JP6777221B2 - 弾性波装置 - Google Patents
弾性波装置 Download PDFInfo
- Publication number
- JP6777221B2 JP6777221B2 JP2019507612A JP2019507612A JP6777221B2 JP 6777221 B2 JP6777221 B2 JP 6777221B2 JP 2019507612 A JP2019507612 A JP 2019507612A JP 2019507612 A JP2019507612 A JP 2019507612A JP 6777221 B2 JP6777221 B2 JP 6777221B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- electrode
- film
- elastic wave
- idt electrode
- wave device
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 34
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims description 25
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims description 25
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 24
- 230000001902 propagating effect Effects 0.000 claims description 11
- 229910052814 silicon oxide Inorganic materials 0.000 claims description 5
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 229910052750 molybdenum Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 229910052715 tantalum Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 229910052737 gold Inorganic materials 0.000 claims description 3
- GQYHUHYESMUTHG-UHFFFAOYSA-N lithium niobate Chemical compound [Li+].[O-][Nb](=O)=O GQYHUHYESMUTHG-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 229910052697 platinum Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 229910052721 tungsten Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 229910004298 SiO 2 Inorganic materials 0.000 description 25
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 10
- WSMQKESQZFQMFW-UHFFFAOYSA-N 5-methyl-pyrazole-3-carboxylic acid Chemical compound CC1=CC(C(O)=O)=NN1 WSMQKESQZFQMFW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052581 Si3N4 Inorganic materials 0.000 description 2
- PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N aluminium oxide Inorganic materials [O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3] PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 239000007772 electrode material Substances 0.000 description 2
- HQVNEWCFYHHQES-UHFFFAOYSA-N silicon nitride Chemical compound N12[Si]34N5[Si]62N3[Si]51N64 HQVNEWCFYHHQES-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910013641 LiNbO 3 Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 description 1
- 230000008878 coupling Effects 0.000 description 1
- 238000010168 coupling process Methods 0.000 description 1
- 238000005859 coupling reaction Methods 0.000 description 1
- 238000010030 laminating Methods 0.000 description 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 1
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 1
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 1
- LIVNPJMFVYWSIS-UHFFFAOYSA-N silicon monoxide Chemical compound [Si-]#[O+] LIVNPJMFVYWSIS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000006467 substitution reaction Methods 0.000 description 1
- 230000001629 suppression Effects 0.000 description 1
Images
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H03—ELECTRONIC CIRCUITRY
- H03H—IMPEDANCE NETWORKS, e.g. RESONANT CIRCUITS; RESONATORS
- H03H9/00—Networks comprising electromechanical or electro-acoustic devices; Electromechanical resonators
- H03H9/0004—Impedance-matching networks
- H03H9/0009—Impedance-matching networks using surface acoustic wave devices
-
- H—ELECTRICITY
- H03—ELECTRONIC CIRCUITRY
- H03H—IMPEDANCE NETWORKS, e.g. RESONANT CIRCUITS; RESONATORS
- H03H9/00—Networks comprising electromechanical or electro-acoustic devices; Electromechanical resonators
- H03H9/02—Details
- H03H9/125—Driving means, e.g. electrodes, coils
- H03H9/145—Driving means, e.g. electrodes, coils for networks using surface acoustic waves
- H03H9/14538—Formation
-
- H—ELECTRICITY
- H03—ELECTRONIC CIRCUITRY
- H03H—IMPEDANCE NETWORKS, e.g. RESONANT CIRCUITS; RESONATORS
- H03H9/00—Networks comprising electromechanical or electro-acoustic devices; Electromechanical resonators
- H03H9/02—Details
- H03H9/02535—Details of surface acoustic wave devices
- H03H9/02543—Characteristics of substrate, e.g. cutting angles
- H03H9/02574—Characteristics of substrate, e.g. cutting angles of combined substrates, multilayered substrates, piezoelectrical layers on not-piezoelectrical substrate
-
- H—ELECTRICITY
- H03—ELECTRONIC CIRCUITRY
- H03H—IMPEDANCE NETWORKS, e.g. RESONANT CIRCUITS; RESONATORS
- H03H9/00—Networks comprising electromechanical or electro-acoustic devices; Electromechanical resonators
- H03H9/02—Details
- H03H9/02535—Details of surface acoustic wave devices
- H03H9/02818—Means for compensation or elimination of undesirable effects
-
- H—ELECTRICITY
- H03—ELECTRONIC CIRCUITRY
- H03H—IMPEDANCE NETWORKS, e.g. RESONANT CIRCUITS; RESONATORS
- H03H9/00—Networks comprising electromechanical or electro-acoustic devices; Electromechanical resonators
- H03H9/02—Details
- H03H9/02535—Details of surface acoustic wave devices
- H03H9/02818—Means for compensation or elimination of undesirable effects
- H03H9/02858—Means for compensation or elimination of undesirable effects of wave front distortion
-
- H—ELECTRICITY
- H03—ELECTRONIC CIRCUITRY
- H03H—IMPEDANCE NETWORKS, e.g. RESONANT CIRCUITS; RESONATORS
- H03H9/00—Networks comprising electromechanical or electro-acoustic devices; Electromechanical resonators
- H03H9/02—Details
- H03H9/02535—Details of surface acoustic wave devices
- H03H9/02818—Means for compensation or elimination of undesirable effects
- H03H9/02881—Means for compensation or elimination of undesirable effects of diffraction of wave beam
-
- H—ELECTRICITY
- H03—ELECTRONIC CIRCUITRY
- H03H—IMPEDANCE NETWORKS, e.g. RESONANT CIRCUITS; RESONATORS
- H03H9/00—Networks comprising electromechanical or electro-acoustic devices; Electromechanical resonators
- H03H9/02—Details
- H03H9/125—Driving means, e.g. electrodes, coils
- H03H9/145—Driving means, e.g. electrodes, coils for networks using surface acoustic waves
- H03H9/14544—Transducers of particular shape or position
-
- H—ELECTRICITY
- H03—ELECTRONIC CIRCUITRY
- H03H—IMPEDANCE NETWORKS, e.g. RESONANT CIRCUITS; RESONATORS
- H03H9/00—Networks comprising electromechanical or electro-acoustic devices; Electromechanical resonators
- H03H9/46—Filters
- H03H9/64—Filters using surface acoustic waves
- H03H9/6489—Compensation of undesirable effects
-
- H—ELECTRICITY
- H03—ELECTRONIC CIRCUITRY
- H03H—IMPEDANCE NETWORKS, e.g. RESONANT CIRCUITS; RESONATORS
- H03H9/00—Networks comprising electromechanical or electro-acoustic devices; Electromechanical resonators
- H03H9/25—Constructional features of resonators using surface acoustic waves
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- Acoustics & Sound (AREA)
- Surface Acoustic Wave Elements And Circuit Networks Thereof (AREA)
Description
2…圧電性基板
3…IDT電極
4,5…反射器
6,7…第1,第2のバスバー
8,9…第1,第2の電極指
10,11…第1,第2のダミー電極指
13…誘電体膜
13a〜13c…誘電体膜部分
22…圧電性基板
22a…支持基板
22b…高音速材料層
22c…低音速材料層
22d…圧電膜
23…誘電体膜
23a〜23e…誘電体膜部分
Claims (9)
- 逆速度面が楕円形である圧電性基板と、
前記圧電性基板上に設けられたIDT電極と、
前記IDT電極を覆うように前記圧電性基板上に設けられた誘電体膜とを備え、レイリー波を利用しており、
前記IDT電極が、複数本の第1の電極指と、前記複数本の第1の電極指と間挿し合っている複数本の第2の電極指とを有し、前記第1及び第2の電極指の延伸方向と直交する方向が弾性波伝搬方向であり、前記第1の電極指と前記第2の電極指を弾性波伝搬方向からみたときに重なり合っている領域を交差領域とし、前記第1,第2の電極指の延伸方向を交差幅方向とし、前記IDT電極における電極密度(Mg/m 3 )をy(Mg/m 3 )、前記IDT電極の波長規格化膜厚100h/λ(%)(hは厚み、λはIDT電極の電極指ピッチで定まる波長)をx(%)とした場合、前記IDT電極の電極密度yに応じて前記IDT電極の波長規格化膜厚xがy=0.3452x2−6.0964x+36.262…式(1)を満たすx以上とされており、前記IDT電極の前記交差領域が、前記交差幅方向中央の中央領域と、前記中央領域の交差幅方向一方外側及び他方外側に設けられた第1,第2のエッジ領域とを有し、前記第1,第2のエッジ領域上における前記誘電体膜の膜厚が、前記中央領域における前記誘電体膜の膜厚に比べて薄くされており、
前記誘電体膜が酸化ケイ素膜である、弾性波装置。 - 前記IDT電極が、複数の金属膜が積層されている積層金属膜からなり、前記yが、前記積層金属膜の密度である、請求項1に記載の弾性波装置。
- 前記IDT電極の前記第1,第2のエッジ領域の前記交差幅方向外側に、前記第1,第2のエッジ領域における前記誘電体膜の膜厚よりも、前記誘電体膜の膜厚が厚い領域が設けられている、請求項1〜3のいずれか1項に記載の弾性波装置。
- 前記第1,第2のエッジ領域の前記交差幅方向外側に、前記第1の電極指または前記第2の電極指の一方のみが存在する第1,第2のギャップ領域が設けられている、請求項1〜4のいずれか1項に記載の弾性波装置。
- 前記第1の電極指の先端と前記第2のギャップ領域を隔てて先端が対向している第1のダミー電極指と、前記第2の電極指の先端と前記第1のギャップ領域を隔てて先端が対向している第2のダミー電極指とをさらに備え、前記第1,第2のギャップ領域の前記交差幅方向外側に、それぞれ、第1,第2のダミー領域が設けられている、請求項5に記載の弾性波装置。
- 前記圧電性基板がニオブ酸リチウムからなる、請求項1〜6のいずれか1項に記載の弾性波装置。
- 前記圧電性基板が、圧電膜と、前記圧電膜に直接または間接に積層されており、前記圧電膜を伝搬する弾性波よりも伝搬するバルク波の音速が高速である、高音速材料からなる高音速材料層とを備える、請求項1〜7のいずれか1項に記載の弾性波装置。
- 前記圧電膜と前記高音速材料層との間に積層されており、伝搬するバルク波の音速が、前記圧電膜を伝搬する弾性波の音速よりも低速である、低音速材料層をさらに備える、請求項8に記載の弾性波装置。
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2017057275 | 2017-03-23 | ||
JP2017057275 | 2017-03-23 | ||
PCT/JP2018/010227 WO2018173918A1 (ja) | 2017-03-23 | 2018-03-15 | 弾性波装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPWO2018173918A1 JPWO2018173918A1 (ja) | 2020-01-16 |
JP6777221B2 true JP6777221B2 (ja) | 2020-10-28 |
Family
ID=63586453
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2019507612A Active JP6777221B2 (ja) | 2017-03-23 | 2018-03-15 | 弾性波装置 |
Country Status (5)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US11621687B2 (ja) |
JP (1) | JP6777221B2 (ja) |
KR (1) | KR102306238B1 (ja) |
CN (1) | CN110419161B (ja) |
WO (1) | WO2018173918A1 (ja) |
Families Citing this family (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2020145567A (ja) * | 2019-03-06 | 2020-09-10 | 株式会社村田製作所 | 弾性波装置 |
DE102019119239A1 (de) * | 2019-07-16 | 2021-01-21 | RF360 Europe GmbH | Multiplexer |
JP2023123880A (ja) * | 2020-05-27 | 2023-09-06 | 株式会社村田製作所 | 弾性波装置 |
CN115242206B (zh) * | 2022-09-22 | 2023-02-07 | 杭州左蓝微电子技术有限公司 | 叉指换能器指条成型工艺以及声表滤波器 |
CN115642895B (zh) * | 2022-11-10 | 2024-05-28 | 锐石创芯(重庆)科技有限公司 | 声表面波器件、滤波器及电子设备 |
CN116232268B (zh) * | 2023-02-07 | 2024-07-02 | 锐石创芯(重庆)科技有限公司 | 弹性波装置、滤波器及电子设备 |
Family Cites Families (11)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP5115184B2 (ja) | 2007-12-25 | 2013-01-09 | パナソニック株式会社 | 弾性境界波デバイス、及びそれを用いたフィルタ、アンテナ共用器 |
US8698578B2 (en) * | 2009-05-27 | 2014-04-15 | Panasonic Corporation | Acoustic wave resonator and duplexer using same |
DE102010005596B4 (de) * | 2010-01-25 | 2015-11-05 | Epcos Ag | Elektroakustischer Wandler mit verringerten Verlusten durch transversale Emission und verbesserter Performance durch Unterdrückung transversaler Moden |
DE102010053674B4 (de) * | 2010-12-07 | 2017-08-24 | Snaptrack Inc. | Elektroakustischer Wandler |
KR101534654B1 (ko) * | 2010-12-24 | 2015-07-07 | 가부시키가이샤 무라타 세이사쿠쇼 | 탄성파 장치 및 그 제조 방법 |
JPWO2012127793A1 (ja) * | 2011-03-22 | 2014-07-24 | パナソニック株式会社 | 弾性波素子 |
JP5697751B2 (ja) * | 2011-03-25 | 2015-04-08 | スカイワークス・パナソニック フィルターソリューションズ ジャパン株式会社 | 高次横モード波を抑制した弾性波デバイス |
JP5835480B2 (ja) * | 2012-06-22 | 2015-12-24 | 株式会社村田製作所 | 弾性波装置 |
JP2014187568A (ja) * | 2013-03-25 | 2014-10-02 | Panasonic Corp | 弾性波装置 |
JP5861809B1 (ja) * | 2014-05-26 | 2016-02-16 | 株式会社村田製作所 | 弾性波装置 |
US10355668B2 (en) * | 2015-01-20 | 2019-07-16 | Taiyo Yuden Co., Ltd. | Acoustic wave device |
-
2018
- 2018-03-15 CN CN201880017679.1A patent/CN110419161B/zh active Active
- 2018-03-15 KR KR1020197027057A patent/KR102306238B1/ko active IP Right Grant
- 2018-03-15 JP JP2019507612A patent/JP6777221B2/ja active Active
- 2018-03-15 WO PCT/JP2018/010227 patent/WO2018173918A1/ja active Application Filing
-
2019
- 2019-09-11 US US16/566,987 patent/US11621687B2/en active Active
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
CN110419161B (zh) | 2023-03-03 |
JPWO2018173918A1 (ja) | 2020-01-16 |
US20200007107A1 (en) | 2020-01-02 |
US11621687B2 (en) | 2023-04-04 |
KR102306238B1 (ko) | 2021-09-30 |
WO2018173918A1 (ja) | 2018-09-27 |
KR20190115081A (ko) | 2019-10-10 |
CN110419161A (zh) | 2019-11-05 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP6777221B2 (ja) | 弾性波装置 | |
JP5861809B1 (ja) | 弾性波装置 | |
JP6819834B1 (ja) | 弾性波装置 | |
JP6354839B2 (ja) | 弾性波フィルタ装置 | |
JP6281639B2 (ja) | 弾性波装置 | |
JP2019080093A (ja) | 弾性波装置 | |
JPWO2020100744A1 (ja) | 弾性波装置 | |
JP2022126852A5 (ja) | ||
JP6680358B2 (ja) | 弾性波装置 | |
JP7231015B2 (ja) | 弾性波装置 | |
JP2014187568A (ja) | 弾性波装置 | |
WO2006109591A1 (ja) | 弾性波素子 | |
WO2020250572A1 (ja) | 弾性波装置 | |
WO2015182521A1 (ja) | 弾性波装置及びラダー型フィルタ | |
WO2017077892A1 (ja) | 弾性波装置 | |
JP6798621B2 (ja) | 弾性波装置 | |
JPWO2020184466A1 (ja) | 弾性波装置 | |
JP2015056746A (ja) | 弾性波装置 | |
WO2023002823A1 (ja) | 弾性波装置 | |
WO2022202917A1 (ja) | 弾性波装置 | |
WO2023002790A1 (ja) | 弾性波装置 | |
WO2022025039A1 (ja) | 弾性波装置 | |
WO2022054773A1 (ja) | 弾性波装置 | |
JP2011041082A (ja) | 一ポート型弾性波共振子及び弾性波フィルタ装置 | |
WO2022025040A1 (ja) | 弾性波装置 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20190918 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20200526 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20200721 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20200908 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20200921 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 6777221 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |