JP7177130B2 - 成膜装置及び足場ユニット - Google Patents

Description

本発明は、成膜装置及び足場ユニットに関する。

従来、基板を搬送しながら基板に対して処理を行うインライン式の装置が知られている。特許文献１には、インライン式の基板処理装置において、複数の処理ユニットが上下方向に並んで配置されること、及び、上下方向に並んだ処理ユニットを引き出してメンテナンスを行うことが開示されている。

特開２０１８－９３０８７号公報

上記従来技術では、処理ユニットを引き出してメンテナンスを行う際には踏み台等を用意する必要があり、メンテナンス時の作業効率が低下することがある。

本発明は、メンテナンス時の作業効率を向上する技術を提供する。

本発明の一側面によれば、
基板を搬送する搬送ユニットと、
成膜源を含み、前記搬送ユニットの下方の第１位置と、前記第１位置に対して横方向に変位した第２位置とに移動可能な成膜源ユニットと、を備え、
基板を搬送しながら基板に対して成膜を行うインライン式の成膜装置であって、
前記成膜源ユニットとともに移動可能であり、前記成膜源ユニットにアクセスするための足場を含む足場ユニットを備え、
前記足場は、前記成膜源ユニットが前記第２位置に位置した状態において、前記成膜源ユニットに収納された収納状態と前記成膜源ユニットから展開された展開状態とに変位可能である、
ことを特徴とする成膜装置が提供される。

本発明によれば、メンテナンス時の作業効率を向上することができる。

一実施形態に係る成膜装置を模式的に示す正面図。 図１の成膜装置の側面図。 図１の成膜装置の内部構造を模式的に示す図。 移動ユニットによる蒸着源ユニットの移動動作を説明する図。 足場ユニットの概略を示す斜視図。 足場ユニットの概略を示す斜視図。 蒸着源ユニット及び足場ユニットの位置関係を模式的に示す平面図。 （Ａ）及び（Ｂ）は足場の構造を示す斜視図。 操作部及び後述する検知ユニットの構成例を示す図 成膜装置のハードウェアの構成例を示す図。 （Ａ）及び（Ｂ）は制御装置の制御例を示すフローチャートである。 表示部の表示画面の構成例を示す図。

以下、添付図面を参照して実施形態を詳しく説明する。なお、以下の実施形態は特許請求の範囲に係る発明を限定するものではなく、また実施形態で説明されている特徴の組み合わせの全てが発明に必須のものとは限らない。実施形態で説明されている複数の特徴のうち二つ以上の特徴が任意に組み合わされてもよい。また、同一若しくは同様の構成には同一の参照番号を付し、重複した説明は省略する。

また、各図において、Ｘ方向は基板の搬送方向、Ｙ方向は基板の幅方向、Ｚ方向は上下方向を示す。

＜第１実施形態＞
＜成膜装置の概要＞
図１は、一実施形態に係る成膜装置１を模式的に示す正面図である。図２は、図１の成膜装置１の側面図である。図３は、図１の成膜装置１の内部構造を模式的に示す図である。

成膜装置１は、基板を搬送しながら基板に対して蒸着を行うインライン式の成膜装置である。成膜装置１は、例えばスマートフォン用の有機ＥＬ表示装置の表示パネルの製造に用いられ、複数台並んで配置されてその製造ラインを構成し得る。

本実施形態では、成膜装置１には基板保持トレイ１００に保持された基板が順次搬送され、成膜装置１は搬送されてきた基板に対して有機ＥＬの蒸着を行う。基板は、例えば成膜装置１に搬送されるよりも上流の工程でマスクと重ね合わされた状態で基板保持トレイ１００に保持されて成膜装置１に搬送される。したがって、成膜装置１ではマスクにより所定のパターンの蒸着物質の薄膜が基板上に形成される。成膜装置１で蒸着が行われる基板の材質としては、ガラス、樹脂、金属等を適宜選択可能であり、ガラス上にポリイミド等の樹脂層が形成されたものが好適に用いられる。蒸着物質としては、有機材料、無機材料（金属、金属酸化物など）などの物質である。成膜装置１は、例えば表示装置（フラットパネルディスプレイなど）や薄膜太陽電池、有機光電変換素子（有機薄膜撮像素子）等の電子デバイスや、光学部材等を製造する製造装置に適用可能であり、特に、有機ＥＬパネルを製造する製造装置に適用可能である。以下の説明においては成膜装置１が真空蒸着によって基板に成膜を行う例について説明するが、成膜方法の態様はこれに限定はされず、スパッタやＣＶＤ等の各種成膜方法を適用可能である。

成膜装置１は、搬送ユニット２と、蒸着源ユニット３と、防着板６と、移動ユニット７と、フレーム部１０１とを含む。

フレーム部１０１は、成膜装置１の搬送ユニット２等の構成要素を支持可能に設けられる。図１の例では、フレーム部１０１は、柱及び梁を含み、搬送ユニット２及び真空ポンプ１０２を支持している。また、フレーム部１０１には、作業用のクレーンや作業者がメンテナンスを行うための通路等が設けられてもよい。

搬送ユニット２は、基板を搬送する。本実施形態では、搬送ユニット２は、基板を保持した状態の基板保持トレイ１００を搬送することにより、基板の搬送を行う。搬送ユニット２は、搬送チャンバ２１と、搬送ローラ２２と、を含む。

搬送チャンバ２１は、内部を真空に保持可能な箱型のチャンバである。搬送チャンバ２１の内部空間２１０は、真空雰囲気か、窒素ガスなどの不活性ガス雰囲気に維持されている。本実施形態では、搬送チャンバ２１は真空ポンプ１０２に接続されている。なお、本明細書において「真空」とは、大気圧より低い圧力の気体で満たされた状態、換言すれば減圧状態をいう。

搬送チャンバ２１には、基板保持トレイ１００が搬入される搬入開口２１１及び基板保持トレイ１００が搬出される搬出開口２１２が形成されている。また、搬送チャンバ２１の下部には、内部空間２１０と蒸着源チャンバ３１の内部空間３１０とを連通するための連通開口２１３が形成されている。なお、搬入開口２１１及び搬出開口２１２には、内部空間２１０を真空に保持するために不図示のゲートバルブ等が設けられてもよい。

搬送ローラ２２は、基板を保持した基板保持トレイ１００を搬送する。搬送ローラ２２は、搬送チャンバ２１の内部空間２１０に設けられる。搬送ローラ２２は、例えば金属材料で形成された、回転可能に支持される円筒形状の部材である。搬送ローラ２２は、例えば搬送チャンバ２１の外部に設けられた不図示の電動モータにより駆動する。

また、本実施形態では、搬送ユニット２の下部には、補強用のリブ２３が設けられている。

蒸着源ユニット３は、基板に対して蒸着物質を放出する蒸着源３２（成膜源）を有するユニット（成膜源ユニット）である。本実施形態では、１つの搬送ユニット２に対して３つの蒸着源ユニット３が基板の搬送方向（Ｘ方向）に並んで配置されている。しかしながら、蒸着源ユニット３の数は適宜設定可能であり、２つ以下或いは４つ以上であってもよい。また、蒸着源ユニット３は、蒸着処理の実行時には搬送ユニット２の下方に位置し搬送ユニット２の下部に接続する。蒸着源ユニット３は、蒸着源チャンバ３１と、蒸着源３２と、を含む。

蒸着源チャンバ３１は、内部を真空に保持可能な箱型のチャンバである。蒸着源チャンバ３１の内部空間３１０は、搬送チャンバ２１の上部に設けられた連通開口３１１を介して搬送チャンバ２１の内部空間２１０と連通可能である。内部空間３１０は、稼働時には内部空間２１０と同様、真空雰囲気か、窒素ガスなどの不活性ガス雰囲気に維持されている。

蒸着源３２は、搬送ユニット２により搬送される基板に対する成膜のために蒸着物質を放出する。例えば、蒸着源３２はＹ方向に並んで配置された複数のノズル（不図示）を含み、それぞれのノズルから蒸着物質が放出される。また例えば、蒸着源３２は蒸着物質を貯留する貯留部及び貯留部に貯留された蒸着物質を加熱するヒータ（いずれも不図示）を含む。貯留部に貯留された蒸着物質がヒータによって加熱されて気化することにより、蒸着源３２から蒸着物質が放出される。

また、蒸着源ユニット３は、蒸着源３２の不使用時に蒸着源３２を遮蔽するシャッタ又は蒸着源３２による蒸着物質の蒸発量を監視する蒸発レートモニタ等（いずれも不図示）を含んでもよい。

なお、本実施形態では、詳しくは図４に示すように、蒸着源３２は、移動ユニット７により移動可能に構成される。

防着板６は、蒸着源３２から放出された蒸着物質が蒸着源チャンバ３１又は搬送チャンバ２１の内壁等に付着することを防止する。例えば、防着板６は蒸着源チャンバ３１に支持される。本実施形態では、防着板６は、蒸着源３２を覆うように内部空間３１０から内部空間２１０に渡って位置するとともに、上部には開口が形成されている。このような構成により、蒸着物質の一部は開口を介して基板へと付着する一方、残りの蒸着物質は防着板６に付着する。このように、防着板６は、蒸着物質が基板に付着することを許容しつつ、蒸着物質が蒸着源チャンバ３１又は搬送チャンバ２１の内壁等に付着することを防止する。

なお、本実施形態では、防着板６は、蒸着源チャンバ３１に対して上下に相対移動可能に設けられる。より具体的には、防着板６は、上側部分６１と下側部分６２とを含み、上側部分６１が蒸着源チャンバ３１に対して上下に相対移動可能に設けられる。これにより、蒸着源ユニット３が移動ユニット７によって横方向に移動する際に搬送ユニット２と防着板６との干渉を回避するために必要な蒸着源ユニット３の下降量を低減することができる。

なお、搬送チャンバ２１又は蒸着源チャンバ３１には、防着板６以外にも防着板が設けられてもよい。例えば、搬送チャンバ２１の内部の天面又は側面等に防着板が設けられてもよい。

移動ユニット７は、蒸着源ユニット３を搬送ユニット２に対して移動させるユニットである。本実施形態では、移動ユニット７は蒸着源ユニット３の下方に設けられ、蒸着源ユニット３を支持しつつ蒸着源ユニット３を上下方向（Z方向）又は横方向（Y方向）に移動させる。移動ユニット７は、横方向移動部７１と昇降部７２とを含む。

横方向移動部７１は、蒸着源ユニット３を横方向（Y方向）に移動させる。本実施形態では、横方向移動部７１は蒸着源ユニット３を基板の搬送方向（Ｘ方向）に交差する基板の幅方向（Ｙ方向）に移動させる。横方向移動部７１は、床面に設けられたガイド部７１１と、ガイド部７１１沿って蒸着源ユニット３を移動させるための駆動部７１２とを含む。駆動部７１２としては周知の技術を適宜採用可能であるが、例えば、ガイド部７１１としてのレール上を走行可能な駆動輪を、モータ等により回転させてもよい。

昇降部７２は、蒸着源ユニット３を昇降させる。本実施形態では、昇降部７２は、蒸着源ユニット３を上下方向（Ｚ方向）に昇降させる。昇降部７２は、蒸着源ユニット３を支持する蒸着源ユニット支持部７２１と、蒸着源ユニット支持部７２１を昇降させる駆動部７２２とを含む。駆動部７２２としては周知の技術を採用可能であるが、例えば電動シリンダ等により蒸着源ユニット支持部７２１を昇降させてもよい。

図４は、移動ユニット７による蒸着源ユニット３の移動動作を説明する図である。

状態ＳＴ１は、蒸着源ユニット３が搬送ユニット２と接続する接続位置ＰＯＳ１に位置している状態である。すなわち、状態ＳＴ１は、成膜装置１が基板に対する蒸着を行う際の状態である。状態ＳＴ１では、蒸着源ユニット３が搬送ユニット２の下方に位置し、搬送ユニット２の下部と蒸着源ユニット３の上部とが接続している。

状態ＳＴ２は、蒸着源ユニット３が接続位置ＰＯＳ１からその下方の接続解除位置ＰＯＳ２に移動した状態である。蒸着源ユニット３は、移動ユニット７の昇降部７２により接続位置ＰＯＳ１から接続解除位置ＰＯＳ２にーZ方向に移動可能である。

状態ＳＴ３は、蒸着源ユニット３が接続解除位置ＰＯＳ２から横方向への移動が完了した状態である。状態ＳＴ３において、蒸着源ユニット３は、搬送ユニット２又は蒸着源ユニット３のメンテンスが実行されるメンテナンス位置ＰＯＳ３に位置している。例えば、搬送ユニット２のメンテンスを行う場合には、作業者は、蒸着源ユニット３が横方向に移動したことにより生じた搬送ユニット２の下方のスペースから搬送チャンバ２１の内部にアクセスすることができる。また例えば、蒸着源ユニット３のメンテナンスを行う場合には、対象の蒸着源ユニット３をメンテナンス位置ＰＯＳ３まで移動させることにより、作業者は蒸着源チャンバ３１の長手方向の側面から蒸着源チャンバ３１の内部にアクセスすることができる。

なお、本実施形態では、移動ユニット７は、複数の蒸着源ユニット３に対してそれぞれ設けられる。したがって、本実施形態の成膜装置１は、複数の蒸着源ユニット３をそれぞれ独立に移動させることができる。なお、複数の移動ユニット７を同期させて、複数の蒸着源ユニット３をまとめて移動させてもよい。また、蒸着源ユニット３よりも少ない数の移動ユニット７が設けられ、１つの移動ユニット７で複数の蒸着源ユニット３を移動させてもよい。

＜足場ユニットの構成＞
（概要）
成膜装置１は、足場ユニット５を含む。図５及び図６は足場ユニット５の概略を示す斜視図であり、図５は足場５１が展開された状態を示し、図６は足場５１が収納された状態を示している。

足場ユニット５は、蒸着源ユニット３にアクセスするためのユニットである。足場ユニット５は、足場５１を含み、蒸着源ユニット３がメンテナンス位置ＰＯＳ３に位置した状態において、蒸着源ユニット３の移動を妨げないように収納された足場５１を展開可能である。足場ユニット５は、足場５１を展開することにより、蒸着源ユニット３のメンテナンス時に、作業者による蒸着源チャンバ３１の内部へのアクセスを容易にすることができる。本実施形態では、蒸着源チャンバ３１の内部には、蒸着源チャンバ３１の上部に設けられた連通開口３１１からアクセスする必要がある。したがって、作業者は床面に立った状態では蒸着源チャンバ３１の内部にアクセスしにくいことがある。作業者が床面よりも上方に配置される足場５１に立つことで、蒸着源チャンバ３１の上部の連通開口３１１を介して作業者が容易に蒸着源チャンバ３１の内部にアクセスすることができる。

また、足場ユニット５は、蒸着源ユニット３の長手方向の両側面に沿って配置される。さらに言えば、足場ユニット５は、蒸着源ユニット３の長手方向の両側面の略全域に渡って配置される。足場ユニット５が蒸着源ユニット３の長手方向の側面に配置されることにより、作業者は、蒸着源チャンバ３１内部の中央部分にまでより容易にアクセスすることができる。なお、足場ユニット５が蒸着源ユニット３の長手方向の一方の側面のみに配置される構成も採用可能である。

本実施形態では、蒸着源ユニット３の接続解除位置ＰＯＳ２とメンテナンス位置ＰＯＳ３との間の移動は、蒸着源ユニット３の長手方向（Y方向）に沿った移動である。よって、足場ユニット５は、蒸着源ユニット３の、接続解除位置ＰＯＳ２とメンテナンス位置ＰＯＳ３との間の移動方向に平行な側面において、足場５１を展開及び収納可能に設けられる。

図７は、蒸着源ユニット３及び足場ユニット５の位置関係を模式的に示す平面図である。本実施形態では、蒸着源ユニット３が接続位置ＰＯＳ１又は接続解除位置ＰＯＳ２に位置する場合（図７の上下の蒸着源ユニット３参照）、足場ユニット５は収納された状態で設けられている。このため、蒸着源ユニット３が移動する場合に、足場ユニット５が隣接する蒸着源ユニット３と干渉することがない。また、蒸着源ユニット３がメンテナンス位置ＰＯＳ３にある場合（図７の中央の蒸着源ユニット３参照）には、足場ユニット５を展開することができる。このとき、足場ユニット５は、隣接する蒸着源ユニット３とＸ方向に一部重なるように配置されている。足場ユニット５は、メンテナンス位置ＰＯＳ３では隣接する蒸着源ユニット３とＸ方向に一部重なるような位置まで展開されることで足場５１のスペースをＸ方向に広く確保することができる。また、別の観点から見ると、足場ユニット５は蒸着源ユニット３の移動時等には収納されるので、蒸着源ユニット３の側面に沿って足場５１を設けつつも蒸着源ユニット３同士の距離を近づけることができ、基板の搬送方向（Ｘ方向）に成膜装置１が大型化することがない。

