣＯＮＲ２Ｂ－、－ＯＣＯＮＲ２Ｂ－、－ＮＲ２ＢＣＯＮＲ２Ｂ－、炭素数１～６のアルキレン基、アルケニル基、アルキニル基、芳香族環構造、又は、これらを組み合わせた基を表し、Ｒ２Ｂは水素原子又はアルキル基を表し、Ａ２及びＡ３はそれぞれ独立に、脂肪族環構造、芳香族環構造、又は、複素環構造を表す。
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Families Citing this family (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2019150908A1 (ja) * 2018-02-01 2019-08-08 富士フイルム株式会社 硬化性組成物、近赤外線吸収剤、膜、近赤外線カットフィルタ、固体撮像素子、画像表示装置および赤外線センサ
WO2023286582A1 (ja) * 2021-07-12 2023-01-19 富士フイルム株式会社 組成物、膜、光学フィルタ、固体撮像素子、画像表示装置、赤外線センサ、カメラモジュールおよび化合物
WO2023176609A1 (ja) * 2022-03-18 2023-09-21 富士フイルム株式会社 組成物、膜、光学フィルタ、固体撮像素子、画像表示装置、赤外線センサ、カメラモジュールおよび化合物

Citations (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2001139940A (ja) 1999-09-27 2001-05-22 Ciba Specialty Chem Holding Inc ジケトピロロピロール類を含むエレクトロルミネセンス素子
JP2006310538A (ja) 2005-04-28 2006-11-09 Toray Ind Inc 発光素子
JP2014071416A (ja) 2012-10-01 2014-04-21 Nippon Shokubai Co Ltd 光選択透過フィルター、樹脂シート及び固体撮像素子
JP2014533303A (ja) 2011-09-02 2014-12-11 ビーエーエスエフ ソシエタス・ヨーロピアＢａｓｆ Ｓｅ ジケトピロロピロールオリゴマー、及びジケトピロロピロールオリゴマーを含む組成物
WO2016158461A1 (ja) 2015-03-27 2016-10-06 Jsr株式会社 光学フィルターおよび光学フィルターを用いた装置
WO2016194527A1 (ja) 2015-05-29 2016-12-08 富士フイルム株式会社 近赤外線吸収性色素多量体、組成物、膜、光学フィルタ、パターン形成方法および装置
WO2018043185A1 (ja) 2016-08-29 2018-03-08 富士フイルム株式会社 組成物、膜、近赤外線カットフィルタ、パターン形成方法、積層体、固体撮像素子、画像表示装置、カメラモジュールおよび赤外線センサ

Family Cites Families (177)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS4841708B1 (ja) 1970-01-13 1973-12-07
DE2064079C2 (de) 1970-12-28 1982-09-09 Hoechst Ag, 6000 Frankfurt Photopolymerisierbares Gemisch
JPS4832765B1 (ja) 1970-12-29 1973-10-09
DE2361041C3 (de) 1973-12-07 1980-08-14 Hoechst Ag, 6000 Frankfurt Photopolymerisierbares Gemisch
JPS5311314B2 (ja) 1974-09-25 1978-04-20
US3971065A (en) 1975-03-05 1976-07-20 Eastman Kodak Company Color imaging array
US4224212A (en) 1977-07-15 1980-09-23 Imperial Chemical Industries Limited Dispersing agents, dispersions containing these agents and paints and inks made from the dispersions
DE2822189A1 (de) 1978-05-20 1980-04-17 Hoechst Ag Photopolymerisierbares gemisch
DE2822190A1 (de) 1978-05-20 1979-11-22 Hoechst Ag Photopolymerisierbares gemisch
ZA802692B (en) 1979-05-22 1981-05-27 Wiggins Teape Group Ltd Manufacture of colour developing sheets
JPS56118462A (en) 1980-02-25 1981-09-17 Toyo Ink Mfg Co Ltd Pigment composition
DE3036694A1 (de) 1980-09-29 1982-06-03 Hoechst Ag, 6000 Frankfurt Gummielastische, ethylenisch ungesaettigte polyurethane und dieselben enthaltendes durch strahlung polymerisierbares gemisch
JPS5774794A (en) 1980-10-29 1982-05-11 Suwa Seikosha Kk Piezoelectric speaker driving circuit for electronic timepiece
DE3048502A1 (de) 1980-12-22 1982-07-22 Hoechst Ag, 6000 Frankfurt Durch strahlung polymerisierbares gemisch und daraus hergestelltes strahlungsempfindliches aufzeichnungsmaterial
JPS58139860A (ja) 1982-02-15 1983-08-19 株式会社ダイフク 自動調心荷受け台
NL8300155A (nl) 1983-01-17 1984-08-16 Philips Nv Registratie-element met een pyrylium- of thiopyrylium-squarylium kleurstoflaag en nieuwe pyrylium- of thiopyrylium-squarylium verbindingen.
