JP5163064B2 - 新規カルボン酸エステル、その用途及びその製造方法 - Google Patents

新規カルボン酸エステル、その用途及びその製造方法 Download PDF

Info

Publication number
JP5163064B2
JP5163064B2 JP2007294050A JP2007294050A JP5163064B2 JP 5163064 B2 JP5163064 B2 JP 5163064B2 JP 2007294050 A JP2007294050 A JP 2007294050A JP 2007294050 A JP2007294050 A JP 2007294050A JP 5163064 B2 JP5163064 B2 JP 5163064B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
acid ester
atom
group
och
general formula
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Active
Application number
JP2007294050A
Other languages
English (en)
Other versions
JP2009120506A (ja
Inventor
禎洋 山本
達也 大塚
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Daikin Industries Ltd
Original Assignee
Daikin Industries Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Priority to JP2007294050A priority Critical patent/JP5163064B2/ja
Application filed by Daikin Industries Ltd filed Critical Daikin Industries Ltd
Priority to PCT/JP2008/070164 priority patent/WO2009063783A1/ja
Priority to HUE08849207A priority patent/HUE029452T2/en
Priority to CN200880115936.1A priority patent/CN101855196B/zh
Priority to US12/734,606 priority patent/US8013182B2/en
Priority to EP08849207.9A priority patent/EP2216320B1/en
Priority to ES08849207.9T priority patent/ES2597438T3/es
Publication of JP2009120506A publication Critical patent/JP2009120506A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP5163064B2 publication Critical patent/JP5163064B2/ja
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Classifications

    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C07—ORGANIC CHEMISTRY
    • C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
    • C07C69/00—Esters of carboxylic acids; Esters of carbonic or haloformic acids
    • C07C69/66—Esters of carboxylic acids having esterified carboxylic groups bound to acyclic carbon atoms and having any of the groups OH, O—metal, —CHO, keto, ether, acyloxy, groups, groups, or in the acid moiety
    • C07C69/67—Esters of carboxylic acids having esterified carboxylic groups bound to acyclic carbon atoms and having any of the groups OH, O—metal, —CHO, keto, ether, acyloxy, groups, groups, or in the acid moiety of saturated acids
    • C07C69/708—Ethers
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C07—ORGANIC CHEMISTRY
    • C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
    • C07C41/00—Preparation of ethers; Preparation of compounds having groups, groups or groups
    • C07C41/01—Preparation of ethers
    • C07C41/18—Preparation of ethers by reactions not forming ether-oxygen bonds
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C07—ORGANIC CHEMISTRY
    • C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
    • C07C67/00—Preparation of carboxylic acid esters
    • C07C67/30—Preparation of carboxylic acid esters by modifying the acid moiety of the ester, such modification not being an introduction of an ester group
    • C07C67/307—Preparation of carboxylic acid esters by modifying the acid moiety of the ester, such modification not being an introduction of an ester group by introduction of halogen; by substitution of halogen atoms by other halogen atoms

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)

Description

本発明はセボフロランの中間体として有用な新規α-クロロメトキシカルボン酸エステル、その製造方法、及び該α-クロロメトキシカルボン酸エステルを用いるセボフルランの製造方法に関する。
化学式：(CF3)2CH(OCH3)で表される1,1,1,3,3,3-ヘキサフルオロ-2-メトシキプロパンは、麻酔薬セボフルランの原料として有用な物質である（下記特許文献１、２等参照）。セボフルランを安価に製造することは重要な課題であり、これまでに種々の方法が検討されている。
例えば、下記特許文献１には、ヘキサフルオロイソプロパノール（HFIP）をメチル化して得られる1,1,1,3,3,3,-ヘキサフルオロ-2-プロピルメチルエーテルを塩素ガスと反応させて1,1,1,3,3,3,-ヘキサフルオロ-2-プロピルクロロメチルエーテルとした後、有機溶媒中でKFと反応させてセボフルランとする方法、1,1,1,3,3,3,-ヘキサフルオロ-2-プロピルメチルエーテルをBrF3と反応させる方法、HFIPをフッ化水素及びホルムアルデヒドと反応させる方法等が記載されている。
しかしながら、上記したクロロメチルエーテルをKFでフッ素化する反応は、高温と長時間の反応を要するという欠点があり、工業的に実施するには問題がある。また、メチルエーテルをBrF3と反応させる方法は、危険性の高いBrF3を取り扱う必要があり、大量生産には適した方法ではない。また、HFIPを、フッ化水素及びホルムアルデヒドと反応させる方法は、ポリエーテルが副生するために収率が低いという問題がある。
これらの問題点を解決する方法として、例えば、下記特許文献３には、フッ化水素とパラホルムアルデヒドを硫酸存在下にHFIPと反応させる方法が開示されている。また、下記特許文献２には、HFIPのメチルエーテルを塩素ガスと反応させて1,1,1,3,3,3,-ヘキサフルオロ-2-プロピルクロロメチルエーテルとした後、フッ化水素およびアミンと反応させる方法が開示されている。
また、硫酸存在下にHFIPをフッ化水素及びパラホルムアルデヒドと反応させる方法については、収率を改善する方法として、さらに次のような発明がなされている。
例えば、下記特許文献４には、反応で副生したポリエーテル化合物をフッ化水素と硫酸などの反応促進剤と反応させてセボフルランを得る方法が開示されている。下記特許文献５には、フッ化水素とパラホルムアルデヒドを硫酸存在下にHFIPと反応させ、生成するセボフルランを蒸留あるいは抽出によって平衡混合物から抜き出し、収率を高める方法が開示されている。
この他、特許文献６には、HFIPとビス（フルオロメチル）エーテルを酸存在下に反応させる方法が開示されている。
セボフルランの製造方法としては、上述した方法以外にも数多くの方法が知られているが、その殆どはHFIPを原料とする方法である。HFIPの製造方法としてはヘキサフルオロアセトン又はその水和物を、触媒存在下に水素還元する方法が知られている（下記特許文献７，８等参照）。また、ヘキサフルオロアセトンの製造方法としてはヘキサフルオロプロピレンオキサイドを触媒存在下に転位させる方法（特許文献９）やヘキサクロロアセトンをフッ化水素でフッ素化する方法（特許文献１０）等が知られている。しかしながら、前者の製法は、原料のヘキサフルオロプロピレンオキサイドが高価であるという問題がある。また、後者の方法は、生成したヘキサフルオロアセトンと塩酸との分離や、副生成物であるクロロフルオロアセトンの分離等の精製方法が複雑であり、コストが高いという問題がある。
このような背景から、ヘキサフルオロアセトンを安価に製造する為の検討がなされている。特にフッ素樹脂のモノマーとして大量に生産されるヘキサフルオロプロペンの副生成物であるオクタフルオロイソブテンをメタノールと反応させた（CF3）2CHCF2OCH3（２Ｈ−オクタフルオロイソブチルメチルエーテル、以下OIMEと略称する）や、OIMEを脱HFして得られる(CF3)2C=CFOCH3（ヘプタフルオロイソブテニルメチルエーテル、以下HIMEと略記する）を原料とする方法が注目される。
例えば、特許文献１１には、HIMEを光照射下に酸素と反応させてヘキサフルオロアセトン水和物を製造する方法が開示されている。
特許文献１２には、OIME又はHIMEを活性炭触媒下、酸素と反応させてヘキサフルオロアセトンまたはその水和物を得る方法が開示されている。
さらに、特許文献１３には、OIMEをトリエチルアミンと反応させてヘキサフルオロアセトンオキシムとし、これを酸で加水分解してヘキサフルオロアセトンを得る方法が開示されている。
また、特許文献１４には、（CF3）2C(OH)CO2CH3（3,3,3-トリフルオロ-2-トリフルオロメチル-2-ヒドロキシプロピオン酸メチル）（以下MTTHPと略記する。）を加水分解し、ハロゲン化剤と反応させて脱炭酸し、ヘキサフルオロアセトン水和物を製造する方法が開示されている。
しかしながら、HIMEの光酸化を利用する方法は、工業的に光照射を行うことが困難である上に、収率が低いという問題がある。また、活性炭触媒を使用する酸化方法は、触媒の劣化が著しく、長期的な運転が出来ないことや、ヘキサフルオロアセトンの選択率が低いこと等の問題がある。トリエチルアミンと反応させてオキシムとする方法は、副原料であるトリエチルアミンが高価であるという問題がある。MTTHPを加水分解、ハロゲン化脱炭酸する方法は副原料が安価でかつ収率が高いものの、工程数が長いという欠点を有している。
HFIPをヘキサフルオロアセトンを経由することなく安価に製造する方法については次のような検討がなされている。
例えば、特許文献１５には、HIMEを酸化してMTTHPを合成し、これを加水分解して、プロトン性溶媒存在下に脱炭酸させてHFIPを得る方法が開示されている。しかしながら、本発明者らが追試した結果、この方法では脱炭酸の際にCF3（HCF2）C=O（ペンタフルオロアセトン）が副生し、収率が低いことが判明した。
このように、ヘキサフルオロアセトンやHFIPを安価に製造することは重要な課題であるが、未だに満足の行く結果が得られていない。
従って、セボフルランを安価に製造する為に、ヘキサフルオロアセトンやHFIPを安価に製造する方法の開発、あるいはこれらを経由しないセボフルランの製造方法の開発等が強く望まれている。
米国特許第3,683,092号 特開平11-116521号公報 米国特許第4,250,334号 国際公開WO97/30961 米国特許第6,469,21号 米国特許第5,990,359号 特公昭61-25694号公報 特開平6-184025号公報 米国特許第3,321,515号 米国特許第3,544,633号 特開昭61-277645号公報 特開平1-203339号公報 米国特許第5,466,879号 特開2005-306747号公報 特開2002-234860号公報
本発明は、上記した従来技術の現状に鑑みてなされたものであり、その主な目的は、麻酔性を有する化合物として知られる1,1,1,3,3,3-ヘキサフルオロイソプロピルフルオロメチルエーテル（セボフルラン）を効率的且つ安価に製造できる方法、及び該化合物の製造に有用な新規化合物を提供することである。
本発明者は、上記した目的を達成すべく鋭意研究を重ねてきた。その結果、公知化合物である3,3,3-トリフルオロ-2-トリフルオロメチル-2-メトキシプロピオン酸エステルを原料として用い、このメトキシ基を塩素と反応させることによって、新規化合物であるα-クロロメトキシカルボン酸エステルが得られることを見出した。そして、該α-クロロメトキシカルボン酸エステルをフッ化アルカリ金属類からなるフッ素化剤と反応させる場合には、ハロゲン交換反応と共に脱炭酸反応が進行して、目的とする1,1,1,3,3,3-ヘキサフルオロイソプロピルフルオロメチルエーテル（セボフルラン）を、比較的簡単な方法によって収率良く製造できることを見出し、ここに本発明を完成するに至った。
即ち、本発明は、下記のα-クロロメトキシカルボン酸エステル及びその製造方法、並びに、該α-クロロメトキシカルボン酸エステルからの1,1,1,3,3,3-ヘキサフルオロイソプロピルフルオロメチルエーテル（セボフルラン）の製造方法を提供するものである。
１． 一般式(1)：(CF3)2C(OCH2Cl)COOR（式中、Rは炭化水素基であり、該炭化水素基は、ハロゲン原子、酸素原子、窒素原子及び硫黄原子からなる群から選ばれた少なくとも一種の原子を有していても良い）で表されるα-クロロメトキシカルボン酸エステル。
２． 一般式(1)：(CF3)2C(OCH2Cl)COOR（式中、Rは炭化水素基であり、該炭化水素基は、ハロゲン原子、酸素原子、窒素原子及び硫黄原子からなる群から選ばれた少なくとも一種の原子を有していても良い）で表されるα-クロロメトキシカルボン酸エステルを、フッ素化及び脱炭酸させることを特徴とする、化学式(CF3)2CH(OCH2F)で表される1,1,1,3,3,3-ヘキサフルオロイソプロピルフルオロメチルエーテルの製造方法。
３． 一般式(1)：(CF3)2C(OCH2Cl)COOR（式中 、Rは炭化水素基であり、該炭化水素基は、ハロゲン原子、酸素原子、窒素原子及び硫黄原子からなる群から選ばれた少なくとも一種の原子を有していても良い）で表されるα-クロロメトキシカルボン酸エステルを、化学式：MF・(HF)n（式中、Mは、H，Na，K又はCsであり、ｎは０又は１である。）で表されるフッ素化剤と反応させることを特徴とする、上記項２に記載の1,1,1,3,3,3-ヘキサフルオロイソプロピルフルオロメチルエーテルの製造方法。
４． 一般式(2)：(CF3)2C(OCH3)COOR（式中、Rは炭化水素基であり、該炭化水素基は、ハロゲン原子、酸素原子、窒素原子及び硫黄原子からなる群から選ばれた少なくとも一種の原子を有していても良い）で表されるα-メトキシカルボン酸エステルを分子状塩素と反応させることを特徴とする、一般式(1)：(CF3)2C(OCH2Cl)COOR （式中、Rは上記に同じ）で表されるα-クロロメトキシカルボン酸エステルの製造方法。
以下、まず、1,1,1,3,3,3-ヘキサフルオロイソプロピルフルオロメチルエーテルの中間体として有用な新規α-クロロメトキシカルボン酸エステル及びその製造方法について記載し、次いで、該α-クロロメトキシカルボン酸エステルから1,1,1,3,3,3-ヘキサフルオロイソプロピルフルオロメチルエーテルを製造する方法について記載する。
新規α-クロロメトキシカルボン酸エステル及びその製造方法
本発明によれば、一般式(2)：(CF3)2C(OCH3)COOR（式中、Rは炭化水素基であり、該炭化水素基は、ハロゲン原子、酸素原子、窒素原子及び硫黄原子からなる群から選ばれた少なくとも一種の原子を有しても良い。）で表されるα-メトキシカルボン酸エステルを分子状塩素と反応させることによって、一般式(1)：(CF3)2C(OCH2Cl)COOR（式中、Rは上記に同じ）で表されるα-クロロメトキシカルボン酸エステルを得ることができる。
原料として用いる一般式(2)：(CF3)2C(OCH3)COORで表されるα-メトキシカルボン酸エステルにおいて、Rで表される炭化水素基としては、炭素数１〜１０のアルキル基、アリール基、アラルキル基等を例示できる。
これらの内で、アルキル基としては、メチル基、エチル基、イソプロピル基、t-ブチル基、ヘキシル基等が好ましい。アリール基としてはフェニル基、ナフチル基、ピリジル基、クロロフェニル基等が好ましい。アラルキル基としてはベンジル基、フェネチル基等が好ましい。これらの基の内で、特に、製造コストが安価であることからメチル基が好ましい。
尚、一般式(2)：(CF3)2C(OCH3)COORで表されるα-メトキシカルボン酸エステルは、特開2002-234860号公報等に記載されている公知化合物である一般式(3)：(CF3)2C(OH)COOR（式中、Rは上記に同じ）で表されるヒドロキシカルボン酸エステルを原料として、一般的な水酸基のメチル化法、たとえば、アルカリ金属(Li,K,Na等)の水酸化物で水酸基をアルコキシドとした後、ジメチル硫酸等のメチル化剤を反応させる方法で製造することができる。
本発明によれば、上記した一般式（２）で表されるα-メトキシカルボン酸エステルを分子状塩素と反応させることによって、該α−メトキシカルボン酸エステル中のメチルエーテル基を塩素化して、一般式(1)：(CF3)2C(OCH2Cl)COORで表されるα-クロロメトキシカルボン酸エステルとすることができる。
これに対して、例えば、米国特許第6,100,434に記載されている塩化アルミとトリオキサンを用いて水酸基をクロロメチル化する方法では、上記一般式(3)：(CF3)2C(OH)COORで表されるα-ヒドロキシカルボン酸エステルを原料とする場合には、目的物のクロロメチル体の生成は確認されず、原料の回収に止まる結果となった。
ところが、本発明者の研究によれば、上記一般式(2)：(CF3)2C(OCH3)COORで表されるα-メトキシカルボン酸エステルを分子状塩素と反応させる場合には、メチルエーテル基の塩素化が速やかに進行してα-クロロメチル体が得られることが判明した。
一般式(2)で表されるα-メトキシカルボン酸エステルと分子状塩素との反応は、加熱や各種のラジカル反応開始剤の添加によっても行うことができるが、特に、反応条件の制御が容易な光照射に反応を進行させることが好ましい。
光照射下における反応は、例えば、原料中に塩素をバブリングさせる方法によって行うことができる。塩素の使用量は、一般式(2)：(CF3)2C(OCH3)COORで表されるα-メトキシカルボン酸エステル１当量に対して0.1〜1.7当量程度とすることが好ましく、0.7〜1.2当量程度とすることがより好ましい。
上記反応は、溶媒の存在下又は非存在下に行うことができる。溶媒を使用する場合には、四塩化炭素、クロロホルム、テトラクロロエチレン、酢酸、二硫化炭素などのように塩素に対して比較的安定な溶媒を使用することが望ましい。
反応温度は、通常、０〜１００℃程度、好ましくは１０〜５０℃程度とすればよい。
反応時間は、塩素の流量により規定されるが、塩素流量を上げることにより反応系内の温度上昇が起こるため、除熱状態を考慮しつつ適宜反応時間を設定する必要がある。
光照射の条件については、特に限定的ではなく、例えば、200nm〜600nmのスペクトル範囲を持つ水銀灯を使用した光照射下に反応を行うことが可能であるが、その他に、例えば、タングステン−ハロゲンランプ、キセノンランプ、水銀−キセノンランプ等を使用して光照射を行ってもよい。
上記方法で得られる一般式(1)：(CF3)2C(OCH2Cl)COORで表されるα-クロロメトキシカルボン酸エステルは、文献未記載の新規化合物であり、後述する方法によって、収率良く1,1,1,3,3,3-ヘキサフルオロイソプロピルメチルエーテル（セボフルラン）とすることができる。よって、該α-クロロメトキシカルボン酸エステルは、セボフルランの中間体として有用な化合物である。
1,1,1,3,3,3-ヘキサフルオロイソプロピルフルオロメチルエーテル（セボフルラン）の製造方法
本発明によれば、上記一般式(1)：(CF3)2C(OCH2Cl)COOR（式中 、Rは上記に同じ）で表されるα-クロロメトキシカルボン酸エステルを、ハロゲン交換反応及び脱炭酸反応に供することによって、化学式：(CF3)2CH(OCH2F)で表される1,1,1,3,3,3-ヘキサフルオロイソプロピルフルオロメチルエーテル（セボフルラン）を得ることができる。
本発明者は、セボフルランの合成法の開発を目的として、上記一般式(1)のα-クロロメトキシカルボン酸エステルの加水分解及び脱炭酸を行い、セボフルラン前駆体である1,1,1,3,3,3-ヘキサフルオロイソプロピルクロロメチルエーテル（セボクロラン）の合成を試みたが、エステル基のアルカリ加水分解と共にクロロメチルエーテル部の加水分解も進行し、セボクロランの生成は認められなかった。
ところが、驚くべき事に、上記一般式(1)：(CF3)2C(OCH2Cl)COORで表されるα-クロロメトキシカルボン酸エステルを原料として、通常のハロゲン交換反応によって一般式(4)：(CF3)2C(OCH2F)COOR （式中 、Rは上記に同じ）のα-フルオロメトキシカルボン酸エステルの合成を試みたところ、ハロゲン交換反応の条件下において、脱炭酸が同時に進行して、化学式：(CF3)2CH(OCH2F)で表される1,1,1,3,3,3-ヘキサフルオロイソプロピルフルオロメチルエーテル（セボフルラン）が得られることが判明した。
上記したハロゲン交換反応と脱炭酸反応は、一般式（１）で表されるα-クロロメトキシカルボン酸エステルを化学式：MF・(HF)n（式中、Mは、H，Na，K又はCsであり、ｎは０又は１である。）で表されるフッ素化剤と反応させることによって行うことができる。
化学式：MF・(HF)nで表されるフッ素化剤の具体例としては、フッ化水素、フッ化ナトリウム、フッ化カリウム、フッ化セシウム、酸性フッ化カリウム（KHF2）、酸性フッ化ナトリウム（NaHF2）等を挙げることができる。これらのフッ素化剤は、一種単独又は二種以上混合して用いることができる。
フッ素化剤の使用量は、一般式（１）で表されるα-クロロメトキシカルボン酸エステル１当量に対して０．２当量〜１０当量程度、好ましくは１当量〜５当量程度、より好ましくは１当量〜３当量程度とすれば良い。
反応溶媒としては、誘電率の高い溶媒を用いることが好ましく、例えば、エチレングリコール、ポリエチレングリコール等のグリコール系溶媒； ジグライムやトリグライム等のグライム系溶媒； N,N-ジメチルホルムアミド、N-メチルピロリドン等のアミド系溶媒；アセトニトリル、プロピオニトリル等のニトリル系溶媒；アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン等のケトン系溶媒；ジメチルスルホキシド等にスルホキシド系溶媒、スルホラン等のスルホン系溶媒などを好適に用いることができる。
これらの有機溶媒は、一種単独又は二種以上混合して用いることができる。
反応温度は、通常、０〜２００℃程度、好ましくは２０〜１５０℃程度、より好ましくは５０〜１００℃程度とすればよい。
反応時間は、通常、１０分〜２４時間程度とすればよく、好ましくは１〜１０時間程度とすればよい。
上記した方法で得られる1,1,1,3,3,3-ヘキサフルオロイソプロピルフルオロメチルエーテル（セボフルラン）は、例えば、蒸留、抽出などの公知の方法で分離精製する事が可能である。
本発明によれば、公知物質である一般式（３）で表されるヒドロキシカルボン酸エステルを原料として、麻酔薬セボフルラン（1,1,1,3,3,3-ヘキサフルオロイソプロピルフルオロメチルエーテル）の中間体として有用な、新規物質である一般式（１）で表されるα-クロロメトキシカルボン酸エステルを高収率で得ることが出来る。
また、該α-クロロメトキシカルボン酸エステルは、ハロゲン交換反応及び脱炭酸反応によって、効率よくセボフルランとすることができる。
よって、本発明によれば、公知物質であるα-ヒドロキシカルボン酸エステルを原料として、セボフルランを効率的且つ安価に製造する事が可能となる。
以下、実施例を挙げて本発明を更に詳細に説明する。
実施例１
光反応用のフラスコに、3,3,3-トリフルオロ-2-トリフルオロメチル-2-メトキシプロピオン酸メチル100g(417mmol）及び四塩化炭素100gを仕込んだ後、水冷・撹拌下・高圧水銀ランプ照射下、内温30℃以下で塩素ガス(10〜20ml/min)を5時間かけてゆっくりと吹き込んだ。
吹き込み終了後、反応粗体を水洗し、常圧で蒸留を行い、沸点125〜135℃（バス温：165〜175℃）の留分として41.3gの3,3,3-トリフルオロ-2-トリフルオロメチル-2-クロロメトキシプロピオン酸メチルを回収した（GCの転化率は37%）。
1H-NMR（CDCl3：TMS標準） δ 4.0ppm（s ,3H), 5.7ppm（s ,2H)
19F-NMR（CDCl3：CFCl3標準） δ -71.6ppm（s ,6F)
MS(EI)：m/z(%)＝239(21), 159(35),69(55), 59(100), 45(89), 15(48),
比較例１
100mlの3つ口フラスコに、3,3,3-トリフルオロ-2-トリフルオロメチル-2-ヒドロキシプロピオン酸メチル10g(44.25mmol)、CH2Cl250ml及びAlCl3 5.9g(44.25mmol)を仕込んだ後、室温・撹拌下、トリオキサン1.35g(15mmol)を加えた。
添加後、室温で約1時間撹拌した後、反応温度を50℃に上げ、更に4時間反応を行い反応を終了した。
反応液を6NのHCl水で分解し、分液・濃縮して反応粗体10gを回収した。
反応回収物をGC-MASS分析した結果、目的とするクロロメトキシ体は存在せず、原料回収に止まった。
尚、回収物にはトリオキサンの塩素化物(Cl-CH2-O-CH2-Cl等)が含まれていた。
実施例２
50mlのフラスコに、3,3,3-トリフルオロ-2-トリフルオロメチル-2-クロロメトキシプロピオン酸メチル 4.06g(14.8mmol)）、KF 2.5g(43mmol)及び平均分子量380〜420のポリエチレングリコール（PEG-400）15gを仕込んだ後、90〜95℃で加熱・撹拌下、約5時間反応を行った。
反応回収物をGC-MASS分析及び19F-NMRによる定量分析（CF3CH2OH内部標準）を行った結果、原料である3,3,3-トリフルオロ-2-トリフルオロメチル-2-クロロメトキシプロピオン酸メチルより反応収率45.4%でセボフルランが得られていることが確認できた。
実施例３
50mlのSUS製のオートクレーブに、3,3,3-トリフルオロ-2-トリフルオロメチル-2-クロロメトキシプロピオン酸メチル 2.0g(7.3mmol)）、KF 1.0g(17.2mmol)及び平均分子量380〜420のポリエチレングリコール（PEG-400）5gを仕込んだ後、90〜95℃で加熱・撹拌下、約5時間反応を行った。
反応回収物をGC-MASS分析及び19F-NMRによる定量分析（CF3CH2OH内部標準）を行った結果、原料である3,3,3-トリフルオロ-2-トリフルオロメチル-2-クロロメトキシプロピオン酸メチルより反応収率51.7%でセボフルランが得られていることが確認できた。
参考例１
100mlの3つ口フラスコに、3,3,3-トリフルオロ-2-トリフルオロメチル-2-クロロメトキシプロピオン酸メチル8.9g(32.42mmol）、MeOH 12g(375mmol)及び20% NaOH水5.2g(37.5mmol)を仕込んだ後、室温・撹拌下、反応を行った。
反応液のpHが中性になった段階でもGC分析でエステル体が残留していたので、更に、20% NaOH水3g(21.6mmol)を追加し、エステルが消失するまで反応を行い、反応を終了した。
反応液をNMR分析した結果、-CH2Cl基は存在せず、3,3,3-トリフルオロ-2-トリフルオロメチル-2-ヒドロキシプロピオン酸ナトリウムとなっていることが確認された。

Claims (4)

  1. 一般式(1)：(CF3)2C(OCH2Cl)COOR（式中、Rは炭化水素基であり、該炭化水素基は、ハロゲン原子、酸素原子、窒素原子及び硫黄原子からなる群から選ばれた少なくとも一種の原子を有していても良い）で表されるα-クロロメトキシカルボン酸エステル。
  2. 一般式(1)：(CF3)2C(OCH2Cl)COOR（式中、Rは炭化水素基であり、該炭化水素基は、ハロゲン原子、酸素原子、窒素原子及び硫黄原子からなる群から選ばれた少なくとも一種の原子を有していても良い）で表されるα-クロロメトキシカルボン酸エステルを、フッ素化及び脱炭酸させることを特徴とする、化学式(CF3)2CH(OCH2F)で表される1,1,1,3,3,3-ヘキサフルオロイソプロピルフルオロメチルエーテルの製造方法。
  3. 一般式(1)：(CF3)2C(OCH2Cl)COOR（式中 、Rは炭化水素基であり、該炭化水素基は、ハロゲン原子、酸素原子、窒素原子及び硫黄原子からなる群から選ばれた少なくとも一種の原子を有していても良い）で表されるα-クロロメトキシカルボン酸エステルを、化学式：MF・(HF)n（式中、Mは、H，Na，K又はCsであり、ｎは０又は１である。）で表されるフッ素化剤と反応させることを特徴とする、請求項２に記載の1,1,1,3,3,3-ヘキサフルオロイソプロピルフルオロメチルエーテルの製造方法。
  4. 一般式(2)：(CF3)2C(OCH3)COOR（式中、Rは炭化水素基であり、該炭化水素基は、ハロゲン原子、酸素原子、窒素原子及び硫黄原子からなる群から選ばれた少なくとも一種の原子を有していても良い）で表されるα-メトキシカルボン酸エステルを分子状塩素と反応させることを特徴とする、一般式(1)：(CF3)2C(OCH2Cl)COOR（式中、Rは上記に同じ）で表されるα-クロロメトキシカルボン酸エステルの製造方法。
JP2007294050A 2007-11-13 2007-11-13 新規カルボン酸エステル、その用途及びその製造方法 Active JP5163064B2 (ja)

Priority Applications (7)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2007294050A JP5163064B2 (ja) 2007-11-13 2007-11-13 新規カルボン酸エステル、その用途及びその製造方法
HUE08849207A HUE029452T2 (en) 2007-11-13 2008-11-06 New carboxylic acid ester for its application and process
CN200880115936.1A CN101855196B (zh) 2007-11-13 2008-11-06 新型羧酸酯、其用途及其制造方法
US12/734,606 US8013182B2 (en) 2007-11-13 2008-11-06 Carboxylic acid ester, use of the same, and method for producing the same
PCT/JP2008/070164 WO2009063783A1 (ja) 2007-11-13 2008-11-06 新規カルボン酸エステル、その用途及びその製造方法
EP08849207.9A EP2216320B1 (en) 2007-11-13 2008-11-06 Novel carboxylic acid ester, use of the same, and method for producing the same
ES08849207.9T ES2597438T3 (es) 2007-11-13 2008-11-06 Éster de ácido carboxílico novedoso, uso del mismo y método para producir el mismo

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2007294050A JP5163064B2 (ja) 2007-11-13 2007-11-13 新規カルボン酸エステル、その用途及びその製造方法

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2009120506A JP2009120506A (ja) 2009-06-04
JP5163064B2 true JP5163064B2 (ja) 2013-03-13

Family

ID=40638635

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2007294050A Active JP5163064B2 (ja) 2007-11-13 2007-11-13 新規カルボン酸エステル、その用途及びその製造方法

Country Status (7)

Country Link
US (1) US8013182B2 (ja)
EP (1) EP2216320B1 (ja)
JP (1) JP5163064B2 (ja)
CN (1) CN101855196B (ja)
ES (1) ES2597438T3 (ja)
HU (1) HUE029452T2 (ja)
WO (1) WO2009063783A1 (ja)

Families Citing this family (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP2464619A1 (en) * 2009-08-10 2012-06-20 Solvay Fluor GmbH Process for the manufacture of sevoflurane
WO2012107438A1 (en) * 2011-02-10 2012-08-16 Solvay Sa Process for the manufacture of fluoromethoxymalonic acid derivatives

Family Cites Families (22)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3321515A (en) 1963-04-24 1967-05-23 Du Pont Method of making fluorinated carbonyl compounds
US3544633A (en) * 1967-01-30 1970-12-01 Allied Chem Neutralization of perhaloacetones
US3683092A (en) 1970-07-31 1972-08-08 Baxter Laboratories Inc Method of anesthesia
US4250334A (en) 1979-12-26 1981-02-10 Baxter Travenol Laboratories, Inc. Method of synthesizing fluoromethylhexafluoroisopropyl ether
JPS59204142A (ja) 1983-04-28 1984-11-19 Nippon Mektron Ltd ヘキサフルオロイソプロピルアルコ−ルの製造法
JPS6125694A (ja) 1984-07-13 1986-02-04 Hitachi Plant Eng & Constr Co Ltd 有機性廃水の酸化処理方法
JPS61277645A (ja) 1985-06-03 1986-12-08 Nippon Mektron Ltd ヘキサフルオロアセトンの製造法
JPH085823B2 (ja) 1988-02-05 1996-01-24 日本メクトロン株式会社 ヘキサフルオロアセトンまたはその水和物の製造法
US4885398A (en) * 1987-07-21 1989-12-05 Nippon Mektron Limited Process for producing hexafluoroacetone or its hydrate
US4996371A (en) * 1990-01-16 1991-02-26 Boc, Inc. Method for fluorodecarboxylation
JP2638727B2 (ja) 1992-12-21 1997-08-06 セントラル硝子株式会社 １，１，１，３，３，３−ヘキサフルオロプロパン−２−オ−ルの製造法
US5466879A (en) 1994-02-28 1995-11-14 Minnesota Mining And Manufacturing Company Production of hexafluoroacetone and its oxime
GB9600072D0 (en) * 1996-01-04 1996-03-06 Ici Plc Process for the production of fluoromethylhexafluoroisopropylether
JP3441735B2 (ja) * 1996-02-21 2003-09-02 セントラル硝子株式会社 フルオロメチル−１，１，１，３，３，３−ヘキサフルオロイソプロピルエーテルの製造方法
US5969193A (en) * 1997-08-18 1999-10-19 Medeva Pharmaceuticals Pa, Inc. Method for the preparation of sevoflurane
US6100434A (en) * 1999-03-26 2000-08-08 Abbott Laboratories Method for synthesizing sevoflurane and an intermediate thereof
US6469219B1 (en) 2000-03-16 2002-10-22 Halocarbon Products Corporation Production of fluoromethyl 2,2,2-trifluoro-1-(trifluoromethyl)ethyl ether
JP4228169B2 (ja) * 2001-02-08 2009-02-25 ダイキン工業株式会社 フルオロアルキルアルコールの製造方法
JP4396831B2 (ja) 2004-04-19 2010-01-13 ダイキン工業株式会社 フルオロアルキルケトンの水和物の製造方法
JP4875626B2 (ja) * 2004-11-17 2012-02-15 ピラマル クリティカル ケアー インコーポレイテッド セボフルランの調製のための方法
JP5315609B2 (ja) * 2006-06-05 2013-10-16 ダイキン工業株式会社 新規カルボン酸化合物、その用途及びその製造方法
JP5114880B2 (ja) * 2006-07-06 2013-01-09 ダイキン工業株式会社 新規α−フルオロメトキシカルボン酸エステル、該α−フルオロメトキシカルボン酸エステルの製造方法及びセボフルランの製造方法

Also Published As

Publication number Publication date
CN101855196B (zh) 2014-07-30
EP2216320A1 (en) 2010-08-11
EP2216320A4 (en) 2014-04-23
JP2009120506A (ja) 2009-06-04
EP2216320B1 (en) 2016-08-03
CN101855196A (zh) 2010-10-06
US20100234634A1 (en) 2010-09-16
WO2009063783A1 (ja) 2009-05-22
HUE029452T2 (en) 2017-02-28
ES2597438T3 (es) 2017-01-18
US8013182B2 (en) 2011-09-06

Similar Documents

Publication Publication Date Title
EP2069278B1 (en) Process for the preparation of chloromethyl 2,2,2-trifluoro-1-(trifluoromethyl) ethyl ether
JP5114880B2 (ja) 新規α−フルオロメトキシカルボン酸エステル、該α−フルオロメトキシカルボン酸エステルの製造方法及びセボフルランの製造方法
JP5163064B2 (ja) 新規カルボン酸エステル、その用途及びその製造方法
JP5315609B2 (ja) 新規カルボン酸化合物、その用途及びその製造方法
WO2006046417A1 (ja) ３，３，３－トリフルオロプロピオン酸の製造方法
JP2006298855A (ja) ３，３，３−トリフルオロプロピオン酸の製造方法
WO2009116518A1 (ja) フルオロアルキルエーテルの製造方法
JP2004508293A (ja) ハロゲン化脱炭酸反応によるアルコールのフルオロメチル化法
JP5135889B2 (ja) ブロモテトラフルオロアルカノール類の製造方法
JP4561120B2 (ja) ２，２，３，３−テトラフルオロオキセタンの製造法
JP5472414B2 (ja) 新規カルボン酸化合物、その用途及びその製造方法
US6894197B2 (en) Process for producing fluorinated alcohol
JP4231999B2 (ja) ω−ヨウ化含フッ素アルキルビニルエーテルの製造方法
JP4386881B2 (ja) ３，３，３−トリフルオロプロピオン酸の製造方法
RU2179548C2 (ru) Способ получения перфторированных простых эфиров с концевыми функциональными группами
WO2023213926A1 (en) Chemical process
JP4150540B2 (ja) 含フッ素アルコールの製造方法
JP2005002014A (ja) ペルフルオロ環状ラクトン誘導体の製造方法およびペルフルオロ環状ラクトンを含む混合物
WO2007020816A1 (ja) ジフルオロ酢酸塩の製造方法
JP2006124283A (ja) トリフルオロメチル基含有エナミンおよびその誘導体の製造方法
JP2007119447A (ja) ３，３，３−トリフルオロプロピオンアルデヒドの製造方法
JP2008290997A (ja) 含フッ素ケトンの製造方法

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20100420

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20121120

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20121203

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20151228

Year of fee payment: 3

R151 Written notification of patent or utility model registration

Ref document number: 5163064

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R151

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20151228

Year of fee payment: 3