JP6748083B2 - 新規化合物、潜在性添加剤及び該添加剤を含有する組成物 - Google Patents
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Description
R11及びR12は、それぞれ独立に、水素原子、置換基を有している場合もある炭素原子数1〜20のアルキル基、置換基を有している場合もある炭素原子数6〜20のアリール基、置換基を有している場合もある炭素原子数7〜20のアリールアルキル基又は置換基を有している場合もある炭素原子数2〜20の複素環含有基を表し、
R5、R6、R7、R8、R9及びR10は、それぞれ独立に、ハロゲン原子、シアノ基、水酸基、ニトロ基、カルボキシル基、置換基を有している場合もある炭素原子数1〜20のアルキル基、置換基を有している場合もある炭素原子数6〜20のアリール基、置換基を有している場合もある炭素原子数7〜20のアリールアルキル基又は置換基を有している場合もある炭素原子数2〜20の複素環含有基を表し、
複数のR5同士、R6同士、R7同士及びR8同士は結合してベンゼン環又はナフタレン環を形成していてる場合もあり、
複数のR5、R6、R7、R8、R9及びR10はそれぞれ同じか異なっている場合もあり、
X1は、直接結合、置換基を有している場合もある炭素原子数1〜4のアルキレン基、置換基を有している場合もある炭素原子数3〜20の脂環式炭化水素基、−O−、−S−、−SO2−、−SS−、−SO−、−CO−、−OCO−又は下記式(I−1)、(I−2)若しくは(I−3)で表される置換基を表し、
a、b、c及びdは、それぞれ独立に、0〜4の整数を表し、e及びfは、それぞれ独立に、0〜9の整数を表す。)
R72は置換基を有している場合もある炭素原子数1〜10のアルキル基、置換基を有している場合もある炭素原子数1〜10のアルコキシ基、置換基を有している場合もある炭素原子数2〜10のアルケニル基又はハロゲン原子を表し、
iは0〜4の整数である。)
R73は、隣接するR73同士で環を形成している場合もあり、
pは0〜4の数を表し、
qは0〜8の数を表し、
gは0〜4の数を表し、
hは0〜4の数を表し、
gとhの数の合計は2〜4である。)
R1、R2、R3、R4、R5、R6、R7、R8、R9、R10、R11及びR12で表される炭素原子数6〜20のアリール基としては、フェニル、ナフチル、アントラセニル等が挙げられる。
R1、R2、R3、R4、R5、R6、R7、R8、R9、R10、R11及びR12で表される炭素原子数7〜20のアリールアルキル基としては、ベンジル、フェネチル、ジフェニルメチル、トリフェニルメチル、2−フェニルプロピル、3−フェニルプロピル、フルオレニル、インデニル、9−フルオレニルメチル基等が挙げられる。
R1、R2、R3、R4、R5、R6、R7、R8、R9、R10、R11及びR12で表される炭素原子数2〜20の複素環含有基としては、ピリジル、ピリミジル、ピリダジル、ピペリジル、ピラニル、ピラゾリル、トリアジル、ピロリル、キノリル、イソキノリル、イミダゾリル、ベンゾイミダゾリル、トリアゾリル、フリル、フラニル、ベンゾフラニル、チエニル、チオフェニル、ベンゾチオフェニル、チアジアゾリル、チアゾリル、ベンゾチアゾリル、オキサゾリル、ベンゾオキサゾリル、イソチアゾリル、イソオキサゾリル、インドリル、2−ピロリジノン−1−イル、2−ピペリドン−1−イル、2,4−ジオキシイミダゾリジン−3−イル、2,4−ジオキシオキサゾリジン−3−イル等、あるいは二価の結合基を介して複素環が結合している基等が挙げられる。
R1、R2、R3及びR4で表されるトリアルキルシリル基としては、トリメチルシラン、トリエチルシラン、エチルジメチルシラン等が挙げられる。
R5、R6、R7、R8、R9及びR10で表されるハロゲン原子としては、フッ素、塩素、臭素、ヨウ素が挙げられ、
R1、R2、R3、R4、R5、R6、R7、R8、R9、R10、R11及びR12で表される、炭素原子数1〜20のアルキル基、炭素原子数6〜20のアリール基、炭素原子数7〜20のアリールアルキル基又は炭素原子数2〜20の複素環含有基を置換する置換基としては、ビニル、アリル、アクリル、メタクリル等のエチレン性不飽和基;フッ素、塩素、臭素、ヨウ素等のハロゲン原子;アセチル、2−クロロアセチル、プロピオニル、オクタノイル、アクリロイル、メタクリロイル、フェニルカルボニル(ベンゾイル)、フタロイル、4−トリフルオロメチルベンゾイル、ピバロイル、サリチロイル、オキザロイル、ステアロイル、メトキシカルボニル、エトキシカルボニル、t−ブトキシカルボニル、n−オクタデシルオキシカルボニル、カルバモイル等のアシル基;アセチルオキシ、ベンゾイルオキシ等のアシルオキシ基;アミノ、エチルアミノ、ジメチルアミノ、ジエチルアミノ、ブチルアミノ、シクロペンチルアミノ、2−エチルヘキシルアミノ、ドデシルアミノ、アニリノ、クロロフェニルアミノ、トルイジノ、アニシジノ、N−メチル−アニリノ、ジフェニルアミノ,ナフチルアミノ、2−ピリジルアミノ、メトキシカルボニルアミノ、フェノキシカルボニルアミノ、アセチルアミノ、ベンゾイルアミノ、ホルミルアミノ、ピバロイルアミノ、ラウロイルアミノ、カルバモイルアミノ、N,N−ジメチルアミノカルボニルアミノ、N,N−ジエチルアミノカルボニルアミノ、モルホリノカルボニルアミノ、メトキシカルボニルアミノ、エトキシカルボニルアミノ、t−ブトキシカルボニルアミノ、n−オクタデシルオキシカルボニルアミノ、N−メチル−メトキシカルボニルアミノ、フェノキシカルボニルアミノ、スルファモイルアミノ、N,N−ジメチルアミノスルホニルアミノ、メチルスルホニルアミノ、ブチルスルホニルアミノ、フェニルスルホニルアミノ等の置換アミノ基;スルホンアミド基、スルホニル基、カルボキシル基、シアノ基、スルホ基、水酸基、ニトロ基、メルカプト基、イミド基、カルバモイル基、スルホンアミド基、ホスホン酸基、リン酸基又はカルボキシル基、スルホ基、ホスホン酸基、リン酸基の塩等が挙げられ、その置換位置は制限されない。
上記一般式(1)で表される化合物においては、R1、R2、R3及びR4が−CO−O−R11であるものが、溶解性が高く、潜在性添加剤として用いたとき、それを含有する組成物の硬化物の耐熱性が高いので好ましい。また、R11が、tert−ブチルであるものが、溶解性が高く、潜在性添加剤として用いたとき、それを含有する組成物の硬化物の耐熱性が高いので好ましい。
X1で表される炭素原子数3〜20の脂環式炭化水素基としては、シクロペンチル、シクロヘキシル、シクロペンチルメチル、シクロペンチルエチル、シクロヘキシルメチル、シクロヘキシルエチル等が挙げられる。
X1で表される炭素原子数1〜4のアルキレン基又は炭素原子数3〜20の脂環式炭化水素基を置換する置換基としては、上述した、R1、R2、R3、R4、R5、R6、R7、R8、R9、R10、R11及びR12で表される、炭素原子数1〜20のアルキル基、炭素原子数6〜20のアリール基、炭素原子数7〜20のアリールアルキル基又は炭素原子数2〜20の複素環含有基を置換する置換基として例示したものが挙げられる。
R72で表される炭素原子数1〜10のアルキル基及びハロゲン原子としては、上記一般式(1)の説明で例示したアルキル基及びハロゲン原子等が挙げられる。