JPS60244587A (ja) 1984-05-18 1985-12-04 Toppan Printing Co Ltd 立体感を有する印刷物の製造方法
JPS6144770A (ja) 1984-08-10 1986-03-04 宇部興産株式会社 窒化珪素質焼結体の製法
DE3710281A1 (de) 1987-03-28 1988-10-06 Hoechst Ag Photopolymerisierbares gemisch und daraus hergestelltes aufzeichnungsmaterial
DE3710279A1 (de) 1987-03-28 1988-10-06 Hoechst Ag Polymerisierbare verbindungen und diese enthaltendes durch strahlung polymerisierbares gemisch
DE3710282A1 (de) 1987-03-28 1988-10-13 Hoechst Ag Photopolymerisierbares gemisch und daraus hergestelltes aufzeichnungsmaterial
JPH0778180B2 (ja) 1987-04-22 1995-08-23 東洋インキ製造株式会社 顔料組成物
JPH01170601A (ja) 1987-12-26 1989-07-05 Dainichiseika Color & Chem Mfg Co Ltd 黒色硬化性樹脂組成物
JPH083049B2 (ja) 1988-02-25 1996-01-17 東洋インキ製造株式会社 顔料組成物，分散方法および塗料
JPH0668080B2 (ja) 1988-07-22 1994-08-31 大日精化工業株式会社 黒色熱硬化性樹脂組成物
JP2893531B2 (ja) 1989-04-13 1999-05-24 三菱化学株式会社 ポリエステルマクロモノマー
JPH0819345B2 (ja) 1989-06-07 1996-02-28 東洋インキ製造株式会社 顔料組成物および顔料の分散方法
JP2584515B2 (ja) 1989-06-23 1997-02-26 東洋インキ製造株式会社 顔料分散剤および顔料組成物
JP2507810B2 (ja) 1989-07-13 1996-06-19 東洋インキ製造株式会社 顔料分散剤，顔料組成物，塗料および印刷インキ
DE3930687A1 (de) 1989-09-14 1991-04-11 Byk Chemie Gmbh Phosphorsaeureester, verfahren zu deren herstellung und deren verwendung als dispergiermittel
JP2679851B2 (ja) 1989-11-10 1997-11-19 東洋インキ製造株式会社 カラーフィルター用着色組成物
CA2011515C (en) 1990-03-05 1994-10-11 Roger Boulanger Method for producing a non-woven fabric with a thermally activated adhesive surface, resulting product and applications thereof
DE69109057T2 (de) 1990-11-08 1995-09-21 Ciba Geigy Ag Pyrazol enthaltende Pigmentderivate.
DE69320241T2 (de) 1992-05-06 1999-04-29 Kyowa Hakko Kogyo Co., Ltd., Tokio/Tokyo Chemisch amplifizierte Resistzusammensetzung
JPH07110923B2 (ja) 1992-11-06 1995-11-29 大日精化工業株式会社 顔料組成物及び顔料分散体
JPH06240158A (ja) 1992-12-25 1994-08-30 Sumitomo Chem Co Ltd 顔料誘導体およびその応用
JPH06212088A (ja) 1993-01-20 1994-08-02 Dainippon Ink & Chem Inc 顔料組成物及び塗料
GB9306222D0 (en) 1993-03-25 1993-05-19 Zeneca Ltd Dispersants
JP3421428B2 (ja) 1994-05-27 2003-06-30 日立化成工業株式会社 着色画像形成材料を含む感光液、これを用いた感光性エレメント及びカラーフィルターの製造法
JPH0916982A (ja) 1995-06-27 1997-01-17 Toshiba Corp 対物レンズ駆動装置
JPH0977994A (ja) 1995-09-18 1997-03-25 Toyo Ink Mfg Co Ltd 非水系用顔料分散剤、およびそれを含有する顔料組成物、ならびに非水系顔料分散体
JP3718915B2 (ja) 1995-10-16 2005-11-24 味の素株式会社 顔料分散剤
EP0790281B1 (en) 1996-02-13 2001-12-05 Ciba SC Holding AG Pigment compositions
US5711800A (en) 1996-12-31 1998-01-27 Bayer Corporation Organic pigment compositions
JP3946309B2 (ja) 1997-04-10 2007-07-18 富士フイルム株式会社 着色感光性組成物
JP3867177B2 (ja) 1997-04-30 2007-01-10 Ｊｓｒ株式会社 カラーフィルタ用感放射線性組成物
JPH11271969A (ja) 1998-01-21 1999-10-08 Mitsubishi Chemical Corp 光重合性組成物及び感光性平版印刷版
US6359090B1 (en) 1998-06-09 2002-03-19 Kerr Corporation Polymerizable dispersant
SG77689A1 (en) 1998-06-26 2001-01-16 Ciba Sc Holding Ag New o-acyloxime photoinitiators
DK199901098A (da) 1998-08-18 2000-02-19 Ciba Sc Holding Ag Sylfonyloximer til i-linie-fotoresists med høj følsomhed og høj resisttykkelse
JP2001125255A (ja) 1999-10-27 2001-05-11 Fuji Photo Film Co Ltd 感光性平版印刷版
NL1016815C2 (nl) 1999-12-15 2002-05-14 Ciba Sc Holding Ag Oximester-fotoinitiatoren.
JP2002273191A (ja) 2001-03-21 2002-09-24 Dainippon Printing Co Ltd 顔料分散剤および感光性着色組成物
US6849679B2 (en) 2001-05-21 2005-02-01 Ciba Specialty Chemicals Corporation Pigment compositions with modified block copolymer dispersants
CA2446722A1 (en) 2001-06-11 2002-12-19 Ciba Specialty Chemicals Holding Inc. Oxime ester photoinitiators having a combined structure
JP4611578B2 (ja) 2001-07-26 2011-01-12 淳二 城戸 有機エレクトロルミネッセント素子
JP4064681B2 (ja) 2002-02-14 2008-03-19 富士フイルム株式会社 顔料分散剤、それを含む顔料分散組成物及び着色感光性組成物
JP2003261827A (ja) 2002-03-07 2003-09-19 Sekisui Chem Co Ltd 着色樹脂エマルジョン、インクジェット印刷用インク及びカラーフィルター
KR100529050B1 (ko) * 2002-03-09 2005-11-15 에스케이씨 주식회사 칼라표시장치용 광선택 흡광제, 이를 포함하는 코팅제 및상기 코팅제로 제조된 필터
JP4305608B2 (ja) 2002-03-11 2009-07-29 Ｊｓｒ株式会社 カラーフィルタ保護膜用組成物および保護膜
JP4428911B2 (ja) 2002-07-05 2010-03-10 Ｊｓｒ株式会社 カラーフィルタ用感放射線性組成物、カラーフィルタおよびカラー液晶表示素子
JP2003185831A (ja) 2002-11-14 2003-07-03 Seiko Epson Corp カラーフィルタ及びその製造方法、液晶装置及びその製造方法、並びに電子機器
JP4142973B2 (ja) 2003-03-28 2008-09-03 株式会社日本触媒 硬化性樹脂組成物およびその用途
KR100524069B1 (ko) 2003-04-04 2005-10-26 삼성전자주식회사 홈 에이전트 관리장치 및 관리방법
JP2006169325A (ja) 2004-12-14 2006-06-29 Sony Corp インクジェット用記録液、インクカートリッジ、およびインクジェット記録方法
CN102093282B (zh) 2005-12-01 2014-02-12 西巴控股有限公司 肟酯光敏引发剂
KR100814231B1 (ko) 2005-12-01 2008-03-17 주식회사 엘지화학 옥심 에스테르를 포함하는 트리아진계 광활성 화합물을포함하는 투명한 감광성 조성물
JP5171005B2 (ja) 2006-03-17 2013-03-27 富士フイルム株式会社 高分子化合物およびその製造方法、並びに顔料分散剤
JP5219408B2 (ja) 2006-06-02 2013-06-26 富士フイルム株式会社 顔料分散組成物、光硬化性組成物、それを用いたカラーフィルタおよびカラーフィルタの製造方法
JP2008031281A (ja) 2006-07-28 2008-02-14 Toyo Ink Mfg Co Ltd 顔料分散剤、顔料組成物及び顔料分散体
JP2008050420A (ja) 2006-08-23 2008-03-06 Toyo Ink Mfg Co Ltd 顔料分散剤、顔料組成物及び顔料分散体
JP5191181B2 (ja) 2006-09-01 2013-04-24 富士フイルム株式会社 顔料分散組成物、光硬化性組成物、カラーフィルタ、及びカラーフィルタの製造方法
JP2008074986A (ja) 2006-09-22 2008-04-03 Toyo Ink Mfg Co Ltd 顔料組成物及び顔料分散体
JP2008074987A (ja) 2006-09-22 2008-04-03 Toyo Ink Mfg Co Ltd 顔料添加剤、顔料組成物及び顔料分散体
JP5114905B2 (ja) 2006-09-22 2013-01-09 東洋インキＳｃホールディングス株式会社 顔料、顔料組成物及び顔料分散体
JP2008081565A (ja) 2006-09-27 2008-04-10 Toyo Ink Mfg Co Ltd 顔料分散剤、及び顔料分散体
US20090292039A1 (en) 2006-12-27 2009-11-26 Adeka Corporation Oxime ester compound and photopolymerization initiator containing the same
ATE496910T1 (de) 2007-05-11 2011-02-15 Basf Se Oximesther-fotoinitiatoren
JP5320760B2 (ja) 2007-07-27 2013-10-23 三菱化学株式会社 カラーフィルタ用着色組成物、カラーフィルタ、及び液晶表示装置
JP5587188B2 (ja) 2007-07-19 2014-09-10 ビーエーエスエフ ソシエタス・ヨーロピア ビス−オキソジヒドロインドリレン−ベンゾジフラノンを含むｎｉｒ不活性基体
JP2009145395A (ja) 2007-12-11 2009-07-02 Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd プリウェット剤及びそのプリウェット剤を用いたレジスト保護膜形成方法
JP2009221114A (ja) 2008-03-13 2009-10-01 Fujifilm Corp 重合開始機能を有する化合物、重合開始剤、重合性組成物、カラーフィルタ及びその製造方法、ならびに固体撮像素子
JP5334624B2 (ja) 2008-03-17 2013-11-06 富士フイルム株式会社 着色硬化性組成物、カラーフィルタ、及びカラーフィルタの製造方法
JP5380019B2 (ja) 2008-03-30 2014-01-08 富士フイルム株式会社 赤外線吸収性化合物および該化合物からなる微粒子
CN102015633B (zh) 2008-04-25 2014-08-06 三菱化学株式会社 酮肟酯类化合物及其应用
WO2009147033A1 (en) 2008-06-06 2009-12-10 Basf Se Photoinitiator mixtures
JP2010015025A (ja) 2008-07-04 2010-01-21 Adeka Corp 特定の光重合開始剤を含有する感光性組成物
JP5340102B2 (ja) 2008-10-03 2013-11-13 富士フイルム株式会社 分散組成物、重合性組成物、遮光性カラーフィルタ、固体撮像素子、液晶表示装置、ウェハレベルレンズ、及び撮像ユニット
ES2463674T3 (es) 2009-01-19 2014-05-28 Basf Se Pigmentos negros orgánicos y su preparación
WO2010081624A1 (en) 2009-01-19 2010-07-22 Basf Se Black matrix for colour filters
JP2010262028A (ja) 2009-04-30 2010-11-18 Nippon Steel Chem Co Ltd ブラックマトリックス用感光性樹脂組成物
JP5330118B2 (ja) 2009-06-24 2013-10-30 三井住友建設株式会社 主桁連結構造
WO2011024896A1 (ja) 2009-08-27 2011-03-03 富士フイルム株式会社 ジクロロジケトピロロピロール顔料、これを含有する色材分散物およびその製造方法
JP5490475B2 (ja) 2009-09-24 2014-05-14 富士フイルム株式会社 近赤外吸収性色素を含有する硬化性組成物、インク用組成物および近赤外線吸収フィルタの製造方法
JP5470058B2 (ja) 2010-01-15 2014-04-16 凸版印刷株式会社 カラーフィルタ用着色組成物、カラーフィルタ、その製造方法、及びそれを具備する液晶表示装置並びに有機ｅｌ表示装置
JP2011157478A (ja) 2010-02-01 2011-08-18 Toyo Ink Sc Holdings Co Ltd 着色組成物、カラーフィルタ用感光性着色組成物、カラーフィルタおよびカラー表示装置
JP5679404B2 (ja) 2010-03-05 2015-03-04 日本化薬株式会社 アゾ染料
CA2786630C (en) 2010-03-22 2016-02-02 Henkel Corporation Macro-photoinitiators and curable compositions thereof
JP5419778B2 (ja) 2010-03-30 2014-02-19 富士フイルム株式会社 スクアリリウム化合物及びその製造方法並びに赤外線吸収剤
JP2012014052A (ja) 2010-07-02 2012-01-19 Fujifilm Corp 着色感光性樹脂組成物、カラーフィルタ、カラーフィルタの製造方法、及び液晶表示装置
WO2012045736A1 (en) 2010-10-05 2012-04-12 Basf Se Oxime ester derivatives of benzocarbazole compounds and their use as photoinitiators in photopolymerizable compositions
JP2012126830A (ja) 2010-12-15 2012-07-05 Sony Corp インクジェット用インク組成物、インクジェット記録方法、インクカートリッジ、記録ユニット及びインクジェット記録装置
KR101920285B1 (ko) 2011-01-28 2018-11-21 토요잉크Sc홀딩스주식회사 컬러필터용 디케토피롤로피롤계 안료 조성물, 컬러필터용 착색 조성물 및 컬러필터
WO2012102395A1 (ja) 2011-01-28 2012-08-02 東洋インキＳｃホールディングス株式会社 カラーフィルタ用着色組成物、およびカラーフィルタ
JP5699293B2 (ja) 2011-05-27 2015-04-08 東洋インキＳｃホールディングス株式会社 カラーフィルタ用感光性着色組成物、およびカラーフィルタ
JP2012158649A (ja) 2011-01-31 2012-08-23 Nippon Kayaku Co Ltd 新規なチアゾール系カチオン染料
JP2012181378A (ja) 2011-03-02 2012-09-20 Toyo Ink Sc Holdings Co Ltd カラーフィルタ用顔料組成物、着色組成物、およびカラーフィルタ
JP5575825B2 (ja) 2011-03-17 2014-08-20 富士フイルム株式会社 着色感放射線性組成物、着色硬化膜、カラーフィルタ及びカラーフィルタの製造方法、固体撮像素子、液晶表示装置、並びに、染料の製造方法
JP4993026B1 (ja) 2011-04-19 2012-08-08 東洋インキＳｃホールディングス株式会社 カラーフィルタ用着色剤、着色組成物、およびカラーフィルタ
JP5880157B2 (ja) 2011-03-18 2016-03-08 東洋インキＳｃホールディングス株式会社 キノフタロン色素、およびその用途
JP5657442B2 (ja) 2011-03-22 2015-01-21 富士フイルム株式会社 着色感放射線性組成物、パターンの形成方法、カラーフィルタ及びそのカラーフィルタの製造方法、並びに、固体撮像素子
JP2012227478A (ja) 2011-04-22 2012-11-15 Panasonic Corp 固体撮像装置
JP5352886B2 (ja) 2011-04-26 2013-11-27 東洋インキＳｃホールディングス株式会社 カラーフィルタ用着色組成物、およびカラーフィルタ
JP5851141B2 (ja) 2011-07-29 2016-02-03 富士フイルム株式会社 着色硬化性組成物、着色硬化膜、カラーフィルタ、パターン形成方法、カラーフィルタの製造方法、固体撮像素子及び画像表示装置
JP6031826B2 (ja) 2011-08-10 2016-11-24 東洋インキＳｃホールディングス株式会社 カラーフィルタ用着色組成物、およびカラーフィルタ
JP5817028B2 (ja) 2011-08-23 2015-11-18 東洋インキＳｃホールディングス株式会社 カラーフィルタ用着色組成物、およびカラーフィルタ
JP2013064993A (ja) 2011-08-31 2013-04-11 Fujifilm Corp カラーフィルタの製造方法、カラーフィルタ、及び固体撮像素子
EP2771406B1 (en) 2011-10-24 2017-04-26 Keki Hormusji Gharda A bis-quinophthalone pigment and a process for preparing the same
JP2013114249A (ja) 2011-12-01 2013-06-10 Toppan Printing Co Ltd 黒色感光性樹脂組成物およびカラーフィルタ
CN103998427A (zh) 2011-12-07 2014-08-20 巴斯夫欧洲公司 肟酯光敏引发剂
JP5772642B2 (ja) 2012-02-09 2015-09-02 Jsr株式会社 硬化性樹脂組成物、表示素子用硬化膜、表示素子用硬化膜の形成方法及び表示素子
JP6201325B2 (ja) 2012-02-29 2017-09-27 東洋インキＳｃホールディングス株式会社 キノフタロン色素単量体、およびそれを用いた着色性ポリマー、およびそれを用いた着色感光性組成物、およびその用途
JP5267696B1 (ja) 2012-03-02 2013-08-21 東洋インキＳｃホールディングス株式会社 キノフタロン化合物
JP2013209435A (ja) 2012-03-30 2013-10-10 Toyo Ink Sc Holdings Co Ltd キノフタロン色素、およびそれを用いた着色感光性組成物、およびその用途
EP2847167B9 (en) 2012-05-09 2019-02-20 Basf Se Oxime ester photoinitiators
TWI585521B (zh) 2012-06-28 2017-06-01 Fujifilm Corp 感光性樹脂組成物、硬化物及其製造方法、樹脂圖案製造方法、硬化膜、液晶顯示裝置、有機ｅｌ顯示裝置以及觸控面板顯示裝置
JP5949246B2 (ja) 2012-07-12 2016-07-06 東洋インキＳｃホールディングス株式会社 カラーフィルタ用着色組成物およびカラーフィルタ
JP5946389B2 (ja) 2012-07-27 2016-07-06 富士フイルム株式会社 近赤外線吸収性組成物、これを用いた近赤外線カットフィルタ及びその製造方法、並びに、カメラモジュール及びその製造方法
JP6205193B2 (ja) 2012-07-30 2017-09-27 富士フイルム株式会社 着色硬化性組成物、これを用いたカラーフィルタ
JP6051657B2 (ja) 2012-07-30 2016-12-27 東洋インキＳｃホールディングス株式会社 有機ｅｌ表示装置用緑色着色組成物、カラーフィルタ、および有機ｅｌ表示装置
JP2014035351A (ja) 2012-08-07 2014-02-24 Toyo Ink Sc Holdings Co Ltd カラーフィルタ用着色組成物、およびカラーフィルタ
JP6160061B2 (ja) 2012-10-25 2017-07-12 東洋インキＳｃホールディングス株式会社 カラーフィルタ用着色組成物
JP6217067B2 (ja) 2012-10-25 2017-10-25 東洋インキＳｃホールディングス株式会社 カラーフィルタ用着色組成物およびカラーフィルタ
JP6170673B2 (ja) 2012-12-27 2017-07-26 富士フイルム株式会社 カラーフィルタ用組成物、赤外線透過フィルタ及びその製造方法、並びに赤外線センサー
JP6065596B2 (ja) 2013-01-16 2017-01-25 Jsr株式会社 感放射線性着色組成物、着色硬化膜及び表示素子
JP6373607B2 (ja) 2013-03-08 2018-08-15 Hoya株式会社 マスクブランクの製造方法および位相シフトマスクの製造方法
US9502453B2 (en) 2013-03-14 2016-11-22 Visera Technologies Company Limited Solid-state imaging devices
JP2014199308A (ja) 2013-03-29 2014-10-23 東洋インキＳｃホールディングス株式会社 カラーフィルタ用着色組成物
JP6469669B2 (ja) 2013-07-08 2019-02-13 ビーエーエスエフ ソシエタス・ヨーロピアＢａｓｆ Ｓｅ オキシムエステル光開始剤
WO2015036910A1 (en) 2013-09-10 2015-03-19 Basf Se Oxime ester photoinitiators
CA2927521C (en) * 2013-10-17 2023-02-07 Dic Corporation Resin composition and molded article
KR101611807B1 (ko) 2013-12-26 2016-04-11 아사히 가라스 가부시키가이샤 광학 필터
JP5898172B2 (ja) 2013-12-27 2016-04-06 コダマ樹脂工業株式会社 耐薬品性吹込み成形積層容器
JP6305901B2 (ja) 2014-01-21 2018-04-04 富士フイルム株式会社 近赤外線吸収性組成物、近赤外線カットフィルタおよびその製造方法、ならびに、カメラモジュールおよびその製造方法
CN105829925B (zh) 2014-02-07 2019-04-30 Dic株式会社 滤色器用绿色颜料组合物以及滤色器
JP6488731B2 (ja) 2014-02-21 2019-03-27 東洋インキＳｃホールディングス株式会社 着色組成物、およびそれを用いたカラーフィルタ
JP6166682B2 (ja) 2014-03-26 2017-07-19 富士フイルム株式会社 着色組成物、硬化膜、カラーフィルタ、パターン形成方法、カラーフィルタの製造方法、固体撮像素子、および、画像表示装置
US10189847B2 (en) 2014-04-04 2019-01-29 Adeka Corporation Oxime ester compound and photopolymerization initiator containing said compound
WO2015166873A1 (ja) 2014-05-01 2015-11-05 富士フイルム株式会社 赤外線センサ、近赤外線吸収組成物、感光性樹脂組成物、化合物、近赤外線吸収フィルタおよび撮像装置
US10113075B2 (en) 2014-09-04 2018-10-30 Igm Malta Limited Polycyclic photoinitiators
CN107004683B (zh) 2014-12-04 2020-10-16 Jsr株式会社 固体摄像装置
JP6458522B2 (ja) 2015-02-06 2019-01-30 東洋インキＳｃホールディングス株式会社 顔料、カラーフィルタ用着色組成物、およびカラーフィルタ
CN106104319B (zh) 2015-02-18 2018-12-07 Ａｇｃ株式会社 光学滤波器和摄像装置
JP6465350B2 (ja) 2015-03-09 2019-02-06 公立大学法人首都大学東京 新規な有機化合物およびその利用
JP6720969B2 (ja) 2015-05-12 2020-07-08 Ａｇｃ株式会社 光学フィルタおよび撮像装置
JP6705132B2 (ja) 2015-07-30 2020-06-03 Jsr株式会社 光学フィルターおよび光学フィルターを用いた装置
WO2017033680A1 (ja) 2015-08-26 2017-03-02 パナソニックヘルスケアホールディングス株式会社 超低温フリーザ
JP2017057265A (ja) 2015-09-15 2017-03-23 株式会社日本触媒 ラクトン単位及びスチレン系単位を有する熱可塑性共重合体
CN107635960B (zh) 2015-09-25 2022-02-01 株式会社艾迪科 肟酯化合物及含有该化合物的聚合引发剂
JP6644406B2 (ja) 2015-09-29 2020-02-12 株式会社日本触媒 アルカリ可溶性樹脂及び感光性樹脂組成物
TWI553410B (zh) 2015-10-08 2016-10-11 新應材股份有限公司 組成物、紅外線透過濾光片及其製造方法以及紅外線感測器
JP6625859B2 (ja) 2015-10-15 2019-12-25 株式会社日本触媒 重合体とこれを含む樹脂組成物および樹脂成形体、重合体の製造方法、共重合体ならびに新規モノマー
JP6720675B2 (ja) 2016-04-27 2020-07-08 東洋インキＳｃホールディングス株式会社 キノフタロン化合物、該キノフタロン化合物を用いた顔料分散剤、カラーフィルタ用着色組成物及びカラーフィルタ
JP6938871B2 (ja) 2016-04-28 2021-09-22 Dic株式会社 カラーフィルタ用顔料組成物、その製造方法及びカラーフィルタ
JP6985715B2 (ja) 2016-06-15 2021-12-22 山陽色素株式会社 黒色顔料組成物及びこれを含む黒色塗膜形成組成物
TWI810608B (zh) 2016-09-02 2023-08-01 日商住友化學股份有限公司 著色組成物及化合物
JP6822017B2 (ja) 2016-09-05 2021-01-27 東洋インキＳｃホールディングス株式会社 カラーフィルタ用着色組成物及びカラーフィルタ
JP6891442B2 (ja) 2016-10-13 2021-06-18 Dic株式会社 新規キノフタロン化合物
JP6874376B2 (ja) 2017-01-10 2021-05-19 東洋インキＳｃホールディングス株式会社 キノフタロン化合物、該キノフタロン化合物を用いた顔料分散剤、カラーフィルタ用着色組成物及びカラーフィルタ
JP6770278B2 (ja) 2017-02-01 2020-10-14 東京都公立大学法人 ジベンゾピロメテンホウ素キレート化合物、近赤外光吸収色素、光電変換素子、近赤外光センサー及び撮像素子
JP6824079B2 (ja) 2017-03-16 2021-02-03 東洋インキＳｃホールディングス株式会社 カラーフィルタ用感光性着色組成物およびカラーフィルタ
JP2018180023A (ja) 2017-04-03 2018-11-15 Dic株式会社 カラーフィルタ用顔料組成物及びカラーフィルタ
JP2018203798A (ja) 2017-05-30 2018-12-27 Dic株式会社 キノフタロン化合物
JP6864567B2 (ja) 2017-06-21 2021-04-28 東洋インキＳｃホールディングス株式会社 カラーフィルタ用感光性着色組成物およびカラーフィルタ
JP7033039B2 (ja) 2017-10-20 2022-03-09 日本化薬株式会社 ジベンゾピロメテンホウ素キレート化合物およびその利用
JP7084167B2 (ja) 2018-03-08 2022-06-14 古河ロックドリル株式会社 フィード長検出装置
JP2020047017A (ja) 2018-09-20 2020-03-26 本田技研工業株式会社 乗合移動体の利用支援システム、及び乗合移動体の利用支援方法

Patent Citations (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2001139940A (ja) 1999-09-27 2001-05-22 Ciba Specialty Chem Holding Inc ジケトピロロピロール類を含むエレクトロルミネセンス素子
JP2006310538A (ja) 2005-04-28 2006-11-09 Toray Ind Inc 発光素子
JP2014533303A (ja) 2011-09-02 2014-12-11 ビーエーエスエフ ソシエタス・ヨーロピアＢａｓｆ Ｓｅ ジケトピロロピロールオリゴマー、及びジケトピロロピロールオリゴマーを含む組成物
JP2014071416A (ja) 2012-10-01 2014-04-21 Nippon Shokubai Co Ltd 光選択透過フィルター、樹脂シート及び固体撮像素子
WO2016158461A1 (ja) 2015-03-27 2016-10-06 Jsr株式会社 光学フィルターおよび光学フィルターを用いた装置
WO2016194527A1 (ja) 2015-05-29 2016-12-08 富士フイルム株式会社 近赤外線吸収性色素多量体、組成物、膜、光学フィルタ、パターン形成方法および装置
WO2018043185A1 (ja) 2016-08-29 2018-03-08 富士フイルム株式会社 組成物、膜、近赤外線カットフィルタ、パターン形成方法、積層体、固体撮像素子、画像表示装置、カメラモジュールおよび赤外線センサ

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