JPH0362845A - 半導体封止用樹脂組成物 - Google Patents

半導体封止用樹脂組成物

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JPH0362845A
JPH0362845A JP19979289A JP19979289A JPH0362845A JP H0362845 A JPH0362845 A JP H0362845A JP 19979289 A JP19979289 A JP 19979289A JP 19979289 A JP19979289 A JP 19979289A JP H0362845 A JPH0362845 A JP H0362845A
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JP
Japan
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inorganic filler
epoxy
group
treated
epoxy resin
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JP19979289A
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English (en)
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Toshiki Saito
斉藤 俊樹
Masayuki Kobayashi
正之 小林
Shinichiro Asai
新一郎 浅井
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Denka Co Ltd
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Denki Kagaku Kogyo KK
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〈産業上の利用分野〉 本発明は半田耐熱性、釦よび耐湿信頼性にすぐれた半導
体封止用樹脂組成物に関するものである。
〈従来の技術〉 近年半導体の封止にはほとんど樹脂封止で行われるよう
になり、樹脂の種類も素子との常湿性や価格の点からエ
ポキシ樹脂組成物が一般的になっている。會た、充填剤
には機械物性、電気特性、熱的性質、耐水性、入手のし
やすさなどから主としてシリカなどの無機充填剤が用い
られている。
近年、電子部品の小型、薄型化が進むにつれて、半導体
の実装方式は従来のピン挿入方式から表面実装方式へと
移行しつつある。この場合、半導体は実装の際に半田浴
に浸漬されるなど高温で処理されるが、封止樹脂にクラ
ックが生じて耐湿性が低下するなどの問題が指摘されて
いた。
このようなりラック発生の問題に対しては、従来種々の
検討がなされ、例えば、無機充填剤の品種を選択する方
法(特開昭58−1913(S号公報、特開昭60−2
02145号公報)、粒子径をコントロールすることに
よシ応力、ひずみを均−化させる方法(特開昭60−1
71750号公報、特開昭60−17937号公報)な
どがあるが必ずしも十分ではない。
〈発明が解決しようとする問題点〉 一方便脂と無機充填剤とは本質的に相溶性が悪いため、
種々のカップリング剤と表面処理方法とが開発されてい
るが、い捷だ満足いくものが見当らない。
本発明はかかる欠点を解決するものであシ、半導体を封
止するために用いる樹脂組成物として、特に無機充填剤
の表面処理剤として、特定の構造を有するシラン化合物
と分子内に特定された基を有するシランカップリング剤
の少なくとも1種とを使用することによシ、実装時の半
田耐熱性にすぐれ、耐湿信頼性にすぐれた半導体封止用
樹脂組成物を提供しようとするものである。
〈問題点を解決しようとする手段〉 すなわち本発明は、少なくともエポキシ樹脂、フェノー
ル型硬化剤公よび無機充填剤を含む組成物にpいて、無
機充填剤を下記一般式〔1〕で表わ(3) されるアルコキシシラン化合物、pよび分子内にエポキ
シ基、アミノ基、ウレイド基及びメルカプト基から選ば
れた基を有するシランカップリング剤の少なくとも1種
で処理してなることを特徴とする半導体封止用樹脂組成
物に関するものである。
(R,○)3 S l(CH2) nS l(○R2)
3       l11)次に本発明の詳細な説明する
本発明に用いられるエポキシ樹脂は、1分子中に2個以
上のエポキシ基を右するものであればいずれも用いるこ
とができる。例えばビスフエノルA型エポキシ樹脂、各
種フェノール樹脂から合成されるノボラック型エポキシ
樹脂、ナフタレン1.6−シブリシジルエーテル、4,
4−ビス(2,3−エポキシプロポキシ)!、3,5゜
5−テトラメチルビフェニル、グリシゾルエステル型エ
ポキシ樹脂、グリシシルア□ン型エポキシ(4) 樹脂、鎖状脂肪族エポキシ樹脂、3官能エポキシ樹脂、
4官能エポキシ樹脂あるいはこれらに塩素、臭素などの
ハロゲンを導入したエポキシ樹脂などが挙げられ、これ
らのうち一種、もしくは二種以上の物が用いられる。こ
れらのうちクレゾールノホラツク型、フェノールノボラ
ック型エポキシ樹脂、及ヒ4 、4−ビス(2,3−エ
ポキシプロポキシ)−3,3,5,5−テトラメチルビ
フェニルが好筐しい。
これらのエポキシ樹脂中のイオン性不純物及び分解して
イオンになシ易い成分は少ないほど好!しく、具体的に
は遊離のナトリウムイオン、塩素イオンがそれぞれ5 
ppm以下及び加水分解性ハロゲンは5 o o pp
m以下が好!しい。エポキシ当量は160から250、
特に160から210が好筐しい。そして樹脂軟化点は
、50〜110°Cのものが用いられる。
本発明に用いられるフェノール型硬化剤としては、1分
子中に少なくとも2個以上の水酸基を有するものが用い
られる。例えばフェノール、レゾルシノール、クレゾー
ル、キシレノール、プロピルフェノール、アミルフェノ
ール、フチルフエノル、オクチルフェノール、フェニル
フェノール、アリルフェノール、ビスフェノールAlど
が単独で、またはそれらを併用して合成されるノボラッ
ク樹脂、ポリイソゾロベニルフェノール、ポリビニルフ
ェノール類、及びこれらにノ・ロゲン基を導入したフェ
ノール型峡化剤などが挙げられ、これらのうち1種もし
くは2種以上のものが用いられる。これらのうち未縮合
のフェノール性化合物が1重蓋優以下、好!シ〈は0.
5重量φ以下のノボラック樹脂が好適である。そして軟
化点は、50〜110°Cのものが用いられる。
フェノール型硬化剤の配合量は、硬化剤のフェノール性
水酸基とエポキシ樹脂のエポキシ基の比が0.5〜1.
5の範囲、特に好筐しくは0.7〜1.2の範囲にある
のがよい。上記範囲以外では耐湿信頼性を低下させるの
で好オしくない。
さらに本発明に用いられる無機充填剤としては、実質的
に破断面を有しない例えば球状、タマゴ状、ひょうたん
状、鱗片状、ウィスカー状、環状及び棒状の少なくとも
1種、及び実質的に破断面を有するものであシ、前記充
填剤を具体的に述べると、結晶質シリカ、溶融シリカ、
酸化チタン、アルミナ、マグネシア、メルク、珪酸カル
シウム、炭酸カルシウム、及び硫酸マグネシウムなどが
挙げられる。首た通常は結晶質シリカ及び溶融シリカが
好筐しい。
前記無機充填剤の実質的に破断面を有しない充填剤の製
法は、例えば結晶シリカ、溶融シリカ、アルミナ、珪酸
カルシウム、メルク及び炭酸カルシウム等の塊をボール
ミル、振動ミル等で粉砕して得た粉末をそれらが溶融す
るような温度の炎もしくはプラズマ中に吹き込んで、表
面のみもしくは全体を溶融し、冷却して製造する方法が
ある。
オたシリカの場合は、S I Hn C’ 4− n 
(n :0〜4の整数)で示されるようなシラン化合物
を高温加水分解または高温酸化し、得られた合成シリカ
微粉をスプレー造粒によって球状化し、焼成または溶融
することによっても製造することができる。
(7) さらに無機充填剤の平均粒径は0.5〜150μm1好
普しくは1〜60μmである。平均粒径が0.5μm未
満であると組成物の溶融時の流動性が低下し、筺た15
0μmを越えると、成形時に金型への未充填やワイヤー
流れ等を生ずることがある。
また前記無機充填剤の比表面積は、0.1〜15m”/
g好筐しくは0−5〜10 m2/ gである。比表面
積が、0.1 m”/ g未満であると充填剤の充填構
造が悪くなシ、成形性特にパリ性が悪化する。−また1
5m27gを越えると、組成物の溶融時の流動性が低下
してしまい問題を生ずる。
無機充填剤の樹脂分に対する配合比は、一般にエポキシ
樹脂と硬化剤とを合わせた樹脂分100重量部に対して
150〜700重量部が好筺しい。
150ffif部未満だと耐熱衝撃性、熱伝導性及び熱
膨張性の改良が十分に行われず、700重量部を越える
と溶融時の流動性の低下が起こシ問題となる。
本発明に訃いて用いる特定の構造のアルコキシ(8) シラン化合物は、 一般式〔1〕 (R,○)zsi(CH2)n81(ORz)3CDで
表される構造の化合物であシ、好捷しくはn−1〜5、
m=i〜3、t=1〜3である。このような化合物とし
ては、例えば1,2−ビス(トリメトキシシリル)エタ
ンなどがある。
本発明のシランカップリング剤としては、分子内にエポ
キシ基、アミノ基、ウレイド基及びメルカプト基の内の
いずれかを有するシランカップリング剤の少なくとも1
種を用いることができる。
かかるシランカップリング剤の例としては、γ−グリシ
シロキシゾロビルトリメトキシシラン、γ−グリシシロ
キシプロビルトリエトキシシラン、γ−グリシジロキシ
プロビルメチルゾメトキシシラン、γ−グリシシロキシ
プロビルメチルジェトキシシラン、(3,4−エポキシ
シクロヘキシル)エチルトリメトキシシラン、[(3,
4−エポキシシクロヘキシル)エチルコメチルジメトキ
シシラン、γ−アミノプロピルトリメトキシシラン、γ
−アミノプロピルトリエトキシシラン、N−β(アミノ
エチル)γ−アミノゾロピルトリメトキシシラン、N−
β(アミノエチル)r−アミノプロピルトリエトキシシ
ラン、N−β(アミノエチル)γ−アミノゾロピルメチ
ルジメトキシシラン、N−β(アミノエチル)γ−アミ
ノプロピルメチルジェトキシシラン、N−フェニル−γ
アミノプロピルトリメトキシシラン、N−フェニル−γ
−アミノゾロtルトリエトキシシラン、γ−ウレイドノ
ロビルトリメトギシシラン、r−ウレイドプロピルトリ
エトキシシラン、γ−メルカプトプロピルトリメトキシ
シラン、r−メルカプトプロピルトリエトキシシランな
どを挙げることができる。
本発明において、無機充填剤を処理するのに用いられる
一般式〔1〕で表される特定の構造のアルコキシシラン
化合物と分子内にエポキシ基、アミノ基、ウレイド基、
メルカプト基の内のいずれかを少なくとも1種有するシ
ランカップリング剤の混合比は通常重量比率で0,1〜
10の範囲で用いるのが好ましい。すなわち、かかる添
加量の範囲外では耐湿信頼性及び半田耐熱性の改良効果
が乏しいためである。
一般式〔1〕で表される特定の構造のアルコキシシラン
化合物(以下シラン化合物という)及び分子内にエポキ
シ基、アミノ基、ウレイド基、メルカプト基の内のいず
れかを少なくとも1種有するシランカップリング剤(以
下カップリング剤という)の混合物の使用量は無機充填
剤の平均粒径、表面状態及び比表面積などによって異な
るが、通常無機充填剤100重量部に対して各々0.0
1〜10重量部の範囲で用いるのが好!しい。すなわち
、かかる添加量の範囲外では、耐湿信頼性及び半田耐熱
性の改良効果が殆んど認められなくなる。
本発明に訃いてシラン化合物とカップリング剤で無機充
填剤を処理する方法としては、例えばこれらをそれぞれ
水または有機溶媒にとかしたもの全無機充填剤と混合し
、しばらく放置した後、ろ過、乾燥する方法、加熱また
は減圧によって溶媒を留去、乾燥する方法、溶媒を用い
ずにシラン化合物とカップリング剤と無機充填剤とを直
接接触、混合する方法、溶媒を用いずにシラン化合物と
カップリング剤と無機充填剤とをミキサーへあるいはボ
ールミル中で処理する方法、−マたはシラン化合物及び
カップリング剤をともに、あるいはそれぞれ水または有
機溶媒にとかしたものを無機充填剤と混合し、ミキサー
あるいはボールミル中で処理した後乾燥する方法など通
常の方法で行なうことができる。
また、その他無機充填剤を処理する方法としては、シラ
ン化合物及びカップリング剤′(il−混合して同時に
無機充填剤を処理する方法、無機充填剤をシラン化合物
で処理した後、カップリング剤で処理する方法、曾たは
、無機充填剤をカップリング剤で処理した後シラン化合
物で処理する方法のいずれの方法も適用可能である。
これらの処理した無機充填剤、エポキシ樹脂及び硬化剤
はロール、ニーダ−などによシ溶融混線、溶液法等によ
シ均一に混練して組成物とすることができる。
本発明の組成物には必要に応じて、トリフェニルフォス
フイン、1.8−ゾアテヒシクロ[5゜4.0)−7−
ウンデセン、およびその塩などの値化促進剤、ヘキスト
ワックス、カルナバワックスなどの離型剤、着色剤、難
燃剤、難燃助剤などを添加することができる。
〈実施例〉 以下、実施例によシ本発明金さらに具体的に説明する。
実施例1 無機充填剤100重量部に対して1,2−ビス(トリメ
トキシシリル)エタン0.25 、F トγ−グリシジ
口キシグロビルトリメトキシシラン2.25gとした混
合物を溶融シリカ(商品名FS−892:電気化学工業
(株)製)に加えよく混合した。このものをヘンシェル
ミキサー中、常温下6分間処理金行なったのち、70℃
、2時間加熱した。
上記処理した溶融シリカ480gとエポキシ価18乙の
4,4′−ビス(2,6−ニポキシプロポキシ)−6,
5’、5.5’−テトラメチルピフェニル95gに○H
f1ffi105のフェノールノボラック樹脂45g、
さらに硬化触媒としてトリフェニルフォスフイン1.8
8g、ヘキストlノックス82.56gを加え、100
℃のロールで溶融混練したのち、冷却、粉砕し−C樹脂
組底物を得た。
この樹脂組成物を用い、低圧トランスファー成形法によ
り170℃、2.5分の条件で成形して模擬素子を封止
した8 0 pin Q、FPを得、175°Cで12
時間ポストキュアーした。ポストキュアー後、下記の測
定法によシ各樹脂組成物の半田耐熱性および耐湿信頼性
を測定した。結果を表に示す。
実施例2 実施例1にかいて、γ−グリシジロギシグロビルトリメ
トキシシラン2.25 gに代えてγ−アミノゾロピル
トリメトキシシラン2.25 gを用いた以外は全く同
様に処理して組成物を得た。半田耐熱性訃よび耐湿信頼
性の測定結果を表に示す。
実施例5 実施例1にかいて、γ−グリシシロキシプロビルトリメ
トキシシラン2.25 gに代えてγ−ウレイドプロピ
ルトリメトキシシラン2.25 、V k用いた以外は
全く同様に処理して組成物を得た。半田耐熱性pよび耐
fM信頼性のd111定結果を表に示す。
実施例4 実施例1において、γ−グリシゾロギシグロビルトリメ
トキシシラン2.25 gに代えてr−メルカゾトゾロ
ビルトリメトキシシラン2.25 gを用いた以外は全
く同様に処理して組成物を得た。半田耐熱性pよび耐湿
信頼性の測定結果を表に示す。
実施例5 実施例1に吠いて、γ−グリシシロキシプロビルトリメ
トキシシラン2.25 gに代えてγ−グリシジロギシ
プロビルトリメトキシシランIA5g及びγ−アミノゾ
ロビルトリメトギシシラン1.15gを用いた以外は全
く同様に処理して組成物を得た。半田耐熱性及び耐湿信
頼性の測定結果を表に示す。
実施例6 実施例1にかいて、1,2−ビス(トリメトキシシリル
)エタン0.25F及び(γ−クリシジロキシプロビル
)トリメトキシシラン2.25 gに代えて1.2−ビ
ス(トリメトキシシリル)エタン0.50g、(γ−グ
リシジロキシグロビル)トリメトキシシラン2.00 
gを用いた以外は全く同様に処理して組成物を得た。半
田耐熱性卦よび耐湿信頼性の測定結果を表に示す。
実施例7 無機充填剤100重量部に対して1,2−ビス(トリメ
トキシシリル)エタン0.25 gトした割合で溶融シ
リカ(商品名FS−892:を気化学工業(株)M)に
加えよく混合した。このものをヘンシェルミキサー中、
常温下5分間処理を行なったのち、70°C−2時間加
熱した。得られた処理フィラーに(γ−グリシシロキシ
プロビル)トリメトキシシラン2.25 Fを加えよく
混合した。これをさらにヘンシェルミキサー中、常温下
5分間処理を行なったのち、70’O−2時間加熱した
上記処理したシリカ480gとエポキシ価186の4,
4′−ビス(2,3−エポキシプロポキシ)−5,5,
5,5−テトラメチルビフェニル95F17i:0H(
iffi103のフェノールノボラック樹脂45g、さ
らに硬化触媒としてトリフェニルフォスフインi、ss
g、ヘキストワックス82.56gを加え、100℃の
ロールで溶融混練したのち、冷却、粉砕して樹脂組成物
を得た。
この樹脂組成物を用い、低圧トランスファー成形法によ
り170℃、2.5分の条件で成形して模擬素子を側止
した8 0 pin Q、FPを得、175°Cで12
時間ポストキュアーした。ポストキュアー後、下記の測
定法によシ各樹脂組成物の半田耐熱性および耐湿信頼性
を測定した。結果を表に示す。
比較例1〜5 シラン処理を行なわなかった溶融シリカ及び実施例1に
かいて(γ−グリシシロキシプロピル)トリメトキシシ
ラン2.25 gのみを用いてシランカツノリング剤処
理のみを行なった溶融シリカ及び1.2−ビx<+−リ
メトキシシリル)エタン0.25 gのみを用いての処
理のみを行なった溶融シリカを用いて実施例1と同様の
組成物を得た後実施例1同様の操作を行って封止成形8
得、半田耐熱性訃よび耐湿信頼性を測定した。結果を捷
とめて第1表に示す。
半田耐熱性の測定法:  80 pin QFP6個を
85°C/85%RHで72時間及び96時間処理 後、ペーパーフェーズリフロー215 00で90秒処理し、クラックの発生 したパッケージの個数の割合を求め た。
耐湿信頼性の測定法: アルミニウム金属電極の腐食を
検討するために設計した半導体素子をモ ールド被覆した8 0 ptn Q F P 20個を
プレッシャークツカー状態 (121°C12abm  、 100  % R,T
()に500時間放置した後のアルミニ ウム腐食を調べた。不良はアルミパ ターンのオープンの発生もしくは一 定限度以上へのリーク電流の増加に よって判定した。
1)GPT:  γ−グリシシロキシプロピルトリメト
キシシラン APT :  γ−アミノゾロピルトリメトキシシラン TJPT :  γ−ウレイドプロピルトリメトキシシ
ラン MPT 二  γ−メルカプトゾロピルトリメトキシシ
ラン BTE:n=2、m = # = 1であるシラン化合
物2)不良数/試料数 〈発明の効果〉 以上のとS−t)本発明のエポキシ樹脂組成物は、半導
体封止用として用いて硬化物とした際に半田耐熱性訃よ
び耐湿信頼性にすぐ!tた性質を示し、各種の電子部品
封止用の樹脂として有用である。

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)少なくともエポキシ樹脂、フェノール型硬化剤お
    よび無機充填剤を含む組成物において、前記無機充填剤
    を下記一般式〔1〕で表されるアルコキシシラン化合物
    、および分子内にエポキシ基、アミノ基、ウレイド基及
    びメルカプト基から選ばれた基を有するシランカップリ
    ング剤の少なくとも1種で処理してなることを特徴とす
    る半導体封止用樹脂組成物。 ((R_1O)_3Si(CH_2)_nSi(OR_
    2)_3〔1〕n:1〜10の整数 R_1:C_mH_2_m_+_1(mは0〜5の整数
    )R_2:ClH_2_l_+_1(lは0〜5の整数
    ))
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Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2001038442A1 (fr) * 1999-11-22 2001-05-31 Kyowa Chemical Industry Co., Ltd. Composition de resine, article moule fabrique a partir de ladite resine et utilisation associee
US7166361B2 (en) 2000-03-31 2007-01-23 Hitachi Chemical Co., Ltd. Thermosetting resin composition, resin film, metallic foil provided with an insulation material, insulation film provided with a metallic foil on each side, metal-clad laminate, multi-layered metal-clad laminate and multi-layered printed wiring board
JP2012140501A (ja) * 2010-12-28 2012-07-26 Nitto Denko Corp 光硬化性樹脂組成物および光学材料

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