R72で表される炭素原子数1〜10のアルコキシ基としては、メチルオキシ、エチルオキシ、iso−プロピルオキシ、ブチルオキシ、sec−ブチルオキシ、tert−ブチルオキシ、iso−ブチルオキシ、アミルオキシ、iso−アミルオキシ、tert−アミルオキシ、ヘキシルオキシ、2−ヘキシルオキシ、3−ヘキシルオキシ、シクロヘキシルオキシ、4−メチルシクロヘキシルオキシ、ヘプチルオキシ、2−ヘプチルオキシ、3−ヘプチルオキシ、iso−ヘプチルオキシ、tert−ヘプチルオキシ、1−オクチルオキシ、iso−オクチルオキシ、tert−オクチルオキシ等が挙げられる。
R72で表される炭素原子数2〜10のアルケニル基としては、ビニル、アリル、1−プロペニル、イソプロペニル、2−ブテニル、1,3−ブタジエニル、2−ペンテニル、2−オクテニル等が挙げられる。
R71で表される、フェニル基又は炭素原子数3〜10のシクロアルキル基、及びR72で表される炭素原子数1〜10のアルキル基、炭素原子数1〜10のアルコキシ基又は炭素原子数2〜10のアルケニル基を置換する置換基としては、上述した、R1、R2、R3、R4、R5、R6、R7、R8、R9、R10、R11及びR12で表される、炭素原子数1〜20のアルキル基、炭素原子数6〜20のアリール基、炭素原子数7〜20のアリールアルキル基又は炭素原子数2〜20の複素環含有基を置換する置換基として例示したものが挙げられる。
R73及びR74で表される炭素原子数6〜20のアリールオキシ基としては、フェニルオキシ、ナフチルオキシ、2−メチルフェニルオキシ、3−メチルフェニルオキシ、4−メチルフェニルオキシ、4−ビニルフェニル二オキシ、3−iso−プロピルフェニルオキシ、4−iso−プロピルフェニルオキシ、4−ブチルフェニルオキシ、4−tert−ブチルフェニルオキシ、4−へキシルフェニルオキシ、4−シクロヘキシルフェニルオキシ、4−オクチルフェニルオキシ、4−(2−エチルヘキシル)フェニルオキシ、2,3−ジメチルフェニルオキシ、2,4−ジメチルフェニルオキシ、2,5−ジメチルフェニルオキシ、2.6−ジメチルフェニルオキシ、3.4−ジメチルフェニルオキシ、3.5−ジメチルフェニルオキシ、2,4−ジーtert−ブチルフェニルオキシ、2,5−ジーtert−ブチルフェニルオキシ、2,6−ジーtert−ブチルフェニルオキシ、2.4−ジーtert−ペンチルフェニルオキシ、2,5−tert−アミルフェニルオキシ、4−シクロへキシルフェニルオキシ、2,4,5−トリメチルフェニルオキシ、フェロセニルオキシ等の基が挙げられる。
R73及びR74で表される炭素原子数6〜20のアリールチオ基としては、上記炭素原子数6〜20のアリールオキシ基の酸素原子を硫黄原子に置換した基等が挙げられる。
R73及びR74で表される炭素原子数8〜20のアリールアルケニル基としては、上記炭素原子数6−20のアリールオキシ基の酸素原子をビニル、アリル、1−プロペニル、イソプロペニル、2−ブテニル、1,3−ブタジエニル、2−ペンテニル、2−オクテニル等のアルケニル基で置換した基等が挙げられる。
隣接するR73同士が形成する環としては、シクロペンタン環、シクロヘキサン環、シクロペンテン環、ベンゼン環、ピペリジン環、モルホリン環、ラクトン環、ラクタム環等が挙げられる。
R73及びR74で表される、炭素原子数1〜10のアルキル基、炭素原子数6〜20のアリール基、炭素原子数6〜20のアリールオキシ基、炭素原子数6〜20のアリールチオ基、炭素原子数6〜20のアリールアルケニル基、炭素原子数7〜20のアリールアルキル基、炭素原子数2〜20の複素環含有基を置換する置換基としては、上述した、R1、R2、R3、R4、R5、R6、R7、R8、R9、R10、R11及びR12で表される、炭素原子数1〜20のアルキル基、炭素原子数6〜20のアリール基、炭素原子数7〜20のアリールアルキル基又は炭素原子数2〜20の複素環含有基を置換する置換基として例示したものが挙げられる。
本発明の潜在性添加剤は、上記一般式(1)である化合物を少なくとも一種以上含有する。
上記潜在性添加剤とは、常温あるいは150℃以下のプリベーク工程では不活性であり、100〜250℃で加熱するか、あるいは酸/塩基触媒存在下で80〜200℃で加熱することにより保護基が脱離して活性となるものである。
該酸価を有するエチレン性不飽和結合を有する重合性化合物としては、(メタ)アクリル酸、α―クロルアクリル酸、イタコン酸、マレイン酸、シトラコン酸、フマル酸、ハイミック酸、クロトン酸、イソクロトン酸、ビニル酢酸、アリル酢酸、桂皮酸、ソルビン酸、メサコン酸、コハク酸モノ[2−(メタ)アクリロイロキシエチル]、フタル酸モノ[2−(メタ)アクリロイロキシエチル]、ω−カルボキシポリカプロラクトンモノ(メタ)アクリレート等の両末端にカルボキシ基と水酸基とを有するポリマーのモノ(メタ)アクリレート、ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート・マレート、ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレート・マレート、ジシクロペンタジエン・マレート或いは1個のカルボキシル基と2個以上の(メタ)アクリロイル基とを有する多官能(メタ)アクリレート等の不飽和多塩基酸;フェノール及び/又はクレゾールノボラックエポキシ樹脂、ビフェニル骨格、ナフタレン骨格を有するノボラックエポキシ樹脂、ビスフェノールAノボラック型エポキシ化合物、ジシクロペンタジエンノボラック型エポキシ化合物等のノボラック型エポキシ化合物、多官能エポキシ基を有するポリフェニルメタン型エポキシ樹脂、下記一般式(I)で表されるエポキシ化合物等のエポキシ樹脂のエポキシ基に不飽和一塩基酸を作用させた樹脂、下記一般式(1)で表されるエポキシ化合物等のエポキシ樹脂のエポキシ基に不飽和一塩基酸を作用させ、更に多塩基酸無水物を作用させて得られた樹脂、ペンタエリスリトールトリアクリレート、ジペンタエリスリトールペンタアクリレート等の水酸基含有多官能アクリレートと無水コハク酸、無水フタル酸、テトラヒドロ無水フタル酸等の二塩基酸無水物の反応物である酸価を有する多官能アクリレート等が挙げられる。
R41、R42、R43及びR44は、それぞれ独立に、水素原子、置換基を有している場合もある炭素原子数1〜5のアルキル基、置換基を有している場合もある炭素原子数1〜8のアルコキシ基、置換基を有している場合もある炭素原子数2〜5のアルケニル基又はハロゲン原子を表し、
mは0〜10の整数である。)
その他、フェノールノボラック型エポキシ化合物、ビフェニルノボラック型エポキシ化合物、クレゾールノボラック型エポキシ化合物、ビスフェノールAノボラック型エポキシ化合物、ジシクロペンタジエンノボラック型エポキシ化合物等のノボラック型エポキシ化合物;3,4−エポキシ−6−メチルシクロヘキシルメチル−3,4−エポキシ−6−メチルシクロヘキサンカルボキシレート、3,4−エポキシシクロヘキシルメチル−3,4−エポキシシクロヘキサンカルボキシレート、1−エポキシエチル−3,4−エポキシシクロヘキサン等の脂環式エポキシ化合物;フタル酸ジグリシジルエステル、テトラヒドロフタル酸ジグリシジルエステル、ダイマー酸グリシジルエステル等のグリシジルエステル類;テトラグリシジルジアミノジフェニルメタン、トリグリシジル−p−アミノフェノール、N,N−ジグリシジルアニリン等のグリシジルアミン類;1,3−ジグリシジル−5,5−ジメチルヒダントイン、トリグリシジルイソシアヌレート等の複素環式エポキシ化合物;ジシクロペンタジエンジオキシド等のジオキシド化合物;ナフタレン型エポキシ化合物、トリフェニルメタン型エポキシ化合物、ジシクロペンタジエン型エポキシ化合物等を用いることもできる。
R53及びR54は、それぞれ独立に、ハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基、水酸基、カルボキシル基、R55、OR56、SR57、NR58R59、COR60、SOR61、SO2R62又はCONR63R64を表し、R53及びR54は、互いに結合して環を形成していてもよく、
R55、R56、R57、R58、R59、R60、R61、R62、R63及びR64は、それぞれ独立に、置換基を有している場合もある炭素原子数1〜20のアルキル基、置換基を有している場合もある炭素原子数6〜30のアリール基、置換基を有している場合もある炭素原子数7〜30のアリールアルキル基又は置換基を有している場合もある炭素原子数2〜20の複素環含有基を表し、
X2は、酸素原子、硫黄原子、セレン原子、CR75R76、CO、NR77又はPR78を表し、
X3は、単結合又はCOを表し、
R51、R52、R55、R56、R57、R58、R59、R60、R65、R66、R67及びR68中の炭素原子数1〜20のアルキル基、炭素原子数6〜30のアリール基又は炭素原子数7〜30のアリールアルキル基を表し、該アルキル基又はアリールアルキル基中のメチレン基は、ハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基、水酸基、カルボキシル基又は複素環含有基で置換されていてもよく、−O−で置き換えられていてもよく、
R53及びR54は、それぞれ独立に、隣接するどちらかのベンゼン環と一緒になって環を形成していてもよく、
aは、0〜4の整数を表し、
bは、0〜5の整数を表す。)
上記着色感光性組成物において、着色剤の含有量は、0.01〜50質量%が好ましく、0.1〜30質量%がより好ましい。
染料としては、380〜1200nmに吸収を有する化合物であれば特に限定されないが、例えば、アゾ化合物、アントラキノン化合物、インジゴイド化合物、トリアリールメタン化合物、キサンテン化合物、アリザリン化合物、アクリジン化合物、スチルベン化合物、チアゾール化合物、ナフトール化合物、キノリン化合物、ニトロ化合物、インダミン化合物、オキサジン化合物、フタロシアニン化合物、シアニン化合物、ジインモニウム化合物、シアノエテニル化合物、ジシアノスチレン化合物、ローダミン化合物、ペリレン化合物、ポリエンナフトラクタム化合物、クマリン化合物、スクアリリウム化合物、クロコニウム化合物、スピロピラン化合物、スピロオキサジン化合物、メロシアニン化合物、オキソノール化合物、スチリル化合物、ピリリウム化合物、ローダニン化合物、オキサゾロン化合物、フタルイミド化合物、シンノリン化合物、ナフトキノン化合物、アザアントラキノン化合物、ポルフィリン化合物、アザポルフィリン化合物、ピロメテン化合物、キナクリドン化合物、ジケトピロロピロール化合物、インジゴ化合物、アクリジン化合物、アジン化合物、アゾメチン化合物、アニリン化合物、キナクリドン化合物、キノフタロン化合物、キノンイミン化合物、イリジウム錯体化合物、ユーロピウム錯体化合物等の染料等が挙げられ、これらは複数を混合して用いてもよい。
上記マスクとしては、ハーフトーンマスク又はグレースケールマスク等の多階調マスクを用いることもできる。
フェノール化合物1当量の酢酸エチル溶液(理論収量の3倍量)に、室温で4−ジメチルアミノピリジン0.2当量を加え、10℃以下で二炭酸ジ−tert−ブチル5当量を滴下し、窒素雰囲気下、室温で2時間撹拌した。油水分離を行い、有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥後、溶媒を留去し、シリカゲルで減点成分を除去した後、晶析を行った。得られた固体を60℃で3時間減圧乾燥させ、目的物をそれぞれ得た。得られた固体が目的物であることは1H−NMR、IRにて確認した。結果を[表1]〜[表2]に示す。
SPC−1000(昭和電工社製、固形分29%のPGMEA溶液)50.9g、アロニックスM−450(東亜合成社製)11.9g、OXE−01(BASF社製)1.04g、PGMEA34.0g、FZ2122(東レ・ダウコーニング社製、固形分1%のPGMEA溶液)2.9g及び[表3]記載の化合物0.81gを混合し、不溶物が無くなるまで撹拌し、感光性組成物No.1〜No.3及び比較感光性組成物No.1〜No.2を得た。比較感光性組成物No.1で用いた比較化合物No.1は下記の比較化合物No.1を表す。
SPC−1000(昭和電工社製、固形分29%のPGMEA溶液)1.26g、アロニックスM−450(東亜合成社製)0.30g、OXE−01(BASF社製)0.03g、PGMEA0.85g、FZ2122(東レ・ダウコーニング社製、固形分1%のPGMEA溶液)0.08g及び[表3A]に記載の潜在性添加剤0.02gを混合し、不溶物が無くなるまで撹拌した。更に[表3A]に記載の着色剤0.05gにPGMEA0.95gを加えて撹拌して溶解させた着色剤溶液を加えて均一になるまで撹拌し、着色感光性組成物No.1〜No.3及び比較着色感光性組成物No.1〜No.3を得た。
実施例2−1〜2−3で調製した感光性組成物No.1〜No.3並びに比較例2−1〜2−2で調製した比較感光性組成物No.1〜No.2を、それぞれガラス基板に410rpm×7secの条件で塗工し、ホットプレートで乾燥(90℃、90sec)させた。得られた塗膜に超高圧水銀ランプで露光(150mJ/cm2)した。露光後の塗膜を、230℃×30minの条件で焼成した。焼成後の塗膜の400nmにおける透過率を測定して評価した。結果を[表4]に示す。
化合物No.1〜No.3並びに比較化合物No.1について、プロピレングリコール−1−モノメチルエーテル−2−アセテート(PGMEA)に対する溶解性の測定を行った。結果を[表5]に示す。
実施例3−1〜3−3で調製した着色感光性組成物No.1〜No.3並びに比較例3−1〜3−3で調製した比較着色感光性組成物No.1〜No.3を、それぞれガラス基板に410rpm×7secの条件で塗工し、ホットプレートで乾燥(90℃、90sec)させた。得られた塗膜に超高圧水銀ランプで露光(150mJ/cm2)した。露光後の塗膜を、230℃×30minの条件で焼成し、焼成前後の色差(ΔEab*)を調べた。結果を[表6]に示す。
Claims (10)
- 下記一般式(1)で表される化合物。
(式中、R1、R2、R3及びR4は、それぞれ独立に、−CO−O−R11又は−CO−S−R12を表し、
R11及びR12は、それぞれ独立に、置換基を有している場合もある炭素原子数1〜20のアルキル基、置換基を有している場合もある炭素原子数6〜20のアリール基、置換基を有している場合もある炭素原子数7〜20のアリールアルキル基、又は置換基を有している場合もある炭素原子数2〜20の複素環基を表し、
R5、R6、R7、R8、R9及びR10は、それぞれ独立に、ハロゲン原子、シアノ基、水酸基、ニトロ基、カルボキシル基、置換基を有している場合もある炭素原子数1〜20のアルキル基、置換基を有している場合もある炭素原子数6〜20のアリール基、置換基を有している場合もある炭素原子数7〜20のアリールアルキル基、又は置換基を有している場合もある炭素原子数2〜20の複素環基を表し、
複数のR5同士、R6同士、R7同士及びR8同士は結合してベンゼン環又はナフタレン環を形成していてる場合もあり、
複数のR5、R6、R7、R8、R9及びR10はそれぞれ同じか異なっている場合もあり、
X1は、直接結合、置換基を有している場合もある炭素原子数1〜4のアルキレン基、置換基を有している場合もある炭素原子数3〜20の脂環式炭化水素基、−O−、−S−、−SO2−、−SS−、−SO−、−CO−、−OCO−又は下記式(1−1)、(1−2)若しくは(1−3)で表される置換基を表し、
a、b、c及びdは、それぞれ独立に、0〜4の整数を表し、e及びfは、それぞれ独立に、0〜9の整数を表し、
R 1 、R 2 、R 3 、R 4 、R 5 、R 6 、R 7 、R 8 、R 9 、R 10 、R 11 及びR 12 で表される、炭素原子数1〜20のアルキル基、炭素原子数6〜20のアリール基、炭素原子数7〜20のアリールアルキル基又は炭素原子数2〜20の複素環基を置換する置換基は、エチレン性不飽和基、ハロゲン原子、アシル基、アシルオキシ基、置換アミノ基、スルホンアミド基、スルホニル基、カルボキシル基、シアノ基、スルホ基、ニトロ基、メルカプト基、イミド基、カルバモイル基、スルホンアミド基、ホスホン酸基若しくはリン酸基、又はカルボキシル基、スルホ基、ホスホン酸基若しくはリン酸基の塩である。)
(上記式中、R71は水素原子、置換基を有している場合もあるフェニル基、又は置換基を有している場合もある炭素原子数3〜10のシクロアルキル基を表し、
R72は置換基を有している場合もある炭素原子数1〜10のアルキル基、置換基を有している場合もある炭素原子数1〜10のアルコキシ基、置換基を有している場合もある炭素原子数2〜10のアルケニル基又はハロゲン原子を表し、
*は結合手を表し、
iは0〜4の整数である。)
(上記式中、*は結合手を表す。)
(上記式中、R73及びR74は、それぞれ独立に、置換基を有している場合もある炭素原子数1〜10のアルキル基、置換基を有している場合もある炭素原子数6〜20のアリール基、置換基を有している場合もある炭素原子数6〜20のアリールオキシ基、置換基を有している場合もある炭素原子数6〜20のアリールチオ基、置換基を有している場合もある炭素原子数6〜20のアリールアルケニル基、置換基を有している場合もある炭素原子数7〜20のアリールアルキル基、置換基を有している場合もある炭素原子数2〜20の複素環基又はハロゲン原子を表し、
*は結合手を表し、
R73は、隣接するR73同士でシクロペンタン環、シクロヘキサン環、シクロペンテン環、ベンゼン環、ピペリジン環、モルホリン環、ラクトン環又はラクタム環を形成している場合もあり、
pは0〜4の数を表し、
qは0〜8の数を表し、
gは0〜4の数を表し、
hは0〜4の数を表し、
gとhの数の合計は2〜4である。) - 上記一般式(1)中、R1、R2、R3及びR4が、−CO−O−R11で表される請求項1に記載の化合物。
- 請求項1又は2に記載の化合物の一種以上からなる潜在性酸化防止剤。
- 請求項3に記載の潜在性酸化防止剤を含有する硬化性感光性組成物。
- 酸価を有するエチレン性不飽和結合を有する重合性化合物及び光ラジカル重合開始剤を含有する、請求項4に記載の硬化性感光性組成物。
- 請求項4又は5に記載の硬化性感光性組成物の硬化物を用いて形成される透明積層体。
- 請求項4又は5に記載の硬化性感光性組成物の硬化物を用いて形成される透明構造体。
- 請求項6に記載の透明積層体又は請求項7に記載の透明構造体を少なくとも一部に具備してなる表示デバイス。
- 請求項4又は5に記載の硬化性感光性組成物及び着色剤を含有する着色感光性組成物。
- 請求項9に記載の着色感光性組成物の硬化物を用いて形成されるカラーフィルタ。
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