JP5545194B2 - 新規なシリコーン重合体の製造法、その方法により製造されたシリコーン重合体、熱硬化性樹脂組成物、樹脂フィルム、絶縁材料付金属箔、両面金属箔付絶縁フィルム、金属張積層板、多層金属張積層板及び多層プリント配線板 - Google Patents

新規なシリコーン重合体の製造法、その方法により製造されたシリコーン重合体、熱硬化性樹脂組成物、樹脂フィルム、絶縁材料付金属箔、両面金属箔付絶縁フィルム、金属張積層板、多層金属張積層板及び多層プリント配線板 Download PDF

Info

Publication number
JP5545194B2
JP5545194B2 JP2010272029A JP2010272029A JP5545194B2 JP 5545194 B2 JP5545194 B2 JP 5545194B2 JP 2010272029 A JP2010272029 A JP 2010272029A JP 2010272029 A JP2010272029 A JP 2010272029A JP 5545194 B2 JP5545194 B2 JP 5545194B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
weight
resin composition
silicone polymer
parts
experimental example
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Fee Related
Application number
JP2010272029A
Other languages
English (en)
Other versions
JP2011046966A (ja
Inventor
日男 馬場
希 高野
一浩 宮内
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Showa Denko Materials Co Ltd
Original Assignee
Hitachi Chemical Co Ltd
Showa Denko Materials Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Hitachi Chemical Co Ltd, Showa Denko Materials Co Ltd filed Critical Hitachi Chemical Co Ltd
Priority to JP2010272029A priority Critical patent/JP5545194B2/ja
Publication of JP2011046966A publication Critical patent/JP2011046966A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP5545194B2 publication Critical patent/JP5545194B2/ja
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Fee Related legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08GMACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
    • C08G77/00Macromolecular compounds obtained by reactions forming a linkage containing silicon with or without sulfur, nitrogen, oxygen or carbon in the main chain of the macromolecule
    • C08G77/04Polysiloxanes
    • C08G77/38Polysiloxanes modified by chemical after-treatment
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08GMACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
    • C08G77/00Macromolecular compounds obtained by reactions forming a linkage containing silicon with or without sulfur, nitrogen, oxygen or carbon in the main chain of the macromolecule
    • C08G77/04Polysiloxanes
    • C08G77/12Polysiloxanes containing silicon bound to hydrogen
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08GMACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
    • C08G77/00Macromolecular compounds obtained by reactions forming a linkage containing silicon with or without sulfur, nitrogen, oxygen or carbon in the main chain of the macromolecule
    • C08G77/04Polysiloxanes
    • C08G77/38Polysiloxanes modified by chemical after-treatment
    • C08G77/382Polysiloxanes modified by chemical after-treatment containing atoms other than carbon, hydrogen, oxygen or silicon
    • C08G77/388Polysiloxanes modified by chemical after-treatment containing atoms other than carbon, hydrogen, oxygen or silicon containing nitrogen
    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05KPRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
    • H05K1/00Printed circuits
    • H05K1/02Details
    • H05K1/03Use of materials for the substrate
    • H05K1/0313Organic insulating material
    • H05K1/032Organic insulating material consisting of one material
    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05KPRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
    • H05K3/00Apparatus or processes for manufacturing printed circuits
    • H05K3/46Manufacturing multilayer circuits
    • H05K3/4611Manufacturing multilayer circuits by laminating two or more circuit boards
    • H05K3/4626Manufacturing multilayer circuits by laminating two or more circuit boards characterised by the insulating layers or materials
    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10STECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10S428/00Stock material or miscellaneous articles
    • Y10S428/901Printed circuit
    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10TTECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
    • Y10T428/00Stock material or miscellaneous articles
    • Y10T428/31504Composite [nonstructural laminate]
    • Y10T428/31652Of asbestos
    • Y10T428/31663As siloxane, silicone or silane

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Medicinal Chemistry (AREA)
  • Polymers & Plastics (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • General Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Compositions Of Macromolecular Compounds (AREA)
  • Laminated Bodies (AREA)
  • Silicon Polymers (AREA)

Description

本発明は、新規なシリコーン重合体の製造法、その方法により製造されたシリコーン重合体、熱硬化性樹脂組成物、樹脂フィルム、絶縁材料付金属箔、両面金属箔付絶縁フィルム、金属張積層板、多層金属張積層板及び多層プリント配線板に関する。
パーソナルコンピュータや、携帯電話の普及に伴い、これらに用いられるプリント配線板には高密度化が求められている。このような状況下、プリント配線板や金属張積層板にはこれまで以上の優れた信頼性が要求されている。特に、耐リフロー性に直接影響する耐熱性、低吸湿性及び低応力性、層間や実装時の接続信頼性に直接影響する低熱膨張性などの向上が求められている。
従来、無機材料を用いることで優れた耐熱性、低吸湿性、低熱膨張率が実現されており、さらに低価格で耐熱性、低吸湿性を実現するために、有機材料と無機材料の両者の長所を活かす方法が検討されてきた。このような方法として、例えば、シランカップリング剤等の表面処理剤を使用することが挙げられる。シランカップリング剤は加水分解性のアルコキシ基に有機官能基が結合した構造を持ち、アルコキシ基が無機材料の表面と反応し、有機官能基が有機ポリマーと反応することによって、無機成分と有機成分を結合させ、無機材料と有機ポリマーとの密着性を高める作用を果たすことが知られている。
各分野において無機材料と有機ポリマーとの密着性を高める性質が利用、応用されており、さらなる無機材料と有機ポリマー界面の接着性の向上について検討されている。例えば、無機材料と有機ポリマー界面との接着性を向上させる方法としては、通常のシランカップリング剤が有する有機官能基の種類や数を調整し有機ポリマーとの反応性を高める方法(特開昭63−230729号公報、特公昭62−40368号公報)があるが、有機ポリマーとの反応性を高くするだけではリジットな層ができるだけで、界面に生じる残留応力等の低減は困難であり接着性の顕著な向上は期待できない。
界面の残留応力の低減も含めた改良方法としては、表面処理剤に加えて低応力化のために長鎖のポリシロキサンを併用するもの(特開平3−62845号公報、特開平3−287869号公報)があるが、通常の処理条件では表面処理剤と長鎖ポリシロキサンの反応性が非常に低いこと、また一般的な長鎖ポリシロキサンは無機材料と反応するアルコキシ基を有していないこと、長鎖ポリシロキサンが有するメチル基等の疎水性の影響により界面の高接着性を発現することは非常に困難である。
これに対して、特開平1−204953号公報は、無機材料と反応するアルコキシル基及び有機ポリマーと反応する有機官能基を併せ持つ鎖状ポリシロキサンを用いることを特徴としている。しかしながら、このような鎖状ポリシロキサンでは鎖を長くした場合に、メチル基などの疎水性基の配向などにより、ポリシロキサン鎖が無機材料の表面に横向きとなる可能性が高いことから、樹脂中への鎖の入り込みは難しく、かつ数カ所で無機材料に物理的に吸着するためリジットな層を形成しやすいことから、鎖の長さに見合った界面の低応力化を実現するのは困難であった。
また、長鎖状のポリシロキサンは物理的に吸着して大環状になりやすく、この大環状吸着物は有機ポリマー硬化物の物性低下を引き起こす原因となる可能性がある。上記の問題点を解決する手段として、ガラス基材等の基材を用いたプリプレグにおいては、無機材料表面の水酸基と反応する官能基及び有機ポリマーと反応する有機官能基を各々1個以上有する予め3次元縮合反応させたシリコーン重合体を分散剤、基材の表面処理剤として利用することが効果的であることが知られている。(特開平10−121363号公報、特開平11−60951号公報、特開平11−106530号公報)。
このような状況のなか、半導体搭載用基板などの配線の高密度化要求に対応した、フィルム形成が可能で、基材によらずに樹脂自体で優れた低応力性と低熱膨張率を兼ね備えた樹脂組成物とこの樹脂組成物からなる樹脂フィルムなどの新規材料が待望されていた。
特開昭63−230729号公報 特公昭62−40368号公報 特開平3−62845号公報 特開平3−287869号公報 特開平1−204953号公報 特開平10−121363号公報 特開平11−60951号公報 特開平11−106530号公報
本発明は無機材料と有機材料のそれぞれの長所をもつ新規材料の提供を目的とし、優れた耐熱性及び低吸湿性を実現するために多量の無機成分を含むことが可能であり、かつ、優れた低応力性と低熱膨張率を兼ね備えた新規材料を提供することを課題とした。
本発明は、以下(1)〜(59)に記載の事項に関する。
(1) R′(H)SiX4−(m+k) (I)
(一般式中Xは、加水分解、重縮合可能な基であり、例えば、塩素、臭素等のハロゲン又は−ORを示し、ここで、Rは炭素数1〜4のアルキル基、炭素数1〜4のアルキルカルボニル基を示す。R′は、非反応性の基であり、例えば、炭素数1〜4のアルキル基、フェニル基等のアリール基を示す。kは1又は2、mは0又は1、m+kは1又は2を意味する)
で表されるシラン化合物35〜100モル%、及び
R′SiX4−n (II)
(一般式中Xは、加水分解、重縮合可能な基であり、例えば、塩素、臭素等のハロゲン又は−ORを示し、ここで、Rは炭素数1〜4のアルキル基、炭素数1〜4のアルキルカルボニル基を示す。R′は、非反応性の基であり、例えば、炭素数1〜4のアルキル基、フェニル基等のアリール基を示す。nは0〜2の整数を意味する。)
で表されるシラン化合物65〜0モル%を加水分解・重縮合反応をさせ、次いでヒドロシリル化反応剤とのヒドロシリル化反応をさせることを特徴とするシリコーン重合体の製造法。
(2) 一般式(I)においてm+kが1であるシラン化合物又は一般式(II)においてnが1以下であるシラン化合物の合計量が全シラン化合物に対して3〜100モル%であることを特徴とする(1)に記載のシリコーン重合体の製造方法。
(3) ヒドロシリル化反応剤が二重結合及び樹脂硬化性官能基を有する化合物である(1)または(2)のいずれかに記載のシリコーン重合体の製造法。
(4) ヒドロシリル化反応剤の二重結合以外の官能基がエポキシ基又はアミノ基である(3)記載のシリコーン重合体の製造法。
(5) (1)〜(4)のいずれかに記載の方法により製造されるシリコーン重合体。
(6) (5)記載のシリコーン重合体、このシリコーン重合体の樹脂硬化性官能基に対して0.2〜1.5当量の硬化剤及びこのシリコーン重合体100重量部に対して無機充填剤100〜2000重量部を含有してなる熱硬化性樹脂組成物。
(7) さらに両末端シリル基変性エラストマを該シリコーン重合体100重量部に対して0.1〜30重量部含有することを特徴とする(6)に記載の熱硬化性樹脂組成物。
(8) さらに反応性基を複数持つアミン化合物を該シリコーン重合体100重量部に対して0.01〜9重量部含有することを特徴とする(6)又は(7)のいずれかに記載の熱硬化性樹脂組成物。
(9) (5)記載のシリコーン重合体とエポキシ変性シリコーンオイルとを(前者)/(後者)=100/0〜0.1/99.9(重量比)の割合で含み、シリコーン重合体及びエポキシ変性シリコーンオイルに含まれる樹脂硬化性官能基に対して0.2〜1.5当量の硬化剤を含み、かつ(5)記載のシリコーン重合体とエポキシ変性シリコーンオイルの合計100重量部中に対して無機充填剤100〜2000重量部を含有してなる熱硬化性樹脂組成物。
(10) 非樹脂硬化性シリコーン重合体とエポキシ変性シリコーンオイルとを(前者)/(後者)=100/0〜0.1/99.9(重量比)の割合で含み、エポキシ変性シリコーンオイルに含まれるエポキシ基に対して0.2〜1.5当量の硬化剤を含み、かつ非樹脂硬化性シリコーン重合体とエポキシ変性シリコーンオイルの合計100重量部中に対して無機充填剤100〜2000重量部を含有してなる熱硬化性樹脂組成物。
(11) さらに両末端シリル基変性エラストマを(5)記載のシリコーン重合体とエポキシ変性シリコーンオイルの合計100重量部中に対して0.1〜30重量部含有することを特徴とする請求項9又は請求項10のいずれかに記載の熱硬化性樹脂組成物。
(12) さらに反応性基を複数持つアミン化合物を(5)記載のシリコーン重合体とエポキシ変性シリコーンオイルの合計100重量部中に対して0.01〜9重量部含有することを特徴とする請求項9〜請求項11のいずれかに記載の熱硬化性樹脂組成物。
(13) 硬化剤にアミン化合物を含み、樹脂硬化性官能基に対して硬化剤が過剰に配合されてなることを特徴とする(9)〜(12)に記載の熱硬化性樹脂組成物。
(14) 硬化剤にフェノール系硬化剤を含むことを特徴とする(9)〜(13)のいずれかに記載の熱硬化性樹脂組成物。
(15) 硬化剤にフェノール系硬化剤及びアミン化合物を含むことを特徴とする(9)〜(14)のいずれかに記載の熱硬化性樹脂組成物。
(16) 硬化後の熱膨張係数が30×10−6/℃以下であることを特徴とする熱硬化性樹脂組成物。
(17) 硬化後の熱膨張係数が15×10−6/℃以下であることを特徴とする熱硬化性樹脂組成物。
(18) 硬化後の熱膨張係数が50×10−6/℃以下でかつ硬化後の引張試験での伸びが1.0%以上であることを特徴とする熱硬化性樹脂組成物。
(19) 硬化後の熱膨張係数が50×10−6/℃以下であり、かつ硬化後の破断応力が2MPa以上であることを特徴とする熱硬化性樹脂組成物。
(20) 硬化後の引張試験での伸びが1.0%以上であることを特徴とする(19)に記載の熱硬化性樹脂組成物。
(21) 硬化後の熱膨張係数が50×10−6/℃以下であり、かつ導体層を設けた硬化物における、硬化後の導体層とのピール強度が0.5kN/m以上であることを特徴とする熱硬化性樹脂組成物。
(22) 硬化後の引張試験での伸びが1.0%以上であることを特徴とする(21)に記載の熱硬化性樹脂組成物。
(23) 硬化後の破断応力が2MPa以上であることを特徴とする(21)又は(22)のいずれかに記載の熱硬化性樹脂組成物。
(24) 無機充填剤を含有してなる(16)〜(23)のいずれかに記載の熱硬化性樹脂組成物。
(25) (5)記載の熱硬化性樹脂、硬化剤および無機充填剤を必須成分として含み、熱硬化性樹脂100重量部に対する無機充填剤の配合量が100重量部以上であることを特徴とする(24)に記載の熱硬化性樹脂組成物。
(26) 熱硬化性樹脂の樹脂硬化性官能基に対して0.2〜1.5当量の硬化剤を含有することを特徴とする(24)又は(25)のいずれかに記載の熱硬化性樹脂組成物。
(27) 熱硬化性樹脂100重量部に対して無機充填剤100〜2000重量部を含有することを特徴とする(24)〜(26)のいずれかに記載の熱硬化性樹脂組成物。
(28) 熱硬化性樹脂として(5)記載のシリコーン重合体を含有することを特徴とする(24)〜(27)のいずれかに記載の熱硬化性樹脂組成物。
(29) 熱硬化性樹脂、硬化剤および無機充填剤を必須成分とする熱硬化性樹脂組成物において、熱硬化性樹脂100重量部に対する無機充填剤の配合量が100重量部以上であり、かつ硬化後の引張試験での伸びが1.0%以上であることを特徴とする熱硬化性樹脂組成物。
(30) 熱硬化性樹脂、硬化剤および無機充填剤を必須成分とする熱硬化性樹脂組成物において、熱硬化性樹脂100重量部に対する無機充填剤の配合量が100重量部以上であり、かつ硬化後の破断応力が2MPa以上であることを特徴とする熱硬化性樹脂組成物。
(31) 硬化後の引張試験での伸びが1.0%以上であることを特徴とする(30)に記載の熱硬化性樹脂組成物。
(32) 両末端シリル基変性エラストマを含有することを特徴とする(30)または(31)のいずれかに記載の熱硬化性樹脂組成物。
(33) 熱硬化性樹脂として(5)記載のシリコーン重合体及びエポキシ変性シリコーンオイルを含有することを特徴とする(30)〜(32)のいずれかに記載の熱硬化性樹脂組成物。
(34) 熱硬化性樹脂としてエポキシ変性シリコーンオイルと非樹脂硬化性シリコーン重合体との混合物を含有することを特徴とする(30)〜(33)のいずれかに記載の熱硬化性樹脂組成物。
(35) エポキシ変性シリコーンオイルと非樹脂硬化性シリコーン重合体との混合物100重量部中に非樹脂硬化性シリコーン重合体を0.1〜10重量部含むことを特徴とする(30)〜(34)のいずれかに記載の熱硬化性樹脂組成物。
(36) 熱硬化性樹脂100重量部に対する無機充填剤の配合量が100重量部以上であり、硬化後の導体層とのピール強度が0.25kN/m以上であることを特徴とする熱硬化性樹脂組成物。
(37) 熱硬化性樹脂100重量部に対する無機充填剤の配合量が100重量部以上であり、かつ硬化後の導体層とのピール強度が0.5kN/m以上であることを特徴とする熱硬化性樹脂組成物。
(38) 硬化後の引張試験での伸びが1.0%以上であることを特徴とする(36)又は(37)のいずれかに記載の熱硬化性樹脂組成物。
(39) 硬化後の破断応力が2MPa以上であることを特徴とする(36)〜(38)のいずれかに記載の熱硬化性樹脂組成物。
(40) 反応性基を複数持つアミン化合物を含有することを特徴とする(36)〜(39)のいずれかに記載の熱硬化性樹脂組成物。
(41) 熱硬化性樹脂100重量部に対する無機充填剤の配合量が800重量部以上であることを特徴とする(29)〜(40)のいずれかに記載の熱硬化性樹脂組成物。
(42) 樹脂硬化性官能基に対して0.2〜1.5当量の硬化剤含有することを特徴とする(41)に記載の熱硬化性樹脂組成物。
(43) 熱硬化性樹脂として(5)記載のシリコーン重合体を含有することを特徴とする(41)又は(42)のいずれかに記載の熱硬化性樹脂組成物。
(44) 硬化後の熱膨張係数が50×10−6/℃以下であることを特徴とする(41)〜(43)のいずれかに記載の熱硬化性樹脂組成物。
(45) 熱硬化性樹脂、硬化剤および無機充填剤を必須成分とする熱硬化性樹脂組成物において、熱硬化性樹脂100重量部に対する無機充填剤の配合量をF(重量部)とし、該組成物の硬化後の引張試験における伸びをX(%)とすると、F×X>800であることを特徴とする熱硬化性樹脂組成物。
(46) 硬化後の熱膨張係数が50×10−6/℃以下であることを特徴とする(45)に記載の熱硬化性樹脂組成物。
(47) 硬化後の引張試験での伸びが1.0%以上であることを特徴とする(45)又は(46)のいずれかに記載の熱硬化性樹脂組成物。
(48) 硬化剤を熱硬化性樹脂の樹脂硬化性官能基に対して0.2〜1.5当量含有することを特徴とする(45)〜(47)のいずれかに記載の熱硬化性樹脂組成物。
(49) 熱硬化性樹脂100重量部に対して無機充填剤100〜2000重量部を含有することを特徴とする(45)〜(48)に記載の熱硬化性樹脂組成物。
(50) 熱硬化性樹脂として(5)記載のシリコーン重合体を含有することを特徴とする(45)〜(49)のいずれかに記載の熱硬化性樹脂組成物。
(51) (6)〜(50)のいずれかに記載の熱硬化性樹脂組成物を用いて作製される樹脂フィルム。
(52) (6)〜(50)のいずれかに記載の熱硬化性樹脂組成物からなる層を金属箔の一方の面に設けてなることを特徴とする絶縁材料付金属箔。
(53) (6)〜(50)のいずれかに記載の熱硬化性樹脂組成物からなる層の両面に銅箔が積層されてなる両面金属箔付絶縁フィルム。
(54) (52)に記載の絶縁材料付金属箔2枚を熱硬化性樹脂組成物からなる層が接するように積層し、一体化してなることを特徴とする両面金属箔付絶縁フィルム。
(55) コア材の片面もしくは両面に絶縁樹脂層が設けられ、該絶縁樹脂層に金属層が積層されている金属張積層板において、絶縁樹脂層として(6)〜(50)のいずれかに記載の熱硬化性樹脂組成物からなる樹脂層を用いたことを特徴とする金属張積層板。
(56) 金属層として銅を用いたことを特徴とする(55)に記載の金属張積層板。
(57) 内層回路板の回路上に(6)〜(50)のいずれかに記載の熱硬化性樹脂組成物からなる樹脂層が設けられ、該樹脂層上に金属層が設けられてなる多層金属張積層板。
(58) 金属層として銅を用いたことを特徴とする(57)に記載の多層金属張積層板。
(59) 内層回路板の回路上に(6)〜(50)のいずれかに記載の熱硬化性樹脂組成物からなる樹脂層が設けられ、該樹脂層上に回路パターンが形成されてなる多層プリント配線板。
本発明は、従来のシランカップリング剤や長鎖ポリシロキサン化合物等の使用のみでは発現の困難な、無機材料との反応性、無機材料の分散性、有機ポリマーとの反応性に優れており、さらにフィルム形成能を有する新規なシリコーン重合体を提供するものである。
また、本発明は優れた低応力性と低熱膨張率を兼ね備えた新規樹脂組成物、この樹脂組成物を用いた高い信頼性を実現する樹脂フィルム、絶縁材料付金属箔及び金属張積層板を提供するものである。
さらには、本発明は樹脂全体に対する無機充填剤の含有率が高く、かつ伸びの値が大きい新規樹脂組成物、この樹脂組成物を用いた高い信頼性を実現する樹脂フィルム、絶縁材料付金属箔及び金属張積層板を提供するものである。
また、本発明は優れた低熱膨張率と高い破断応力を兼ね備えた新規樹脂組成物、この樹脂組成物を用いた高い信頼性を実現する樹脂フィルム、絶縁材料付金属箔及び金属張積層板を提供するものである。
さらには、本発明は樹脂全体に対する無機充填剤の含有率が高く、かつ破断応力の高い新規樹脂組成物、この樹脂組成物を用いた高い信頼性を実現する樹脂フィルム、絶縁材料付金属箔及び金属張積層板を提供するものである。
また、本発明は優れた低熱膨張率と十分な接着性を兼ね備えた新規樹脂組成物、この樹脂組成物を用いた高い信頼性を実現する樹脂フィルム、絶縁材料付金属箔及び金属張積層板を提供するものである。
さらには、本発明は樹脂全体に対する無機充填剤の含有率が高く、かつ十分な接着性をもつ新規樹脂組成物、この樹脂組成物を用いた高い信頼性を実現する樹脂フィルム、絶縁材料付金属箔及び金属張積層板を提供するものである。
本発明の新規なシリコーン重合体は、無機充填剤の分散性がよい。また、これを用いることで樹脂組成物への無機充填剤の高充填が可能となり、硬化後の熱膨張係数が小さく、引張試験での伸びが大きい樹脂フィルムや樹脂層を形成することができる。
本発明の低応力低熱膨張熱硬化性樹脂組成物によって、従来は困難であった低応力と低熱膨張率を兼ね備えた材料を作製することが可能となる。さらには、本発明によって、フィルム等樹脂硬化物の優れた取り扱い性と低熱膨張率とを両立する材料を作製することが可能となる。さらには、本発明によって、低熱膨張率と十分な接着性を両立する材料を作製することができる。したがって、本発明によって、高い信頼性を実現する樹脂フィルム、絶縁材料付金属箔、金属張積層板を提供することができる。また、この低応力低熱膨張熱硬化性樹脂組成物を用いて作製された樹脂フィルムや樹脂層は絶縁材として諸特性に優れ、例えば、チップを搭載した基板などに好適に用いられる応力緩和機能を備えた絶縁層などとして利用することができる。
本出願は、同出願人により先にされた日本国特許出願、すなわち、2000−101228号(出願日2000年3月31日)、2000−244573号(出願日2000年8月11日)及び2000−399796号(出願日2000年12月28日)に基づく優先権主張を伴うものであって、これらの明細書を参照のためにここに組み込むものとする。
<発明を実施するための好ましい形態>
本発明における樹脂硬化性シリコーン重合体は、一般式(I)
R′(H)SiX4−(m+k) (I)
(式中Xは、加水分解、重縮合可能な基であり、例えば、塩素、臭素等のハロゲン又は−ORを示し、ここで、Rは炭素数1〜4のアルキル基、炭素数1〜4のアルキルカルボニル基を示す。R′は、非反応性の基であり、例えば、炭素数1〜4のアルキル基、フェニル基等のアリール基を示す。kは1又は2、mは0又は1、m+kは1又は2を意味する)で表されるシラン化合物とヒドロシリル化反応剤とを反応させて得ることができる。一般式(I)のシラン化合物は加水分解、重縮合によってSi−H基含有シリコーン重合体とされ、ヒドロシリル化反応剤をSi−H基含有シリコーン重合体のSi−H基との間でヒドロシリル化反応させて、樹脂硬化性官能基が導入されたシリコーン重合体が得られる。
一般式(I)のSi−H基含有シラン化合物に一般式(II)
R′SiX4−n (II)
(式中R′及びXは一般式(I)に同じであり、nは0〜2の整数を意味する。)
で表されるシラン化合物を併用することができる。
前記一般式(I)で表されるSi−H基含有シラン化合物は、具体的には
HCHSi(OCH、HCSi(OCH
CHSi(OCH、HCSi(OCH
HCHSi(OC、HCSi(OC
HCSi(OC、HCSi(OC
HCHSi(OC、HCSi(OC
HCSi(OC、HCSi(OC
HCHSi(OC、HCSi(OC
HCSi(OC、HCSi(OC
等のアルキルジアルコキシシラン
Si(OCH、HSi(OC
Si(OC、HSi(OC
等のジアルコキシシラン
HPhSi(OCH、HPhSi(OC、HPhSi(OC、 HPhSi(OC
(ただし、Phはフェニル基を示す。以下同様)
等のフェニルジアルコキシシラン
Si(OCH、HSi(OC、HSi(OC
Si(OC
等のジアルコキシシランなどの2官能性シラン化合物(以下、シラン化合物における官能性とは、縮合反応性の官能基を有することを意味する。)
HSi(OCH、HSi(OC、HSi(OC
HSi(OC
等のトリアルコキシシランなどの3官能性シラン化合物などがある。
前記一般式(II)で表されるシラン化合物は、具体的には、
Si(OCH、Si(OC
Si(OC、Si(OC
等のテトラアルコキシシラン
などの4官能性シラン化合物、
CSi(OCH、HSi(OCH
Si(OCH、HSi(OCH
CSi(OC、HSi(OC
Si(OC、HSi(OC
CSi(OC、HSi(OC
Si(OC、HSi(OC
CSi(OC、HSi(OC
Si(OC、HSi(OC
等のモノアルキルトリアルコキシシラン、
PhSi(OCH、PhSi(OC
PhSi(OC、PhSi(OC
(ただし、Phはフェニル基を示す。以下同様)
等のフェニルトリアルコキシシラン、
(HCCOO)SiCH、(HCCOO)SiC
(HCCOO)SiC、(HCCOO)SiC
等のモノアルキルトリアシルオキシシラン
ClSiCH、ClSiC
ClSiC、ClSiC
BrSiCH、BrSiC
BrSiC、BrSiC
等のモノアルキルトリハロゲノシランなどの3官能性シラン化合物、
(HC)Si(OCH、(HSi(OCH3)
(HSi(OCH、(HSi(OCH
(H3C)Si(OC、(HSi(OC
(HSi(OC、(HSi(OC
(HC)Si(OC、(HSi(OC
(HSi(OC、(HSi(OC
(HC)Si(OC、(HSi(OC
(HSi(OC、(HSi(OC
等のジアルキルジアルコキシシラン、
PhSi(OCH、PhSi(OC
等のジフェニルジアルコキシシラン、
(HCCOO)Si(CH、(HCCOO)Si(C
(HCCOO)Si(C、(HCCOO)Si(C
等のジアルキルジアシルオキシシラン、
ClSi(CH、ClSi(C
ClSi(C、ClSi(C
BrSi(CH、BrSi(C
BrSi(C、BrSi(C
等のアルキルジハロゲノシランなどの2官能性シラン化合物がある。
本発明に用いられる前記一般式(I)で表されるSi−H基含有シラン化合物は必須成分として使用され、前記一般式(II)で表されるシラン化合物は任意成分とされる。前記一般式(I)又は前記一般式(II)のシラン化合物中に含まれる加水分解・重縮合可能な基としては、反応性などを考慮すると、アルコキシ基が好ましく、前記一般式(I)で表されるSi−H基含有シラン化合物としてはトリアルコキシシラン又はモノアルキルジアルコキシシランが特に好ましく、前記一般式(II)で表されるシラン化合物としてはテトラアルコキシシラン、モノアルキルトリアルコキシシラン又はジアルキルジアルコキシシランが特に好ましい。また、重合度の大きいシリコーン重合体を製造する場合には一般式(I)で表されるシラン化合物として、3官能性シラン化合物を含むことが好ましく、一般式(II)で表されるシラン化合物を用いる場合には4官能又は3官能の一般式(II)で表されるシラン化合物を含むことが好ましい。
本発明のシリコーン重合体の製造方法はシラン化合物の総量に対して、Si−H基含有シラン化合物35モル%以上配合するものであり、シラン化合物の総量に対して、一般式(I)で表されるSi−H基含有シラン化合物35〜100モル%(より好ましくは35〜85モル%)及び一般式(II)で表されるシラン化合物0〜65モル%(15〜65モル%)の割合で使用されることが好ましい。
本発明のシリコーン重合体は三次元架橋しているものであることが好ましい。このため、全シラン化合物のうち3〜100モル%が3官能以上のシラン化合物であることが好ましく、全シラン化合物のうち3〜75モル%が3官能以上のシラン化合物であることが特に好ましい。また、シラン化合物のうち15〜100モル%が4官能性シラン化合物又は3官能性シラン化合物であることが好ましく、20〜85モル%が4官能性シラン化合物又は3官能性シラン化合物であることがより好ましい。すなわち、一般式(II)で表されるシラン化合物のうち2官能性シラン化合物は、0〜85モル%であることが好ましく、より好ましくは0〜80モル%の割合で使用される。特に好ましくは、一般式(II)で表されるシラン化合物のうち4官能性シラン化合物が15〜100モル%、より好ましくは20〜100モル%、3官能性シラン化合物が0〜85モル%、より好ましくは0〜80モル%及び2官能性シラン化合物が0〜85モル%、より好ましくは0〜80モル%の割合で使用される。
2官能性シラン化合物が85モル%を越えると、シリコーン重合体の鎖が長くなり、メチル基等の疎水性基の配向等により、シリコーン重合体の鎖が無機材料表面に横向きとなる可能性が高く、リジットな層を形成しやすいため、低応力化が難しくなる。
本発明におけるシリコーン重合体は、前記した一般式(I)で表されるSi−H基含有シラン化合物と一般式(II)で表されるシラン化合物を加水分解・重縮合させ、さらにヒドロシリル化反応して製造されるが、このとき、加水分解・重縮合触媒としては、塩酸、硫酸、リン酸、硝酸、フッ酸等の無機酸、シュウ酸、マレイン酸、スルホン酸、ギ酸等の有機酸を使用することが好ましく、アンモニア、トリメチルアンモニウムなどの塩基性触媒を用いることもできる。これら加水分解・重縮合触媒は、一般式(I)で表されるSi−H基含有シラン化合物と一般式(II)で表されるシラン化合物の量に応じて適当量用いられるが、好適には一般式(I)で表されるSi−H基含有シラン化合物と一般式(II)で表されるシラン化合物の合計1モルに対し0.001〜10モルの範囲で用いられる。ヒドロシリル化触媒としては、白金、パラジウム、ロジウム系の遷移金属化合物を用いることができ、特に塩化白金酸等の白金化合物を使用することが好ましく、過酸化亜鉛、過酸化カルシウム、過酸化水素、過酸化ジ−tert−ブチル、過酸化ストロンチウム、過酸化ナトリウム、過酸化鉛、過酸化バリウム等の過酸化物、また、3級アミン、ホスフィンを用いることもできる。これらヒドロシリル化触媒は、一般式(I)で表されるSi−H基含有シラン化合物のSi−H基1モルに対し、好ましくは0.0000001〜0.0001モルの範囲で用いられる。
本発明のヒドロシリル化反応剤は、ビニル基等のヒドロシリル化反応のための二重結合と、エポキシ基やアミノ基等の樹脂硬化性官能基を有しているものである。樹脂硬化性官能基とは有機化合物又は無機化合物と反応又は相互作用する官能基のことである。ここで、この官能基としては、硬化剤又は架橋剤と反応する反応性有機基、自硬化反応する反応性有機基、無機充填剤の表面に存在する官能基と反応又は相互作用する有機基、水酸基と反応する基等がある。具体例としては、エポキシ基を有するヒドロシリル化反応剤としてアリルグリシジルエーテル等を用いることができ、また、アミノ基を有するヒドロシリル化反応剤としてアリルアミン、塩酸アリルアミン、アミノエチルアクリレート等のアミノアルキルアクリレート、アミノエチルメタクリレート等のアミノアルキルメタクリレートなどを用いることができる。これらヒドロシリル化反応剤は、一般式(I)で表されるSi−H基含有シラン化合物のSi−H基に対し、0.1〜2当量の範囲とすることが好ましく、さらに0.5〜1.5当量が好ましく、特に0.9〜1.1当量とすることが好ましい。
また、上記の加水分解・重縮合、ヒドロシリル化反応は、メタノール、エタノールなどのアルコール系溶剤、エチレングリコールモノメチルエーテルなどのエーテル系溶剤、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトンなどのケトン系溶剤、N,N−ジメチルホルムアミドなどのアミド系溶剤、トルエン、キシレンなどの芳香族炭化水素系溶剤、酢酸エチルなどのエステル系溶剤、ブチロニトリルなどのニトリル系溶剤等の溶剤中で行うことが好ましい。これら溶剤は単独で用いてもよく、数種類を併用した混合溶剤を用いることもできる。また、前記加水分解・重縮合は特に水を添加しなくても大気雰囲気下で進行するが、水を添加してもよい。水の量は適宜決められるが、多すぎる場合には塗布液の保存安定性が低下するなどの問題があるので、水の量は、前記シラン化合物の総量1モルに対して0〜5モルの範囲とすることが好ましく、特に、0.5〜4モルが好ましい。
シリコーン重合体の製造は、上記の条件、配合を調整してゲル化しないように行われる。シリコーン重合体は、上記の反応溶媒と同じ溶媒に溶解して使用することが作業性の点で好ましい。このためには、上記の反応生成溶液をそのまま使用してもよく、反応生成溶液からシリコーン重合体を分離し、改めて上記溶媒に溶解してもよい。
本発明におけるシリコーン重合体は、三次元架橋しているが完全硬化又はゲル化していないものであり、本発明おけるシリコーン重合体の重合は、例えば、反応溶媒に溶解する程度に制御される。このために、樹脂硬化性シリコーン重合体の製造、保管及び使用に際し、温度は、常温以上200℃以下であることが好ましく、150℃以下であることがより好ましい。
本発明におけるシリコーン重合体の製造にあたっては、Si−H基含有シリコーン重合体を中間生成物として作製することができる。このSi−H基含有シリコーン重合体のSi−H基はSi−H基含有2官能性シロキサン単位(HR′SiO2/2)又は(HSiO2/2)(式中、R′は前記の通りであり、シリコーン重合体中のR′基は互いに同一であってもよいし、異なってもよい。以下同様)又はSi−H基含有3官能性シロキサン単位(HSiO3/2)によって導入されている。
本発明のシリコーン重合体は、重合度が3以上のものであればよく、重合度が7000以下であることが好ましい。溶液としての使用する際の効率を考慮すると重合度が2000以下であることが好ましく、重合度を3〜500の範囲とすることが特に好ましい。このシリコーン重合体の側鎖及び末端には、Si−H基に対するヒドロシリル化反応によって導入された樹脂硬化性官能基が存在する。ここで、シリコーン重合体の重合度は、その重合体の分子量(低重合度の場合)又はゲルパーミエーションクロマトグラフィーにより標準ポリスチレン若しくはポリエチレングリコールの検量線を利用して測定した数平均分子量から算出したものである。
なお、シリコーン重合体を作製する際には、前記の様にシリコーン重合体を製造してからヒドロシリル化反応剤を添加してヒドロシリル化反応を行ってもよく、また、ヒドロシリル化反応剤を前記シラン化合物と同時に配合し、シラン化合物の加水分解・重縮合と同時に又はその途中でヒドロシリル化反応を行ってもよい。
上記の樹脂硬化性官能基を有するシリコーン重合体(本発明において、樹脂硬化性シリコーン重合体と記載する。)を含有してなる熱硬化性樹脂組成物には、無機充填剤を多量に配合することができる。無機充填剤としては、その種類は特に制約はなく、例えば、炭酸カルシウム、アルミナ、酸化チタン、マイカ、炭酸アルミニウム、水酸化アルミニウム、ケイ酸マグネシウム、ケイ酸アルミニウム、シリカ、ガラス短繊維、ホウ酸アルミニウムウィスカや炭化ケイ素ウィスカ等の各種ウィスカ等が用いられる。また、これらを数種類併用しても良い。無機充填剤の形状、粒径については特に制限はなく、通常用いられている粒径0.001〜50μmのものを本発明においても用いることができ、好ましくは0.01〜10μmのものが好適に用いられる。これら無機充填剤の配合量は、樹脂硬化性シリコーン重合体100重量部に対して100〜2000重量部が好ましく、300〜1500重量部が特に好ましい。無機充填剤の配合量が少なすぎると熱膨張係数が大きくなる傾向があり、無機充填剤が多すぎるとフィルム化が困難になる傾向がある。
本発明おけるシリコーン重合体を含有する熱硬化性樹脂組成物の硬化剤は、シリコーン重合体の樹脂硬化性官能基と反応(硬化)する化合物であればよく、特に制限はない。例えば樹脂硬化性官能基がエポキシ基の場合には、アミン系硬化剤やフェノール系硬化剤などの一般にエポキシ樹脂用硬化剤として用いられるものを利用することができる。エポキシ樹脂用硬化剤としては多官能フェノール化合物が好ましい。多官能フェノール化合物としては、ビスフェノールA、ビスフェノールF、ビスフェノールS、レゾルシン、カテコール等の多価フェノールがあり、また、これらの多価フェノール、フェノール、クレゾール等の一価のフェノール化合物とホルムアルデヒドを反応させて得られるノボラック樹脂などがある。多官能フェノール化合物は臭素等のハロゲンで置換されていてもよい。硬化剤の使用量は、シリコーン重合体の樹脂硬化性官能基1当量に対して、0.2〜1.5当量使用することが好ましく、0.5〜1.2当量使用することが特に好ましい。硬化物と金属との接着性を向上させるためにはエポキシ樹脂用硬化剤にアミン化合物を含むことが好ましく、また、硬化剤が過剰に含まれていることが好ましい。このアミン化合物は接着性補強剤として作用するものであり、具体例については後に記載する。耐熱性などの他の特性と接着性とのバランスを考慮すると、アミン化合物を含む硬化剤をシリコーン重合体の樹脂硬化性官能基1当量に対して1.0〜1.5当量用いることが好ましく、樹脂硬化性官能基1当量に対して1.0〜1.2当量用いることが特に好ましい。
また、硬化剤とともに硬化促進剤を加えてもよい。例えば樹脂硬化性官能基がエポキシ基の場合には、イミダゾール化合物などが一般に使用されており、本発明においてもこれを用いることができる。硬化促進剤として用いられるイミダゾール化合物の具体例としてはイミダゾール、2−エチルイミダゾール、2−エチル−4−メチルイミダゾール2−フェニルイミダゾール、2−ウンデシルイミダゾール、1−ベンジル−2−メチルイミダゾール、2−ヘプタデシルイミダゾール、4,5−ジフェニルイミダゾール、2−メチルイミダゾリン、2−フェニルイミダゾリン、2−ウンデシルイミダゾリン、2−ヘプタデシルイミダゾリン、2−イソプロピルイミダゾール、2,4−ジメチルイミダゾール、2−フェニル−4−メチルイミダゾール、2−エチルイミダゾリン、2−イソプロピルイミダゾリン、2,4−ジメチルイミダゾリン、2−フェニル−4−メチルイミダゾリン等が挙げられる。硬化促進剤の十分な効果を得るためには、シリコーン重合体100重量部に対して0.01重量部以上使用することが好ましく、熱膨張率や伸び等の観点から10重量部以下が好ましい。
本発明おけるシリコーン重合体を含有する熱硬化性樹脂組成物には必要に応じて両末端シリル基変性エラストマを加えることができる。熱硬化性樹脂組成物に両末端シリル基変性エラストマを加えることで樹脂の硬化後の破断応力が大きくなり、取り扱い性が向上する。本発明における両末端シリル基変性エラストマとは、重量平均分子量が3000〜10万程度の長鎖状エラストマであり、主鎖の両末端にアルコキシシリル基を有する。エラストマの主鎖については特に制限はなく、ポリイソブチレンやポリプロピレンなどのポリオレフィン、ポリプロピレンオキシドなどのポリエーテル、ブタジエンゴム又はアクリルゴム等の主鎖骨格を有するエラストマが利用できる。アルコキシシリル基はSi元素に1〜3個のアルコキシ基が結合したものでよく、Si元素に結合したアルコキシ基の炭素数は1〜4であることが好ましい。両末端シリル基変性エラストマとしては、例えばSAT200(両末端シリル基変性ポリエーテル、鐘淵化学工業株式会社製商品名)、EP103S、EP303S(両末端シリル基変性ポリイソブチレン、鐘淵化学工業株式会社製商品名)等を用いることができる。両末端シリル基変性エラストマの配合量は、シリコーン重合体100重量部に対して0.1〜30重量部であることが好ましい。0.1重量部未満では配合することによる効果が現れにくく、30重量部を越えると熱膨張率が大きくなる傾向がある。
本発明における熱硬化性樹脂組成物においては、本発明の樹脂硬化性シリコーン重合体にエポキシ基を持つシリコーンオイル(本発明において、エポキシ変性シリコーンオイルと記載する)を併用することもできる。樹脂硬化性シリコーン重合体とエポキシ変性シリコーンオイルの配合割合は、これらの合計100重量部に対して樹脂硬化性シリコーン重合体が0.1重量部以上含まれていることが好ましく、熱膨張率、伸び、破断応力の観点から、樹脂硬化性シリコーン重合体が5重量部以上含まれていることがより好ましく、20重量部以上含まれていることが特に好ましい。また、伸び、破断応力の観点から、樹脂硬化性シリコーン重合体とエポキシ変性シリコーンオイルの配合の合計100重量部に対してエポキシ変性シリコーンオイルが5重量部以上含まれていることが好ましく、40重量部以上が特に好ましい。樹脂硬化性シリコーン重合体が0.1重量部未満の場合は無機充填剤の分散性が低下する傾向がある。樹脂硬化性シリコーン重合体とエポキシ変性シリコーンオイルの配合比は熱膨張係数と伸びの値から、目的に応じて決めることができる。すなわち、樹脂硬化性シリコーン重合体の配合比が大きいほど熱膨張係数が小さくなり、エポキシ変性シリコーンオイルの配合比を増やすことで伸びの値を大きくすることができる。ここで、エポキシ変性シリコーンオイルとは側鎖にエポキシ基を含む官能基を有する鎖状ポリシロキサン化合物であり、25℃における粘度が10−2〜10Pa・sの範囲にあるものである。なお、本発明における粘度は東京計器(株)製EMD型粘度計を用いて、25℃で測定した。エポキシ変性シリコーンオイルのエポキシ当量は150〜5000であることが好ましく、300〜1000であることが特に好ましい。
前記のエポキシ変性シリコーンオイルを含む熱硬化性樹脂組成物において、本発明の樹脂硬化性シリコーン重合体の一部又は全部に換えて樹脂硬化性官能基を含まないシリコーン重合体(本発明において、非樹脂硬化性シリコーン重合体と記載する。)を使用することもできる。非樹脂硬化性シリコーン重合体を用いる場合には、非樹脂硬化性シリコーン重合体の配合量は、エポキシ変性シリコーンオイルとシリコーン重合体の合計100重量部に対して30重量部以下であることが好ましい。非樹脂硬化性シリコーン重合体が30重量部を越える場合は樹脂硬化物の伸びの値が低下する傾向がある。
ここで、非樹脂硬化性シリコーン重合体とは、2官能性シロキサン単位(RSiO2/2)、3官能性シロキサン単位(RSiO3/2)(式中、Rは有機基であり、シリコーン重合体中のR基は互いに同一であってもよいし、異なっていてもよい。)及び4官能性シロキサン単位(SiO4/2)から選ばれる少なくとも1種類のシロキサン単位を含有し、末端に水酸基と反応する官能基を1個以上有するものである。重合度は2〜7000が好ましく、さらに好ましい重合度は2〜100、特に好ましい重合度は2〜70である。前記Rとしては、炭素数1〜4のアルキル基、フェニル基等の芳香族基などがある。水酸基と反応する官能基としては、シラノール基、炭素数1〜4のアルコキシル基、炭素数1〜4のアシルオキシ基、塩素等の臭素以外のハロゲン等がある。
このような非樹脂硬化性シリコーン重合体は、前記一般式(II)で表されるシラン化合物を加水分解、重縮合させて得ることができる。非樹脂硬化性シリコーン重合体の合成に用いられる前記一般式(II)で表されるシラン化合物としては、4官能性シラン化合物又は3官能性シラン化合物が必須成分として用いられ、2官能性シラン化合物は必要に応じて適宜使用される。特に、4官能性シラン化合物としてはテトラアルコキシシランが好ましく、3官能性シラン化合物としてはモノアルキルトリアルコキシシランが好ましく、2官能性シラン化合物としてはジアルキルジアルコキシシランが好ましい。シラン化合物の使用割合は、好ましくは、4官能性シラン化合物又は3官能性シラン化合物15〜100モル%及び2官能性シラン化合物を0〜85モル%が好ましく、4官能性シラン化合物または3官能性シラン化合物の1種以上を20〜100モル%及び2官能性シラン化合物を0〜80モル%がより好ましい。また、特に、4官能性シラン化合物を15〜100モル%、3官能性シラン化合物0〜85モル%及び2官能性シラン化合物0〜85モル%の割合で使用することが好ましく、4官能性シラン化合物を20〜100モル%、3官能性シラン化合物を0〜80モル%と、2官能性シラン化合物を0〜80モル%の割合で使用することがより好ましい。加水分解・重縮合反応の触媒及び溶剤は樹脂硬化性シリコーン重合体を製造する際の加水分解・重縮合反応と同様のものを適用することができる。非樹脂硬化性シリコーン重合体の製造は条件、配合を調整してゲル化しないように行われる。非樹脂硬化性シリコーン重合体は、3次元架橋しているが完全硬化又はゲル化していないものであり、3次元架橋は、例えば、反応溶媒に溶解する程度に制御される。このために、非樹脂硬化性シリコーン重合体の製造、保管及び使用に際し、温度は、常温以上200℃以下であることが好ましく、150℃以下であることがより好ましい。
樹脂硬化性シリコーン重合体又は非樹脂硬化性シリコーン重合体と、エポキシ変性シリコーンオイルとを併用する場合において、シリコーン重合体成分として非樹脂硬化性シリコーン重合体のみを用いた場合と比較し、樹脂硬化性シリコーン重合体を含む場合は熱膨張率、伸び、破断応力の観点から好ましく、シリコーン重合体成分として樹脂硬化性シリコーン重合体のみを用いることが特に好ましい。
本発明の熱硬化性樹脂組成物には、金属箔との接着性を高め、樹脂硬化物と金属箔との引き剥がし強度を高めるために、必要に応じて接着性補強剤を加えることができる。接着性補強剤としてはアミノ基や水酸基などの反応性官能基を複数持つ化合物を用いることができ、これらはエポキシ樹脂硬化剤としても作用する。反応性官能基を複数持つアミン化合物としては、例えば、m−フェニレンジアミン、4,4’−ジアミノベンズアニリド、4,4’−ジアミノ−2,2’−ジメチルビフェニル等の分子内に複数のアミノ基を持つ化合物やジシアンジアミドなどの、分子内に複数の活性N−H基を有する化合物、3−アミノ−1−プロパノール、4−アミノフェノール等の分子内にアミノ基と水酸基を併せ持つ化合物などを用いることができる。接着性補強剤の配合量は前記シリコーン重合体100重量部に対して0.01〜9重量部であることが好ましく、0.1〜6重量部であることが特に好ましい。0.01重量部未満の場合は配合による効果が現れにくい傾向があり、また、9重量部を越える場合は、硬化物の耐熱性が低下する傾向がある。
一般には、熱硬化性樹脂に無機充填剤を配合することにより、熱膨張率を低減し、耐熱性などの配線基板用材料に求められるような諸特性を向上させることができるが、無機充填剤が多すぎると硬化物の引っ張り強さが減少して、低応力性が失われることが知られている。熱硬化性樹脂の低熱膨張率と低応力性を高いレベルで両立することは困難であった。本発明は、また、この問題を解決し、優れた低応力性と低熱膨張率を兼ね備えた熱硬化性樹脂を提供するものである。すなわち、優れた低応力性と低熱膨張率を達成するものとして、硬化後の熱膨張係数が50×10−6/℃以下で、かつ引張試験での伸びが1.0%以上である樹脂を提供する。熱硬化性樹脂組成物が、熱膨張係数が50×10−6/℃以下かつ引張試験での伸びが1.0%以上を満たすように調整することで低熱膨張率と低応力性を高いレベルで両立することが可能である。熱膨張係数は30×10−6/℃以下であることが特に好ましい。伸びは2.0%以上であることが特に好ましい。熱膨張係数について特に下限はなく、低いほど好ましいが、3×10−6/℃以上でも十分であり、他の特性とのバランスを考慮すると現状では5×10−6/℃以上であることが好ましい。このような低熱膨張率と低応力性を兼ね備えた熱硬化性樹脂組成物の例としては、エポキシ変成シリコーンオイル等の分子内にエポキシ基を含む鎖状の樹脂や前記した本発明の樹脂硬化性シリコーン重合体等の熱硬化性樹脂、硬化剤、無機充填剤及び必要に応じて用いられる分散剤を含有してなる熱硬化性樹脂組成物が挙げられる。分散剤としては前記の非樹脂硬化性シリコーン重合体等を用いることができる。また、本発明の樹脂硬化性シリコーン重合体、硬化剤及び無機充填剤を含有してなる熱硬化性樹脂組成物によれば30×10−6/℃以下、さらには15×10−6/℃以下という非常に小さな熱膨張係数を有する硬化物を提供することができる。
また、熱硬化性樹脂100重量部に対する無機充填剤の配合量が100重量部以上であり、かつ硬化後の引張試験での伸びが1.0%以上であることにより、優れた低応力性と低熱膨張率とを実現することを見出した。熱硬化性樹脂100重量部に対する無機充填剤の配合量が100重量部以上であり、かつ硬化後の引張試験での伸びが1.0%以上を満たすように調整することで低熱膨張率と低応力性を両立することが可能である。熱硬化性樹脂100重量部に対する無機充填剤の配合量が800重量部以上であることが特に好ましい。伸びは2.0%以上であることが特に好ましい。樹脂組成物の硬化後の熱膨張係数が50×10−6/℃以下であることが好ましい。このような無機充填剤の高充填と低応力性を兼ね備えた熱硬化性樹脂組成物の例としては、エポキシ変成シリコーンオイル等の分子内にエポキシ基を含む鎖状の樹脂や前記した本発明の樹脂硬化性シリコーン重合体等の熱硬化性樹脂、硬化剤、無機充填剤及び必要に応じて用いられる分散剤を含有してなる熱硬化性樹脂組成物が挙げられる。分散剤としては前記の非樹脂硬化性シリコーン重合体等を用いることができる。
また、熱硬化性樹脂100重量部に対する無機充填剤の配合量をF(重量部)とし、硬化後の引張試験での伸びをX(%)とした場合に、F×X>800の範囲であることにより、優れた低応力性と低熱膨張率を達成することを見出した。熱硬化性樹脂組成物が、F×X>800を満たすように調整することで低熱膨張率と低応力性を高いレベルで両立することが可能である。このような低熱膨張率と低応力性を兼ね備えた熱硬化性樹脂組成物の例としては、エポキシ変成シリコーンオイル等の分子内にエポキシ基を含む鎖状の樹脂や前記した本発明の樹脂硬化性シリコーン重合体等の熱硬化性樹脂、硬化剤、無機充填剤及び必要に応じて用いられる分散剤を含有してなる熱硬化性樹脂組成物が挙げられる。分散剤としては前記の非樹脂硬化性シリコーン重合体等を用いることができる。樹脂組成物の硬化後の熱膨張係数が50×10−6/℃以下であることが好ましい。また、硬化後の引張試験での伸びが1.0%以上であることが好ましい。
また、一般には、無機充填剤が多すぎると硬化物の破断応力が小さくなり、成形体としての形を保つことが困難になり、取り扱い性が著しく低下することが知られている。本発明は、この問題を解決し、高信頼性及び高い生産効率を実現するために、低熱膨張率と十分な取り扱い性とを兼ね備えた熱硬化性樹脂を提供するものである。すなわち、本発明は十分な取り扱い性と低熱膨張率を達成するために、硬化後の熱膨張係数が50×10−6/℃以下で、かつ破断応力が2MPa以上である熱硬化性樹脂組成物を提供する。硬化後の熱膨張係数が50×10−6/℃以下で、かつ破断応力が2MPa以上を満たすように調整することで低熱膨張率と十分な取り扱い性を両立することが可能である。熱膨張係数は30×10−6/℃以下であることが特に好ましい。また、破断応力は6MPa以上であることが特に好ましい。このような、低熱膨張率と十分な取り扱い性を兼ね備えた熱硬化性樹脂組成物の具体例としては、前記した本発明の樹脂硬化性シリコーン重合体等の熱硬化性樹脂、硬化剤及び無機充填剤を含有してなる熱硬化性樹脂組成物が挙げられる。また、この低熱膨張率と十分な取り扱い性を両立する熱硬化性樹脂組成物は、硬化物の伸びが1.0%以上であることが低応力性の観点から好ましく、2.0%以上であることが特に好ましい。また、破断応力を大きくするためには樹脂組成物に両末端シリル基変性エラストマを含むことが好ましい。また、破断応力を大きくするためには、樹脂組成物にエポキシ変性シリコーンオイルを含むことが好ましい。
また、熱硬化性樹脂100重量部に対する無機充填剤の配合量が100重量部以上であり、かつ硬化後の破断応力が2MPa以上であることにより、優れた取り扱い性と低熱膨張率とを実現することを見出した。熱硬化性樹脂100重量部に対する無機充填剤の配合量が100重量部以上であり、かつ硬化後の破断応力が2MPa以上を満たすように調整することで低熱膨張率と十分な取り扱い性を両立することが可能である。このような、低熱膨張率と十分な取り扱い性を兼ね備えた熱硬化性樹脂組成物の例としては、エポキシ変成シリコーンオイル等の分子内にエポキシ基を含む鎖状の樹脂や前記した本発明の樹脂硬化性シリコーン重合体等の熱硬化性樹脂、硬化剤、無機充填剤及び必要に応じて用いられる分散剤を含有してなる熱硬化性樹脂組成物が挙げられる。分散剤としては前記の非樹脂硬化性シリコーン重合体等を用いることができる。熱硬化性樹脂100重量部に対する無機充填剤の配合量が800重量部以上であることが特に好ましい。また、破断応力は6MPa以上であることが特に好ましい。樹脂組成物の硬化後の熱膨張係数が50×10−6/℃以下であることが好ましい。また、硬化後の引張試験での伸びが1.0%以上であることが低応力性の観点から好ましい。また、破断応力を大きくするためには樹脂組成物に両末端シリル基変性エラストマを含むことが好ましい。また、破断応力を大きくするためには、樹脂組成物にエポキシ変性シリコーンオイルを含むことが好ましい。
また、一般には、無機充填剤が多すぎると硬化物の金属箔との接着性が著しく低下することが知られている。本発明は、この問題を解決し、低熱膨張率化に伴う接着性の低下を抑え、金属箔との十分な接着性を持つ熱硬化性樹脂を提供するものである。すなわち、本発明は電機部品の高信頼性を実現するためには十分な接着性と低熱膨張率を達成するために、硬化後の熱膨張係数が50×10−6/℃以下で、かつ硬化物と金属箔とのピール強度が0.5kN/m以上である熱硬化性樹脂組成物を提供するものである。熱膨張係数は30×10−6/℃以下であることが特に好ましい。硬化後の熱膨張係数が50×10−6/℃以下で、かつ硬化後の導体層とのピール強度が0.5kN/m以上を満たすように調整することで低熱膨張率と十分な接着性を両立することが可能である。この十分な接着性と低熱膨張率とを兼ね備えた熱硬化性樹脂組成物は、硬化物の伸びが1.0%以上であることが低応力性の観点から好ましい。また、この十分な接着性と低熱膨張率とを兼ね備えた熱硬化性樹脂組成物は、硬化後の破断応力を2MPa以上となるように調整することにより、優れた取り扱い性をも実現する熱硬化性樹脂組成物とすることができる。熱膨張係数は30×10−6/℃以下であることが特に好ましい。また、破断応力は6MPa以上であることが特に好ましい。また、伸びの値は2.0%以上であることが特に好ましい。このような、十分な接着性と低熱膨張率とを兼ね備えた熱硬化性樹脂組成物の例としては、エポキシ変成シリコーンオイル等の分子内にエポキシ基を含む鎖状の樹脂や前記した本発明の樹脂硬化性シリコーン重合体等の熱硬化性樹脂、硬化剤、無機充填剤及び必要に応じて用いられる分散剤を含有してなる熱硬化性樹脂組成物が挙げられる。分散剤としては前記の非樹脂硬化性シリコーン重合体等を用いることができる。接着性を向上させるためには樹脂組成物に反応性官能基を複数持つアミン化合物を配合することが好ましい。
また、熱硬化性樹脂100重量部に対する無機充填剤の配合量が100重量部以上であり、かつ硬化物のピール強度が0.5kN/m以上であることによって、十分な接着性と低熱膨張性を両立することができることを見出した。熱硬化性樹脂100重量部に対する無機充填剤の配合量が100重量部以上であり、かつ硬化後の導体層とのピール強度が0.5kN/m以上を満たすように調整することで低熱膨張率と十分な接着性を両立することが可能である。このような、十分な接着性と低熱膨張率とを兼ね備えた熱硬化性樹脂組成物の例としては、エポキシ変成シリコーンオイル等の分子内にエポキシ基を含む鎖状の樹脂や前記した本発明の樹脂硬化性シリコーン重合体等の熱硬化性樹脂、硬化剤、無機充填剤及び必要に応じて用いられる分散剤を含有してなる熱硬化性樹脂組成物が挙げられる。分散剤としては前記の非樹脂硬化性シリコーン重合体等を用いることができる。熱硬化性樹脂100重量部に対する無機充填剤の配合量が800重量部以上であることが特に好ましい。樹脂組成物の硬化後の熱膨張係数が50×10−6/℃以下であることが好ましい。また、低応力性の観点から、硬化後の引張試験での伸びが1.0%以上であることが好ましい。また、取り扱い性の観点から硬化後の破断応力が2MPa以上であることが好ましい。接着性を向上させるためには樹脂組成物に反応性官能基を複数持つアミン化合物を配合することが好ましい。
本発明の熱硬化性樹脂組成物は、成分を前記した有機溶剤に溶解又は分散させて樹脂ワニスとして使用することができる。この樹脂ワニスはキャリアシートに塗布し、乾燥してキャリア付き樹脂フィルムとすることができる。熱硬化性樹脂組成物を塗布する際に、厚さは目的に合わせて調整することができ、硬化物の厚さが10〜150μmとなるように調整することが好ましい。ワニスを塗布する際に、キャリアシートと平行な面方向にせん断力を負荷できるか、または、キャリアシートの面に垂直な方向に圧縮力を負荷できる塗工方式を採用することが好ましく、たとえば、ブレードコーター、ロッドコーター、ナイフコーター、スクイズコーター、リバースロールコーター、トランスファロールコーター等の方式を採用することができる。乾燥温度は、80〜200℃が好ましい。乾燥時間を調整することで樹脂フィルムの硬化状態を制御することができる。例えば、半硬化のフィルムを作製する場合の乾燥時間は、硬化が進みすぎない程度の時間とすればよく、1分以上が好ましい。また、完全に硬化させるためには乾燥時間を90分以上とすることが好ましい。キャリア付き樹脂フィルムはそのまま使用してもよく、キャリアシートを引き剥がして用いてもよい。また、本発明の樹脂組成物からなる樹脂フィルム、他の樹脂からなる樹脂フィルム、基板又は配線板等のコア材の片面又は両面に前記樹脂ワニスを塗布し、乾燥して、コア材上に本発明の熱硬化性樹脂組成物からなる樹脂層を設けることができる。
キャリア付き樹脂フィルムを製造する際に用いるキャリアシートとしては、銅やアルミニウム等の金属箔、ポリエステル、ポリイミド、ポリエチレンテレフタレート等の樹脂フィルム、あるいはこれらのキャリアシートの表面に離型剤を塗布したものなどを用いることができる。キャリヤ付き樹脂フィルムからキャリアシートを引き剥がして本発明の樹脂組成物からなる樹脂フィルムのみを使用する場合や、キャリア付き樹脂フィルムを基板に積層した後キャリアシートだけを剥離する場合にはキャリアシートに離型剤処理を施すことが、作業性を向上させる点で好ましい。
前記の本発明の樹脂組成物からなる樹脂フィルムを基材フィルムとし、該基材フィルムの片面又は両面に、他の樹脂からなる樹脂層を設けて、2層樹脂フィルム又は3層樹脂フィルム等の多層樹脂フィルムとすることもできる。他の樹脂からなる樹脂層はポリエステル、ポリイミド、ポリエチレンテレフタレート等の樹脂フィルムを積層して一体化して設けてもよく、また、エポキシ樹脂、フェノール樹脂等の樹脂ワニスを前記と同様の方法で塗布し、乾燥することによって設けてもよい。
前記樹脂フィルムや他の樹脂からなる樹脂フィルムなどのフィルム基材の片面又は両面に、前記キャリア付き樹脂フィルム又は前記した本発明の樹脂組成物からなる樹脂フィルムを、本発明の樹脂組成物からなる樹脂面が接するように積層し、一体化して本発明の樹脂組成物からなる樹脂層を有する2層樹脂フィルム又は3層樹脂フィルム等の多層樹脂フィルムを作製することができる。他の樹脂からなる樹脂フィルムとしては特に制限が無く、目的に合わせてポリエステル、ポリイミド、ポリエチレンテレフタレート等の樹脂フィルムを用いることができる。
コア材の片面又は両面に、本発明の樹脂組成物からなる樹脂層を設けて、プリプレグに低応力性、低熱膨張性などの特性を付与することができる。コア材は取り扱い性、重量、放熱性、コストなどの条件に合わせて選ばれ、金属板、樹脂板、板状の無機材料などを用いることができる。例えば、電子機器のマザーボードやチップ搭載用基板等に一般的に使用される基板を用いることができ、フェノール樹脂、エポキシ樹脂又はポリイミド樹脂等の樹脂と、紙、アラミド繊維又はガラス繊維などの繊維基材とを含む基板が好ましく用いられる。本発明の樹脂組成物からなる樹脂層を設ける方法としては、前記キャリア付き樹脂フィルム又は前記した本発明の樹脂組成物からなる樹脂フィルムを積層して一体化する方法や、本発明の樹脂組成物からなる樹脂ワニスを前記と同様の方法で塗布し、乾燥することによって樹脂層を設ける方法などが挙げられる。
絶縁材料付金属箔は本発明の熱硬化性樹脂組成物からなる層を金属箔の一方の面に設けて作製することができる。この絶縁材料付金属箔は、例えば、前記樹脂フィルムまたはキャリア付き樹脂フィルムと金属箔を積層し、加熱・加圧加工する方法や、ワニスを金属箔の片面に前記と同様の方法で塗布し、乾燥する方法などによって製造される。金属箔は特に限定されないが、電気的、経済的に銅箔が好ましく、例えば片面に粗化面を有する従来プリント配線板用に使用されている電解銅箔、圧延銅箔、キャリアシート付き極薄銅箔等が好ましく使用できる。
両面金属箔付絶縁フィルムは本発明の樹脂組成物からなる樹脂層の両面に金属層を設けて作製される。両面金属箔付絶縁フィルムは、例えば、前記絶縁材料付金属箔の絶縁樹脂面側を重ねて積層し、一体化して作製することができる。プレスによって一体化する場合、プレスは真空または常圧下で、温度80〜200℃、圧力0.1〜15MPa、時間0.1〜120分間の条件で行うことが好ましい。
また、他の樹脂を用いて作製された絶縁材料付金属箔の樹脂面に、本発明の樹脂組成物からなる樹脂層を積層し、一体化して、絶縁材料付金属箔に低応力性、低熱膨張性などの本発明の樹脂組成物が有する特性を付与することができる。絶縁材料付金属箔に用いられる樹脂としてはフェノール樹脂、エポキシ樹脂、ポリイミド樹脂などが挙げられる。本発明の樹脂組成物からなる樹脂層を設ける方法としては、前記キャリア付き樹脂フィルム又は前記した本発明の樹脂組成物からなる樹脂フィルムを積層して一体化する方法や、また、本発明の樹脂組成物からなる樹脂ワニスを前記と同様の方法で塗布し、乾燥させることによって設ける方法などが挙げられる。
また、他の樹脂を用いて作製された絶縁材料付金属箔の樹脂面に、本発明の樹脂組成物からなる樹脂層を積層し、一体化して、絶縁材料付金属箔に低応力性、低熱膨張性などの本発明の樹脂組成物が有する特性を付与することができる。絶縁材料付金属箔に用いられる樹脂としてはフェノール樹脂、エポキシ樹脂、ポリイミド樹脂などが挙げられる。本発明の樹脂組成物からなる樹脂層を設ける方法としては、前記キャリア付き樹脂フィルム又は前記した本発明の樹脂組成物からなる樹脂フィルムを積層して一体化する方法や、また、本発明の樹脂組成物からなる樹脂ワニスを前記と同様の方法で塗布し、乾燥させることによって設ける方法などが挙げられる。
前記コア材の片面又は両面に本発明の樹脂組成物からなる樹脂層を設け、さらに該樹脂層上に金属層を設けて、金属張積層板とすることができる。本発明の樹脂組成物からなる樹脂層を設ける方法としては、前記キャリア付き樹脂フィルム又は前記した本発明の樹脂組成物からなる樹脂フィルムを積層して一体化する方法や、また、本発明の樹脂組成物からなる樹脂ワニスを前記と同様の方法で塗布し、乾燥させることによって設ける方法などが挙げられる。コア材と樹脂フィルムを積層し、一体化する方法としては、前記樹脂フィルムを基板または配線板と重ね、ホットロールラミネーターなどを用いて張り合わせる方法が簡便であり、好ましい。金属層を形成する金属としては一般に金属張積層板の用いられる金属をそのまま適用することができ、例えば銅、アルミニウムなどが好ましく用いられる。金属層を設ける方法としてはめっきによる方法や金属箔を積層し、一体化する方法などが挙げられる。金属箔としては、例えば片面に粗化面を有する従来プリント配線板用に使用されている電解銅箔、圧延銅箔、キャリアシート付き極薄銅箔等が好ましく使用できる。また、コア材の片面又は両面に前記絶縁材料付金属箔を積層し、プレスなどにより一体化して金属張積層板とすることもできる。また、コア材に前記樹脂フィルム及び金属箔を積層し、プレスなどにより一括積層してもよい。プレスは真空または常圧下で、温度80〜200℃、圧力0.1〜15MPa、時間0.1〜120分間の条件で行うことが好ましい。
片面にのみ金属層を有する金属張積層板の絶縁層側の面に、本発明の樹脂組成物からなる樹脂層を積層し、一体化して、本発明の樹脂組成物が有する特性を付与することができる。金属張積層板としては一般に使用されている片面金属張積層板をそのまま適用でき、例えば絶縁層がフェノール樹脂、エポキシ樹脂又はポリイミド樹脂等を含む樹脂と、紙、アラミド繊維又はガラス繊維などの繊維基材とを用いて形成され、一方の面に銅箔などの金属箔が積層された金属張積層板などが挙げられる。本発明の樹脂組成物からなる樹脂層を設ける方法としては、前記キャリア付き樹脂フィルム又は前記した本発明の樹脂組成物からなる樹脂フィルムを積層して一体化する方法や、また、本発明の樹脂組成物からなる樹脂ワニスを前記と同様の方法で塗布し、乾燥させることによって設ける方法などが挙げられる。
多層金属張積層板は内層回路板に、前記樹脂ワニスを前記と同様の方法で塗布し、金属箔を積層して前記同様のプレス条件で加熱加圧することにより作製することができる。また、内層回路板に、前記した本発明の樹脂組成物からなる樹脂フィルムを積層して、さらに金属箔を積層して加熱加圧することにより内層回路板入り多層金属張積層板を作製することができる。また、内層回路板の回路層に前記絶縁材料付金属箔の絶縁層が接するように積層し、加熱加圧することにより、内層回路板入り多層金属張積層板を作製することができる。
内層回路板に形成された内層回路と外層回路が電気的に接続された多層プリント配線板は、前記多層金属積層板に常法に従い、外層回路の形成工程、内層回路と外層回路の導通工程等を施すことにより製造することができる。また、内層回路板に、前記キャリア付き樹脂フィルム又は前記した本発明の樹脂組成物からなる樹脂フィルムを積層して一体化する方法や、本発明の樹脂組成物からなる樹脂ワニスを前記と同様の方法で塗布し、乾燥させる方法などによって絶縁層を設け、アディティブ法など、必要箇所に回路を形成する方法によって回路加工し、多層プリント配線板を製造することもできる。
本発明の樹脂組成物からなる樹脂層は硬化物の伸びが大きく、かつ熱膨張係数を低く抑えることが可能であり、半導体チップ等の電子部品を搭載する基板の最外絶縁層に好適に用いることができる。
以下、本発明を実験例に基づいて具体的に説明する。
(実験例A)
撹拌装置、コンデンサ及び温度計を備えたガラスフラスコに、テトラメトキシシラン20g(全シラン化合物中10.4mol%)、ジメトキシジメチルシラン60g(全シラン化合物中39.6mol%)、ジメトキシメチルシラン67g(全シラン化合物中50.0mol%)及び合成溶剤としてメタノール37gを配合した溶液に、合成触媒としてマレイン酸1.5g及び蒸留水50gを配合して80℃で2時間攪拌した後、アリルグリシジルエーテル72g及び塩化白金酸塩(2重量%イソプロピルアルコール溶液)0.2gを添加し、更に4時間撹拌してエポキシ変性のシリコーン重合体(A)を合成した。得られたシリコーン重合体のシロキサン単位の重合度は65であった(GPCによって標準ポリスチレンの検量線を利用して測定した数平均分子量から換算、以下同じ)。
(実験例B)
合成触媒としてマレイン酸に換えてリン酸1.2gを用い、塩化白金酸塩(2重量%イソプロピルアルコール溶液)の添加量を0.2gに変えた以外は実験例Aと同様にしてエポキシ変性のシリコーン重合体(B)を合成した。得られたシリコーン重合体のシロキサン単位の重合度は13であった。
(実験例C)
アリルグリシジルエーテルに換えてアリルアミン36gを用いた以外は実験例Aと同様にしてアミン変性のシリコーン重合体(C)を合成した。得られたシリコーン重合体のシロキサン単位の重合度は18であった。
(実験例D)
アリルグリシジルエーテルに換えて塩酸アリルアミン60gを用いた以外は実験例Aと同様にしてアミン変性のシリコーン重合体(D)を合成した。得られたシリコーン重合体のシロキサン単位の重合度は17であった。
(実験例E)
テトラメトキシシランを25g(全シラン化合物中12.5mol%)、ジメトキシジメチルシランを75g(全シラン化合物中47.4mol%)、ジメトキシメチルシランを56g(全シラン化合物中40.1mol%)、合成溶剤としてメタノールを37g配合した溶液に、合成触媒としてマレイン酸を1.5g、蒸留水を53g配合して80℃で2時間攪拌した後、アリルグリシジルエーテルを60gと塩化白金酸塩(2重量%イソプロピルアルコール溶液)を0.2g添加し、更に4時間撹拌してエポキシ変性のシリコーン重合体(E)を合成した。得られたシリコーン重合体のシロキサン単位の重合度は31であった。
(実験例F)
テトラメトキシシランを10g(全シラン化合物中5.2mol%)、ジメトキシジメチルシランを30g(全シラン化合物中19.9mol%)、ジメトキシメチルシランを100g(全シラン化合物中74.9mol%)、合成溶剤としてメタノールを37g配合した溶液に、合成触媒としてマレイン酸を1.5g、蒸留水を53g配合して80℃で2時間攪拌した後、アリルグリシジルエーテルを108gと塩化白金酸塩(2重量%イソプロピルアルコール溶液)を0.2g添加し、更に4時間撹拌してエポキシ変性のシリコーン重合体(F)を合成した。得られたシリコーン重合体のシロキサン単位の重合度は19であった。
(実験例G)
トリメトキシメチルシランを20g(全シラン化合物中11.4mol%)、ジメトキシジメチルシランを60g(全シラン化合物中38.8mol%)、ジメトキシメチルシランを68g(全シラン化合物中49.8mol%)、合成溶剤としてメタノールを37g配合した溶液に、合成触媒としてマレイン酸を1.5g、蒸留水を49g配合して80℃で2時間攪拌した後、アリルグリシジルエーテルを74gと塩化白金酸塩(2重量%イソプロピルアルコール溶液)を0.2g添加し、更に4時間撹拌してエポキシ変性のシリコーン重合体(G)を合成した。得られたシリコーン重合体のシロキサン単位の重合度は45であった。
(実験例H)
トリメトキシメチルシランを80g(全シラン化合物中50.1mol%)、ジメトキシメチルシランを62g(全シラン化合物中49.9mol%)、合成溶剤としてメタノールを37g配合した溶液に、合成触媒としてマレイン酸を1.4g、蒸留水を53g配合して80℃で2時間攪拌した後、アリルグリシジルエーテルを67gと塩化白金酸塩(2重量%イソプロピルアルコール溶液)を0.2g添加し、更に4時間撹拌してエポキシ変性のシリコーン重合体を合成した。得られたシリコーン重合体(H)のシロキサン単位の重合度は31であった。
(実験例J)
テトラメトキシシランを20g(全シラン化合物中11.5mol%)、トリメトキシメチルシランを60g(全シラン化合物中38.4mol%)、ジメトキシメチルシランを61g(全シラン化合物中50.1mol%)、合成溶剤としてメタノールを37g配合した溶液に、合成触媒としてマレイン酸を1.3g、蒸留水を53g配合して80℃で2時間攪拌した後、アリルグリシジルエーテルを65gと塩化白金酸塩(2重量%イソプロピルアルコール溶液)を0.2g添加し、更に4時間撹拌してエポキシ変性のシリコーン重合体(J)を合成した。得られたシリコーン重合体のシロキサン単位の重合度は120であった。
(実験例K)
テトラメトキシシランを25g(全シラン化合物中14.3mol%)、トリメトキシメチルシランを75g(全シラン化合物中48.0mol%)、ジメトキシメチルシランを51g(全シラン化合物中41.9mol%)、合成溶剤としてメタノールを37g配合した溶液に、合成触媒としてマレイン酸を1.4g、蒸留水を59g配合して80℃で2時間攪拌した後、アリルグリシジルエーテルを55gと塩化白金酸塩(2重量%イソプロピルアルコール溶液)を0.2g添加し、更に4時間撹拌してエポキシ変性のシリコーン重合体(K)を合成した。得られたシリコーン重合体のシロキサン単位の重合度は45であった。
(実験例I−1)
撹拌装置、コンデンサ及び温度計を備えたガラスフラスコに、実験例Aで合成したシリコーン重合体の固形分100重量部に対してシリカ粉末(商品名:SO−25R,平均粒径:0.5μm,株式会社アドマテックス製)450重量部と希釈溶剤としてメタノールを202重量部配合し、80℃で1時間攪拌した後、室温まで冷却し、シリコーン重合体の固形分100重量部に対してテトラブロモビスフェノールAを78重量部と2−エチル−4−メチルイミダゾール3重量部を配合し、室温で1時間撹拌して無機充填剤溶液(樹脂組成物)を作製した。
(実験例I−2)
実験例Aで合成したシリコーン重合体の固形分100重量部に対して、シリカ粉末(商品名:SO−25R,平均粒径:0.5μm,株式会社アドマテックス製)の配合量を900重量部、メタノールの配合量を250重量部に変えた以外は実験例I−1と同様にして無機充填剤溶液(樹脂組成物)を作製した。
(実験例I−3)
実験例Aで合成したシリコーン重合体の固形分100重量部に対して、シリカ粉末(商品名:SO−25R,平均粒径:0.5μm,株式会社アドマテックス製)の配合量を1300重量部、メタノールの配合量を490重量部に変えた以外は実験例I−1と同様にして無機充填剤溶液(樹脂組成物)を作製した。
(実験例I−4)
実験例Aで合成したシリコーン重合体に換えて実験例Bで合成したシリコーン重合体を用いた以外は実験例I−1と同様にして無機充填剤溶液(樹脂組成物)を作製した。
(実験例I−5)
実験例Bで合成したシリコーン重合体の固形分100重量部に対して、シリカ粉末(商品名:SO−25R,平均粒径:0.5μm,株式会社アドマテックス製)の配合量を900重量部、メタノールの配合量を250重量部に変えた以外は実験例I−4と同様にして無機充填剤溶液(樹脂組成物)を作製した。
(実験例I−6)
実験例Bで合成したシリコーン重合体の固形分100重量部に対して、シリカ粉末(商品名:SO−25R,平均粒径:0.5μm,株式会社アドマテックス製)の配合量を1300重量部、メタノールの配合量を490重量部に変えた以外は実験例I−4と同様にして無機充填剤溶液(樹脂組成物)を作製した。
(実験例I−7)
実験例Aで合成したシリコーン重合体に換えて実験例Cで合成したシリコーン重合体を用いた以外は実験例I−1と同様にして無機充填剤溶液(樹脂組成物)を作製した。
(実験例I−8)
実験例Aで合成したシリコーン重合体に換えて実験例Dで合成したシリコーン重合体を用いた以外は実験例I−1と同様にして無機充填剤溶液(樹脂組成物)を作製した。
(実験例I−9)
実験例Aで合成したシリコーン重合体の固形分100重量部に換えて実験例Aで合成したシリコーン重合体の固形分50重量部と実験例Bで合成したシリコーン重合体の固形分50重量部の混合物を用いた以外は実験例I−1と同様にして無機充填剤溶液(樹脂組成物)を作製した。
(実験例I−10)
実験例Aで合成したシリコーン重合体に換えて実験例Eで合成したシリコーン重合体を使用し、テトラブロモビスフェノールAの配合量をシリコーン重合体の固形分100重量部に対して66重量部に変えた以外は実験例I−1と同様にして無機充填剤溶液(樹脂組成物)を作製した。
(実験例I−11)
実験例Aで合成したシリコーン重合体に換えて実験例Fで合成したシリコーン重合体を使用し、テトラブロモビスフェノールAの配合量をシリコーン重合体の固形分100重量部に対して104重量部に変えた以外は実験例I−1と同様にして無機充填剤溶液(樹脂組成物)を作製した。
(実験例I−12)
実験例Aで合成したシリコーン重合体に換えて実験例Gで合成したシリコーン重合体を使用し、テトラブロモビスフェノールAの配合量をシリコーン重合体の固形分100重量部に対して79重量部に変えた以外は実験例I−1と同様にして無機充填剤溶液(樹脂組成物)を作製した。
(実験例I−13)
実験例Aで合成したシリコーン重合体に換えて実験例Hで合成したシリコーン重合体を使用し、テトラブロモビスフェノールAの配合量をシリコーン重合体の固形分100重量部に対して76重量部に変えた以外は実験例I−1と同様にして無機充填剤溶液(樹脂組成物)を作製した。
(実験例I−14)
実験例Aで合成したシリコーン重合体に換えて実験例Jで合成したシリコーン重合体を使用し、テトラブロモビスフェノールAの配合量をシリコーン重合体の固形分100重量部に対して76重量部に変えた以外は実験例I−1と同様にして無機充填剤溶液(樹脂組成物)を作製した。
(実験例I−15)
実験例Aで合成したシリコーン重合体に換えて実験例Kで合成したシリコーン重合体を使用し、テトラブロモビスフェノールAの配合量をシリコーン重合体の固形分100重量部に対して63重量部に変えた以外は実験例I−1と同様にして無機充填剤溶液(樹脂組成物)を作製した。
(実験例I−16)
硬化剤としてテトラブロモビスフェノールAに換えてビスフェノールA33重量部を用いた以外は実験例I−1と同様にして無機充填剤溶液(樹脂組成物)を作製した。
(実験例I−17)
実験例Aで合成したシリコーン重合体の固形分100重量部に換えてエポキシ変性シリコーンオイル(商品名:KF101、信越化学株式会社製)100重量部を用い、メタノールの配合量を219重量部とした以外は実験例I−1と同様にして無機充填剤溶液(樹脂組成物)を作製した。
(実験例I−18)
エポキシ変性シリコーンオイル(商品名:KF101、信越化学株式会社製)100重量部に対してシリカ粉末(商品名:SO−25R,平均粒径:0.5μm,株式会社アドマテックス製)の配合量を900重量部、メタノールの配合量を267重量部に変えた以外は、実験例I−17と同様にして無機充填剤溶液(樹脂組成物)を作製した。
(実験例I−19)
エポキシ変性シリコーンオイル(商品名:KF101、信越化学株式会社製)に換えてエポキシ変性シリコーンオイル(商品名:KF105、信越化学株式会社製)を用いた以外は、実験例I−17と同様にして無機充填剤溶液(樹脂組成物)を作製した。
(実験例I−20)
エポキシ変性シリコーンオイル(商品名:KF101、信越化学株式会社製)に換えてγ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン(商品名:A−187、日本ユニカー株式会社製)を用いた以外は、実験例I−17と同様にして無機充填剤溶液(樹脂組成物)を作製した。
(実験例I−21)
エポキシ変性シリコーンオイル(商品名:KF101、信越化学株式会社製)に換えてN−β−[N−(ビニルベンジル)アミノエチル]−γ−アミノプロピルトリメトキシシラン・塩酸塩(商品名:SZ−6032、東レ・ダウコーニング・シリコーン株式会社製)を用いた以外は、実験例I−17と同様にして無機充填剤溶液(樹脂組成物)を作製した。
(実験例I−22)
撹拌装置、コンデンサ及び温度計を備えたガラスフラスコに、テトラメトキシシランを8g、ジメトキシジメチルシランを32g、ジメトキシメチルシランを17g、合成溶剤としてメタノールを98g配合した溶液に、合成触媒として酢酸を0.5g、蒸留水を16.2g配合して80℃で2時間攪拌した後、アリルグリシジルエーテルを18.2gと塩化白金酸塩(2重量%イソプロピルアルコール溶液)を0.04g添加し、更に4時間撹拌してエポキシ変性のシリコーン重合体(L)を合成した。得られたシリコーン重合体のシロキサン単位の重合度は18であった。
上記方法で合成したシリコーン重合体の固形分100重量部に対してシリカ粉末(商品名:SO−25R、株式会社アドマテックス製)450重量部と希釈溶剤としてメタノールを202重量部配合し、80℃で1時間攪拌した後、室温まで冷却し、シリコーン重合体の固形分100重量部に対してテトラブロモビスフェノールAを78重量部と2−エチル−4−メチルイミダゾール3重量部を配合し、室温で1時間撹拌して無機充填剤溶液(樹脂組成物)を作製した。
(評価方法1)
実験例I−1〜I−22で得た無機充填剤溶液(樹脂組成物)を離型フィルム上に塗布し、170℃2時間で硬化させることでフィルムを得た。得られたフィルム(試料)の特性を以下に記す種々の方法にて測定した。
得られた試料の熱膨張率は、熱機械分析(TMA:MAC SCIENCE社製TMA)により引張モードで測定した。試料の伸びは、幅 10mm×長さ 80mm 厚み 50〜100μmのフィルムを試料として用いて、引張試験機(島津製作所オートグラフAG−100C)により、測定条件をチャック間距離:60mm、引張速度:5mm/minとして、引張試験で測定した。また、「無機充填剤分散性」は、無機充填剤を主剤で混合する場合に、無機充填剤が撹拌棒やフラスコ壁面への付着が無く、均一に混合される試料を「○」とし、無機充填剤が撹拌棒やフラスコ壁面への付着が有り、不均一に混合される試料を「×」で判断した。各実験例の配合を表1に示し、各配合における樹脂特性についての結果を表2に示す。
表1.実験例Iの配合(配合量の単位は重量部)
Figure 0005545194
表2.実験例Iの特性
Figure 0005545194
(実験例II−1)
撹拌装置、コンデンサ及び温度計を備えたガラスフラスコに、実験例Aで合成したシリコーン重合体の固形分100重量部に対してシリカ粉末(商品名:SO−25R,平均粒径:0.5μm,株式会社アドマテックス製)450重量部と希釈溶剤としてメタノールを202重量部配合し、80℃で1時間攪拌した後、室温まで冷却し、シリコーン重合体の固形分100重量部に対してテトラブロモビスフェノールAを78重量部、2−エチル−4−メチルイミダゾール3重量部および両末端シリル基変性エラストマ(商品名:SAT200,鐘淵化学工業株式会社製)5重量部を配合し、室温で1時間撹拌して無機充填剤溶液(樹脂組成物)を作製した。
(実験例II−2)
実験例Aで合成したシリコーン重合体の固形分100重量部に対する両末端シリル基変性エラストマ(商品名:SAT200,鐘淵化学工業株式会社製)の配合量を10重量部に変えた以外は、実験例II−1と同様にして無機充填剤溶液(樹脂組成物)を作製した。
(実験例II−3)
実験例Aで合成したシリコーン重合体の固形分100重量部に対する両末端シリル基変性エラストマ(商品名:SAT200,鐘淵化学工業株式会社製)の配合量を15重量部に変えた以外は、実験例II−1と同様にして無機充填剤溶液(樹脂組成物)を作製した。
(実験例II−4)
実験例Aで合成したシリコーン重合体の固形分100重量部に対するシリカ粉末(商品名:SO−25R,平均粒径:0.5μm,株式会社アドマテックス製)の配合量を900重量部に、メタノールの配合量を250重量部に変えた以外は、実験例II−1と同様にして無機充填剤溶液(樹脂組成物)を作製した。
(実験例II−5)
実験例Aで合成したシリコーン重合体の固形分100重量部に対する両末端シリル基変性エラストマ(商品名:SAT200,鐘淵化学工業株式会社製)の配合量を10重量部に変えた以外は、実験例II−4と同様にして無機充填剤溶液(樹脂組成物)を作製した。
(実験例II−6)
実験例Aで合成したシリコーン重合体の固形分100重量部に対する両末端シリル基変性エラストマ(商品名:SAT200,鐘淵化学工業株式会社製)の配合量を15重量部に変えた以外は、実験例II−4と同様にして無機充填剤溶液(樹脂組成物)を作製した。
(実験例II−7)
実験例Aで合成したシリコーン重合体の固形分100重量部に対するシリカ粉末(商品名:SO−25R,平均粒径:0.5μm,株式会社アドマテックス製)の配合量を1300重量部に、メタノールの配合量を490重量部に変えた以外は、実験例II−1と同様にして無機充填剤溶液(樹脂組成物)を作製した。
(実験例II−8)
実験例Aで合成したシリコーン重合体の固形分100重量部に対する両末端シリル基変性エラストマ(商品名:SAT200,鐘淵化学工業株式会社製)の配合量を10重量部に変えた以外は、実験例II−7と同様にして無機充填剤溶液(樹脂組成物)を作製した。
(実験例II−9)
実験例Aで合成したシリコーン重合体の固形分100重量部に対する両末端シリル基変性エラストマ(商品名:SAT200,鐘淵化学工業株式会社製)の配合量を15重量部に変えた以外は、実験例II−7と同様にして無機充填剤溶液(樹脂組成物)を作製した。
(評価方法2)
実験例I−1〜実験例I−3および実験例II−1〜実験例II−9の樹脂組成物を、それぞれ評価方法1と同様にしてフィルムとし、得られたフィルムの熱膨張率、伸びおよび無機充填剤分散性を、評価方法1と同様にして評価した。また、破断応力は幅 10mm×長さ 80mm 厚み 50〜100μmのフィルムを試料として用いて、引張試験機(島津製作所オートグラフAG−100C)により、測定条件をチャック間距離:60mm、引張速度:5mm/minとして、引張試験で測定した。実験例IIの配合については表3に、特性について評価した結果を表4に示す。
表3.実験例IIの配合(配合量の単位は重量部)
Figure 0005545194
表4.実験例IIの特性
Figure 0005545194
(実験例III−1)
撹拌装置、コンデンサ及び温度計を備えたガラスフラスコに、実験例Aで合成したシリコーン重合体の固形分95重量部に対してエポキシ変性シリコーンオイル(商品名:KF101、信越化学株式会社製)5重量部、シリカ粉末(商品名:SO−25R,平均粒径:0.5μm,株式会社アドマテックス製)900重量部と希釈溶剤としてメタノールを250重量部配合し、80℃で1時間攪拌した後、室温まで冷却し、テトラブロモビスフェノールAを78重量部および2−エチル−4−メチルイミダゾール3重量部を配合し、室温で1時間撹拌して無機充填剤溶液(樹脂組成物)を作製した。
(実験例III−2)
配合量を、実験例Aで合成したシリコーン重合体の固形分75重量部に対してエポキシ変性シリコーンオイル(商品名:KF101、信越化学株式会社製)25重量部、シリカ粉末(商品名:SO−25R,平均粒径:0.5μm,株式会社アドマテックス製)900重量部、メタノール250重量部、テトラブロモビスフェノールA78重量部および2−エチル−4−メチルイミダゾール3重量部とした以外は実験例III−1と同様にして無機充填剤溶液(樹脂組成物)を作製した。
(実験例III−3)
配合量を、実験例Aで合成したシリコーン重合体の固形分50重量部に対してエポキシ変性シリコーンオイル(商品名:KF101、信越化学株式会社製)50重量部、シリカ粉末(商品名:SO−25R,平均粒径:0.5μm,株式会社アドマテックス製)900重量部、メタノール250重量部、テトラブロモビスフェノールA78重量部および2−エチル−4−メチルイミダゾール3重量部とした以外は実験例III−1と同様にして無機充填剤溶液(樹脂組成物)を作製した。
(実験例III−4)
配合量を、実験例Aで合成したシリコーン重合体の固形分25重量部に対してエポキシ変性シリコーンオイル(商品名:KF101、信越化学株式会社製)75重量部、シリカ粉末(商品名:SO−25R,平均粒径:0.5μm,株式会社アドマテックス製)900重量部、メタノール250重量部、テトラブロモビスフェノールA78重量部および2−エチル−4−メチルイミダゾール3重量部とした以外は実験例III−1と同様にして無機充填剤溶液(樹脂組成物)を作製した。
(実験例III−5)
配合量を、実験例Aで合成したシリコーン重合体の固形分5重量部に対してエポキシ変性シリコーンオイル(商品名:KF101、信越化学株式会社製)95重量部、シリカ粉末(商品名:SO−25R,平均粒径:0.5μm,株式会社アドマテックス製)900重量部、メタノール250重量部、テトラブロモビスフェノールA78重量部および2−エチル−4−メチルイミダゾール3重量部とした以外は実験例III−1と同様にして無機充填剤溶液(樹脂組成物)を作製した。
(実験例III−6)
配合量を、実験例Aで合成したシリコーン重合体の固形分1重量部に対してエポキシ変性シリコーンオイル(商品名:KF101、信越化学株式会社製)99重量部、シリカ粉末(商品名:SO−25R,平均粒径:0.5μm,株式会社アドマテックス製)900重量部、メタノール250重量部、テトラブロモビスフェノールA78重量部および2−エチル−4−メチルイミダゾール3重量部とした以外は実験例III−1と同様にして無機充填剤溶液(樹脂組成物)を作製した。
(実験例III−7)
撹拌装置、コンデンサー及び温度計を備えたガラスフラスコ中の、ジメトキシジメチルシラン20g、テトラメトキシシラン25g及びメタノール105gを配合した溶液に、酢酸0.60g及び蒸留水17.8gを添加し、50℃で8時間撹拌して非樹脂硬化性シリコーン重合体を合成した。
こうして得られた非樹脂硬化性シリコーン重合体を実験例Aで合成したシリコーン重合体に換えて用いた以外は以外は実験例III−6と同様にして無機充填剤溶液(樹脂組成物)を作製した。
(実験例III−8)
非樹脂硬化性シリコーン重合体に換えてγ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン(商品名:A−187、日本ユニカー株式会社製)を用いた以外は実験例III−7と同様にして無機充填剤溶液(樹脂組成物)を作製した。
(実験例III−9)
撹拌装置、コンデンサ及び温度計を備えたガラスフラスコに、エポキシ変性シリコーンオイル(商品名:KF101、信越化学株式会社製)100重量部、シリカ粉末(商品名:SO−25R,平均粒径:0.5μm,株式会社アドマテックス製)900重量部と希釈溶剤としてメタノールを250重量部配合し、80℃で1時間攪拌した後、室温まで冷却し、テトラブロモビスフェノールAを78重量部および2−エチル−4−メチルイミダゾール3重量部を配合し、室温で1時間撹拌して無機充填剤溶液(樹脂組成物)を作製した。
(実験例III−10)
エポキシ変性シリコーンオイル(商品名:KF101、信越化学株式会社製)に換えてエポキシ変性シリコーンオイル(商品名:X22−2000、信越化学株式会社製)を用いた以外は実験例III−1と同様にして無機充填剤溶液(樹脂組成物)を作製した。
(実験例III−11)
エポキシ変性シリコーンオイル((商品名:KF101、信越化学株式会社製)に換えてエポキシ変性シリコーンオイル(商品名:X22−2000、信越化学株式会社製)を用いた以外は実験例III−2と同様にして無機充填剤溶液(樹脂組成物)を作製した。
(実験例III−12)
エポキシ変性シリコーンオイル(商品名:KF101、信越化学株式会社製)に換えてエポキシ変性シリコーンオイル(商品名:X22−2000、信越化学株式会社製)を用いた以外は実験例III−3と同様にして無機充填剤溶液(樹脂組成物)を作製した。
(実験例III−13)
エポキシ変性シリコーンオイル(商品名:KF101、信越化学株式会社製)に換えてエポキシ変性シリコーンオイル(商品名:X22−2000、信越化学株式会社製)を用いた以外は実験例III−4と同様にして無機充填剤溶液(樹脂組成物)を作製した。
(実験例III−14)
エポキシ変性シリコーンオイル(商品名:KF101、信越化学株式会社製)に換えてエポキシ変性シリコーンオイル(商品名:X22−2000、信越化学株式会社製)を用いた以外は実験例III−5と同様にして無機充填剤溶液(樹脂組成物)を作製した。
(実験例III−15)
エポキシ変性シリコーンオイル(商品名:KF101、信越化学株式会社製)に換えてエポキシ変性シリコーンオイル(商品名:X22−2000、信越化学株式会社製)を用いた以外は実験例III−6と同様にして無機充填剤溶液(樹脂組成物)を作製した。
(実験例III−16)
エポキシ変性シリコーンオイル(商品名:KF101、信越化学株式会社製)に換えてエポキシ変性シリコーンオイル(商品名:X22−2000、信越化学株式会社製)を用いた以外は実験例III−7と同様にして無機充填剤溶液(樹脂組成物)を作製した。
(実験例III−17)
エポキシ変性シリコーンオイル(商品名:KF101、信越化学株式会社製)に換えてエポキシ変性シリコーンオイル(商品名:X22−2000、信越化学株式会社製)を用いた以外は実験例III−8と同様にして無機充填剤溶液(樹脂組成物)を作製した。
(実験例III−18)
エポキシ変性シリコーンオイル(商品名:KF101、信越化学株式会社製)に換えてエポキシ変性シリコーンオイル(商品名:X22−2000、信越化学株式会社製)を用いた以外は実験例III−9と同様にして無機充填剤溶液(樹脂組成物)を作製した。
(評価方法3)
実験例III−1〜実験例III−18の樹脂組成物を、それぞれ評価方法1と同様にしてフィルムとし、得られたフィルムの熱膨張率、伸び、無機充填剤分散性および破断応力を、評価方法2と同様にして評価した。実験例IIIの配合については表5に、特性について得られた評価結果を表6に示す。
表5.実験例IIIの配合(配合量の単位は重量)
Figure 0005545194
表6.実験例IIIの特性
Figure 0005545194
(実験例IV−1)
撹拌装置、コンデンサ及び温度計を備えたガラスフラスコに、実験例Aで合成したシリコーン重合体の固形分100重量部に対してシリカ粉末(商品名:SO−25R,平均粒径:0.5μm,株式会社アドマテックス製)450重量部と希釈溶剤としてメタノールを202重量部配合し、80℃で1時間攪拌した後、室温まで冷却し、シリコーン重合体の固形分100重量部に対してテトラブロモビスフェノールAを78重量部、2−エチル−4−メチルイミダゾール3重量部およびm−フェニレンジアミン1重量部を配合し、室温で1時間撹拌して無機充填剤溶液(樹脂組成物)を作製した。
(実験例IV−2)
m−フェニレンジアミンの配合量をシリコーン重合体の固形分100重量部に対して2重量部に変更した以外は実験例IV−1と同様にして無機充填剤溶液(樹脂組成物)を作製した。
(実験例IV−3)
m−フェニレンジアミンに換えて4,4’−ジアミノベンズアニリド1重量部を用いた以外は実験例IV−1と同様にして無機充填剤溶液(樹脂組成物)を作製した。
(実験例IV−4)
m−フェニレンジアミンに換えて3−アミノ−1−プロパノール1重量部を用いた以外は実験例IV−1と同様にして無機充填剤溶液(樹脂組成物)を作製した。
(実験例IV−5)
m−フェニレンジアミンに換えてジシアンジアミド1重量部を用いた以外は実験例IV−1と同様にして無機充填剤溶液(樹脂組成物)を作製した。
(実験例IV−6)
m−フェニレンジアミンに換えて4−アミノフェノール1重量部を用いた以外は実験例IV−1と同様にして無機充填剤溶液(樹脂組成物)を作製した。
(実験例IV−7)
m−フェニレンジアミンに換えて4,4’−ジアミノ−2,2’−ジメチルビフェニル1重量部を用いた以外は実験例IV−1と同様にして無機充填剤溶液(樹脂組成物)を作製した。
(実験例IV−8)
実験例Aで合成したシリコーン重合体の固形分100重量部に対して、シリカ粉末(商品名:SO−25R,平均粒径:0.5μm,株式会社アドマテックス製)の配合量を900重量部、メタノールの配合量を250重量部に変えた以外は実験例IV−1と同様にして無機充填剤溶液(樹脂組成物)を作製した。
(実験例IV−9)
m−フェニレンジアミンに換えて4,4’−ジアミノベンズアニリド1重量部を用いた以外は実験例IV−8と同様にして無機充填剤溶液(樹脂組成物)を作製した。
(実験例IV−10)
m−フェニレンジアミンに換えて3−アミノ−1−プロパノール1重量部を用いた以外は実験例IV−8と同様にして無機充填剤溶液(樹脂組成物)を作製した。
(実験例IV−11)
m−フェニレンジアミンに換えてジシアンジアミド1重量部を用いた以外は実験例IV−8と同様にして無機充填剤溶液(樹脂組成物)を作製した。
(実験例IV−12)
m−フェニレンジアミンに換えて4−アミノフェノール1重量部を用いた以外は実験例IV−8と同様にして無機充填剤溶液(樹脂組成物)を作製した。
(実験例IV−13)
m−フェニレンジアミンに換えて4,4’−ジアミノ−2,2’−ジメチルビフェニル1重量部を用いた以外は実験例IV−8と同様にして無機充填剤溶液(樹脂組成物)を作製した。
(実験例IV−14)
実験例Aで合成したシリコーン重合体の固形分100重量部に対して、シリカ粉末(商品名:SO−25R,平均粒径:0.5μm,株式会社アドマテックス製)の配合量を1300重量部、メタノールの配合量を250重量部に変えた以外は実験例IV−1と同様にして無機充填剤溶液(樹脂組成物)を作製した。
(実験例IV−15)
m−フェニレンジアミンに換えて4,4’−ジアミノベンズアニリド1重量部を用いた以外は実験例IV−14と同様にして無機充填剤溶液(樹脂組成物)を作製した。
(実験例IV−16)
m−フェニレンジアミンに換えて3−アミノ−1−プロパノール1重量部を用いた以外は実験例IV−14と同様にして無機充填剤溶液(樹脂組成物)を作製した。
(実験例IV−17)
m−フェニレンジアミンに換えてジシアンジアミド1重量部を用いた以外は実験例IV−14と同様にして無機充填剤溶液(樹脂組成物)を作製した。
(実験例IV−18)
m−フェニレンジアミンに換えて4−アミノフェノール1重量部を用いた以外は実験例IV−14と同様にして無機充填剤溶液(樹脂組成物)を作製した。
(実験例IV−19)
m−フェニレンジアミンに換えて4,4’−ジアミノ−2,2’−ジメチルビフェニル1重量部を用いた以外は実験例IV−14と同様にして無機充填剤溶液(樹脂組成物)を作製した。
(評価方法4)
実験例I−1〜実験例I−3および実験例IV−1〜実験例IV−18の樹脂組成物を、それぞれ評価方法1と同様にしてフィルムとし、得られたフィルムの熱膨張率、伸びおよび無機充填剤分散性を、評価方法1と同様にして評価した。ピール強度は、無機充填剤溶液(樹脂組成物)を18μmの銅箔上に塗布し、これを積層板に温度175℃,圧力2.45MPaで熱圧着して、エッチングにより10mm幅のラインを形成したものを試料として、90°方向の銅の引き剥がし強さをオートグラフ(島津製作所オートグラフAG−100C)を用いてヘッドスピード50mm/minで測定した。実験例IVの配合について表7に示し、特性についての評価結果を表8に示す。
表7.実験例IVの配合(配合量の単位は重量部)
Figure 0005545194
アミン化合物
a:m−フェニレンジアミン,b:4,4’−ジアミノベンズアニリド
c:3−アミノ−1−プロパノール,d:ジシアンジアミド
e:4−アミノフェノール,f:4,4’−ジアミノ−2,2’−ジメチルビフェニル
表8.実験例IVの特性
Figure 0005545194
(実験例V−1)
撹拌装置、コンデンサ及び温度計を備えたガラスフラスコに、実験例Aで合成したシリコーン重合体の固形分100重量部に対してシリカ粉末(商品名:SO−25R,平均粒径:0.5μm,株式会社アドマテックス製)900重量部と希釈溶剤としてメタノールを250重量部配合し、80℃で1時間攪拌した後、室温まで冷却し、シリコーン重合体の固形分100重量部に対してテトラブロモビスフェノールAを78重量部、2−エチル−4−メチルイミダゾール3重量部、両末端シリル基変性エラストマ(商品名:SAT200,鐘淵化学工業株式会社製)5重量部およびm−フェニレンジアミン1重量部を配合し、室温で1時間撹拌して無機充填剤溶液(樹脂組成物)を作製した。
(実験例V−2)
撹拌装置、コンデンサ及び温度計を備えたガラスフラスコに、実験例Aで合成したシリコーン重合体の固形分95重量部に対してエポキシ変性シリコーンオイル(商品名:KF101、信越化学株式会社製)5重量部、シリカ粉末(商品名:SO−25R,平均粒径:0.5μm,株式会社アドマテックス製)900重量部と希釈溶剤としてメタノールを250重量部配合し、80℃で1時間攪拌した後、室温まで冷却し、テトラブロモビスフェノールAを78重量部、2−エチル−4−メチルイミダゾール3重量部、両末端シリル基変性エラストマ(商品名:SAT200,鐘淵化学工業株式会社製)5重量部およびm−フェニレンジアミン1重量部を配合し、室温で1時間撹拌して無機充填剤溶液(樹脂組成物)を作製した。
(実験例V−3)
配合量を、実験例Aで合成したシリコーン重合体の固形分5重量部に対してエポキシ変性シリコーンオイル(商品名:KF101、信越化学株式会社製)95重量部、シリカ粉末(商品名:SO−25R,平均粒径:0.5μm,株式会社アドマテックス製)900重量部、メタノール250重量部、テトラブロモビスフェノールA78重量部、2−エチル−4−メチルイミダゾール3重量部、両末端シリル基変性エラストマ(商品名:SAT200,鐘淵化学工業株式会社製)5重量部およびm−フェニレンジアミン1重量部とした以外は実験例V−2と同様にして無機充填剤溶液(樹脂組成物)を作製した。
(実験例V−4)
配合量を、実験例Aで合成したシリコーン重合体の固形分1重量部に対してエポキシ変性シリコーンオイル(商品名:KF101、信越化学株式会社製)99重量部、シリカ粉末(商品名:SO−25R,平均粒径:0.5μm,株式会社アドマテックス製)900重量部、メタノール250重量部、テトラブロモビスフェノールA78重量部、2−エチル−4−メチルイミダゾール3重量部、両末端シリル基変性エラストマ(商品名:SAT200,鐘淵化学工業株式会社製)5重量部およびm−フェニレンジアミン1重量部とした以外は実験例V−2と同様にして無機充填剤溶液(樹脂組成物)を作製した。
(実験例V−5)
撹拌装置、コンデンサー及び温度計を備えたガラスフラスコ中の、ジメトキシジメチルシラン20g、テトラメトキシシラン25g及びメタノール105gを配合した溶液に、酢酸0.60g及び蒸留水17.8gを添加し、50℃で8時間撹拌して非樹脂硬化性シリコーン重合体を合成した。
こうして得られた非樹脂硬化性シリコーン重合体を実験例Aで合成したシリコーン重合体に換えて用いた以外は実験例V−4と同様にして無機充填剤溶液(樹脂組成物)を作製した。
(実験例V−6)
非樹脂硬化性シリコーン重合体に換えてγ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン(商品名:A−187、日本ユニカー株式会社製)を用いた以外は実験例V−4と同様にして無機充填剤溶液(樹脂組成物)を作製した。
(実験例V−7)
実験例Aで合成したシリコーン重合体に換えてエポキシ変性シリコーンオイル(商品名:KF101、信越化学株式会社製)100重量部を用いた以外は実験例V−1と同様にして無機充填剤溶液(樹脂組成物)を作製した。
(実験例V−8)
シリカ粉末(商品名:SO−25R,平均粒径:0.5μm,株式会社アドマテックス製)の配合量900重量部を1300重量部に変えた以外は実験例V−1と同様にして無機充填剤溶液(樹脂組成物)を作製した。
(実験例V−9)
シリカ粉末(商品名:SO−25R,平均粒径:0.5μm,株式会社アドマテックス製)の配合量900重量部を1300重量部に変えた以外は実験例V−2と同様にして無機充填剤溶液(樹脂組成物)を作製した。
(実験例V−10)
シリカ粉末(商品名:SO−25R,平均粒径:0.5μm,株式会社アドマテックス製)の配合量900重量部を1300重量部に変えた以外は実験例V−3と同様にして無機充填剤溶液(樹脂組成物)を作製した。
(実験例V−11)
シリカ粉末(商品名:SO−25R,平均粒径:0.5μm,株式会社アドマテックス製)の配合量900重量部を1300重量部に変えた以外は実験例V−4と同様にして無機充填剤溶液(樹脂組成物)を作製した。
(実験例V−12)
シリカ粉末(商品名:SO−25R,平均粒径:0.5μm,株式会社アドマテックス製)の配合量900重量部を1300重量部に変えた以外は実験例V−5と同様にして無機充填剤溶液(樹脂組成物)を作製した。
(実験例V−13)
シリカ粉末(商品名:SO−25R,平均粒径:0.5μm,株式会社アドマテックス製)の配合量900重量部を1300重量部に変えた以外は実験例V−6と同様にして無機充填剤溶液(樹脂組成物)を作製した。
(実験例V−14)
シリカ粉末(商品名:SO−25R,平均粒径:0.5μm,株式会社アドマテックス製)の配合量900重量部を1300重量部に変えた以外は実験例V−7と同様にして無機充填剤溶液(樹脂組成物)を作製した。
(評価方法5)
実験例V−1〜実験例V−14の樹脂組成物を、それぞれ評価方法1と同様にしてフィルムとし、得られたフィルムの熱膨張率、伸び、無機充填剤分散性および破断応力を評価方法2と同様にして評価した。また、ピール強度は評価方法4と同様にして評価した。実験例Vの配合については表9に、特性を評価した結果については表10に示す。
表9.実験例Vの配合(配合量の単位は重量部)
Figure 0005545194
M:非樹脂硬化性シリコーン重合体
N:γ−グリドキシプロピルトリメトキシシラン
両末端シリル基変性エラストマ:SAT200(鐘淵化学工業株式会社製商品名)
シリカ粉末:SO−25R
表10.実験例Vの特性
Figure 0005545194
以上の結果より本発明では、無機充填剤の分散性を損なうことなく組成物に多量の無機充填剤を充填でき、熱膨張係数を小さくすることが可能である。また、無機充填剤の高充填にもかかわらず伸びの値が大きく、これによって低応力性も実現されている。さらには、実験例II−1〜実験例II−9、実験例III−1〜実験例III−18および実験例V−1〜実験例V−14に示したように、本発明の樹脂組成物は、その硬化後の熱膨張係数が小さく、かつ十分な破断応力を持つことによって取り扱い性にも優れており、両末端シリル基変性エラストマやエポキシ変性シリコーンオイルを併用することによって、さらに伸びの値や破断応力を大きくさせることができる。また、実験例IV−1〜IV−19および実験例V−1〜実験例V−14に示したように、接着性補強剤を加えることで、金属箔との接着性を高めることができる。
上記実験例の樹脂組成物をそれぞれ厚さ18μmの電解銅箔の粗化面にナイフコーターで乾燥後の絶縁樹脂の厚さが50μmになるよう塗布し、140℃で3分間乾燥して半硬化状態の絶縁材料付金属箔を得た。この絶縁材料付金属箔を、絶縁樹脂側を重ね合わせ、プレスを用いて170℃、2MPa、1時間、加熱加圧し、両面金属箔付絶縁フィルムとした。
また、上記実験例の樹脂組成物を厚さ75μmの離型処理したポリエチレンテレフタレートフィルム上に塗布し、140℃で3分間加熱乾燥して膜厚が80μmの塗膜とし、半硬化状態の樹脂フィルムを作製した。この樹脂フィルムをガラスクロス−エポキシ樹脂プリプレグ(日立化成工業(株)製商品名:GE−67N、厚み0.1mm、大きさ500mm×600mm)の両面に積層し、さらに電解銅箔を積層して、170℃、2MPa、1時間の条件で加熱加圧成形し、金属張積層板とした。
また、厚さ0.2mmで銅箔厚さ18μmの両面銅張積層板(MCL−E−67:日立化成工業(株)製商品名)にエッチングにより回路加工を施してなるコア材の両面に、先に作製した絶縁材料付金属箔を、絶縁材が内層回路板に接するように積層し、170℃、90分間、2MPaの条件で熱圧成形し、多層金属張積層板を作製した。
また、前記多層金属張積層板にエッチングにより回路加工を施し、多層プリント配線板とした。
得られた両面金属箔付絶縁フィルム、金属張積層板、多層金属張積層板及び多層プリント配線板について、難燃性、耐熱性を評価した。難燃性は全面エッチングしたサンプルを用いて、UL94規格の垂直試験により評価した。耐熱性は50mm×50mmに切断した試験片を用いて、260℃及び288℃の溶融はんだに20秒間浸漬させ、ミーズリングやフクレの有無について評価した。本発明による両面金属箔付絶縁フィルム、多層金属張積層板及び金属張積層板は難燃性、耐熱性ともに良好であった。
前述したところが、この発明の好ましい実施態様であること、多くの変更及び修正をこの発明の精神と範囲とにそむくことなく実行できることは当業者によって了承されよう。

Claims (4)

  1. 熱硬化性樹脂、硬化剤および無機充填剤を必須成分とする熱硬化性樹脂組成物において、前記熱硬化性樹脂100重量部に対する前記無機充填剤の配合量が100重量部以上であり、かつ硬化後の破断応力が2MPa以上であり、
    前記熱硬化性樹脂としてエポキシ変性シリコーンオイルと非樹脂硬化性シリコーン重合体との混合物を含有することを特徴とする熱硬化性樹脂組成物。
  2. 前記エポキシ変性シリコーンオイルと前記非樹脂硬化性シリコーン重合体との混合物100重量部中に、前記非樹脂硬化性シリコーン重合体を0.1〜10重量部含むことを特徴とする請求項1に記載の熱硬化性樹脂組成物。
  3. 硬化後の引張試験での伸びが1.0%以上であることを特徴とする請求項1又は2に記載の熱硬化性樹脂組成物。
  4. 両末端シリル基変性エラストマを含有することを特徴とする請求項1〜3のいずれかに記載の熱硬化性樹脂組成物。
JP2010272029A 2000-03-31 2010-12-06 新規なシリコーン重合体の製造法、その方法により製造されたシリコーン重合体、熱硬化性樹脂組成物、樹脂フィルム、絶縁材料付金属箔、両面金属箔付絶縁フィルム、金属張積層板、多層金属張積層板及び多層プリント配線板 Expired - Fee Related JP5545194B2 (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2010272029A JP5545194B2 (ja) 2000-03-31 2010-12-06 新規なシリコーン重合体の製造法、その方法により製造されたシリコーン重合体、熱硬化性樹脂組成物、樹脂フィルム、絶縁材料付金属箔、両面金属箔付絶縁フィルム、金属張積層板、多層金属張積層板及び多層プリント配線板

Applications Claiming Priority (7)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2000101228 2000-03-31
JP2000101228 2000-03-31
JP2000244573 2000-08-11
JP2000244573 2000-08-11
JP2000399796 2000-12-28
JP2000399796 2000-12-28
JP2010272029A JP5545194B2 (ja) 2000-03-31 2010-12-06 新規なシリコーン重合体の製造法、その方法により製造されたシリコーン重合体、熱硬化性樹脂組成物、樹脂フィルム、絶縁材料付金属箔、両面金属箔付絶縁フィルム、金属張積層板、多層金属張積層板及び多層プリント配線板

Related Parent Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2001572610A Division JP5050310B2 (ja) 2000-03-31 2001-03-29 新規なシリコーン重合体の製造法、その方法により製造されたシリコーン重合体、熱硬化性樹脂組成物、樹脂フィルム、絶縁材料付金属箔、両面金属箔付絶縁フィルム、金属張積層板、多層金属張積層板及び多層プリント配線板

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2011046966A JP2011046966A (ja) 2011-03-10
JP5545194B2 true JP5545194B2 (ja) 2014-07-09

Family

ID=27342959

Family Applications (2)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2001572610A Expired - Fee Related JP5050310B2 (ja) 2000-03-31 2001-03-29 新規なシリコーン重合体の製造法、その方法により製造されたシリコーン重合体、熱硬化性樹脂組成物、樹脂フィルム、絶縁材料付金属箔、両面金属箔付絶縁フィルム、金属張積層板、多層金属張積層板及び多層プリント配線板
JP2010272029A Expired - Fee Related JP5545194B2 (ja) 2000-03-31 2010-12-06 新規なシリコーン重合体の製造法、その方法により製造されたシリコーン重合体、熱硬化性樹脂組成物、樹脂フィルム、絶縁材料付金属箔、両面金属箔付絶縁フィルム、金属張積層板、多層金属張積層板及び多層プリント配線板

Family Applications Before (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2001572610A Expired - Fee Related JP5050310B2 (ja) 2000-03-31 2001-03-29 新規なシリコーン重合体の製造法、その方法により製造されたシリコーン重合体、熱硬化性樹脂組成物、樹脂フィルム、絶縁材料付金属箔、両面金属箔付絶縁フィルム、金属張積層板、多層金属張積層板及び多層プリント配線板

Country Status (9)

Country Link
US (2) US7166361B2 (ja)
EP (2) EP1736499B1 (ja)
JP (2) JP5050310B2 (ja)
KR (4) KR20060053025A (ja)
CN (2) CN1325565C (ja)
AT (1) ATE449123T1 (ja)
DE (1) DE60140576D1 (ja)
TW (2) TW567202B (ja)
WO (1) WO2001074927A1 (ja)

Families Citing this family (29)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6132625A (en) * 1998-05-28 2000-10-17 E. I. Du Pont De Nemours And Company Method for treatment of aqueous streams comprising biosolids
EP1736499B1 (en) * 2000-03-31 2009-11-18 Hitachi Chemical Co., Ltd. Thermosetting silicone resin composition, resin film, metallic foil, insulation film, metal-clad laminate, multi-layered metal-clad laminate and multi-layered printed-wiring board comprising the composition and use of the composition as a film, on a foil, in a laminate or printed wiring board
KR100850618B1 (ko) * 2001-09-25 2008-08-05 히다치 가세고교 가부시끼가이샤 저열팽창성의 열경화성 수지 조성물 및 수지 필름
WO2003029353A1 (fr) * 2001-09-25 2003-04-10 Hitachi Chemical Co., Ltd. Composition de resine thermodurcissable a faible expansion thermique et film resine
JP2007126678A (ja) * 2001-09-25 2007-05-24 Hitachi Chem Co Ltd 低熱膨張性の熱硬化性樹脂組成物および樹脂フィルム
JP4621020B2 (ja) * 2002-06-05 2011-01-26 ダウ コーニング コーポレーション ポリシロキサンフィルム及びその製造方法
DE102004050842A1 (de) * 2003-10-21 2005-05-25 Sumitomo Chemical Co. Ltd. Härtbare Zusammensetzung und Harzformkörper mit hydrophilem Film aus der Zusammensetzung
KR20070012553A (ko) 2004-05-14 2007-01-25 다우 코닝 도레이 캄파니 리미티드 오가노폴리실록산 수지 경화물로 이루어진 독립 필름, 이의제조방법 및 적층 필름
JP4623282B2 (ja) * 2005-03-10 2011-02-02 信越化学工業株式会社 半導体装置の製造方法
JP2006307141A (ja) * 2005-03-31 2006-11-09 Sanyo Chem Ind Ltd エポキシ樹脂組成物
JP5043317B2 (ja) * 2005-08-05 2012-10-10 東レ・ダウコーニング株式会社 環状ジハイドロジェンポリシロキサン、ハイドロジェンポリシロキサン、それらの製造方法、シリカ系ガラス成形体およびその製造方法、光学素子およびその製造方法
JP4783117B2 (ja) * 2005-10-21 2011-09-28 東レ・ダウコーニング株式会社 シリカ系ガラス薄層付き無機質基板、その製造方法、コーテイング剤および半導体装置
KR100708434B1 (ko) * 2005-12-30 2007-04-18 주식회사 케이씨씨 액정디스플레이의 바코드 라벨용 이형 필름 조성물
WO2008126642A1 (ja) * 2007-04-10 2008-10-23 Hitachi Chemical Company, Ltd. 金属箔張積層板及びプリント配線板
US9231239B2 (en) 2007-05-30 2016-01-05 Prologium Holding Inc. Electricity supply element and ceramic separator thereof
JP2009043914A (ja) 2007-08-08 2009-02-26 Ishida Yukio 配線板の製造法および配線板
GB0817578D0 (en) * 2008-09-25 2008-11-05 3M Innovative Properties Co Method for treating wheel rims and composition for use therein
CN101722694A (zh) * 2009-11-17 2010-06-09 丹阳市永和电器科技有限公司 一种高Tg高导热型铝基覆铜箔层压板
US11089693B2 (en) 2011-12-16 2021-08-10 Prologium Technology Co., Ltd. PCB structure with a silicone layer as adhesive
TWI437931B (zh) * 2011-12-16 2014-05-11 Prologium Technology Co Ltd 電路板結構
JP5358739B1 (ja) * 2012-10-26 2013-12-04 Jx日鉱日石金属株式会社 キャリア付銅箔、それを用いた銅張積層板、プリント配線板、プリント回路板、及び、プリント配線板の製造方法
JP5352748B1 (ja) * 2012-10-26 2013-11-27 Jx日鉱日石金属株式会社 キャリア付銅箔、それを用いた銅張積層板、プリント配線板、プリント回路板、及び、プリント配線板の製造方法
CN106626580B (zh) 2015-10-28 2019-12-24 财团法人工业技术研究院 复合积层板
CN105542167B (zh) * 2016-02-22 2018-01-09 山东省科学院新材料研究所 一种苯基氢基聚硅氧烷及其制备方法
KR102257926B1 (ko) * 2018-09-20 2021-05-28 주식회사 엘지화학 다층인쇄회로기판, 이의 제조방법 및 이를 이용한 반도체 장치
CN110594617A (zh) * 2019-09-02 2019-12-20 浙江九阳光电有限公司 Led灯条、led螺旋灯芯和led螺旋灯
JP7335678B2 (ja) * 2020-06-08 2023-08-30 信越化学工業株式会社 熱伝導性付加硬化型シリコーン組成物及びその硬化物
CN112279665B (zh) * 2020-11-06 2022-06-07 浙江华茂航天科技股份有限公司 一种吸波陶瓷先驱体及其制备方法和应用
CN114350260B (zh) * 2022-01-18 2023-03-28 美氟新材料科技(常州)有限公司 一种具有耐磨损与高稳定度的氟素离型涂料及其制备方法

Family Cites Families (75)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3825618A (en) * 1968-11-29 1974-07-23 Stauffer Chemical Co Curable organopolysiloxanes
JPS56145942A (en) * 1980-04-14 1981-11-13 Shin Etsu Chem Co Ltd Curable resin composition
JPS5898367A (ja) * 1981-12-07 1983-06-11 Tokyo Denshi Kagaku Kabushiki シリコ−ン系被膜形成用組成物及びその製造方法
JPS5927945A (ja) 1982-08-05 1984-02-14 Mitsubishi Electric Corp 半導体封止用液状エポキシ樹脂組成物
JPS60179417A (ja) * 1984-02-27 1985-09-13 Shin Etsu Chem Co Ltd 液状シリコ−ンゴム組成物
JPS61159427A (ja) * 1984-12-29 1986-07-19 Toshiba Silicone Co Ltd 表面処理用ポリオルガノシロキサン組成物
JPS61275331A (ja) 1985-05-30 1986-12-05 Sumitomo Electric Ind Ltd 光学用架橋シロキサンポリマ−
JPS6240368A (ja) 1985-08-13 1987-02-21 Kawasaki Steel Corp 一方向性けい素鋼板の鉄損低減連続処理設備
JPH0619063B2 (ja) 1986-04-09 1994-03-16 日本エステル株式会社 粉体塗料用樹脂組成物
JPS6317927A (ja) * 1986-07-09 1988-01-25 Sumitomo Bakelite Co Ltd エポキシ樹脂組成物
JPS63183958A (ja) * 1986-09-04 1988-07-29 Toray Silicone Co Ltd 熱硬化性樹脂組成物
USRE36396E (en) 1987-02-17 1999-11-16 Rogers Corporation Electrical substrate material comprising amorphous fused silica powder
JPS63230729A (ja) 1987-03-20 1988-09-27 Sumitomo Chem Co Ltd 半導体封止用樹脂組成物
JPS6422967A (en) * 1987-07-17 1989-01-25 Shinetsu Chemical Co Curable liquid silicone rubber composition
JPH01141925A (ja) * 1987-11-30 1989-06-02 Honshu Paper Co Ltd パラ配向アラミド繊維シートを基材とする改良複合材料
US4954580A (en) * 1987-12-01 1990-09-04 Ciba-Geigy Corporation Epoxysiloxanes
JPH01204953A (ja) 1988-02-12 1989-08-17 Chisso Corp 半導体封止用樹脂組成物
JPH02233763A (ja) * 1989-03-08 1990-09-17 Toshiba Silicone Co Ltd 表面処理用ポリオルガノシロキサン組成物
JPH0362845A (ja) 1989-08-01 1991-03-18 Denki Kagaku Kogyo Kk 半導体封止用樹脂組成物
JPH0395232A (ja) * 1989-09-08 1991-04-19 Honshu Paper Co Ltd パラ配向アラミド繊維状物質を基材とする改良複合材料及びその製造法
JPH05259228A (ja) * 1992-03-11 1993-10-08 Tomoegawa Paper Co Ltd Tab用テープ
JPH03287869A (ja) 1990-04-03 1991-12-18 Nitto Boseki Co Ltd ガラス繊維基材およびそれを用いたガラス繊維強化樹脂積層板
US5182173A (en) * 1990-05-07 1993-01-26 Rogers Corporation Coated particles and method for making same
JPH04252228A (ja) * 1991-01-29 1992-09-08 Asahi Chem Ind Co Ltd シリコーン含有エポキシ化合物及びその製法
JPH04252229A (ja) * 1991-01-29 1992-09-08 Asahi Chem Ind Co Ltd シリコーン化合物及びその製法
JP2571986B2 (ja) * 1991-07-17 1997-01-16 東レ・ダウコーニング・シリコーン株式会社 エアーバッグコーティング用シリコーンゴム組成物
JP3115928B2 (ja) * 1992-02-10 2000-12-11 旭化成工業株式会社 シリコーン系化合物、そのビニル系共重合体及びそれを用いた塗料組成物
JPH0621593A (ja) * 1992-04-14 1994-01-28 Hitachi Chem Co Ltd 印刷配線用基板の製造方法
JP3221718B2 (ja) * 1992-04-14 2001-10-22 ジーイー東芝シリコーン株式会社 エポキシ変性シリコーン樹脂組成物
DE4303570C2 (de) * 1993-02-08 1997-03-20 Fraunhofer Ges Forschung Verfahren zur Herstellung von funktionellen Beschichtungen, beschichtete Substrate und Beschichtungsmaterial
US6534187B2 (en) * 1993-02-08 2003-03-18 Fraunhofer-Gesellschaft Zur Foerderung Der Angewandten Forschung E.V. Coating material and process for the production of functional coatings
US5292827A (en) * 1993-02-25 1994-03-08 General Electric Company Epoxy-capped branched silicones and copolymers thereof
TW257785B (ja) * 1993-05-17 1995-09-21 Dow Corning
JPH06329912A (ja) * 1993-05-25 1994-11-29 Toray Dow Corning Silicone Co Ltd 室温硬化性オルガノポリシロキサン組成物
US5438094A (en) * 1993-07-06 1995-08-01 Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. Adhesive silicone compositions
US5674625A (en) * 1993-11-10 1997-10-07 Central Glass Company, Limited Multilayered water-repellent film and method of forming same on glass substrate
JP3373277B2 (ja) * 1993-12-28 2003-02-04 住友ゴム工業株式会社 塗装ゴルフボール
US5952044A (en) * 1994-01-26 1999-09-14 Fraunhofer-Gesellschaft Zur Forderung Der Angewandten Forschung E.V. Method for reducing the lead release of lead crystal glass
JP3359410B2 (ja) * 1994-03-04 2002-12-24 三菱電機株式会社 成形用エポキシ樹脂組成物ならびにそれを用いた高電圧機器用モールド製品およびその製法
JPH07331093A (ja) * 1994-06-01 1995-12-19 Asahi Glass Co Ltd 硬化性組成物
JP3421134B2 (ja) * 1994-06-16 2003-06-30 株式会社龍森 シリカとシリコーンゴムを含む組成物及びその製造法
JPH0841168A (ja) * 1994-07-27 1996-02-13 Matsushita Electric Works Ltd 液状エポキシ樹脂組成物及び半導体装置
DE4444780A1 (de) * 1994-12-15 1996-06-20 Wacker Chemie Gmbh Zusammensetzung für die Beschichtung von Formteilen oder elastomeren Materialien
JPH08311159A (ja) * 1995-05-17 1996-11-26 Matsushita Electric Works Ltd エポキシ樹脂組成物、その製造方法及びそれを用いた半導体装置
WO1997001595A1 (fr) 1995-06-27 1997-01-16 Hitachi Chemical Company, Ltd. Preimpregne pour cartes a circuits imprimes, vernis de resine, composition de resine et plaque feuilletee pour cartes a circuits imprimes produite avec ces substances
JP2904311B2 (ja) * 1995-06-14 1999-06-14 日立化成工業株式会社 印刷配線板用プリプレグ、樹脂ワニス及び樹脂組成物とそれらを用いて作製される印刷配線板用積層板
JP3242554B2 (ja) * 1995-07-04 2001-12-25 信越化学工業株式会社 室温硬化性オルガノポリシロキサン組成物
US6017389A (en) * 1995-09-19 2000-01-25 Institute Fuer Neue Materialen Gemeinnuetzige Gmbh Thin SiO2 films, a process for producing them and their use
US5985229A (en) * 1995-09-21 1999-11-16 Toagosei Co., Ltd. Solid silica derivative and process for producing the same
JP3760498B2 (ja) * 1996-01-24 2006-03-29 東亞合成株式会社 Si−H結合含有シリカ誘導体微粒子およびその製造方法
JP3760493B2 (ja) * 1995-09-21 2006-03-29 東亞合成株式会社 固体状シリカ誘導体およびその製造方法
JPH09201529A (ja) * 1996-01-26 1997-08-05 Toagosei Co Ltd 反応性シリカ誘導体およびその製造方法
JPH1095835A (ja) * 1996-07-30 1998-04-14 Nippon Kayaku Co Ltd 半導体封止用エポキシ樹脂液状組成物
JP3731264B2 (ja) 1996-10-14 2006-01-05 日立化成工業株式会社 印刷配線板用プリプレグの製造方法
JPH10158361A (ja) * 1996-11-29 1998-06-16 Sumitomo Bakelite Co Ltd 半導体封止用エポキシ樹脂組成物
JPH10245540A (ja) * 1997-03-04 1998-09-14 Toshiba Silicone Co Ltd 剥離力調整剤、その製造方法およびそれを用いる紫外線硬化性剥離剤
JP4118973B2 (ja) * 1997-03-14 2008-07-16 新日鐵化学株式会社 シリコーン化合物及びその製造方法
US6197149B1 (en) * 1997-04-15 2001-03-06 Hitachi Chemical Company, Ltd. Production of insulating varnishes and multilayer printed circuit boards using these varnishes
JPH10306202A (ja) * 1997-05-07 1998-11-17 Ibiden Co Ltd 樹脂複合体および無電解めっき用接着剤
JPH10324749A (ja) * 1997-05-27 1998-12-08 Showa Denko Kk エポキシ基含有オルガノポリシルセスキオキサンおよびその製造法
JP4156083B2 (ja) * 1997-07-23 2008-09-24 住友ベークライト株式会社 半導体封止用樹脂ペレットおよび半導体封止用樹脂ペレットの製造方法
JP4164883B2 (ja) 1997-08-19 2008-10-15 日立化成工業株式会社 印刷配線板用樹脂組成物及びそれを用いたプリプレグ、金属張り積層板
JP4245197B2 (ja) 1997-10-08 2009-03-25 日立化成工業株式会社 印刷配線板用プリプレグの製造方法及びこれを用いた金属張積層板
JPH11243099A (ja) * 1997-12-02 1999-09-07 Toray Ind Inc 半導体封止用樹脂ペレット、その製造方法、製造装置、及び半導体装置
JP4051758B2 (ja) * 1998-01-13 2008-02-27 日立化成工業株式会社 封止用エポキシ樹脂成形材料及び電子部品装置
DE19805083A1 (de) * 1998-02-09 1999-08-12 Huels Chemische Werke Ag Verfahren zur Herstellung von 3-Glycidyloxypropyltrialkoxysilanen
JPH11279376A (ja) * 1998-03-27 1999-10-12 Hitachi Chem Co Ltd 印刷配線板用エポキシ樹脂組成物およびこれを用いた印刷配線板
JP2000038437A (ja) * 1998-04-23 2000-02-08 Sumitomo Chem Co Ltd エポキシ樹脂組成物および樹脂封止半導体装置
US6103836A (en) * 1998-05-15 2000-08-15 Nisshinbo Industries, Inc. Epoxy resin composition
JPH11335527A (ja) * 1998-05-25 1999-12-07 Hitachi Ltd 半導体封止用エポキシ樹脂組成物
JP2000101228A (ja) 1998-09-18 2000-04-07 Toyo Giken Kk リード線のハンダ付け方法、リード線のハンダ付け装置、電子回路基板の製造方法及び電子回路基板
JP3645735B2 (ja) 1999-02-24 2005-05-11 株式会社日立製作所 ネットワーク中継装置及びネットワーク中継方法
JP2000248182A (ja) * 1999-03-02 2000-09-12 Dow Corning Toray Silicone Co Ltd 樹脂用添加剤、硬化性樹脂組成物、および硬化樹脂
US6376923B1 (en) * 1999-06-08 2002-04-23 Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. Flip-chip type semiconductor device sealing material and flip-chip type semiconductor device
EP1736499B1 (en) * 2000-03-31 2009-11-18 Hitachi Chemical Co., Ltd. Thermosetting silicone resin composition, resin film, metallic foil, insulation film, metal-clad laminate, multi-layered metal-clad laminate and multi-layered printed-wiring board comprising the composition and use of the composition as a film, on a foil, in a laminate or printed wiring board

Also Published As

Publication number Publication date
KR100624603B1 (ko) 2006-09-19
TWI230170B (en) 2005-04-01
KR100890313B1 (ko) 2009-03-26
JP2011046966A (ja) 2011-03-10
CN1572838A (zh) 2005-02-02
EP1275680A1 (en) 2003-01-15
KR20050085990A (ko) 2005-08-29
US20070037950A1 (en) 2007-02-15
ATE449123T1 (de) 2009-12-15
TW200403283A (en) 2004-03-01
CN1425034A (zh) 2003-06-18
EP1275680B1 (en) 2013-07-17
KR20060053025A (ko) 2006-05-19
KR100840456B1 (ko) 2008-06-20
EP1736499B1 (en) 2009-11-18
KR20020087440A (ko) 2002-11-22
TW567202B (en) 2003-12-21
US20030171477A1 (en) 2003-09-11
EP1275680A4 (en) 2004-08-18
WO2001074927A1 (fr) 2001-10-11
US7736749B2 (en) 2010-06-15
EP1736499A1 (en) 2006-12-27
US7166361B2 (en) 2007-01-23
DE60140576D1 (de) 2009-12-31
CN1231524C (zh) 2005-12-14
JP5050310B2 (ja) 2012-10-17
KR20080050531A (ko) 2008-06-05
CN1325565C (zh) 2007-07-11

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP5545194B2 (ja) 新規なシリコーン重合体の製造法、その方法により製造されたシリコーン重合体、熱硬化性樹脂組成物、樹脂フィルム、絶縁材料付金属箔、両面金属箔付絶縁フィルム、金属張積層板、多層金属張積層板及び多層プリント配線板
JP5370333B2 (ja) 低熱膨張性の熱硬化性樹脂組成物および樹脂フィルム
WO2000049070A1 (fr) Preimpregne, stratifie a revetement metallique et carte a circuit imprime obtenue a partir de ceux-ci
JP2002322343A (ja) 熱硬化性樹脂組成物及びその製造方法
JP4899280B2 (ja) 配線板用複合材料とその製造方法
JP4487448B2 (ja) 配線回路付き樹脂材料及びそれらの製造方法と多層プリント配線板
JP5251949B2 (ja) 基板およびプリント回路板
JP2010258462A (ja) 配線板用複合材料とその製造方法
JP4619084B2 (ja) 難燃性樹脂組成物、それを用いたプリプレグ、積層板、金属張積層板、印刷配線板及び多層印刷配線板
JP4601324B2 (ja) 熱可塑性樹脂組成物及びこれを用いた樹脂フィルム
KR100850618B1 (ko) 저열팽창성의 열경화성 수지 조성물 및 수지 필름
JP2007126678A (ja) 低熱膨張性の熱硬化性樹脂組成物および樹脂フィルム
JP4734781B2 (ja) 基板、プリント回路板及びそれらの製造方法
JP2012084923A (ja) 配線板用複合材料とその製造方法
JP2010251783A (ja) 半導体搭載用基板および半導体パッケージ
JP2003007138A (ja) 多層配線板用層間絶縁ワニスとそれを用いた層間絶縁材料と多層配線板とその製造方法
JP2012191240A (ja) 基板、プリント回路板及びそれらの製造方法

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20101228

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20130403

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20130611

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20130730

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20140415

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20140428

R151 Written notification of patent or utility model registration

Ref document number: 5545194

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R151

LAPS Cancellation because of no payment of annual fees