JP6288388B1 - 放射線像変換スクリーン及びフラットパネルディテクタ - Google Patents
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Abstract
本発明は、フタル酸エステルを使用することなく、従来の感度及び鮮鋭度を維持したままで、放射線像変換スクリーンのしなり性や、その保存安定性を十分に保った放射線像変換スクリーンの提供、さらに、蛍光体層の可塑剤が揮発したり、他の層や膜に移行したりすることを低減した放射線像変換スクリーンの提供を課題とする。該課題を、支持基板、及び、該支持基板上に積層された蛍光体層を含む放射線像変換スクリーンであって、該蛍光体層が、蛍光体粒子、ポリビニルアセタール樹脂、及びエーテル基を有するカルボン酸エステルを含有する、放射線像変換スクリーンで解決する。
Description
本発明は、放射線像変換スクリーン及びフラットパネルディテクタに関する。
従来、医療現場において、フィルムを用いたX線画像が広く用いられてきた。しかし、フィルムを用いたX線画像はアナログ画像情報であるため、解像度が十分でなく、また保存性も良くなかった。そこで、近年、コンピューテッドラジオグラフィ(computed radiography:CR)やフラットパネル型の放射線ディテクタ(flat panel detector:FPD)等のデジタル方式が開発されている。
放射線を可視光に変換する間接方式のFPDにおいては、放射線を可視光に変換するために、放射線像変換スクリーンが使用される。放射線像変換スクリーンは、タリウム賦活のヨウ化セシウム(CsI:Tl)やテルビウム賦活の酸硫化ガドリニウム(Gd2O2S:Tb)(GOS)等のX線用蛍光体を含み、照射されたX線に応じて、該X線用蛍光体が可視光を発光して、その発光をTFTやCCDなどを備えた光検出器で電気信号に変換することにより、X線の情報をデジタル画像情報に変換する。
FPDには、照射X線に対する感度がより高く、かつ、より高鮮鋭度のものが望まれている。感度を高めるためには放射線像変換スクリーンにおける蛍光体量を多くすることが有効であるが、蛍光体量を多くすると、放射線像変換スクリーンの厚みが増して蛍光体から発光した可視光がより広がりやすくなり鮮鋭度が低下する。この光の拡散の影響を抑え、鮮鋭度を保ったまま感度を向上させるために、例えば、特許文献1では、蛍光体の平均粒径や充填率、膜厚などを調整する方法が開示されている。
放射線を可視光に変換する間接方式のFPDにおいては、放射線を可視光に変換するために、放射線像変換スクリーンが使用される。放射線像変換スクリーンは、タリウム賦活のヨウ化セシウム(CsI:Tl)やテルビウム賦活の酸硫化ガドリニウム(Gd2O2S:Tb)(GOS)等のX線用蛍光体を含み、照射されたX線に応じて、該X線用蛍光体が可視光を発光して、その発光をTFTやCCDなどを備えた光検出器で電気信号に変換することにより、X線の情報をデジタル画像情報に変換する。
FPDには、照射X線に対する感度がより高く、かつ、より高鮮鋭度のものが望まれている。感度を高めるためには放射線像変換スクリーンにおける蛍光体量を多くすることが有効であるが、蛍光体量を多くすると、放射線像変換スクリーンの厚みが増して蛍光体から発光した可視光がより広がりやすくなり鮮鋭度が低下する。この光の拡散の影響を抑え、鮮鋭度を保ったまま感度を向上させるために、例えば、特許文献1では、蛍光体の平均粒径や充填率、膜厚などを調整する方法が開示されている。
しかしながら、特許文献1の方法では、感度及び鮮鋭度を維持したまま、放射線像変換スクリーンのしなり性や、その保存安定性を十分に保つことが不十分である場合があった。更に、近年では、可塑剤としてフタル酸エステルを含有しない放射線像変換スクリーンが人体や環境への影響が少ない点から、望まれている。
本発明は上記に鑑みてなされたものであり、フタル酸エステルを使用することなく、従来の感度及び鮮鋭度を維持したままで、放射線像変換スクリーンのしなり性や、その保存安定性(放射線像変換スクリーンを高温で、長期間保存した場合のしなり性)を十分に保った放射線像変換スクリーンの提供を課題とする。更に、本発明では蛍光体層の可塑剤が揮発したり、他の層や膜に移行したりすることを低減した放射線像変換スクリーンの提供を課題とする。また、本発明は、上記放射線像変換スクリーンと光検出器とを含む、高機能のフラットパネルディテクタの提供を課題とする。
本発明は上記に鑑みてなされたものであり、フタル酸エステルを使用することなく、従来の感度及び鮮鋭度を維持したままで、放射線像変換スクリーンのしなり性や、その保存安定性(放射線像変換スクリーンを高温で、長期間保存した場合のしなり性)を十分に保った放射線像変換スクリーンの提供を課題とする。更に、本発明では蛍光体層の可塑剤が揮発したり、他の層や膜に移行したりすることを低減した放射線像変換スクリーンの提供を課題とする。また、本発明は、上記放射線像変換スクリーンと光検出器とを含む、高機能のフラットパネルディテクタの提供を課題とする。
本発明者等は鋭意検討を行った結果、放射線像変換スクリーンを特定の層を含む構成とすることで、上記課題を解決しうることを見出して、本発明に到達した。
本発明は、第一の発明、第二の発明、及び第三の発明を含む。
本発明の第一の発明は、支持基板、及び、該支持基板上に積層された蛍光体層を含む放射線像変換スクリーンであって、該蛍光体層が、蛍光体粒子、ポリビニルアセタール樹脂、及びエーテル基を有するカルボン酸エステルを含有する、放射線像変換スクリーンである。
前記放射線像変換スクリーンは、前記エーテル基を有するカルボン酸エステルの分子量が500以下であることが好ましい。
また、前記放射線像変換スクリーンは、前記エーテル基を有するカルボン酸エステルが、アジピン酸ビス(2−ブトキシエチル)、又は、安息香酸グリコールエステルであることが好ましい。
また、前記放射線像変換スクリーンは、前記ポリビニルアセタール樹脂がポリビニルブチラール樹脂であることが好ましい。
また、前記放射線像変換スクリーンは、前記ポリビニルアセタール樹脂の平均分子量が10000以上150000以下であることが好ましい。
また、前記放射線像変換スクリーンは、前記蛍光体層が更にウレタン樹脂を含むことが好ましい。
また、前記放射線像変換スクリーンは、前記ウレタン樹脂の平均分子量が10000以上150000以下であることが好ましい。
また、前記放射線像変換スクリーンは、前記蛍光体が、GOS蛍光体、希土類タンタル系複合酸化物蛍光体、及びCsI蛍光体からなる群から選ばれる1以上の蛍光体であることが好ましい。
本発明の第一の発明は、支持基板、及び、該支持基板上に積層された蛍光体層を含む放射線像変換スクリーンであって、該蛍光体層が、蛍光体粒子、ポリビニルアセタール樹脂、及びエーテル基を有するカルボン酸エステルを含有する、放射線像変換スクリーンである。
前記放射線像変換スクリーンは、前記エーテル基を有するカルボン酸エステルの分子量が500以下であることが好ましい。
また、前記放射線像変換スクリーンは、前記エーテル基を有するカルボン酸エステルが、アジピン酸ビス(2−ブトキシエチル)、又は、安息香酸グリコールエステルであることが好ましい。
また、前記放射線像変換スクリーンは、前記ポリビニルアセタール樹脂がポリビニルブチラール樹脂であることが好ましい。
また、前記放射線像変換スクリーンは、前記ポリビニルアセタール樹脂の平均分子量が10000以上150000以下であることが好ましい。
また、前記放射線像変換スクリーンは、前記蛍光体層が更にウレタン樹脂を含むことが好ましい。
また、前記放射線像変換スクリーンは、前記ウレタン樹脂の平均分子量が10000以上150000以下であることが好ましい。
また、前記放射線像変換スクリーンは、前記蛍光体が、GOS蛍光体、希土類タンタル系複合酸化物蛍光体、及びCsI蛍光体からなる群から選ばれる1以上の蛍光体であることが好ましい。
本発明の第二の発明は、支持基板、及び、該支持基板上に積層された蛍光体層を含む放射線像変換スクリーンであって、該蛍光体層が、蛍光体粒子、SP値が10 (cal/cm3)1/2以上の溶剤に溶解する樹脂、及びエーテル基を有するカルボン酸エステルを含有する、放射線像変換スクリーンである。
本発明の第三の発明は、前記第一の発明又は第二の発明に係る放射線像変換スクリーンと光検出器とを含む、フラットパネルディテクタである。
本発明により、フタル酸エステルを使用することなく、従来の感度及び鮮鋭度を維持したまま、放射線像変換スクリーンのしなり性や、その保存安定性を十分に保った放射線像変換スクリーンの提供が可能となる。更に、本発明では蛍光体層の可塑剤が揮発したり、他の層や膜に移行したりすることを低減した放射線像変換スクリーンの提供が可能となる。また、本発明により、上記放射線像変換スクリーンと光検出器とを含む、高機能のフラットパネルディテクタの提供が可能となる。
以下、本発明について実施形態や例示物を示して説明するが、本発明は以下の実施形態や例示物等に限定されるものではなく、本発明の要旨を逸脱しない範囲において任意に変形して実施することができる。
尚、本明細書において「〜」を用いて表される数値範囲は、「〜」の前後に記載される数値を下限値及び上限値として含む範囲を意味する。
以下、図1を用いて本発明に係る放射線像変換スクリーンおよびフラットパネルディテクタ(以下、「FPD」と称する場合がある。)の好ましい構成について説明するが、本発明はこれらに限定されない。
尚、本明細書において「〜」を用いて表される数値範囲は、「〜」の前後に記載される数値を下限値及び上限値として含む範囲を意味する。
以下、図1を用いて本発明に係る放射線像変換スクリーンおよびフラットパネルディテクタ(以下、「FPD」と称する場合がある。)の好ましい構成について説明するが、本発明はこれらに限定されない。
<第一の発明及び第二の発明>
本発明の第一の発明は、支持基板、及び、該支持基板上に積層された蛍光体層を含む放射線像変換スクリーンであって、該蛍光体層が、蛍光体粒子、ポリビニルアセタール樹脂、及びエーテル基を有するカルボン酸エステルを含有する、放射線像変換スクリーンである。
本発明の第二の発明は、支持基板、及び、該支持基板上に積層された蛍光体層を含む放射線像変換スクリーンであって、該蛍光体層が、蛍光体粒子、SP値が10 (cal/cm3)1/2以上の溶剤に溶解する樹脂、及びエーテル基を有するカルボン酸エステルを含有する、放射線像変換スクリーンである。
本発明の第一の発明は、支持基板、及び、該支持基板上に積層された蛍光体層を含む放射線像変換スクリーンであって、該蛍光体層が、蛍光体粒子、ポリビニルアセタール樹脂、及びエーテル基を有するカルボン酸エステルを含有する、放射線像変換スクリーンである。
本発明の第二の発明は、支持基板、及び、該支持基板上に積層された蛍光体層を含む放射線像変換スクリーンであって、該蛍光体層が、蛍光体粒子、SP値が10 (cal/cm3)1/2以上の溶剤に溶解する樹脂、及びエーテル基を有するカルボン酸エステルを含有する、放射線像変換スクリーンである。
フラットパネルディテクタ1は、放射線像変換スクリーン2、光検出器3、および電源部(図示しない)を含む。放射線像変換スクリーン2は、X線等の入射した放射線のエネルギーを吸収して、波長が300nm以上800nm以下の範囲の電磁波、すなわち、可視光線を中心に紫外光から赤外光にわたる波長範囲の電磁波(光)を発光する。
放射線像変換スクリーン2は、支持基板4、及び該支持基板4上に積層された蛍光体層5を含む。
フラットパネルディテクタ1は、放射線像変換スクリーン2の出光面と光検出器3を、接着又は密着してなる。また、放射線像変換スクリーン2の出光面と光検出器3の間に保護層6を有していてもよく、保護層6は、単層でも複数層でも構わない。放射線像変換スクリーン2で発光した光が光検出器3に到達して光電変換を行い、出力する。
以下、各構成部材について説明する。
フラットパネルディテクタ1は、放射線像変換スクリーン2の出光面と光検出器3を、接着又は密着してなる。また、放射線像変換スクリーン2の出光面と光検出器3の間に保護層6を有していてもよく、保護層6は、単層でも複数層でも構わない。放射線像変換スクリーン2で発光した光が光検出器3に到達して光電変換を行い、出力する。
以下、各構成部材について説明する。
[支持基板]
蛍光体層を積層する支持基板としては、例えば酢酸セルロース、プロピオン酸セルロース、酢酸酪酸セルロース、ポリエチレンテレフタレートなどのポリエステル、ポリスチレン、ポリメタクリレート、ポリアミド、塩化ビニル−酢酸ビニルコポリマー、ポリカーボネートなどの樹脂、及びこれらにTiO2やAl2O3などのフィラーを分散させたもの;紙、アルミニウムなどが用いられる。
支持基板の蛍光体層を積層する側の面の反射率は、通常80%以上であり、好ましくは90%以上である。
支持基板の厚みは特段限定されず、通常10μm以上、好ましくは50μm以上、また通常500μm以下、好ましくは400μm以下、より好ましくは300μm以下、更に好ましくは250μm以下である。
蛍光体層を積層する支持基板としては、例えば酢酸セルロース、プロピオン酸セルロース、酢酸酪酸セルロース、ポリエチレンテレフタレートなどのポリエステル、ポリスチレン、ポリメタクリレート、ポリアミド、塩化ビニル−酢酸ビニルコポリマー、ポリカーボネートなどの樹脂、及びこれらにTiO2やAl2O3などのフィラーを分散させたもの;紙、アルミニウムなどが用いられる。
支持基板の蛍光体層を積層する側の面の反射率は、通常80%以上であり、好ましくは90%以上である。
支持基板の厚みは特段限定されず、通常10μm以上、好ましくは50μm以上、また通常500μm以下、好ましくは400μm以下、より好ましくは300μm以下、更に好ましくは250μm以下である。
[蛍光体層]
本発明の第一の発明に用いる蛍光体層は、蛍光体粒子、ポリビニルアセタール樹脂、及びエーテル基を有するカルボン酸エステルを含む。
本発明の第二の発明に用いる蛍光体層は、蛍光体粒子、SP値が10以上の溶剤に溶解する樹脂、及びエーテル基を有するカルボン酸エステルを含む。
本発明の第一の発明に用いる蛍光体層は、蛍光体粒子、ポリビニルアセタール樹脂、及びエーテル基を有するカルボン酸エステルを含む。
本発明の第二の発明に用いる蛍光体層は、蛍光体粒子、SP値が10以上の溶剤に溶解する樹脂、及びエーテル基を有するカルボン酸エステルを含む。
(蛍光体粒子)
本発明の第一の発明及び第二の発明における蛍光体粒子は、X線等の入射した放射線のエネルギーを吸収して、波長が300nm以上800nm以下の範囲の電磁波、すなわち、可視光線を中心に紫外光から赤外光にわたる電磁波(光)を発光する蛍光体の粒子である。
本発明の第一の発明及び第二の発明における蛍光体粒子は、X線等の入射した放射線のエネルギーを吸収して、波長が300nm以上800nm以下の範囲の電磁波、すなわち、可視光線を中心に紫外光から赤外光にわたる電磁波(光)を発光する蛍光体の粒子である。
蛍光体の種類は、本発明の第一の発明及び第二の発明による効果を損なわない限り特に制限はないが、X線から可視光への変換効率が高く、また発光された可視光を吸収しにくいものが好ましい。
例えば、特開2000−162394号公報や特開2003−82347号公報に記載されているような、酸硫化ガドリニウム蛍光体(Gd2O2S)に、テルビウム(Tb)、ジルプロシウム(Dy)、セシウム(Ce)、プラセオジム(Pr)などの賦活物質を含有させた蛍光体(以下、これらをGOS蛍光体とも称する。)を用いることができる。
また、希土類タンタル系複合酸化物蛍光体、例えば、特開平2−47185号公報に記載されているような、組成式が(L1−nTbn)2O3・xTa2O5・yB2O3・zNaF(式中、LはY、La、GdおよびLuの中から選ばれた少なくとも1種の元素であり、n、xおよびyはそれぞれ5×10−4≦n≦0.1、0.95≦x≦1.05、0≦y≦5.0および0<z≦0.52となる数である。)で表される希土類タンタル系複合酸化物蛍光体を用いてもよい。
また、例えば、特開2011−074352号公報に記載されているような、CsIや、CsIとヨウ化ナトリウム(NaI)を任意のモル比で混合したものや、特開2001−59899号公報に記載されているような、CsIにインジウム(In)、タリウム(Tl)、リチウム(Li)、カリウム(K)、ルビジウム(Rb)、ナトリウム(Na)などの賦活物質を含有する蛍光体(以下、これらをCsI蛍光体とも称する。)を用いてもよい。
例えば、特開2000−162394号公報や特開2003−82347号公報に記載されているような、酸硫化ガドリニウム蛍光体(Gd2O2S)に、テルビウム(Tb)、ジルプロシウム(Dy)、セシウム(Ce)、プラセオジム(Pr)などの賦活物質を含有させた蛍光体(以下、これらをGOS蛍光体とも称する。)を用いることができる。
また、希土類タンタル系複合酸化物蛍光体、例えば、特開平2−47185号公報に記載されているような、組成式が(L1−nTbn)2O3・xTa2O5・yB2O3・zNaF(式中、LはY、La、GdおよびLuの中から選ばれた少なくとも1種の元素であり、n、xおよびyはそれぞれ5×10−4≦n≦0.1、0.95≦x≦1.05、0≦y≦5.0および0<z≦0.52となる数である。)で表される希土類タンタル系複合酸化物蛍光体を用いてもよい。
また、例えば、特開2011−074352号公報に記載されているような、CsIや、CsIとヨウ化ナトリウム(NaI)を任意のモル比で混合したものや、特開2001−59899号公報に記載されているような、CsIにインジウム(In)、タリウム(Tl)、リチウム(Li)、カリウム(K)、ルビジウム(Rb)、ナトリウム(Na)などの賦活物質を含有する蛍光体(以下、これらをCsI蛍光体とも称する。)を用いてもよい。
本発明の第一の発明及び第二の発明における蛍光体は、1種を単独でもよく、異なる2種以上でもよいが、GOS蛍光体、希土類タンタル系複合酸化物蛍光体、及びCsI蛍光体からなる群から選ばれる1以上の蛍光体であることが好ましい。
また、蛍光体層に含まれる蛍光体の平均粒径は、通常30μm以下、好ましくは15μm以下、また通常0.05μm以上、好ましくは0.1μm以上である。当該平均粒径とは体積基準の平均粒径であって、レーザー回折・散乱法を測定原理とする粒度分布測定装置を用いて、試料を測定し、粒度分布(累積分布)を求めたときの体積基準の相対粒子量が50%になる粒子径(d50)と定義される。該平均粒径は、レーザー粒度計を用いて測定することができる。
平均粒径が上記範囲内であると、光を散乱する効果が大きく、得られる放射線像変換スクリーンの感度が良好である点で好ましい。
平均粒径が上記範囲内であると、光を散乱する効果が大きく、得られる放射線像変換スクリーンの感度が良好である点で好ましい。
(バインダー樹脂)
本発明の第一の発明及び第二の発明における蛍光体層に含まれる樹脂(バインダー樹脂)としては、蛍光体粒子を分散させ、かつ、この分散状態をX線検出器の使用環境において良好に維持することができ、そして、本発明の第一の発明及び第二の発明に係る放射線像変換スクリーンを形成できる限り、任意の材料を用いることができる。
バインダー樹脂の平均分子量は、好ましくは10000以上、より好ましくは20000以上であり、一方で、好ましくは150000以下、より好ましくは100000以下である。平均分子量が100000より大きくなると、スラリーの粘度が高くなりすぎて蛍光体層形成の生産性が低下する。また、10000より小さくなると、形成された蛍光体層の強度が低下する。バインダー樹脂の平均分子量は、例えば、GPCにより測定することができる。
本発明の第一の発明及び第二の発明における蛍光体層に含まれる樹脂(バインダー樹脂)としては、蛍光体粒子を分散させ、かつ、この分散状態をX線検出器の使用環境において良好に維持することができ、そして、本発明の第一の発明及び第二の発明に係る放射線像変換スクリーンを形成できる限り、任意の材料を用いることができる。
バインダー樹脂の平均分子量は、好ましくは10000以上、より好ましくは20000以上であり、一方で、好ましくは150000以下、より好ましくは100000以下である。平均分子量が100000より大きくなると、スラリーの粘度が高くなりすぎて蛍光体層形成の生産性が低下する。また、10000より小さくなると、形成された蛍光体層の強度が低下する。バインダー樹脂の平均分子量は、例えば、GPCにより測定することができる。
本発明の第一の発明における該バインダー樹脂は、ポリビニルアセタール樹脂である。ポリビニルアセタール樹脂は、エーテル基を有するカルボン酸エステルと相溶性が良く、放射線像変換スクリーンとして好適な光学特性を持つ。ポリビニルアセタール樹脂の中でも、好ましくは例えば、ポリビニルブチラール樹脂、ポリビニルプロピラール樹脂、ポリビニルエチラール樹脂、ポリビニルメチラール樹脂等が挙げられ、これらの中でも、樹脂の強度と柔軟性の観点から、特に好ましくはポリビニルブチラール樹脂である。
また、第一の発明における蛍光体層は、バインダー樹脂として、前記ポリビニルアセタール樹脂の他に、更にウレタン樹脂、硝化綿(ニトロセルロース)、酢酸セルロース、エチルセルロース、綿状ポリエステル、ポリ酢酸ビニル、塩化ビニリデン−塩化ビニルポリマー、塩化ビニル−酢酸ビニルコポリマー、ポリアルキル(メタ)アクリレート、ポリカーボネート、セルロースアセテートブチレート、ポリビニルアルコール、アクリル樹脂、ゼラチン;デキストリン等のポリサッカライド、及びアラビアゴムなどをからなる群から選ばれる1以上を含むことが好ましい。
これらの中でも、蛍光体層の可塑性、透明性等、及び、放射線像変換スクリーンの感度及び鮮鋭度を良化できることから、ウレタン樹脂が好ましい。
バインダー樹脂と可塑剤の合計量に対する、ポリビニルアセタール樹脂の含有量は特に制限されないが、通常50質量%以上、好ましくは60質量%以上、より好ましくは70質量%以上であり、上限は100質量%未満である。
上記範囲であれば、放射線像変換スクリーンのしなり性や、その保存安定性を十分に保つことが可能となる。
バインダー樹脂と可塑剤の合計量に対する、ポリビニルアセタール樹脂以外のバインダー樹脂の含有量は特に制限されないが、通常50質量%以下、好ましくは40質量%以下、より好ましくは20質量%以下、特に好ましくは10質量%以下であり、通常0質量%以上である。
上記範囲であれば、放射線像変換スクリーンのしなり性や、その保存安定性を十分に保つことが可能となる。
また、第一の発明における蛍光体層は、バインダー樹脂として、前記ポリビニルアセタール樹脂の他に、更にウレタン樹脂、硝化綿(ニトロセルロース)、酢酸セルロース、エチルセルロース、綿状ポリエステル、ポリ酢酸ビニル、塩化ビニリデン−塩化ビニルポリマー、塩化ビニル−酢酸ビニルコポリマー、ポリアルキル(メタ)アクリレート、ポリカーボネート、セルロースアセテートブチレート、ポリビニルアルコール、アクリル樹脂、ゼラチン;デキストリン等のポリサッカライド、及びアラビアゴムなどをからなる群から選ばれる1以上を含むことが好ましい。
これらの中でも、蛍光体層の可塑性、透明性等、及び、放射線像変換スクリーンの感度及び鮮鋭度を良化できることから、ウレタン樹脂が好ましい。
バインダー樹脂と可塑剤の合計量に対する、ポリビニルアセタール樹脂の含有量は特に制限されないが、通常50質量%以上、好ましくは60質量%以上、より好ましくは70質量%以上であり、上限は100質量%未満である。
上記範囲であれば、放射線像変換スクリーンのしなり性や、その保存安定性を十分に保つことが可能となる。
バインダー樹脂と可塑剤の合計量に対する、ポリビニルアセタール樹脂以外のバインダー樹脂の含有量は特に制限されないが、通常50質量%以下、好ましくは40質量%以下、より好ましくは20質量%以下、特に好ましくは10質量%以下であり、通常0質量%以上である。
上記範囲であれば、放射線像変換スクリーンのしなり性や、その保存安定性を十分に保つことが可能となる。
本発明の第二の発明における該バインダー樹脂は、SP値が10 (cal/cm3)1/2以上の溶剤に溶解する樹脂である。SP値が10 (cal/cm3)1/2以上の溶剤に溶解する樹脂とは、2−ブタノール(10.8 (cal/cm3)1/2)、イソプロピルアルコール(11.5 (cal/cm3)1/2)、nーオクタノール(10.3 (cal/cm3)1/2)、tert−ブタノール(10.6 (cal/cm3)1/2)、シクロヘキサノール(11.4 (cal/cm3)1/2)、n−ブタノール(11.4 (cal/cm3)1/2)、n−プロピルアルコール(11.9 (cal/cm3)1/2)からなる群から選ばれるSP値が10 (cal/cm3)1/2以上の溶剤に5wt%の樹脂を添加した際に、25℃において完全に溶解する樹脂をいう。
尚、樹脂が、溶剤に完全に溶解したかどうかは、目視で測定する。
尚、樹脂が、溶剤に完全に溶解したかどうかは、目視で測定する。
(可塑剤)
本発明第一の発明及び第二の発明における可塑剤は、エーテル基を有するカルボン酸エステルである。エーテル基を有するカルボン酸エステルは極性が大きいため、前記バインダー樹脂との相溶性が高く、また、蛍光体層の可塑性、透明性等、及び、放射線像変換スクリーンの感度及び鮮鋭度の良化に寄与する。エーテル基を有するカルボン酸エステルとしては、多官能のカルボン酸のエステルが好ましく、ジカルボン酸のエステルであることが特に好ましい。
エーテル基を有するカルボン酸エステルの分子量は、500以下であることが好ましく、より好ましくは450以下、更に好ましくは400以下であり、また下限は限定されないが、好ましくは50以上、より好ましくは100以上、更に好ましくは200以上、特に好ましくは300以上である。分子量が500を超えると、エーテル基を有するカルボン酸エステルと前記バインダー樹脂との相溶性が低下する場合がある。
また、エーテル基を有するカルボン酸エステルは揮発性の低いものが好ましい。放射線像変換スクリーンの保存中にエーテル基を有するカルボン酸エステルが揮発してしまうと、蛍光体層の可塑性が失われ、保存安定性が悪くなることがあるからである。
エーテル基を有するカルボン酸エステルとしては、例えば、アジピン酸ビス(2−ブトキシエチル)、安息香酸グリコールエステル、ポリエーテルエステル等が挙げられる。これらの中でも、アジピン酸ビス(2−ブトキシエチル)、又は、安息香酸グリコールエステルが好ましい。
バインダー樹脂と可塑剤の合計量に対する、可塑剤の含有量は特に制限されないが、通常0.1質量%以上、好ましくは1質量%以上、より好ましくは5質量%以上、更に好ましくは10質量%以上であり、通常50質量%以下、好ましくは40質量%以下、より好ましくは30質量%以下である。
上記範囲であれば、放射線像変換スクリーンのしなり性や、その保存安定性を十分に保つことが可能となる。
本発明第一の発明及び第二の発明における可塑剤は、エーテル基を有するカルボン酸エステルである。エーテル基を有するカルボン酸エステルは極性が大きいため、前記バインダー樹脂との相溶性が高く、また、蛍光体層の可塑性、透明性等、及び、放射線像変換スクリーンの感度及び鮮鋭度の良化に寄与する。エーテル基を有するカルボン酸エステルとしては、多官能のカルボン酸のエステルが好ましく、ジカルボン酸のエステルであることが特に好ましい。
エーテル基を有するカルボン酸エステルの分子量は、500以下であることが好ましく、より好ましくは450以下、更に好ましくは400以下であり、また下限は限定されないが、好ましくは50以上、より好ましくは100以上、更に好ましくは200以上、特に好ましくは300以上である。分子量が500を超えると、エーテル基を有するカルボン酸エステルと前記バインダー樹脂との相溶性が低下する場合がある。
また、エーテル基を有するカルボン酸エステルは揮発性の低いものが好ましい。放射線像変換スクリーンの保存中にエーテル基を有するカルボン酸エステルが揮発してしまうと、蛍光体層の可塑性が失われ、保存安定性が悪くなることがあるからである。
エーテル基を有するカルボン酸エステルとしては、例えば、アジピン酸ビス(2−ブトキシエチル)、安息香酸グリコールエステル、ポリエーテルエステル等が挙げられる。これらの中でも、アジピン酸ビス(2−ブトキシエチル)、又は、安息香酸グリコールエステルが好ましい。
バインダー樹脂と可塑剤の合計量に対する、可塑剤の含有量は特に制限されないが、通常0.1質量%以上、好ましくは1質量%以上、より好ましくは5質量%以上、更に好ましくは10質量%以上であり、通常50質量%以下、好ましくは40質量%以下、より好ましくは30質量%以下である。
上記範囲であれば、放射線像変換スクリーンのしなり性や、その保存安定性を十分に保つことが可能となる。
(蛍光体粒子の充填率(体積%))
本発明の第一の発明及び第二の発明における蛍光体層中の蛍光体粒子の充填率は、体積%で、通常40%以上、好ましくは50%以上、更に好ましくは60%以上、また通常100%以下である。
上記範囲内であると、入射するX線を効率的に可視光に変換できる点で好ましい。
尚、充填率の測定方法は、下記の通り行う。
塗布前の支持基板の重さ(W0)と、蛍光体層を形成した後の重さ(W1)を測定する。形成された蛍光体粒子を含む層の膜厚及び面積と、測定した膜の重さ(W1−W0)から、単位体積当りの重さを算出する。
一方、蛍光体と媒質の重さの比より、層中に含有される蛍光体の単位体積当りの重さを算出する。算出された蛍光体の単位体積当りの含有量と、蛍光体の比重から、蛍光体粒子の充填率(体積%)を算出することが可能となる。
本発明の第一の発明及び第二の発明における蛍光体層中の蛍光体粒子の充填率は、体積%で、通常40%以上、好ましくは50%以上、更に好ましくは60%以上、また通常100%以下である。
上記範囲内であると、入射するX線を効率的に可視光に変換できる点で好ましい。
尚、充填率の測定方法は、下記の通り行う。
塗布前の支持基板の重さ(W0)と、蛍光体層を形成した後の重さ(W1)を測定する。形成された蛍光体粒子を含む層の膜厚及び面積と、測定した膜の重さ(W1−W0)から、単位体積当りの重さを算出する。
一方、蛍光体と媒質の重さの比より、層中に含有される蛍光体の単位体積当りの重さを算出する。算出された蛍光体の単位体積当りの含有量と、蛍光体の比重から、蛍光体粒子の充填率(体積%)を算出することが可能となる。
(蛍光体層の蛍光体積層量)
本発明の第一の発明及び第二の発明における蛍光体層の蛍光体積層量は特に限定されず、放射線像変換スクリーンの大きさや、要求される感度により適宜設定できる。蛍光体粒子が積層して蛍光体層を形成することが好ましく、通常20mg/cm2以上、好ましくは30mg/cm2以上、より好ましくは40mg/cm2以上、更に好ましくは50mg/cm2以上、特に好ましくは60mg/cm2以上であり、また通常1000mg/cm2以下、好ましくは500mg/cm2以下である。
高エネルギーの放射線を利用する場合、蛍光体積層量は150mg/cm2以上、300mg/cm2以下であることが好ましい。
本発明の第一の発明及び第二の発明における蛍光体層の蛍光体積層量は特に限定されず、放射線像変換スクリーンの大きさや、要求される感度により適宜設定できる。蛍光体粒子が積層して蛍光体層を形成することが好ましく、通常20mg/cm2以上、好ましくは30mg/cm2以上、より好ましくは40mg/cm2以上、更に好ましくは50mg/cm2以上、特に好ましくは60mg/cm2以上であり、また通常1000mg/cm2以下、好ましくは500mg/cm2以下である。
高エネルギーの放射線を利用する場合、蛍光体積層量は150mg/cm2以上、300mg/cm2以下であることが好ましい。
[蛍光体層の形成方法]
本発明の第一の発明及び第二の発明における蛍光体層の形成方法としては、特に限定は無く、例えば、真空蒸着法により層を形成する方法や湿式成膜法により層を形成する方法が挙げられる。
以下、蛍光体粒子、蛍光体粒子を分散する樹脂(バインダー樹脂)、及びエーテル基を有するカルボン酸エステルを含む蛍光体含有組成物を用いて、湿式成膜法により蛍光体層を形成する方法について詳説する。
湿式成膜法で蛍光体層を形成する場合、その工程には通常、蛍光体含有組成物調製工程、塗布工程、及び乾燥工程を含む。尚、乾燥工程後に、後処理工程(洗浄、乾燥などを行う工程)を含んでいてもよい。
本発明の第一の発明及び第二の発明における蛍光体層の形成方法としては、特に限定は無く、例えば、真空蒸着法により層を形成する方法や湿式成膜法により層を形成する方法が挙げられる。
以下、蛍光体粒子、蛍光体粒子を分散する樹脂(バインダー樹脂)、及びエーテル基を有するカルボン酸エステルを含む蛍光体含有組成物を用いて、湿式成膜法により蛍光体層を形成する方法について詳説する。
湿式成膜法で蛍光体層を形成する場合、その工程には通常、蛍光体含有組成物調製工程、塗布工程、及び乾燥工程を含む。尚、乾燥工程後に、後処理工程(洗浄、乾燥などを行う工程)を含んでいてもよい。
(蛍光体含有組成物調製工程)
蛍光体含有組成物調製工程では、前記蛍光体粒子、前記樹脂(バインダー樹脂)、及び前記エーテル基を有するカルボン酸エステルを含む蛍光体含有組成物を調製する。蛍光体含有組成物の形状は、粉末状であってもスラリー状であってもよい。
蛍光体含有組成物は、前記蛍光体粒子、前記樹脂(バインダー樹脂)、及び前記エーテル基を有するカルボン酸エステルを含み、必要に応じてその他の媒質、例えば、分散剤、光重合性開始剤/熱重合開始剤等を含有してもよい。また、組成物の粘度を調整する為に、有機溶剤などを含んでいてもよい。
蛍光体含有組成物調製工程では、前記蛍光体粒子、前記樹脂(バインダー樹脂)、及び前記エーテル基を有するカルボン酸エステルを含む蛍光体含有組成物を調製する。蛍光体含有組成物の形状は、粉末状であってもスラリー状であってもよい。
蛍光体含有組成物は、前記蛍光体粒子、前記樹脂(バインダー樹脂)、及び前記エーテル基を有するカルボン酸エステルを含み、必要に応じてその他の媒質、例えば、分散剤、光重合性開始剤/熱重合開始剤等を含有してもよい。また、組成物の粘度を調整する為に、有機溶剤などを含んでいてもよい。
蛍光体含有組成物に含まれるバインダー樹脂の含有量は、蛍光体含有組成物全量に対して、通常0.1重量%以上、好ましくは2.0重量%以上であり、また通常20重量%以下、好ましくは10重量%以下である。
蛍光体含有組成物に含有されていてもよい分散剤としては、本発明の第一の発明及び第二の発明による効果を損なわない限り特に制限はないが、例えば、フタル酸、ステアリン酸などが挙げられる。分散剤は、1種を単独で用いてもよく、異なる2種以上を併用してもよい。
蛍光体含有組成物に含有されていてもよい有機溶剤としては、上記蛍光体及び媒質を溶解又は分散できるものであれば特に制限はないが、例えば、エタノール、メチルエチルエーテル、酢酸ブチル、酢酸エチル、エチルエーテル、キシレン、トルエン、2−ブタノール、イソプロピルアルコール、メチルエチルケトンなどが挙げられる。有機溶剤は1種を単独で用いてもよく、異なる2種以上を併用してもよい。
蛍光体と媒質との屈折率差が大きいほど、蛍光体粒子における光散乱効果が大きく、蛍光体から発光した光を凹部に集光しやすい点で、媒質の屈折率は、1.3以下が好ましく、1.1以下が更に好ましい。
蛍光体を含む上記原料を、適宜混合・撹拌することで、蛍光体含有組成物を調製できる。
蛍光体を含む上記原料を、適宜混合・撹拌することで、蛍光体含有組成物を調製できる。
(塗布工程・乾燥工程)
塗布工程では、調製した蛍光体含有組成物を支持基板上に塗布し、塗膜を形成する。
塗布による塗膜の形成方法としては、本発明の第一の発明及び第二の発明による効果を損なわない限り特に制限はなく、公知の技術が適用可能である。例えば、ダイコート法、スクリーン印刷法、インクジェット法、スピンコーター法などが挙げられる。
乾燥工程では、上記塗布工程で形成された塗膜は、ホットプレートや温風乾燥機等を使って乾燥もしくは熱硬化させ、または紫外線照射装置などを用いて光硬化させることで蛍光体層を得ることができる。
蛍光体層は、同一又は異なる2種以上の膜を積層することで、多層を形成していてもよい。多層とする場合、例えば、蛍光体の平均粒径や粒度分布、含有される媒質などが異なる層を適宜積層できる。
塗布工程では、調製した蛍光体含有組成物を支持基板上に塗布し、塗膜を形成する。
塗布による塗膜の形成方法としては、本発明の第一の発明及び第二の発明による効果を損なわない限り特に制限はなく、公知の技術が適用可能である。例えば、ダイコート法、スクリーン印刷法、インクジェット法、スピンコーター法などが挙げられる。
乾燥工程では、上記塗布工程で形成された塗膜は、ホットプレートや温風乾燥機等を使って乾燥もしくは熱硬化させ、または紫外線照射装置などを用いて光硬化させることで蛍光体層を得ることができる。
蛍光体層は、同一又は異なる2種以上の膜を積層することで、多層を形成していてもよい。多層とする場合、例えば、蛍光体の平均粒径や粒度分布、含有される媒質などが異なる層を適宜積層できる。
[保護層]
本発明の第一の発明及び第二の発明に係る放射線像変換スクリーンは、保護層を含んでもよい。例えば、蛍光体層と支持基板との間や、放射線像変換スクリーンの出光面と光検出器との間に保護層を含んでもよく、保護層は、単層でも複数層でも構わない。
保護層を形成する材料は、本発明の第一の発明及び第二の発明による効果を損なわない限り特に制限はないが、例えば、ウレタン(メタ)アクリレート、単官能(メタ)アクリレート、多官能(メタ)アクリレートを含有する放射線硬化性組成物の硬化物等や、粘着層を有するポリエチレンテレフタレート(PET)等のフィルムがある。該放射線硬化性組成物中には、必要に応じて適宜上記以外の材料が含有されていてもよい。
本発明の第一の発明及び第二の発明に係る放射線像変換スクリーンは、保護層を含んでもよい。例えば、蛍光体層と支持基板との間や、放射線像変換スクリーンの出光面と光検出器との間に保護層を含んでもよく、保護層は、単層でも複数層でも構わない。
保護層を形成する材料は、本発明の第一の発明及び第二の発明による効果を損なわない限り特に制限はないが、例えば、ウレタン(メタ)アクリレート、単官能(メタ)アクリレート、多官能(メタ)アクリレートを含有する放射線硬化性組成物の硬化物等や、粘着層を有するポリエチレンテレフタレート(PET)等のフィルムがある。該放射線硬化性組成物中には、必要に応じて適宜上記以外の材料が含有されていてもよい。
保護層の塗布方法は、本発明の第一の発明及び第二の発明による効果を損なわない限り特に制限はなく、公知の技術が適用可能である。例えば、ダイコート法、スクリーン印刷法、インクジェット法、スピンコーター法などが挙げられる。また、保護層を形成する材料を塗布した後に、乾燥工程、後処理工程(洗浄、乾燥)等を任意に含んでいてもよい。
保護層の厚みは、本発明の第一の発明及び第二の発明による効果を損なわない限り特に制限はないが、通常0.01μm以上、好ましくは1μm以上、さらに好ましくは2μm以上である。一方で、通常20μm以下、好ましくは9μm以下、より好ましくは6μm以下である。
保護層の厚みが上記範囲内であると、表面保護性と鮮鋭度低下防止の観点で好ましいである点で好ましい。
保護層の厚みが上記範囲内であると、表面保護性と鮮鋭度低下防止の観点で好ましいである点で好ましい。
[接着層]
本発明の第一の発明及び第二の発明に係る放射線像変換スクリーンは、各層の間(例えば支持基板と保護層の間や蛍光体層と保護層の間)に接着層を有してもよい。
接着層は、本発明の第一の発明及び第二の発明による効果を損なわない限り、その構成は特に限定されない。
接着層を構成する材料としては、水分散系、溶液系、反応系、ホットメルト(感熱)系等、いずれの分類のものであってもよいが、水分散系、溶液系のものが好ましく、特に水分散系のものが好ましい。
本発明の第一の発明及び第二の発明に係る放射線像変換スクリーンは、各層の間(例えば支持基板と保護層の間や蛍光体層と保護層の間)に接着層を有してもよい。
接着層は、本発明の第一の発明及び第二の発明による効果を損なわない限り、その構成は特に限定されない。
接着層を構成する材料としては、水分散系、溶液系、反応系、ホットメルト(感熱)系等、いずれの分類のものであってもよいが、水分散系、溶液系のものが好ましく、特に水分散系のものが好ましい。
接着層は1種または2種以上の樹脂を含むことが好ましく、また、樹脂と他の成分との共重合体を含むことも好ましい。該樹脂としては、ポリウレタン樹脂、スチレン・ブタジエン共重合体、アクリロニトリル・ブタジエン共重合体、ポリエステル樹脂、クロロプレン樹脂、シリコーン樹脂、エポキシ樹脂等が挙げられる。これらの中でも、接着性、及び放射線像変換スクリーンの光学特性(感度と鮮鋭度)が良化することから、ポリウレタン樹脂、スチレン・ブタジエン共重合体、アクリロニトリル・ブタジエン共重合体、ポリエステル樹脂が好ましく、特にポリウレタン樹脂が好ましい。
また、該樹脂は、本発明の第一の発明及び第二の発明による効果を損なわない範囲において、例えば、カルボキシル基、スルホン酸基、アミノ基等で変性されてもよく、これらの官能基の一部の水素がアルカリ金属やアルカリ土類金属に置き換わってもよい。
また、該樹脂は、本発明の第一の発明及び第二の発明による効果を損なわない範囲において、例えば、カルボキシル基、スルホン酸基、アミノ基等で変性されてもよく、これらの官能基の一部の水素がアルカリ金属やアルカリ土類金属に置き換わってもよい。
接着層は単層でも複数層でも構わない。例えば、支持基板と蛍光体層との間に反射膜等を含むような場合、該反射膜等の上面にポリウレタン樹脂層と、ポリウレタン樹脂とは異なる樹脂層とで構成されてもよいし、ポリウレタン樹脂と、ポリウレタン樹脂とは異なる樹脂とを予め混合した後に混合接着層として構成されてもよい。
接着層の塗布方法は、本発明の第一の発明及び第二の発明による効果を損なわない限り特に制限はなく、公知の技術が適用可能である。例えば、ダイコート法、スクリーン印刷法、インクジェット法、スピンコーター法などが挙げられる。また、接着剤を塗布した後に、乾燥工程、後処理工程(洗浄、乾燥)等を任意に含んでいてもよい。
接着層の厚みは、本発明の第一の発明及び第二の発明による効果を損なわない限り特に制限はないが、通常0.1μm以上、好ましくは0.5μm以上、さらに好ましくは1μm以上である。一方で、通常100μm以下、好ましくは30μm以下、より好ましくは20μm以下である。
接着層の厚みが上記範囲内であると、有機多層反射膜と蛍光体層との密着性が良好であり、且つ感度および鮮鋭度などの光学特性が良好である点で好ましい。
接着層の厚みは、本発明の第一の発明及び第二の発明による効果を損なわない限り特に制限はないが、通常0.1μm以上、好ましくは0.5μm以上、さらに好ましくは1μm以上である。一方で、通常100μm以下、好ましくは30μm以下、より好ましくは20μm以下である。
接着層の厚みが上記範囲内であると、有機多層反射膜と蛍光体層との密着性が良好であり、且つ感度および鮮鋭度などの光学特性が良好である点で好ましい。
<2.第三の発明>
本発明の第三の発明は、前記第一の発明又は第二の発明に係る放射線像変換スクリーンと光検出器とを含む、フラットパネルディテクタである。
本発明の第三の発明は、前記第一の発明又は第二の発明に係る放射線像変換スクリーンと光検出器とを含む、フラットパネルディテクタである。
[放射線像変換スクリーン]
本発明の第三の発明における放射線像変換スクリーンについては、既に記載した第一の発明又は第二の発明に係る放射線像変換スクリーンに関する説明が援用される。
本発明の第三の発明における放射線像変換スクリーンについては、既に記載した第一の発明又は第二の発明に係る放射線像変換スクリーンに関する説明が援用される。
[光検出器]
光検出器は、蛍光体層に対向して光電変換部を含み、蛍光体層で発せられた蛍光を、電気信号等に変換する機能を有する。このような機能を有する限り光検出器の構成は特段限定されず、また、公知の光検出器を適宜用いることができる。
光検出器は、蛍光体層に対向して光電変換部を含み、蛍光体層で発せられた蛍光を、電気信号等に変換する機能を有する。このような機能を有する限り光検出器の構成は特段限定されず、また、公知の光検出器を適宜用いることができる。
以下、本発明を実施例によりさらに具体的に説明するが、本発明はその要旨を逸脱しない限り、以下の実施例に限定されるものではない。
[放射線像変換スクリーンの製造]
(製造例1)
バインダー樹脂としてポリビニルブチラール樹脂(ポリビニルアセタール樹脂の1つ、平均分子量が40000〜60000)及びウレタン樹脂、並びに可塑剤としてアジピン酸ビス(2−ブトキシエチル)(ジェイ・プラス社製D931)(エーテル基を有するカルボン酸エステルの1つ)を80:5:15の割合で混合した混合物20重量部を、トルエン、2-ブタノール、キシレン、イソプロピルアルコール、及びメチルエチルケトンの混合溶剤80重量部に溶解し、十分に攪拌して結合剤を作成した。この結合剤13重量部と平均粒子径9μmのGd2O2S:Tb蛍光体87重量部とを混合して充分に撹拌し、さらにこれをボールミルで分散処理して「蛍光体含有組成物1」を調製した。
次いで、厚さ188μmの光反射性支持体である、白色ポリエチレンテレフタレートフィルム(東レ製 ルミラーE−60)を支持基板として、前記「蛍光体含有組成物1」をブレードコータを使用して、乾燥後の蛍光体塗布重量が150mg/cm2となるように塗布し、該支持基板上に蛍光体層を形成し乾燥温度を70℃から80℃に設定して乾燥させることによって、蛍光体層を形成した。この蛍光体層の表面に、感熱性接着剤を塗布した、厚さ6μmの光散乱性のないポリエチレンテレフタレートフィルムからなる保護層を貼付した。このようにして、実験例1の放射線像変換スクリーン1を得た。
なお、ポリビニルブチラール樹脂は、SP値が11.5 (cal/cm3)1/2であるイソプロピルアルコールに5wt%、25℃の条件で、完全溶解した。
(製造例1)
バインダー樹脂としてポリビニルブチラール樹脂(ポリビニルアセタール樹脂の1つ、平均分子量が40000〜60000)及びウレタン樹脂、並びに可塑剤としてアジピン酸ビス(2−ブトキシエチル)(ジェイ・プラス社製D931)(エーテル基を有するカルボン酸エステルの1つ)を80:5:15の割合で混合した混合物20重量部を、トルエン、2-ブタノール、キシレン、イソプロピルアルコール、及びメチルエチルケトンの混合溶剤80重量部に溶解し、十分に攪拌して結合剤を作成した。この結合剤13重量部と平均粒子径9μmのGd2O2S:Tb蛍光体87重量部とを混合して充分に撹拌し、さらにこれをボールミルで分散処理して「蛍光体含有組成物1」を調製した。
次いで、厚さ188μmの光反射性支持体である、白色ポリエチレンテレフタレートフィルム(東レ製 ルミラーE−60)を支持基板として、前記「蛍光体含有組成物1」をブレードコータを使用して、乾燥後の蛍光体塗布重量が150mg/cm2となるように塗布し、該支持基板上に蛍光体層を形成し乾燥温度を70℃から80℃に設定して乾燥させることによって、蛍光体層を形成した。この蛍光体層の表面に、感熱性接着剤を塗布した、厚さ6μmの光散乱性のないポリエチレンテレフタレートフィルムからなる保護層を貼付した。このようにして、実験例1の放射線像変換スクリーン1を得た。
なお、ポリビニルブチラール樹脂は、SP値が11.5 (cal/cm3)1/2であるイソプロピルアルコールに5wt%、25℃の条件で、完全溶解した。
(製造例2)
製造例1において、可塑剤として安息香酸グリコールエステル(ジェイ・プラス社製JP120)を用いた以外は、製造例1と同様にして、実験例2の放射線像変換スクリーン2を得た。
製造例1において、可塑剤として安息香酸グリコールエステル(ジェイ・プラス社製JP120)を用いた以外は、製造例1と同様にして、実験例2の放射線像変換スクリーン2を得た。
(製造例3)
製造例1において、可塑剤としてフタル酸ジブチルを用いた以外は、製造例1と同様にして、実験例3の放射線像変換スクリーン3を得た。
製造例1において、可塑剤としてフタル酸ジブチルを用いた以外は、製造例1と同様にして、実験例3の放射線像変換スクリーン3を得た。
(製造例4)
製造例3において、バインダー樹脂としてウレタン樹脂を用いない以外は、製造例3と同様にして、実験例4の放射線像変換スクリーン4を得た。
製造例3において、バインダー樹脂としてウレタン樹脂を用いない以外は、製造例3と同様にして、実験例4の放射線像変換スクリーン4を得た。
(製造例5)
製造例1において、可塑剤としてアジピン酸ジブチルを用いた以外は、製造例1と同様にして、実験例5の放射線像変換スクリーン5を得た。
製造例1において、可塑剤としてアジピン酸ジブチルを用いた以外は、製造例1と同様にして、実験例5の放射線像変換スクリーン5を得た。
(製造例6)
製造例1において、可塑剤としてセバシン酸ジオクチルを用いた以外は、製造例1と同様にして、実験例6の放射線像変換スクリーン6を得た。
製造例1において、可塑剤としてセバシン酸ジオクチルを用いた以外は、製造例1と同様にして、実験例6の放射線像変換スクリーン6を得た。
(製造例7)
製造例1において、バインダー樹脂としてシクロオレフィンポリマー(日本ゼオン社製 ZEONEX480R)を用いたこと、および、溶剤としてトルエンのみを使用したこと以外は、製造例1と同様にして、実験例7の放射線像変換スクリーン7を得た。
なお、シクロオレフィンポリマーは、SP値10 (cal/cm3)1/2以上の溶剤に5wt%、25℃の条件で溶解しなかった。
製造例1において、バインダー樹脂としてシクロオレフィンポリマー(日本ゼオン社製 ZEONEX480R)を用いたこと、および、溶剤としてトルエンのみを使用したこと以外は、製造例1と同様にして、実験例7の放射線像変換スクリーン7を得た。
なお、シクロオレフィンポリマーは、SP値10 (cal/cm3)1/2以上の溶剤に5wt%、25℃の条件で溶解しなかった。
(参考製造例1)
製造例7において、可塑剤を用いないこと以外は、製造例7と同様にして、参考例1の放射線像変換スクリーン8を得た。
製造例7において、可塑剤を用いないこと以外は、製造例7と同様にして、参考例1の放射線像変換スクリーン8を得た。
[放射線像変換スクリーンの特性測定]
上述のようにして得た、実験例1〜7、および参考例1の各放射線像変換スクリーンの可塑性及び保存安定性、蛍光体層の透明性、蛍光体層に含まれる可塑剤の揮発性について評価した結果を表1に示す。
上述のようにして得た、実験例1〜7、および参考例1の各放射線像変換スクリーンの可塑性及び保存安定性、蛍光体層の透明性、蛍光体層に含まれる可塑剤の揮発性について評価した結果を表1に示す。
各項目の評価基準は下記の通りである。
<可塑性>
製造した放射線像変換スクリーンをしならせることにより評価した。
◎:製造した放射線変換スクリーンのしなり性が高く、大きく曲げても割れない。
○:製造した放射線変換スクリーンのしなり性があり、軽く曲げても割れない。
×:可塑化しない。製造した放射線変換スクリーンのしなり性がない。
<可塑性>
製造した放射線像変換スクリーンをしならせることにより評価した。
◎:製造した放射線変換スクリーンのしなり性が高く、大きく曲げても割れない。
○:製造した放射線変換スクリーンのしなり性があり、軽く曲げても割れない。
×:可塑化しない。製造した放射線変換スクリーンのしなり性がない。
<透明性>
塗布した蛍光体層を目視により評価した。蛍光体層の透明性の低下は、放射線像変換スクリーンの感度及び鮮鋭度の低下に結びつく。
◎:基板上に積層した蛍光体層のバインダー樹脂の透明性が高い。
○:基板上に積層した蛍光体層のバインダー樹脂の透明性があるが、弱く白濁している。
×:基板上に積層した蛍光体層のバインダー樹脂の透明性が悪く、白濁している。
塗布した蛍光体層を目視により評価した。蛍光体層の透明性の低下は、放射線像変換スクリーンの感度及び鮮鋭度の低下に結びつく。
◎:基板上に積層した蛍光体層のバインダー樹脂の透明性が高い。
○:基板上に積層した蛍光体層のバインダー樹脂の透明性があるが、弱く白濁している。
×:基板上に積層した蛍光体層のバインダー樹脂の透明性が悪く、白濁している。
<揮発性>
保護層のない放射線像変換スクリーンを60℃で保管した時の可塑剤の揮発と蛍光体層の可塑性を評価した。
◎:製造した放射線変換スクリーンを60℃で200時間保存しても、蛍光体層中の可塑剤がほぼ揮発しない。
○:製造した放射線変換スクリーンを60℃で200時間保存すると、蛍光体層中の可塑剤が少し揮発する。
△:製造した放射線変換スクリーンを60℃で200時間保存すると、蛍光体層中の可塑剤の一部が揮発し、蛍光体層の可塑性が若干損なわれる。
×:製造した放射線変換スクリーンを60℃で200時間保存すると、蛍光体層中の可塑剤が揮発し、蛍光体層の可塑性が損なわれる。
保護層のない放射線像変換スクリーンを60℃で保管した時の可塑剤の揮発と蛍光体層の可塑性を評価した。
◎:製造した放射線変換スクリーンを60℃で200時間保存しても、蛍光体層中の可塑剤がほぼ揮発しない。
○:製造した放射線変換スクリーンを60℃で200時間保存すると、蛍光体層中の可塑剤が少し揮発する。
△:製造した放射線変換スクリーンを60℃で200時間保存すると、蛍光体層中の可塑剤の一部が揮発し、蛍光体層の可塑性が若干損なわれる。
×:製造した放射線変換スクリーンを60℃で200時間保存すると、蛍光体層中の可塑剤が揮発し、蛍光体層の可塑性が損なわれる。
<保存安定性>
◎:製造した放射線変換スクリーンを60℃で1月保存しても、可塑性が変わらず、写真性能に変化が見られない。
○:製造した放射線変換スクリーンを60℃で1月保存すると、可塑性の低下が見られる。
×:製造した放射線変換スクリーンを60℃で1月保存すると、可塑性が失われる。
◎:製造した放射線変換スクリーンを60℃で1月保存しても、可塑性が変わらず、写真性能に変化が見られない。
○:製造した放射線変換スクリーンを60℃で1月保存すると、可塑性の低下が見られる。
×:製造した放射線変換スクリーンを60℃で1月保存すると、可塑性が失われる。
さらに製造例1〜3の各放射線像変換スクリーンについて、X線カメラ(Teledyne Rad-icon Imaging社製 Rad-icon)を用いて、照射X線に対する感度および鮮鋭度を評価した。
なお、感度および鮮鋭度は、厚さ10cmの水ファントムを通した管電圧80kVのX線で撮影した場合の感度および空間周波数2本/mmにおけるMTF値を、実験例3の放射線変換スクリーンを用いた場合の感度およびMTF値をそれぞれ100とした場合の相対値として求め、これらを比較することによって評価した。実験例3の放射線変換スクリーンは、最も広く使用されているフタル酸エステル可塑剤を用いたものであり、当該評価の基準として用いられるものである。
その結果、実験例1および2の放射線像変換スクリーンは、実験例3の放射線像変換スクリーンと統計的に同等の感度および鮮鋭度を示した。また、可塑剤の揮発性については、実験例3よりも実験例1および2の放射線像変換スクリーンの方が優れていることが示された。
なお、感度および鮮鋭度は、厚さ10cmの水ファントムを通した管電圧80kVのX線で撮影した場合の感度および空間周波数2本/mmにおけるMTF値を、実験例3の放射線変換スクリーンを用いた場合の感度およびMTF値をそれぞれ100とした場合の相対値として求め、これらを比較することによって評価した。実験例3の放射線変換スクリーンは、最も広く使用されているフタル酸エステル可塑剤を用いたものであり、当該評価の基準として用いられるものである。
その結果、実験例1および2の放射線像変換スクリーンは、実験例3の放射線像変換スクリーンと統計的に同等の感度および鮮鋭度を示した。また、可塑剤の揮発性については、実験例3よりも実験例1および2の放射線像変換スクリーンの方が優れていることが示された。
以上より、本発明の第一の発明及び第二の発明に係る放射線像変換スクリーンは、従来の感度及び鮮鋭度を維持したまま、放射線像変換スクリーンのしなり性や、その保存安定性を十分に保っていることが明らかである。
1 フラットパネルディテクタ
2 放射線像変換スクリーン
3 光検出器
4 支持基板
5 蛍光体層
6 保護層
2 放射線像変換スクリーン
3 光検出器
4 支持基板
5 蛍光体層
6 保護層
Claims (10)
- 支持基板、及び、該支持基板上に積層された蛍光体層を含む放射線像変換スクリーンであって、
該蛍光体層が、蛍光体粒子、ポリビニルアセタール樹脂、及びエーテル基を有するカルボン酸エステルを含有する、放射線像変換スクリーン。 - 前記エーテル基を有するカルボン酸エステルの分子量が500以下である、請求項1に記載の放射線像変換スクリーン。
- 前記エーテル基を有するカルボン酸エステルが、アジピン酸ビス(2−ブトキシエチル)、又は、安息香酸グリコールエステルである、請求項1又は2に記載の放射線像変換スクリーン。
- 前記ポリビニルアセタール樹脂がポリビニルブチラール樹脂である、請求項1〜3のいずれか1項に記載の放射線像変換スクリーン。
- 前記ポリビニルアセタール樹脂の平均分子量が10000以上150000以下である、請求項1〜4のいずれか1項に記載の放射線像変換スクリーン。
- 前記蛍光体層が更にウレタン樹脂を含む、請求項1〜5のいずれか1項に記載の放射線像変換スクリーン。
- 前記ウレタン樹脂の平均分子量が10000以上150000以下である、請求項6に記載の放射線像変換スクリーン。
- 前記蛍光体粒子の蛍光体が、GOS蛍光体、希土類タンタル系複合酸化物蛍光体、及びCsI蛍光体からなる群から選ばれる1以上の蛍光体である、請求項1〜7のいずれか1項に記載の放射線像変換スクリーン。
- 支持基板、及び、該支持基板上に積層された蛍光体層を含む放射線像変換スクリーンであって、
該蛍光体層が、蛍光体粒子、SP値が10 (cal/cm3)1/2以上の溶剤に溶解する樹脂、及びエーテル基を有するカルボン酸エステルを含有する、放射線像変換スクリーン。 - 請求項1〜9のいずれか1項に記載の放射線像変換スクリーンと光検出器とを含む、フラットパネルディテクタ。
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EP4080522A4 (en) * | 2019-12-19 | 2023-08-16 | Kabushiki Kaisha Toshiba | FLUORINE PLATE, X-RAY DETECTOR AND X-RAY INSPECTION DEVICE |
Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2002116300A (ja) * | 2000-10-05 | 2002-04-19 | Fuji Photo Film Co Ltd | 放射線発光パネル |
JP2004346110A (ja) * | 2003-05-20 | 2004-12-09 | Konica Minolta Medical & Graphic Inc | 輝尽性蛍光体粒子の製造方法、輝尽性蛍光体及び放射線画像変換パネル |
JP2006071470A (ja) * | 2004-09-02 | 2006-03-16 | Konica Minolta Medical & Graphic Inc | 放射線画像変換パネル及びその製造方法 |
JP2013015353A (ja) * | 2011-07-01 | 2013-01-24 | Toshiba Corp | 放射線検出器およびその製造方法 |
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US3974389A (en) * | 1974-11-20 | 1976-08-10 | Gte Sylvania Incorporated | Terbium-activated rare earth oxysulfide X-ray phosphors |
US5653830A (en) | 1995-06-28 | 1997-08-05 | Bio-Rad Laboratories, Inc. | Smooth-surfaced phosphor screen |
JP3561855B2 (ja) | 1995-07-03 | 2004-09-02 | コニカミノルタホールディングス株式会社 | 放射線増感スクリーン及び放射線画像変換パネル |
EP0820069A1 (en) | 1996-07-19 | 1998-01-21 | Agfa-Gevaert N.V. | An X-ray intensifying screen comprising a monoclinic m yttrium tantalate phosphor |
JP2001330677A (ja) * | 2000-05-24 | 2001-11-30 | Canon Inc | 放射線検出装置 |
JP2002277595A (ja) | 2001-03-21 | 2002-09-25 | Konica Corp | 放射線画像変換パネルとその製造方法及びそれを用いた放射線画像撮影方法 |
US20020186813A1 (en) * | 2001-05-08 | 2002-12-12 | Toshikazu Tamura | Image sensing apparatus and image sensing method, X-ray photographing system and its control method |
JP3910146B2 (ja) | 2002-02-28 | 2007-04-25 | アグファ・ゲヴェルト・ナームロゼ・ベンノートチャップ | 特定の層配置を有する放射線像貯蔵パネル |
US6927404B2 (en) | 2002-02-28 | 2005-08-09 | Agfa-Gevaert N.V. | Radiation image storage panel having a particular layer arrangement |
US20040229154A1 (en) | 2003-05-13 | 2004-11-18 | Konica Minolta Medical & Graphic, Inc. | Stimulable phosphor, radiation image conversion panel and preparation process thereof |
EP1811527A1 (en) * | 2004-10-04 | 2007-07-25 | Konica Minolta Medical & Graphic, Inc. | Radiation image conversion panel |
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JP4978886B2 (ja) * | 2006-06-14 | 2012-07-18 | 日本電気硝子株式会社 | 蛍光体複合材料及び蛍光体複合部材 |
JP5074761B2 (ja) * | 2006-11-06 | 2012-11-14 | 積水化学工業株式会社 | ガラスペースト、及び、プラズマディスプレイパネルの製造方法 |
EP2623525B1 (en) * | 2010-09-28 | 2016-12-07 | Kuraray Co., Ltd. | Polyvinyl acetal resin for thermoforming |
JP2012247281A (ja) * | 2011-05-27 | 2012-12-13 | Fujifilm Corp | 放射線撮影装置、及びシンチレータとその製造方法 |
JP5340444B2 (ja) * | 2012-03-12 | 2013-11-13 | 富士フイルム株式会社 | 放射線画像検出装置及び放射線画像撮影システム |
JP6226579B2 (ja) * | 2013-06-13 | 2017-11-08 | 東芝電子管デバイス株式会社 | 放射線検出器及びその製造方法 |
CN106463194B (zh) * | 2014-05-30 | 2018-09-07 | 东丽株式会社 | 闪烁体面板、放射线图像检测装置及其制造方法 |
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---|---|---|---|---|
JP2002116300A (ja) * | 2000-10-05 | 2002-04-19 | Fuji Photo Film Co Ltd | 放射線発光パネル |
JP2004346110A (ja) * | 2003-05-20 | 2004-12-09 | Konica Minolta Medical & Graphic Inc | 輝尽性蛍光体粒子の製造方法、輝尽性蛍光体及び放射線画像変換パネル |
JP2006071470A (ja) * | 2004-09-02 | 2006-03-16 | Konica Minolta Medical & Graphic Inc | 放射線画像変換パネル及びその製造方法 |
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