JP4769828B2 - 荷電粒子ビーム装置 - Google Patents
荷電粒子ビーム装置 Download PDFInfo
- Publication number
- JP4769828B2 JP4769828B2 JP2008047027A JP2008047027A JP4769828B2 JP 4769828 B2 JP4769828 B2 JP 4769828B2 JP 2008047027 A JP2008047027 A JP 2008047027A JP 2008047027 A JP2008047027 A JP 2008047027A JP 4769828 B2 JP4769828 B2 JP 4769828B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- sample
- column
- charged particle
- particle beam
- defect
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
Images
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
- H01J37/26—Electron or ion microscopes; Electron or ion diffraction tubes
- H01J37/28—Electron or ion microscopes; Electron or ion diffraction tubes with scanning beams
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
- H01J37/02—Details
- H01J37/20—Means for supporting or positioning the objects or the material; Means for adjusting diaphragms or lenses associated with the support
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
- H01J37/30—Electron-beam or ion-beam tubes for localised treatment of objects
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J2237/00—Discharge tubes exposing object to beam, e.g. for analysis treatment, etching, imaging
- H01J2237/02—Details
- H01J2237/0216—Means for avoiding or correcting vibration effects
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J2237/00—Discharge tubes exposing object to beam, e.g. for analysis treatment, etching, imaging
- H01J2237/20—Positioning, supporting, modifying or maintaining the physical state of objects being observed or treated
- H01J2237/202—Movement
- H01J2237/20214—Rotation
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J2237/00—Discharge tubes exposing object to beam, e.g. for analysis treatment, etching, imaging
- H01J2237/20—Positioning, supporting, modifying or maintaining the physical state of objects being observed or treated
- H01J2237/202—Movement
- H01J2237/20221—Translation
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Analytical Chemistry (AREA)
- Testing Or Measuring Of Semiconductors Or The Like (AREA)
- Analysing Materials By The Use Of Radiation (AREA)
Description
Y=rsinθ
ステージ上の基準直交座標(X′,Y′)を基準とした回転系のステージ移動量は、下記で与えられる。
θ′=π−θ
以上の各式を用いて、欠陥の座標の補正が行われる。
したがって、図7(b)に示すように、偏向範囲23を撮像範囲24を含むような大きさとして画像を得て、図7(c)に示すように回転させる。画像の回転方法は、電子ビームの走査方向を変える方法と、画像処理で回転させる方法とが可能である。
1d イオン源
1e 光源
2a,2b,2c 第一照射レンズ
2d 静電照射レンズ
3a,3b,3c,3e 制限絞り
3d イオン電流制限絞り
4a,4b,4c 第二照射レンズ
5a,5b,5c 検出器
5d イオン放出電子検出器
5e 光検出器
6a,6b,6c,6d 偏向器
7a,7b,7c 対物レンズ
7d 静電対物レンズ
8 ウエハ
9 駆動系
10 回転ステージ
11 一軸移動ステージ
12 真空容器
13 制御電極
14 光学顕微鏡
15 画像処理回路
16 信号処理回路
17 偏向制御回路
18 偏向駆動回路
19 計算機
20 ステージ制御回路
21 ステージ駆動回路
22 パターン
23 偏向範囲
24 撮像範囲
25 観察対象
Claims (8)
- 試料を格納する真空容器と、
前記試料へ光または荷電粒子ビームを照射して前記試料を撮像する第一のカラムと、
該第一のカラムで撮像された前記試料の画像に基づいて前記試料に荷電粒子ビームを照射し前記撮像位置の画像の再撮像あるいは加工を行う第二のカラムとを備えた荷電粒子ビーム装置において、
前記真空容器内に設けられ、前記試料を載置する回転ステージと、
前記真空容器内に設けられ、当該回転ステージを一軸移動させる一軸移動機構とを備え、
前記回転ステージによる回転移動と前記一軸移動機構による一軸移動との組み合わせにより、前記試料のXY面内における前記第一のカラムまたは第二のカラムによる前記荷電粒子ビームの照射位置への位置決めを行うことを特徴とする荷電粒子ビーム装置。 - 請求項1の記載において、
