JP5287247B2 - ポリアミドイミド樹脂、接着剤、フレキシブル基板材料、フレキシブル積層板及びフレキシブル印刷配線板 - Google Patents

ポリアミドイミド樹脂、接着剤、フレキシブル基板材料、フレキシブル積層板及びフレキシブル印刷配線板 Download PDF

Info

Publication number
JP5287247B2
JP5287247B2 JP2008537432A JP2008537432A JP5287247B2 JP 5287247 B2 JP5287247 B2 JP 5287247B2 JP 2008537432 A JP2008537432 A JP 2008537432A JP 2008537432 A JP2008537432 A JP 2008537432A JP 5287247 B2 JP5287247 B2 JP 5287247B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
adhesive
polyimide film
resin
group
flexible
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Fee Related
Application number
JP2008537432A
Other languages
English (en)
Other versions
JPWO2008041426A1 (ja
Inventor
雅記 竹内
克之 増田
健一 富岡
貴子 江尻
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Showa Denko Materials Co Ltd
Original Assignee
Hitachi Chemical Co Ltd
Showa Denko Materials Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Hitachi Chemical Co Ltd, Showa Denko Materials Co Ltd filed Critical Hitachi Chemical Co Ltd
Priority to JP2008537432A priority Critical patent/JP5287247B2/ja
Publication of JPWO2008041426A1 publication Critical patent/JPWO2008041426A1/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP5287247B2 publication Critical patent/JP5287247B2/ja
Expired - Fee Related legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Images

Classifications

    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32LAYERED PRODUCTS
    • B32BLAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B7/00Layered products characterised by the relation between layers; Layered products characterised by the relative orientation of features between layers, or by the relative values of a measurable parameter between layers, i.e. products comprising layers having different physical, chemical or physicochemical properties; Layered products characterised by the interconnection of layers
    • B32B7/04Interconnection of layers
    • B32B7/12Interconnection of layers using interposed adhesives or interposed materials with bonding properties
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32LAYERED PRODUCTS
    • B32BLAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B15/00Layered products comprising a layer of metal
    • B32B15/04Layered products comprising a layer of metal comprising metal as the main or only constituent of a layer, which is next to another layer of the same or of a different material
    • B32B15/08Layered products comprising a layer of metal comprising metal as the main or only constituent of a layer, which is next to another layer of the same or of a different material of synthetic resin
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32LAYERED PRODUCTS
    • B32BLAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B15/00Layered products comprising a layer of metal
    • B32B15/04Layered products comprising a layer of metal comprising metal as the main or only constituent of a layer, which is next to another layer of the same or of a different material
    • B32B15/08Layered products comprising a layer of metal comprising metal as the main or only constituent of a layer, which is next to another layer of the same or of a different material of synthetic resin
    • B32B15/088Layered products comprising a layer of metal comprising metal as the main or only constituent of a layer, which is next to another layer of the same or of a different material of synthetic resin comprising polyamides
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32LAYERED PRODUCTS
    • B32BLAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B27/00Layered products comprising a layer of synthetic resin
    • B32B27/06Layered products comprising a layer of synthetic resin as the main or only constituent of a layer, which is next to another layer of the same or of a different material
    • B32B27/08Layered products comprising a layer of synthetic resin as the main or only constituent of a layer, which is next to another layer of the same or of a different material of synthetic resin
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32LAYERED PRODUCTS
    • B32BLAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B27/00Layered products comprising a layer of synthetic resin
    • B32B27/34Layered products comprising a layer of synthetic resin comprising polyamides
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32LAYERED PRODUCTS
    • B32BLAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B3/00Layered products comprising a layer with external or internal discontinuities or unevennesses, or a layer of non-planar shape; Layered products comprising a layer having particular features of form
    • B32B3/02Layered products comprising a layer with external or internal discontinuities or unevennesses, or a layer of non-planar shape; Layered products comprising a layer having particular features of form characterised by features of form at particular places, e.g. in edge regions
    • B32B3/08Layered products comprising a layer with external or internal discontinuities or unevennesses, or a layer of non-planar shape; Layered products comprising a layer having particular features of form characterised by features of form at particular places, e.g. in edge regions characterised by added members at particular parts
    • B32B3/085Layered products comprising a layer with external or internal discontinuities or unevennesses, or a layer of non-planar shape; Layered products comprising a layer having particular features of form characterised by features of form at particular places, e.g. in edge regions characterised by added members at particular parts spaced apart pieces on the surface of a layer
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08GMACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
    • C08G18/00Polymeric products of isocyanates or isothiocyanates
    • C08G18/06Polymeric products of isocyanates or isothiocyanates with compounds having active hydrogen
    • C08G18/28Polymeric products of isocyanates or isothiocyanates with compounds having active hydrogen characterised by the compounds used containing active hydrogen
    • C08G18/30Low-molecular-weight compounds
    • C08G18/34Carboxylic acids; Esters thereof with monohydroxyl compounds
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08GMACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
    • C08G18/00Polymeric products of isocyanates or isothiocyanates
    • C08G18/06Polymeric products of isocyanates or isothiocyanates with compounds having active hydrogen
    • C08G18/28Polymeric products of isocyanates or isothiocyanates with compounds having active hydrogen characterised by the compounds used containing active hydrogen
    • C08G18/40High-molecular-weight compounds
    • C08G18/48Polyethers
    • C08G18/50Polyethers having heteroatoms other than oxygen
    • C08G18/5021Polyethers having heteroatoms other than oxygen having nitrogen
    • C08G18/5036Polyethers having heteroatoms other than oxygen having nitrogen containing -N-C=O groups
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08GMACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
    • C08G18/00Polymeric products of isocyanates or isothiocyanates
    • C08G18/06Polymeric products of isocyanates or isothiocyanates with compounds having active hydrogen
    • C08G18/28Polymeric products of isocyanates or isothiocyanates with compounds having active hydrogen characterised by the compounds used containing active hydrogen
    • C08G18/40High-molecular-weight compounds
    • C08G18/48Polyethers
    • C08G18/50Polyethers having heteroatoms other than oxygen
    • C08G18/5021Polyethers having heteroatoms other than oxygen having nitrogen
    • C08G18/5054Polyethers having heteroatoms other than oxygen having nitrogen containing heterocyclic rings having at least one nitrogen atom in the ring
    • C08G18/5057Polyethers having heteroatoms other than oxygen having nitrogen containing heterocyclic rings having at least one nitrogen atom in the ring containing one nitrogen atom in the ring
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08GMACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
    • C08G18/00Polymeric products of isocyanates or isothiocyanates
    • C08G18/06Polymeric products of isocyanates or isothiocyanates with compounds having active hydrogen
    • C08G18/28Polymeric products of isocyanates or isothiocyanates with compounds having active hydrogen characterised by the compounds used containing active hydrogen
    • C08G18/40High-molecular-weight compounds
    • C08G18/61Polysiloxanes
    • C08G18/615Polysiloxanes containing carboxylic acid groups
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08GMACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
    • C08G73/00Macromolecular compounds obtained by reactions forming a linkage containing nitrogen with or without oxygen or carbon in the main chain of the macromolecule, not provided for in groups C08G12/00 - C08G71/00
    • C08G73/06Polycondensates having nitrogen-containing heterocyclic rings in the main chain of the macromolecule
    • C08G73/10Polyimides; Polyester-imides; Polyamide-imides; Polyamide acids or similar polyimide precursors
    • C08G73/14Polyamide-imides
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C09DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09JADHESIVES; NON-MECHANICAL ASPECTS OF ADHESIVE PROCESSES IN GENERAL; ADHESIVE PROCESSES NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE; USE OF MATERIALS AS ADHESIVES
    • C09J179/00Adhesives based on macromolecular compounds obtained by reactions forming in the main chain of the macromolecule a linkage containing nitrogen, with or without oxygen, or carbon only, not provided for in groups C09J161/00 - C09J177/00
    • C09J179/04Polycondensates having nitrogen-containing heterocyclic rings in the main chain; Polyhydrazides; Polyamide acids or similar polyimide precursors
    • C09J179/08Polyimides; Polyester-imides; Polyamide-imides; Polyamide acids or similar polyimide precursors
    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05KPRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
    • H05K1/00Printed circuits
    • H05K1/02Details
    • H05K1/03Use of materials for the substrate
    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05KPRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
    • H05K3/00Apparatus or processes for manufacturing printed circuits
    • H05K3/38Improvement of the adhesion between the insulating substrate and the metal
    • H05K3/386Improvement of the adhesion between the insulating substrate and the metal by the use of an organic polymeric bonding layer, e.g. adhesive
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32LAYERED PRODUCTS
    • B32BLAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B2255/00Coating on the layer surface
    • B32B2255/06Coating on the layer surface on metal layer
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32LAYERED PRODUCTS
    • B32BLAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B2255/00Coating on the layer surface
    • B32B2255/10Coating on the layer surface on synthetic resin layer or on natural or synthetic rubber layer
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32LAYERED PRODUCTS
    • B32BLAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B2255/00Coating on the layer surface
    • B32B2255/26Polymeric coating
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32LAYERED PRODUCTS
    • B32BLAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B2307/00Properties of the layers or laminate
    • B32B2307/20Properties of the layers or laminate having particular electrical or magnetic properties, e.g. piezoelectric
    • B32B2307/202Conductive
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32LAYERED PRODUCTS
    • B32BLAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B2307/00Properties of the layers or laminate
    • B32B2307/20Properties of the layers or laminate having particular electrical or magnetic properties, e.g. piezoelectric
    • B32B2307/206Insulating
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32LAYERED PRODUCTS
    • B32BLAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B2307/00Properties of the layers or laminate
    • B32B2307/30Properties of the layers or laminate having particular thermal properties
    • B32B2307/306Resistant to heat
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32LAYERED PRODUCTS
    • B32BLAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B2307/00Properties of the layers or laminate
    • B32B2307/70Other properties
    • B32B2307/726Permeability to liquids, absorption
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32LAYERED PRODUCTS
    • B32BLAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B2457/00Electrical equipment
    • B32B2457/08PCBs, i.e. printed circuit boards
    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05KPRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
    • H05K1/00Printed circuits
    • H05K1/02Details
    • H05K1/03Use of materials for the substrate
    • H05K1/0313Organic insulating material
    • H05K1/032Organic insulating material consisting of one material
    • H05K1/0346Organic insulating material consisting of one material containing N
    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05KPRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
    • H05K1/00Printed circuits
    • H05K1/02Details
    • H05K1/03Use of materials for the substrate
    • H05K1/0393Flexible materials
    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05KPRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
    • H05K2201/00Indexing scheme relating to printed circuits covered by H05K1/00
    • H05K2201/01Dielectrics
    • H05K2201/0137Materials
    • H05K2201/0154Polyimide
    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10STECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10S428/00Stock material or miscellaneous articles
    • Y10S428/901Printed circuit
    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10TTECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
    • Y10T428/00Stock material or miscellaneous articles
    • Y10T428/31504Composite [nonstructural laminate]
    • Y10T428/31511Of epoxy ether
    • Y10T428/31515As intermediate layer
    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10TTECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
    • Y10T428/00Stock material or miscellaneous articles
    • Y10T428/31504Composite [nonstructural laminate]
    • Y10T428/31511Of epoxy ether
    • Y10T428/31515As intermediate layer
    • Y10T428/31522Next to metal
    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10TTECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
    • Y10T428/00Stock material or miscellaneous articles
    • Y10T428/31504Composite [nonstructural laminate]
    • Y10T428/31678Of metal
    • Y10T428/31681Next to polyester, polyamide or polyimide [e.g., alkyd, glue, or nylon, etc.]
    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10TTECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
    • Y10T428/00Stock material or miscellaneous articles
    • Y10T428/31504Composite [nonstructural laminate]
    • Y10T428/31721Of polyimide

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • Medicinal Chemistry (AREA)
  • Polymers & Plastics (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Adhesives Or Adhesive Processes (AREA)
  • Macromolecular Compounds Obtained By Forming Nitrogen-Containing Linkages In General (AREA)
  • Laminated Bodies (AREA)
  • Adhesive Tapes (AREA)
  • Polyurethanes Or Polyureas (AREA)

Description

本発明は、ポリアミドイミド樹脂、接着剤、フレキシブル基板材料、フレキシブル積層板及びフレキシブル印刷配線板に関する。
フレキシブル印刷配線板は高分子絶縁フィルムの表面に導体回路を形成した可撓性のある配線板であって、近年電子機器の小型化、高密度を達成する手段として多用されている。なかでも、両面金属箔付フレキシブル印刷配線板の需要が大幅に伸びている。
高分子絶縁フィルムとしては、一般に芳香族ポリイミドフィルムが用いられている。これを用いた両面金属箔付フレキシブル印刷配線板は、片面に金属箔が積層された金属箔付きポリイミドフィルム同士を、エポキシ樹脂やアクリル樹脂等を主成分とする接着剤により接着する方法により製造されていた。そのため、印刷配線板の耐熱性、耐薬品性、難燃性、電気特性及び密着性といった特性は、使用する接着剤に支配されてしまい、ポリイミドの優れた諸特性を充分にいかすことが出来ないものであった。
一方、熱可塑ポリイミドフィルムを接着剤として用い、金属箔付きポリイミドフィルム同士を熱可塑性ポリイミドフィルムを介して熱融着する方法が提案されている(例えば、特許文献1、2参照)。また、ポリイミドフィルムの両面に蒸着やスパッタにより直接金属層を形成する方法も知られている(例えば、特許文献3参照)。
しかし、熱可塑ポリイミドを接着剤として用いたフレキシブル印刷配線板は、熱可塑ポリイミドの耐熱性が必ずしも十分でないために、熱履歴に対する耐性が十分でなかった。また、熱融着のための成型温度が高いために、製造設備が複雑化するという問題もあった。スパッタ法による製造方法の場合、スパッタを行うための特殊な装置が必要であると共に、めっき工程や加温加熱処理を必要とする場合があって、製造工程が複雑化するという問題があった。
そこで、ポリアミドイミド樹脂のような耐熱性樹脂と熱硬化性樹脂とを組合わせて、これらの反応により硬化するポリアミドイミド樹脂系の熱硬化性接着剤が検討されている(例えば、特許文献4、5参照)。
特許平03−104185号公報 特開2004−230670号公報 特許第3447070号公報 特許平11−217503号公報 特開2004−179237号公報
しかしながら、従来のポリアミドイミド樹脂系接着剤は、吸湿したときのポリイミドとの接着力の低下が大きいという問題を有していた。
そこで、本発明は、ポリアミドイミド樹脂を用いた接着剤において、優れた耐熱性を維持しつつ、吸湿したときのポリイミドとの接着力の低下の抑制を図ることを目的とする。
本発明者らは鋭意検討を行った結果、ポリアミドイミド樹脂として特定の構造を有するものを用い、これをエポキシ樹脂と組合わせることにより、吸湿時の接着力低下が抑制されることを見出し、本発明を完成するに至った。
すなわち、本発明に係るポリアミドイミド樹脂は、ジイミドジカルボン酸と芳香族ジイソシアネートとを反応させるステップを含む方法により得られ、カルボキシル基及びアミノ基からなる群より選ばれる少なくとも1種の官能基を末端に有し、3000〜15000g/eq.のカルボン酸当量、又は、3000〜15000g/eq.のアミン当量を有し、ジイミドジカルボン酸が、下記一般式(1)で表される化合物を40モル%以上、下記一般式(2)で表される化合物を20モル%以上、及び、脂環式ジアミンと無水トリメリト酸との反応により生成されたジイミドジカルボン酸を含むものである。
Figure 0005287247
式(1)中、nは1〜100の整数を示し、式(2)中、R及びRはそれぞれ独立に2価の有機基を示し、R及びRはそれぞれ独立に炭素数1〜20のアルキル基又は炭素数6〜18のアリール基を示し、同一分子中の複数のR及びRは同一でも異なっていてもよく、nは1〜50の整数を示す。
上記本発明に係るポリアミドイミド樹脂は、エポキシ樹脂と組合わせて接着剤として用いられたときに、優れた耐熱性を維持しつつ、吸湿したときのポリイミドとの接着力の低下を十分に抑制することができる。
本発明に係るポリアミドイミド樹脂は、カルボキシル基、アミノ基、酸無水物基及びメルカプト基からなる群より選ばれる少なくとも1種の官能基を末端に有することが好ましい。これにより、接着剤の耐熱性を更に向上させることが可能になる。
本発明によれば、優れた耐熱性を維持しつつ、吸湿したときのポリイミドとの接着力の低下が抑制されたポリアミドイミド樹脂系の接着剤が提供される。また、熱可塑性ポリイミドを接着剤として用いる場合や、スパッタによってポリイミドフィルム上に金属箔を直接形成させる場合と比較して、接着等のプロセスを簡易な設備で行うことが可能である。
接着シートの一実施形態を示す断面図である。 カバーレイの一実施形態を示す断面図である。 フレキシブル積層板の一実施形態を示す断面図である。 フレキシブル積層板の一実施形態を示す断面図である。 フレキシブル印刷配線板の一実施形態を示す断面図である。 フレキシブル印刷配線板の一実施形態を示す断面図である。 フレキシブル印刷配線板の一実施形態を示す断面図である。
符号の説明
1a…接着シート、1b…カバーレイ、2a,2b…フレキシブル積層板、3a,3b,3c…フレキシブル印刷配線板、5…金属箔付き樹脂フィルム、10…接着剤層、20…樹脂フィルム、21…ポリイミドフィルム、22…樹脂フィルム、30…金属箔、31…配線パターンを形成している金属箔。
以下、本発明の好適な実施形態について詳細に説明する。ただし、本発明は以下の実施形態に限定されるものではない。
本実施形態に係るポリアミドイミド樹脂は、ジアミンと無水トリメリト酸との反応によりジイミドジカルボン酸を生成させるステップと、ジイミドジカルボン酸と芳香族ジイソシアネートとを反応させてポリアミドイミド樹脂を生成させるステップとを含む方法により得られる。ジイミドジカルボン酸と芳香族ジイソシアネートとの重合反応により、主鎖中にアミド基とイミド基を有する重合体であるポリアミドイミド樹脂が生成する。なお、本実施形態に係るポリアミドイミド樹脂は、上記方法により好適に得ることができるが、本発明の趣旨を逸脱しない限り、上記方法により得られたものに限られるものではない。例えば、本発明に係るポリアミドイミド樹脂は、無水トリメリト酸をジアミンと反応させる酸クロライド法によって得られたものであってもよい。
ジイミドジカルボン酸を生成させるために用いられるジアミンは、下記一般式(10)で表されるポリオキシプロピレンジアミン、及び下記一般式(20)で表されるシロキサンジアミンを少なくとも含む。これにより、上記式(1)又は(2)でそれぞれ表されるジイミドジカルボン酸が生成する。
Figure 0005287247
好ましくは、上記ポリオキシプロプレンジアミン及びシロキサンジアミンを、それぞれ5〜100モル%含むジアミン混合物を無水トリメリト酸と反応させる。より好ましくは、40モル%以上のポリオキシプロプレンジアミンと、20モル%以上のシロキサンジアミンとを含むジアミン混合物を無水トリメリト酸と反応させる。これにより、式(1)で表される化合物を40モル%以上、及び式(2)で表される化合物を20モル%以上含むジイミドジカルボン酸の混合物を得ることができる。これにより、接着力、耐湿性、及び耐熱性のバランスが特に優れた接着性が得られる。ポリオキシプロピレンジアミンの比率が40モル%未満であると接着性及び耐湿性が低下し易くなる傾向にある。シロキサンジアミンの比率が20モル%未満であるときも接着性及び耐熱性が低下し易くなる傾向にある。
なお、上記のようにジアミン混合物を用いるのに代えて、ポリオキシプロプレンジアミンとシロキサンジアミンを、それぞれ別途無水トリメリト酸と反応させてジイミドジカルボン酸を生成させ、得られたそれぞれのジイミドジカルボン酸を所定の比率で混合して芳香族ジイソシアネートと反応させてもよい。
ポリオキシプロピレンジアミンとしては、例えば、ジェファーミンD−230(三井化学ファイン株式会社株式会社、アミン当量:115、商品名)、ジェファーミンD−400(三井化学ファイン(株)製、商品名、アミン当量:200)、ジェファーミンD−2000(三井化学ファイン(株)製、商品名、アミン当量:1000)及びジェファーミンD−4000(三井化学ファイン(株)製、商品名、アミン当量:2000)が市販されている。これらのうち、大きなアミン当量を有するジェファーミンD2000を用いることが好ましい。ポリオキシプロプレンジアミンのアミン当量は好ましくは500〜1500g/eq.である。これらは単独で、又は2種以上を組み合わせて用いられる。
式(20)のシロキサンジアミンにおいて、R及びRはそれぞれ独立に2価の有機基であり、R及びRはそれぞれ独立に炭素数1〜20のアルキル基又は炭素数6〜18のアリール基である。R及びRは、炭素数1〜6のアルキレン基、置換基(好ましくは炭素数1〜3のアルキル基若しくはハロゲン原子)を有していてもよいフェニレン基、又は置換基(好ましくは炭素数1〜3のアルキル基若しくはハロゲン原子)を有していてもよいナフタレン基であることが好ましい。R及びRは、置換基(好ましくは炭素数1〜3のアルキル基若しくはハロゲン原子)を有していてもよいフェニル基、又は炭素数1〜3のアルキル基であることが好ましい。
シロキサンジアミンは、例えば、アミノ変性シリコーンオイルであるX−22−161AS(アミン当量450)、X−22−161A(アミン当量840)、X−22−161B(アミン当量1500)(以上、信越化学工業社製)、BY16−853(アミン当量650)、BY−16−853B(アミン当量2200)(以上、東レダウコーニングシリコーン社製)、X−22−9409(アミン当量680)、及びX−22−1660B(アミン当量2260、以上、信越化学工業社製)が市販品として入手可能である。これらは単独で、又は2種以上を組み合わせて用いられる。
また、必要に応じて脂環式ジアミン及び/又は芳香族ジアミンを上記ジアミンと併用することもできる。脂環式ジアミンとしては、例えば、2,2−ビス[4−(4−アミノシクロヘキシルオキシ)シクロヘキシル]プロパン、ビス[4−(3−アミノシクロヘキシルオキシ)シクロヘキシル]スルホン、ビス[4−(4−アミノシクロヘキシルオキシ)シクロヘキシル]スルホン、2,2−ビス[4−(4−アミノシクロヘキシルオキシ)シクロヘキシル]ヘキサフルオロプロパン、ビス[4−(4−アミノシクロヘキシルオキシ)シクロヘキシル]メタン、4,4’−ビス(4−アミノシクロヘキシルオキシ)ジシクロヘキシル、ビス[4−(4−アミノシクロヘキシルオキシ)シクロヘキシル]エーテル、ビス[4−(4−アミノシクロヘキシルオキシ)シクロヘキシル]ケトン、1,3−ビス(4−アミノシクロヘキシルオキシ)ベンゼン、1,4−ビス(4−アミノシクロヘキシルオキシ)ベンゼン、2,2’−ジメチルビシクロヘキシル4,4’−ジアミン、2,2’−ビス(トリフルオロメチル)ジシクロヘキシル−4,4’−ジアミン、2,6,2’,6’−テトラメチルジシクロヘキシル−4,4’−ジアミン、5,5’−ジメチル−2,2’−スルフォニル−ジシクロヘキシル−4,4’−ジアミン、3,3’−ジヒドロキシジシクロヘキシル−4,4’−ジアミン、(4,4’−ジアミノ)ジシクロヘキシルエーテル、(4,4’−ジアミノ)ジシクロヘキシルスルホン、(4,4’−ジアミノシクロヘキシル)ケトン、(3,3’―ジアミノ)ベンゾフェノン、(4,4’−ジアミノ)ジシクロヘキシルメタン、(4,4’−ジアミノ)ジシクロヘキシルエーテル、(3,3’−ジアミノ)ジシクロヘキシルエーテル、(4,4’−ジアミノ)ジシクロヘキシルメタン、(3,3’―ジアミノ)ジシクロヘキシルエーテル及び2,2−ビス(4−アミノシクロヘキシル)プロパンが挙げられる。これらを単独で又は複数組み合わせて用いることができる。
これらの中でも、2,2−ビス[4−(4−アミノシクロヘキシルオキシ)シクロヘキシル]プロパン、ビス[4−(3−アミノシクロヘキシルオキシ)シクロヘキシル]スルホン、ビス[4−(4−アミノシクロヘキシルオキシ)シクロヘキシル]スルホン、2,2−ビス[4−(4−アミノシクロヘキシルオキシ)シクロヘキシル]ヘキサフルオロプロパン、ビス[4−(4−アミノシクロヘキシルオキシ)シクロヘキシル]メタン、4,4’−ビス(4−アミノシクロヘキシルオキシ)ジシクロヘキシル、ビス[4−(4−アミノシクロヘキシルオキシ)シクロヘキシル]エーテル及びビス[4−(4−アミノシクロヘキシルオキシ)シクロヘキシル]ケトンからなる群より選ばれる少なくとも1種の脂環式ジアミンが、特に好ましい。
芳香族ジアミンの具体例としては、p−、m−若しくはo−フェニレンジアミン、2,4−ジアミノトルエン、2,5−ジアミノトルエン、2,4−ジアミノキシレン、ジアミノジユレン、1,5−ジアミノナフタレン、2,6−ジアミノナフタレン、ベンジジン、4,4’−ジアミノタ−フェニル、4,4’−ジアミノクォ−タ−フェニル、4,4’−ジアミノジフェニルメタン、1,2−ビス(アニリノ)エタン、4,4’−ジアミノジフェニルエ−テル、ジアミノジフェニルスルホン、2,2−ビス(p−アミノフェニル)プロパン、2,2−ビス(p−アミノフェニル)ヘキサフルオロプロパン、2,6−ジアミノナフタレン、3,3−ジメチルベンジジン、3,3’−ジメチル−4,4’−ジアミノジフェニルエ−テル、3,3’−ジメチル−4,4’−ジアミノジフェニルメタン、ジアミノトルエン、ジアミノベンゾトリフルオライド、1,4−ビス(p−アミノフェノキシ)ベンゼン、4,4’−ビス(p−アミノフェノキシ)ビフェニル、2,2’−ビス[4−(p−アミノフェノキシ)フェニル]プロパン、ジアミノアントラキノン、4,4’−ビス(3−アミノフェノキシフェニル)ジフェニルスルホン、1,3−ビス(アニリノ)ヘキサフルオロプロパン、1,4−ビス(アニリノ)オクタフルオロブタン、1,5−ビス(アニリノ)デカフルオロペンタン、1,7−ビス(アニリノ)デカフルオロブタン、2,2−ビス[4−(p−アミノフェノキシ)フェニル]ヘキサフルオロプロパン、2,2−ビス[4−(3−アミノフェノキシ)フェニル]ヘキサフルオロプロパン、2,2−ビス[4−(2−アミノフェノキシ)フェニル]ヘキサフルオロプロパン、2,2−ビス[4−(4−アミノフェノキシ)−3,5−ジメチルフェニル]ヘキサフルオロプロパン、2,2−ビス[4−(4−アミノフェノキシ)−3,5−ジトリフルオロメチルフェニル]ヘキサフルオロプロパン、p−ビス(4−アミノ−2−トリフルオロメチルフェノキシ)ベンゼン、4,4’−ビス(4−アミノ−2−トリフルオロメチルフェノキシ)ビフェニル、4,4’−ビス(4−アミノ−3−トリフルオロメチルフェノキシ)ビフェニル、4,4’−ビス(4−アミノ−2−トリフルオロメチルフェノキシ)ジフェニルスルホン、4,4’−ビス(3−アミノ−5−トリフルオロメチルフェノキシ)ジフェニルスルホン及び2,2−ビス[4−(4−アミノ−3−トリフルオロメチルフェノキシ)フェニル]ヘキサフルオロプロパンが挙げられる。
芳香族ジイソシアネートと反応させるジイミドジカルボン酸混合物は、式(1)のジイミドジカルボン酸を40〜80モル%、式(2)のジイミドジカルボン酸を20〜60モル%含む。これによりポリオキシプロプレン鎖及びポリシロキサン鎖を含むポリアミドイミド樹脂が生成する。
ジイミドジカルボン酸と反応させる芳香族ジイソシアネートは、芳香環に結合したイソシアネート基を有するジイソシアネートであり、例えば、芳香族ジアミンとホスゲンとの反応によって得られる。芳香族ジイソシアネートの具体例としては、トリレンジイソシアネート、4,4’−ジフェニルメタンジイソシアネート、ナフタレンジイソシアネート、ジフェニルエ−テルジイソシアネート及びフェニレン−1,3−ジイソシアネートが挙げられる。これらは単独で又は2種以上を組合わせて用いられる。
ジイミドジカルボン酸と芳香族ジイソシアネートとの重合反応は、通常、N−メチル−2−ピロリドン(NMP)、N,N−ジメチルホルムアミド(DMF)、N,N−ジメチルアセトアミド(DMAC)、ジメチルスルホキサイド(DMSO)、硫酸ジメチル、スルホラン、γ−ブチロラクトン、クレゾ−ル、フェノ−ル、ハロゲン化フェノ−ル、シクロヘキサン及びジオキサンから選ばれる溶媒中で行われる。反応温度は、0〜200℃が好ましい。反応後、ポリアミドイミド樹脂は溶液の状態で生成する。ポリアミドイミド樹脂を溶液から単離することなく、溶液をそのまま接着剤のワニスを調製するために用いることができる。
ジイミドジカルボン酸と芳香族ジイソシアネートとの重合反応により生成したポリアミドイミド樹脂は、更なる耐熱性向上等の観点から、好ましくは、エポキシ樹脂と反応する反応性官能基を末端に導入するステップに供される。反応性官能基は、カルボキシル基、アミノ基、酸無水物基及びメルカプト基からなる群より選ばれることが好ましい。アミノ基はイミダゾールとして導入されていてもよい。これらの中でも、カルボキシル基及びアミノ基が好ましく、カルボキシル基が最も好ましい。
反応性官能基は、例えば、反応性官能基を1又は2以上有する化合物を、ポリアミドイミド樹脂の末端官能基(典型的にはイソシアネート基)と反応させる方法により導入される。好ましくは、ポリアミドイミド樹脂は、フタル酸、トリメリト酸、マレイン酸、ビフタル酸、ナフタレンジカルボン酸、アミノナフタレン酸、アミノ安息香酸、ジアミノナフタレン、ジアミノ安息香酸、フェニルジアミン及びこれらの誘導体からなる群から選ばれる化合物との反応により反応性官能基が末端に導入される。
ポリアミドイミド樹脂にカルボキシル基が導入される場合、ポリアミドイミド樹脂のカルボン酸当量は好ましくは3000〜15000g/eq.であり、より好ましくは5000〜10000g/eq.である。カルボン酸当量が15000g/eq.を超えると末端修飾による耐熱性向上の効果が小さくなる傾向にあり、53000g/eq.よりも小さいと系中に未反応残留物が生じ易くなる傾向にある。
ポリアミドイミド樹脂にアミノ基が導入される場合、ポリアミドイミド樹脂のアミン当量は好ましくは3000〜15000g/eq.であり、より好ましくは5000〜10000g/eq.である。アミン当量が15000g/eq.を超えると末端修飾による耐熱性向上の効果が小さくなる傾向にあり、3000g/eq.よりも小さいと系中に未反応残留物が生じ易くなる傾向にある。
本実施形態に係る接着剤は、以上説明したようなポリアミドイミド樹脂と、エポキシ樹脂とを含有する。本実施形態に係る接着剤は、ポリイミドから構成されるポリイミドフィルム等の被着体を他の部材と接着するためのポリイミド用接着剤として特に好適に用いられる。
エポキシ樹脂としては、2個以上のエポキシ基を有する多官能エポキシ化合物が好ましい。多官能エポキシ化合物としては、例えば、ビスフェノールA、ノボラック型フェノール樹脂、オルトクレゾールノボラック型フェノール樹脂等の多価フェノール又は1,4−ブタンジオール等の多価アルコールとエピクロルヒドリンを反応させて得られるポリグリシジルエーテル、フタル酸及びヘキサヒドロフタル酸等の多塩基酸とエピクロルヒドリンを反応させて得られるポリグリシジルエステル、アミン、アミド又は複素環式窒素塩基を有する化合物のN−グリシジル誘導体、及び脂環式エポキシ樹脂が挙げられる。これらの中でも、ジシクロペンタジエン型エポキシ樹脂等の脂環式エポキシ樹脂が特に好ましい。エポキシ樹脂は1種類又は2種類以上組合わせて用いられる。
エポキシ樹脂の含有量は、通常、ポリアミドイミド樹脂100質量部に対して、10〜50質量部の範囲である。
本実施形態に係る接着剤は、エポキシ樹脂の硬化剤及び/又は硬化促進剤を更に含んでいてもよい。硬化剤及び硬化促進剤としては、エポキシ樹脂と反応するもの及び/又は硬化を促進させるものであれば制限なく、例えば、アミン類、イミダゾール類、多官能フェノール類及び酸無水物類が使用できる。
アミン類としては、例えば、ジシアンジアミド、ジアミノジフェニルメタン、又はグアニル尿素が使用できる。多官能フェノール類としては、例えば、ヒドロキノン、レゾルシノール、ビスフェノールA及びこれらのハロゲン化合物、さらにはホルムアルデヒドとの縮合物であるノボラック型フェノール樹脂、レゾール型フェノール樹脂が使用できる。酸無水物類としては、例えば、無水フタル酸、ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物、及びメチルハイミック酸が使用できる。また、硬化促進剤としては、アルキル基置換イミダゾール、ベンゾイミダゾール等のイミダゾール類が使用できる。
ポリアミドイミド樹脂、エポキシ樹脂及び任意のその他の成分を含む接着剤は、ポリイミドフィルム等の被着体又はその他支持体等に塗布する際に、溶剤中に溶解又は分散させた接着剤ワニスの状態で好適に用いられる。ワニスに用いる溶剤は、例えば、N−メチル−2−ピロリドン(NMP)、N,N−ジメチルホルムアミド(DMF)、N,N−ジメチルアセトアミド(DMAC)、ジメチルスルホキサイド(DMSO)、硫酸ジメチル、スルホラン、γ−ブチロラクトン、クレゾ−ル、フェノ−ル、ハロゲン化フェノ−ル、シクロヘキサン及びジオキサンから選ばれる。好ましくは、ポリアミドイミド樹脂の合成に用いられた溶媒が接着剤ワニスの溶剤として用いられる。
ポリイミドフィルム上に本実施形態に係る接着剤からなる接着剤層を形成させたとき、ポリイミドフィルム及び接着剤層の界面の常態での接着力は1.0kN/m以上であり、該接着力が3時間のPCT試験後に試験前の90%以上の値を維持し、且つ、288℃のはんだ槽でフロート法により測定されるはんだ耐熱性が30秒以上である。これにより、ポリイミド用接着剤として用いられたときの接続信頼性を高めることができる。
上記接着力及びはんだ耐熱性は、ポリイミドフィルム上に接着剤又は接着剤ワニスを厚さ10μmで塗布し、これに別のポリイミドフィルムを接着剤を挟んで貼りあわせ、その状態で加熱硬化して得た試験片を用いて測定される。上記接着力は、剥離角90度、剥離速度50mm/分の条件でポリイミドフィルム−接着剤層界面を剥離したときの平均荷重である。PCT試験後の接着力は、121℃、2気圧、RH100%の雰囲気下に3時間静置された試験片を用いて測定される。本実施形態に係る接着剤によれば、この条件で測定されるPCT試験後の接着力が、PCT試験前、すなわち常態における接着力から10%以上低下しない。
本実施形態に係る接着剤を用いて、当該接着剤からなる接着剤層を備えるフレキシブル基板材料、フレキシブル積層体又はフレキシブル印刷配線板が構成される。
フレキシブル基板材料としては、例えば、図1に示される接着シート及び図2に示されるカバーレイが挙げられる。図1の接着シート1aは、本実施形態に係る接着剤から形成された接着剤層10を備える。図2のカバーレイ1bは、ポリイミドフィルム21と、ポリイミドフィルム21上に設けられ、本実施形態に係る接着剤から形成された接着剤層10とを備える。これら接着剤層10を形成している接着剤は、通常、溶剤が実質的に除去されてフィルム化されている。ポリイミドフィルム21の厚さは、1〜100μm程度である。接着剤層10の厚さは、通常0.5〜50μm程度である。
ポリイミドフィルム21は市販のものを用いることができる。市販のポリイミドフィルムとしては、例えば、ユーピレックス(宇部興産(株)製、商品名)、カプトン(東レ・デュポン(株)製、商品名)、及びアピカル((株)カネカ、商品名)が挙げられる。
図3及び4は、フレキシブル積層板の一実施形態を示す断面図である。図3に示すフレキシブル積層板2aは、樹脂フィルム20及び該樹脂フィルム20の一方面上に密着して設けられた金属箔30を有し樹脂フィルム20を内側に向けて対向配置された2枚の金属箔付き樹脂フィルム5と、該2枚の金属箔付き樹脂フィルム5の間に介在してこれらを接着している接着剤層10とを備える。図4に示すフレキシブル積層板2bは、樹脂フィルム20及び該樹脂フィルム20の一方面上に密着して設けられた金属箔30を有する金属箔付き樹脂フィルム5と、該金属箔付き樹脂フィルム5と樹脂フィルム20側で対向配置された樹脂フィルム22と、金属箔付き樹脂フィルム5及び樹脂フィルム22の間に介在してこれらを接着している接着剤層10とを備える。
金属箔30としては、銅、アルミ、鉄、金、銀、ニッケル、パラジウム、クロム、モリブデン又はこれらの合金の箔が好適に用いられる。この中でも銅箔が好ましい。樹脂フィルム20との接着力を高めるために、化学的粗化、コロナ放電、サンディング、めっき、アルミニウムアルコラート、アルミニウムキレート、シランカップリング剤等によって金属箔30の表面が機械的又は化学的な処理されていてもよい。
フレキシブル積層板は、例えば、金属箔付き樹脂フィルムを、他の金属箔付き樹脂フィルム又は樹脂フィルムに接着剤層を介して貼り合わせる方法により得られる。貼り合わせ方法としては、熱プレス及び熱ラミネートが挙げられる。いずれの場合も80〜300℃の範囲で加温することが必須であり、120℃〜200℃が好ましい。80℃未満では十分な接着力を持って貼り合わせることが困難であり、300℃を超えると、接着剤層中のポリアミドイミド樹脂の熱分解を伴うことがある。
熱ラミネ−トの場合、貼り合せを行う部位が事前に80℃〜300℃に加温され、さらに加熱圧着ロ−ル及び貼り合せを行う部位を80℃〜300℃に保温することによって、効果的に貼り合せを行うことができる。また、加温と共に加圧することが好ましい。熱プレスの場合0.1MPa以上、好ましくは2MPa以上5MPa以下、熱ラミネ−トの場合は10kN/m以上、好ましくは50kN/m以上200kN/m以下で加圧することが望ましい。
図5、6及び7は、フレキシブル印刷配線板の一実施形態を示す断面図である。図5に示されるフレキシブル印刷配線板3aは、対向配置された2枚の樹脂フィルム20とこれらの間に介在する接着剤層10とから構成される絶縁層と、該絶縁層の両面に形成され、配線パターン(導電パターン)を形成している金属箔31とを備える。
金属箔31は、例えば、フレキシブル積層板2aが有する金属箔30の一部を除去して、これをパターン化することにより、形成される。金属箔30のパターン化は、フォトリソグラフィーなどの方法により行われる。あるいは、フレキシブル積層板2aから金属箔30を除去し、露出した樹脂フィルム20上に導電体材料を直接描画することにより導電パターンを形成させて、フレキシブル印刷配線板を得ることもできる。
図6に示されるフレキシブル印刷配線板3bは、対向配置された2枚の樹脂フィルム20とこれらの間に介在する接着剤層10から構成される絶縁層と、該絶縁層の両面に形成され、配線パターン(導電パターン)を形成している金属箔31と、それぞれの金属箔31上に積層された樹脂フィルム22とを備える。フレキシブル印刷配線板3bは、例えば、フレキシブル印刷配線板3aの配線パターンを形成しているそれぞれの金属箔31上に樹脂フィルム22を貼り合せる方法により得られる。
図7に示されるフレキシブル印刷配線板3cは、対向配置された2枚の樹脂フィルム20とこれらの間に介在する接着剤層10とから構成される絶縁層と、該絶縁層の両面に形成され、配線パターン(導電パターン)を形成している金属箔31と、ポリイミドフィルム21及びポリイミドフィルム21上に設けられた接着剤層10を有しポリイミドフィルム21が金属箔31側に位置する向きでそれぞれの金属箔31上に積層されたカバーレイ1bとを備える。絶縁層中の接着剤層10は2枚の樹脂フィルム20同士を接着している。カバーレイ1b中の接着剤層10はポリイミドフィルム21と樹脂フィルム20又は配線パターンを形成している金属箔31とを接着している。フレキシブル印刷配線板3cは、例えば、フレキシブル印刷配線板の製造における樹脂フィルム20に代えて図2のカバーレイ1bを用いて得られる。
上記フレキシブル積層板及びフレキシブル印刷配線板を構成する接着剤層10は、いずれも、上述の実施形態に係る接着剤から形成されており、該接着剤層10に含まれるポリアミドイミド樹脂の少なくとも一部はエポキシ樹脂との反応によって架橋されている。樹脂フィルム20及び22としては、通常、ポリイミドフィルムが用いられる。
以下、実施例により本発明をより具体的に説明する。ただし、本発明はこれらの実施例に制限するものではない。
1.ポリアミドイミド樹脂の合成
以下のジアミンを用いてポリアミドイミド樹脂を合成した。
「ジェファーミンD−2000」(三井化学ファイン(株)製、商品名):ポリオキシプロピレンジアミン
「X−22−161A」(信越化学工業(株)製、商品名):シリコーンジアミン(式(20)において、R及びRがエチレン基(−(CH−)、R及びRがメチル基(−CH)、nが約20であるジアミン)
「ワンダミンHM(WHM)」(新日本理化(株)製、商品名):(4,4’−ジアミノ)ジシクロヘキシルメタン
「BAPP」(和歌山精化(株)製、商品名):2,2’−ビス[4−(p−アミノフェノキシ)フェニル]プロパン
(合成例1)
熱電対、攪拌機及び窒素吹込口を取り付けた500mlセパラブルフラスコに、250ml/分の窒素を流しながら、ジェファーミンD−2000を51.43g(25.7mmol、50モル%)、X−22−161Aを32.0g(20.0mmol、35モル%)、WHMを1.80g(8.6mmol、15モル%)、トリメリト酸無水物(以下「TMA」という)を23.05g(120.0mmol)及びN−メチル−2−ピロリドン(以下「NMP」という)を128g投入し、攪拌して原料をNMPに溶解させ、反応液を調製した。
反応液にトルエン50gを加え、150℃以上の温度で6時間の脱水還流によるイミド環閉環反応によってジイミドジカルボン酸を生成させ、その後トルエンを留去した。冷却後、4,4’−ジフェニルメタンジイソシアネート(以下「MDI」という)を17.16g(68.3mmol)加え、150℃で2時間の加熱によりアミド化反応を進行させて、ポリアミドイミド樹脂1の溶液を得た。
(合成例2)
ジアミンとして、ジェファーミンD−2000を57.20g(28.6mmol、50モル%)、X−22−161Aを22.88g(14.3mmol、25モル%)及びBAPPを5.88g(14.3mmol、25モル%)用いたことの他は合成例1と同様にして、ポリアミドイミド樹脂2の溶液を得た。
(合成例3)
ジアミンとして、ジェファーミンD−2000を51.40g(25.7mmol、45モル%)、X−22−161Aを41.12g(25.7mmol、45モル%)、及びWHMを1.20g(5.71mmol、10モル%)用いたことの他は合成例1と同様にして、ポリアミドイミド樹脂3の溶液を得た。
(合成例4)
ジアミンとして、ジェファーミンD−2000を68.4g(34.2mmol、60モル%)、及びX−22−161Aを36.48g(22.8mmol、40モル%)用いたことの他は合成例1と同様にして、ポリアミドイミド樹脂4の溶液を得た。
(合成例5)
ジアミンとして、D−2000を39.9g(20.0mmol、35モル%)、X−22−161Aを36.48g(22.8mmol、40モル%)及びBAPPを5.88g(14.3mmol、25モル%)用いたことの他は合成例1と同様にして、ポリアミドイミド樹脂5の溶液を得た。
(合成例6)
ジアミンとして、X−22−161Aを22.88g(14.3mmol、25モル%)、BAPPを9.44g(22.9mmol、40モル%)及びWHMを4.20g(20.0mmol、35モル%)用いたことの他は合成例1と同様にして、ポリアミドイミド樹脂6の溶液を得た。
(合成例7)
ジアミンとして、ジェファーミンD−2000を68.0g(34.0mmol、60モル%)、X−22−161Aを13.60g(8.5mmol、15モル%)、及びBAPPを5.85g(14.17mmol、25モル%)用いたことの他は合成例1と同様にして、ポリアミドイミド樹脂7の溶液を得た。
(合成例8)
熱電対、攪拌機及び窒素吹込口を取り付けた500mlセパラブルフラスコに、250ml/分の窒素を流しながら、ジェファーミンD−2000を40.0g(20.0mmol、45モル%)、X−22−161Aを32.0g(20.0mmol、45モル%)、WHMを0.935g(4.44mmol、10モル%)、TMAを17.9g(93.2mmol)及びNMPを110g投入し、攪拌して原料をNMPに溶解させて、反応液を調製した。
反応液にトルエン100gを加え、150℃以上の温度で6時間の脱水還流によるイミド環閉環反応によってジイミドジカルボン酸を生成させ、その後トルエンを留去した。冷却後、MDIを17.16g(21.4mmol)加え、150で2時間の加熱によりアミド化反応を進行させて、未変性のポリアミドイミド樹脂を生成させた。
続いて、反応液にTMAを5.0g(26.0mmol)加え、80℃に加熱しながら1時間攪拌して末端のイソシアネート基にTMAを反応させて、末端にカルボキシル基を有するポリアミドイミド樹脂8の溶液を得た。ポリアミドイミド樹脂8のカルボン酸当量を、水酸化カリウム滴定法により測定した。
なお、合成例3で得たポリアミドイミド樹脂3のカルボン酸当量を測定したところ、140000であった。
(合成例9)
合成例8と同様にして得た未変性のポリアミドイミド樹脂を2.4g(12.5mmol)のTMAと反応させて、末端にカルボキシル基を有するポリアミドイミド樹脂9の溶液を得た。ポリアミドイミド樹脂9のカルボン酸当量を合成例8と同様にして測定した。
(合成例10)
合成例8と同様にして得た未変性のポリアミドイミド樹脂を1.6g(8.3mmol)のTMAと反応させて、末端にカルボキシル基を有するポリアミドイミド樹脂10の溶液を得た。ポリアミドイミド樹脂10のカルボン酸当量を合成例8と同様にして測定した。
(合成例11)
合成例8と同様にして得た未変性のポリアミドイミド樹脂を0.16g(0.83mmol)のTMAと反応させて、末端にカルボキシル基を有するポリアミドイミド樹脂11の溶液を得た。ポリアミドイミド樹脂11のカルボン酸当量を合成例8と同様にして測定した。
(合成例12)
合成例8と同様にして得た未変性のポリアミドイミド樹脂を0.1g(0.52mmol)のTMAと反応させて、末端にカルボキシル基を有するポリアミドイミド樹脂12の溶液を得た。ポリアミドイミド樹脂12のカルボン酸当量を合成例8と同様にして測定した。
(合成例13)
合成例8と同様にして得た未変性のポリアミドイミド樹脂の溶液にフェニレンジアミンを4.0g(37.0mmol)加え、80℃に加熱しながら1時間攪拌して末端のイソシアネート基にフェニレンジアミンを反応させて、末端にアミノ基を有するポリアミドイミド樹脂13の溶液を得た。ポリアミドイミド樹脂13のアミン当量を、塩酸滴定法により測定した。
(合成例14)
合成例8と同様にして得た未変性のポリアミドイミド樹脂の溶液にフェニレンジアミンを0.8g(7.4mmol)加え、合成例13と同様の条件で反応させて末端にアミノ基を有するポリアミドイミド樹脂14の溶液を得た。ポリアミドイミド樹脂14のアミン当量を、合成例13と同様にして測定した。
(合成例15)
合成例8と同様にして得た未変性のポリアミドイミド樹脂の溶液にフェニレンジアミンを0.1g(0.9mmol)加え、合成例13と同様の条件で反応させて末端にアミノ基を有するポリアミドイミド樹脂15の溶液を得た。ポリアミドイミド樹脂15のアミン当量を、合成例13と同様にして測定した。
(合成例16)
合成例8と同様にして得た未変性のポリアミドイミド樹脂の溶液にp−アミノフェノールを0.8g加え、合成例13と同様の条件で反応させて末端にフェノール性水酸基を有するポリアミドイミド樹脂16の溶液を得た。ポリアミドイミド樹脂16の水酸基当量(g/eq.)を、塩化アセチル−水酸化カリウム法により測定した。
2.接着剤ワニスの調製
上記で得たそれぞれのポリアミドイミド樹脂の溶液200gに、脂環式エポキシ樹脂(HP7200L、大日本インキ化学工業(株)製)25g及び触媒(2E4MZ、四国化成工業(株)製)0.025gを加えた後、NMPを加えて固形分比を35質量%に調整し、接着剤ワニスを得た。
3.フレキシブル基板材料の作製
ポリイミドフィルム(カプトン(商品名)、厚さ25μm、東レ・デュポン(株)製)に、アプリケータを用いて接着剤ワニスを10μmの厚さに塗布した。オーブンを用いた150℃での乾燥により接着剤層を形成させて、接着剤付きポリイミドフィルムを得た。これの接着剤層側に上記と同様の別のカプトンを貼り合わせ、熱プレスによって200℃、4MPa、1時間の条件で熱圧着して、2枚のポリイミドフィルム(カプトン)が接着剤層を介して接着されたフレキシブル基板材料を得た。
また、上記カプトンに代えて、ポリイミドフィルムの片面に銅箔が設けられた銅箔付き樹脂フィルム(MCF−5000I(商品名)、ポリイミドフィルム厚25μm、銅箔厚18μm、日立化成工業(株)製)を用い、これのポリイミドフィルム側に接着剤ワニスを10μmの厚さに塗布した。これ以外は上記と同様にして、2枚の銅箔付ポリイミドフィルム(MCF−5000I)が接着剤層を介して接着されたフレキシブル基板材料を得た。
3.評価
(接着力)
フレキシブル基板材料から、1cm幅の試験片を切り出した。この試験片の片面を固定して、剥離角90度、剥離速度50mm/分の条件でポリイミドフィルム−接着剤層界面を剥離し、そのときの平均荷重を接着力として求めた。常態及び吸湿加速試験(PCT試験)後のフレキシブル基板材料について接着力を評価した。PCT試験は、試験片を121℃、2気圧、RH100%の雰囲気下に試験片を3時間静置して行った。
(はんだ耐熱性)
MCF−5000Iを用いて作製した上記フレキシブル基板材料から、4cm角の試験片を切り出した。これを130℃で1時間乾燥させた後、288℃のはんだ漕を用いてフロート法にてはんだ耐熱性を測定した。
(結果)
結果を表1、2にまとめて示す。表中、ポリアミドイミド樹脂合成の原料として用いたジアミンの組成(モル%)を併せて示した。当該組成がジイミドジカルボン酸の組成に対応する。
Figure 0005287247
表1に示されるように、ポリオキシプロピレンジアミンの比率が40モル%以上であり、且つ、シロキサンジアミンの比率が20モル%以上であるポリアミドイミド樹脂1〜4を用いた場合、ポリアミドイミド樹脂5〜7の場合と比較して常態の接着力が明らかに向上し、PCT試験による吸湿後も接着力の低下は認められなかった。シロキサンジアミンの比率が20モル%未満であるポリアミドイミド樹脂7の場合、吸湿後の接着力は良好なレベルを維持していたものの、はんだ耐熱性が劣っていた。
Figure 0005287247
表2に示されるように、ポリアミドイミド樹脂の末端にカルボキシル基、アミノ基又はフェノール性水酸基を導入した場合も、良好な接着力及び耐熱性が維持された。特に、カルボキル基当量が3000〜15000g/eq.の範囲内にあるポリアミドイミド樹脂9〜11や、アミン当量が3000〜15000g/eq.の範囲内にあるポリアミドイミド樹脂14の場合、良好な接着力を維持しつつ、はんだ耐熱性の著しい向上が認められた。

Claims (7)

  1. ジイミドジカルボン酸と芳香族ジイソシアネートとを反応させるステップを含む方法により得られるポリアミドイミド樹脂であって、
    カルボキシル基及びアミノ基からなる群より選ばれる少なくとも1種の官能基を末端に有し、
    3000〜15000g/eq.のカルボン酸当量、又は、3000〜15000g/eq.のアミン当量を有し、
    前記ジイミドジカルボン酸が、
    下記一般式(1)で表される化合物を40モル%以上
    記一般式(2)で表される化合物を20モル%以上、及び、
    脂環式ジアミンと無水トリメリト酸との反応により生成されたジイミドジカルボン酸を含む、ポリアミドイミド樹脂。
    Figure 0005287247

    [式(1)中、nは1〜100の整数を示し、式(2)中、R及びRはそれぞれ独立に2価の有機基を示し、R及びRはそれぞれ独立に炭素数1〜20のアルキル基又は炭素数6〜18のアリール基を示し、同一分子中の複数のR及びRは同一でも異なっていてもよく、nは1〜50の整数を示す。]
  2. 請求項1記載のポリアミドイミド樹脂と、エポキシ樹脂と、を含有する接着剤。
  3. ポリイミドフィルム上に当該接着剤からなる接着剤層を形成させたときに、
    前記ポリイミドフィルム及び前記接着剤層の界面の接着力が1.0kN/m以上であり、該接着力が3時間のPCT試験後に試験前の90%以上の値を維持し、且つ、
    288℃のはんだ槽でフロート法により測定されるはんだ耐熱性が30秒以上である、請求項記載の接着剤。
  4. ポリイミド用接着剤である、請求項又は記載の接着剤。
  5. 請求項2〜4のいずれか一項に記載の接着剤から形成されている接着剤層を備えるフレキシブル基板材料。
  6. ポリイミドフィルムと、該ポリイミドフィルム上に設けられた金属箔と、該ポリイミドフィルムと他のポリイミドフィルム又は金属箔とを接着する接着剤層と、を備え、
    前記接着剤層が請求項2〜4のいずれか一項に記載の接着剤から形成されている、フレキシブル積層板。
  7. ポリイミドフィルムと、該ポリイミドフィルム上に設けられ配線パターンを形成している金属箔と、該ポリイミドフィルムと他のポリイミドフィルム又は金属箔とを接着する接着剤層と、を備え、
    前記接着剤層が請求項2〜4のいずれか一項に記載の接着剤から形成されている、フレキシブル印刷配線板。
JP2008537432A 2006-10-04 2007-08-20 ポリアミドイミド樹脂、接着剤、フレキシブル基板材料、フレキシブル積層板及びフレキシブル印刷配線板 Expired - Fee Related JP5287247B2 (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2008537432A JP5287247B2 (ja) 2006-10-04 2007-08-20 ポリアミドイミド樹脂、接着剤、フレキシブル基板材料、フレキシブル積層板及びフレキシブル印刷配線板

Applications Claiming Priority (6)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2006273005 2006-10-04
JP2006273005 2006-10-04
JP2007059093 2007-03-08
JP2007059093 2007-03-08
JP2008537432A JP5287247B2 (ja) 2006-10-04 2007-08-20 ポリアミドイミド樹脂、接着剤、フレキシブル基板材料、フレキシブル積層板及びフレキシブル印刷配線板
PCT/JP2007/066100 WO2008041426A1 (en) 2006-10-04 2007-08-20 Polyamideimide resin, adhesive agent, material for flexible substrate, flexible laminate, and flexible print wiring board

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPWO2008041426A1 JPWO2008041426A1 (ja) 2010-02-04
JP5287247B2 true JP5287247B2 (ja) 2013-09-11

Family

ID=39268290

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2008537432A Expired - Fee Related JP5287247B2 (ja) 2006-10-04 2007-08-20 ポリアミドイミド樹脂、接着剤、フレキシブル基板材料、フレキシブル積層板及びフレキシブル印刷配線板

Country Status (7)

Country Link
US (1) US8956732B2 (ja)
EP (1) EP2070961A4 (ja)
JP (1) JP5287247B2 (ja)
KR (1) KR101441990B1 (ja)
CN (1) CN101522744B (ja)
TW (1) TWI433863B (ja)
WO (1) WO2008041426A1 (ja)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US10927218B2 (en) 2017-09-08 2021-02-23 Samsung Electronics Co., Ltd. Poly(amide-imide) copolymer, composition for preparing poly(amide-imide) copolymer, article including poly(amide-imide) copolymer, and display device including the article

Families Citing this family (25)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP5501759B2 (ja) 2007-05-21 2014-05-28 日立化成株式会社 接着剤組成物及びこれを用いた接着フィルム
JP5522426B2 (ja) * 2008-09-30 2014-06-18 日立化成株式会社 多層フレキシブル基板用接着剤及びこれを用いた多層フレキシブル基板材料、積層板並びに印刷配線板
US9670306B2 (en) 2009-03-16 2017-06-06 Sun Chemical Corporation Liquid coverlays for flexible printed circuit boards
EP2484710A4 (en) * 2009-09-30 2014-06-18 Hitachi Chemical Co Ltd RESIN COMPOSITION, PREPREGATED THEREFOR, METAL FILM WITH THE RESIN, LONGUE AND LAMINATE AND METALLIC CASED LAMINATE
CA2779065A1 (en) * 2009-10-29 2011-05-05 Sun Chemical B.V. Polyamideimide adhesives for printed circuit boards
WO2012165265A1 (ja) * 2011-05-27 2012-12-06 日立化成工業株式会社 基板及びその製造方法、放熱基板、並びに、放熱モジュール
CN102427676B (zh) * 2011-11-18 2013-08-14 景旺电子(深圳)有限公司 一种散热型刚挠结合板及其制作方法
KR101706402B1 (ko) * 2012-04-03 2017-02-14 삼성에스디아이 주식회사 수용성 바인더 조성물, 및 이를 이용한 이차전지용 전극
JP6016581B2 (ja) * 2012-10-31 2016-10-26 旭化成株式会社 樹脂組成物、積層体及び配線板
CN102909934B (zh) * 2012-11-06 2016-02-17 江苏科技大学 一种柔性无胶双面覆铜箔的制备方法
CN104349575B (zh) * 2013-07-31 2017-12-26 鹏鼎控股(深圳)股份有限公司 柔性电路板及其制作方法
KR101598667B1 (ko) 2013-09-30 2016-02-29 주식회사 엘지화학 유리-폴리머 복합 기재 및 그 제조방법
JP6234870B2 (ja) * 2014-04-01 2017-11-22 エア・ウォーター株式会社 ポリアミドイミド樹脂および当該ポリアミドイミド樹脂の製造方法
JP6568715B2 (ja) * 2014-07-04 2019-08-28 太陽インキ製造株式会社 感光性熱硬化性樹脂組成物、ドライフィルムおよびプリント配線板
JP2016141015A (ja) * 2015-01-30 2016-08-08 パナソニックIpマネジメント株式会社 両面金属張積層板及びその製造方法
JP5934419B1 (ja) * 2015-08-12 2016-06-15 エア・ウォーター株式会社 ポリアミドイミド樹脂、熱硬化性樹脂組成物、当該熱硬化性樹脂組成物の硬化物およびポリアミドイミド樹脂の製造方法
KR102136542B1 (ko) * 2015-09-04 2020-07-22 타츠타 전선 주식회사 프린트 배선판의 제조 방법 및 상기 방법에 사용되는 프린트 배선판 보호 필름 및 시트형 적층체
CN107266684B (zh) * 2016-04-07 2020-06-19 比亚迪股份有限公司 一种聚酰胺酰亚胺树脂和树脂胶粘剂及其用途
CN106113803A (zh) * 2016-06-16 2016-11-16 常州市超顺电子技术有限公司 一种铝基覆铜板及其用途和制备方法
JP6837126B6 (ja) 2016-07-28 2021-03-31 スリーエム イノベイティブ プロパティズ カンパニー セグメント化シリコーンポリアミドブロックコポリマー及びそれを含む物品
WO2018022417A1 (en) 2016-07-28 2018-02-01 3M Innovative Properties Company Segmented silicone polyamide block copolymers and articles containing the same
JP6769425B2 (ja) * 2017-11-21 2020-10-14 三菱マテリアル株式会社 絶縁皮膜形成用樹脂、ワニス、電着液、絶縁導体の製造方法
CN109722212B (zh) * 2018-12-21 2021-12-28 福建省海钛智能科技有限公司 一种酰亚胺环氧有机硅胶及其制备方法
CN110258118B (zh) * 2019-07-12 2021-07-13 开封大学 水溶性耐温型碳纤维上胶剂及其制备方法
CN112094411B (zh) * 2020-09-22 2022-11-08 江苏慧智新材料科技有限公司 一种透明性聚酰胺酰亚胺树脂及其制备方法和应用

Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH10246958A (ja) * 1997-03-04 1998-09-14 Hitachi Chem Co Ltd 感光性樹脂組成物
JPH11106664A (ja) * 1997-10-02 1999-04-20 Hitachi Chem Co Ltd 樹脂ペースト、膜形成法、電子部品及び半導体装置
JP2004091734A (ja) * 2002-09-03 2004-03-25 Gun Ei Chem Ind Co Ltd ポリアミドイミド樹脂、これを含有する樹脂組成物、電子部品用被覆材料及び電子部品用接着剤
JP2004179237A (ja) * 2002-11-25 2004-06-24 Hitachi Chem Co Ltd フレキシブルプリント回路基板

Family Cites Families (12)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0693537B2 (ja) 1989-09-19 1994-11-16 新日鐵化学株式会社 両面導体ポリイミド積層体の製造方法
US5212279A (en) * 1990-10-22 1993-05-18 Hitachi Chemical Co., Ltd. Hot-melt adhesive and its use in polyimide film and printed circuit board
JP3447070B2 (ja) 1992-09-17 2003-09-16 三井化学株式会社 フレキシブル回路基板用材料
JP3432409B2 (ja) 1997-11-28 2003-08-04 日立化成工業株式会社 耐熱性樹脂組成物及びそれを用いた接着フィルム
JP4305689B2 (ja) 1999-02-19 2009-07-29 日立化成工業株式会社 ポリアミドイミドの製造方法、それにより得られたポリアミドイミド及びそれを含むワニス
KR20020003818A (ko) * 2000-07-03 2002-01-15 카나가와 치히로 가요성 인쇄 배선용 기판
JP4155193B2 (ja) 2001-09-05 2008-09-24 日立化成工業株式会社 難燃性耐熱性樹脂組成物、これを用いた接着剤フィルム
JP2003327906A (ja) * 2002-05-16 2003-11-19 Gunze Ltd 撥水性ポリアミドイミド系塗料
JP3938058B2 (ja) 2003-01-29 2007-06-27 宇部興産株式会社 熱融着性を有するポリイミドフィルム、それを用いた積層板およびそれらの製造法
KR100772296B1 (ko) 2003-05-21 2007-11-02 히다치 가세고교 가부시끼가이샤 프라이머, 수지 부착 도체박, 적층판 및 적층판의 제조방법
TWI262041B (en) * 2003-11-14 2006-09-11 Hitachi Chemical Co Ltd Formation method of metal layer on resin layer, printed wiring board, and production method thereof
JP2006086217A (ja) 2004-09-14 2006-03-30 Hitachi Chem Co Ltd フレキシブル回路基板

Patent Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH10246958A (ja) * 1997-03-04 1998-09-14 Hitachi Chem Co Ltd 感光性樹脂組成物
JPH11106664A (ja) * 1997-10-02 1999-04-20 Hitachi Chem Co Ltd 樹脂ペースト、膜形成法、電子部品及び半導体装置
JP2004091734A (ja) * 2002-09-03 2004-03-25 Gun Ei Chem Ind Co Ltd ポリアミドイミド樹脂、これを含有する樹脂組成物、電子部品用被覆材料及び電子部品用接着剤
JP2004179237A (ja) * 2002-11-25 2004-06-24 Hitachi Chem Co Ltd フレキシブルプリント回路基板

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US10927218B2 (en) 2017-09-08 2021-02-23 Samsung Electronics Co., Ltd. Poly(amide-imide) copolymer, composition for preparing poly(amide-imide) copolymer, article including poly(amide-imide) copolymer, and display device including the article

Also Published As

Publication number Publication date
US20100170701A1 (en) 2010-07-08
EP2070961A4 (en) 2012-08-29
TW200831551A (en) 2008-08-01
JPWO2008041426A1 (ja) 2010-02-04
WO2008041426A1 (en) 2008-04-10
CN101522744A (zh) 2009-09-02
CN101522744B (zh) 2012-02-22
KR20090057414A (ko) 2009-06-05
KR101441990B1 (ko) 2014-09-18
US8956732B2 (en) 2015-02-17
TWI433863B (zh) 2014-04-11
EP2070961A1 (en) 2009-06-17

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP5287247B2 (ja) ポリアミドイミド樹脂、接着剤、フレキシブル基板材料、フレキシブル積層板及びフレキシブル印刷配線板
TWI716524B (zh) 覆銅積層體及印刷線路板
KR102388938B1 (ko) 폴리이미드, 접착제, 필름상 접착재, 접착층, 접착 시트, 수지 부착 동박, 동피복 적층판, 프린트 배선판, 그리고 다층 배선판 및 그 제조 방법
JP5648677B2 (ja) プライマ、樹脂付き導体箔、積層板並びに積層板の製造方法
KR100906286B1 (ko) 프리프레그, 금속박장 적층판 및 이들을 사용한 인쇄회로판
KR102323830B1 (ko) 폴리이미드, 접착제, 필름상 접착재, 접착층, 접착 시트, 수지 부착 동박, 동피복 적층판, 프린트 배선판, 그리고 다층 배선판 및 그 제조 방법
JP6686619B2 (ja) ポリイミド系接着剤、フィルム状接着材、接着層、接着シート、銅張積層板及びプリント配線板、並びに多層配線板及びその製造方法
KR102330421B1 (ko) 접착제, 필름상 접착재, 접착층, 접착 시트, 수지 부착 동박, 동피복 적층판, 프린트 배선판, 그리고 다층 배선판 및 그 제조 방법
JP6825289B2 (ja) 樹脂組成物、接着剤、フィルム状接着材、接着シート、多層配線板、樹脂付銅箔、銅張積層板、プリント配線板
JP2019172989A (ja) ポリイミド、接着剤、架橋剤、フィルム状接着材、接着層、接着シート、樹脂付銅箔、銅張積層板、プリント配線板、並びに多層配線板及びその製造方法
JP4828772B2 (ja) ポリアミドイミド樹脂及びそれを用いた接着剤組成物
JP5522426B2 (ja) 多層フレキシブル基板用接着剤及びこれを用いた多層フレキシブル基板材料、積層板並びに印刷配線板
JP3994298B2 (ja) フレキシブル配線板
JP4736671B2 (ja) プリプレグ、金属箔張積層板及びこれらを使用した印刷回路板
TWI696680B (zh) 聚醯亞胺系黏著劑、薄膜狀黏著材料、黏著層、黏著薄片、覆銅積層板及印刷線路板、以及多層線路板及其製造方法
JP2009007580A (ja) ポリアミドイミド樹脂及びそれを用いた接着剤組成物
JP4923678B2 (ja) 金属箔付フレキシブル基板及びフレキシブルプリント配線板
JP4378628B2 (ja) プリプレグ、積層板及びこれらを使用した印刷回路板
JP2022188337A (ja) 接着剤組成物、硬化物、接着シート、樹脂付金属箔、金属張積層板、プリント配線板
JP2005325162A (ja) プリプレグ、金属箔張積層板及びこれらを使用した印刷回路板

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20100723

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20110624

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20110624

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20130129

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20130401

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20130507

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20130520

R151 Written notification of patent or utility model registration

Ref document number: 5287247

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R151

LAPS Cancellation because of no payment of annual fees