（足場）
図８（Ａ）及び図８（Ｂ）は、足場５１の構造を示す斜視図であり、図８（Ａ）は足場５１が展開された状態を示し、図８（Ｂ）は足場が収納された状態を示している。なお、図８（Ａ）及び図８（Ｂ）では、足場５１の構造を説明するために必要な足場５１の一部分を示している。

足場５１は、床板５１１と、床板５１１を展開可能に支持する支持部５１２と、を含む。また、本実施形態では、床板５１１とそれに対応する支持部５１２が複数設けられおり、隣接する２枚の床板５１１の間には、これらを連結するように連結プレート５１３が設けられている。

支持部５１２の構造について具体的に説明する。蒸着源ユニット３の側面には、固定台５１２０が設けられる。固定台５１２０には、固定台側ヒンジ５１２１が設けられている。固定台側ヒンジ５１２１は、シャフト５１２２を回動可能に支持している。シャフト５１２２には、床板側ヒンジ５１２３が取り付けられている。床板側ヒンジ５１２３は、床板５１１の裏面から床板５１１を支持している。このような構成において、シャフト５１２２が回動すると、床板側ヒンジ５１２３を介して床板５１１が変位する。

また、支持部５１２は、可動のブラケット５１２４と、リニアガイド５１２５とを含む。ブラケット５１２４は、床板５１１を支持する。ブラケット５１２４は、一端において床板５１１の裏面から床板５１１を支持するとともに、もう一方の端部においてリニアガイド５１２５により上下方向に移動可能に案内される。なお、本実施形態では、足場ユニット５は複数の床板５１１とそれらを連結する連結プレート５１３を含むが、単一の床板５１１によって、作業者の移動スペースが形成されてもよい。

（操作部）
また、足場ユニット５は、足場５１を収納状態と展開状態との間で変位するように操作可能な操作部５２を含む。図９は、操作部５２及び後述する検知ユニット１０３の構成例を示す図である。本実施形態では、操作部５２は、作業者によって回転可能なハンドル５２１と、ハンドル５２１の回転をシャフト５１２２に伝達する伝達部と５２２を含む。作業者がハンドル５２１を操作すると、伝達部５２２を介してシャフト５１２２が回転することで床板５１１が変位する。

なお、本実施形態では、作業者が操作部５２を操作して手動で足場５１を展開するが、操作部５２は、例えば足場５１の展開の指示を受け付けるスイッチ等であってもよい。そして、スイッチが押下されたことに従って、電動モータ等によってシャフト５１２２が回転し、床板５１１が変位してもよい。また、伝達部５２２は、ハンドル５２１に入力された回転を減速する減速機装置を含んでいてもよい。

＜検知ユニット＞
成膜装置１は、足場５１が展開されていることを検知する検知ユニット１０３を備える。本実施形態では、検知ユニット１０３は、光学式のセンサであり、足場５１の展開時と収納時とで異なる検知結果を出力するように設けられる。一例として、検知ユニット１０３は、発光部と受光部とが一体に設けられ、足場５１が収納されているときには発光部からの光が足場５１に反射して、受光部に入るように構成されてもよい。なお、検知ユニット１０３の態様は限定されず、例えば検知ユニット１０３は足場５１の回動をメカニカルに検知してもよい。

＜ハードウェア構成＞
図１０は、成膜装置１のハードウェアの構成例を示す図である。なお、図１０は、本実施形態の特徴に関係する構成を中心に示した図であり一部の構成を省略して示している。

制御装置１４は、成膜装置１の全体を制御する。制御装置１４は、処理部１４１、記憶部１４２、入出力インタフェース（Ｉ／Ｏ）１４３、及び通信部１４４を備える。処理部１４１は、ＣＰＵに代表されるプロセッサであり、記憶部１４２に記憶されたプログラムを実行して成膜装置１を制御する。記憶部１４２は、ＲＯＭ、ＲＡＭ、ＨＤＤ等の記憶デバイスであり、処理部１４１が実行するプログラムの他、各種の制御情報を記憶する。Ｉ／Ｏ１４３は、処理部１４１と成膜装置１の各構成要素との間の信号を送受信するインタフェースである。通信部１４４は通信回線を介して上位装置（ホストコンピュータ）Ｈ等と通信を行う通信デバイスであり、処理部１４１は通信部１４４を介して上位装置Ｈから情報を受信し、或いは、上位装置Ｈへ情報を送信する。なお、制御装置１４や上位装置Ｈの全部又は一部がＰＬＣやＡＳＩＣ、ＦＰＧＡで構成されてもよい。

