JP6667560B2 - ペースト組成物、ならびに焼成体およびその製造方法 - Google Patents
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- 239000000203 mixture Substances 0.000 title claims description 99
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 59
- 229920006243 acrylic copolymer Polymers 0.000 claims description 64
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M Acrylate Chemical compound [O-]C(=O)C=C NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims description 58
- 239000000178 monomer Substances 0.000 claims description 49
- -1 2-hydroxy-isobutyl Chemical group 0.000 claims description 46
- 238000010304 firing Methods 0.000 claims description 27
- 239000002904 solvent Substances 0.000 claims description 27
- 239000000843 powder Substances 0.000 claims description 25
- 239000002270 dispersing agent Substances 0.000 claims description 19
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 17
- CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-N Methacrylic acid Chemical compound CC(=C)C(O)=O CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 13
- WOBHKFSMXKNTIM-UHFFFAOYSA-N Hydroxyethyl methacrylate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCCO WOBHKFSMXKNTIM-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 12
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 claims description 9
- 229920001577 copolymer Polymers 0.000 claims description 8
- 238000001035 drying Methods 0.000 claims description 6
- 125000004435 hydrogen atom Chemical group [H]* 0.000 claims description 6
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 5
- PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N Styrene Chemical compound C=CC1=CC=CC=C1 PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 125000001495 ethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 claims description 4
- FPYJFEHAWHCUMM-UHFFFAOYSA-N maleic anhydride Chemical compound O=C1OC(=O)C=C1 FPYJFEHAWHCUMM-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 229910019142 PO4 Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 239000002202 Polyethylene glycol Substances 0.000 claims description 3
- 239000003985 ceramic capacitor Substances 0.000 claims description 3
- NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-K phosphate Chemical compound [O-]P([O-])([O-])=O NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-K 0.000 claims description 3
- 239000010452 phosphate Substances 0.000 claims description 3
- 229920001223 polyethylene glycol Polymers 0.000 claims description 3
- GIIUJJXXMYYQQD-UHFFFAOYSA-N (2,2,6,6-tetramethylpiperidin-1-yl) prop-2-enoate Chemical compound CC1(C)CCCC(C)(C)N1OC(=O)C=C GIIUJJXXMYYQQD-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- LBNDGEZENJUBCO-UHFFFAOYSA-N 2-[2-(2-methylprop-2-enoyloxy)ethyl]butanedioic acid Chemical compound CC(=C)C(=O)OCCC(C(O)=O)CC(O)=O LBNDGEZENJUBCO-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- QENRKQYUEGJNNZ-UHFFFAOYSA-N 2-methyl-1-(prop-2-enoylamino)propane-1-sulfonic acid Chemical compound CC(C)C(S(O)(=O)=O)NC(=O)C=C QENRKQYUEGJNNZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- UXTGJIIBLZIQPK-UHFFFAOYSA-N 3-(2-prop-2-enoyloxyethyl)phthalic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=CC(CCOC(=O)C=C)=C1C(O)=O UXTGJIIBLZIQPK-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- SXIFAEWFOJETOA-UHFFFAOYSA-N 4-hydroxy-butyl Chemical group [CH2]CCCO SXIFAEWFOJETOA-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- HRPVXLWXLXDGHG-UHFFFAOYSA-N Acrylamide Chemical compound NC(=O)C=C HRPVXLWXLXDGHG-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- SJIXRGNQPBQWMK-UHFFFAOYSA-N DEAEMA Natural products CCN(CC)CCOC(=O)C(C)=C SJIXRGNQPBQWMK-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 239000002253 acid Substances 0.000 claims description 2
- 125000003438 dodecyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 claims description 2
- 125000000959 isobutyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(C([H])([H])[H])C([H])([H])* 0.000 claims description 2
- 125000004108 n-butyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 claims description 2
- 229920001451 polypropylene glycol Polymers 0.000 claims description 2
- 229920002554 vinyl polymer Polymers 0.000 claims description 2
- 125000005504 styryl group Chemical group 0.000 claims 1
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 61
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 20
- 125000003545 alkoxy group Chemical group 0.000 description 16
- 125000000524 functional group Chemical group 0.000 description 16
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 description 15
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 description 15
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 description 15
- 238000007639 printing Methods 0.000 description 15
- ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 2-Butanone Chemical compound CCC(C)=O ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- 125000004104 aryloxy group Chemical group 0.000 description 11
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 10
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N Ethylene glycol Chemical compound OCCO LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 9
- OIWOHHBRDFKZNC-UHFFFAOYSA-N cyclohexyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OC1CCCCC1 OIWOHHBRDFKZNC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 description 9
- OZAIFHULBGXAKX-UHFFFAOYSA-N 2-(2-cyanopropan-2-yldiazenyl)-2-methylpropanenitrile Chemical compound N#CC(C)(C)N=NC(C)(C)C#N OZAIFHULBGXAKX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 102100026735 Coagulation factor VIII Human genes 0.000 description 8
- 101000911390 Homo sapiens Coagulation factor VIII Proteins 0.000 description 8
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 8
- 238000006116 polymerization reaction Methods 0.000 description 7
- RUMACXVDVNRZJZ-UHFFFAOYSA-N 2-methylpropyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(C)COC(=O)C(C)=C RUMACXVDVNRZJZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- ZZSNKZQZMQGXPY-UHFFFAOYSA-N Ethyl cellulose Chemical compound CCOCC1OC(OC)C(OCC)C(OCC)C1OC1C(O)C(O)C(OC)C(CO)O1 ZZSNKZQZMQGXPY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N Nickel Chemical compound [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- DNIAPMSPPWPWGF-UHFFFAOYSA-N Propylene glycol Chemical compound CC(O)CO DNIAPMSPPWPWGF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 239000000470 constituent Substances 0.000 description 6
- 229920002037 poly(vinyl butyral) polymer Polymers 0.000 description 6
- 238000007650 screen-printing Methods 0.000 description 6
- QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-M Acetate Chemical compound CC([O-])=O QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 5
- 239000001856 Ethyl cellulose Substances 0.000 description 5
- WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N Tetrahydrofuran Chemical group C1CCOC1 WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- IAXXETNIOYFMLW-GYSYKLTISA-N [(1r,3r,4r)-4,7,7-trimethyl-3-bicyclo[2.2.1]heptanyl] 2-methylprop-2-enoate Chemical compound C1C[C@@]2(C)[C@H](OC(=O)C(=C)C)C[C@@H]1C2(C)C IAXXETNIOYFMLW-GYSYKLTISA-N 0.000 description 5
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 description 5
- 238000009835 boiling Methods 0.000 description 5
- MTHSVFCYNBDYFN-UHFFFAOYSA-N diethylene glycol Chemical compound OCCOCCO MTHSVFCYNBDYFN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 229920001249 ethyl cellulose Polymers 0.000 description 5
- 235000019325 ethyl cellulose Nutrition 0.000 description 5
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 description 5
- 239000010954 inorganic particle Substances 0.000 description 5
- 239000000463 material Substances 0.000 description 5
- 125000004018 acid anhydride group Chemical group 0.000 description 4
- 150000001252 acrylic acid derivatives Chemical class 0.000 description 4
- 125000003277 amino group Chemical group 0.000 description 4
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 4
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 description 4
- 125000004122 cyclic group Chemical group 0.000 description 4
- 229910001873 dinitrogen Inorganic materials 0.000 description 4
- UODXCYZDMHPIJE-UHFFFAOYSA-N menthanol Chemical compound CC1CCC(C(C)(C)O)CC1 UODXCYZDMHPIJE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N n-Hexane Chemical compound CCCCCC VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000003505 polymerization initiator Substances 0.000 description 4
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 4
- SJMYWORNLPSJQO-UHFFFAOYSA-N tert-butyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OC(C)(C)C SJMYWORNLPSJQO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- DTGKSKDOIYIVQL-WEDXCCLWSA-N (+)-borneol Chemical group C1C[C@@]2(C)[C@@H](O)C[C@@H]1C2(C)C DTGKSKDOIYIVQL-WEDXCCLWSA-N 0.000 description 3
- DAFHKNAQFPVRKR-UHFFFAOYSA-N (3-hydroxy-2,2,4-trimethylpentyl) 2-methylpropanoate Chemical compound CC(C)C(O)C(C)(C)COC(=O)C(C)C DAFHKNAQFPVRKR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- YEJRWHAVMIAJKC-UHFFFAOYSA-N 4-Butyrolactone Chemical group O=C1CCCO1 YEJRWHAVMIAJKC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N Benzene Chemical compound C1=CC=CC=C1 UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- IMNFDUFMRHMDMM-UHFFFAOYSA-N N-Heptane Chemical compound CCCCCCC IMNFDUFMRHMDMM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N Phosphorus Chemical compound [P] OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N acrylic acid group Chemical group C(C=C)(=O)O NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 150000005215 alkyl ethers Chemical class 0.000 description 3
- 125000003178 carboxy group Chemical group [H]OC(*)=O 0.000 description 3
- 239000003245 coal Substances 0.000 description 3
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 3
- ZWAJLVLEBYIOTI-UHFFFAOYSA-N cyclohexene oxide Chemical compound C1CCCC2OC21 ZWAJLVLEBYIOTI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 125000000113 cyclohexyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])C1([H])[H] 0.000 description 3
- 239000006185 dispersion Substances 0.000 description 3
- 150000002148 esters Chemical class 0.000 description 3
- 238000011156 evaluation Methods 0.000 description 3
- 238000010528 free radical solution polymerization reaction Methods 0.000 description 3
- 238000007646 gravure printing Methods 0.000 description 3
- 238000007641 inkjet printing Methods 0.000 description 3
- 238000004898 kneading Methods 0.000 description 3
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 3
- 239000012299 nitrogen atmosphere Substances 0.000 description 3
- 238000007645 offset printing Methods 0.000 description 3
- 239000002244 precipitate Substances 0.000 description 3
- 230000003746 surface roughness Effects 0.000 description 3
- CXWXQJXEFPUFDZ-UHFFFAOYSA-N tetralin Chemical compound C1=CC=C2CCCCC2=C1 CXWXQJXEFPUFDZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- UFLXKQBCEYNCDU-UHFFFAOYSA-N (2,2,6,6-tetramethylpiperidin-4-yl) 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OC1CC(C)(C)NC(C)(C)C1 UFLXKQBCEYNCDU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- PNWODCMQYWCKBF-UHFFFAOYSA-N (2-hydroxy-2-methylpropyl) 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCC(C)(C)O PNWODCMQYWCKBF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ONMLAAZEQUPQSE-UHFFFAOYSA-N (3-hydroxy-2,2-dimethylpropyl) 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCC(C)(C)CO ONMLAAZEQUPQSE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- YUTHQCGFZNYPIG-UHFFFAOYSA-N 1-[2-(2-methylprop-2-enoyloxy)ethyl]cyclohexane-1,2-dicarboxylic acid Chemical compound CC(=C)C(=O)OCCC1(C(O)=O)CCCCC1C(O)=O YUTHQCGFZNYPIG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- OMVSWZDEEGIJJI-UHFFFAOYSA-N 2,2,4-Trimethyl-1,3-pentadienol diisobutyrate Chemical compound CC(C)C(=O)OC(C(C)C)C(C)(C)COC(=O)C(C)C OMVSWZDEEGIJJI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LZDYZEGISBDSDP-UHFFFAOYSA-N 2-(1-ethylaziridin-1-ium-1-yl)ethanol Chemical compound OCC[N+]1(CC)CC1 LZDYZEGISBDSDP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VXQBJTKSVGFQOL-UHFFFAOYSA-N 2-(2-butoxyethoxy)ethyl acetate Chemical compound CCCCOCCOCCOC(C)=O VXQBJTKSVGFQOL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N Acetone Chemical compound CC(C)=O CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- YNQLUTRBYVCPMQ-UHFFFAOYSA-N Ethylbenzene Chemical compound CCC1=CC=CC=C1 YNQLUTRBYVCPMQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N Iron Chemical compound [Fe] XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VVQNEPGJFQJSBK-UHFFFAOYSA-N Methyl methacrylate Chemical compound COC(=O)C(C)=C VVQNEPGJFQJSBK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N O-Xylene Chemical group CC1=CC=CC=C1C CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N Palladium Chemical compound [Pd] KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- URLKBWYHVLBVBO-UHFFFAOYSA-N Para-Xylene Chemical group CC1=CC=C(C)C=C1 URLKBWYHVLBVBO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- MCMNRKCIXSYSNV-UHFFFAOYSA-N Zirconium dioxide Chemical compound O=[Zr]=O MCMNRKCIXSYSNV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000005073 adamantyl group Chemical group C12(CC3CC(CC(C1)C3)C2)* 0.000 description 2
- 150000001346 alkyl aryl ethers Chemical class 0.000 description 2
- WUOACPNHFRMFPN-UHFFFAOYSA-N alpha-terpineol Chemical compound CC1=CCC(C(C)(C)O)CC1 WUOACPNHFRMFPN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N aluminium oxide Inorganic materials [O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3] PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000003368 amide group Chemical group 0.000 description 2
- 239000002280 amphoteric surfactant Substances 0.000 description 2
- 125000000129 anionic group Chemical group 0.000 description 2
- 125000004429 atom Chemical group 0.000 description 2
- 239000011230 binding agent Substances 0.000 description 2
- 239000003990 capacitor Substances 0.000 description 2
- 150000001721 carbon Chemical group 0.000 description 2
- 150000001732 carboxylic acid derivatives Chemical class 0.000 description 2
- 238000005266 casting Methods 0.000 description 2
- 125000002091 cationic group Chemical group 0.000 description 2
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 2
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 2
- CQAZHDHHROTUHL-UHFFFAOYSA-N cyclohexane;methanol;prop-2-enoic acid Chemical compound OC.OC.OC(=O)C=C.C1CCCCC1 CQAZHDHHROTUHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- JHIVVAPYMSGYDF-UHFFFAOYSA-N cyclohexanone Chemical compound O=C1CCCCC1 JHIVVAPYMSGYDF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NNBZCPXTIHJBJL-UHFFFAOYSA-N decalin Chemical compound C1CCCC2CCCCC21 NNBZCPXTIHJBJL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- DIOQZVSQGTUSAI-UHFFFAOYSA-N decane Chemical compound CCCCCCCCCC DIOQZVSQGTUSAI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- SQIFACVGCPWBQZ-UHFFFAOYSA-N delta-terpineol Natural products CC(C)(O)C1CCC(=C)CC1 SQIFACVGCPWBQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000001983 dialkylethers Chemical class 0.000 description 2
- 238000005401 electroluminescence Methods 0.000 description 2
- 239000000945 filler Substances 0.000 description 2
- 238000001914 filtration Methods 0.000 description 2
- 125000000623 heterocyclic group Chemical group 0.000 description 2
- 230000001771 impaired effect Effects 0.000 description 2
- 229940119545 isobornyl methacrylate Drugs 0.000 description 2
- HJOVHMDZYOCNQW-UHFFFAOYSA-N isophorone Chemical compound CC1=CC(=O)CC(C)(C)C1 HJOVHMDZYOCNQW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XMGQYMWWDOXHJM-UHFFFAOYSA-N limonene Chemical compound CC(=C)C1CCC(C)=CC1 XMGQYMWWDOXHJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- IVSZLXZYQVIEFR-UHFFFAOYSA-N m-xylene Chemical group CC1=CC=CC(C)=C1 IVSZLXZYQVIEFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910044991 metal oxide Inorganic materials 0.000 description 2
- 150000004706 metal oxides Chemical class 0.000 description 2
- QPJVMBTYPHYUOC-UHFFFAOYSA-N methyl benzoate Chemical compound COC(=O)C1=CC=CC=C1 QPJVMBTYPHYUOC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LUCXVPAZUDVVBT-UHFFFAOYSA-N methyl-[3-(2-methylphenoxy)-3-phenylpropyl]azanium;chloride Chemical compound Cl.C=1C=CC=CC=1C(CCNC)OC1=CC=CC=C1C LUCXVPAZUDVVBT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 description 2
- TVMXDCGIABBOFY-UHFFFAOYSA-N octane Chemical compound CCCCCCCC TVMXDCGIABBOFY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000000466 oxiranyl group Chemical group 0.000 description 2
- 125000004430 oxygen atom Chemical group O* 0.000 description 2
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 2
- 239000003208 petroleum Substances 0.000 description 2
- 125000002467 phosphate group Chemical group [H]OP(=O)(O[H])O[*] 0.000 description 2
- BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N platinum Chemical compound [Pt] BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000001436 propyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 2
- ODLMAHJVESYWTB-UHFFFAOYSA-N propylbenzene Chemical compound CCCC1=CC=CC=C1 ODLMAHJVESYWTB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000010992 reflux Methods 0.000 description 2
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000004332 silver Substances 0.000 description 2
- 239000002002 slurry Substances 0.000 description 2
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 2
- 125000000542 sulfonic acid group Chemical group 0.000 description 2
- 229940116411 terpineol Drugs 0.000 description 2
- 125000000999 tert-butyl group Chemical group [H]C([H])([H])C(*)(C([H])([H])[H])C([H])([H])[H] 0.000 description 2
- YTZKOQUCBOVLHL-UHFFFAOYSA-N tert-butylbenzene Chemical compound CC(C)(C)C1=CC=CC=C1 YTZKOQUCBOVLHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000003396 thiol group Chemical group [H]S* 0.000 description 2
- 230000009974 thixotropic effect Effects 0.000 description 2
- XOLBLPGZBRYERU-UHFFFAOYSA-N tin dioxide Chemical compound O=[Sn]=O XOLBLPGZBRYERU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910001887 tin oxide Inorganic materials 0.000 description 2
- FVQMJJQUGGVLEP-UHFFFAOYSA-N (2-methylpropan-2-yl)oxy 2-ethylhexaneperoxoate Chemical compound CCCCC(CC)C(=O)OOOC(C)(C)C FVQMJJQUGGVLEP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NQUXRXBRYDZZDL-UHFFFAOYSA-N 1-(2-prop-2-enoyloxyethyl)cyclohexane-1,2-dicarboxylic acid Chemical compound OC(=O)C1CCCCC1(CCOC(=O)C=C)C(O)=O NQUXRXBRYDZZDL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OAYXUHPQHDHDDZ-UHFFFAOYSA-N 2-(2-butoxyethoxy)ethanol Chemical compound CCCCOCCOCCO OAYXUHPQHDHDDZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XXXFZKQPYACQLD-UHFFFAOYSA-N 2-(2-hydroxyethoxy)ethyl acetate Chemical compound CC(=O)OCCOCCO XXXFZKQPYACQLD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JDSQBDGCMUXRBM-UHFFFAOYSA-N 2-[2-(2-butoxypropoxy)propoxy]propan-1-ol Chemical compound CCCCOC(C)COC(C)COC(C)CO JDSQBDGCMUXRBM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CGFCWVIOWYPCFZ-UHFFFAOYSA-N 2-[2-(2-hydroxypropoxy)propoxy]propan-1-ol;propane-1,2-diol Chemical class CC(O)CO.CC(O)COC(C)COC(C)CO CGFCWVIOWYPCFZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JTXMVXSTHSMVQF-UHFFFAOYSA-N 2-acetyloxyethyl acetate Chemical compound CC(=O)OCCOC(C)=O JTXMVXSTHSMVQF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QCAHUFWKIQLBNB-UHFFFAOYSA-N 3-(3-methoxypropoxy)propan-1-ol Chemical compound COCCCOCCCO QCAHUFWKIQLBNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VGVHNLRUAMRIEW-UHFFFAOYSA-N 4-methylcyclohexan-1-one Chemical compound CC1CCC(=O)CC1 VGVHNLRUAMRIEW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052582 BN Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000004342 Benzoyl peroxide Substances 0.000 description 1
- OMPJBNCRMGITSC-UHFFFAOYSA-N Benzoylperoxide Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(=O)OOC(=O)C1=CC=CC=C1 OMPJBNCRMGITSC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZOXJGFHDIHLPTG-UHFFFAOYSA-N Boron Chemical compound [B] ZOXJGFHDIHLPTG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PZNSFCLAULLKQX-UHFFFAOYSA-N Boron nitride Chemical compound N#B PZNSFCLAULLKQX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000001293 FEMA 3089 Substances 0.000 description 1
- NHTMVDHEPJAVLT-UHFFFAOYSA-N Isooctane Chemical compound CC(C)CC(C)(C)C NHTMVDHEPJAVLT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YIVJZNGAASQVEM-UHFFFAOYSA-N Lauroyl peroxide Chemical compound CCCCCCCCCCCC(=O)OOC(=O)CCCCCCCCCCC YIVJZNGAASQVEM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NTIZESTWPVYFNL-UHFFFAOYSA-N Methyl isobutyl ketone Chemical compound CC(C)CC(C)=O NTIZESTWPVYFNL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004793 Polystyrene Substances 0.000 description 1
- 239000004372 Polyvinyl alcohol Substances 0.000 description 1
- 229910052581 Si3N4 Inorganic materials 0.000 description 1
- BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N Silver Chemical compound [Ag] BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KDYFGRWQOYBRFD-UHFFFAOYSA-N Succinic acid Natural products OC(=O)CCC(O)=O KDYFGRWQOYBRFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-L Sulfate Chemical compound [O-]S([O-])(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N Titan oxide Chemical compound O=[Ti]=O GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N Zinc Chemical compound [Zn] HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ORLQHILJRHBSAY-UHFFFAOYSA-N [1-(hydroxymethyl)cyclohexyl]methanol Chemical compound OCC1(CO)CCCCC1 ORLQHILJRHBSAY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000002723 alicyclic group Chemical group 0.000 description 1
- 125000001931 aliphatic group Chemical group 0.000 description 1
- 150000001338 aliphatic hydrocarbons Chemical class 0.000 description 1
- 125000002947 alkylene group Chemical group 0.000 description 1
- 239000000956 alloy Substances 0.000 description 1
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 1
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 description 1
- JRPBQTZRNDNNOP-UHFFFAOYSA-N barium titanate Chemical compound [Ba+2].[Ba+2].[O-][Ti]([O-])([O-])[O-] JRPBQTZRNDNNOP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910002113 barium titanate Inorganic materials 0.000 description 1
- 235000019400 benzoyl peroxide Nutrition 0.000 description 1
- 125000001797 benzyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(C([H])=C1[H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 1
- 229910000416 bismuth oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000006664 bond formation reaction Methods 0.000 description 1
- 229910052796 boron Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000000484 butyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 239000012986 chain transfer agent Substances 0.000 description 1
- 239000007795 chemical reaction product Substances 0.000 description 1
- 238000004581 coalescence Methods 0.000 description 1
- 238000013329 compounding Methods 0.000 description 1
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000000753 cycloalkyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000002933 cyclohexyloxy group Chemical group C1(CCCCC1)O* 0.000 description 1
- XJOBOFWTZOKMOH-UHFFFAOYSA-N decanoyl decaneperoxoate Chemical compound CCCCCCCCCC(=O)OOC(=O)CCCCCCCCC XJOBOFWTZOKMOH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000011161 development Methods 0.000 description 1
- LSXWFXONGKSEMY-UHFFFAOYSA-N di-tert-butyl peroxide Chemical compound CC(C)(C)OOC(C)(C)C LSXWFXONGKSEMY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- TYIXMATWDRGMPF-UHFFFAOYSA-N dibismuth;oxygen(2-) Chemical compound [O-2].[O-2].[O-2].[Bi+3].[Bi+3] TYIXMATWDRGMPF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000007607 die coating method Methods 0.000 description 1
- SZXQTJUDPRGNJN-UHFFFAOYSA-N dipropylene glycol Chemical compound OCCCOCCCO SZXQTJUDPRGNJN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 239000007772 electrode material Substances 0.000 description 1
- 125000004185 ester group Chemical group 0.000 description 1
- MVKYQTGCKJXECD-UHFFFAOYSA-N ethane-1,2-diol;prop-1-ene Chemical compound CC=C.CC=C.OCCO MVKYQTGCKJXECD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N ether Substances CCOCC RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001301 ethoxy group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])O* 0.000 description 1
- 238000005227 gel permeation chromatography Methods 0.000 description 1
- PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N gold Chemical compound [Au] PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052737 gold Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010931 gold Substances 0.000 description 1
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 1
- 150000002391 heterocyclic compounds Chemical class 0.000 description 1
- 238000002347 injection Methods 0.000 description 1
- 239000007924 injection Substances 0.000 description 1
- 230000003993 interaction Effects 0.000 description 1
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000003253 isopropoxy group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(O*)C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 150000002576 ketones Chemical class 0.000 description 1
- 239000005355 lead glass Substances 0.000 description 1
- 239000004973 liquid crystal related substance Substances 0.000 description 1
- 125000005641 methacryl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000000956 methoxy group Chemical group [H]C([H])([H])O* 0.000 description 1
- 229940095102 methyl benzoate Drugs 0.000 description 1
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 1
- 125000006606 n-butoxy group Chemical group 0.000 description 1
- 125000000740 n-pentyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 125000003506 n-propoxy group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])O* 0.000 description 1
- 150000004767 nitrides Chemical class 0.000 description 1
- QJGQUHMNIGDVPM-UHFFFAOYSA-N nitrogen group Chemical group [N] QJGQUHMNIGDVPM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940078552 o-xylene Drugs 0.000 description 1
- 239000000075 oxide glass Substances 0.000 description 1
- 229910052763 palladium Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000005192 partition Methods 0.000 description 1
- 238000005191 phase separation Methods 0.000 description 1
- 125000000951 phenoxy group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(O*)C([H])=C1[H] 0.000 description 1
- 239000000049 pigment Substances 0.000 description 1
- 125000005936 piperidyl group Chemical group 0.000 description 1
- 229920003023 plastic Polymers 0.000 description 1
- 239000004033 plastic Substances 0.000 description 1
- 239000004014 plasticizer Substances 0.000 description 1
- 229910052697 platinum Inorganic materials 0.000 description 1
- 229920000058 polyacrylate Polymers 0.000 description 1
- 229920000768 polyamine Polymers 0.000 description 1
- 229920002223 polystyrene Polymers 0.000 description 1
- 229920002451 polyvinyl alcohol Polymers 0.000 description 1
- 229920000036 polyvinylpyrrolidone Polymers 0.000 description 1
- 239000001267 polyvinylpyrrolidone Substances 0.000 description 1
- 235000013855 polyvinylpyrrolidone Nutrition 0.000 description 1
- 239000000047 product Substances 0.000 description 1
- 150000003242 quaternary ammonium salts Chemical class 0.000 description 1
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 1
- 238000001226 reprecipitation Methods 0.000 description 1
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 description 1
- 238000007789 sealing Methods 0.000 description 1
- 239000005394 sealing glass Substances 0.000 description 1
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 1
- 239000005368 silicate glass Substances 0.000 description 1
- LIVNPJMFVYWSIS-UHFFFAOYSA-N silicon monoxide Chemical class [Si-]#[O+] LIVNPJMFVYWSIS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HQVNEWCFYHHQES-UHFFFAOYSA-N silicon nitride Chemical compound N12[Si]34N5[Si]62N3[Si]51N64 HQVNEWCFYHHQES-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052814 silicon oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 1
- 238000006467 substitution reaction Methods 0.000 description 1
- 239000004094 surface-active agent Substances 0.000 description 1
- YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N tetrahydrofuran Natural products C=1C=COC=1 YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N titanium oxide Inorganic materials [Ti]=O OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N tungsten Chemical compound [W] WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052721 tungsten Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010937 tungsten Substances 0.000 description 1
- PXXNTAGJWPJAGM-UHFFFAOYSA-N vertaline Natural products C1C2C=3C=C(OC)C(OC)=CC=3OC(C=C3)=CC=C3CCC(=O)OC1CC1N2CCCC1 PXXNTAGJWPJAGM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000080 wetting agent Substances 0.000 description 1
- 239000011701 zinc Substances 0.000 description 1
- 229910052725 zinc Inorganic materials 0.000 description 1
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
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Description
1.本発明の一態様に係るペースト組成物は、下記一般式(1)で表される構成単位(A)を20〜100モル%含有する(メタ)アクリル系(共)重合体を含むことを特徴とする。
本発明において、「水素結合性を有する官能基」とは、水素結合を形成する性質を有する基のことをいう。また、本発明において「(メタ)アクリル」とは、「アクリルまたはメタクリル」を意味し、「(共)重合体」とは、重合体または共重合体を意味する。また、「(メタ)アクリル系共重合体」とは、共重合体中に単量体単位として、(メタ)アクリル酸、(メタ)アクリル酸の塩、および(メタ)アクリル酸エステルから選ばれる少なくとも1種が50モル%以上含まれている共重合体をいう。
2.上記1に記載のペースト組成物において、前記(メタ)アクリル系(共)重合体は、下記一般式(2)で表される単量体(a)を20〜100モル%含有する単量体成分の系(共)重合体であることができる。
3.上記1に記載のペースト組成物において、前記(メタ)アクリル系共重合体が、下記一般式(3)で表される構成単位(B)をさらに含むことができる。
4.上記2に記載のペースト組成物において、前記単量体成分中における前記単量体(a)および下記一般式(4)で表される単量体(b)の総量が70〜100モル%であることができる。
5.上記1ないし4のいずれか1項に記載のペースト組成物において、前記水素結合性を有する官能基は、水酸基、カルボキシル基、アミノ基、アミド基、アセトアセトキシ基、酸無水物基、スルホン酸基、リン酸基、チオール基および複素環基から選ばれる少なくとも1種であることができる。
6.上記1ないし5のいずれかに記載のペースト組成物において、前記(メタ)アクリル系(共)重合体のSP値が7〜10であることができる。
7.上記1ないし6のいずれかに記載のペースト組成物において、前記(メタ)アクリル系(共)重合体の重量平均分子量が1,000〜200,000であることができる。
8.上記1ないし7のいずれかに記載のペースト組成物において、溶剤と、無機粉末または分散剤とをさらに含むことができる。
9.上記8に記載のペースト組成物において、前記(メタ)アクリル系(共)重合体および前記溶剤が下記式(5)の関係を満たすことができる。
10.上記1ないし9のいずれかに記載のペースト組成物は、積層セラミックコンデンサーのグリーンシートの製造のために使用することができる。
11.本発明の別の一態様に係る焼成体の製造方法は、上記1ないし10のいずれかに記載のペースト組成物を基材に塗布する工程と、塗布された前記ペースト組成物を乾燥させる工程と、乾燥させた前記ペースト組成物を含む基材を焼成する工程と、を含む。
12.本発明の他の一態様に係る焼成体は、上記11に記載の焼成体の製造方法によって得られる。
本発明の一実施形態に係るペースト組成物は、下記一般式(1)で表される構成単位(A)を20〜100モル%含有する(メタ)アクリル系(共)重合体を含む。
1.1.1.構造単位(A)
本実施形態に係るペースト組成物において、前記(メタ)アクリル系(共)重合体は上記一般式(1)で表される構造単位(A)を20〜100モル%(好ましくは30〜90モル%、より好ましくは40〜80モル%)有する。上記一般式(1)において、R2は、X<13.5Å、Y>6.15Åの径を有し、体積が80Å3より大きいため、立体障害が大きな基である。ここで、R2のX、Y、および体積は、MOPAC PM3のEF法によって計算された値である。ここで、Xにおける「長辺方向の長さ」とは、上記式(1)におけるR2と隣接して結合する酸素原子に結合するR2中の炭素原子から、該炭素原子から最も遠い位置にあるR2中の原子までの距離を意味し、Yにおける「短辺方向の長さ」とは、長辺方向と交差する方向において最も長い部分の長さをいう。
前記(メタ)アクリル系(共)重合体に含まれる、前記水素結合性を有する官能基は、水素結合の形成により、適度な粘性の発現に寄与することができる。前記(メタ)アクリル系(共)重合体に含まれる、前記水素結合性を有する官能基は例えば、水酸基、カルボキシル基、アミノ基、アミド基、アセトアセトキシ基、酸無水物基、スルホン酸基、リン酸基、チオール基、および複素環基から選ばれる少なくとも1種であることができる。これらの官能基の中では、水酸基、カルボキシル基、アミノ基、酸無水物基、オキシラン基、およびオキソラン基が好ましく、水酸基、アミノ基、酸無水物基およびオキシラン基がさらに好ましい。
また、アルコキシ基を有する基に含まれるアルコキシ基としては、メトキシ基、エトキシ基、n−プロポキシ基、n−ブトキシ基等の直鎖状アルコキシ基、イソプロポキシ基、エチルヘキシロキシ基等の分岐状アルキル基、及びシクロヘキシロキシ基などの環状アルコキシ基が挙げられ、分岐状アルコキシ基および環状アルコキシ基が好ましい。さらに、アリールオキシ基を有する基に含まれるアリールオキシ基としては、置換されてもよいフェノキシ基およびナフトキシ基が挙げられる。
前記(メタ)アクリル系(共)重合体は、下記一般式(3)で表される構成単位(B)をさらに含むことができる。
前記(メタ)アクリル系(共)重合体中における前記構成単位(A)および前記構成単位(B)の総量は70〜100モル%であり、80〜90モル%であることが好ましい。
上記一般式(3)において、R4のX、Yおよび体積は、上記一般式(1)におけるR2と同様に、MOPAC PM3のEF法によって計算された値である。ここで、Xにおける「長辺方向の長さ」とは、上記式(3)におけるR4と隣接して結合する酸素原子に結合するR4中の炭素原子から、該炭素原子から最も遠い位置にあるR4中の原子までの距離を意味し、Yにおける「短辺方向の長さ」とは、長辺方向と交差する方向において最も長い部分の長さをいう。
上記一般式(4)で表される単量体(b)におけるR4は、上記一般式(2)で表される単量体(a)中のR2で表される基の大きさと同じ大きさの基(立体障害が大きい基)を有するが、該R4は前記R2と異なり、水素結合性を有する官能基、アルコキシ基およびアリールオキシ基のいずれも有さない基である。前記単量体(b)としては、例えば、tert−ブチル(メタ)アクリレート、シクロヘキシル(メタ)アクリレート、イソボルニル(メタ)アクリレート、ジシクロペンタニル(メタ)アクリレート、アダマンチル(メタ)アクリレート等が挙げられ、このうち、tert−ブチル(メタ)アクリレート、シクロヘキシル(メタ)アクリレート、イソボルニル(メタ)アクリレート等の(メタ)アクリル酸エステルが好ましい。これらの単量体(b)はそれぞれ単独で、または、2種以上混合して用いることができる。
前記(メタ)アクリル系(共)重合体はさらに、他の構成単位(C)を有していてもよい。前記(メタ)アクリル系(共)重合体における他の構成単位(C)の割合は例えば、0〜30モル%であり、0〜20モル%であることが好ましい。
前記(メタ)アクリル系(共)重合体の含有量は、適度な粘性ならびに良好な塗工性および焼成性を確保する観点から、本実施形態に係るペースト組成物の総量の1〜20%であることが好ましく、5〜10%であることがより好ましい。
前記(メタ)アクリル系(共)重合体は、適度な粘性を有する観点から、SP値が7〜10であることが好ましく、SP値が8〜10であることがより好ましい。前記(メタ)アクリル系(共)重合体のSP値は、(共)重合体の極性を示す指標であり、ペースト作成にて使用される溶剤への溶解性を確認するための目安である。本発明において、前記(メタ)アクリル系(共)重合体のSP値および後述する溶剤のSP値は、OkitsuのΔFの定数(沖津俊直著、「接着」、第40巻8号、342頁(1996年))より算出することができる。
前記(メタ)アクリル系(共)重合体は、良好な塗工性を確保する観点から、重量平均分子量が1,000〜200,000であることが好ましく、10,000〜100,000であることがより好ましい。前記(メタ)アクリル系(共)重合体の重量平均分子量が1,000未満であると、所望のペースト粘度が得られず、一方、前記(メタ)アクリル系(共)重合体の重量平均分子量が200,000を超えると、糸引き性が高くなり、十分な塗工性が得られない。なお、本発明において、分子量を測定する方法は、後述する実施例に記載の方法を用いる。
前記(メタ)アクリル重合体の重合方法は、特に制限されるものではないが、通常は溶液重合を用いることが好ましい。溶液重合は、一般に、重合槽内に所定の有機溶媒、単量体、重合開始剤を仕込み、窒素気流中、適当な重合温度で、撹拌しながら数時間加熱反応させることにより行われる。この場合、有機溶媒、単量体、重合開始剤および/または連鎖移動剤の少なくとも一部を逐次添加してもよい。
本実施形態に係るペースト組成物は、前記(メタ)アクリル系(共)重合体に加えて、溶剤と、無機粉末または分散剤と、をさらに含むことができる。
本実施形態に係るペースト組成物に使用可能な溶剤としては、有機溶剤が挙げられ、例えば、前記(メタ)アクリル系(共)重合体と前記溶剤との間で下記式(5)の関係を満たす溶剤が好ましい。前記(メタ)アクリル系(共)重合体および前記溶剤が下記式(5)の関係を満たす溶剤を用いることにより、前記(メタ)アクリル系(共)重合体と前記溶剤との相溶性が高まり、ペースト組成物を作成した際の安定性が増す。
本実施形態に係るペースト組成物中における溶剤の含有量は、本実施形態に係るペースト組成物の総量の10〜60%であることが好ましく、30〜50%であることがより好ましい。
本実施形態に係るペースト組成物に使用可能な無機粉末としては、例えば、金属粉末、金属酸化物粉末、ガラス粉末、顔料粉末、蛍光体粉末、セラミック粉末が挙げられる。これらの無機粉末はそれぞれ単独で、または、2種以上混合して用いることができる。
ガラス粉末としては、例えば、酸化ビスマスガラス、ケイ酸塩ガラス、鉛ガラス、亜鉛ガラス、ボロンガラスや各種ケイ素酸化物のガラス粉末等があげられる。
本実施形態に係るペースト組成物には、上述した(メタ)アクリル系(共)重合体、溶剤、無機粉末、分散剤のほかに、本発明の目的を損なわない範囲で従来知られている可塑剤、湿潤剤、消泡剤等を含有してもよい。
本発明の(メタ)アクリル系(共)重合体を用いることにより、本実施形態に係るペースト組成物は、適度な粘性および良好な塗工性を確保できる。具体的には、本発明の(メタ)アクリル系(共)重合体、平均粒子径200nmのニッケルフィラー、およびジヒドロターピネオールからなる組成物(重量配合比:5/100/70)を自転・公転ミキサーで混練した後、さらに3本ロールで混練して得られるペースト組成物が、25℃における粘度が0.5〜30Pa・sの範囲内、好ましくは3〜20Pa・sの範囲内である。
本実施形態に係るペースト組成物は、例えば、スクリーン印刷、ダイコート印刷、ドクターブレード印刷、ロールコート印刷、オフセット印刷、グラビア印刷、フレキソ印刷、インクジェット印刷、ディスペンス印刷等を用いて塗布するために使用することができ、中でも、スクリーン印刷に好適に用いられる。
本実施形態に係るペースト組成物によれば、水素結合性を有する官能基を有し、かつ、前記構成単位(A)を20〜100モル%含有する(メタ)アクリル系(共)重合体を含むことにより、塗工性および焼成性の双方に優れている。
本発明の別の一実施形態に係る焼成体の製造方法は、上記実施形態に係るペースト組成物を基材に塗布する工程と、塗布された前記ペースト組成物を乾燥させる工程と、乾燥させた前記ペースト組成物を含む基材を焼成する工程と、を含む。
本発明の他の一実施形態に係る焼成体の製造方法は、上記実施形態に係る焼成体の製造方法によって得ることができる。
以下、本発明を下記実施例に基づいて説明するが、本発明は実施例に限定されない。
4.1.(メタ)アクリル共重合体の調製
4.1.1.製造例1(ポリマー1の調製)
表1に示す組成を有する単量体成分を用いて、以下の方法にて(メタ)アクリル系(共)重合体であるポリマー1を調製した。まず、攪拌装置、窒素ガス導入管、温度計および還流冷却管を備えたフラスコに、メチルエチルケトン(MEK)100重量部を仕込み、フラスコ内に窒素ガスを導入しながら30分攪拌して窒素置換を行った後、フラスコの内容物を80℃まで昇温した。ついで、フラスコ内の内容物を80℃に維持しながら、2−ヒドロキシイソブチルメタクリレート(2HBMA)100重量部を2時間かけて滴下、および滴下開始と同時にアゾビスイソブチロニトリル(AIBN)0.4重量部を1時間毎に計5回添加した。滴下開始から8時間後、室温まで冷却した。得られたポリマー溶液を、n−ヘキサン(n−Hex)2000重量部中へ30分かけて滴下を行い、ポリマー析出物を生成させた。ポリマー析出物については、200メッシュ金網で濾別し、105℃で8時間乾燥することで、ポリマー1を調製した。得られたポリマー1は重量平均分子量が5万、構成単位(A)の割合は100モル%、SP値は計算値で9.3であった。なお、本実施例において、構成単位(A)、(B)および(C)の割合については、単量体(a)、単量体(b)および単量体(c)の仕込み比から算出した計算値である。
上記製造例1で使用した2HBMA 100重量部を、イソボルニルメタクリレート(IBXMA)30重量部、2HBMA 65重量部、メタクリル酸(MAA) 5重量部とする以外は、上記製造例1と同様の操作で、ポリマー2を調製した。得られたポリマー2は重量平均分子量が5万、構成単位(A)の割合は68モル%、構成単位(B)の割合は22モル%、構成単位(C)の割合は10モル%、SP値は計算値で9.1であった。
上記製造例1の2HBMA 100重量部を、シクロヘキシルメタクリレート(CHMA)50重量部、シクロヘキサンジメタノールモノアクリレート(CHDMMA)50重量部とする以外は、上記製造例1と同様の操作で、ポリマー3を調製した。得られたポリマー3は重量平均分子量が5万、構成単位(A)の割合は46モル%、構成単位(B)の割合は54モル%、SP値は計算値で8.8であった。
上記製造例1のAIBN 0.4重量部を0.1重量部とする以外は、上記製造例1と同様の操作で、ポリマー4を調製した。得られたポリマー4は重量平均分子量が15万、構成単位(A)の割合は100モル%、SP値は計算値で9.3であった。
上記製造例1の2HBMA 100重量部を、2HBMA 60重量部、CHMA30重量部、HEMA 10重量部とする以外は、上記製造例1と同様の操作で、ポリマー5を調製した。得られたポリマー5は重量平均分子量が5万、構成単位(A)の割合は60モル%、構成単位(B)の割合は28モル%、構成単位(C)の割合は12モル%、SP値は計算値で9.1であった。
上記製造例1の2HBMA 100重量部を、HBMA 65重量部、イソブチルメタクリレート(iBMA)25重量部、2−メタクリロイロキシエチルヘキサヒドロフタル酸(共栄社化学(株)製、ライトエステルHO−HH)10重量部とする以外は、製造例1と同様の操作で、ポリマー6を調製した。得られたポリマー6は重量平均分子量が5万、構成単位(A)の割合は72モル%、(C)の割合は28モル%、SP値は計算値で9.1であった。
上記製造例1の2HBMA 100重量部を、4−メタクリロイルオキシ−2,2,6,6−テトラメチルピペリジン(日立化成工業(株)製 FA−712HM) 60重量部、CHMA 20重量部、HEMA 20重量部とする以外は、上記製造例1と同様の操作で、ポリマー7を調製した。得られたポリマー7は重量平均分子量が5万、構成単位(A)の割合は49モル%、構成単位(B)の割合は22モル%、構成単位(C)の割合は29モル%、SP値は計算値で9.3であった。
上記製造例1の2HBMA 100重量部を、2,2−ジメチル−3−ヒドロキシプロピルメタクリレート(DMHPMA)60重量部、CHMA 20重量部、HEMA 20重量部とする以外は、上記製造例1と同様の操作で、ポリマー7を調製した。得られたポリマー8は重量平均分子量が5万、構成単位(A)の割合は56モル%、構成単位(B)の割合は19モル%、構成単位(C)の割合は25モル%、SP値は計算値で9.4であった。
ポリマー製造例1の2HBMA 100重量部を、メタクリル酸[(3,4−エポキシシクロヘキサン)−1−イル]メチル(ECMA) 60重量部、CHMA 20重量部、HEMA 20重量部とする以外は、製造例1と同様の操作で、ポリマー9を調製した。得られたポリマー9は重量平均分子量が5万、構成単位(A)の割合は53モル%、構成単位(B)の割合は21モル%、構成単位(C)の割合は26モル%、SP値は計算値で9.1であった。
攪拌装置、窒素ガス導入管、温度計および還流冷却管を備えたフラスコに、MEK 100重量部を仕込み、フラスコ内に窒素ガスを導入しながら30分攪拌して窒素置換を行った後、フラスコの内容物を80℃まで昇温した。ついで、フラスコ内の内容物を80℃に維持しながら、2HBMA 60重量部、IBXMA 31重量部、ジシクロペンテニルアクリレート(日立化成工業(株)製FA−511AS) 6重量部、を2時間かけて滴下、および滴下開始と同時にAIBN 0.4重量部を1時間毎に計5回添加した。滴下開始から8時間後、無水マレイン酸3重量部と、t−ブチルパーオキシ−2−エチルヘキサノエート(日油(株)製パーブチルO)0.2重量部を添加し、さらに80℃で8時間後室温まで冷却した。得られたポリマー溶液を、n−Hex 2000重量部中へ30分かけて滴下を行い、ポリマー析出物を生成させた。ポリマー析出物については、200メッシュ金網で濾別し、105℃にて8時間で乾燥することで、ポリマー10を調製した。得られたポリマー10は重量平均分子量が5万、構成単位(A)の割合は74モル%、構成単位(B)の割合は26モル%、SP値は計算値で8.5であった。
エチルセルロース(日進化成(株)製 エトセル グレード45(商品名))をポリマー11とした。
ポリビニルブチラール(積水化学工業(株)製 エスレック BH−3)をポリマー12とした。
上記製造例1の2HBMA 100重量部を、iBMA 70重量部、HEMA 30重量部とする以外は、上記製造例1と同様の操作で、ポリマー13を調製した。得られたポリマー13は重量平均分子量が5万、構成単位(C)の割合は100モル%、SP値は計算値で9.3であった。
上記製造例1の2HBMA 100重量部を、iBMA 90重量部、MAA 10重量部とする以外は、製造例1と同様の操作で、ポリマー14を調製した。得られたポリマー14は重量平均分子量が5万、構成単位(C)の割合は100モル%、SP値は計算値で9.1であった。
上記製造例1の2HBMA 100重量部を、tert−ブチルメタクリレート(tBMA)60重量部、HEMA 40重量部とする以外は、上記製造例1と同様の操作で、ポリマー15を調製した。得られたポリマー15は重量平均分子量が5万、構成単位(B)の割合は58モル%、構成単位(C)の割合は42モル%、SP値は計算値で9.2であった。
上記製造例1の2HBMA 100重量部を、CHMA 70重量部、HEMA 30重量部とする以外は、製造例1と同様の操作で、ポリマー16を調製した。得られたポリマー16は重量平均分子量が5万、構成単位(B)の割合は64モル%、構成単位(C)の割合は36モル%、SP値は計算値で9.1であった。
表1に各ポリマーの組成を示す。
CHDMMA:シクロヘキサンジメタノールモノアクリレート
HO−HH:2−メタクリロイロキシエチルヘキサヒドロフタル酸
FA−712HM:4−メタクリロイルオキシ−2,2,6,6−テトラメチルピペリジン
DMHPMA:2,2−ジメチル−3−ヒドロキシプロピルメタクリレート
ECMA:メタクリル酸[(3,4−エポキシシクロヘキサン)−1−イル]メチル
FA−511AS:ジシクロペンテニルアクリレート
CHMA:シクロヘキシルメタクリレート
tBMA:tert−ブチルメタクリレート
IBXMA:イソボルニルメタクリレート
HEMA:2−ヒドロキシエチルメタクリレート
MAA:メタクリル酸
iBMA:イソブチルメタクリレート
製造例1〜16において用いられた単量体を構成する(メタ)アクリル酸由来のCOOR基のR(単量体(a)のR2、単量体(b)のR4等)をMOPAC PM3のEF法によって計算したX、Yおよび体積を表2に示す。
上記で調製したポリマー1〜16、Niフィラー(平均粒径200nm)、およびターピネオール(SP値:9.2)からなる組成物(配合比:8/100/70)を自転・公転ミキサー(商品名「あわとり練太郎」、株式会社シンキー製)で混練した後、さらに3本ロールで混練して、ペースト組成物を得た。
4.3.1.SP値
SP値は、OkitsuのΔFの定数(沖津俊直著、「接着」、第40巻8号、342頁(1996年))より算出した。
分子量は、ゲルパーミッションクロマトグラフィーによる分析を行い、ポリスチレン換算による重量平均分子量より算出した。
装置:GPC−8220(東ソー(株)製)
カラム:G7000HXL/7.8mmID×1本 + GMHXL/7.8mmID×2本 + G2500HXL/7.8mmID×1本
媒体:テトラヒドロフラン(略称THF)
流速:1.0mL/min
濃度:1.5mg/ml
注入量:300μL
カラム温度:40℃
ペースト組成物をガラス板に640メッシュ、ギャップ0.1mm、速度30cm/秒でスクリーン塗工、乾燥したものの表面粗さ(Ra)を表面粗さ計で測定し、該表面粗さの値を指標として以下の基準にしたがって印刷性を評価した。
Raが0.15を超えかつ0.2以下である場合:○
Raが0.2を超えかつ0.25以下である場合:△
Raが0.25より大きい場合:×
ペースト組成物をE型粘度計によって25℃にて粘度の測定を行い、以下の基準にしたがって粘度を評価した。
粘度が1.5Pa・sを超え3Pa・s以下である場合:○
粘度が0.5Pa・s以上1.5Pa・s以下である場合:△
粘度が0.5Pa・s未満である場合:×
調製されたペースト組成物が相分離するか否かを目視評価し、以下の基準にしたがって分散安定性を評価した。
ペースト組成物が1〜3日で分離した場合:△
ペースト組成物が1日以内で分離した場合:×
窒素雰囲気中700℃で1時間の焼成(TG−DTA)を行った後における残炭の有無を以下の基準にしたがって目視にて確認して、ポリマーの焼成性を評価した。
残炭が微量有る場合:△
残炭が無視できない量有る場合:×
評価結果を表3に示す。
Claims (10)
- 前記(メタ)アクリル系(共)重合体が、(メタ)アクリル酸メチル、(メタ)アクリル酸エチル、(メタ)アクリル酸イソブチル、(メタ)アクリル酸n−ブチル、(メタ)アクリル酸ラウリル、(メタ)アクリル酸スチリル、スチレン、ビニル化合物、(メタ)アクリル酸、無水マレイン酸、2−メタクリロイロキシエチルコハク酸、2−(メタ)アクリロイロキシエチルフタル酸、アセトアセトキシ(メタ)アクリレート、N,N−ジメチルアミノエチル(メタ)アクリレート、N,N−ジエチルアミノエチル(メタ)アクリレート、(メタ)アクリルアミド、2−(メタ)アクリロイロキシエチルアシッドホスフェート、2−(メタ)アクリルアミド−2−メチルプロパンスルホン酸、2−ヒドロキシエチルメタクリレート、2−ヒドロキシ−n−プロピル(メタ)アクリレート、3−ヒドロキシ−n−プロピル(メタ)アクリレート、3−ヒドロキシブチル(メタ)アクリレート、4−ヒドロキシブチル(メタ)アクリレート、3−メチル−3−ヒドロキシブチル(メタ)アクリレート、1,1−ジメチル−3−ヒドロキシブチル(メタ)アクリレート、1,3−ジメチル−3−ヒドロキシブチル(メタ)アクリレート、2−エチル−3−ヒドロキシヘキシル(メタ)アクリレート、ポリエチレングリコールモノ(メタ)アクリレートおよびポリプロピレングリコールモノ(メタ)アクリレートから選ばれる少なくとも1種の単量体(c)の構成単位(C)をさらに含有する、請求項1に記載の焼成用ペースト組成物。
- 前記(メタ)アクリル系(共)重合体は、前記単量体(a)を70モル%以上100モル%未満含有し、前記単量体(c)を含有する単量体成分の共重合体である、請求項2に記載の焼成用ペースト組成物。
- 前記(メタ)アクリル系(共)重合体のSP値が7〜10である、請求項1〜3のいずれか1項に記載の焼成用ペースト組成物。
- 前記(メタ)アクリル系(共)重合体の重量平均分子量が1,000〜200,000である、請求項1〜4のいずれか1項に記載の焼成用ペースト組成物。
- 溶剤と、無機粉末または分散剤とをさらに含む、請求項1〜5のいずれか1項に記載の焼成用ペースト組成物。
- 前記(メタ)アクリル系(共)重合体および前記溶剤が下記式(5)の関係を満たす、請求項6に記載の焼成用ペースト組成物。
|(前記(メタ)アクリル系(共)重合体のSP値)−(前記溶剤のSP値)|≦2
・・・(5) - 積層セラミックコンデンサーのグリーンシートの製造のために使用される、請求項1〜7のいずれか1項に記載の焼成用ペースト組成物。
- 請求項1〜8のいずれか1項に記載の焼成用ペースト組成物を基材に塗布する工程と、
塗布された前記ペースト組成物を乾燥させる工程と、
乾燥させた前記ペースト組成物を含む基材を焼成する工程と、
を含む、焼成体の製造方法。 - 請求項9に記載の焼成体の製造方法によって得られる焼成体。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2012262389 | 2012-11-30 | ||
JP2012262389 | 2012-11-30 |
Related Parent Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2014549871A Division JPWO2014084273A1 (ja) | 2012-11-30 | 2013-11-27 | ペースト組成物、ならびに焼成体およびその製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2018104708A JP2018104708A (ja) | 2018-07-05 |
JP6667560B2 true JP6667560B2 (ja) | 2020-03-18 |
Family
ID=50827905
Family Applications (2)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2014549871A Pending JPWO2014084273A1 (ja) | 2012-11-30 | 2013-11-27 | ペースト組成物、ならびに焼成体およびその製造方法 |
JP2018009557A Active JP6667560B2 (ja) | 2012-11-30 | 2018-01-24 | ペースト組成物、ならびに焼成体およびその製造方法 |
Family Applications Before (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2014549871A Pending JPWO2014084273A1 (ja) | 2012-11-30 | 2013-11-27 | ペースト組成物、ならびに焼成体およびその製造方法 |
Country Status (7)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US20150315305A1 (ja) |
EP (1) | EP2927277A4 (ja) |
JP (2) | JPWO2014084273A1 (ja) |
KR (1) | KR102057919B1 (ja) |
CN (1) | CN104822766B (ja) |
TW (1) | TWI604010B (ja) |
WO (1) | WO2014084273A1 (ja) |
Families Citing this family (13)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2015182353A1 (ja) * | 2014-05-30 | 2015-12-03 | 綜研化学株式会社 | 焼成ペースト組成物およびその用途 |
JP6091014B2 (ja) * | 2014-11-07 | 2017-03-08 | 楠本化成株式会社 | スクリーン印刷によってパターンを成型する方法 |
CN107250075A (zh) | 2015-02-04 | 2017-10-13 | E.I.内穆尔杜邦公司 | 导电糊料组合物和用其制成的半导体装置 |
JP6753675B2 (ja) * | 2015-08-20 | 2020-09-09 | 三星エスディアイ株式会社Samsung SDI Co., Ltd. | 電極形成用組成物、ならびにこれを用いて製造された電極および太陽電池 |
KR20170022846A (ko) * | 2015-08-20 | 2017-03-02 | 삼성에스디아이 주식회사 | 전극 형성용 조성물 및 이로부터 제조된 전극과 태양전지 |
JP2017190424A (ja) * | 2016-04-15 | 2017-10-19 | 竹本油脂株式会社 | ビニル共重合体 |
JP6829064B2 (ja) * | 2016-12-09 | 2021-02-10 | サカタインクス株式会社 | 非水性インクジェット用インク組成物 |
KR102229238B1 (ko) * | 2017-06-23 | 2021-03-17 | 세키스이가가쿠 고교가부시키가이샤 | 수지 조성물, 무기 미립자 분산 슬러리 조성물, 무기 미립자 분산 시트, 전고체 전지의 제조 방법 및 적층 세라믹스 콘덴서의 제조 방법 |
WO2019230407A1 (ja) * | 2018-05-31 | 2019-12-05 | 株式会社クラレ | (メタ)アクリル系共重合体を含む組成物 |
JP7133495B2 (ja) * | 2019-02-13 | 2022-09-08 | サカタインクス株式会社 | オフセット印刷用インキ組成物、及び枚葉オフセット印刷物の製造方法 |
CN112062895A (zh) * | 2020-08-06 | 2020-12-11 | 无锡亚星新材料科技有限公司 | 一种烧结浆液用树脂及其制备方法 |
KR102533750B1 (ko) * | 2021-06-22 | 2023-05-18 | 삼화콘덴서공업 주식회사 | 적층 세라믹 커패시터의 외부전극용 도전성 페이스트 조성물 |
JPWO2023002853A1 (ja) * | 2021-07-21 | 2023-01-26 |
Family Cites Families (28)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2518492B2 (ja) * | 1992-08-11 | 1996-07-24 | 株式会社日本触媒 | 無機質焼結体製造用バインダ― |
JPH07165833A (ja) * | 1993-10-18 | 1995-06-27 | Asahi Chem Ind Co Ltd | アクリル系重合体及びそれを用いた熱硬化性組成物 |
GB2335196A (en) * | 1998-02-17 | 1999-09-15 | Nippon Paint Co Ltd | Curable polymer composition |
JPH11315145A (ja) * | 1998-02-17 | 1999-11-16 | Nippon Paint Co Ltd | 硬化性樹脂組成物、塗料、複層塗膜形成方法及び塗装物 |
JP4201288B2 (ja) * | 1998-03-24 | 2008-12-24 | 三菱レイヨン株式会社 | (メタ)アクリル酸エステル、その製造方法、およびその(共)重合体 |
WO1999050322A1 (fr) * | 1998-03-27 | 1999-10-07 | Mitsubishi Rayon Co., Ltd. | Copolymere, son procede de preparation et composition de produit de reserve |
JP3936352B2 (ja) * | 1998-03-27 | 2007-06-27 | 三菱レイヨン株式会社 | 共重合体の製造方法 |
JP4221772B2 (ja) * | 1998-05-22 | 2009-02-12 | パナソニック株式会社 | 感温センサおよびそれを用いた電子機器 |
JP2000044640A (ja) * | 1998-07-29 | 2000-02-15 | Takeda Chem Ind Ltd | セラミック成形用感光性樹脂組成物 |
JP2000186116A (ja) * | 1998-12-21 | 2000-07-04 | Toagosei Co Ltd | (メタ)アクリル系共重合体、それを用いた樹脂組成物および塗料用組成物 |
JP2000191737A (ja) * | 1998-12-28 | 2000-07-11 | Daicel Chem Ind Ltd | 硬化性樹脂組成物 |
EP1063247A1 (en) * | 1998-12-28 | 2000-12-27 | DAICEL CHEMICAL INDUSTRIES, Ltd. | Curable resin composition, modified copolymer and resin composition, and alkali development type photocurable glass paste |
JP2002031891A (ja) * | 2000-07-17 | 2002-01-31 | Toray Ind Inc | ポジ型感放射線性組成物 |
JP2002069135A (ja) * | 2000-09-01 | 2002-03-08 | Mitsubishi Rayon Co Ltd | アクリル系共重合体、被覆用樹脂組成物および塗料 |
JP4526196B2 (ja) * | 2001-02-02 | 2010-08-18 | 大塚化学株式会社 | 紫外線吸収性共重合体、耐候性樹脂組成物及び記録材料 |
JP2002311583A (ja) * | 2001-04-18 | 2002-10-23 | Daicel Chem Ind Ltd | 感光性ペースト及びそれを用いたディスプレイ用部材の製造方法 |
JP2004161845A (ja) * | 2002-11-12 | 2004-06-10 | Mitsubishi Gas Chem Co Inc | アクリル系接着剤組成物 |
JP2004203934A (ja) * | 2002-12-24 | 2004-07-22 | Mitsubishi Gas Chem Co Inc | 仮固定用粘着剤組成物 |
JP2005216767A (ja) * | 2004-01-30 | 2005-08-11 | Jsr Corp | プラズマディスプレイパネル用無機粉体含有樹脂組成物、転写フィルムおよびプラズマディスプレイパネルの製造方法 |
JP4692116B2 (ja) * | 2005-07-13 | 2011-06-01 | Tdk株式会社 | セラミック塗料及び積層型電子部品の製造方法 |
JP3927992B1 (ja) * | 2005-09-21 | 2007-06-13 | 三菱レイヨン株式会社 | シラップ組成物、樹脂モルタル組成物および被覆方法 |
JP4973120B2 (ja) * | 2006-10-26 | 2012-07-11 | 住友ベークライト株式会社 | 液状樹脂組成物の製造方法、液状樹脂組成物および半導体装置 |
JP4973876B2 (ja) * | 2007-08-22 | 2012-07-11 | 信越化学工業株式会社 | パターン形成方法及びこれに用いるパターン表面コート材 |
JP5091700B2 (ja) * | 2008-01-30 | 2012-12-05 | 積水化学工業株式会社 | 積層セラミックコンデンサ内部電極用導電ペースト |
KR20120066942A (ko) | 2010-12-15 | 2012-06-25 | 삼성전기주식회사 | 내부전극용 도전성 페이스트 조성물, 이를 이용한 적층 세라믹 전자부품 및 이의 제조방법 |
JP5742391B2 (ja) * | 2011-03-31 | 2015-07-01 | Jsr株式会社 | 液浸用上層膜形成用組成物 |
JP5790253B2 (ja) * | 2011-07-29 | 2015-10-07 | 住友ベークライト株式会社 | 液状樹脂組成物および半導体装置 |
WO2013157458A1 (ja) * | 2012-04-18 | 2013-10-24 | 株式会社村田製作所 | 電極と該電極の製造方法、及び二次電池 |
-
2013
- 2013-11-27 WO PCT/JP2013/081950 patent/WO2014084273A1/ja active Application Filing
- 2013-11-27 JP JP2014549871A patent/JPWO2014084273A1/ja active Pending
- 2013-11-27 US US14/648,348 patent/US20150315305A1/en not_active Abandoned
- 2013-11-27 CN CN201380062442.2A patent/CN104822766B/zh active Active
- 2013-11-27 EP EP13858424.8A patent/EP2927277A4/en not_active Withdrawn
- 2013-11-27 KR KR1020157014191A patent/KR102057919B1/ko active IP Right Grant
- 2013-11-29 TW TW102143693A patent/TWI604010B/zh active
-
2018
- 2018-01-24 JP JP2018009557A patent/JP6667560B2/ja active Active
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2018104708A (ja) | 2018-07-05 |
TW201434927A (zh) | 2014-09-16 |
TWI604010B (zh) | 2017-11-01 |
CN104822766B (zh) | 2017-08-04 |
US20150315305A1 (en) | 2015-11-05 |
KR20150091313A (ko) | 2015-08-10 |
WO2014084273A1 (ja) | 2014-06-05 |
CN104822766A (zh) | 2015-08-05 |
JPWO2014084273A1 (ja) | 2017-01-05 |
EP2927277A4 (en) | 2016-08-03 |
KR102057919B1 (ko) | 2019-12-20 |
EP2927277A1 (en) | 2015-10-07 |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
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|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20181205 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
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|
A131 | Notification of reasons for refusal |
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|
A601 | Written request for extension of time |
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|
A521 | Request for written amendment filed |
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|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
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A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
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|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
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|
R250 | Receipt of annual fees |
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|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |