JP5492027B2 - 有機elデバイス製造装置及び製造方法 - Google Patents
有機elデバイス製造装置及び製造方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP5492027B2 JP5492027B2 JP2010193831A JP2010193831A JP5492027B2 JP 5492027 B2 JP5492027 B2 JP 5492027B2 JP 2010193831 A JP2010193831 A JP 2010193831A JP 2010193831 A JP2010193831 A JP 2010193831A JP 5492027 B2 JP5492027 B2 JP 5492027B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- substrate
- vapor deposition
- organic
- deposition stage
- stage
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 29
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 69
- 238000007740 vapor deposition Methods 0.000 claims description 57
- 230000007246 mechanism Effects 0.000 claims description 54
- 238000000151 deposition Methods 0.000 claims description 30
- 230000008021 deposition Effects 0.000 claims description 27
- 230000003028 elevating effect Effects 0.000 claims description 21
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 8
- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 7
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 claims description 2
- 230000008020 evaporation Effects 0.000 claims description 2
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 11
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 8
- 238000001771 vacuum deposition Methods 0.000 description 7
- 238000007738 vacuum evaporation Methods 0.000 description 2
- 238000005452 bending Methods 0.000 description 1
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 1
- 230000002950 deficient Effects 0.000 description 1
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 1
- 230000002452 interceptive effect Effects 0.000 description 1
- 238000005192 partition Methods 0.000 description 1
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 1
- 238000007789 sealing Methods 0.000 description 1
- 238000000859 sublimation Methods 0.000 description 1
- 230000008022 sublimation Effects 0.000 description 1
- 238000009834 vaporization Methods 0.000 description 1
- 230000008016 vaporization Effects 0.000 description 1
Images
Landscapes
- Physical Vapour Deposition (AREA)
- Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)
- Electroluminescent Light Sources (AREA)
Description
特許文献2には、ロボットで基板を水平に搬送し、ステージに水平に移載し、その後、水平に載置した基板を直立または略直立に立てその状態で蒸着する方法が開示されている。
また、本発明の第2の目的は、高精彩なデバイスを製造できる有機ELデバイス製造装置及び製造方法を提供することである。
さらに、本発明は、前記移動が前記回転の回転軸を有する支持部と前記蒸着ステージとの間に設けられた昇降機構によって行なわれることを第3の特徴とする。
さらに、本発明は、前記基板と前記基板の蒸着パターンを規定するマスクとのアライメント後、前記昇降機構により前記基板を前記マスクに密着させることを第5の特徴とする。
さらに、本発明は、前記昇降機構は前記支持部又は前記蒸着ステージの四隅に設けられていることを第7の特徴とする。
また、本発明によれば、高精彩なデバイスを製造できる有機ELデバイス製造装置及び成膜装置を提供できる。
昇降機構30は蒸着ステージ20に3個以上、特に蒸着ステージ20の四隅に近い所に配置するのが望ましい。3個以上であれば、それぞれを制御することによって、後述する基板50とマスク81とをアライメントするときや、基板50をマスク81に密着させるときに基板50とマスク81を平行に保つことができ、より均一な成膜をすることができる。また、四隅に近い所に配置することによって上記制御がより行ない易くなる。
なお、上記実施形態では、モータ33を支持部22に固定したが、蒸着ステージ20に固定し、支持部22側にベローズ34を設けてもよい。
7:蒸着部 8:アライメント部
9:受渡部 10:搬送ロボット
11:アーム 12:櫛歯状ハンド
20:蒸着ステージ 21:回転軸
22:支持部 23:貫通穴
30:昇降機構 31:ガイド31
32:ボールネジ 33:モータ
34:ベローズ 35:大気BOX
36:ナットハウジング 37:支持棒
38:駆動線 40:受けピン
41:固定部 50:基板
71:蒸着源 81:マスク
90:蒸着ステージ回転機構 91:真空内配線リンク機構
96:回転駆動部。
Claims (8)
- 基板を載置する蒸着ステージを有し、前記蒸着ステージに複数の受けピンを介して前記基板を水平状態で受渡しする受渡部と、前記受渡部を回転させて略直立または直立姿勢にする回転機構と、真空チャンバ内で前記略直立姿勢で前記基板に蒸着材料を蒸着する蒸着手段とを有する有機ELデバイス製造装置において、
前記受渡部は、前記蒸着ステージを上下させる昇降機構と、前記昇降機構を支持する支持部とを有し、前記複数の受けピンは前記支持部に固定され、前記回転機構は前記支持部の回転軸を回転させて前記受渡部を回転させることを特徴とする有機ELデバイス製造装置。 - 基板を載置する蒸着ステージを有し、前記蒸着ステージに複数の受けピンを介して前記基板を水平状態で受渡しする受渡部と、前記蒸着ステージを回転させて略直立または直立姿勢にする回転機構と、真空チャンバ内で前記略直立姿勢で前記基板に蒸着材料を蒸着する蒸着手段とを有する有機ELデバイス製造装置において、
前記受渡部は、前記蒸着ステージを上下させる昇降機構と、前記昇降機構を支持する支持部と、前記支持部の下部に設けられ、前記複数の受けピンを固定する固定部とを有し、前記回転機構は前記支持部の回転軸を回転させて前記蒸着ステージを回転させ、前記固定部は前記支持部と共に回転しないことを特徴とする有機ELデバイス製造装置。 - 前記昇降機構の内部は前記真空チャンバの真空と隔離され、前記内部は中空部を有する前記支持部と、前記回転軸及び前記回転機構とを介して大気に開放されていることを特徴とする請求項1または2に記載の有機ELデバイス製造装置。
- 前記昇降機構は前記支持部又は前記蒸着ステージの四隅に設けられていることを特徴とする請求項1または2に記載の有機ELデバイス製造装置。
- 前記昇降機構は駆動モータと、一端が蒸着ステージ側に固定されたボールネジと、前記昇降機構の前記駆動モータ側に固定されたナットと、を有することを特徴とする請求項1または2に記載の有機ELデバイス製造装置。
- 前記略直立姿勢または直立姿勢において、前記昇降機構が前記基板の蒸着パターンを規定するマスクに近接させる機構を兼ねることを特徴とする請求項1乃至5のいずれかに記載の有機ELデバイス製造装置。
- 複数の受けピンを介して基板を水平状態の蒸着ステージで受渡し、前記蒸着ステージを
回転させて略直立姿勢または直立姿勢にし、真空チャンバ内で前記基板に蒸着材料を蒸着
する有機ELデバイス製造方法において、
前記複数の受けピンの先端より上方に前記蒸着ステージを移動し、前記基板を前記複数
の受けピンから前記蒸着ステージに移載し、その状態で前記回転を行うことを特徴とする
有機ELデバイス製造方法。 - 前記基板と前記基板の蒸着パターンを規定するマスクとのアライメント後、前記蒸着ス
テージの昇降機構により前記基板を前記マスクに密着させることを特徴とする請求項7に
記載の有機ELデバイス製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2010193831A JP5492027B2 (ja) | 2010-08-31 | 2010-08-31 | 有機elデバイス製造装置及び製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2010193831A JP5492027B2 (ja) | 2010-08-31 | 2010-08-31 | 有機elデバイス製造装置及び製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2012054013A JP2012054013A (ja) | 2012-03-15 |
JP5492027B2 true JP5492027B2 (ja) | 2014-05-14 |
Family
ID=45907140
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2010193831A Expired - Fee Related JP5492027B2 (ja) | 2010-08-31 | 2010-08-31 | 有機elデバイス製造装置及び製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP5492027B2 (ja) |
Families Citing this family (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR101821926B1 (ko) * | 2017-06-02 | 2018-01-24 | 캐논 톡키 가부시키가이샤 | 진공 증착 장치 및 이를 사용한 디바이스 제조방법 |
KR101840976B1 (ko) * | 2017-07-26 | 2018-03-21 | 캐논 톡키 가부시키가이샤 | 이동체 지지장치와, 이를 포함한 진공 증착 장치 및 증착 방법 |
KR102014606B1 (ko) * | 2017-11-22 | 2019-08-26 | 캐논 톡키 가부시키가이샤 | 진공 증착 장치 및 이를 사용한 디바이스 제조방법 |
Family Cites Families (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP3153372B2 (ja) * | 1992-02-26 | 2001-04-09 | 東京エレクトロン株式会社 | 基板処理装置 |
JP4880941B2 (ja) * | 2005-08-02 | 2012-02-22 | 株式会社日立ハイテクノロジーズ | 真空搬送装置およびこれを備えた荷電粒子線検査装置 |
JP5173699B2 (ja) * | 2008-09-25 | 2013-04-03 | 株式会社日立ハイテクノロジーズ | 有機elデバイス製造装置 |
JP5171964B2 (ja) * | 2008-11-14 | 2013-03-27 | 株式会社アルバック | 有機薄膜蒸着装置、有機el素子製造装置、及び有機薄膜蒸着方法 |
JP5074429B2 (ja) * | 2009-01-16 | 2012-11-14 | 株式会社日立ハイテクノロジーズ | 成膜装置 |
JP2010157526A (ja) * | 2008-12-26 | 2010-07-15 | Ulvac Japan Ltd | アラインメント機能付き基板載置装置と、その基板載置装置を有する成膜装置 |
-
2010
- 2010-08-31 JP JP2010193831A patent/JP5492027B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2012054013A (ja) | 2012-03-15 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
KR101119748B1 (ko) | 유기 el 디바이스 제조 장치 및 유기 el 디바이스 제조 방법 및 성막 장치 및 성막 방법 | |
JP2011096393A (ja) | 有機elデバイス製造装置及びその製造方法並びに成膜装置及び成膜方法 | |
JP5074368B2 (ja) | 成膜装置 | |
JP5074429B2 (ja) | 成膜装置 | |
JP2009105081A (ja) | 基板処理装置 | |
TW201324675A (zh) | 有機電激發光裝置製造裝置 | |
JP5492027B2 (ja) | 有機elデバイス製造装置及び製造方法 | |
JP6497688B2 (ja) | 移動体支持装置と、これを含む真空蒸着装置及び蒸着方法 | |
JP4838357B2 (ja) | 真空搬送装置 | |
KR20220053535A (ko) | 성막 장치, 유기 디바이스의 제조 장치, 및 유기 디바이스의 제조 방법 | |
CN103770429A (zh) | 薄膜层压装置及利用它的有机发光显示装置的制造方法 | |
CN110578117B (zh) | 基板旋转装置、基板旋转方法及电子装置的制造方法 | |
KR101409808B1 (ko) | 기판처리시스템 | |
JP6487266B2 (ja) | 製造システム | |
JP5277015B2 (ja) | 有機elデバイス製造装置及び成膜装置並びにシャドウマスク交換装置 | |
KR101203894B1 (ko) | 기판 그립 장치 | |
KR101407413B1 (ko) | 카세트 핸들링 장치를 구비하는 카세트 공급시스템 | |
JP2014070242A (ja) | 真空蒸着装置及び真空蒸着方法 | |
JP2011233938A (ja) | 真空処理装置およびこれを用いた基板搬送方法 | |
JP7446169B2 (ja) | 基板搬送装置、基板処理システム、基板搬送方法、電子デバイスの製造方法、プログラム及び記憶媒体 | |
JP2003347393A (ja) | 基板保持装置、及びその基板保持装置を用いた真空処理装置 | |
JP2019040947A (ja) | 基板処理装置及び基板搬送方法 | |
KR20140118248A (ko) | 기판 처리장치 | |
JP2013110114A (ja) | 有機elデバイス製造装置及び角度補正機構 | |
JP2013247040A (ja) | 有機elデバイス製造装置及び有機elデバイス製造方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20130129 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20130723 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20131119 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20140109 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20140204 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20140228 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 5492027 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |