JP2011086875A - 塗布装置 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】搬送面上にて基板Sを浮上させた状態で順次搬送する基板搬送系2と、基板Sに液状体を塗布する塗布系3とを備える塗布装置1である。基板搬送系2は、複数の基板Sをそれぞれ保持する複数の保持部60a,61aと、複数の保持部60a,61aのそれぞれを駆動する駆動部と、を備えている。そして、複数の保持部60a,61aは、それぞれ基板Sの搬送方向に沿う同じ側の側部を保持する。
【選択図】図4
Description
この構成によれば、保持部を順次基板にアクセスさせることができ、複数の基板を順次搬送することができる。
また、前記進退機構は、前記複数の保持部のうち前記基板を保持しない保持部を、前記基板を搬送中の保持部の搬送経路から退避するように移動させるようになっている。
これにより、複数の保持部同士が接触することがなく、保持部をそれぞれ基板にアクセスさせることができる。
この構成によれば、上下動作により他の保持部との接触を避けつつ、基板に対してアクセスすることができる。
この構成によれば、搬送面と平行な面上を移動することで他の保持部との接触を避けつつ、基板に対してアクセスすることができる。
この構成によれば、吸着部が基板に対して変位可能とされるので、吸着部により基板に確実に吸着することができる。
この構成によれば、蛇腹構造により吸着部を基板の浮上量に追従させることができる。よって、吸着部により基板に確実に吸着することができる。
この構成によれば、保持部は複数の吸着部によって基板の搬送方向に沿う複数点で保持するので、基板を確実に保持できる。
この構成によれば、保持部が位置規制部材を備えるので、保持部が保持する基板の位置ズレを防止することができる。
この構成によれば、位置規制部材により基板の下方への撓みを規制することができる。よって、水平状態を保持した状態で基板を良好に搬送することができ、均一な膜厚の塗布膜を形成することができる。
この構成によれば、保持部が基板を良好に保持できるので、基板上に塗布される液状体を乾燥固化させた膜にムラが生じるのを防止できる。
図1は本実施形態に係る塗布装置1の斜視図である。
図1に示すように、本実施形態に係る塗布装置1は、例えば液晶パネルなどに用いられるガラス基板上にレジストを塗布する塗布装置であり、基板搬送部(基板搬送系)2と、塗布部(塗布系)3と、管理部4とを主要な構成要素としている。この塗布装置1は、基板搬送部(基板搬送系)2によって基板を浮上させて搬送しつつ塗布部(塗布系)3によって当該基板上にレジストが塗布されるようになっており、管理部4によって塗布部3の状態が管理されるようになっている。
まず、基板搬送部2の構成を説明する。
基板搬送部2は、基板搬入領域20と、塗布処理領域21と、基板搬出領域22と、搬送機構23と、これらを支持するフレーム部24とを有している。この基板搬送部2では、搬送機構23によって基板Sが基板搬入領域20、塗布処理領域21及び基板搬出領域22へと順に搬送されるようになっている。基板搬入領域20、塗布処理領域21及び基板搬出領域22は、基板搬送方向の上流側から下流側へこの順で配列されている。搬送機構23は、基板搬入領域20、塗布処理領域21及び基板搬出領域22の各部に跨るように当該各部の一側方に設けられている。
搬入側ステージ25は、フレーム部24の上部に設けられており、例えばSUSなどからなる平面視で矩形の板状部材である。この搬入側ステージ25は、X方向が長手になっている。搬入側ステージ25には、エア噴出孔25aと、昇降ピン出没孔25bとがそれぞれ複数設けられている。これらエア噴出孔25a及び昇降ピン出没孔25bは、搬入側ステージ25を貫通するように設けられている。
処理ステージ27は、ステージ表面(搬送面)27cが例えば硬質アルマイトを主成分とする光吸収材料で覆われた平面視で矩形の板状部材であり、搬入側ステージ25に対して+X方向側に設けられている。処理ステージ27のうち光吸収材料で覆われた部分では、レーザ光などの光の反射が抑制されるようになっている。この処理ステージ27は、Y方向が長手になっている。処理ステージ27のY方向の寸法は、搬入側ステージ25のY方向の寸法とほぼ同一になっている。処理ステージ27には、ステージ表面27c上にエアを噴出する複数のエア噴出孔27aと、ステージ表面27c上のエアを吸引する複数のエア吸引孔27bとが設けられている。これらエア噴出孔27a及びエア吸引孔27bは、処理ステージ27を貫通するように設けられている。また、処理ステージ27の内部には、エア噴出孔27a及びエア吸引孔27bを通過する気体の圧力に抵抗を与えるための図示しない溝が複数設けられている。この複数の溝は、ステージ内部においてエア噴出孔27a及びエア吸引孔27bに接続されている。
なお、隣接する真空パッド60bの間に凸部66aが配置される構成、すなわち各真空パッド60bの四方を凸部66aが囲むようにしてもよい。
次に、塗布部3の構成を説明する。
塗布部3は、基板S上にレジストを塗布する部分であり、門型フレーム31と、ノズル32とを有している。
門型フレーム31は、支柱部材31aと、架橋部材31bとを有しており、処理ステージ27をY方向に跨ぐように設けられている。支柱部材31aは処理ステージ27のY方向側に1つずつ設けられており、各支柱部材31aがフレーム部24のY方向側の両側面にそれぞれ支持されている。各支柱部材31aは、上端部の高さ位置が揃うように設けられている。架橋部材31bは、各支柱部材31aの上端部の間に架橋されており、当該支柱部材31aに対して昇降可能となっている。
管理部4の構成を説明する。
管理部4は、基板Sに吐出されるレジスト(液状体)の吐出量が一定になるようにノズル32を管理する部位であり、基板搬送部2のうち塗布部3に対して−X方向側(基板搬送方向の上流側)に設けられている。この管理部4は、予備吐出機構41と、ディップ槽42と、ノズル洗浄装置43と、これらを収容する収容部44と、当該収容部を保持する保持部材45とを有している。保持部材45は、移動機構45aに接続されている。当該移動機構45aにより、収容部44がX方向に移動可能になっている。
図6〜図8は、塗布装置1の動作過程を示す平面図である。各図を参照して、基板Sにレジストを塗布する動作を説明する。この動作では、基板Sを基板搬入領域20に搬入し、当該基板Sを浮上させて搬送しつつ塗布処理領域21でレジストを塗布し、当該レジストを塗布した基板Sを基板搬出領域22から搬出する。図6〜図8には門型フレーム31及び管理部4の輪郭のみを破線で示し、ノズル32及び処理ステージ27の構成を判別しやすくした。以下、各部分における詳細な動作を説明する。
例えば、上記実施形態では、第一搬送機構60及び第二搬送機構61が、それぞれ搬送機60a、61aを一個ずつ備えた構成について説明したが、本発明はこれに限定されることはない。例えば、図11に示すように、第一搬送機構60としてレール60cに搬送機60aが3個設けられた構成とすることができる。なお、図11においては、図示を省略するものの、第二搬送機構61についても搬送機61aを3個備えた構成とすることができる。また、本説明では、搬送機60a、61aが3個ずつ備える構成について説明するが、本発明はこれに限定されることは無く、搬送機60a、61aを2個ずつ、或いは4個以上ずつ備える構成についても適用可能である。
これら搬送機161、162、163は、基板Sの搬送時においてはそれぞれが同期した状態でレール60c上を移動する。また、各搬送機161、162、163は、基板Sの非搬送時においては、レール60c上でそれぞれ独立に移動可能となっている。この構成によれば、搬送する基板Sの長さに応じて各搬送機161、162、163における基板Pの保持位置を任意に設定することができる。
Claims (11)
- 搬送面上にて基板を浮上させた状態で順次搬送する基板搬送系と、前記基板に液状体を塗布する塗布系とを備える塗布装置であって、
前記基板搬送系は、複数の前記基板をそれぞれ保持する複数の保持部と、前記複数の保持部のそれぞれを駆動する駆動部と、を備え、
前記複数の保持部は、それぞれ前記基板の搬送方向に沿う同じ側の側部を保持することを特徴とする塗布装置。 - 前記駆動部は、前記保持部を前記基板に対して進退可能に移動させる進退機構を有することを特徴とする請求項1に記載の塗布装置。
- 前記進退機構は、前記複数の保持部のうち前記基板を保持しない保持部を、前記基板を搬送中の保持部の搬送経路から退避するように移動させることを特徴とする請求項2に記載の塗布装置。
- 前記進退機構は、前記保持部を上下方向に移動させる請求項2又は3に記載の塗布装置。
- 前記進退機構は、前記保持部を前記搬送面と平行な面上に沿って移動させる請求項2又は3に記載の塗布装置。
- 前記保持部の各々は、前記基板を吸着する吸着部を有し、該吸着部は前記基板に対して変位可能とされることを特徴とする請求項1〜5のいずれか一項に記載の塗布装置。
- 前記吸着部は蛇腹構造を有することを特徴とする請求項6に記載の塗布装置。
- 前記保持部の各々は、前記基板の搬送方向に沿って設けられる複数の前記吸着部を有することを特徴とする請求項6又は7に記載の塗布装置。
- 前記保持部は、前記基板の位置を規制する位置規制部材を備えることを特徴とする請求項1〜8のいずれか一項に記載の塗布装置。
- 前記位置規制部材は、前記保持部に保持された前記基板の下方への撓みを規制するストッパーを含むことを特徴とする請求項9に記載の塗布装置。
- 前記保持部は、前記基板の搬送方向前方側の端部から250mm以内を保持することを特徴とする請求項1〜10のいずれか一項に記載の塗布装置。
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