CN114574832A

CN114574832A - 成膜装置以及脚手架单元

Info

Publication number: CN114574832A
Application number: CN202111373132.5A
Authority: CN
Inventors: 涩谷孝史; 加势翔也; 佐藤功康
Original assignee: Canon Tokki Corp
Current assignee: Canon Tokki Corp
Priority date: 2020-11-30
Filing date: 2021-11-19
Publication date: 2022-06-03
Also published as: JP7177130B2; JP2022086584A; KR20220076322A

Abstract

本发明提供提高维护时的作业效率的成膜装置以及脚手架单元。一边搬送基板一边对基板进行成膜的直列式的成膜装置具备：搬送单元，搬送基板；以及成膜源单元，包括成膜源，且能够在搬送单元的下方的第一位置与相对于第一位置在横向上位移了的第二位置之间移动。成膜装置具备脚手架单元，该脚手架单元能够与成膜源单元一起移动，且包括用于访问成膜源单元的脚手架。在成膜源单元位于第二位置的状态下，脚手架能够在收纳于成膜源单元的收纳状态与从成膜源单元展开的展开状态之间位移。

Description

成膜装置以及脚手架单元

技术领域

本发明涉及成膜装置以及脚手架单元。

背景技术

以往，公知有一边搬送基板一边对基板进行处理的直列式的装置。在专利文献1中公开了如下内容：在直列式的基板处理装置中，多个处理单元在上下方向上排列地配置以及将在上下方向上排列的处理单元拉出而进行维护。

现有技术文献

专利文献

专利文献1：日本特开2018-93087号公报

在上述现有技术中，在拉出处理单元而进行维护时需要准备登踏台等，有时维护时的作业效率降低。

发明内容

本发明提供一种提高维护时的作业效率的技术。

用于解决课题的方案

根据本发明的一技术方案，提供一种成膜装置，其是一边搬送基板一边对基板进行成膜的直列式的成膜装置，

该成膜装置具备：

搬送单元，搬送基板；以及

成膜源单元，包括成膜源，且该成膜源单元能够在所述搬送单元的下方的第一位置与相对于所述第一位置在横向上位移了的第二位置之间移动，

其特征在于，

该成膜装置具备脚手架单元，该脚手架单元能够与所述成膜源单元一起移动，且包括用于访问所述成膜源单元的脚手架，

在所述成膜源单元位于所述第二位置的状态下，所述脚手架能够在收纳于所述成膜源单元的收纳状态与从所述成膜源单元展开的展开状态之间位移。

另外，根据本发明的另一技术方案，提供一种脚手架单元，其用于一边搬送基板一边对基板进行成膜的直列式的成膜装置，

该成膜装置具备：

搬送单元，搬送基板；以及

其特征在于，

该脚手架单元包括用于访问所述成膜源单元的脚手架，

发明的效果

根据本发明，能够提高维护时的作业效率。

附图说明

图1是示意性地表示一实施方式的成膜装置的主视图。

图2是图1的成膜装置的侧视图。

图3是示意性地表示图1的成膜装置的内部构造的图。

图4是说明基于移动单元的蒸镀源单元的移动动作的图。

图5是表示脚手架单元的概略的立体图。

图6是表示脚手架单元的概略的立体图。

图7是示意性地表示蒸镀源单元和脚手架单元的位置关系的俯视图。

图8(A)及(B)是表示脚手架的构造的立体图。

图9是表示操作部及后述的检测单元的结构例的图。

图10是表示成膜装置的硬件的结构例的图。

图11(A)及(B)是表示控制装置的控制例的流程。

图12是表示显示部的显示画面的结构例的图。

附图标记的说明

1成膜装置、2搬送单元、3蒸镀源单元、5脚手架单元、51脚手架。

具体实施方式

以下，参照附图对实施方式进行详细说明。此外，以下的实施方式并不限定权利要求书所涉及的发明，另外，实施方式中说明的特征的全部组合并不限定为发明所必须的内容。在实施方式中说明的多个特征中的两个以上的特征也可以任意地组合。另外，对相同或同样的结构标注相同的附图标记，并省略重复的说明。

另外，在各图中，X方向表示基板的搬送方向，Y方向表示基板的宽度方向，Z方向表示上下方向。

[第一实施方式]

[成膜装置的概要]

图1是示意性地表示一实施方式的成膜装置1的主视图。图2是图1的成膜装置1的侧视图。图3是示意性地表示图1的成膜装置1的内部构造的图。

成膜装置1是一边搬送基板一边对基板进行蒸镀的直列式的成膜装置。成膜装置1例如用于智能手机用的有机EL显示装置的显示面板的制造，能够排列配置多台而构成其生产线。

在本实施方式中，向成膜装置1依次搬送保持于基板保持托盘100的基板，成膜装置1对搬送来的基板进行有机EL的蒸镀。基板例如在搬送到成膜装置1的上游的工序中以与掩模重合的状态保持于基板保持托盘100而搬送到成膜装置1。因此，在成膜装置1中，利用掩模在基板上形成规定图案的蒸镀物质的薄膜。作为在成膜装置1中进行蒸镀的基板的材质，能够适当选择玻璃、树脂、金属等，优选使用在玻璃上形成有聚酰亚胺等树脂层的材质。作为蒸镀物质，为有机材料、无机材料(金属、金属氧化物等)等物质。成膜装置1能够应用于制造例如显示装置(平板显示器等)、薄膜太阳能电池、有机光电转换元件(有机薄膜摄像元件)等电子器件、光学构件等的制造装置，特别是能够应用于制造有机EL面板的制造装置。在以下的说明中，对成膜装置1通过真空蒸镀在基板上进行成膜的例子进行说明，但成膜方法的方式并不限定于此，能够应用溅射、CVD等各种成膜方法。

成膜装置1包括搬送单元2、蒸镀源单元3、附着防止板6、移动单元7以及框架部101。

框架部101以能够支承成膜装置1的搬送单元2等构成要素的方式设置。在图1的例子中，框架部101包括柱和梁，支承搬送单元2和真空泵102。另外，也可以在框架部101设置作业用的起重机、用于作业者进行维护的通路等。

搬送单元2搬送基板。在本实施方式中，搬送单元2通过搬送保持有基板的状态的基板保持托盘100来进行基板的搬送。搬送单元2包括搬送腔室21和搬送辊22。

搬送腔室21是能够将内部保持为真空的箱型的腔室。搬送腔室21的内部空间210被维持为真空气氛或氮气等非活性气体气氛。在本实施方式中，搬送腔室21与真空泵102连接。需要说明的是，在本说明书中，“真空”是指被压力比大气压低的气体充满的状态，换言之是指减压状态。

在搬送腔室21形成有搬入基板保持托盘100的搬入开口211及搬出基板保持托盘100的搬出开口212。另外，在搬送腔室21的下部形成有用于将内部空间210与蒸镀源腔室31的内部空间310连通的连通开口213。此外，在搬入开口211以及搬出开口212，为了将内部空间210保持为真空，也可以设置未图示的闸阀等。

搬送辊22对保持有基板的基板保持托盘100进行搬送。搬送辊22设置于搬送腔室21的内部空间210。搬送辊22例如是由金属材料形成的、被支承为能够旋转的圆筒形状的构件。搬送辊22例如由设置于搬送腔室21的外部的未图示的电动马达驱动。

另外，在本实施方式中，在搬送单元2的下部设置有加强用的肋23。

蒸镀源单元3是具有对基板放出蒸镀物质的蒸镀源32(成膜源)的单元(成膜源单元)。在本实施方式中，相对于1个搬送单元2，3个蒸镀源单元3在基板的搬送方向(X方向)上排列配置。但是，蒸镀源单元3的数量能够适当设定，也可以是2个以下或4个以上。另外，蒸镀源单元3在执行蒸镀处理时位于搬送单元2的下方并与搬送单元2的下部连接。蒸镀源单元3包括蒸镀源腔室31和蒸镀源32。

蒸镀源腔室31是能够将内部保持为真空的箱型的腔室。蒸镀源腔室31的内部空间310能够经由设置于搬送腔室21的上部的连通开口311与搬送腔室21的内部空间210连通。内部空间310在工作时与内部空间210同样地被维持为真空气氛或氮气等非活性气体气氛。

蒸镀源32为了对由搬送单元2搬送的基板进行成膜而放出蒸镀物质。例如，蒸镀源32包括在Y方向上排列配置的多个喷嘴(未图示)，从各个喷嘴放出蒸镀物质。另外，例如蒸镀源32包括贮存蒸镀物质的贮存部和对贮存于贮存部的蒸镀物质进行加热的加热器(均未图示)。贮存于贮存部的蒸镀物质被加热器加热而气化，由此从蒸镀源32放出蒸镀物质。

另外，蒸镀源单元3也可以包括在不使用蒸镀源32时遮蔽蒸镀源32的挡板或监视基于蒸镀源32的蒸镀物质的蒸发量的蒸发率监视器等(均未图示)。

另外，在本实施方式中，详细地说，如图4所示，蒸镀源32构成为能够通过移动单元7移动。

附着防止板6防止从蒸镀源32放出的蒸镀物质附着于蒸镀源腔室31或搬送腔室21的内壁等。例如，附着防止板6支承于蒸镀源腔室31。在本实施方式中，附着防止板6以覆盖蒸镀源32的方式位于从内部空间310到内部空间210的范围内，并且在上部形成有开口。通过这样的构成，蒸镀物质的一部分经由开口附着于基板，另一方面，剩余的蒸镀物质附着于附着防止板6。这样，附着防止板6容许蒸镀物质附着于基板，并且防止蒸镀物质附着于蒸镀源腔室31或搬送腔室21的内壁等。

另外，在本实施方式中，附着防止板6设置成能够相对于蒸镀源腔室31上下相对移动。更具体而言，附着防止板6包括上侧部分61和下侧部分62，上侧部分61设置成能够相对于蒸镀源腔室31上下相对移动。由此，能够减少在蒸镀源单元3利用移动单元7沿横向移动时为了避免搬送单元2与附着防止板6的干涉所需的蒸镀源单元3的下降量。

需要说明的是，也可以在搬送腔室21或蒸镀源腔室31中除了附着防止板6以外还设置附着防止板。例如，也可以在搬送腔室21的内部的顶面或侧面等设置附着防止板。

移动单元7是使蒸镀源单元3相对于搬送单元2移动的单元。在本实施方式中，移动单元7设置在蒸镀源单元3的下方，支承蒸镀源单元3并使蒸镀源单元3沿上下方向(Z方向)或横向(Y方向)移动。移动单元7包括横向移动部71和升降部72。

横向移动部71使蒸镀源单元3沿横向(Y方向)移动。在本实施方式中，横向移动部71使蒸镀源单元3在与基板的搬送方向(X方向)交叉的基板的宽度方向(Y方向)上移动。横向移动部71包括设置于地面的引导部711和用于使蒸镀源单元3沿着引导部711移动的驱动部712。作为驱动部712，能够适当采用公知的技术，但例如也可以通过马达等使能够在作为引导部711的轨道上行驶的驱动轮旋转。

升降部72使蒸镀源单元3升降。在本实施方式中，升降部72使蒸镀源单元3沿上下方向(Z方向)升降。升降部72包括支承蒸镀源单元3的蒸镀源单元支承部721和使蒸镀源单元支承部721升降的驱动部722。作为驱动部722能够采用公知的技术，但例如也可以利用电动缸等使蒸镀源单元支承部721升降。

图4是说明基于移动单元7的蒸镀源单元3的移动动作的图。

状态ST1是蒸镀源单元3位于与搬送单元2连接的连接位置POS1的状态。即，状态ST1是成膜装置1对基板进行蒸镀时的状态。在状态ST1下，蒸镀源单元3位于搬送单元2的下方，搬送单元2的下部与蒸镀源单元3的上部连接。

状态ST2是蒸镀源单元3从连接位置POS1移动到其下方的连接解除位置POS2的状态。蒸镀源单元3能够通过移动单元7的升降部72从连接位置POS1向连接解除位置POS2在-Z方向上移动。

状态ST3是蒸镀源单元3从连接解除位置POS2向横向的移动完成了的状态。在状态ST3下，蒸镀源单元3位于执行搬送单元2或蒸镀源单元3的维护的维护位置POS3。例如，在进行搬送单元2的维护的情况下，作业者能够从通过蒸镀源单元3沿横向移动而产生的搬送单元2的下方的空间访问搬送腔室21的内部。另外，例如，在进行蒸镀源单元3的维护的情况下，通过使对象的蒸镀源单元3移动到维护位置POS3，作业者能够从蒸镀源腔室31的长度方向的侧面访问蒸镀源腔室31的内部。

此外，在本实施方式中，移动单元7相对于多个蒸镀源单元3分别设置。因此，本实施方式的成膜装置1能够使多个蒸镀源单元3分别独立地移动。另外，也可以使多个移动单元7同步，使多个蒸镀源单元3一起移动。另外，也可以设置数量比蒸镀源单元3少的移动单元7，利用1个移动单元7使多个蒸镀源单元3移动。

[脚手架单元的结构]

(概要)

成膜装置1包括脚手架单元5。图5及图6是表示脚手架单元5的概略的立体图，图5表示脚手架51被展开的状态，图6表示脚手架51被收纳的状态。

脚手架单元5是用于访问蒸镀源单元3的单元。脚手架单元5包括脚手架51，在蒸镀源单元3位于维护位置POS3的状态下，能够以不妨碍蒸镀源单元3的移动的方式将收纳的脚手架51展开。脚手架单元5通过展开脚手架51，在蒸镀源单元3的维护时，能够使作业者容易访问蒸镀源腔室31的内部。在本实施方式中，需要从设置于蒸镀源腔室31的上部的连通开口311访问蒸镀源腔室31的内部。因此，作业者在站在地面的状态下有时难以访问蒸镀源腔室31的内部。通过作业者站在配置于地面的上方的脚手架51上，作业者能够经由蒸镀源腔室31的上部的连通开口311容易地访问蒸镀源腔室31的内部。

另外，脚手架单元5沿着蒸镀源单元3的长度方向的两侧面配置。进一步而言，脚手架单元5遍及蒸镀源单元3的长度方向的两侧面的大致整个区域地配置。通过将脚手架单元5配置在蒸镀源单元3的长度方向的侧面，作业者能够更容易地访问到蒸镀源腔室31内部的中央部分。另外，也能够采用脚手架单元5仅配置在蒸镀源单元3的长度方向的一方的侧面的结构。

在本实施方式中，蒸镀源单元3在连接解除位置POS2与维护位置POS3之间的移动是沿着蒸镀源单元3的长度方向(Y方向)的移动。因此，脚手架单元5在蒸镀源单元3的、与连接解除位置POS2和维护位置POS3之间的移动方向平行的侧面，以能够展开和收纳脚手架51的方式设置。

图7是示意性地表示蒸镀源单元3和脚手架单元5的位置关系的俯视图。在本实施方式中，在蒸镀源单元3位于连接位置POS1或连接解除位置POS2的情况下(参照图7的上下的蒸镀源单元3)，脚手架单元5以被收纳的状态设置。因此，在蒸镀源单元3移动的情况下，脚手架单元5不会与邻接的蒸镀源单元3干涉。另外，在蒸镀源单元3位于维护位置POS3的情况下(参照图7的中央的蒸镀源单元3)，能够展开脚手架单元5。此时，脚手架单元5以与邻接的蒸镀源单元3在X方向上一部分重叠的方式配置。脚手架单元5在维护位置POS3展开至与邻接的蒸镀源单元3在X方向上一部分重叠的位置，由此能够在X方向上确保脚手架51的空间较大。另外，从另一观点来看，由于脚手架单元5在蒸镀源单元3移动时等被收纳，因此能够沿着蒸镀源单元3的侧面设置脚手架51并且使蒸镀源单元3彼此的距离接近，成膜装置1不会在基板的搬送方向(X方向)上大型化。

(脚手架)

图8(A)及图8(B)是表示脚手架51的构造的立体图，图8(A)表示脚手架51被展开的状态，图8(B)表示脚手架被收纳的状态。此外，在图8(A)及图8(B)中，示出了为了说明脚手架51的构造所需的脚手架51的一部分。

脚手架51包括台板511和将台板511支承为能够展开的支承部512。另外，在本实施方式中，设置有多个台板511和与其对应的支承部512，在邻接的2块台板511之间，以将它们连结的方式设置有连结板513。

对支承部512的构造进行具体说明。在蒸镀源单元3的侧面设置有固定台5120。在固定台5120上设置有固定台侧铰接件5121。固定台侧铰接件5121将轴5122支承为能够转动。在轴5122上安装有台板侧铰接件5123。台板侧铰接件5123从台板511的背面支承台板511。在这样的结构中，当轴5122转动时，台板511经由台板侧铰接件5123而位移。

另外，支承部512包括可动的托架5124和线性引导件5125。托架5124支承台板511。托架5124在一端从台板511的背面支承台板511，并且在另一端部被线性引导件5125引导为能够沿上下方向移动。此外，在本实施方式中，脚手架单元5包括多个台板511和将它们连结的连结板513，但也可以由单一的台板511形成作业者的移动空间。

(操作部)

另外，脚手架单元5包括能够进行操作以使脚手架51在收纳状态与展开状态之间位移的操作部52。图9是表示操作部52及后述的检测单元103的结构例的图。在本实施方式中，操作部52包括能够通过作业者而旋转的手柄521和将手柄521的旋转传递给轴5122的传递部522。当作业者操作手柄521时，轴5122经由传递部522旋转，由此台板511位移。

此外，在本实施方式中，作业者对操作部52进行操作而手动地展开脚手架51，但操作部52例如也可以是接收脚手架51的展开的指示的开关等。而且，也可以是，随着开关被按下，轴5122通过电动马达等而旋转，台板511位移。另外，传递部522也可以包括对输入到手柄521的旋转进行减速的减速器装置。

[检测单元]

成膜装置1具备对脚手架51展开的情况进行检测的检测单元103。在本实施方式中，检测单元103是光学式的传感器，设置为在脚手架51的展开时和收纳时输出不同的检测结果。作为一个例子，检测单元103也可以构成为，发光部和受光部一体地设置，在收纳有脚手架51时，来自发光部的光被脚手架51反射而进入受光部。此外，检测单元103的方式没有限定，例如检测单元103也可以机械地检测脚手架51的转动。

[硬件结构]

图10是表示成膜装置1的硬件的结构例的图。此外，图10是以与本实施方式的特征相关的结构为中心示出的图，省略一部分结构而示出。

控制装置14控制成膜装置1的整体。控制装置14具备处理部141、存储部142、输入输出接口(I/O)143以及通信部144。处理部141是以CPU为代表的处理器，执行存储于存储部142的程序来控制成膜装置1。存储部142是ROM、RAM、HDD等存储设备，除了存储处理部141执行的程序之外，还存储各种控制信息。I/O143是收发处理部141与成膜装置1的各构成要素之间的信号的接口。通信部144是经由通信线路与上位装置(主计算机)H等进行通信的通信设备，处理部141经由通信部144从上位装置H接收信息，或者向上位装置H发送信息。此外，控制装置14、上位装置H的全部或者一部分也可以由PLC、ASIC、FPGA构成。

在本实施方式中，除了上述的检测单元103以外，还包括显示部104和输入单元105。显示部104显示各种信息。在本实施方式中，显示部104基于来自控制装置14的指示，显示通知移动单元7的移动被限制的画面。输入单元105例如是硬键、触摸面板、定位设备等，从作业者接收基于移动单元7的蒸镀源单元3的移动等指示。

[控制例]

图11(A)及图11(B)是表示控制装置14的控制例的流程。这些流程例如通过处理部141将存储于存储部142的ROM的程序读出到RAM并执行来实现。

图11(A)是用于根据脚手架51的状态来控制基于移动单元7的蒸镀源单元3的移动的流程。如图7所示，当在脚手架51展开的状态下想要使蒸镀源单元3从维护位置POS3移动到连接解除位置POS2时，脚手架51有时会与邻接的蒸镀源单元3发生干涉。因此，在本实施方式中，通过以下的控制，在脚手架51展开的情况下限制基于移动单元7的移动。本流程在蒸镀源单元3位于维护位置POS3的情况下执行。

在步骤S101(以下，简记为S101，在其他步骤中也同样)中，处理部141取得传感器值。更具体而言，处理单元141取得检测单元103的检测结果作为传感器值。

在S102中，处理部141基于检测单元103的检测结果来确认脚手架51是否为展开状态，若脚手架51为展开状态(是)，则进入S103，若脚手架51为收纳状态(否)，则进入S104。

在S103中，处理部141限制基于移动单元7的蒸镀源单元3的移动。例如，即使输入单元105接收蒸镀源单元3的移动的指示，处理部141也不执行基于移动单元7的蒸镀源单元3的移动。或者，在蒸镀源单元3能够手动移动的情况下，也可以在成膜装置1中设置能够物理地锁定蒸镀源单元3的移动的锁定机构等，处理部141控制锁定机构来限制蒸镀源单元3的移动。另外，周期性地执行本流程，在上次以前的控制周期中已经限制了蒸镀源单元3的移动的情况下，处理部141继续该限制状态。

在S104中，处理部141解除蒸镀源单元3的移动的限制。例如，当输入单元105在限制解除后接收蒸镀源单元3的移动的指示时，处理部141执行基于移动单元7的蒸镀源单元3的移动。或者，在利用锁定机构等物理性地限制蒸镀源单元3的移动的情况下，也可以控制锁定机构来解除蒸镀源单元3的移动的限制。另外，周期性地执行本流程，在上次以前的控制周期已经解除了蒸镀源单元3的移动的限制的情况下，处理部141继续该解除状态。

根据本流程，由于根据脚手架51的状态来限制蒸镀源单元3的移动，因此脚手架51不会与周围的物体接触等。

图11(B)是用于在蒸镀源单元3的移动被限制的情况下向作业者通知该情况的流程。本流程在蒸镀源单元3位于维护位置POS3的情况下执行。

在S201中，处理部141确认输入单元105是否接收到蒸镀源单元3的移动指示，如果接收到，则进入S202，如果没有接收到，则结束流程。

S202与S101相同。在S203中，处理部141确认脚手架51是否为收纳状态，若脚手架51为收纳状态(是)，则进入S204，若脚手架51为展开状态(否)，则进入S205。

在S204中，处理部141使蒸镀源单元3移动。具体而言，通过移动单元7使蒸镀源单元3从维护位置POS3移动到连接解除位置POS2。

在S205中，处理部141向作业者进行通知。例如，处理部141通过使显示部104进行蒸镀源单元3的移动被限制的意思的显示，向作业者通知蒸镀源单元3的移动的限制。图12是表示显示部104的显示画面104a的结构例的图。

根据本流程，在作业者想要使蒸镀源单元3移动的情况下，当蒸镀源单元3的移动被限制时，向作业者通知蒸镀源单元3的移动被限制的情况。因此，作业者能够识别蒸镀源单元3的移动被限制的情况。此外，处理部141也可以使用扬声器等通过声音向作业者通知蒸镀源单元3的移动被限制的情况。

本发明并不限定于上述的实施方式，能够在发明的主旨的范围内进行各种变形、变更。

Claims

1.一种成膜装置，其是一边搬送基板一边对基板进行成膜的直列式的成膜装置，

该成膜装置具备：

搬送单元，搬送基板；以及

其特征在于，

2.根据权利要求1所述的成膜装置，其特征在于，

所述脚手架单元包括台板和将所述台板支承为能够展开的支承部作为所述脚手架。

3.根据权利要求1或2所述的成膜装置，其特征在于，

所述脚手架单元包括操作部，该操作部能够进行操作以使所述脚手架在所述收纳状态与所述展开状态之间位移。

4.根据权利要求1所述的成膜装置，其特征在于，

该成膜装置还具备对所述脚手架处于所述展开状态的情况进行检测的检测部件。

5.根据权利要求4所述的成膜装置，其特征在于，

该成膜装置还具备限制部件，该限制部件在由所述检测部件检测到所述脚手架处于所述展开状态的情况时限制所述成膜源单元从所述第二位置向所述第一位置的移动。

6.根据权利要求5所述的成膜装置，其特征在于，

该成膜装置还具备向作业者通知成膜源单元的移动被所述限制部件限制的通知部件。

7.根据权利要求1或2所述的成膜装置，其特征在于，

所述脚手架单元在所述成膜源单元的同所述第一位置与所述第二位置之间的移动方向平行的侧面展开所述脚手架。

8.根据权利要求7所述的成膜装置，其特征在于，

所述成膜源单元在与所述成膜源单元的移动方向交叉的交叉方向上排列设置有多个，

处于所述展开状态的所述脚手架同与设置有所述脚手架的所述成膜源单元邻接的成膜源单元在所述交叉方向上重叠。

9.根据权利要求1或2所述的成膜装置，其特征在于，

所述脚手架单元在所述成膜源单元的长度方向的侧面展开所述脚手架。

10.一种脚手架单元，其用于一边搬送基板一边对基板进行成膜的直列式的成膜装置，

该成膜装置具备：

搬送单元，搬送基板；以及

其特征在于，

该脚手架单元包括用于访问所述成膜源单元的脚手架，