本実施形態では、前述した検知ユニット１０３の他、表示部１０４と、入力ユニット１０５と、を含む。表示部１０４は、各種情報を表示する。本実施形態では、表示部１０４は、制御装置１４からの指示に基づいて、移動ユニット７の移動が規制されていることを報知する画面を表示する。入力ユニット１０５は、例えば、ハードキー、タッチパネル、ポインティングデバイス等であり、作業者から、移動ユニット７による蒸着源ユニット３の移動等の指示を受け付ける。

＜制御例＞
図１１（Ａ）及び図１１（Ｂ）は、制御装置１４の制御例を示すフローチャートである。これらのフローチャートは、例えば、処理部１４１が記憶部１４２のＲＯＭに記憶されたプログラムをＲＡＭに読み出して実行することにより実現される。

図１１（Ａ）は、足場５１の状態に応じて移動ユニット７による蒸着源ユニット３の移動を制御するためのフローチャートである。図７に示したように、足場５１が展開されている状態で蒸着源ユニット３をメンテナンス位置ＰＯＳ３から接続解除位置ＰＯＳ２に移動させようとすると、足場５１が隣接する蒸着源ユニット３と干渉してしまうことがある。そこで、本実施形態では、以下の制御により、足場５１が展開されている場合には移動ユニット７による移動を規制する。本フローチャートは、蒸着源ユニット３がメンテナンス位置ＰＯＳ３に位置している場合に実行される。

ステップＳ１０１（以下、単にＳ１０１と表記する。他のステップでも同様とする。）で、処理部１４１は、センサ値を取得する。より具体的には、処理部１４１は、センサ値として検知ユニット１０３の検知結果を取得する。

Ｓ１０２で、処理部１４１は、検知ユニット１０３の検知結果に基づき足場５１が展開状態か否かを確認し、足場５１が展開状態（Ｙｅｓ）であればＳ１０３に進み、足場５１が収納状態（Ｎｏ）であればＳ１０４に進む。

Ｓ１０３で、処理部１４１は、移動ユニット７による蒸着源ユニット３の移動を規制する。例えば、処理部１４１は、入力ユニット１０５が蒸着源ユニット３の移動の指示を受け付けても、移動ユニット７による蒸着源ユニット３の移動を実行しない。或いは、蒸着源ユニット３が手動で移動可能な場合には、蒸着源ユニット３の移動を物理的にロック可能なロック機構等を成膜装置１に設け、処理部１４１がロック機構を制御して蒸着源ユニット３の移動を規制してもよい。なお、本フローチャートが周期的に実行されており、前回以前の制御周期で既に蒸着源ユニット３の移動が規制されている場合には、処理部１４１はその規制状態を継続する。

Ｓ１０４で、処理部１４１は、蒸着源ユニット３の移動の規制を解除する。例えば、処理部１４１は、規制解除後に入力ユニット１０５が蒸着源ユニット３の移動の指示を受け付けると、移動ユニット７による蒸着源ユニット３の移動を実行する。或いは、蒸着源ユニット３の移動をロック機構等により物理的に規制している場合には、ロック機構を制御して蒸着源ユニット３の移動の規制を解除してもよい。なお、本フローチャートが周期的に実行されており、前回以前の制御周期で既に蒸着源ユニット３の移動の規制が解除されている場合には、処理部１４１はその解除状態を継続する。

本フローチャートによれば、足場５１の状態に応じて蒸着源ユニット３の移動を規制するので、足場５１が周囲の物体と接触等することがない。

図１１（Ｂ）は、蒸着源ユニット３の移動が規制されている場合にその旨を作業者に報知するためのフローチャートである。本フローチャートは、蒸着源ユニット３がメンテナンス位置ＰＯＳ３に位置している場合に実行される。

Ｓ２０１で、処理部１４１は、入力ユニット１０５が蒸着源ユニット３の移動指示を受け付けたか否かを確認し、受け付けていればＳ２０２に進み、受け付けていなければフローチャートを終了する。

Ｓ２０２はＳ１０１と同様である。Ｓ２０３で、処理部１４１は、足場５１が収納状態か否かを確認し、足場５１が収納状態（Ｙｅｓ）であればＳ２０４に進み、足場５１が展開状態で（Ｎｏ）あればＳ２０５に進む。

Ｓ２０４で、処理部１４１は、蒸着源ユニット３を移動させる。具体的には、移動ユニット７により、蒸着源ユニット３をメンテナンス位置ＰＯＳ３から接続解除位置ＰＯＳ２に移動させる。

Ｓ２０５で、処理部１４１は、作業者に報知を行う。例えば、処理部１４１は、表示部１０４に蒸着源ユニット３の移動が規制されている旨の表示を行わせることにより、作業者に蒸着源ユニット３の移動の規制を報知する。図１２は、表示部１０４の表示画面１０４ａの構成例を示す図である。

本フローチャートによれば、作業者が蒸着源ユニット３を移動させようとした場合において、蒸着源ユニット３の移動が規制されているときは、作業者に蒸着源ユニット３の移動が規制されていることが報知される。よって、蒸着源ユニット３の移動が規制されていることを作業者が認識することができる。なお、処理部１４１は、スピーカ等を用いて音声により蒸着源ユニット３の移動が規制されていることを作業者に報知してもよい。

発明は上記の実施形態に制限されるものではなく、発明の要旨の範囲内で、種々の変形・変更が可能である。

１ 成膜装置、２ 搬送ユニット、３ 蒸着源ユニット、５ 足場ユニット、５１ 足場

Claims (10)

1. 基板を搬送する搬送ユニットと、
   成膜源を含み、前記搬送ユニットの下方の第１位置と、前記第１位置に対して横方向に変位した第２位置とに移動可能な成膜源ユニットと、を備え、
   基板を搬送しながら基板に対して成膜を行うインライン式の成膜装置であって、
   前記成膜源ユニットとともに移動可能であり、前記成膜源ユニットにアクセスするための足場を含む足場ユニットを備え、
   前記足場は、前記成膜源ユニットが前記第２位置に位置した状態において、前記成膜源ユニットに収納された収納状態と前記成膜源ユニットから展開された展開状態とに変位可能である、
   ことを特徴とする成膜装置。
2. 前記足場ユニットは、前記足場として、
   床板と、
   前記床板を展開可能に支持する支持部と、を含む、
   ことを特徴とする請求項１に記載の成膜装置。
3. 前記足場ユニットは、前記足場を前記収納状態と前記展開状態との間で変位するように操作可能な操作部を含む、ことを特徴とする請求項１又は２に記載の成膜装置。
4. 前記足場が前記展開状態であることを検知する検知手段をさらに備える、ことを特徴とする請求項１～３のいずれか１項に記載の成膜装置。
5. 前記検知手段により前記足場が前記展開状態であることが検知されている場合に、前記成膜源ユニットの前記第２位置から前記第１位置への移動を規制する規制手段をさらに備える、ことを特徴とする請求項４に記載の成膜装置。
6. 前記規制手段により成膜源ユニットの移動が規制されていることを作業者に報知する報知手段をさらに備える、ことを特徴とする請求項５に記載の成膜装置。
7. 前記足場ユニットは、前記成膜源ユニットの、前記第１位置と前記第２位置との間の移動方向に平行な側面に前記足場を展開する、ことを特徴とする請求項１～６のいずれか１項に記載の成膜装置。
8. 前記成膜源ユニットは、前記成膜源ユニットの移動方向と交差する交差方向に複数並んで設けられ、
   前記展開状態にある前記足場は、前記足場が設けられた前記成膜源ユニットに隣接する成膜源ユニットと、前記交差方向において重なる、
   ことを特徴とする請求項７に記載の成膜装置。
9. 前記足場ユニットは、前記成膜源ユニットの長手方向の側面に前記足場を展開する、ことを特徴とする請求項１～８のいずれか１項に記載の成膜装置。
10. 基板を搬送する搬送ユニットと、
    成膜源を含み、前記搬送ユニットの下方の第１位置と、前記第１位置に対して横方向に変位した第２位置とに移動可能な成膜源ユニットと、を備え、
    基板を搬送しながら基板に対して成膜を行うインライン式の成膜装置に用いられる足場ユニットであって、
    前記成膜源ユニットにアクセスするための足場を含み、
    前記足場は、前記成膜源ユニットが前記第２位置に位置した状態において、前記成膜源ユニットに収納された収納状態と前記成膜源ユニットから展開された展開状態とに変位可能である、
    ことを特徴とする足場ユニット。

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