前記第一のカラムまたは第二のカラムのひとつで得た前記試料の検査画像、および付帯情報を、他の検査機構との共有情報として記憶する記憶装置を有することを特徴とする荷電粒子ビーム装置。 - 請求項1の記載において、
前記第一のカラムまたは第二のカラムのうちのひとつで得た焦点位置合わせ情報を、他のカラムの焦点合わせの制御に用いることを特徴とする荷電粒子ビーム装置。 - 請求項1の記載において、
前記回転ステージの回転量を計測する計測手段と、
該計測手段で計測された前記回転ステージの回転量に基づいて、前記第一のカラムまたは第二のカラムの荷電粒子ビームの偏向制御を行う計算機を備えたことを特徴とする荷電粒子ビーム装置。 - 試料を格納する真空容器と、
前記試料へ光または荷電粒子ビームを照射して前記試料を撮像する第一のカラムと、
該第一のカラムで撮像された前記試料の画像に基づいて前記試料に荷電粒子ビームを照射し前記撮像位置の画像の再撮像あるいは加工を行う第二のカラムとを備えた荷電粒子ビーム装置において、
前記真空容器内に設けられ、前記試料を載置する回転ステージと、
前記真空容器内に設けられ、当該回転ステージを一軸移動させる一軸移動機構と、
前記回転ステージの回転量を計測する計測手段と、
該計測手段で計測された前記回転ステージの回転量に基づいて、前記第一のカラムまたは第二のカラムで撮像した画像を回転させる計算機とを備えたことを特徴とする荷電粒子ビーム装置。 - 試料を搭載する回転ステージと、
該回転ステージを一軸方向へ移動させる一軸移動ステージと、
該一軸移動ステージを内蔵する真空室と、
前記試料へ荷電粒子ビームを照射して前記試料上の欠陥を検出する第一のカラムと、
該第一のカラムで検出された前記欠陥の座標に基づいて前記試料に荷電粒子ビームを照射し該欠陥を再検出する第二のカラムとを備え、
前記真空容器の内側の大きさの一辺は前記試料の外形に余裕代を加えた大きさ、一辺は前記試料の外形の2倍に余裕代を加えた大きさとしたことを特徴とする荷電粒子ビーム装置。 - 請求項6の記載において、
前記欠陥を検出する検出器の検出面の方向は、それぞれのカラムの中心へ向いていることを特徴とする荷電粒子ビーム装置。 - 試料を搭載する回転ステージと、
該回転ステージを一軸方向へ移動させる一軸移動ステージと、
該一軸移動ステージを内蔵する真空室と、
前記試料へ光ビームを照射して前記試料上の欠陥を検出する第一のカラムと、
該第一のカラムで検出された前記欠陥の座標に基づいて前記試料に荷電粒子ビームを照射し該欠陥を再検出する第二のカラムとを備え、
前記真空容器の内側の大きさの一辺は前記試料の外形に余裕代を加えた大きさ、一辺は前記試料の外形の2倍に余裕代を加えた大きさとしたことを特徴とする荷電粒子ビーム装置。
Priority Applications (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2008047027A JP4769828B2 (ja) | 2008-02-28 | 2008-02-28 | 荷電粒子ビーム装置 |
US12/370,242 US8324594B2 (en) | 2008-02-28 | 2009-02-12 | Charged particle beam apparatus |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2008047027A JP4769828B2 (ja) | 2008-02-28 | 2008-02-28 | 荷電粒子ビーム装置 |
Related Child Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2011129745A Division JP5548652B2 (ja) | 2011-06-10 | 2011-06-10 | 荷電粒子ビーム装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2009204447A JP2009204447A (ja) | 2009-09-10 |
JP4769828B2 true JP4769828B2 (ja) | 2011-09-07 |
Family
ID=41012457
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2008047027A Expired - Fee Related JP4769828B2 (ja) | 2008-02-28 | 2008-02-28 | 荷電粒子ビーム装置 |
Country Status (2)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US8324594B2 (ja) |
JP (1) | JP4769828B2 (ja) |
Families Citing this family (11)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP5634052B2 (ja) * | 2009-01-09 | 2014-12-03 | キヤノン株式会社 | 荷電粒子線描画装置およびデバイス製造方法 |
US8953870B2 (en) * | 2009-11-18 | 2015-02-10 | Honda Motor Co., Ltd. | Surface inspection device and surface inspection method |
EP2575159B1 (en) * | 2011-09-30 | 2016-04-20 | Carl Zeiss Microscopy GmbH | Particle beam system and method for operating the same |
KR101887730B1 (ko) * | 2011-11-29 | 2018-08-10 | 케이엘에이-텐코 코포레이션 | 표면-아래 결함 검토를 위한 샘플들의 준비를 위한 시스템들 및 방법들 |
JP5875500B2 (ja) * | 2012-10-31 | 2016-03-02 | 株式会社日立ハイテクノロジーズ | 電子ビーム顕微装置 |
US9875878B2 (en) * | 2013-12-05 | 2018-01-23 | Hitachi, Ltd. | Sample holder and analytical vacuum device |
JP2016099308A (ja) * | 2014-11-26 | 2016-05-30 | 株式会社日立ハイテクサイエンス | 蛍光x線分析装置及び蛍光x線分析方法 |
US10177048B2 (en) * | 2015-03-04 | 2019-01-08 | Applied Materials Israel Ltd. | System for inspecting and reviewing a sample |
JP2017063101A (ja) * | 2015-09-24 | 2017-03-30 | 株式会社アドバンテスト | 露光装置および露光方法 |
CN110337707B (zh) * | 2017-02-13 | 2021-09-28 | 株式会社日立高新技术 | 带电粒子线装置 |
US11294164B2 (en) | 2019-07-26 | 2022-04-05 | Applied Materials Israel Ltd. | Integrated system and method |
Family Cites Families (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP3973112B2 (ja) * | 1995-06-07 | 2007-09-12 | バリアン・セミコンダクター・エクイップメント・アソシエイツ・インコーポレイテッド | ウェーハの向き整合システム |
JP3652912B2 (ja) * | 1999-03-08 | 2005-05-25 | 日本電子株式会社 | 欠陥検査装置 |
JP2001056306A (ja) * | 1999-08-19 | 2001-02-27 | Jeol Ltd | 試料表面検査装置 |
JP4751635B2 (ja) | 2005-04-13 | 2011-08-17 | 株式会社日立ハイテクノロジーズ | 磁界重畳型電子銃 |
JP4474337B2 (ja) * | 2005-07-08 | 2010-06-02 | 株式会社日立ハイテクノロジーズ | 試料作製・観察方法及び荷電粒子ビーム装置 |
-
2008
- 2008-02-28 JP JP2008047027A patent/JP4769828B2/ja not_active Expired - Fee Related
-
2009
- 2009-02-12 US US12/370,242 patent/US8324594B2/en not_active Expired - Fee Related
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US8324594B2 (en) | 2012-12-04 |
US20090218509A1 (en) | 2009-09-03 |
JP2009204447A (ja) | 2009-09-10 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP4769828B2 (ja) | 荷電粒子ビーム装置 | |
JP6668408B2 (ja) | Semオーバーレイ計測のシステムおよび方法 | |
JP5059297B2 (ja) | 電子線式観察装置 | |
JP4307470B2 (ja) | 荷電粒子線装置、試料加工方法及び半導体検査装置 | |
US7276693B2 (en) | Inspection method and apparatus using charged particle beam | |
US7202476B2 (en) | Charged-particle beam instrument | |
JP4741408B2 (ja) | 試料パターン検査装置におけるxy座標補正装置及び方法 | |
KR100808718B1 (ko) | 목적물의 결함을 검사하기 위한 장치 및 방법 | |
JP4812484B2 (ja) | ボルテージコントラストを伴った欠陥をレビューする方法およびその装置 | |
JP4685599B2 (ja) | 回路パターンの検査装置 | |
JP2006332296A (ja) | 電子ビーム応用回路パターン検査における焦点補正方法 | |
JP2005249745A (ja) | 試料表面検査方法および検査装置 | |
JP7094782B2 (ja) | 電子ビーム検査装置及び電子ビーム検査方法 | |
JP3836735B2 (ja) | 回路パターンの検査装置 | |
JP2020140961A (ja) | マルチビーム走査透過荷電粒子顕微鏡 | |
JP5103253B2 (ja) | 荷電粒子線装置 | |
JP5548652B2 (ja) | 荷電粒子ビーム装置 | |
JP7030566B2 (ja) | パターン検査方法及びパターン検査装置 | |
JP4827127B2 (ja) | 検査装置 | |
KR102655288B1 (ko) | 단일-빔 모드를 갖는 멀티-빔 검사 장치 | |
JP4230899B2 (ja) | 回路パターン検査方法 | |
JP2010244740A (ja) | レビュー装置、及びレビュー方法 | |
JP2005037291A (ja) | 欠陥検査装置および欠陥検査方法 | |
JP2004271270A (ja) | パターン検査方法及びパターン検査装置 | |
JP3608451B2 (ja) | 走査電子顕微鏡を用いた検査装置および検査方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20100226 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20100226 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20100729 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20100817 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20101015 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20101214 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20110207 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20110524 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20110620 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 4769828 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20140624 Year of fee payment: 3 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |